JP3816823B2 - レーザ薄膜除去装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマ表示装置(PDP)用ガラス基板、磁気/光ディスク用のガラス基板又はセラミック基板など各種被処理基板(以下単に「基板」という)に対して、レーザ光を照射することにより、基板の表面に形成されている薄膜を除去するレーザ薄膜除去装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウェハ上に、素子パターンや配線パターンを順次形成していく工程において、形成済のパターンの上に新たにパターンを重ね合わせるアライメント技術が重要である。
最近、アライメントの精度を上げるために露光光を使って位置合わせを行う露光光アライメントが採用されることがある。
【0003】
この露光光アライメントでは、直前に形成した層の中に作っておいたマークを目印として、次のパターンをあわせていく。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図5は、露光光アライメントの問題点を説明するための断面図である。
下のパターン領域21aの上に、次のパターンを形成するための上層レジスト膜23を積層している。上層レジスト膜23を露光光Lで露光するときに、下のパターン領域21aから不要な反射が起こらないように、下のパターン領域21aと上層レジスト膜23との間に、反射防止膜22を設けている。
【0005】
この反射防止膜22があるために、上層レジスト膜23を露光するときに、下の位置合わせマークMが見えないという問題が起こる。
そこで、下の位置合わせマークMの上部にある反射防止膜22を局所的に除去してやる必要がある。
反射防止膜の除去領域の位置決め精度は、素子を形成する場合と比べて粗くてもよいので、できるだけ速く、簡単に除去する方法が望まれている。そこで、レーザによる薄膜除去装置として、レーザアブレーション加工が注目される。レーザアブレーション(Laser Ablation)とは、「レーザ光を固体に照射した場合、レーザ光の照射強度がある大きさ(しきい値)以上になると、固体表面で電子、熱的、光化学的及び力学(機械)的エネルギーに変換され、その結果、中性原子、分子、正負のイオン、ラジカル、クラスタ、電子、光(光子)が爆発的に放出され、固体の表面がエッチングされるプロセス」と定義することができる(社団法人電気学会「レーザアブレーションとその応用」コロナ社、1999年11月25日発行)。
【0006】
レーザアブレーション加工を採用すると、反射防止膜を破壊するときに発生する反射防止膜の剥がれ片が周囲に再付着するおそれがある。このため、基板の上面に水を流して、水中でレーザアブレーションを行うことが考えられる。これならば反射防止膜の剥がれ片などは水で流されてしまい、レーザアブレーションによる汚染の問題は起こらない。
水中でレーザアブレーションを行う場合、水膜の厚さを一定にしておく必要があるので、基板を設置するステージの上に、石英ガラスなどの透明窓をステージと平行に配置し、その間に水を流す。そしてレーザ光照射部から、透明窓を通して、基板表面にレーザ光線を照射する。
【0007】
この透明窓をステージの上に配置するという構造を採用した場合、基板の交換時、透明窓及びレーザ光照射部を待機させる必要がある。この待機時に、透明窓はどうしても乾燥大気に触れてしまうことになる。このため待機期間中に透明窓に付着していた水が乾き、ウォータマークとして残り、次のレーザアブレーション時に、レーザ照射光の照射むらを起こしてしまう。このため、反射防止膜をきれいに除去できない可能性がある。
【0008】
そこで、本発明は、液中で、レーザアブレーションなどの薄膜除去処理を行う場合に、透明窓の乾燥を防止して、常時、所望の部位を所望の深さだけ切除することのできるレーザ薄膜除去装置を実現することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
本発明のレーザ薄膜除去装置は、レーザ光照射部に設けられ、レーザ光照射部から被処理基板に向かって照射されるレーザ光を透過させる透明窓と、前記レーザ光照射部が基板保持台に対面する処理ポジション、及びレーザ光照射部が基板保持台から退避した待機ポジション、の少なくとも2つの位置関係をとるように、レーザ光照射部及び基板保持台のうち少なくともいずれか1つを移動させる移動手段と、前記レーザ光照射部及び基板保持台が前記処理ポジションをとる処理期間において、前記透明窓と被処理基板との間に液体を介在させる液体介在手段と、前記レーザ光照射部及び基板保持台が前記待機ポジションをとる待機期間において、前記透明窓の表面に液体を触れさせる液体接触手段とが設けられているものである。
【0010】
前記の構成によれば、処理期間においてレーザ薄膜除去をする時、透明窓と被処理基板との間の空間に液体を介在させた状態で加工を行うので、被処理基板の剥がれ片が周囲に再付着するおそれはない。そして、被処理基板の交換中など待機期間の間は、前記液体接触手段が、透明窓の表面に液体を触れさせる。したがって、透明窓の表面は常に濡れた状態となり、透明窓に付着していた液体が乾き、スポットやマークとして残る可能性がない。したがって、レーザ照射むらを起こすことがなく、常に、精度のよいレーザ薄膜除去を実現することができる。
【0011】
前記発明を実現するための具体的構成として、基板保持台の他に、透明窓の表面に液体を触れさせるための待機用ステージをさらに設ける構成が考えられる。
前記待機期間中、前記レーザ光照射部を待機用ステージに対面させ、この待機用ステージと前記透明窓との間の空間に液体を介在させると、待機用ステージと前記透明窓との間の空間に液体を供給すればよいので、液体量も少なくて済み、供給した液体を回収するのも容易となる。
【0012】
また、前記待機用ステージに監視用透明窓を形成し、待機期間中、前記レーザ光照射部から照射され、この監視用透明窓を透過したレーザ光を監視することとしてもよい。これによれば、待機中の時間を利用して、レーザ光強度等のチェックが行える。
なお、待機期間中、レーザ光照射部の透明窓に液体を噴射する構成も考えられる。待機用ステージを特に設けない簡単な構成でも、透明窓に液体を直接噴射することにより、待機期間中の透明窓の乾燥を防止できる。
【0013】
また、前記液体介在手段と前記液体接触手段とが同じノズルを共有し、このノズルを、前記処理期間中は液体介在手段として機能させ、前記待機期間中は液体接触手段として機能させる構成をとることができる。被処理基板を設置した基板保持台に液体を供給するのとほぼ同じ条件で、待機用ステージに液体を供給することができるので、ノズルを含む液体供給系が共通化される。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、レーザ薄膜除去装置として、レーザアブレーション装置を例にとって本発明の実施の形態を、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
図1及び図2は、レーザアブレーション装置の構造を示す側面図である。
レーザアブレーション装置は、ベース板1の上に加工用ステージ(基板保持台となる)2と、待機用ステージ3の2つのステージを持っている。ベース板1には、図示しないピニオン−ラック機構が具備されていて、これら2つのステージ2,3は、ベース板1とともに平面上X,Y方向に移動可能となっている。ベース板1の上部には、加工用ステージ2上に設置された基板Sをレーザアブレーション加工するためのレーザ光照射部4が固定配置されている。
【0015】
レーザ光照射部4は、レーザ発振装置(YAGレーザ装置、エキシマレーザ装置など。図示せず)から照射されたレーザ光を、反射防止膜を局所的に除去したい部位の形に絞るアパーチャ5と、アパーチャ5を通った光線を一定の縮小倍率で集光する縮小レンズ6と、縮小レンズ6とステージとの間に配置される透明窓7とを備えている。これらのアパーチャ5、縮小レンズ6、透明窓7などの光学部材は、枠体8により支持されている(図では枠体8の一部のみ示している)。特に透明窓7は、枠体8に対して水密状態に保持されている。
【0016】
なお、透明窓7の材質として、石英ガラス、水晶などをあげることができる。以下、石英ガラスを用いることを前提として、「石英ガラス窓」という。
石英ガラス窓7とステージ上に設置された基板Sの間に液体を流すための液体接触手段としてのノズル9が、ステージの横に配置されている。流す液体の種類は、限定されないが、例えば純水、イオン水、オゾン水、炭酸水などである。以下純水を流すことを想定する。
【0017】
図1では、レーザアブレーション中に発生した基板Sの破片10が、水とともに流れていく様子を描いている。
レーザアブレーション加工が終了すると、ベース板1が−X方向に移動して、図2に示すように、レーザ光照射部4の下に、待機用ステージ3が位置するようになる。この間、加工済の基板Sをチャック(図示せず)にて加工用ステージ2から取り外し、新しい基板Sを設置する。
【0018】
待機用ステージ3には、ダミー基板11が設置されていて、そのダミー基板11の表面は、加工用ステージ2に設置された基板Sの表面と同一面となるように、高さの調整がされている。これは、待機用ステージ3の水流条件を、加工用ステージ2の水流条件と同一にするためである。ダミー基板11の材質は、基板Sと同じである必要はなく、金属、セラミックスなど耐熱性の任意の材質を選ぶことができる。
【0019】
待機中、ノズル9から、石英ガラス窓7と待機用ステージ3上に設置されたダミー基板11との間に水が流される。これにより、石英ガラス窓7の下面を洗浄するとともに、石英ガラス窓7の下面に付着していた水が乾くのを防ぐことができるので、次のレーザアブレーション時に照射むらなどの光学的悪影響を及ぼすことがなくなる。
図3は、レーザアブレーション装置の他の構造を示す側面図である。
【0020】
この構造と図1、図2の構造との違いは、待機用ステージ3上に、ダミー基板11に代えて、監視用石英ガラス窓12を設置していることである。この監視用石英ガラス窓12の下にレーザ光の強度を測定するパワーメータ13を取り付けている。監視用石英ガラス窓12は、待機用ステージ3上に、パッキンなどで水密状態に設置されているので、パワーメータ13は濡れることがない。
このパワーメータ13によって、待機時に、レーザ発振装置から照射されたレーザ光の強度を監視することができる。したがって、レーザ発振装置の出力変動などの異常があれば、その異常を早期に検出することができる。
【0021】
図4は、レーザアブレーション装置のさらに他の構造を示す側面図である。
この構造では、待機用ステージ3を特に設けていないが、前記ノズル9に加えて、待機時に石英ガラス窓7を洗浄し、乾燥を防止するための待機時洗浄ノズル9aを設けている。待機時洗浄ノズル9aの向きは、石英ガラス窓7に水を直射する向きになっている。
なお、前記ノズル9と待機時洗浄ノズル9aとを1つのノズルで兼ねることもできる。これにより構成を簡素化することができる。このときは、ノズルの向きを、上向き(洗浄用)と下向き(加工用)に切り替え可能となっていることが好ましい。
【0022】
以上の図4の構造によれば、待機用ステージ3を設けなくても、待機時洗浄ノズル9aから水を直射することにより、石英ガラス窓7の洗浄と乾燥の防止が実現できる。なお、この構成では、水が周囲に飛び散りやすくなるので、飛散する水を集めるため周壁を設置するなどの措置をとることが好ましい。
以上で、本発明の実施の形態を説明したが、本発明の実施は、前記の形態に限定されるものではない。例えば、いままでの実施形態では、待機中、石英ガラス窓7と待機用ステージ3との間に水を流していたが、石英ガラス窓7と待機用ステージ3との間に静止した水を介在させてもよい。すなわち、待機用ステージ3を深い皿で囲んで、石英ガラス窓7の表面に届くまで水で満たす構成を採用してもよい。また、待機中、水に超音波を印加してもよく、これによりすぐれた洗浄効果が期待できる。その他、本発明の範囲内で種々の変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザ薄膜除去装置の一例としてのレーザアブレーション装置の構造を示す側面図である。
【図2】レーザ光照射部4の下に、待機用ステージ3が位置するように移動したレーザアブレーション装置の構造を示す側面図である。
【図3】レーザアブレーション装置の他の構造を示す側面図である。
【図4】レーザアブレーション装置のさらに他の構造を示す側面図である。
【図5】露光光アライメントを説明するための断面図である。
【符号の説明】
1 ベース板
2 加工用ステージ
3 待機用ステージ
4 レーザ光照射部
5 アパーチャ
6 縮小レンズ
7 透明窓
8 枠体
9,9a ノズル
10 基板の破片
11 ダミー基板
12 監視用石英ガラス窓
13 パワーメータ
L 露光光
M 位置合わせマーク
S 基板
Claims (6)
- 基板保持台に保持された被処理基板に対して、レーザ光照射部からレーザ光を照射することにより、被処理基板の表面に形成されている薄膜を除去するレーザ薄膜除去装置であって、
前記レーザ光照射部に設けられ、レーザ光照射部から被処理基板に向かって照射されるレーザ光を透過させる透明窓と、
前記レーザ光照射部が基板保持台に対面する処理ポジション、及びレーザ光照射部が基板保持台から退避した待機ポジション、の少なくとも2つの位置関係をとるように、レーザ光照射部及び基板保持台のうち少なくともいずれか1つを移動させる移動手段と、
前記レーザ光照射部及び基板保持台が前記処理ポジションをとる処理期間において、前記透明窓と被処理基板との間に液体を介在させる液体介在手段と、
前記レーザ光照射部及び基板保持台が前記待機ポジションをとる待機期間において、前記透明窓の表面に液体を触れさせる液体接触手段と、
が設けられていることを特徴とするレーザ薄膜除去装置。 - 前記基板保持台とは別の位置に設けられ、前記待機期間において前記レーザ光照射部に対面する待機用ステージをさらに備えることを特徴とする請求項1記載のレーザ薄膜除去装置。
- 前記液体接触手段は、前記待機期間中、前記待機用ステージと前記透明窓との間に液体を介在させるものであることを特徴とする請求項2記載のレーザ薄膜除去装置。
- 前記待機用ステージに監視用透明窓を形成し、前記待機期間中、前記レーザ光照射部から照射され、この監視用透明窓を透過したレーザ光を監視するレーザ光監視手段を設けたことを特徴とする請求項2又は請求項3記載のレーザ薄膜除去装置。
- 前記液体接触手段は、前記待機期間中、レーザ光照射部の透明窓に向けて液体を噴射するものであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のレーザ薄膜除去装置。
- 前記液体介在手段と前記液体接触手段とは同じノズルを共有しており、このノズルは、前記処理期間中は液体介在手段として機能し、前記待機期間中は液体接触手段として機能することを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかに記載のレーザ薄膜除去装置。
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