JP3816755B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路に係り、特に2つの電圧を比較して比較結果を論理レベル"H" または"L" の信号として出力するCMOS型の電圧比較回路に関するもので、例えば不揮発性半導体メモリの基板バイアス選択用の電源電圧比較回路などに使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】
図18は、従来の複数の電源を持つCMOS LSIに内蔵されたCMOS型の電源電圧比較回路の一例を示す。
【0003】
この電源電圧比較回路は、第1の電源電圧VDD1が入力するVDD1ノードと接地電位ノード(GND ノード)との間で直列接続され、VDD1を分圧して第1の分圧電圧VIN1を出力する抵抗素子R11 ,R12 と、第2の電源電圧VDD2が入力する第2の電源ノード(VDD2ノード)とGND ノードとの間で直列接続され、VDD2を分圧して第2の分圧電圧VIN2を出力する抵抗素子R21 ,R22 と、前記VDD1ノードとGND ノードとの間に接続された定電流回路と、前記VDD1を動作電源とし、CMOSFET (相補性絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)を用いて前記VIN1とVIN2を比較して比較結果を比較出力ノードCMP1A に出力するCMOS電圧比較回路CMP とから構成される。
【0004】
前記定電流回路は、前記VDD1ノードとGND ノードとの間に、定電流源IR0Aとドレイン・ゲート相互が接続されたN 型トランジスタN01Aとが直列接続されて構成される。
【0005】
前記CMOS電圧比較回路CMP は、比較回路部と出力回路とから構成されている。上記比較回路部は、VIN1とVIN2を入力とするソース結合ペアをなす入力用のN 型トランジスタN1A ,N2A と、その各ドレインとVDD1ノードとの間に接続されたカレントミラー負荷用のP 型トランジスタP1A ,P2A と、前記入力用のN 型トランジスタN1A ,N2A のソース結合ノードとGND ノードとの間に接続され、前記定電流回路のN 型トランジスタN01Aとゲート同士が接続(カレントミラー接続)された定電流源用のN 型トランジスタN02Aとから構成されている。
【0006】
前記出力回路は、前記VDD1ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP3A とN 型トランジスタN03Aとが直列接続されて構成される。この場合、上記P 型トランジスタP3A のゲートには前記比較回路部の出力が入力し、前記N 型トランジスタN03Aは前記定電流回路のN 型トランジスタN01Aとゲート同士が接続(カレントミラー接続)されており、上記P 型トランジスタP3A とN 型トランジスタN03Aとの直列接続ノードが前記比較出力ノードCMP1A に接続されている。
【0007】
次に、図18のソース結合ペアをなすCMOSFET を用いた従来例の電源電圧比較回路の動作について、図19を参照しながら簡単に説明する。
【0008】
この電源電圧比較回路は、VDD1を分圧したVIN1とVDD2を分圧したVIN2を、第1の電源電圧VDD1を動作電源とするCMOS電圧比較回路CMP により比較し、比較結果を論理レベル"H" または"L" の信号として出力するものである。
【0009】
即ち、R11/R12 = R21/R22に設定しておくと、VDD1>VDD2の時には、VIN1>VIN2であり、比較出力ノードCMP1A に"L" が出力し、VDD1<VDD2の時には、VIN1<VIN2であり、比較出力ノードCMP1A に"H" が出力する。
【0010】
上記従来例の電源電圧比較回路は、次の3つの問題点が挙げられる。
【0011】
第1の問題点は、低電圧で動作しないことである。つまり、CMOS電圧比較回路CMP はソース結合ペア回路を構成するトランジスタが飽和領域特性の状態で動作しないとオフセットが大きくなるからである。
【0012】
ここで、最低動作電圧をVDDmin、カレントミラー負荷用のP 型トランジスタP1A の閾値電圧をVthP、入力用のN 型トランジスタN1A のドレイン・ソース間電圧VDS をVDSN1A、定電流源用のN 型トランジスタN02AのVDS をVDSN02A で表わすと、VDDmin = VthP + VDSN1A + VDSN02Aであり、VDDmin以下の低電圧では、ソース結合ペア回路を構成するトランジスタのオフセットが大きくなり、CMOS電圧比較回路CMP として機能しない。例えば、VthP=1.0V,VDSN1 =0.3V,VDSN2 =0.3VとするとVDDmin =1.6Vである。
【0013】
第2の問題点は、パターン面積が大きいことである。その理由の1 つは、回路構成要素が多いことである。もう1 つの理由は、回路を構成する抵抗素子のレイアウトサイズを大きくする必要があるからである。なぜなら、消費電流を低減するために抵抗値を大きく設計する(即ち、抵抗素子のL/W を大きくとる)必要が有り、加えて相対誤差を少なくするためにはW を大きく設計する必要があるからである。
【0014】
第3の問題点は、電圧比較の検出精度が悪いことである。これは抵抗素子の相対誤差やアンプのオフセットによる相対誤差によるものである。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように従来の電源電圧比較回路は、低電圧で動作しない、パターン面積が大きい、検出精度が悪いという問題があった。
【0016】
本発明は上記の問題点を解決すべくなされたもので、低電圧動作が可能になり、パターン面積が小さくて済み、検出精度が向上する電圧比較回路を内蔵した半導体集積回路を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の半導体集積回路は、第1の電圧ノードにソースが接続され、ドレイン・ゲート相互が接続された第1導電型の第1のMOSFETと、前記第1のMOSFETとドレイン同士が接続され、第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第2のMOSFETと、第3の電圧ノードにソースが接続された第1導電型の第3のMOSFETと、前記第3のMOSFETとドレイン同士が接続され、前記第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに前記第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第4のMOSFETとを具備し、前記第1の電圧ノードの電圧と前記第3の電圧ノードの電圧との大小を比較した結果に応じて異なる論理レベルの信号が前記第3のMOSFETのドレインから出力する電圧比較回路を内蔵することを特徴とする。
【0018】
本発明の第2の半導体集積回路は、第1の電圧ノードにソースが接続され、ドレイン・ゲート相互が接続され第1導電型の第1のMOSFETと、前記第1の MOSFET とドレイン同士が接続され、第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第2のMOSFETと、第3の電圧ノードにソースが接続された第1導電型の第3のMOSFETと、前記第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに前記第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第4のMOSFETと、前記第3のMOSFETとドレイン同士が接続され、ソースが前記第4のMOSFETのドレインに接続され、ゲートに第2のバイアス電位が与えられる第2導電型の第5のMOSFETとを具備し、前記第1の電圧ノードの電圧と前記第3の電圧ノードの電圧との大小を比較した結果に応じて異なる論理レベルの信号が前記第3のMOSFETのドレインから出力する電圧比較回路を内蔵することを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【0020】
なお、本発明の実施の形態では、P 型半導体基板(P 基板)を用いたLSI において、N 型MOSFETはP 基板上に形成され、P 型MOSFETはP 基板に形成されたN 型ウェル領域内に形成される。また、P 基板には接地電位GND が与えられ、N 型ウェル領域には該領域に形成されるPMOSFET 用の電源電位が与えられる。
【0021】
<第1の実施形態>
図1は、本発明の半導体集積回路に形成された第1の実施形態に係る電源電圧比較回路を示している。
【0022】
この電源電圧比較回路10は、第1の高電位電源電圧VDD1を動作電源とする定電流回路11と、この定電流回路11により電流制御され、VDD1と第2の高電位電源電圧VDD2を比較するCMOS電圧比較回路12と、VDD1を動作電源とし、前記CMOS電圧比較回路12の比較出力を比較出力ノードCMP1に論理レベル"H" または"L" の信号として取り出す出力回路13から構成される。
【0023】
前記定電流回路11は、VDD1が入力するVDD1ノードと低電位電源(本例ではGNDノード)との間に、定電流源IR0 およびドレイン・ゲート相互が接続されたN 型トランジスタN0の順で直列接続されて構成される。
【0024】
前記CMOS電圧比較回路12は、VDD1ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP1のソース・ドレイン間およびN 型トランジスタN1のドレイン・ソース間の順で直列接続され、前記VDD2が入力するVDD2ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP2のソース・ドレイン間およびN 型トランジスタN2のドレイン・ソース間の順で直列接続されている。この場合、上記P1のドレイン・ゲート相互が接続され、前記P1とP2は、ゲート同士が接続されており、カレントミラー回路を構成する。また、前記N1とN2の各ゲートは、前記定電流回路11のN0のゲートに接続されており、これらのN0,N1,N2はカレントミラー回路を構成する。
【0025】
前記出力回路13は、前記VDD1ノードとGND ノードとの間に、抵抗素子R3およびN 型トランジスタN3のドレイン・ソース間の順で直列接続され、この直列接続ノードと前記比較出力ノードCMP1との間にVDD1を動作電源とするインバータ回路IV1 が挿入されている。上記N3のゲートには、前記CMOS電圧比較回路12のP2のドレイン電圧(電圧比較出力信号)が入力する。
【0026】
次に、図1の構成の電源電圧比較回路10の動作について説明する。
【0027】
図2は、図1の電源電圧比較回路10の入出力特性を示している。ここでは、VDD1が一定の時にVDD2が数百μsec のオーダーで急峻に立ち上がった場合を示している。
【0028】
図1の電源電圧比較回路10は、VDD1とVDD2の電圧変化分をCMOS電圧比較回路12のP1とP2に流れる電流変化分に変換して電流比較を行なう。そして、この電流変化分をさらに電圧変化分に変換し、この電圧変化分を出力回路13に伝達することにより、従来例の電源電圧比較回路と同等の動作を行なうものである。
【0029】
即ち、VDD1>VDD2の時には、P1の電流>P2の電流INになり、P2のドレイン電圧により定電流回路11のN3がオフ状態になり、N3のドレイン電圧が"H" (=VDD1)になり、比較出力ノードCMP1に"L" (=GND )が出力する。
【0030】
これに対して、VDD1<VDD2の時には、P1の電流<P2の電流INになり、P2のドレイン電圧により定電流回路11のN3がオン状態になり、N3のドレイン電圧が"L" になり、比較出力ノードCMP1に"H" が出力する。
【0031】
本実施形態の電源電圧比較回路10によれば、従来例の電源電圧比較回路と比べて、次のような利点がある。
【0032】
(1)ソース結合ペア回路を必要としないので、より低電圧で動作可能である。例えば最低動作電圧をVDDmin、P1の閾値電圧をVthP、N1のドレイン・ソース間電圧VDS をVDSN1 で表わすと、VDDmin=VthP + VDSN1以上で動作可能である。ここで、例えばVthP=1.0V,VDSN1 =0.3Vであるとすると、最低動作電圧VDDmin=1.3 V のオーダーであり、従来例の電源電圧比較回路の最低動作電圧VDDmin=1.6Vよりも低電圧である。
【0033】
(2)回路構成要素が少ないので、パターン面積を小さくできるほか、回路構成要素が少なく、検出バラツキに対する素子の相対誤差要因が少ないので、比較精度を上げることが可能になるなどの利点がある。
【0034】
<第2の実施形態>
図3は、本発明の第2の実施形態に係る電源電圧比較回路30を示している。
【0035】
この電源電圧比較回路30は、図1を参照して前述した第1の実施形態に係る電源電圧比較回路10と比べて、その出力側にヒステリシス回路31が付加されている点が異なり、その他は同じであるので、図1中と同一部分には同一記号を付けて説明を省略する。
【0036】
上記ヒステリシス回路31は、前記比較出力ノードCMP1とヒステリシス出力ノードCMP2との間に二段のインバータ回路IV2 ,IV3 が接続され、前記CMOS電圧比較回路12のP2のドレイン(ノードA )とGND ノードとの間にN 型トランジスタN21 ,N22 が直列に接続されている。この場合、N21 のゲートは前記インバータ回路IV2 の出力ノードに接続され、N22 は、ゲートが前記定電流回路11のN 型トランジスタN0のゲート(ノードB )に接続(カレントミラー接続)されている。
【0037】
次に、図3の電源電圧比較回路30の動作について説明する。
【0038】
図4は、図3の電源電圧比較回路30の入出力特性(ヒステリシス特性を持つ)を示している。ここでは、VDD1が一定の時にVDD2が数百μsec のオーダーで急峻に立ち上がった場合を示している。
【0039】
図5(a)は、図3の電源電圧比較回路30において、VDD1が一定の時にVDD2が立ち上がり、このVDD2に微小なノイズ成分が混入している場合を示している。この場合の電圧比較出力波形を図5(b)に示しており、対比のために、ヒステリシス特性を持たない電源電圧比較回路の電圧比較出力波形(誤動作例)を図5(c)に示した。
【0040】
図3の電源電圧比較回路30の動作は、図2を参照して前述した電源電圧比較回路の動作と比べて、比較出力ノードCMP1の出力信号に対してヒステリシス回路31によりヒステリシス特性を持たせている点が異なり、その他は同じであるのでその説明を省略する。
【0041】
VDD1>VDD2の時には、比較出力ノードCMP1は"L" 、インバータ回路IV2 の出力は"H" 、比較出力ノードCMP2は"L" である。この時、インバータ回路IV2 の出力"H" によりN21 はオン状態になり、ヒステリシス回路31の電流IN2 が発生する。このIN2 によって、CMOS電圧比較回路12のP2のドレイン・ソース間電圧IDS が少し低下し、その分だけVDD1>VDD2の検出基準が高くなる。
【0042】
これに対して、VDD1<VDD2の時には、比較出力ノードCMP1は"H" 、インバータ回路IV2 の出力は"L" 、比較出力ノードCMP2は"H" である。この時、インバータ回路IV2 の出力"L" によりN21 はオフ状態になり、ヒステリシス回路31の電流IN2 は発生しない。
【0043】
即ち、CMOS電圧比較回路12は、VDD1>VDD2の時とVDD1<VDD2の時とでヒステリシス回路31の影響が異なり(P2に流れる電流に差が発生する)、入出力特性に差が発生し、図4に示すようにヒステリシス特性を持つようになる。
【0044】
したがって、VDD1とVDD2の電位関係が緩慢に切り替わる際にVDD2に微小なノイズ成分が混入した場合、ヒステリシス特性を持つ図3の電源電圧比較回路30によれば、比較出力ノードCMP2にヒゲ状のパルスが出力され難く、誤動作を生じず、図5(b)に示したような安定した比較結果を得ることができる。これに対して、ヒステリシス特性を持たない電源電圧比較回路では、図5(c)に示した誤動作例のように、比較出力ノードCMP2にヒゲ状のパルスが出力する恐れがあった。
【0045】
<第2の実施形態の応用例>
図6は、第2の実施形態に係る電源電圧比較回路30の応用例として、例えば不揮発性半導体メモリのウエルバイアスの切換供給に用いられる電源切換供給回路を示している。
【0046】
図6の電源電圧切換供給回路は、図3を参照して前述した電源電圧比較回路30の出力側に電源切換選択回路60が付加されている点が異なり、その他は同じであるので、図3中と同一部分には同一記号を付けて説明を省略する。
【0047】
上記電源切換選択回路60は、VDD1ノードとウエルバイアス供給ノードVOUT1 との間にP 型トランジスタP5のソース・ドレイン間が接続され、VDD2ノードと前記ウエルバイアス供給ノードVOUT1 との間にP 型トランジスタP6のソース・ドレイン間が接続されている。そして、前記ウエルバイアス供給ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP4およびN 型トランジスタN4が直列に接続されている。
【0048】
さらに、電源電圧比較回路30の比較出力ノードCMP2の出力を受けて反転させるインバータ回路IV4 が設けられており、このインバータ回路IV4 の出力が前記P4,N4およびP6のゲートに接続され、前記P5のゲートは前記P4、N4の直列接続ノードに接続されている。
【0049】
次に、図6の電源電圧切換供給回路の動作について説明する。
【0050】
図7は、図6の電源電圧切換供給回路の動作例を示す波形図である。
【0051】
図6の電源電圧切換供給回路は、VDD1,VDD2の電位関係に応じて、より高い側の電圧を選択してウエルバイアス供給ノードVOUT1 に出力し、これに接続されたウェルのバイアスを切り替えるものである。
【0052】
即ち、電源電圧比較回路30の動作は、図4乃至図5を参照して前述した動作と同じであり、電源切換選択回路60の動作は、図7に示すように、電源電圧VDD1,VDD2のうちの高電位側の電圧を選択してウエルバイアス供給ノードVOUT1 に出力する。
【0053】
例えば、VDD1=1.5V 、VDD2=1.3〜1.7Vとすると、VDD1>VDD2の時には、比較出力ノードCMP2は"L" 、インバータ回路IV4 の出力は"H" になり、N4とP5はオン状態になり、P4とP6はオフ状態になり、ウエルバイアス供給ノードVOUT1 にVDD1=1.5V が出力する。
【0054】
これに対して、VDD1<VDD2の時には、比較出力ノードCMP2は"H" 、インバータ回路IV4 の出力は"L" になり、N4とP5はオフ状態になり、P4とP6はオン状態になり、ウエルバイアス供給ノードVOUT1 にVDD2=1.5〜1.7Vが出力する。
【0055】
即ち、図6の電源電圧切換供給回路によれば、前述した各実施形態と同様の効果が得られるほか、ウェルのバイアスを切り替えることができる。
【0056】
なお、P 型トランジスタP5のソースをVDD2ノード、P 型トランジスタP6のソースをVDD1ノードに接続するように変更することにより、VDD1,VDD2の電位関係に応じてより低い側の電圧を選択するように変更することが可能である。
【0057】
<第1の実施形態の変形例>
図8は、第1の実施形態の変形例に係る電源電圧比較回路を示している。
【0058】
この電源電圧比較回路は、図1を参照して前述した電源電圧比較回路10と比べて、CMOS電圧比較回路12a に対するVDD1、VDD2の入力関係が逆である(CMOS電圧比較回路12のP2のソースにVDD1が入力し、P1のソースにVDD2が入力する)点、VDD1を動作電源とする定電流回路11a の構成、VDD1を動作電源とする出力回路13aの構成が異なり、その他は同じであるので、図1中と同一部分には同一記号を付けて説明を省略する。
【0059】
前記定電流回路11a は、VDD1ノードとGND ノードとの間に、定電流源IREFおよびドレイン・ゲート相互が接続されたN 型トランジスタN0の順で直列接続されている。さらに、VDD1ノードとGND ノードとの間に、ドレイン・ゲート相互が接続されたP 型トランジスタP10 のソース・ドレイン間およびドレイン・ゲート相互が接続されたN 型トランジスタN11 のドレイン・ソース間の順で直列接続されている。この場合、上記N0およびN11 のゲート同士が接続されており、これらのN0,N11 はカレントミラー回路を構成する。
【0060】
前記出力回路13a は、前記VDD1ノードとGND ノードとの間に、抵抗素子用のP型トランジスタP14 のソース・ドレイン間および前記CMOS電圧比較回路12a のP2のドレイン電圧(電圧比較出力信号)がゲートに入力するN 型トランジスタN3のドレイン・ソース間の順で直列接続されている。この場合、上記P14 は、前記定電流回路11a のP10 とゲート同士が接続されており、これらのP10 ,P14 はカレントミラー回路を構成する。そして、上記P14 ,N3の直列接続ノードと比較出力ノードCMPBとの間にVDD1を動作電源とするインバータ回路INV1が挿入されている。
【0061】
図9は、図8の電源電圧比較回路の入出力特性を示している。
【0062】
図8の電源電圧比較回路の動作は、図1を参照して前述した電源電圧比較回路10と比べて、基本的に同様であり、VDD1、VDD2の大小関係と比較出力の論理レベルの関係が逆である点が異なる。
【0063】
<第3の実施形態>
ところで、図8に示した電源電圧比較回路10において、低消費電流化を図るためには、定電流源に流す電流値を絞り、カレントミラーを構成するN0,N1,N2およびP1,P2 の電流値を一律に低減させる必要があるが、これに伴って、以下に述べるような問題が発生する。
【0064】
図10は、図8の電源電圧比較回路のトランジスタP2の電流IMと電圧VMの関係(IM−VM特性)を示している。
【0065】
図11は、図8の電源電圧比較回路の動作例を示すタイミング図である。
【0066】
即ち、前述したようにVDD1が一定の時にVDD2が立ち上がり、VDD1<VDD2の状態になった時、CMOS電圧比較回路12a において、P1のドレインは"L" から"H" へと変化し、P2のドレインは"H" から"L" へと変化する。この場合、VDD1とVDD2の電圧差はP2に流れる電流IMの変化分ΔIMとして表わすことができ、このΔIMによりCMOS電圧比較回路12a の出力電圧の変化分ΔVMが決定される。
【0067】
しかし、N2に流れる電流IMが絞られているので、N2の駆動能力が弱く、出力回路13a のN3のゲートに対する放電に時間がかかる。即ち、VDD1<VDD2になった瞬間から遅れ時間(Tdelay1 )後に比較出力ノードCMPBが"H" から"L" に変化するので、電圧比較検出に時間がかかってしまう。このように検出時間に時間がかかった場合、電圧状態がVDD1<VDD2であるにも拘らず、VDD1とVDD2の電圧関係を正しく判断できない期間が生じてしまう。上記電圧比較検出の高速化を図ろうとした場合、定電流源に流す電流値を大きくしなければならず、低消費電流化を実現できなくなる。
【0068】
このような問題点を解決した第3の実施形態を以下に説明する。
【0069】
図12は、本発明の第3の実施形態に係る電源電圧比較回路を示している。
【0070】
この電源電圧比較回路は、図8を参照して前述した電源電圧比較回路と比べて、基本的には同じであるが、CMOS電圧比較回路12b に抵抗素子としてN 型トランジスタN15 が挿入されている点、VDD1を動作電源とする動作点設定回路14が付加されている点が主として異なる。
【0071】
この電源電圧比較回路は、VDD1を動作電源とする定電流回路11a と、VDD1を動作電源とする動作点設定回路14と、上記定電流回路11a により電流制御されるとともに動作点設定回路14により動作点が設定され、VDD1とVDD2を比較するCMOS電圧比較回路12b と、VDD1を動作電源とし、CMOS電圧比較回路12b の比較出力を比較出力ノードCMPBに論理レベル"H" または"L" の信号として取り出す出力回路13a から構成される。
【0072】
前記動作点設定回路14は、VDD1ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP11 のソース・ドレイン間、ドレイン・ゲート相互が接続されたN 型トランジスタN13 のドレイン・ソース間およびドレイン・ゲート相互が接続されたN 型トランジスタN12 のドレイン・ソース間の順で直列接続されている。この場合、上記P11 は、前記定電流回路11a のP10 とゲート同士が接続されており、これらのP10 ,P11 はカレントミラー回路を構成する。また、上記N13 のドレインの電位を動作点設定バイアスとして出力する。
【0073】
前記CMOS電圧比較回路12b は、VDD1ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP2のソース・ドレイン間、N 型トランジスタN15 のドレイン・ソース間およびN 型トランジスタN2のドレイン・ソース間の順で直列接続され、前記VDD2が入力するVDD2ノードとGND ノードとの間に、P 型トランジスタP1のソース・ドレイン間およびN 型トランジスタN1のドレイン・ソース間の順で直列接続されている。
【0074】
この場合、上記P1のドレイン・ゲート相互が接続され、P1とP2のゲート同士が接続されており、このP1,P2はカレントミラー回路を構成する。また、上記N1およびN2の各ゲートは、前記定電流回路11a のN0のゲートに接続されており、これらのN0、N1、N2はカレントミラー回路を構成する。また、N15 のゲートには、前記動作点設定回路14から動作点設定バイアスが与えられる。
【0075】
次に、図12の電源電圧比較回路の動作について、図9、図13および図14を参照して説明する。
【0076】
図13は、図12の電源電圧比較回路のトランジスタP2の電流IMと電圧VMの関係(IM−VM特性)を示している。
【0077】
図14は、図12の電源電圧比較回路の入出力特性を示している。
【0078】
図12の電源電圧比較回路の動作は、図9を参照して前述した電源電圧比較回路の動作と比べて、基本的には同じであるが、CMOS電圧比較回路12b のP2は、抵抗負荷用のN15 が接続されているので、図13に示すように電流変化量ΔIMに対する電圧変化量ΔVMが大きくなる点が異なる。
【0079】
即ち、前述したようにVDD1が一定の時にVDD2が立ち上がり、VDD1<VDD2の状態になった時、CMOS電圧比較回路12bにおいて、P1のドレインは"L" から"H" へと変化し、P2のドレインは"H" から"L" へと急峻に変化する。この場合、VDD1とVDD2の電圧差はN2に流れる電流IMの変化分ΔIMとして表わすことができ、このΔIMによりCMOS電圧比較回路11b の出力電圧の変化分ΔVMが決定される。
【0080】
この時、低消費電流化を図るために、定電流源に流す電流値を絞り、カレントミラーを構成するN0,N1,N2,N11およびP10,P14 の電流値を一律に低減させた場合(CMOS電圧比較回路12b のP2の駆動能力を弱くした場合)でも、前記したように微小の電流変化に対してCMOS電圧比較回路12b の出力電圧の変化分ΔVMを大きくすることが可能であり、出力回路13a のN3のゲートに対する放電を短時間で行なうことが可能になる。即ち、VDD1<VDD2になった瞬間から短い遅れ時間(Tdelay2 )後に比較出力ノードCMPBが"H" から"L" に変化するので、電圧比較検出の時間を短縮することが可能になる。したがって、VDD1とVDD2の電圧関係を即座に正しく判断することができる。
【0081】
即ち、第3の実施形態に係る電源電圧比較回路によれば、図8を参照して前述した電源電圧比較回路と比べて、消費電流を抑えながら電源比較検出の高速化を図ることが可能になる。
【0082】
<第3の実施形態の変形例>
図15は、第3の実施形態の変形例に係る電源電圧比較回路を示している。
【0083】
この電源電圧比較回路は、図12を参照して前述した電源電圧比較回路と比べて、CMOS電圧比較回路12a に対するVDD1、VDD2の入力関係が逆である(CMOS電圧比較回路12d のP1のソースにVDD1が入力し、P2のソースにVDD2が入力する)点が異なり、その他は同じであるので、図12中と同一部分には同一記号を付けて説明を省略する。
【0084】
図16は、図15の電源電圧比較回路の入出力特性を示している。
【0085】
図15の電源電圧比較回路の動作は、図12を参照して前述した電源電圧比較回路の動作と比べて、基本的には同様であるが、VDD1、VDD2の大小関係に対する比較出力ノードCMPBの出力信号の論理レベルが逆になる点が異なる。即ち、VDD1>VDD2の時、CMPB ="L" 、VDD <VDD2の時、CMPB="H"を出力する。
【0086】
図15の電源電圧比較回路によれば、図12を参照して前述した電源電圧比較回路と同様に、消費電流を増加させることなく電源比較検出の高速化を図ることができる。
【0087】
<第4の実施形態>
図17は、第4の実施形態に係る電源電圧比較回路を示している。
【0088】
この電源電圧比較回路は、図12を参照して前述した電源電圧比較回路と比べて、その出力側にヒステリシス回路15が付加されている点、出力回路13b の構成が異なり、その他は同じであるので、図12中と同一部分には同一記号を付けて説明を省略する。
【0089】
上記出力回路13b は、前記出力回路13の比較出力ノードCMPBとヒステリシス出力ノードCMPDとの間にインバータ回路INV2が挿入されている。また、前記ヒステリシス回路15は、前記CMOS電圧比較回路12b のP2のドレインとGND ノードとの間にN 型トランジスタN21 ,N20 が直列に接続されている。この場合、N21 のゲートは前記インバータ回路INV2の出力ノード(ヒステリシス出力ノードCMPD)に接続され、N22 は、ゲートが前記定電流回路11a のN 型トランジスタN0のゲートに接続(カレントミラー接続)されている。
【0090】
このヒステリシス回路15の動作は、図3を参照して前述したヒステリシス回路31の動作と基本的に同じである。
【0091】
図17の電源電圧比較回路の動作は、図12を参照して前述した電源電圧比較回路の動作と比べて、比較出力ノードCMPBの出力信号に対してヒステリシス特性を持たせている点が異なり、その他は同じであるのでその説明を省略する。
【0092】
即ち、VDD1<VDD2の時には、比較出力ノードCMPBは"L" 、インバータ回路INV1の出力は"H" 、インバータ回路INV2の出力ノード(ヒステリシス出力ノードCMPD)は"L" である。この時、インバータ回路INV2の出力"L" によりN21 はオフ状態になり、ヒステリシス回路15の電流IM2 は発生しない。
【0093】
これに対して、VDD1>VDD2の時には、比較出力ノードCMPBは"H" 、インバータ回路INV1の出力は"L" 、インバータ回路INV2の出力ノードCMPDは"H" である。この時、インバータ回路INV2の出力"H" によりN21 はオン状態になり、ヒステリシス回路15の電流IM2 が発生する。このIM2 によって、CMOS電圧比較回路12b のP2のドレイン・ソース間電圧IDS が少し低下し、その分だけVDD1>VDD2の検出基準が高くなる。
【0094】
つまり、CMOS電圧比較回路11b は、VDD1<VDD2の時とVDD1>VDD2の時とで、ヒステリシス回路15による影響が異なり(P2に流れる電流に差が発生する)、入出力特性に差が発生し、ヒステリシス特性を持つようになる。
【0095】
したがって、VDD1とVDD2の電位関係が緩慢に切り替わる際にVDD1に微小なノイズ成分が混入した場合、ヒステリシス特性を持つ図17の電源電圧比較回路によれば、前述した第2の実施形態と同様に、ヒステリシス出力ノードCMPDにヒゲ状のパルスが出力され難く、誤動作を生じず、安定した比較結果を得ることができる。
【0096】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、低電圧動作が可能になり、パターン面積が小さくて済み、検出精度が向上する電圧比較回路を内蔵した半導体集積回路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体集積回路に形成された第1の実施形態に係る電源電圧比較回路を示す回路図。
【図2】図1の電源電圧比較回路の入出力特性の一例を示す図。
【図3】本発明の第2の実施形態に係る電源電圧比較回路を示す回路図。
【図4】図3の電源電圧比較回路の入出力特性(ヒステリシス特性を持つ)の一例を示す図。
【図5】図3の電源電圧比較回路においてVDD1が一定の時に立ち上がるVDD2に微小なノイズ成分が混入している場合の入力電圧波形の一例および比較出力波形の一例ならびにヒステリシス特性を持たない電源電圧比較回路の電圧比較出力波形(誤動作例)を対比のために示す特性図。
【図6】本発明の第2の実施形態に係る電源電圧比較回路の応用例として、不揮発性半導体メモリのウエルバイアス供給用の電源切換供給回路を示す回路図。
【図7】図6の電源電圧切換供給回路の動作例を示す波形図。
【図8】本発明の第1の実施形態の変形例に係る電源電圧比較回路を示す回路図。
【図9】図8の電源電圧比較回路の入出力特性を示す図。
【図10】図8の電源電圧比較回路のトランジスタP2の電流IMと電圧VMの関係(IM−VM特性)を示す図。
【図11】図8の電源電圧比較回路の動作例を示すタイミング図。
【図12】本発明の第3の実施形態に係る電源電圧比較回路を示す回路図。
【図13】図12の電源電圧比較回路のトランジスタP2のIM−VM特性を示す図。
【図14】図12の電源電圧比較回路の入出力特性を示す図。
【図15】第3の実施形態の変形例に係る電源電圧比較回路を示す回路図。
【図16】図15の電源電圧比較回路の入出力特性を示す図。
【図17】本発明の第4の実施形態に係る電源電圧比較回路を示す回路図。
【図18】従来の複数の電源を持つCMOS LSIに内蔵されたCMOS型の電源電圧比較回路の一例を示す回路図。
【図19】図18のソース結合ペアをなすCMOSFET を用いた従来例の電源電圧比較回路の入出力特性の一例を示す図。
【符号の説明】
10…電源電圧比較回路、
11…定電流回路、
12…CMOS電圧比較回路、
13…出力回路、
VDD1…第1の高電位電源電圧、
VDD2…第2の高電位電源電圧、
CMP1…比較出力ノード、
GND …低電位電源。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a CMOS type voltage comparison circuit that compares two voltages and outputs a comparison result as a logic level "H" or "L" signal. This is used for a power supply voltage comparison circuit for selecting a substrate bias.
[0002]
[Prior art]
FIG. 18 shows an example of a CMOS type power supply voltage comparison circuit built in a conventional CMOS LSI having a plurality of power supplies.
[0003]
This power supply voltage comparison circuit is connected in series between a VDD1 node to which a first power supply voltage VDD1 is input and a ground potential node (GND node), and divides VDD1 to output a first divided voltage VIN1. The elements R11 and R12 are connected in series between the second power supply node (VDD2 node) to which the second power supply voltage VDD2 is input and the GND node, and VDD2 is divided to output the second divided voltage VIN2. Resistive elements R21 and R22, a constant current circuit connected between the VDD1 node and the GND node, and VDD1 and VIN2 using VDD1 as an operating power source and a CMOSFET (complementary insulated gate field effect transistor) And a CMOS voltage comparison circuit CMP for outputting the comparison result to the comparison output node CMP1A.
[0004]
The constant current circuit is configured by connecting a constant current source IR0A and an N-type transistor N01A having a drain and a gate connected in series between the VDD1 node and the GND node.
[0005]
The CMOS voltage comparison circuit CMP is composed of a comparison circuit section and an output circuit. The above comparator circuit consists of N-type transistors N1A and N2A for input that form a source-coupled pair with VIN1 and VIN2 as inputs, and a P-type transistor for current mirror load connected between each drain and VDD1 node. P1A and P2A are connected between the source coupling node and the GND node of the input N-type transistors N1A and N2A, and the N-type transistor N01A and the gate of the constant current circuit are connected (current mirror connection). An N-type transistor N02A for a constant current source.
[0006]
The output circuit is configured by connecting a P-type transistor P3A and an N-type transistor N03A in series between the VDD1 node and the GND node. In this case, the output of the comparison circuit section is input to the gate of the P-type transistor P3A, and the N-type transistor N03A is connected to the N-type transistor N01A of the constant current circuit (gates connected to each other) (current mirror connection). A series connection node of the P-type transistor P3A and the N-type transistor N03A is connected to the comparison output node CMP1A.
[0007]
Next, the operation of the conventional power supply voltage comparison circuit using the CMOSFET forming the source coupling pair of FIG. 18 will be briefly described with reference to FIG.
[0008]
In this power supply voltage comparison circuit, VIN1 divided by VDD1 and VIN2 divided by VDD2 are compared by a CMOS voltage comparison circuit CMP using the first power supply voltage VDD1 as an operation power supply, and the comparison result is a logic level “H”. Alternatively, it is output as a "L" signal.
[0009]
That is, if R11 / R12 = R21 / R22, VIN1> VIN2 when VDD1> VDD2, “L” is output to the comparison output node CMP1A, and VIN1 <VIN2 when VDD1 <VDD2. Yes, "H" is output to the comparison output node CMP1A.
[0010]
The conventional power supply voltage comparison circuit has the following three problems.
[0011]
The first problem is that it does not operate at a low voltage. In other words, the CMOS voltage comparison circuit CMP has a large offset if the transistors constituting the source coupled pair circuit do not operate in the saturation region characteristic state.
[0012]
Here, the minimum operating voltage is VDDmin, the threshold voltage of the P-type transistor P1A for current mirror load is VthP, the drain-source voltage VDS of the N-type transistor N1A for input is VDSN1A, and the N-type transistor N02A for constant current source If VDSN02A is expressed as VDSN02A, VDDmin = VthP + VDSN1A + VDSN02A. At low voltages below VDDmin, the offset of the transistors that make up the source-coupled pair circuit becomes large, and the CMOS voltage comparison circuit CMP does not function. For example, when VthP = 1.0V, VDSN1 = 0.3V, and VDSN2 = 0.3V, VDDmin = 1.6V.
[0013]
The second problem is that the pattern area is large. One reason is that there are many circuit components. Another reason is that it is necessary to increase the layout size of the resistance elements constituting the circuit. This is because it is necessary to design a large resistance value in order to reduce current consumption (that is, to increase the L / W of the resistance element), and in addition, it is necessary to design W to be large in order to reduce the relative error. Because.
[0014]
The third problem is that the detection accuracy of voltage comparison is poor. This is due to the relative error of the resistance element and the relative error due to the offset of the amplifier.
[0015]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, the conventional power supply voltage comparison circuit has problems that it does not operate at a low voltage, has a large pattern area, and has poor detection accuracy.
[0016]
The present invention has been made to solve the above problems, and provides a semiconductor integrated circuit incorporating a voltage comparison circuit that enables low-voltage operation, requires a small pattern area, and improves detection accuracy. Objective.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
In the first semiconductor integrated circuit of the present invention, the source is connected to the first voltage node, and the drain and gate are connected to each other.TheThe first conductivity type first MOSFET, the first MOSFET and the drain are connected to each other, the source is connected to the second voltage node, and the first bias potential is applied to the gate. The second MOSFET, the third MOSFET of the first conductivity type whose source is connected to the third voltage node, the third MOSFET and the drain are connected, and the source is connected to the second voltage node. And a second conductivity type fourth MOSFET to which the first bias potential is applied to the gate, and a result of comparing the magnitudes of the voltage at the first voltage node and the voltage at the third voltage node A voltage comparison circuit for outputting a signal of a different logic level depending on the output from the drain of the third MOSFET is incorporated.
[0018]
According to a second semiconductor integrated circuit of the present invention, a source is connected to a first voltage node, a drain and a gate are connected to each other, a first conductivity type first MOSFET,The first MOSFET And drains are connected, a source is connected to the second voltage node, and a first bias potential is applied to the gate.A second conductivity type second MOSFET; a first conductivity type third MOSFET having a source connected to a third voltage node;A source is connected to the second voltage node, and the first bias potential is applied to the gate.A fourth MOSFET of the second conductivity type;ThirdMOSFET and drain are connected, and the source is4thA second conductivity type fifth MOSFET connected to the drain of the first MOSFET and having the gate supplied with the second bias potential,in frontA voltage comparison circuit that outputs a signal of a different logic level from the drain of the third MOSFET according to the result of comparing the voltage of the first voltage node and the voltage of the third voltage node is incorporated. It is characterized by.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0020]
In the embodiment of the present invention, in an LSI using a P-type semiconductor substrate (P substrate), the N-type MOSFET is formed on the P substrate, and the P-type MOSFET is in the N-type well region formed on the P substrate. Formed. The P substrate is supplied with the ground potential GND, and the N-type well region is supplied with the power supply potential for the PMOSFET formed in the region.
[0021]
<First Embodiment>
FIG. 1 shows a power supply voltage comparison circuit according to a first embodiment formed in a semiconductor integrated circuit of the present invention.
[0022]
The power supply
[0023]
The constant
[0024]
The CMOS
[0025]
The
[0026]
Next, the operation of the power supply
[0027]
FIG. 2 shows input / output characteristics of the power supply
[0028]
The power supply
[0029]
That is, when VDD1> VDD2, the current of P1> the current IN of P2, and the drain voltage of P2 turns off N3 of the constant
[0030]
On the other hand, when VDD1 <VDD2, the current of P1 is smaller than the current IN of P2, the N3 of the constant
[0031]
The power supply
[0032]
(1) Since a source coupled pair circuit is not required, the circuit can be operated at a lower voltage. For example, when the minimum operating voltage is VDDmin, the threshold voltage of P1 is VthP, and the drain-source voltage VDS of N1 is VDSN1, operation is possible with VDDmin = VthP + VDSN1 or higher. Here, for example, assuming that VthP = 1.0V and VDSN1 = 0.3V, the minimum operating voltage is VDDmin = 1.3 V, which is lower than the minimum operating voltage VDDmin = 1.6V of the conventional power supply voltage comparison circuit. is there.
[0033]
(2) Since the number of circuit components is small, the pattern area can be reduced. In addition, the number of circuit components is small, and the relative error factor of the element with respect to detection variation is small.
[0034]
<Second Embodiment>
FIG. 3 shows a power supply
[0035]
This power supply
[0036]
In the
[0037]
Next, the operation of the power supply
[0038]
FIG. 4 shows input / output characteristics (having hysteresis characteristics) of the power supply
[0039]
FIG. 5A shows a case where VDD2 rises when VDD1 is constant in the power supply
[0040]
The operation of the power supply
[0041]
When VDD1> VDD2, the comparison output node CMP1 is “L”, the output of the inverter circuit IV2 is “H”, and the comparison output node CMP2 is “L”. At this time, N21 is turned on by the output “H” of the inverter circuit IV2, and the current IN2 of the
[0042]
On the other hand, when VDD1 <VDD2, the comparison output node CMP1 is “H”, the output of the inverter circuit IV2 is “L”, and the comparison output node CMP2 is “H”. At this time, N21 is turned off by the output "L" of the inverter circuit IV2, and the current IN2 of the
[0043]
That is, in the CMOS
[0044]
Therefore, when a small noise component is mixed into VDD2 when the potential relationship between VDD1 and VDD2 is slowly switched, the power supply
[0045]
<Application Example of Second Embodiment>
FIG. 6 shows, as an application example of the power supply
[0046]
The power supply voltage switching supply circuit of FIG. 6 is the same as the power supply
[0047]
In the power supply
[0048]
Further, an inverter circuit IV4 that receives and inverts the output of the comparison output node CMP2 of the power supply
[0049]
Next, the operation of the power supply voltage switching supply circuit of FIG. 6 will be described.
[0050]
FIG. 7 is a waveform diagram showing an operation example of the power supply voltage switching supply circuit of FIG.
[0051]
The power supply voltage switching supply circuit of FIG. 6 selects a higher voltage according to the potential relationship between VDD1 and VDD2, outputs it to the well bias supply node VOUT1, and switches the bias of the well connected thereto. is there.
[0052]
That is, the operation of the power supply
[0053]
For example, when VDD1 = 1.5V and VDD2 = 1.3 to 1.7V, when VDD1> VDD2, the comparison output node CMP2 is "L", the output of the inverter circuit IV4 is "H", and N4 and P5 are in the ON state Thus, P4 and P6 are turned off, and VDD1 = 1.5V is output to the well bias supply node VOUT1.
[0054]
On the other hand, when VDD1 <VDD2, the comparison output node CMP2 is “H”, the output of the inverter circuit IV4 is “L”, N4 and P5 are turned off, and P4 and P6 are turned on. VDD2 = 1.5 to 1.7V is output to the well bias supply node VOUT1.
[0055]
That is, according to the power supply voltage switching supply circuit of FIG. 6, the same effects as those of the above-described embodiments can be obtained, and the well bias can be switched.
[0056]
By changing the source of P-type transistor P5 to the VDD2 node and the source of P-type transistor P6 to the VDD1 node, the lower voltage is selected according to the potential relationship between VDD1 and VDD2. It is possible to change.
[0057]
<Modification of First Embodiment>
FIG. 8 shows a power supply voltage comparison circuit according to a modification of the first embodiment.
[0058]
In this power supply voltage comparison circuit, compared to the power supply
[0059]
The constant
[0060]
In the
[0061]
FIG. 9 shows the input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG.
[0062]
The operation of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 8 is basically the same as that of the power supply
[0063]
<Third Embodiment>
By the way, in the power supply
[0064]
FIG. 10 shows the relationship (IM-VM characteristics) between the current IM and voltage VM of the transistor P2 in the power supply voltage comparison circuit of FIG.
[0065]
FIG. 11 is a timing chart showing an operation example of the power supply voltage comparison circuit of FIG.
[0066]
That is, as described above, when VDD1 is constant, VDD2 rises, and when VDD1 <VDD2, the drain of P1 changes from "L" to "H" in CMOS
[0067]
However, since the current IM flowing through N2 is reduced, the driving capability of N2 is weak, and it takes time to discharge the N3 gate of the
[0068]
A third embodiment that solves such problems will be described below.
[0069]
FIG. 12 shows a power supply voltage comparison circuit according to the third embodiment of the present invention.
[0070]
This power supply voltage comparison circuit is basically the same as the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 8, but an N-type transistor N15 is inserted as a resistance element in the CMOS
[0071]
This power supply voltage comparison circuit is controlled by the constant
[0072]
The operating
[0073]
The CMOS
[0074]
In this case, the drain and gate of P1 are connected to each other, and the gates of P1 and P2 are connected to each other, and P1 and P2 constitute a current mirror circuit. The gates of N1 and N2 are connected to the gate of N0 of the constant
[0075]
Next, the operation of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 12 will be described with reference to FIG. 9, FIG. 13, and FIG.
[0076]
FIG. 13 shows the relationship (IM-VM characteristics) between the current IM and voltage VM of the transistor P2 in the power supply voltage comparison circuit of FIG.
[0077]
FIG. 14 shows the input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG.
[0078]
The operation of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 12 is basically the same as that of the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 9, but P2 of the CMOS
[0079]
That is, as described above, when VDD1 is constant, VDD2 rises, and when VDD1 <VDD2, the CMOS voltage comparison circuit12b, The drain of P1 changes from “L” to “H”, and the drain of P2 changes abruptly from “H” to “L”. In this case, the voltage difference between VDD1 and VDD2 can be expressed as a change ΔIM of the current IM flowing through N2, and the change ΔVM of the output voltage of the CMOS voltage comparison circuit 11b is determined by this ΔIM.
[0080]
At this time, in order to reduce current consumption, the current value flowing to the constant current source is narrowed down, and the current values of N0, N1, N2, N11 and P10, P14 constituting the current mirror are uniformly reduced (CMOS Voltage comparison circuit12b Even if the driving capability of P2 is weakened), it is possible to increase the change ΔVM in the output voltage of the CMOS
[0081]
That is, according to the power supply voltage comparison circuit according to the third embodiment, compared to the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 8, it is possible to increase the speed of power supply comparison detection while suppressing current consumption. Become.
[0082]
<Modification of Third Embodiment>
FIG. 15 shows a power supply voltage comparison circuit according to a modification of the third embodiment.
[0083]
In this power supply voltage comparison circuit, the input relationship of VDD1 and VDD2 to the CMOS
[0084]
FIG. 16 shows the input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG.
[0085]
The operation of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 15 is basically the same as that of the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 12, but the comparison output node CMPB with respect to the magnitude relationship between VDD1 and VDD2 The difference is that the logic level of the output signal is reversed. That is, CMPB = "L" is output when VDD1> VDD2, and CMPB = "H" is output when VDD <VDD2.
[0086]
According to the power supply voltage comparison circuit of FIG. 15, as in the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 12, it is possible to increase the speed of power supply comparison detection without increasing current consumption.
[0087]
<Fourth Embodiment>
FIG. 17 shows a power supply voltage comparison circuit according to the fourth embodiment.
[0088]
This power supply voltage comparison circuit is different from the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 12 in that a
[0089]
In the
[0090]
The operation of the
[0091]
The operation of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 17 is different from the operation of the power supply voltage comparison circuit described above with reference to FIG. 12 in that the output signal of the comparison output node CMPB has a hysteresis characteristic. Since others are the same, the description thereof is omitted.
[0092]
That is, when VDD1 <VDD2, the comparison output node CMPB is “L”, the output of the inverter circuit INV1 is “H”, and the output node (hysteresis output node CMPD) of the inverter circuit INV2 is “L”. At this time, N21 is turned off by the output “L” of the inverter circuit INV2, and the current IM2 of the
[0093]
On the other hand, when VDD1> VDD2, the comparison output node CMPB is “H”, the output of the inverter circuit INV1 is “L”, and the output node CMPD of the inverter circuit INV2 is “H”. At this time, N21 is turned on by the output “H” of the inverter circuit INV2, and the current IM2 of the
[0094]
In other words, the influence of the
[0095]
Therefore, when a small noise component is mixed into VDD1 when the potential relationship between VDD1 and VDD2 is slowly switched, according to the power supply voltage comparison circuit of FIG. Therefore, it is difficult for a beard-like pulse to be output to the hysteresis output node CMPD, and a stable comparison result can be obtained without causing a malfunction.
[0096]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit having a built-in voltage comparison circuit that enables low-voltage operation, requires a small pattern area, and improves detection accuracy.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram showing a power supply voltage comparison circuit according to a first embodiment formed in a semiconductor integrated circuit of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an example of input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 1;
FIG. 3 is a circuit diagram showing a power supply voltage comparison circuit according to a second embodiment of the present invention.
4 is a diagram showing an example of input / output characteristics (having hysteresis characteristics) of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 3;
5 shows an example of an input voltage waveform and an example of a comparative output waveform when a minute noise component is mixed in VDD2 that rises when VDD1 is constant in the power supply voltage comparison circuit of FIG. 3, and a power supply voltage having no hysteresis characteristic. The characteristic view which shows the voltage comparison output waveform (malfunction example) of a comparison circuit for the comparison.
FIG. 6 is a circuit diagram showing a power supply switching supply circuit for supplying a well bias of a nonvolatile semiconductor memory as an application example of the power supply voltage comparison circuit according to the second embodiment of the present invention.
7 is a waveform diagram showing an operation example of the power supply voltage switching supply circuit of FIG. 6;
FIG. 8 is a circuit diagram showing a power supply voltage comparison circuit according to a modification of the first embodiment of the present invention.
9 is a diagram showing input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 8;
10 is a graph showing a relationship (IM-VM characteristic) between a current IM and a voltage VM of a transistor P2 in the power supply voltage comparison circuit of FIG.
11 is a timing chart showing an operation example of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 8;
FIG. 12 is a circuit diagram showing a power supply voltage comparison circuit according to a third embodiment of the present invention.
13 is a graph showing IM-VM characteristics of a transistor P2 in the power supply voltage comparison circuit of FIG.
14 is a diagram showing input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 12;
FIG. 15 is a circuit diagram showing a power supply voltage comparison circuit according to a modification of the third embodiment.
16 is a graph showing input / output characteristics of the power supply voltage comparison circuit of FIG. 15;
FIG. 17 is a circuit diagram showing a power supply voltage comparison circuit according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 18 is a circuit diagram showing an example of a CMOS type power supply voltage comparison circuit built in a conventional CMOS LSI having a plurality of power supplies.
FIG. 19 is a diagram showing an example of input / output characteristics of a conventional power supply voltage comparison circuit using CMOSFETs forming the source-coupled pair of FIG.
[Explanation of symbols]
10 ... Power supply voltage comparison circuit,
11 ... Constant current circuit,
12 ... CMOS voltage comparison circuit,
13 ... Output circuit,
VDD1: First high potential power supply voltage,
VDD2: Second high potential power supply voltage,
CMP1 ... comparison output node,
GND ... Low potential power supply.
Claims (10)
前記第1のMOSFETとドレイン同士が接続され、第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第2のMOSFETと、
第3の電圧ノードにソースが接続された第1導電型の第3のMOSFETと、
前記第3のMOSFETとドレイン同士が接続され、前記第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに前記第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第4のMOSFETとを具備し、
前記第1の電圧ノードの電圧と前記第3の電圧ノードの電圧との大小を比較した結果に応じて異なる論理レベルの信号が前記第3のMOSFETのドレインから出力する電圧比較回路を内蔵することを特徴とする半導体集積回路。Source connected to the first voltage node, a first MOSFET of a first conductivity type drain-gate each other are connected,
A second MOSFET of a second conductivity type, wherein the first MOSFET and the drain are connected, the source is connected to a second voltage node, and the first bias potential is applied to the gate;
A third MOSFET of the first conductivity type having a source connected to the third voltage node;
A third MOSFET and a drain connected to each other; a source connected to the second voltage node; a fourth MOSFET of a second conductivity type to which the first bias potential is applied to a gate;
A voltage comparison circuit that outputs a signal of a different logic level from the drain of the third MOSFET according to a result of comparing the voltage of the first voltage node and the voltage of the third voltage node; A semiconductor integrated circuit.
前記第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードと前記第2の電圧ノードとの間に接続され、前記電圧比較回路の出力信号を同相または逆相で取り出す出力回路
とをさらに具備することを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。A constant current circuit that is connected between the first voltage node or the third voltage node and the second voltage node and generates the first bias potential;
And an output circuit connected between the first voltage node or the third voltage node and the second voltage node and for extracting an output signal of the voltage comparison circuit in the same phase or in the opposite phase. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
前記第1の MOSFET とドレイン同士が接続され、第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第2のMOSFETと、
第3の電圧ノードにソースが接続された第1導電型の第3のMOSFETと、
前記第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに前記第1のバイアス電位が与えられる第2導電型の第4のMOSFETと、
前記第3のMOSFETとドレイン同士が接続され、ソースが前記第4のMOSFETのドレインに接続され、ゲートに第2のバイアス電位が与えられる第2導電型の第5のMOSFETとを具備し、
前記第1の電圧ノードの電圧と前記第3の電圧ノードの電圧との大小を比較した結果に応じて異なる論理レベルの信号が前記第3のMOSFETのドレインから出力する電圧比較回路を内蔵することを特徴とする半導体集積回路。A source connected to the first voltage node, a drain and a gate connected to each other, and a first conductivity type first MOSFET;
A second MOSFET of a second conductivity type, wherein the first MOSFET and the drain are connected, the source is connected to a second voltage node, and the first bias potential is applied to the gate ;
A third MOSFET of the first conductivity type having a source connected to the third voltage node;
A second conductivity type fourth MOSFET having a source connected to the second voltage node and a gate to which the first bias potential is applied ;
A third conductivity type fifth MOSFET having a drain connected to the third MOSFET, a source connected to a drain of the fourth MOSFET, and a second bias potential applied to the gate;
A built-in voltage comparator circuit the logic level of the signal varies depending on the result of comparing the magnitudes of the previous SL voltage and the voltage of the third voltage node of the first voltage node is outputted from the drain of said third MOSFET A semiconductor integrated circuit.
前記第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードと前記第2の電圧ノードとの間に接続され、前記電圧比較回路の出力信号を同相または逆相で取り出す出力回路と、
前記第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードと前記第2の電圧ノードとの間に接続され、前記第2のバイアス電位を生成する動作点設定回路
とをさらに具備することを特徴とする請求項3記載の半導体集積回路。A constant current circuit that is connected between the first voltage node or the third voltage node and the second voltage node and generates the first bias potential;
An output circuit which is connected between the first voltage node or the third voltage node and the second voltage node and extracts an output signal of the voltage comparison circuit in the same phase or in reverse phase;
An operating point setting circuit that is connected between the first voltage node or the third voltage node and the second voltage node and generates the second bias potential is further provided. Item 4. The semiconductor integrated circuit according to Item 3.
ソースが前記第2の電圧ノードに接続され、ゲートに前記電圧比較回路の出力信号が入力する第2導電型の第6のMOSFETと、
前記第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードと前記第6のMOSFETのドレインとの間に接続された抵抗負荷と、
前記第6のMOSFETのドレインと比較出力ノードとの間に挿入された1段または複数段のインバータ回路
とを具備することを特徴とする請求項2または4記載の半導体集積回路。The output circuit is
A sixth MOSFET of the second conductivity type, the source of which is connected to the second voltage node, and the output signal of the voltage comparison circuit is input to the gate;
A resistive load connected between the first voltage node or the third voltage node and the drain of the sixth MOSFET;
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising: a single stage or a plurality of stages of inverter circuits inserted between the drain of the sixth MOSFET and the comparison output node.
前記第3のMOSFETのドレインと前記第2の電圧ノードとの間で直列に接続された第2導電型の第7のMOSFETおよび第8のMOSFETを具備し、前記第7のMOSFETのゲートに前記出力回路から前記電圧比較回路の出力信号とは逆相の信号が与えられ、前記第8のMOSFETのゲートに前記第1のバイアス電位が与えられることを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路。The hysteresis circuit is:
And a second conductivity type seventh MOSFET and an eighth MOSFET connected in series between the drain of the third MOSFET and the second voltage node, and the gate of the seventh MOSFET is connected to the gate of the seventh MOSFET. 7. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein a signal having a phase opposite to that of the output signal of the voltage comparison circuit is applied from an output circuit, and the first bias potential is applied to a gate of the eighth MOSFET. .
前記第1の電圧ノードにソースが接続され、ドレインが前記ウエルバイアス供給ノードに接続された第1導電型の第9のMOSFETと、
前記第3の電圧ノードにソースが接続され、ドレインが前記ウエルバイアス供給ノードに接続され、ゲートに前記出力回路の出力信号が与えられる第1導電型の第10のMOSFETと、
前記ウエルバイアス供給ノードにソースが接続され、ゲートに前記出力回路の出力信号が与えられ、ドレインが前記第9のMOSFETのゲートに接続される第1導電型の第11のMOSFETと、
前記第11のMOSFETとドレイン同士が接続され、前記第2の電圧ノードにソースが接続され、ゲートに前記出力回路の出力信号が与えられる第2導電型の第12のMOSFET
とからなることを特徴とする請求項8記載の半導体集積回路。The voltage switching selection circuit is
A ninth MOSFET of the first conductivity type having a source connected to the first voltage node and a drain connected to the well bias supply node;
A first conductivity type tenth MOSFET having a source connected to the third voltage node, a drain connected to the well bias supply node, and an output signal of the output circuit applied to a gate;
An eleventh MOSFET of the first conductivity type having a source connected to the well bias supply node, an output signal of the output circuit applied to the gate, and a drain connected to the gate of the ninth MOSFET;
The first 11 MOSFET and drains of being connected, the second source is connected to a voltage node, a 12 MOSFET of a second conductivity type output signal of the output circuit to the gate is applied
9. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, comprising:
前記第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードに一端が接続された定電流源と、
前記定電流源の他端と前記第2の電圧ノードとの間に接続され、ドレイン・ゲート相互が接続された第2導電型の第13のMOSFETと、
第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードに一端が接続され、ドレイン・ゲート相互が接続された第1導電型の第14のMOSFETと、
前記第14のMOSFETとドレイン同士が接続され、ソースが前記第2の電圧ノードとの間に接続され、前記第13のMOSFETとゲート同士が接続された第2導電型の第15のMOSFETとからなり、
前記第13のMOSFETのドレインから前記第1のバイアス信号が出力し、
前記動作点設定回路は、
第1の電圧ノードまたは第3の電圧ノードに一端が接続され、前記第14のMOSFETとゲート同士が接続された第1導電型の第16のMOSFETと、
前記第16のMOSFETとドレイン同士が接続され、ドレイン・ゲート相互が接続された第2導電型の第17のMOSFETと、
前記第17のMOSFETのソースと前記第2の電圧ノードとの間に接続され、ドレイン・ゲート相互が接続された第2導電型の第18のMOSFET
とからなることを特徴とする請求項4記載の半導体集積回路。The constant current circuit is:
A constant current source having one end connected to the first voltage node or the third voltage node;
A thirteenth MOSFET of the second conductivity type connected between the other end of the constant current source and the second voltage node and having a drain and a gate connected to each other;
A fourteenth MOSFET of the first conductivity type having one end connected to the first voltage node or the third voltage node and having the drain and gate connected to each other;
The fourteenth MOSFET and the drain are connected to each other, the source is connected to the second voltage node, and the thirteenth MOSFET and the fifteenth MOSFET of the second conductivity type having the gate connected to each other. Become
The first bias signal is output from the drain of the thirteenth MOSFET,
The operating point setting circuit includes:
A sixteenth MOSFET of a first conductivity type having one end connected to the first voltage node or the third voltage node and having the gate connected to the fourteenth MOSFET;
A seventeenth MOSFET of the second conductivity type in which the sixteenth MOSFET and the drain are connected and the drain and the gate are connected;
The eighteenth MOSFET of the second conductivity type connected between the source of the seventeenth MOSFET and the second voltage node and having the drain and gate connected to each other.
The semiconductor integrated circuit according to claim 4, comprising:
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