JP3830938B2 - Optical information recording medium and information recording / reproducing method of optical information recording medium - Google Patents

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Description

本発明は光情報記録媒体及び光情報記録媒体の情報記録再生方法に関し、より詳しくは、高転送レートが可能な追記型媒体として利用することができる光情報記録媒体及び光情報記録媒体の情報記録再生方法に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium and an information recording / reproducing method of the optical information recording medium, and more specifically, an optical information recording medium that can be used as a write-once medium capable of a high transfer rate and information recording of the optical information recording medium. It relates to a playback method.

近年、コンピュータ用情報のみならず音声や静止画像、動画像などの情報がディジタル化され、取り扱う情報量がきわめて大きくなり、それに伴って、高密度でかつ高速に大量のデータの記録再生ができる情報記録媒体が求められている。この要求に応えて、DVD―R、DVD−RAM、DVD−RW等の光情報記録媒体が製品化されている。さらに、CPUの処理速度の一層の向上や周辺機器及びソフトウェア等の整備・発展が進み、膨大な画像情報や音声信号を自由自在に取り扱う環境が整いつつある今日、光情報記録媒体に要求される性能は、大容量化とともに、高速化のニーズがますます高まってきている。   In recent years, not only computer information but also information such as voice, still images, and moving images has been digitized, and the amount of information handled has become extremely large. Accordingly, information that can record and reproduce large amounts of data at high density and at high speed can be obtained. There is a need for a recording medium. In response to this demand, optical information recording media such as DVD-R, DVD-RAM, and DVD-RW have been commercialized. Furthermore, as the processing speed of the CPU is further improved and the development and development of peripheral devices and software are progressing, an environment for freely handling enormous amounts of image information and audio signals is now being prepared, which is required for optical information recording media. As performance increases, the need for higher speed is increasing more and more.

ここで、レーザー光の照射による情報の記録再生を行う光情報記録媒体(光ディスク)には、1回だけの記録が可能で書換が不可能な追記型媒体と、繰り返し記録が可能な書換型媒体とがあることが知られている。なかでも、追記型媒体は記録情報の書換が不可能であるため、情報の改ざんが問題となる公文書等の記録に適している。   Here, an optical information recording medium (optical disk) that records and reproduces information by laser light irradiation is a write-once medium that can be recorded only once and cannot be rewritten, and a rewritable medium that can be repeatedly recorded. It is known that there is. In particular, write-once media are not suitable for rewriting recorded information, and are therefore suitable for recording official documents and the like in which falsification of information is a problem.

追記型媒体としては、有機色素を記録材料とするものと、相変化型のものが広く用いられている。有機色素を記録材料とするものは、例えば、ベンゾフェノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素等の感光性有機色素を使用するものである。また、追記型媒体のうち、相変化型のものは、Te−Ox膜やTe−Ox−Pd膜等にレーザー光を照射することにより相変化させ、この相変化に伴う反射率変化を検出することにより再生を行うものである(特許文献1参照)。   As write-once media, those using organic dyes as recording materials and those of phase change type are widely used. A material using an organic dye as a recording material uses a photosensitive organic dye such as a benzophenone dye, a phthalocyanine dye, a naphthalocyanine dye, or a cyanine dye. Further, among the write-once media, the phase change type media changes the phase by irradiating a Te-Ox film, Te-Ox-Pd film or the like with laser light, and detects a change in reflectance accompanying this phase change. Thus, reproduction is performed (see Patent Document 1).

特開昭61−168151号公報JP-A-61-168151

光情報記録媒体に求められているこのような高速化の観点からは、従来の追記型媒体には以下のような問題が存在する。例えば、有機色素を記録材料とする場合は、媒体の線速度を速くして高速記録を行う際に記録感度が不十分となりやすく、高転送レートの実現が困難である。また、短波長の記録・再生光に対する有機色素の設計が難しいという問題もある。   From the viewpoint of such high speed required for the optical information recording medium, the conventional write-once medium has the following problems. For example, when an organic dye is used as the recording material, the recording sensitivity tends to be insufficient when performing high-speed recording by increasing the linear velocity of the medium, and it is difficult to realize a high transfer rate. There is also a problem that it is difficult to design an organic dye for recording / reproducing light having a short wavelength.

また、Te−Ox膜やTe−Ox−Pd膜を使った追記型の相変化記録膜の場合は、非晶質の記録層にレーザー光を照射して、記録層を結晶化温度以上融点未満の温度まで昇温することにより結晶粒を成長させ、結晶記録マークを形成するものであるが、この相変化の過程で、結晶化が完了するまでに長い時間を要し、高転送レートの実現が難しい。   In the case of a write-once type phase change recording film using a Te-Ox film or a Te-Ox-Pd film, the amorphous recording layer is irradiated with a laser beam, and the recording layer is heated to a crystallization temperature or higher and lower than the melting point. The crystal grains are grown by raising the temperature up to the temperature of 1 to form crystal recording marks, but in the process of this phase change, it takes a long time to complete crystallization, realizing a high transfer rate Is difficult.

一方、これに対して、書換型媒体のなかでも相変化型材料を使用するものは、例えば、Te−Ge系、As−Te−Ge系、In−Sb−Te、Ga−Sb−Te等で形成される結晶質記録層に高パワーレベルのレーザー光を照射して溶融させ、溶融状態から急冷することにより非晶質記録マークを形成することが行われる。このように、記録マークの形成方法が、結晶質記録層を非晶質に相変化させて記録するものであるため、追記型相変化記録膜に比べて、マーク形成時間が比較的短く、高転送レートを実現しやすい可能性がある。さらに、この結晶質記録層は、レーザー光を瞬時に吸収して融点に達するため、記録に際して有機色素の分解を伴う方式の追記型媒体に比べても、高感度であり、記録パワーは記録線速に大きく依存しないという利点を有している。   On the other hand, among the rewritable media, those using a phase change material are, for example, Te—Ge, As—Te—Ge, In—Sb—Te, Ga—Sb—Te, and the like. An amorphous recording mark is formed by irradiating and melting a high power level laser beam on the crystalline recording layer to be formed, and rapidly cooling from the molten state. As described above, since the recording mark forming method records the crystalline recording layer by changing the phase to amorphous, the mark formation time is relatively short compared to the write-once phase change recording film, There is a possibility that the transfer rate is easy to realize. Furthermore, since this crystalline recording layer instantaneously absorbs the laser beam and reaches the melting point, it has higher sensitivity than a write-once medium that involves decomposition of the organic dye during recording, and the recording power is the recording line. It has the advantage of not relying heavily on speed.

このような背景の下、我々は、このような書換型媒体において使用されている(結晶質/非晶質)相変化型材料を追記型媒体に利用する可能性の検討を進めていたところ、例えば、(1.1mm基板/Ag合金反射膜/ZnS−SiO保護膜/GeSbTe系記録膜/ZnS−SiO保護膜/0.1mmカバー層)の構成を有する膜面入射型の書換型媒体は、波長405nmの青色レーザ光を用いて情報の記録再生を行う場合は、ダイレクトオーバライトが困難であるという現象に着目した。このような現象が生じる理由としては、赤色レーザ光に比べて青色レーザ光のビームスポット径が小さいこと、また、非晶質記録マークの熱吸収率が結晶質の熱吸収率よりも大きいこと、等が挙げられる。このため、青色レーザ光が非晶質記録マークに照射された場合、赤色レーザ光の場合と比べて、非晶質マークを結晶化させるために必要な時間が短いために、非晶質マークが完全に結晶化できなくなる、或いは、非晶質記録マーク上に情報を上書きする場合と結晶質スペース上に情報を上書きする場合とで記録マークの長さが揃わないこと等が考えられる。 Against this background, we were studying the possibility of using the (crystalline / amorphous) phase change material used in such a rewritable medium as a write-once medium, For example, a film surface incident type rewritable medium having a configuration of (1.1 mm substrate / Ag alloy reflective film / ZnS—SiO 2 protective film / GeSbTe-based recording film / ZnS—SiO 2 protective film / 0.1 mm cover layer) Focused on the phenomenon that direct overwriting is difficult when recording and reproducing information using a blue laser beam having a wavelength of 405 nm. The reason why such a phenomenon occurs is that the beam spot diameter of the blue laser light is smaller than that of the red laser light, and that the heat absorption rate of the amorphous recording mark is larger than the heat absorption rate of the crystalline material, Etc. For this reason, when the amorphous recording mark is irradiated with the blue laser light, the time required to crystallize the amorphous mark is shorter than that of the red laser light. It may be impossible to crystallize completely, or the lengths of the recording marks may not be the same when the information is overwritten on the amorphous recording mark and when the information is overwritten on the crystalline space.

しかしながら、このような(結晶質→非晶質)相変化型記録材料は、以下の理由により、追記型媒体としては利用が困難であるという問題がある。即ち、結晶質GeSbTe系記録膜にレーザ光を用いて非晶質記録マークを形成した後、再び、この非晶質記録マークに、低パワーレベルのレーザー光を2〜3回照射する操作を行うと非晶質記録マークは結晶化し、その結果、記録されていた情報は完全に消去され、新しい情報のオーバーライトが可能になってしまう。このため、たとえ波長405nmの青色レーザ光を用いて情報の記録再生を行う場合でも、このままでは、追記型媒体として利用することができない。   However, such a (crystalline → amorphous) phase change recording material has a problem that it is difficult to use as a write-once medium for the following reasons. That is, after an amorphous recording mark is formed on a crystalline GeSbTe-based recording film using a laser beam, an operation of irradiating the amorphous recording mark with a low power level laser beam 2 to 3 times is performed again. As a result, the amorphous recording mark crystallizes, and as a result, the recorded information is completely erased, and overwriting of new information becomes possible. For this reason, even when information is recorded / reproduced using a blue laser beam having a wavelength of 405 nm, it cannot be used as a write-once medium.

尤も、書換え可能なGeSbTe系記録膜であっても、GeSbTe系記録膜に接してSb膜を設け、情報を記録するために照射されたレーザ光によりGeSbTe系記録膜とSb膜とを混合させると、記録時と同じ線速度では、記録された情報の書換えを困難にすることが可能である。但し、この場合、記録時と異なる線速度では、記録されている情報が書換えられてしまう。   However, even if it is a rewritable GeSbTe recording film, an Sb film is provided in contact with the GeSbTe recording film, and the GeSbTe recording film and the Sb film are mixed by laser light irradiated to record information. At the same linear velocity as at the time of recording, it is possible to make it difficult to rewrite the recorded information. In this case, however, the recorded information is rewritten at a linear velocity different from that at the time of recording.

本発明は、このように、従来書換型媒体に使用される相変化型の結晶質記録層を利用した追記型媒体を開発する際の技術的課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、高転送レートが可能な追記型の光情報記録媒体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、高転送レートが可能な追記型の光情報記録媒体の情報記録再生方法を提供することにある。
The present invention has been made in order to solve the technical problem in developing a write-once medium using a phase change type crystalline recording layer conventionally used in a rewritable medium .
That is, an object of the present invention is to provide a write-once type optical information recording medium capable of a high transfer rate.
Another object of the present invention is to provide an information recording / reproducing method for a write once optical information recording medium capable of a high transfer rate.

かかる目的を達成するために、本発明が適用される光情報記録媒体は、記録層が非晶質相から結晶相に相変化することを抑制するための消去防止層を、結晶質記録層に接して設けている。即ち、本発明が適用される光情報記録媒体は、基板と、基板上に設けられ、光照射を受けて結晶相から非晶質相に相変化することにより情報が記録される記録層と、この記録層に接して設けられ、記録層を相変化させて形成した非晶質相から結晶相に相変化することを抑制し、且つ、コバルト元素を含有する金属酸化物を主成分として含む消去防止層と、を備えることを特徴とする。この消去防止層は、記録層が非晶質相から再度結晶相に可逆的に相変化することを抑制するものである。 In order to achieve such an object, an optical information recording medium to which the present invention is applied has an erasure preventing layer for suppressing a phase change from an amorphous phase to a crystalline phase in the crystalline recording layer. They are in contact. That is, an optical information recording medium to which the present invention is applied includes a substrate, a recording layer provided on the substrate, on which information is recorded by phase change from a crystalline phase to an amorphous phase upon receiving light irradiation, An erasure that is provided in contact with the recording layer, suppresses a phase change from an amorphous phase formed by changing the phase of the recording layer to a crystalline phase , and contains a metal oxide containing a cobalt element as a main component. And a prevention layer. This erasure preventing layer suppresses the reversible phase change of the recording layer from the amorphous phase to the crystalline phase again.

本発明が適用される光情報記録媒体における消去防止層に含まれるコバルト元素を含有する金属酸化物は、600℃以上の温度で物理的又は化学的に変化することを特徴とするものである。このようなコバルト元素を含有する金属酸化物であれば、記録層が非晶質相から結晶相に相変化することが効果的に抑制される。具体的には、消去防止層は、少なくとも四三酸化コバルト(Co )を含有する層であることを特徴とし、この消去防止層は、厚さが1nm以上5nm以下であることが好ましい。さらに、本発明が適用される光情報記録媒体は、記録層は、基板側若しくは基板とは反対側からレーザ光を照射して情報の記録再生を行うことを特徴とするものである。 The metal oxide containing cobalt element contained in the erasure prevention layer in the optical information recording medium to which the present invention is applied is characterized in that it changes physically or chemically at a temperature of 600 ° C. or higher. Such a metal oxide containing a cobalt element effectively suppresses the phase change of the recording layer from the amorphous phase to the crystalline phase. Specifically, the erasure prevention layer is a layer containing at least cobalt tetroxide (Co 3 O 4 ), and the erasure prevention layer preferably has a thickness of 1 nm to 5 nm. . Furthermore, the optical information recording medium to which the present invention is applied is characterized in that the recording layer records and reproduces information by irradiating a laser beam from the substrate side or the side opposite to the substrate.

また、本発明が適用される光情報記録媒体は、結晶質の相変化型記録材料から形成され、波長500nm以下の光を照射することにより情報を記録する記録層と、記録層に接して設けられ、光の照射によって、記録層への情報のオーバーライトを防止し、四三酸化コバルト(Co )を主成分として含有する消去防止層と、を備えることを特徴とするものである。この消去防止層は、相変化材料と結合して、記録層への情報のオーバーライトを抑制する物質を生成する元素又は化合物を含有するものである。さらに、記録層は、相変化型記録材料を相変化させて形成した非晶質相に連続光を照射した際に、非晶質相が結晶相に相変化しないことを特徴としている。 An optical information recording medium to which the present invention is applied is formed of a crystalline phase change recording material, and is provided in contact with a recording layer for recording information by irradiating light with a wavelength of 500 nm or less. And an erasure preventing layer containing cobalt trioxide (Co 3 O 4 ) as a main component , which prevents overwriting of information on the recording layer by light irradiation. . This erasure prevention layer contains an element or compound that forms a substance that combines with the phase change material and suppresses overwriting of information to the recording layer . Furthermore, the recording layer is characterized in that when the amorphous phase formed by changing the phase of the phase change recording material is irradiated with continuous light, the amorphous phase does not change into a crystalline phase.

さらに、本発明は、基板上に形成された結晶質の相変化型記録材料からなる記録層と、記録層に形成された非晶質記録マークが消去されることを防止するために記録層に接して設けられ、四三酸化コバルト(Co )を主成分として含む消去防止層とを備えた光情報記録媒体に、基板側若しくは基板とは反対側から、波長500nm以下のレーザ光を記録層に照射して、情報の記録又は再生を行うことを特徴とする光情報記録媒体の情報記録再生方法として把握することができる。 Furthermore, the present invention provides a recording layer made of a crystalline phase change recording material formed on a substrate, and an amorphous recording mark formed on the recording layer in order to prevent the recording layer from being erased. A laser beam having a wavelength of 500 nm or less is applied to an optical information recording medium provided in contact with the optical information recording medium provided with an erasure prevention layer containing cobalt tetroxide (Co 3 O 4 ) as a main component from the substrate side or the side opposite to the substrate. It can be grasped as an information recording / reproducing method of an optical information recording medium characterized in that information is recorded or reproduced by irradiating the recording layer.

尚、本発明が適用される光情報記録媒体においては、基板上に形成される記録層は、基板表面に直接形成される場合の他、必要に応じて、基板と記録層との間に、例えば、反射層、誘電体層、保護層等の他の層を介して形成される場合も含まれる。   In the optical information recording medium to which the present invention is applied, the recording layer formed on the substrate is formed directly on the surface of the substrate, and if necessary, between the substrate and the recording layer, For example, the case where it forms via other layers, such as a reflection layer, a dielectric material layer, and a protective layer, is also included.

かくして本発明によれば、相変化型記録材料を使用する追記型記録媒体として有効な光情報記録媒体が得られる。   Thus, according to the present invention, an optical information recording medium effective as a write-once recording medium using a phase change recording material can be obtained.

以下、図面に基づき本実施の形態が適用される光情報記録媒体および光情報記録媒体の記録再生方法について詳述する。
(第1の実施形態)
図1は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第1の実施形態の構造を説明するための図である。ここに示された単板型の膜面入射型光ディスクは、透明な基板11と、この基板11上に順番に形成された反射層12、第1誘電体層13、相変化材料からなる記録層14、記録層14のレーザ光が入射する側に接して設けられた消去防止層15、第2誘電体層16の各層が積層され、さらに、第2誘電体層16の上に紫外線硬化樹脂によって透明なカバー層17が形成されている。レーザ光は、カバー層17側から第2誘電体層16及び消去防止層15を介して、記録層14に入射し、情報の記録再生が行われる。尚、情報の記録再生は、例えば、波長500nm以下のレーザ光が使用される。
Hereinafter, an optical information recording medium to which this embodiment is applied and a recording / reproducing method of the optical information recording medium will be described in detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram for explaining the structure of a first embodiment of an optical information recording medium to which the present embodiment is applied. The single-plate type film surface incidence type optical disk shown here includes a transparent substrate 11, a reflective layer 12, a first dielectric layer 13, and a recording layer made of a phase change material, which are sequentially formed on the substrate 11. 14, each of an erasure prevention layer 15 provided in contact with the laser beam incident side of the recording layer 14 and a second dielectric layer 16 are laminated, and further, an ultraviolet curable resin is formed on the second dielectric layer 16 A transparent cover layer 17 is formed. Laser light is incident on the recording layer 14 from the cover layer 17 side via the second dielectric layer 16 and the erasure preventing layer 15 to record and reproduce information. For information recording / reproduction, for example, laser light having a wavelength of 500 nm or less is used.

基板11は、例えば、直径120mm、厚さ1.1mmのポリカーボネート樹脂板の表面に、幅0.16μm、深さ24nmの溝が0.32μmピッチで形成され、射出成形によって作製される。この基板11には、ディスク認識情報やアドレス情報などを、溝のウォブルによってあらかじめ記録してある。これらの情報はプリピットによっても形成可能である。なお、情報記録用のトラックとしては溝あるいは溝間のどちらか一方が用いられる。   For example, the substrate 11 is formed by injection molding on a surface of a polycarbonate resin plate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm, with grooves having a width of 0.16 μm and a depth of 24 nm formed at a pitch of 0.32 μm. On this substrate 11, disk recognition information, address information, and the like are recorded in advance by groove wobble. Such information can also be formed by pre-pits. Note that either a groove or a space between grooves is used as an information recording track.

基板11の材料としては、特に限定されないが、通常、従来から基板材料として用いられている、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるもの、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けたもの等は、何れも基板11の材料として使用することができる。尚、高生産性、コスト、耐吸湿性等の点からは、射出成型ポリカーボネートが好ましい。   Although it does not specifically limit as a material of the board | substrate 11, Usually, conventionally used as a board | substrate material, for example, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, polyolefin resin (especially amorphous polyolefin), polyester resin Any of those made of resin such as polystyrene resin and epoxy resin, glass, and a resin layer made of a radiation curable resin such as a photocurable resin on the glass are used as the material of the substrate 11. can do. In view of high productivity, cost, moisture absorption resistance, etc., injection molded polycarbonate is preferable.

反射層12は、金属または合金により構成される厚さ50〜200nmのものである。具体的には、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、CrおよびPdの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。さらに、これらを主成分とする以外に、例えば、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を含むこともできる。   The reflective layer 12 is made of metal or alloy and has a thickness of 50 to 200 nm. Specifically, for example, metals of Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr, and Pd can be used alone or as an alloy. In addition to these as main components, for example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si , Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and other metals and metalloids.

第1誘電体層13の厚さは15〜35nm、第2誘電体層16の厚さは50〜150nmで、記録層14の両側に設けられる。第1誘電体層13及び第2誘電体層16を形成する材料は、特に限定されないが、例えば、ZnS・SiOの混合物;SiO、Al、Cr、SnO、Ta等の酸化物;SiN、GeN、TaN、AlN等の窒化物等が挙げられる。 The first dielectric layer 13 has a thickness of 15 to 35 nm, the second dielectric layer 16 has a thickness of 50 to 150 nm, and is provided on both sides of the recording layer 14. The material for forming the first dielectric layer 13 and the second dielectric layer 16 is not particularly limited. For example, a mixture of ZnS and SiO 2 ; SiO 2 , Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , SnO 2 , Ta Examples thereof include oxides such as 2 O 5 ; nitrides such as SiN, GeN, TaN, and AlN.

記録層14は、相変化型記録材料から構成され、厚さ6〜20nmの相変化型結晶記録層である。相変化型記録材料による記録層14は、変形が生じにくい点で優れている。相変化型結晶記録層は、結晶/非結晶という物質の相変化によりデータを読み書きする。相変化型記録材料の具体例としては、例えば、Sb−Te系、Ge−Te系、Ge−Sb−Te系、In−Sb−Te系、Ag−In−Sb−Te系、MA−Ge−Sb−Te系(MAはAu、Cu、Pd、Ta、W、Ir、Sc、Y、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Ag、Tl、S、SeおよびPtのうちの少なくとも1元素)、Sn−Sb−Te系、In−Se−Tl系、In−Se−Tl−MB系(MBはAu、Cu、Pd、Ta、W、Ir、Sc、Y、Ti、Zr、V、Nb、Cr、Mo、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Ag、Tl、S、SeおよびPtのうちの少なくとも1元素)、Sn−Sb−Se系などの材料が挙げられる。   The recording layer 14 is composed of a phase change recording material and is a phase change crystal recording layer having a thickness of 6 to 20 nm. The recording layer 14 made of a phase change recording material is excellent in that it hardly deforms. The phase change type crystal recording layer reads and writes data by the phase change of the crystalline / non-crystalline substance. Specific examples of the phase change recording material include, for example, Sb—Te, Ge—Te, Ge—Sb—Te, In—Sb—Te, Ag—In—Sb—Te, and MA—Ge—. Sb-Te series (MA is Au, Cu, Pd, Ta, W, Ir, Sc, Y, Ti, Zr, V, Nb, Cr, Mo, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ni, Ag, Tl , S, Se, and Pt), Sn—Sb—Te, In—Se—Tl, In—Se—Tl—MB (MB is Au, Cu, Pd, Ta, W, Ir) , Sc, Y, Ti, Zr, V, Nb, Cr, Mo, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ni, Ag, Tl, S, Se and Pt), Sn-Sb- Examples thereof include Se-based materials.

本実施形態においては、記録層14をこのような相変化型記録材料を用いて形成し、記録層14に基板11と反対側に設けた透明なカバー層17側から、例えば、波長500nm以下のレーザー光を入射させて情報の記録・再生を行う。記録層14を構成する相変化型記録材料の融点は、少なくとも300℃以上、好ましくは、300℃〜800℃、さらに好ましくは、600℃〜700℃であることが望ましい。   In the present embodiment, the recording layer 14 is formed using such a phase change recording material, and the wavelength of, for example, 500 nm or less is applied from the transparent cover layer 17 side provided on the recording layer 14 on the side opposite to the substrate 11. Information is recorded / reproduced by entering laser light. The melting point of the phase change recording material constituting the recording layer 14 is at least 300 ° C. or higher, preferably 300 ° C. to 800 ° C., more preferably 600 ° C. to 700 ° C.

本実施形態の膜面入射型光ディスクにおける消去防止層15は、少なくとも、200℃程度の温度下において物理的又は化学的に安定であり、且つ、600℃以上、好ましくは800℃以上の温度下において、物理的又は化学的に変化する元素又は化合物を含有する薄層である。本実施形態において、消去防止層15は相変化型記録材料からなる記録層14のレーザ光が入射する側に接して設けられる。ここで、600℃以上の温度下において、物理的又は化学的に変化するとは、例えば、分解、融解、相転移、相変化、結晶構造の変化等が挙げられる。本実施形態が適用される膜面入射型光ディスクにおいては、相変化型記録材料から構成される記録層14が、レーザ光を照射されることにより初期化される際の温度は、約200℃程度であり、また、記録層14に青色レーザ光を照射して、相変化型記録材料の結晶/非結晶という相変化により情報を記録する際の温度は、約600℃以上であると考えられる。従って、本実施形態において、消去防止層15は、記録層14が初期化される際の温度においては安定な状態を保持し、記録層14に青色レーザ光を照射して、相変化型記録材料の結晶/非結晶という相変化により情報を記録する際の温度において、物理的又は化学的に変化すると考えられる。   The erasure preventing layer 15 in the film surface incident type optical disc of the present embodiment is physically or chemically stable at least at a temperature of about 200 ° C., and at a temperature of 600 ° C. or higher, preferably 800 ° C. or higher. , A thin layer containing an element or compound that changes physically or chemically. In the present embodiment, the erasure prevention layer 15 is provided in contact with the laser beam incident side of the recording layer 14 made of a phase change recording material. Here, the physical or chemical change at a temperature of 600 ° C. or higher includes, for example, decomposition, melting, phase transition, phase change, crystal structure change, and the like. In the film surface incident type optical disc to which the present embodiment is applied, the temperature at which the recording layer 14 made of the phase change recording material is initialized by being irradiated with laser light is about 200 ° C. In addition, it is considered that the temperature at which information is recorded by irradiating the recording layer 14 with blue laser light and recording information by the phase change of crystal / amorphous of the phase change recording material is about 600 ° C. or more. Therefore, in the present embodiment, the erasure prevention layer 15 maintains a stable state at the temperature at which the recording layer 14 is initialized, and the recording layer 14 is irradiated with blue laser light to thereby change the phase change recording material. It is considered that the temperature changes when the information is recorded due to the phase change of crystal / non-crystal.

消去防止層15に主成分として含有される化合物は、200℃程度の温度下において物理的又は化学的に安定であり、且つ、600℃以上の温度下において、物理的又は化学的に変化する金属酸化物である。このような金属酸化物としては、例えば、Co 、Co 等の、金属としてコバルト元素を含有する金属酸化物が挙げられる。この中でも、特に、四三酸化コバルト(Co )が好ましい。四三酸化コバルト(Co は、200℃程度の温度では安定な状態を保持し、800〜1000℃の温度範囲で分解する性質を示す。四三酸化コバルト(Co は、900℃近傍の温度で、酸化コバルト(II)(CoO)に変化することが知られている(Constitution of Binary Alloys Second Edition:McGRAW−HILL BOOK COMPANY、1985、P.487〜P.488)。また、結晶構造は、四三酸化コバルト(Co のスピネル型から、酸化コバルト(II)(CoO)のNaCl型へと変化する。
このように、本実施形態の膜面入射型光ディスクにおける消去防止層15は、少なくとも、四三酸化コバルト(Co )を主成分として含有する薄層として形成されることが好ましい。
また、消去防止層15に含有される他の元素又は化合物としては、窒素又は窒素化合物を使用することができる。このような窒素化合物の具体例としては、例えば、CuN、Mg等が挙げられる。
The compound contained as a main component in the erasure prevention layer 15 is a metal that is physically or chemically stable at a temperature of about 200 ° C. and changes physically or chemically at a temperature of 600 ° C. or higher. It is an oxide. Examples of such metal oxides include metal oxides containing a cobalt element as a metal , such as Co 2 O 3 and Co 3 O 4 . Among these, cobalt tetroxide (Co 3 O 4 ) is particularly preferable. Tricobalt tetraoxide (Co 3 O 4 ) maintains a stable state at a temperature of about 200 ° C. and exhibits a property of decomposing in a temperature range of 800 to 1000 ° C. It is known that cobalt tetraoxide (Co 3 O 4 ) changes to cobalt oxide (II) (CoO) at a temperature around 900 ° C. (Constitution of Binary Alloys Second Edition: McGRAW-HILL BOOK COMPANY, 1985, P.487-P.488). Further, the crystal structure changes from the spinel type of tribasic cobalt oxide (Co 3 O 4 ) to the NaCl type of cobalt (II) oxide (CoO) .
Thus, it is preferable that the erasure prevention layer 15 in the film surface incident type optical disk of the present embodiment is formed as a thin layer containing at least cobalt tetroxide (Co 3 O 4 ) as a main component .
Further, as another element or compound contained in the erasure prevention layer 15, nitrogen or a nitrogen compound can be used. Specific examples of such nitrogen compounds include Cu 3 N, Mg 3 N 2 and the like.

消去防止層15の厚さは、1nm〜5nmの範囲で形成される。消去防止層15の厚さが過度に小さいと、オーバーライトが可能になる、また、消去防止層15の厚さが過度に大きいと光の吸収が増加し、記録感度が低下する。   The thickness of the erasure prevention layer 15 is formed in the range of 1 nm to 5 nm. If the thickness of the erasure prevention layer 15 is excessively small, overwriting becomes possible, and if the thickness of the erasure prevention layer 15 is excessively large, light absorption increases and recording sensitivity decreases.

本実施形態の膜面入射型光ディスクにおいて、消去防止層15を記録層14のレーザ光が入射する側に接して設けることにより、記録層14に記録されていた情報を消去するために、連続光を照射して非晶質記録マークの結晶化操作を施しても、非晶質記録マークが結晶質に戻ることがない。そのために、記録されていた情報が消去されず、且つ、新しい情報のオーバーライトが出来なくなり、その結果、(結晶質/非晶質)相変化型記録材料からなる記録層14は、追記型媒体として利用することができる。   In the film surface incident type optical disk of the present embodiment, the erasure prevention layer 15 is provided in contact with the laser beam incident side of the recording layer 14, thereby erasing information recorded on the recording layer 14. Even if the amorphous recording mark is crystallized by irradiating with, the amorphous recording mark does not return to crystalline. Therefore, the recorded information is not erased, and overwriting of new information cannot be performed. As a result, the recording layer 14 made of a (crystalline / amorphous) phase change recording material has a write-once medium. Can be used as

カバー層17は、厚さ30μm〜100μmで形成される。カバー層17の材料としては、通常、プレポリマー成分及びモノマー成分を、ベンゾフェノンやベンゾインエーテル等の光重合開始剤を用いて硬化反応させた紫外線硬化樹脂を用いることができる。プレポリマー成分としては、例えば、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等が挙げられる。モノマー成分としては、例えば、ジシクロペンタニルジアクリレート、エチレンオキサイド(EO)変性ビスフェノールAアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレートジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   The cover layer 17 is formed with a thickness of 30 μm to 100 μm. As a material for the cover layer 17, an ultraviolet curable resin obtained by curing and reacting a prepolymer component and a monomer component with a photopolymerization initiator such as benzophenone or benzoin ether can be used. Examples of the prepolymer component include polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, and the like. Examples of the monomer component include dicyclopentanyl diacrylate, ethylene oxide (EO) modified bisphenol A acrylate, trimethylpropane triacrylate, EO modified trimethylolpropane triacrylate dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.

本実施形態における基板11上に積層される各層は、例えば、以下の方法により形成される。即ち、基板11を複数のスパッタ室を持ち、膜厚の均一性および再現性に優れたスパッタ装置内のロードロック室に設置し、次に、この基板11を第1スパッタ室に移動した後、ターゲットとしてAg98RuAu(原子%)を用い、アルゴンガス中で厚さ50nmのAg98RuAu反射層12を形成する。次いで、この基板11を第2のスパッタ室に移動した後、ターゲットとしてZnSとSiOの混合物を用い、アルゴンガス中で厚さ20nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第1誘電体層13を形成する。次に、この基板11を第3のスパッタ室に移動した後、Ge33Sb13Te54(原子%)焼結体ターゲットを用いて、アルゴンガス中で厚さ15nmのGe33Sb13Te54記録層14を形成する。次に、この基板11を第4のスパッタ室に移動した後、Co焼結体ターゲットを用いてアルゴンガス中で厚さ3nmのCo消去防止層15を形成する。次に、第5スパッタ室に基板11を移動し、第1誘電体層13形成と同様の要領で厚さ55nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層16を形成する。最後に、各層が積層された基板11をスパッタ装置から取り出し、最上層である(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層16の上に紫外線硬化樹脂によって厚さ0.1mmのカバー層17を形成する。 Each layer laminated | stacked on the board | substrate 11 in this embodiment is formed with the following method, for example. That is, the substrate 11 has a plurality of sputtering chambers and is installed in a load lock chamber in a sputtering apparatus having excellent film thickness uniformity and reproducibility. Next, after moving the substrate 11 to the first sputtering chamber, Ag 98 Ru 1 Au 1 (atomic%) is used as a target, and the Ag 98 Ru 1 Au 1 reflective layer 12 having a thickness of 50 nm is formed in an argon gas. Next, after moving the substrate 11 to the second sputtering chamber, a mixture of ZnS and SiO 2 was used as a target, and (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) first having a thickness of 20 nm in argon gas. The dielectric layer 13 is formed. Next, after moving this substrate 11 to the third sputtering chamber, recording of Ge 33 Sb 13 Te 54 having a thickness of 15 nm in argon gas using a Ge 33 Sb 13 Te 54 (atomic%) sintered body target. Layer 14 is formed. Next, the substrate 11 is moved to the fourth sputtering chamber, and then a Co 3 O 4 erasure preventing layer 15 having a thickness of 3 nm is formed in an argon gas using a Co 3 O 4 sintered body target. Next, the substrate 11 is moved to the fifth sputtering chamber, and the (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) second dielectric layer 16 having a thickness of 55 nm is formed in the same manner as the formation of the first dielectric layer 13. Form. Finally, the substrate 11 on which each layer is laminated is taken out from the sputtering apparatus, and the thickness of the upper layer (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) is set to 0. A 1 mm cover layer 17 is formed.

本実施形態における膜面入射型光ディスクの記録層14の初期化は、例えば、波長810nm、ビーム長径96μm、短径1μmの楕円ビームを持つレーザ光を照射することにより行われる。グルーヴ記録・再生は、初期化を行った光ディスクを、線速5.28m/secになるように回転させ、カバー層17を介して、例えば、波長405nmの半導体レーザ光を、開口数0.85の対物レンズにより集光させ、プッシュプル方式でトラッキング制御を行いながら行う。記録にはレーザーパワーを4.5mWと0.3mWの間で変調した波形を用い、記録パルスを複数に分割するマルチパルス記録波形を用いる。   Initialization of the recording layer 14 of the film surface incidence type optical disc in the present embodiment is performed, for example, by irradiating a laser beam having an elliptical beam having a wavelength of 810 nm, a beam major axis of 96 μm, and a minor axis of 1 μm. In groove recording / reproduction, the initialized optical disk is rotated so as to have a linear velocity of 5.28 m / sec, and, for example, semiconductor laser light having a wavelength of 405 nm is applied through the cover layer 17 to a numerical aperture of 0.85. The light is condensed by the objective lens and tracking control is performed by the push-pull method. For recording, a waveform obtained by modulating the laser power between 4.5 mW and 0.3 mW is used, and a multi-pulse recording waveform that divides the recording pulse into a plurality is used.

本実施形態における膜面入射型光ディスクに、単一パターンをグルーヴ部に記録し、再生パワーを0.3mW、解像帯域幅を30kHz、ビデオ帯域幅を10Hzとして、C/N比をスペクトルアナライザーを用いて測定したところ、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして記録した場合は、58.5dBのC/N比が得られた。また、未記録トラックに記録周波数を11.0MHzとして記録した場合は、54.5dBのC/N比が得られた。尚、記録周波数4.1MHzとして記録した場合の非晶質記録マーク長は約0.64μmであり、記録周波数11.0MHzとして記録した場合の非晶質記録マーク長は、約0.24μmである。   In the present embodiment, a single pattern is recorded in the groove portion on the film surface incident type optical disc, the reproduction power is 0.3 mW, the resolution bandwidth is 30 kHz, the video bandwidth is 10 Hz, and the C / N ratio is measured with a spectrum analyzer. As a result, when the recording frequency was recorded on an unrecorded track at 4.1 MHz, a C / N ratio of 58.5 dB was obtained. Further, when recording was performed on an unrecorded track at a recording frequency of 11.0 MHz, a C / N ratio of 54.5 dB was obtained. Note that the amorphous recording mark length when recording at a recording frequency of 4.1 MHz is about 0.64 μm, and the amorphous recording mark length when recording at a recording frequency of 11.0 MHz is about 0.24 μm. .

本実施形態における膜面入射型光ディスクの記録層14は、消去防止層15を、記録層14のレーザ光が入射する側に接して設けることにより、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても非晶質記録マークが結晶質に戻ることがない。具体的には、記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を30回照射し、その後、記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きする操作を行っても、51.0dBのC/N比しか得らず、単一パターンを記録周波数11.0MHzとして未記録部に記録する場合に比べて、C/N比が3.5dB減少してしまう。この結果は、記録層14にはオーバーライトが出来ないことを示し、即ち、本実施形態における膜面入射型光ディスクが、書換型媒体で使用されている相変化型記録材料を用いた追記型媒体として有効であることを示している。   In the recording layer 14 of the film surface incidence type optical disc in the present embodiment, the erasure preventing layer 15 is provided in contact with the laser beam incident side of the recording layer 14 so that the amorphous recording mark is crystallized by continuous light irradiation. Even if the operation is performed, the amorphous recording mark does not return to crystalline. Specifically, a track on which a signal is recorded with a recording frequency of 4.1 MHz is irradiated with continuous light 30 times with a laser power of 1.5 mW, and then a single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, only a C / N ratio of 51.0 dB is obtained, and the C / N ratio is reduced by 3.5 dB as compared with a case where a single pattern is recorded at an unrecorded portion at a recording frequency of 11.0 MHz. . This result indicates that the recording layer 14 cannot be overwritten. That is, the film surface incidence type optical disc in this embodiment is a write-once medium using a phase change recording material used in a rewritable medium. As effective.

本実施形態の膜面入射型光ディスクにおいて、消去防止層15を、記録層14に接して設けることにより、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても非晶質記録マークが結晶質に戻らずに、記録層14にはオーバーライトが出来ない結果が得られた理由は明確ではないが、例えば、以下のように考えることができる。即ち、記録層14に青色レーザ光を照射して相変化型記録材料からなる結晶質記録層を溶融させて非晶質記録マークを記録する場合の溶融部分の中心部の温度は約1000℃と推定でき、この溶融部分の金属と消去防止層15を構成する四三酸化コバルト(Co の酸素原子とが結合することにより生成された物質が、非晶質記録マークの結晶化を抑制すると考えられる。 In the film surface incident type optical disc of the present embodiment, by providing the erasure preventing layer 15 in contact with the recording layer 14, the amorphous recording mark can be formed even if the amorphous recording mark is crystallized by continuous light irradiation. The reason why the recording layer 14 was not overwritten without returning to crystalline is not clear, but can be considered as follows, for example. That is, when the amorphous recording mark is recorded by irradiating the recording layer 14 with blue laser light to melt the crystalline recording layer made of the phase change recording material, the temperature at the center of the melted portion is about 1000 ° C. It can be estimated that the material produced by the bonding of the molten portion metal and the oxygen atom of cobalt trioxide (Co 3 O 4 ) constituting the erasure prevention layer 15 causes the crystallization of the amorphous recording mark. It is thought to suppress.

また、他の観点からは、四三酸化コバルト(Co は、900℃近傍の温度で、酸化コバルト(II)(CoO)に変化することにより、結晶構造が、四三酸化コバルト(Co のスピネル型から、酸化コバルト(II)(CoO)のNaCl型へと変化することが原因であると考えられる。即ち、四三酸化コバルト(Co は、2価のCo2+イオンと3価のCo3+イオンとが一つの単位格子中に存在する混合原子価酸化物であるため、結晶構造としては不安定であり、結晶面に欠陥が生じやすい。一方、酸化コバルト(II)(CoO)は、Co2+が酸素原子と正六面体を形成しており、結晶構造としては安定であるため、結晶面に欠陥を生じにくい。一般的に結晶面に欠陥が存在するような場合には極めて容易に結晶核が生成されることが知られている。このことから、情報記録時に記録層14が溶融した際に、消去防止層15が四三酸化コバルト(Co から酸化コバルト(II)(CoO)に変化して、記録層14の非晶質記録マークと消去防止層15との境界面には結晶核が生成されにくい状態が生じ、このために、一旦非晶質になった部分の結晶化が困難になると考えることもできる。 From another point of view, cobalt tetraoxide (Co 3 O 4 ) changes to cobalt oxide (II) (CoO) at a temperature in the vicinity of 900 ° C., so that the crystal structure is changed to cobalt trioxide ( The cause is considered to be the change from the spinel type of Co 3 O 4 ) to the NaCl type of cobalt oxide (II) (CoO) . That is, tribasic cobalt oxide (Co 3 O 4 ) is a mixed valence oxide in which a divalent Co 2+ ion and a trivalent Co 3+ ion are present in one unit cell. It is unstable and defects are likely to occur on the crystal plane. On the other hand, in cobalt oxide (II) (CoO) , since Co 2+ forms a regular hexahedron with an oxygen atom and has a stable crystal structure, defects are hardly generated on the crystal plane. In general, it is known that crystal nuclei are generated very easily when there are defects on the crystal plane. From this, when the recording layer 14 is melted during information recording, the erasure preventing layer 15 changes from cobalt trioxide (Co 3 O 4 ) to cobalt (II) oxide (CoO) , and the non-recording layer 14 is not coated. It can be considered that crystal nuclei are hardly generated at the boundary surface between the crystalline recording mark and the erasure preventing layer 15, and this makes it difficult to crystallize the portion once amorphous.

尚、本実施形態における膜面入射型光ディスクの相変化型記録材料から形成したGe33Sb13Te54記録層14は、波長405nmのレーザ光を用いてダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数を4.1MHzとして記録したトラックに、記録周波数を11.0MHzとして上書き操作を行っても、単一パターンを未記録部に記録周波数11.0MHzとして記録する場合に比べて、C/N比が4.5dB減少し、波長405nmのレーザ光ではオーバライトができない結果が得られる。 Note that the Ge 33 Sb 13 Te 54 recording layer 14 formed from the phase-change recording material of the film surface incidence type optical disc in the present embodiment cannot be directly overwritten using a laser beam having a wavelength of 405 nm. That is, even when an overwriting operation is performed with a recording frequency of 11.0 MHz on a track recorded with a recording frequency of 4.1 MHz, C is compared to a case where a single pattern is recorded on an unrecorded portion with a recording frequency of 11.0 MHz. The / N ratio is reduced by 4.5 dB, and a result in which overwriting cannot be performed with a laser beam having a wavelength of 405 nm is obtained.

また、本実施形態の膜面入射型光ディスクに波長810nmのレーザ光による初期化処理を行わない場合は、例えば、波長405nmの半導体レーザ光を開口数0.85の対物レンズによる記録再生を試みた場合は、トラッキング制御が困難である。たとえ、トラッキング制御を行いながら、記録周波数を4.1MHzとしてランド/グルーヴ記録をした場合、初期化処理を行った場合に比較して、記録再生の信号振幅が1/10以下に減少する。また、本実施形態は、基板11の溝部(グルーヴ)記録の場合について説明したが、溝間(ランド)記録、あるいはランド・グルーヴの両方に情報の記録を行った場合も同様な効果が得られる。   In addition, when the film surface incidence type optical disc of this embodiment is not subjected to the initialization process with the laser beam with the wavelength of 810 nm, for example, recording / reproduction of the semiconductor laser beam with the wavelength of 405 nm using the objective lens with the numerical aperture of 0.85 was attempted. In this case, tracking control is difficult. For example, when land / groove recording is performed at a recording frequency of 4.1 MHz while performing tracking control, the recording / reproducing signal amplitude is reduced to 1/10 or less as compared with the case where initialization processing is performed. In the present embodiment, the groove (groove) recording of the substrate 11 has been described. However, the same effect can be obtained when information is recorded on both the groove (land) recording and the land / groove. .

(第2の実施形態)
図2は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第2の実施形態の構造を説明するための図である。ここに示された単板型の膜面入射型光ディスクは、消去防止層15が記録層14のレーザ光が入射する側と反対側に接して設けられている。図2に示すように、基板11上に、厚さ50nmのAg98RuAu反射層12、厚さ18nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第1誘電体層13、厚さ3nmのCo消去防止層15、厚さ15nmのGe33Sb13Te54(原子%)記録層14、厚さ60nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層16、カバー層17が順次積層されている。各層は、第1の実施形態の同様な方法により形成される。
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a diagram for explaining the structure of the second embodiment of the optical information recording medium to which the present embodiment is applied. In the single-plate type film surface incident type optical disk shown here, the erasure prevention layer 15 is provided in contact with the side opposite to the side on which the laser light of the recording layer 14 is incident. As shown in FIG. 2, an Ag 98 Ru 1 Au 1 reflective layer 12 having a thickness of 50 nm, a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) first dielectric layer 13 having a thickness of 18 nm, Co 3 O 4 erasure prevention layer 15 with a thickness of 3 nm, Ge 33 Sb 13 Te 54 (atomic%) recording layer 14 with a thickness of 15 nm, (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) with a thickness of 60 nm A dielectric layer 16 and a cover layer 17 are sequentially laminated. Each layer is formed by the same method as in the first embodiment.

本実施形態における膜面入射型光ディスクの記録層14は、消去防止層15を、記録層14のレーザ光が入射する側と反対側に接して設けることにより、第1の実施形態における場合と同様に、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても記録層14にはオーバーライトが出来ない結果が得られる。即ち、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を30回照射すると、ここに記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きする操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が2.5dB減少してしまう。   The recording layer 14 of the film surface incidence type optical disc in this embodiment is the same as in the first embodiment by providing the erasure prevention layer 15 in contact with the side opposite to the laser beam incident side of the recording layer 14. In addition, even if the amorphous recording mark is crystallized by continuous light irradiation, the recording layer 14 cannot be overwritten. That is, when a track with a recording frequency of 4.1 MHz on an unrecorded track is irradiated with continuous light 30 times at a laser power of 1.5 mW, the single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, the C / N ratio is reduced by 2.5 dB compared to the case of recording on an unrecorded track.

また、第1の実施形態における場合と同様に、記録層14は、波長405nmのレーザ光を用いてダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数4.1MHzで記録した場合、58.0dBのC/N比が得られるが、ここに記録周波数を11.0MHzで上書き操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が3.5dB減少してしまう。   Further, as in the case of the first embodiment, the recording layer 14 cannot be directly overwritten using a laser beam having a wavelength of 405 nm. That is, when recording at a recording frequency of 4.1 MHz, a C / N ratio of 58.0 dB can be obtained, but even if an overwrite operation is performed here at a recording frequency of 11.0 MHz, compared with the case of recording on an unrecorded track. Thus, the C / N ratio is reduced by 3.5 dB.

(第3の実施形態)
図3は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第3の実施形態の構造を説明するための断面図である。ここに示された単板型の膜面入射型光ディスクは、2つの消去防止層が記録層14の両側に接して設けられている。図3に示すように、基板11上に、Ag98RuAu(原子%)からなる厚さ50nmの反射層12と、(ZnS)80(SiO20(モル%)からなる厚さ18nmの第1誘電体層13と、Coからなる厚さ2nmの第1消去防止層15aと、Ge33Sb13Te54(原子%)からなる厚さ15nmの記録層14と、Coからなる厚さ2nmの第2消去防止層15bと、さらに、(ZnS)80(SiO20(モル%)からなる厚さ60nmの第2誘電体層16と、カバー層17とが順次積層されている。
(Third embodiment)
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the structure of a third embodiment of an optical information recording medium to which the present embodiment is applied. In the single-plate type film surface incidence type optical disc shown here, two erasure prevention layers are provided in contact with both sides of the recording layer 14. As shown in FIG. 3, a reflective layer 12 made of Ag 98 Ru 1 Au 1 (atomic%) having a thickness of 50 nm and a thickness made of (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) are formed on the substrate 11. A 18 nm first dielectric layer 13; a 2 nm thick first erasure preventing layer 15a made of Co 3 O 4; a 15 nm thick recording layer 14 made of Ge 33 Sb 13 Te 54 (atomic%); A second erasing prevention layer 15b made of 3 O 4 with a thickness of 2 nm, a second dielectric layer 16 made of (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) with a thickness of 60 nm, and a cover layer 17 Are sequentially stacked.

本実施形態における膜面入射型光ディスクの記録層14は、第1消去防止層15aと第2消去防止層15bとを、記録層14の両側にそれぞれ接して設けることにより、第1の実施形態における場合と同様に、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても記録層14にはオーバーライトが出来ない結果が得られる。即ち、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を30回照射すると、ここに記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きする操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が3.5dB減少してしまう。   The recording layer 14 of the film surface incidence type optical disc in the present embodiment is provided with the first erasure prevention layer 15a and the second erasure prevention layer 15b in contact with both sides of the recording layer 14, respectively. Similarly to the case, even if the amorphous recording mark is crystallized by continuous light irradiation, the recording layer 14 cannot be overwritten. That is, when a track with a recording frequency of 4.1 MHz on an unrecorded track is irradiated with continuous light 30 times at a laser power of 1.5 mW, the single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, the C / N ratio is reduced by 3.5 dB as compared with the case of recording on an unrecorded track.

また、第1の実施形態における場合と同様に、記録層14は、波長405nmのレーザ光を用いてダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数4.1MHzで記録した場合、57.5dBのC/N比が得られるが、ここに記録周波数を11.0MHzで上書き操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が4.0dB減少してしまう。   Further, as in the case of the first embodiment, the recording layer 14 cannot be directly overwritten using a laser beam having a wavelength of 405 nm. That is, when recording at a recording frequency of 4.1 MHz, a C / N ratio of 57.5 dB can be obtained. However, even if an overwrite operation is performed at a recording frequency of 11.0 MHz, it is compared with the case of recording on an unrecorded track. As a result, the C / N ratio decreases by 4.0 dB.

尚、図4は、従来の光情報記録媒体の構造を説明するための図である。ここには、消去防止層を設けない単板型の膜面入射型光ディスクが示されている。図4に示すように、基板11上に、厚さ50nmのAg98RuAu(原子%)反射層12と、厚さ20nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第1誘電体層13と、厚さ15nmのGe33Sb13Te54(原子%)記録層14と、厚さ60nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層16と、カバー層17とが順次積層されている。 FIG. 4 is a diagram for explaining the structure of a conventional optical information recording medium. Here, a single plate type film surface incidence type optical disc without an erasure prevention layer is shown. As shown in FIG. 4, an Ag 98 Ru 1 Au 1 (atomic%) reflective layer 12 having a thickness of 50 nm and (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) first having a thickness of 20 nm are formed on a substrate 11. A dielectric layer 13; a Ge 33 Sb 13 Te 54 (atomic%) recording layer 14 having a thickness of 15 nm; a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) second dielectric layer 16 having a thickness of 60 nm; A cover layer 17 is sequentially laminated.

このような従来の光情報記録媒体である膜面入射型光ディスクは、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を3回照射した後、記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きすると、未記録トラックに記録周波数11.0MHzで記録した場合と同じ55.0dBのC/N比が得られる。この結果は、Co消去防止層を、Ge33Sb13Te54記録層14に接して形成しない場合は、連続光を複数回照射すれば、非晶質記録マークの結晶化が進み、オーバーライトが可能になるために、追記型媒体として利用できないことを示している。 Such a film surface incidence type optical disc, which is a conventional optical information recording medium, irradiates a continuous recording light three times at a laser power of 1.5 mW onto a track on which a signal is recorded with a recording frequency of 4.1 MHz on an unrecorded track. When a single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz, the same C / N ratio of 55.0 dB as when recording on an unrecorded track at a recording frequency of 11.0 MHz is obtained. As a result, when the Co 3 O 4 erasure preventing layer is not formed in contact with the Ge 33 Sb 13 Te 54 recording layer 14, the crystallization of the amorphous recording mark proceeds if the continuous light is irradiated a plurality of times. This indicates that it cannot be used as a write-once medium because overwriting is possible.

もっとも、このような従来の光情報記録媒体である膜面入射型光ディスクも、波長405nmのレーザ光を用いる場合は、ダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数4.1MHzで記録した場合、59.0dBのC/N比が得られ、ここに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、記録周波数を11.0MHzとして上書き操作を行っても、未記録トラックに記録周波数を11.0MHzとして記録する場合に比べて、C/N比が1.0dB減少してしまう。   Of course, such a conventional optical information recording medium such as a film surface incident type optical disc cannot be directly overwritten when a laser beam having a wavelength of 405 nm is used. That is, when recording at a recording frequency of 4.1 MHz, a C / N ratio of 59.0 dB is obtained, and an overwrite operation is performed on a track on which a signal is recorded with a recording frequency of 4.1 MHz and a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, the C / N ratio is reduced by 1.0 dB compared to the case where recording is performed on an unrecorded track at a recording frequency of 11.0 MHz.

(第4の実施形態)
図5は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第4の実施形態の構造を説明するための断面図である。ここに示された貼合せ型の基板入射型光ディスクは、消去防止層15が記録層14のレーザ光が入射する側に接して設けられている。図5に示すように、基板18と、この基板18上に、厚さ40nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層16と、厚さ2nmのCo消去防止層15と、厚さ20nmのGe33Sb13Te54(原子%)記録層14と、厚さ20nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第1誘電体層13と、厚さ100nmのAl99Ti(wt%)反射層19とが順次積層され、その上に紫外線硬化型樹脂接着剤層20を介して0.6mmのポリカーボネート樹脂板18’が貼り合わされている。尚、レーザ光は、基板18側から記録層14に照射される。
(Fourth embodiment)
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the structure of the fourth embodiment of the optical information recording medium to which the present embodiment is applied. In the bonded type substrate incident type optical disk shown here, the erasure prevention layer 15 is provided in contact with the side of the recording layer 14 on which the laser beam is incident. As shown in FIG. 5, a substrate 18, (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) second dielectric layer 16 having a thickness of 40 nm, and Co 3 O 4 having a thickness of 2 nm are formed on the substrate 18. An erase prevention layer 15; a Ge 33 Sb 13 Te 54 (atomic%) recording layer 14 having a thickness of 20 nm; a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) first dielectric layer 13 having a thickness of 20 nm; An Al 99 Ti 1 (wt%) reflective layer 19 having a thickness of 100 nm is sequentially laminated, and a 0.6 mm polycarbonate resin plate 18 ′ is bonded thereon via an ultraviolet curable resin adhesive layer 20. Incidentally, the laser beam is applied to the recording layer 14 from the substrate 18 side.

基板18は、射出成形によって、直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂板の表面に、幅0.34μm、深さ30nmの溝が、0.68μmピッチで形成されている。この基板18にはディスク認識情報やアドレス情報などを、溝のウォブルによってあらかじめ記録してある。これらの情報は、プリピットによっても形成可能である。この基板18上に、第2誘電体層16、消去防止層15、記録層14、第1誘電体層13、反射層19を順次成膜した。そして、最上層の上に、紫外線硬化型樹脂接着剤層20をスピンコートにより形成し、薄膜を成膜していない直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂板18’と貼り合わせた。尚、このように作製した基板入射型光ディスクの記録層14の初期化の条件と方法は、第1の実施形態において説明したものと同様である。   The substrate 18 is formed by injection molding with grooves having a width of 0.34 μm and a depth of 30 nm formed on the surface of a polycarbonate resin plate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm at a pitch of 0.68 μm. Disc recognition information, address information, and the like are recorded in advance on the substrate 18 by groove wobbles. Such information can also be formed by pre-pits. On the substrate 18, the second dielectric layer 16, the erasure preventing layer 15, the recording layer 14, the first dielectric layer 13, and the reflective layer 19 were sequentially formed. Then, an ultraviolet curable resin adhesive layer 20 was formed on the uppermost layer by spin coating, and was bonded to a polycarbonate resin plate 18 ′ having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm on which no thin film was formed. Note that the conditions and method for initializing the recording layer 14 of the substrate-incident optical disk manufactured in this way are the same as those described in the first embodiment.

本実施形態における貼合せ型の基板入射型光ディスクの記録層14は、消去防止層15を、記録層14のレーザ光が入射する側に接して設けることにより、第1の実施形態における場合と同様に、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても記録層14にはオーバーライトが出来ない結果が得られる。即ち、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を30回照射すると、ここに記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きする操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が3.0dB減少してしまう。   The recording layer 14 of the bonded substrate incident type optical disc in the present embodiment is the same as in the first embodiment by providing the erasure preventing layer 15 in contact with the laser light incident side of the recording layer 14. In addition, even if the amorphous recording mark is crystallized by continuous light irradiation, the recording layer 14 cannot be overwritten. That is, when a track with a recording frequency of 4.1 MHz on an unrecorded track is irradiated with continuous light 30 times at a laser power of 1.5 mW, the single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, the C / N ratio is reduced by 3.0 dB compared to the case of recording on an unrecorded track.

また、この貼合せ型の基板入射型光ディスクの記録層14は、波長405nmのレーザ光を用いてダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数4.1MHzで記録した場合、54.5dBのC/N比が得られるが、ここに記録周波数を11.0MHzで上書き操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が5.0dB減少してしまう。   Further, the recording layer 14 of the bonded substrate incident type optical disc cannot be directly overwritten using a laser beam having a wavelength of 405 nm. That is, when recording at a recording frequency of 4.1 MHz, a C / N ratio of 54.5 dB can be obtained. However, even if an overwrite operation is performed at a recording frequency of 11.0 MHz, it is compared with the case of recording on an unrecorded track. As a result, the C / N ratio decreases by 5.0 dB.

(第5の実施形態)
本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第5の実施形態は、貼合せ型の基板入射型光ディスクであって、消去防止層が記録層のレーザ光が入射する側と反対側に接して設けられている構造を有する。前述した第4の実施形態と略同様な構造を有するので、図面を省略する。本実施形態における貼合せ型の基板入射型光ディスクは、基板上に、厚さ40nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層、厚さ20nmのGe33Sb13Te54記録層、厚さ2nmのCo消去防止層、厚さ20nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第1誘電体層、厚さ100nmのAl99Ti(wt%)反射層を順次成膜し、薄膜を成膜していない直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂板を、紫外線硬化型樹脂接着剤層を介して貼り合わせて作製される。尚、レーザ光は、基板側から記録層に照射される。
(Fifth embodiment)
The fifth embodiment of the optical information recording medium to which the present embodiment is applied is a bonded substrate incident type optical disc, in which the erasure prevention layer is in contact with the side opposite to the side on which the laser light is incident. The structure is provided. Since it has substantially the same structure as the fourth embodiment described above, the drawing is omitted. The bonded type substrate incident type optical disc in this embodiment has a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) second dielectric layer having a thickness of 40 nm and a Ge 33 Sb 13 Te having a thickness of 20 nm on the substrate. 54 recording layer, 2 nm thick Co 3 O 4 erasure preventing layer, 20 nm thick (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) first dielectric layer, 100 nm thick Al 99 Ti 1 (wt%) ) A reflective layer is sequentially formed, and a polycarbonate resin plate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, on which a thin film is not formed, is bonded through an ultraviolet curable resin adhesive layer. Note that the laser beam is applied to the recording layer from the substrate side.

本実施形態における貼合せ型の基板入射型光ディスクの記録層は、消去防止層を、記録層のレーザ光が入射する側と反対側に接して設けることにより、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても非晶質部分が結晶質に戻らず、記録層にはオーバーライトが出来ない結果が得られる。即ち、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を30回照射すると、ここに記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きする操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が2.0dB減少してしまう。   The recording layer of the bonded substrate incident type optical disc in the present embodiment is provided with an erasure prevention layer in contact with the side opposite to the laser beam incident side of the recording layer, so that the amorphous recording mark is irradiated by continuous light irradiation. Even if the crystallization operation is performed, the amorphous portion does not return to the crystalline state, and the recording layer cannot be overwritten. That is, when a track with a recording frequency of 4.1 MHz on an unrecorded track is irradiated with continuous light 30 times at a laser power of 1.5 mW, the single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, the C / N ratio is reduced by 2.0 dB compared to the case of recording on an unrecorded track.

また、記録層は、波長405nmのレーザ光を用いてダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数4.1MHzで記録した場合、54.0dBのC/N比が得られるが、ここに記録周波数を11.0MHzで上書き操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が2.5dB減少してしまう。   Further, the recording layer cannot be directly overwritten using a laser beam having a wavelength of 405 nm. That is, when recording at a recording frequency of 4.1 MHz, a C / N ratio of 54.0 dB can be obtained. However, even if an overwrite operation is performed at a recording frequency of 11.0 MHz, it is compared with the case of recording on an unrecorded track. As a result, the C / N ratio is reduced by 2.5 dB.

(第6の実施形態)
本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第6の実施形態は、貼合せ型の基板入射型光ディスクであって、2個の消去防止層が1個の記録層の両側にそれぞれ接して設けられている構造を有するものである。前述した第3の実施形態と略同様な構造を有するので、図面を省略する。本実施形態における貼合せ型の基板入射型光ディスクは、基板上に、厚さ40nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層、厚さ2nmのCo第1消去防止層、厚さ20nmのGe33Sb13Te54記録層、厚さ2nmのCo第2消去防止層、厚さ20nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第1誘電体層、厚さ100nmのAl99Ti(wt%)反射層を順次成膜し、薄膜を成膜していない直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂板と貼り合わせて作製される。
(Sixth embodiment)
The sixth embodiment of the optical information recording medium to which the present embodiment is applied is a bonded substrate incident type optical disc, in which two erasure prevention layers are in contact with both sides of one recording layer, respectively. It has the structure provided. Since it has substantially the same structure as the third embodiment described above, the drawing is omitted. The bonded type substrate incident type optical disk in the present embodiment has a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) second dielectric layer having a thickness of 40 nm and a Co 3 O 4 thickness of 2 nm on the substrate. 1 erasure prevention layer, Ge 33 Sb 13 Te 54 recording layer with a thickness of 20 nm, Co 3 O 4 second erasure prevention layer with a thickness of 2 nm, (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) with a thickness of 20 nm One dielectric layer and a 100 nm thick Al 99 Ti 1 (wt%) reflective layer are sequentially formed and bonded to a polycarbonate resin plate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, on which a thin film is not formed. The

本実施形態における貼合せ型の基板入射型光ディスクの記録層は、消去防止層を、記録層の両側に接して設けることにより、連続光照射により非晶質記録マークの結晶化操作を施しても、記録層にはオーバーライトが出来ない結果が得られる。即ち、未記録トラックに記録周波数を4.1MHzとして信号を記録したトラックに、レーザーパワー1.5mWで連続光を30回照射すると、ここに記録周波数を11.0MHzとして単一パターンを上書きする操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が3.0dB減少してしまう。   The recording layer of the bonded substrate incident type optical disc in the present embodiment is provided with an erasure preventing layer in contact with both sides of the recording layer, so that the amorphous recording mark can be crystallized by continuous light irradiation. As a result, the recording layer cannot be overwritten. That is, when a track with a recording frequency of 4.1 MHz on an unrecorded track is irradiated with continuous light 30 times at a laser power of 1.5 mW, the single pattern is overwritten with a recording frequency of 11.0 MHz. Even if the recording is performed, the C / N ratio is reduced by 3.0 dB compared to the case of recording on an unrecorded track.

また、記録層は、波長405nmのレーザ光を用いてダイレクトオーバライトが出来ない。即ち、記録周波数4.1MHzで記録した場合、53.0dBのC/N比が得られるが、ここに記録周波数を11.0MHzで上書き操作を行っても、未記録トラックに記録する場合に比べて、C/N比が3.5dB減少してしまう。   Further, the recording layer cannot be directly overwritten using a laser beam having a wavelength of 405 nm. That is, when recording at a recording frequency of 4.1 MHz, a C / N ratio of 53.0 dB can be obtained. However, even if an overwriting operation is performed at a recording frequency of 11.0 MHz, it is compared with the case of recording on an unrecorded track. Thus, the C / N ratio is reduced by 3.5 dB.

尚、従来の消去防止層を設けない貼合せ型の基板入射型光ディスクは、例えば、基板上に、厚さ40nmの(ZnS)80(SiO20(モル%)第2誘電体層と、厚さ20nmのGe33Sb13Te54記録層と、(ZnS)80(SiO20(モル%)からなる厚さ20nmの第1誘電体層と、厚さ100nmのAl99Ti(wt%)反射層とを順次成膜し、これと薄膜を成膜していない直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート樹脂板と貼り合わせて作製される。 The conventional substrate-incidence type optical disk without the erasure prevention layer is, for example, a (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) second dielectric layer having a thickness of 40 nm on the substrate, A Ge 33 Sb 13 Te 54 recording layer having a thickness of 20 nm, a first dielectric layer having a thickness of 20 nm made of (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%), and Al 99 Ti 1 (wt) having a thickness of 100 nm. %) A reflective layer is sequentially formed, and this is bonded to a polycarbonate resin plate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, on which a thin film is not formed.

このような従来の光情報記録媒体である貼合せ型の基板入射型光ディスクの記録層も、波長405nmのレーザ光を用いる場合は、ダイレクトオーバライトが出来ないが、これに連続光を複数回照射すれば、非晶質記録マークの結晶化が進み、オーバーライトが可能になるため、追記型媒体として利用できない。   Such a conventional optical information recording medium, which is a bonded type substrate-incident optical disc, cannot be directly overwritten when laser light having a wavelength of 405 nm is used, but it is irradiated with continuous light multiple times. Then, the crystallization of the amorphous recording mark proceeds and overwriting becomes possible, so that it cannot be used as a write-once medium.

本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第1の実施形態の構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of 1st Embodiment of the optical information recording medium with which this Embodiment is applied. 本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第2の実施形態の構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of 2nd Embodiment of the optical information recording medium with which this Embodiment is applied. 本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第3の実施形態の構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of 3rd Embodiment of the optical information recording medium with which this Embodiment is applied. 従来の光情報記録媒体の構造を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the structure of the conventional optical information recording medium. 本実施の形態が適用される光情報記録媒体の第4の実施形態の構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of 4th Embodiment of the optical information recording medium with which this Embodiment is applied.

符号の説明Explanation of symbols

11,18…基板、12…反射層、13…第1誘電体層、14…記録層、15…消去防止層、15a…第1消去防止層、15b…第2消去防止層、16…第2誘電体層、17…カバー層、18’…ポリカーボネート樹脂板、19…反射層、20…紫外線硬化型樹脂接着剤層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 18 ... Board | substrate, 12 ... Reflective layer, 13 ... 1st dielectric material layer, 14 ... Recording layer, 15 ... Erase prevention layer, 15a ... 1st erase prevention layer, 15b ... 2nd erase prevention layer, 16 ... 2nd Dielectric layer, 17 ... cover layer, 18 '... polycarbonate resin plate, 19 ... reflection layer, 20 ... UV curable resin adhesive layer

Claims (8)

基板と、
前記基板上に設けられ、光照射を受けて結晶相から非晶質相に相変化することにより情報が記録される記録層と、
前記記録層に接して設けられ、当該記録層を相変化させて形成された非晶質相から結晶相に相変化することを抑制し、且つ、コバルト元素を含有する金属酸化物を主成分として含む消去防止層と、
を備えることを特徴とする光情報記録媒体。
A substrate,
A recording layer provided on the substrate, on which information is recorded by a phase change from a crystalline phase to an amorphous phase upon receiving light irradiation;
It is provided in contact with the recording layer, suppresses a phase change from an amorphous phase formed by changing the phase of the recording layer to a crystalline phase , and contains a metal oxide containing a cobalt element as a main component. Including an anti-erasure layer,
An optical information recording medium comprising:
前記コバルト元素を含有する金属酸化物は、600℃以上の温度で物理的又は化学的に変化する元素又は化合物を含有することを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。 2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the metal oxide containing the cobalt element contains an element or a compound that changes physically or chemically at a temperature of 600 ° C. or higher. 前記消去防止層は、少なくとも四三酸化コバルト(Co )を含有することを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。 The optical information recording medium according to claim 1, wherein the erasure preventing layer contains at least cobalt tetroxide (Co 3 O 4 ) . 前記消去防止層は、厚さが1nm以上5nm以下であることを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。   The optical information recording medium according to claim 1, wherein the erasure prevention layer has a thickness of 1 nm to 5 nm. 前記記録層は、前記基板側若しくは当該基板とは反対側からレーザ光を照射して情報の記録再生を行うことを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。   2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer records and reproduces information by irradiating a laser beam from the substrate side or a side opposite to the substrate. 結晶質の相変化型記録材料から形成され、波長500nm以下の光を照射することにより情報を記録する記録層と、
前記記録層に接して設けられ、前記光の照射によって、前記記録層への情報のオーバーライトを防止し、四三酸化コバルト(Co )を主成分として含有する消去防止層と、
を備えることを特徴とする光情報記録媒体。
A recording layer formed of a crystalline phase change recording material and recording information by irradiating light with a wavelength of 500 nm or less;
An erasure preventing layer provided in contact with the recording layer, preventing overwriting of information to the recording layer by irradiation of the light, and containing cobalt trioxide (Co 3 O 4 ) as a main component ;
An optical information recording medium comprising:
前記記録層は、前記相変化型記録材料を相変化させて形成した非晶質相に連続光を照射した際に、当該非晶質相が結晶相に相変化しないことを特徴とする請求項6記載の光情報記録媒体。   2. The recording layer according to claim 1, wherein when the amorphous phase formed by changing the phase of the phase change recording material is irradiated with continuous light, the amorphous phase does not change into a crystalline phase. 6. The optical information recording medium according to 6. 基板上に形成された結晶質の相変化型記録材料からなる記録層と、
前記記録層に形成された非晶質記録マークが消去されることを防止するために当該記録層に接して設けられ、四三酸化コバルト(Co )を主成分として含む消去防止層とを備えた光情報記録媒体に、
前記基板側若しくは当該基板とは反対側から、波長500nm以下のレーザ光を前記記録層に照射して、情報の記録又は再生を行うことを特徴とする光情報記録媒体の情報記録再生方法。
A recording layer made of a crystalline phase change recording material formed on a substrate;
An erasure preventing layer provided in contact with the recording layer to prevent the amorphous recording mark formed on the recording layer from being erased, and containing cobalt trioxide (Co 3 O 4 ) as a main component ; In an optical information recording medium equipped with
An information recording / reproducing method for an optical information recording medium, wherein information is recorded or reproduced by irradiating the recording layer with a laser beam having a wavelength of 500 nm or less from the substrate side or the side opposite to the substrate.
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