JP3799031B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置に関わり、特に、透過領域と反射領域に対しそれぞれ異なる共通電圧を印加することにより液晶表示装置の透過領域と反射領域における彩度を同一化する半透過半反射型液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
カラー液晶表示パネルは二つの透明基板とこれらの透明基板間にある液晶層からなる。一般、既存のTFT液晶表示器においてよく使用されるTN(Twisted Nematic)型液晶はネマチック液晶(nematic liquid crystal)である。この種の液晶の分子は空間上一次元的かつ規則的に配列する。全てのネマチック液晶の分子は、各分子の主軸となる長軸が所定の方向に沿い分子同士が平行し合うように、配列する。ネマチック液晶は粘度が低く、流動し易い(この流動性は、主に液晶分子がその長軸方向においてより自由に移動できることから起因する)。
【0003】
液晶分子は異方性の構成を有するため、その光電効果は方向の相違により異なる。即ち、液晶分子の光電特性(例えば誘電係数や屈折率等)からみると異方性がある。このような特性を利用し入射光の強度を変えることにより表示素子における彩度が形成されるため、表示素子としての応用が可能になる。
【0004】
例えば、誘電係数ε(dielectric permittivity)は二つの方向における両分量即ちε‖(液晶長軸方向に平行する分量)とε⊥(液晶方向に垂直する分量)に分けられる。ε‖>ε⊥の場合、液晶は、誘電係数の異方性がプラス型である液晶と呼ばれ(以下単にプラス液晶という)、平行的マッチングの場合に用いられる。一方、ε‖<ε⊥の場合、液晶は、誘電係数の異方性がマイナス型である液晶と呼ばれ、垂直的マッチングの場合のみに用いられる。電圧が印加される場合、液晶分子の誘電係数異方性がプラスかまたはマイナスかということは液晶分子の回転方向が電圧に平行するかまたは垂直するか、即ち、光が透過するかまたは透過しないかということを左右する。
【0005】
現在、TFT-LCDにおいてよく利用されるTN型液晶は殆どプラス型誘電係数の液晶である。
【0006】
図1Aはプラス型液晶が電圧を印加されていないときの液晶配列パターンを示す図、図1Bはプラス型液晶が電圧V1を印加されているときの液晶配列パターンを示す図である。
【0007】
図1Aによると、画素電極(pixel electrode)12と共通電極(common electrode)13が電圧を印加されていない場合(または両電極が同様な電圧を印加され液晶層11における電圧差が0である場合)、即ち、液晶層11について電圧を印加しない場合、液晶14は水平方向に沿って平行配列する。このとき、光線が透過領域及び反射領域から透過し液晶表示器において発光することができる。
【0008】
一方、液晶層11について電圧を印加し始めると、液晶14は、水平方向に沿って平行配列することができなくなり、垂直方向に回転し始まる。印加電圧が所定値V1となると、図1Bに示すように、液晶14は画素電極12及び共通電極13に垂直するようになる。このとき、光線が透過領域及び反射領域から透過できず、液晶表示器において発光することができない。
【0009】
図2AはT-Vカーブ(透過率と印加電圧の関係を示す)及びR-Vカーブ(反射率と印加電圧の関係を示す)を示す図である。
【0010】
図2Aに示すように、印加電圧が大きければ大きいほど透過率または反射率が小さい。したがって、このような特性を利用し入射光の強度を変えることにより彩度を形成することができる。
【0011】
図2Bは従来の半透過半反射型液晶表示装置を示す断面図である。
【0012】
図2Bにおいて、画素電極は電気的に接続し合う透過電極21と反射電極22からなるが、共通電極23はワンピースの透明な導体層からなり、透過領域と反射領域との区分がない。したがって、画素電極及び共通電極が電圧を印加されるとき、透過領域及び反射領域における印加電圧は同様である。
【0013】
しかし、T-VカーブとR-Vカーブが同様でない(即ち、重なっていない。図2A参照)。このため、同一の印加電圧において、光線の透過率と反射率が異なり、反射領域における彩度と透過領域における彩度が異なる。したがって、液晶表示器において反射領域の色彩と透過領域の色彩が異なる。よって、透過方式による彩度と反射方式による彩度が異なる(透過方式とは液晶表示器自体の光源を以って透過領域における表示を行う方式を、反射方式とは液晶表示器外部の光源を以って反射領域における表示を行う方式を言う)。例えば、透過方式を用いる場合、表示器は青色を呈するが、反射方式を用いる場合、表示器は薄い青色を呈する。これにより、使用者が製品の質について疑問を抱える問題が生じられる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
前記のように、従来の半透過半反射型液晶表示器は、その共通電極がワンピースの透明導体層からなり、透過領域と反射領域との区分がない。このため、画素電極及び共通電極が電圧を印加されるとき、透過領域及び反射領域における印加電圧は同様である。しかし、T-VカーブとR-Vカーブが同様でないため、液晶表示器の表示において、透過方式による彩度と反射方式による彩度が異なる。
【0015】
前記のような問題点を解決するため、本発明の目的は、透過領域と反射領域に対しそれぞれ異なる共通電圧を印加することにより液晶表示器において透過領域の彩度と反射領域の彩度を一致させることが可能な液晶表示装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための本発明の液晶表示装置は、複数の透過領域及び複数の反射領域を有する第1基板と、前記透過領域に位置する透過電極と、前記反射領域に位置し前記透過電極と電気的に接続する反射電極と、前記透過領域に対応する位置に設けられた複数の第1共通電極、及び前記第1共通電極と電気的に絶縁され且つ前記反射領域に対応する位置に設けられた複数の第2共通電極を有する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板の間に位置する液晶層とからなり、前記第1共通電極と前記第2基板の距離は、前記第2共通電極と前記第2基板の距離と異なる
【0017】
また、前記液晶表示装置において、前記第1共通電極は前記反射領域に当たる上方までに延在することが好ましい。
【0018】
また、前記液晶表示装置において、前記第2共通電極は前記透過領域に当たる上方までに延在することが好ましい。
【0019】
また、前記液晶表示装置において、前記第1基板と前記第2基板は透明基板でありうる。
【0020】
また、前記液晶表示装置において、前記透過電極は透明導体でありうる。なお、該透明導体の材質がインジウム錫酸化物(ITO)またはインジウム亜鉛酸化物(IZO)を用いても良い。
【0021】
また、前記液晶表示装置において、前記反射電極が金属層から構成されて良い。なお、該金属層の材質がAl、Ag及びAlNd合金のうちいずれかでありうる。
【0022】
また、前記液晶表示装置において、前記第1共通電極と前記第2共通電極は透明導体層から構成されて良い。なお、前記透明導体層の材質がインジウム錫酸化物(ITO)またはインジウム亜鉛酸化物(IZO)でありうる。
【0024】
また、液晶表示装置において、前記第1共通電極と前記第2基板の距離は前記第2共通電極と前記第2基板の距離より短くても良い。
【0025】
液晶表示装置において、前記第1共通電極と前記第2基板の距離は前記第2共通電極と前記第2基板の距離より長くても良い。
【0026】
【発明の実施の形態】
前記の目的を達成して従来の欠点を除去するための課題を実行する本発明の実施例の構成とその作用を添付図面に基づき詳細に説明する。
【0027】
図3は本発明の第一の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【0028】
図3において、半透過半反射型液晶表示器は、その画素のいずれかが二つの部分、即ち透過領域II及び反射領域Iからなる。液晶表示器の形成は下記の通りである。
【0029】
まず、一方の透明基板301の内側に順に薄膜トランジスタ31と透明絶縁層321が形成される。ここで、透明絶縁層321は、例えば酸化シリコン(SiOx)層や窒化シリコン(SiNx)層またはこれらを積層してなるものであって良い。
【0030】
次に、透過領域II及び反射領域Iの定義が行われる。反射領域Iの位置にて表面に突起(bump)があるパッド絶縁層322が形成される。パッド絶縁層322の材質は感光樹脂や光透過できる絶縁材料または光透過できない絶縁材料を用いて良い。
【0031】
例えば、パッド絶縁層322の材質が感光樹脂である。この場合、感光樹脂を透明基板に塗布した上、露光/現像により反射領域のパターン化が行われる。
【0032】
透過領域及び反射領域のパターン化が完了した後、透過電極34及び反射電極33の形成が行われる。ここで、透過領域IIの透過電極34はスパッタ(sputter)法によりインジウム錫酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)を成膜してなるものでありうる。反射領域Iの反射電極33はスパッタ法によりアルミニウム(Al)や銀(Ag)またはアルミネオジム(AlBd)合金を成膜してなるものでありうる。
【0033】
次に、透過電極34と反射電極33を電気的に接続することにより画素電極が形成される。該画素電極は薄膜トランジスタ31と電気的に接続される。
【0034】
一方、他方の透明基板302の内側にカラーフィルタ35が形成された後、反射領域共通電極36及び透過領域共通電極37が形成される。
【0035】
該両電極の形成方法は、スパッタ法によりインジウム錫酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)を成膜する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより両電極を分離(電気的遮断)する段階から構成される。
【0036】
両電極が電気的に遮断されるため、液晶表示器を操作する際、反射領域共通電極36と透過領域共通電極37に対しそれぞれ異なる電圧を印加することにより、反射領域における印加電圧と透過領域における印加電圧が異なるように印加電圧を調節することができる。よって、T-VカーブとR-Vカーブが重なっていないため同一電圧が印加される反射領域と透過領域のそれぞれの彩度が異なるという従来の問題が解消される。
【0037】
最後、両透明基板301と302の内面が対向し合うように両透明基板301と302を合せた上、液晶を注入し液晶層39を形成する。ここで、液晶表示器が完成される。
【0038】
図4は本発明の第二の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【0039】
図4において、半透過半反射型液晶表示器は、その画素のいずれかが二つの部分、即ち透過領域II及び反射領域Iからなる。液晶表示器の形成は下記の通りである。
【0040】
まず、一方の透明基板401の内側に順に薄膜トランジスタ41と透明絶縁層421が形成される。ここで、透明絶縁層421は、例えば酸化シリコン(SiOx)層や窒化シリコン(SiNx)層またはこれらを積層してなるものであって良い。
【0041】
次に、透過領域II及び反射領域Iの定義が行われる。反射領域Iの位置にて表面に突起があるパッド絶縁層422が形成される。パッド絶縁層422の材質は感光樹脂や光透過できる絶縁材料または光透過できない絶縁材料を用いて良い。
【0042】
例えば、パッド絶縁層422の材質が感光樹脂である。この場合、感光樹脂を透明基板に塗布した上、露光/現像により反射領域のパターン化が行われる。
【0043】
透過領域及び反射領域のパターン化が完了した後、透過電極44及び反射電極43の形成が行われる。ここで、透過領域IIの透過電極44はスパッタ法によりITOやIZOを成膜してなるものでありうる。反射領域Iの反射電極43はスパッタ法によりアルミニウム(Al)や銀(Ag)またはアルミネオジム(AlBd)合金を形成してなるものでありうる。
【0044】
次に、透過電極44と反射電極43を電気的に接続することにより画素電極が形成される。該画素電極は薄膜トランジスタ41と電気的に接続される。
【0045】
一方、他方の透明基板402の内側にカラーフィルタ45が形成された後、反射領域共通電極46及び透過領域共通電極47が形成される。
【0046】
該両電極の形成方法は、透明絶縁層48を堆積する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより透過領域IIに当たる透明絶縁層を除去する段階と、スパッタ法によりITOやIZOを成膜する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより両電極を分離(電気的遮断)する段階からなる。
【0047】
両電極が電気的に遮断されるため、液晶表示器を操作する際、反射領域共通電極46と透過領域共通電極47に対しそれぞれ異なる電圧を印加することにより、反射領域における印加電圧と透過領域における印加電圧が異なるように印加電圧を調節することができる。このため、T-VカーブとR-Vカーブが重なっていないため同一電圧が印加される反射領域と透過領域のそれぞれの彩度が異なるという従来の問題が解消される。
【0048】
最後、両透明基板401と402の内面が対向し合うように両透明基板401と402を合せた上、液晶を注入し液晶層49を形成する。ここで、液晶表示器が完成される。
【0049】
図5は本発明の第三の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【0050】
図5において、半透過半反射型液晶表示器は、その画素のいずれかが二つの部分、即ち透過領域II及び反射領域Iからなる。液晶表示器の形成は下記の通りである。
【0051】
まず、一方の透明基板501の内側に順に薄膜トランジスタ51と透明絶縁層521が形成される。ここで、透明絶縁層521は、例えば酸化シリコン(SiOx)層や窒化シリコン(SiNx)層またはこれらを積層してなるものであって良い。
【0052】
次に、透過領域II及び反射領域Iの定義が行われる。反射領域Iの位置にて表面に突起があるパッド絶縁層522が形成される。パッド絶縁層522の材質は感光樹脂や光透過できる絶縁材料または光透過できない絶縁材料を用いて良い。
【0053】
例えば、パッド絶縁層522の材質が感光樹脂である。この場合、感光樹脂を透明基板に塗布した上、露光/現像により反射領域のパターン化が行われる。
【0054】
透過領域及び反射領域のパターン化が完了した後、透過電極54及び反射電極53の形成が行われる。ここで、透過領域IIの透過電極54はスパッタ法によりITOやIZOを成膜してなるものでありうる。反射領域Iの反射電極53はスパッタ法によりアルミニウム(Al)や銀(Ag)またはアルミネオジム(AlBd)合金を形成してなるものでありうる。
【0055】
次に、透過電極54と反射電極53を電気的に接続することにより画素電極が形成される。該画素電極は薄膜トランジスタ51と電気的に接続される。
【0056】
一方、他方の透明基板502の内側にカラーフィルタ55が形成された後、反射領域共通電極56及び透過領域共通電極57が形成される。
【0057】
該両電極の形成方法は、スパッタ法によりインジウム錫酸化物(ITO)やインジウム亜鉛酸化物(IZO)を成膜する段階と、透明絶縁層58を堆積する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより透過領域IIに当たる透明絶縁層を除去する段階と、スパッタ法によりITOやIZOを成膜する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより両電極を分離(電気的遮断)する段階とからなる。
【0058】
両電極が電気的に遮断されるため、液晶表示器を操作する際、反射領域共通電極56と透過領域共通電極57に対しそれぞれ異なる電圧を印加することにより、反射領域における印加電圧と透過領域における印加電圧が異なるように印加電圧を調節することができる。このため、T-VカーブとR-Vカーブが重なっていないため同一電圧が印加される反射領域と透過領域のそれぞれの彩度が異なるという従来の問題が解消される。
【0059】
最後、両透明基板501と502の内面が対向し合うように両透明基板501と502を合せた上、液晶を注入し液晶層59を形成する。ここで、液晶表示器が完成される。
【0060】
図6は本発明の第四の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【0061】
図6において、半透過半反射型液晶表示器は、その画素のいずれかが二つの部分、即ち透過領域II及び反射領域Iからなる。液晶表示器の形成は下記の通りである。
【0062】
まず、一方の透明基板601の内側に順に薄膜トランジスタ61と透明絶縁層621が形成される。ここで、透明絶縁層621は、例えば酸化シリコン(SiOx)層や窒化シリコン(SiNx)層またはこれらを積層してなるものであって良い。
【0063】
次に、透過領域II及び反射領域Iの定義が行われる。反射領域Iの位置にて表面に突起があるパッド絶縁層622が形成される。パッド絶縁層622の材質は感光樹脂や光透過できる絶縁材料または光透過できない絶縁材料を用いて良い。
【0064】
例えば、パッド絶縁層622の材質が感光樹脂である。この場合、感光樹脂を透明基板に塗布した上、露光/現像により反射領域のパターン化が行われる。
【0065】
透過領域及び反射領域のパターン化が完了した後、透過電極64及び反射電極63の形成が行われる。ここで、透過領域IIの透過電極64はスパッタ法によりITOやIZOを成膜してなるものでありうる。反射領域Iの反射電極63はスパッタ法によりアルミニウム(Al)や銀(Ag)またはアルミネオジム(AlBd)合金を形成してなるものでありうる。
【0066】
次に、透過電極64と反射電極63を電気的に接続することにより画素電極が形成される。該画素電極は薄膜トランジスタ61と電気的に接続される。
【0067】
一方、他方の透明基板602の内側にカラーフィルタ65が形成された後、反射領域共通電極66及び透過領域共通電極67が形成される。
【0068】
該両電極の形成方法は、透明絶縁層68を堆積する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより反射領域Iに当たる透明絶縁層を除去する段階と、スパッタ法によりITOやIZOを成膜する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより両電極を分離(電気的遮断)する段階とからなる。
【0069】
両電極が電気的に遮断されるため、液晶表示器を操作する際、反射領域共通電極66と透過領域共通電極67に対しそれぞれ異なる電圧を印加することにより、反射領域における印加電圧と透過領域における印加電圧が異なるように印加電圧を調節することができる。このため、T-VカーブとR-Vカーブが重なっていないため同一電圧が印加される反射領域と透過領域のそれぞれの彩度が異なるという従来の問題が解消される。
【0070】
最後、両透明基板601と602の内面が対向し合うように両透明基板601と602を合せた上、液晶を注入し液晶層69を形成する。ここで、液晶表示器が完成される。
【0071】
図7は本発明の第五の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【0072】
図7において、半透過半反射型液晶表示器は、その画素のいずれかが二つの部分、即ち透過領域II及び反射領域Iからなる。液晶表示器の形成は下記の通りである。
【0073】
まず、一方の透明基板701の内側に順に薄膜トランジスタ71と透明絶縁層721が形成される。ここで、透明絶縁層721は、例えば酸化シリコン(SiOx)層や窒化シリコン(SiNx)層またはこれらを積層してなるものであって良い。
【0074】
次に、透過領域II及び反射領域Iの定義が行われる。反射領域Iの位置にて表面に突起があるパッド絶縁層722が形成される。パッド絶縁層722の材質は感光樹脂や光透過できる絶縁材料または光透過できない絶縁材料を用いて良い。
【0075】
例えば、パッド絶縁層722の材質が感光樹脂である。この場合、感光樹脂を透明基板に塗布した上、露光/現像により反射領域のパターン化が行われる。
【0076】
透過領域及び反射領域のパターン化が完了した後、透過電極74及び反射電極73の形成が行われる。ここで、透過領域IIの透過電極74はスパッタ法によりITOやIZOを成膜してなるものでありうる。反射領域Iの反射電極73はスパッタ法によりアルミニウム(Al)や銀(Ag)またはアルミネオジム(AlBd)合金を形成してなるものでありうる。
【0077】
次に、透過電極74と反射電極73を電気的に接続することにより画素電極が形成される。該画素電極は薄膜トランジスタ71と電気的に接続される。
【0078】
一方、他方の透明基板702の内側にカラーフィルタ75が形成された後、反射領域共通電極76及び透過領域共通電極77が形成される。
【0079】
該両電極の形成方法は、スパッタ法によりITOやIZOを成膜する段階と、透明絶縁層78を堆積する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより反射領域Iに当たる透明絶縁層を除去する段階と、スパッタ法によりITOやIZOを成膜する段階と、フォトリソグラフィ及びエッチングにより両電極を分離(電気的遮断)する段階とからなる。
【0080】
両電極が電気的に遮断されるため、液晶表示器を操作する際、反射領域共通電極76と透過領域共通電極77に対しそれぞれ異なる電圧を印加することにより、反射領域における印加電圧と透過領域における印加電圧が異なるように印加電圧を調節することができる。このため、T-VカーブとR-Vカーブが重なっていないため同一電圧が印加される反射領域と透過領域のそれぞれの彩度が異なるという従来の問題が解消される。
【0081】
最後、両透明基板701と702の内面が対向し合うように両透明基板701と702を合せた上、液晶を注入し液晶層79を形成する。ここで、液晶表示器が完成される。
【0082】
本発明は前記実施例の如く提示されているが、これは本発明を限定するものではなく、当業者は本発明の要旨と範囲内において変形と修正をすることができる。従って、本発明の権利範囲は特許請求の範囲に準じるものである。
【0083】
【発明の効果】
液晶表示器を操作する際、反射領域共通電極と透過領域共通電極に対しそれぞれ異なる電圧を印加することにより、反射領域における印加電圧と透過領域における印加電圧が異なるように印加電圧を調節することができる。このため、反射領域と透過領域の彩度が一致するようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1A】プラス型液晶が電圧を印加されていないときの液晶配列パターンを示す図。
【図1B】プラス型液晶が電圧V1を印加されているときの液晶配列パターンを示す図である。
【図2A】 T-Vカーブ及びR-Vカーブを示す図である。
【図2B】従来の半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【図3】本発明の第一の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【図4】本発明の第二の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【図5】本発明の第三の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【図6】本発明の第四の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【図7】本発明の第五の実施例に係る半透過半反射型液晶表示器を示す断面図である。
【符号の説明】
11 液晶層
12 画素電極
13 共通電極
14 液晶
21 透過電極
22 反射電極
23 共通電極
301,401,501,601,701 一方の透明基板
302,402,502,602,702 他方の透明基板
31,41,51,61,71 薄膜トランジスタ
321,421,521,621,721 透明絶縁層
322,422,522,622,722 パッド絶縁層
33,43,53,63,73 反射電極
34,44,54、64,74 透過電極
35,45,55,65,75 カラーフィルタ
36,46,56,66,76 反射領域共通電極
37,47,57,67,77 透過領域共通電極
48,58,68,78 透明絶縁層
39,49,59,69,79 液晶層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a transflective liquid crystal display in which the same saturation is applied to a transmissive region and a reflective region by applying different common voltages to the transmissive region and the reflective region. Relates to the device.
[0002]
[Prior art]
A color liquid crystal display panel is composed of two transparent substrates and a liquid crystal layer between the transparent substrates. In general, a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal often used in an existing TFT liquid crystal display is a nematic liquid crystal. This kind of liquid crystal molecules are arranged one-dimensionally and regularly in space. All nematic liquid crystal molecules are aligned so that the major axis of each molecule is in a predetermined direction and the molecules are parallel to each other. Nematic liquid crystals have a low viscosity and are easy to flow (this fluidity is mainly due to the fact that liquid crystal molecules can move more freely in the major axis direction).
[0003]
Since the liquid crystal molecules have an anisotropic configuration, the photoelectric effect differs depending on the direction. That is, there is anisotropy when viewed from the photoelectric characteristics (for example, dielectric coefficient and refractive index) of the liquid crystal molecules. Since the saturation in the display element is formed by changing the intensity of incident light using such characteristics, application as a display element becomes possible.
[0004]
For example, the dielectric coefficient ε (dielectric permittivity) is divided into two quantities in two directions, that is, ε‖ (a quantity parallel to the liquid crystal major axis direction) and ε⊥ (a quantity perpendicular to the liquid crystal direction). When ε‖> ε⊥, the liquid crystal is called a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (hereinafter simply referred to as a positive liquid crystal), and is used in the case of parallel matching. On the other hand, when ε‖ <ε⊥, the liquid crystal is called a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy and is used only in the case of vertical matching. When a voltage is applied, whether the dielectric anisotropy of liquid crystal molecules is positive or negative means that the rotation direction of the liquid crystal molecules is parallel or perpendicular to the voltage, that is, light is transmitted or not transmitted. It depends on how.
[0005]
At present, the TN type liquid crystal often used in TFT-LCD is a liquid crystal with a positive dielectric constant.
[0006]
FIG. 1A is a diagram showing a liquid crystal alignment pattern when no voltage is applied to the plus type liquid crystal, and FIG. 1B is a diagram showing a liquid crystal arrangement pattern when the voltage V1 is applied to the plus type liquid crystal.
[0007]
Referring to FIG. 1A, when no voltage is applied to the pixel electrode 12 and the common electrode 13 (or when the same voltage is applied to both electrodes and the voltage difference in the liquid crystal layer 11 is zero). That is, when no voltage is applied to the liquid crystal layer 11, the liquid crystals 14 are arranged in parallel along the horizontal direction. At this time, the light beam can be transmitted from the transmission region and the reflection region and emitted from the liquid crystal display.
[0008]
On the other hand, when a voltage is applied to the liquid crystal layer 11, the liquid crystal 14 cannot be aligned in parallel along the horizontal direction and starts to rotate in the vertical direction. When the applied voltage reaches a predetermined value V1, the liquid crystal 14 is perpendicular to the pixel electrode 12 and the common electrode 13, as shown in FIG. 1B. At this time, the light beam cannot be transmitted from the transmission region and the reflection region, and cannot be emitted from the liquid crystal display.
[0009]
FIG. 2A is a diagram showing a TV curve (showing the relationship between transmittance and applied voltage) and an RV curve (showing the relationship between reflectance and applied voltage).
[0010]
As shown in FIG. 2A, the greater the applied voltage, the smaller the transmittance or reflectance. Therefore, saturation can be formed by changing the intensity of incident light using such characteristics.
[0011]
FIG. 2B is a cross-sectional view showing a conventional transflective liquid crystal display device.
[0012]
In FIG. 2B, the pixel electrode is composed of a transmissive electrode 21 and a reflective electrode 22 that are electrically connected to each other, but the common electrode 23 is composed of a one-piece transparent conductor layer, and there is no division between the transmissive region and the reflective region. Accordingly, when a voltage is applied to the pixel electrode and the common electrode, the applied voltages in the transmissive region and the reflective region are the same.
[0013]
However, the TV curve and the RV curve are not the same (that is, they do not overlap, see FIG. 2A). For this reason, at the same applied voltage, the light transmittance and reflectance are different, and the saturation in the reflection region and the saturation in the transmission region are different. Therefore, in the liquid crystal display, the color of the reflection region and the color of the transmission region are different. Therefore, the saturation due to the transmission method and the saturation due to the reflection method are different (the transmission method is a method for performing display in the transmission region using the light source of the liquid crystal display itself, and the reflection method is a light source outside the liquid crystal display). Therefore, it refers to a method of performing display in the reflection area). For example, when the transmission method is used, the display device exhibits a blue color, whereas when the reflection method is used, the display device exhibits a light blue color. This creates a problem where the user has questions about the quality of the product.
[0014]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional transflective liquid crystal display, the common electrode is formed of a one-piece transparent conductor layer, and there is no division between the transmissive region and the reflective region. For this reason, when a voltage is applied to the pixel electrode and the common electrode, the applied voltages in the transmissive region and the reflective region are the same. However, since the TV curve and the RV curve are not the same, the saturation by the transmission method and the saturation by the reflection method are different in the display of the liquid crystal display.
[0015]
In order to solve the above problems, the object of the present invention is to match the saturation of the transmissive area and the saturation of the reflective area in a liquid crystal display by applying different common voltages to the transmissive area and the reflective area. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can be made to operate.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a liquid crystal display device of the present invention includes a first substrate having a plurality of transmission regions and a plurality of reflection regions, a transmission electrode positioned in the transmission region, and the transmission electrode positioned in the reflection region. A reflective electrode electrically connected to the plurality of first common electrodes provided at positions corresponding to the transmissive region, and provided at positions corresponding to the reflective region and electrically insulated from the first common electrode. a second substrate having a plurality of second common electrode which is the first Ri Do and a liquid crystal layer disposed between the substrate and the second substrate, the distance of the first substrate and the second common electrode, Different from the distance between the second common electrode and the second substrate.
In the liquid crystal display device, it is preferable that the first common electrode extends to an upper side corresponding to the reflection region.
[0018]
In the liquid crystal display device, it is preferable that the second common electrode extends to an upper side corresponding to the transmission region.
[0019]
In the liquid crystal display device, the first substrate and the second substrate may be transparent substrates.
[0020]
In the liquid crystal display device, the transmissive electrode may be a transparent conductor. The transparent conductor may be made of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).
[0021]
In the liquid crystal display device, the reflective electrode may be composed of a metal layer. Note that the material of the metal layer may be any of Al, Ag, and AlNd alloy.
[0022]
In the liquid crystal display device, the first common electrode and the second common electrode may be formed of a transparent conductor layer. The material of the transparent conductor layer may be indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).
[0024]
In the liquid crystal display device, a distance between the first common electrode and the second substrate may be shorter than a distance between the second common electrode and the second substrate.
[0025]
In the liquid crystal display device, a distance between the first common electrode and the second substrate may be longer than a distance between the second common electrode and the second substrate.
[0026]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The configuration and operation of an embodiment of the present invention that accomplishes the above-described object and eliminates the drawbacks of the prior art will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0027]
FIG. 3 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention.
[0028]
In FIG. 3, in the transflective liquid crystal display, one of the pixels has two parts, that is, a transmissive region II and a reflective region I. The formation of the liquid crystal display is as follows.
[0029]
First, a thin film transistor 31 and a transparent insulating layer 321 are sequentially formed inside one transparent substrate 301. Here, the transparent insulating layer 321 may be, for example, a silicon oxide (SiOx) layer, a silicon nitride (SiNx) layer, or a laminate thereof.
[0030]
Next, the transmissive region II and the reflective region I are defined. A pad insulating layer 322 having a bump on the surface is formed at the position of the reflective region I. As the material of the pad insulating layer 322, a photosensitive resin, an insulating material that transmits light, or an insulating material that does not transmit light may be used.
[0031]
For example, the material of the pad insulating layer 322 is a photosensitive resin. In this case, the photosensitive resin is applied to the transparent substrate, and the reflection area is patterned by exposure / development.
[0032]
After the patterning of the transmissive region and the reflective region is completed, the transmissive electrode 34 and the reflective electrode 33 are formed. Here, the transmissive electrode 34 in the transmissive region II may be formed by depositing indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) by a sputtering method. The reflective electrode 33 in the reflective region I can be formed by depositing aluminum (Al), silver (Ag), or an aluminum neodymium (AlBd) alloy by sputtering.
[0033]
Next, the pixel electrode is formed by electrically connecting the transmissive electrode 34 and the reflective electrode 33. The pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor 31.
[0034]
On the other hand, after the color filter 35 is formed inside the other transparent substrate 30 2, the reflective region common electrode 36 and the transmissive region common electrode 37 are formed.
[0035]
The method for forming both electrodes includes a step of forming a film of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) by a sputtering method, and a step of separating (electrically blocking) both electrodes by photolithography and etching. Composed.
[0036]
Since both electrodes are electrically cut off, when operating the liquid crystal display, different voltages are applied to the reflective region common electrode 36 and the transmissive region common electrode 37, respectively, so that the applied voltage in the reflective region and the transmissive region are The applied voltage can be adjusted so that the applied voltage is different. Therefore, since the TV curve and the RV curve do not overlap, the conventional problem that the saturation of the reflection area and the transmission area to which the same voltage is applied is different is solved.
[0037]
Finally, the transparent substrates 301 and 302 are aligned so that the inner surfaces of the transparent substrates 301 and 302 face each other, and liquid crystal is injected to form the liquid crystal layer 39. Here, the liquid crystal display is completed.
[0038]
FIG. 4 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.
[0039]
In FIG. 4, in the transflective liquid crystal display, one of the pixels has two parts, that is, a transmissive region II and a reflective region I. The formation of the liquid crystal display is as follows.
[0040]
First, the thin film transistor 41 and the transparent insulating layer 421 are sequentially formed inside one transparent substrate 401. Here, the transparent insulating layer 421 may be, for example, a silicon oxide (SiOx) layer, a silicon nitride (SiNx) layer, or a laminate thereof.
[0041]
Next, the transmissive region II and the reflective region I are defined. A pad insulating layer 422 having a protrusion on the surface is formed at the position of the reflective region I. As the material of the pad insulating layer 422, a photosensitive resin, an insulating material that transmits light, or an insulating material that does not transmit light may be used.
[0042]
For example, the material of the pad insulating layer 422 is a photosensitive resin. In this case, the photosensitive resin is applied to the transparent substrate, and the reflection area is patterned by exposure / development.
[0043]
After the patterning of the transmissive region and the reflective region is completed, the transmissive electrode 44 and the reflective electrode 43 are formed. Here, the transmissive electrode 44 in the transmissive region II may be formed by depositing ITO or IZO by sputtering. The reflective electrode 43 in the reflective region I can be formed by forming aluminum (Al), silver (Ag), or an aluminum neodymium (AlBd) alloy by sputtering.
[0044]
Next, a pixel electrode is formed by electrically connecting the transmissive electrode 44 and the reflective electrode 43. The pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor 41.
[0045]
On the other hand, after the color filter 45 is formed inside the other transparent substrate 402, the reflective region common electrode 46 and the transmissive region common electrode 47 are formed.
[0046]
The method of forming the electrodes includes a step of depositing a transparent insulating layer 48, a step of removing the transparent insulating layer corresponding to the transmission region II by photolithography and etching, a step of forming ITO or IZO by sputtering, It consists of a step of separating (electrically blocking) both electrodes by lithography and etching.
[0047]
Since both electrodes are electrically cut off, when operating the liquid crystal display, by applying different voltages to the reflective region common electrode 46 and the transmissive region common electrode 47, the applied voltage in the reflective region and the transmissive region are applied. The applied voltage can be adjusted so that the applied voltage is different. For this reason, since the TV curve and the RV curve do not overlap, the conventional problem that the saturation of the reflection region and the transmission region to which the same voltage is applied is different is solved.
[0048]
Finally, the transparent substrates 401 and 402 are aligned so that the inner surfaces of the transparent substrates 401 and 402 face each other, and liquid crystal is injected to form a liquid crystal layer 49. Here, the liquid crystal display is completed.
[0049]
FIG. 5 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.
[0050]
In FIG. 5, in the transflective liquid crystal display, one of the pixels has two parts, that is, a transmissive region II and a reflective region I. The formation of the liquid crystal display is as follows.
[0051]
First, a thin film transistor 51 and a transparent insulating layer 521 are sequentially formed inside one transparent substrate 501. Here, the transparent insulating layer 521 may be, for example, a silicon oxide (SiOx) layer, a silicon nitride (SiNx) layer, or a laminate thereof.
[0052]
Next, the transmissive region II and the reflective region I are defined. A pad insulating layer 522 having a protrusion on the surface is formed at the position of the reflective region I. As the material of the pad insulating layer 522, a photosensitive resin, an insulating material that transmits light, or an insulating material that does not transmit light may be used.
[0053]
For example, the material of the pad insulating layer 522 is a photosensitive resin. In this case, the photosensitive resin is applied to the transparent substrate, and the reflection area is patterned by exposure / development.
[0054]
After the patterning of the transmissive region and the reflective region is completed, the transmissive electrode 54 and the reflective electrode 53 are formed. Here, the transmissive electrode 54 in the transmissive region II may be formed by depositing ITO or IZO by sputtering. The reflective electrode 53 in the reflective region I can be formed by forming aluminum (Al), silver (Ag), or an aluminum neodymium (AlBd) alloy by sputtering.
[0055]
Next, the pixel electrode is formed by electrically connecting the transmissive electrode 54 and the reflective electrode 53. The pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor 51.
[0056]
On the other hand, after the color filter 55 is formed inside the other transparent substrate 502, the reflective region common electrode 56 and the transmissive region common electrode 57 are formed.
[0057]
The two electrodes are formed by sputtering, forming a film of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), depositing a transparent insulating layer 58, and transmitting regions by photolithography and etching. It consists of a step of removing the transparent insulating layer corresponding to II, a step of depositing ITO or IZO by sputtering, and a step of separating (electrically shutting off) both electrodes by photolithography and etching.
[0058]
Since both electrodes are electrically cut off, when operating the liquid crystal display, by applying different voltages to the reflective region common electrode 56 and the transmissive region common electrode 57, the applied voltage in the reflective region and the transmissive region are applied. The applied voltage can be adjusted so that the applied voltage is different. For this reason, since the TV curve and the RV curve do not overlap, the conventional problem that the saturation of the reflection region and the transmission region to which the same voltage is applied is different is solved.
[0059]
Finally, the transparent substrates 501 and 502 are aligned so that the inner surfaces of the transparent substrates 501 and 502 face each other, and liquid crystal is injected to form a liquid crystal layer 59. Here, the liquid crystal display is completed.
[0060]
FIG. 6 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.
[0061]
In FIG. 6, in the transflective liquid crystal display, one of the pixels has two parts, that is, a transmissive region II and a reflective region I. The formation of the liquid crystal display is as follows.
[0062]
First, a thin film transistor 61 and a transparent insulating layer 621 are sequentially formed inside one transparent substrate 601. Here, the transparent insulating layer 621 may be, for example, a silicon oxide (SiOx) layer, a silicon nitride (SiNx) layer, or a laminate thereof.
[0063]
Next, the transmissive region II and the reflective region I are defined. A pad insulating layer 622 having a protrusion on the surface is formed at the position of the reflective region I. As the material of the pad insulating layer 622, a photosensitive resin, an insulating material that transmits light, or an insulating material that does not transmit light may be used.
[0064]
For example, the material of the pad insulating layer 622 is a photosensitive resin. In this case, the photosensitive resin is applied to the transparent substrate, and the reflection area is patterned by exposure / development.
[0065]
After the patterning of the transmissive region and the reflective region is completed, the transmissive electrode 64 and the reflective electrode 63 are formed. Here, the transmissive electrode 64 in the transmissive region II may be formed by depositing ITO or IZO by sputtering. The reflective electrode 63 in the reflective region I may be formed by forming aluminum (Al), silver (Ag), or an aluminum neodymium (AlBd) alloy by sputtering.
[0066]
Next, the pixel electrode is formed by electrically connecting the transmissive electrode 64 and the reflective electrode 63. The pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor 61.
[0067]
On the other hand, after the color filter 65 is formed inside the other transparent substrate 602, the reflective region common electrode 66 and the transmissive region common electrode 67 are formed.
[0068]
The method of forming the electrodes includes a step of depositing a transparent insulating layer 68, a step of removing the transparent insulating layer corresponding to the reflective region I by photolithography and etching, a step of forming ITO or IZO by sputtering, And separating (electrically shutting off) both electrodes by lithography and etching.
[0069]
Since both electrodes are electrically cut off, when operating the liquid crystal display, by applying different voltages to the reflective region common electrode 66 and the transmissive region common electrode 67, the applied voltage in the reflective region and in the transmissive region are applied. The applied voltage can be adjusted so that the applied voltage is different. For this reason, since the TV curve and the RV curve do not overlap, the conventional problem that the saturation of the reflection region and the transmission region to which the same voltage is applied is different is solved.
[0070]
Finally, the transparent substrates 601 and 602 are aligned so that the inner surfaces of the transparent substrates 601 and 602 face each other, and liquid crystal is injected to form a liquid crystal layer 69. Here, the liquid crystal display is completed.
[0071]
FIG. 7 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a fifth embodiment of the present invention.
[0072]
In FIG. 7, in the transflective liquid crystal display, one of the pixels has two parts, that is, a transmissive region II and a reflective region I. The formation of the liquid crystal display is as follows.
[0073]
First, a thin film transistor 71 and a transparent insulating layer 721 are sequentially formed inside one transparent substrate 701. Here, the transparent insulating layer 721 may be, for example, a silicon oxide (SiOx) layer, a silicon nitride (SiNx) layer, or a laminate of these.
[0074]
Next, the transmissive region II and the reflective region I are defined. A pad insulating layer 722 having a protrusion on the surface is formed at the position of the reflective region I. As the material of the pad insulating layer 722, a photosensitive resin, an insulating material that transmits light, or an insulating material that does not transmit light may be used.
[0075]
For example, the material of the pad insulating layer 722 is a photosensitive resin. In this case, the photosensitive resin is applied to the transparent substrate, and the reflection area is patterned by exposure / development.
[0076]
After the patterning of the transmissive region and the reflective region is completed, the transmissive electrode 74 and the reflective electrode 73 are formed. Here, the transmissive electrode 74 in the transmissive region II may be formed by depositing ITO or IZO by sputtering. The reflective electrode 73 in the reflective region I can be formed by forming aluminum (Al), silver (Ag), or an aluminum neodymium (AlBd) alloy by sputtering.
[0077]
Next, a pixel electrode is formed by electrically connecting the transmissive electrode 74 and the reflective electrode 73. The pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor 71.
[0078]
On the other hand, after the color filter 75 is formed inside the other transparent substrate 702, the reflective region common electrode 76 and the transmissive region common electrode 77 are formed.
[0079]
The method for forming the electrodes includes a step of forming ITO or IZO by sputtering, a step of depositing a transparent insulating layer 78, a step of removing the transparent insulating layer corresponding to the reflective region I by photolithography and etching, and sputtering. The method includes a step of depositing ITO or IZO by a method and a step of separating (electrically blocking) both electrodes by photolithography and etching.
[0080]
Since both electrodes are electrically cut off, when operating the liquid crystal display, different voltages are applied to the reflective region common electrode 76 and the transmissive region common electrode 77, respectively, so that the applied voltage in the reflective region and the transmissive region are The applied voltage can be adjusted so that the applied voltage is different. For this reason, since the TV curve and the RV curve do not overlap, the conventional problem that the saturation of the reflection region and the transmission region to which the same voltage is applied is different is solved.
[0081]
Finally, the transparent substrates 701 and 702 are aligned so that the inner surfaces of the transparent substrates 701 and 702 face each other, and liquid crystal is injected to form a liquid crystal layer 79. Here, the liquid crystal display is completed.
[0082]
Although the present invention has been presented as in the above embodiments, this is not intended to limit the present invention, and those skilled in the art can make variations and modifications within the spirit and scope of the present invention. Therefore, the scope of right of the present invention is equivalent to the scope of claims.
[0083]
【The invention's effect】
When operating the liquid crystal display, by applying different voltages to the reflective region common electrode and the transmissive region common electrode, the applied voltage can be adjusted so that the applied voltage in the reflective region is different from the applied voltage in the transmissive region. it can. For this reason, the saturation of the reflection area and the transmission area comes to coincide.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1A is a diagram showing a liquid crystal alignment pattern when a voltage is not applied to a plus-type liquid crystal.
FIG. 1B is a diagram illustrating a liquid crystal alignment pattern when a voltage V1 is applied to a plus-type liquid crystal.
FIG. 2A is a diagram showing a TV curve and an RV curve.
FIG. 2B is a cross-sectional view showing a conventional transflective liquid crystal display.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a sectional view showing a transflective liquid crystal display according to a fifth embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Liquid crystal layer 12 Pixel electrode 13 Common electrode 14 Liquid crystal 21 Transmission electrode 22 Reflection electrode 23 Common electrode 301,401,501,601,701 One transparent substrate 302,402,502,602,702 The other transparent substrate 31,41, 51, 61, 71 Thin film transistor 321, 421, 521, 621, 721 Transparent insulation layer 322, 422, 522, 622, 722 Pad insulation layer 33, 43, 53, 63, 73 Reflective electrode 34, 44, 54, 64, 74 Transmission electrode 35, 45, 55, 65, 75 Color filter 36, 46, 56, 66, 76 Reflection area common electrode 37, 47, 57, 67, 77 Transmission area common electrode 48, 58, 68, 78 Transparent insulating layer 39 , 49, 59, 69, 79 Liquid crystal layer

Claims (7)

複数の透過領域及び複数の反射領域を有する第1基板と、
前記透過領域に位置する透過電極と、
前記反射領域に位置し前記透過電極と電気的に接続する反射電極と、
前記透過領域に対応する位置に設けられた複数の第1共通電極、及び前記第1共通電極と電気的に絶縁され且つ前記反射領域に対応する位置に設けられた複数の第2共通電極を有する第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板の間に位置する液晶層とからなり、
前記第1共通電極と前記第2基板の距離は、前記第2共通電極と前記第2基板の距離と異なることを特徴とする
液晶表示装置。
A first substrate having a plurality of transmissive regions and a plurality of reflective regions;
A transmissive electrode located in the transmissive region;
A reflective electrode located in the reflective region and electrically connected to the transmissive electrode;
A plurality of first common electrodes provided at positions corresponding to the transmission region; and a plurality of second common electrodes provided at positions corresponding to the reflection region and electrically insulated from the first common electrode. A second substrate;
Ri Do and a liquid crystal layer located between the first substrate and the second substrate,
The distance between the first common electrode and the second substrate is different from the distance between the second common electrode and the second substrate .
前記第1共通電極は前記反射領域に当たる上方までに延在することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。  2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first common electrode extends to an upper side corresponding to the reflection region. 前記第2共通電極は前記透過領域に当たる上方までに延在することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second common electrode extends up to an upper portion corresponding to the transmission region. 前記第1基板と前記第2基板は透明基板であることを特徴とする請求項1、2または3に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are transparent substrates. 前記反射電極が金属層からなり、該金属層の材質がAl、Ag及びAlNd合金のうちいずれかであることを特徴とする請求項1、2または3に記載の液晶表示装置。  4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflective electrode is made of a metal layer, and the material of the metal layer is any one of Al, Ag, and AlNd alloy. 前記第1共通電極と前記第2基板の距離は前記第2共通電極と前記第2基板の距離より短いことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a distance between the first common electrode and the second substrate is shorter than a distance between the second common electrode and the second substrate. 前記第1共通電極と前記第2基板の距離は前記第2共通電極と前記第2基板の距離より長いことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a distance between the first common electrode and the second substrate is longer than a distance between the second common electrode and the second substrate.
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