JP3782702B2 - Ghosting and flare prevention device for surveying instruments - Google Patents

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JP3782702B2
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Description

【0001】
【技術分野】
本発明は、視準望遠鏡を有する測量機に関する。
【0002】
【従来技術及びその問題点】
トータルステーション等の測量機は、距離と角度の測定機能を有し、距離計は一般に光波距離計(EDM)が採用されている。光波距離計は、視準望遠鏡を介して測距光を送光する送光系と、測定対象物からの反射光を受光する受光系とを有し、この受光系によって受光される送光と反射光の位相差及び内部参照光での初期位相、又は送光と反射光の時間差から距離を演算する。
【0003】
このような光波距離計を備えた測量機において、光波距離計の特定波長の測距光を分離する波長選択手段である分岐光学系としてダイクロイックプリズムを用いた測量機が知られている。ダイクロイックプリズムは、視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズの間に配置されていて、発光素子からの特定波長の測距光は、このダイクロイックプリズムの波長選択コート面で反射され、対物レンズから送光される。そして測定対象物で反射した測距光は、ダイクロイックプリズムの波長選択コート面で選択的に反射され、受光素子に導かれる。
【0004】
一方、測量機においても視準望遠鏡のAF化が進行している。AF装置として広く用いられている位相差方式のAF装置は、視準望遠鏡の対物レンズ上に設定された異なる一対の瞳範囲を通過した光束により結像された一対の像の相関関係(位相差)からピント位置を検出し、この検出結果に基づき視準望遠鏡を合焦させるものである。
【0005】
又、AFの一対の瞳範囲と視準望遠鏡光路を分割するため、本出願人は、ポロプリズムのいずれかの反射面を半透過面とする装置を提案した(特開平10‐73772号公報)。そのポロプリズムの反射面でも、第一反射面で分割するのが効果的である。これについては、本出願人が特願2000‐138313号で述べている。
【0006】
しかし、これらの視準望遠鏡を備えた測量機、特にポロプリズムを備えた測量機では、視野外光束が接眼レンズを介して観察者の目に入るゴ−ストやフレアを生じることがあった。これらのゴーストやフレアの原因となる視野外光束は、半透過面を介して焦点検出装置に入射すると、焦点検出性能(AF性能)を落としてしまう。
【0007】
【発明の目的】
本発明は、視準望遠鏡の性能及び焦点検出性能をともに十分発揮できる測量機のゴースト・フレア防止装置を得ることを目的とする。
【0008】
【発明の概要】
本発明は、焦点検出手段の有無を問題としない態様では、測定対象物を視準する視準望遠鏡;及びこの視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間に位置し、対物レンズによる物体像の上下左右を反転する正立光学系;を有する測量機において、正立光学系の入射面から出射面に至る光路中に、該正立光学系に入射する視野外光束が接眼レンズに達するのを防止する遮光手段を設けたこと;遮光手段は、正立光学系の入射面に形成したマスクであること;及びマスクの透光部形状は、正立光学系の入射面への入射光軸に関し非対称であって、該入射面と第一反射面との間の光路長を考えたとき、入射光軸から同光路長が短い側への透光部長さが同光路長が長い側への透光部長さより短い形状をしていること;を特徴としている。
【0009】
また本発明は、別の態様によれば、測定対象物を視準する視準望遠鏡;及びこの視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間に位置し、対物レンズによる物体像の上下左右を反転する正立光学系;を有する測量機において、正立光学系の入射面から第一反射面に至る光路中に、該正立光学系に入射する視野外光束が接眼レンズに達するのを防止する遮光手段を設けたこと;正立光学系の第一反射面には、該反射面に入射した光束を分割して、視準望遠鏡の焦点状態を検出する焦点検出手段に与える半透過面が形成されていること;を特徴としている。この態様において、遮光手段は正立光学系の入射面に形成したマスクであり、該マスクの透光部形状は、正立光学系の入射面への入射光軸に関し非対称であって、該入射面と第一反射面との間の光路長を考えたとき、入射光軸から同光路長が短い側への透光部長さが同光路長が長い側への透光部長さより短い形状をしていることが好ましい。
【0010】
あるいは、正立光学系を形成する複数の接合プリズムの接合面の隅部に、切欠、面取りまたはテーパ面を形成して遮光手段とすることもできる。また、正立光学系の入射面を対物レンズ側に延長した変形正立光学系として構成し、第一反射面で反射した視野外光束が第二反射面に入射することなく、該延長部分から外部に出射する、又は反射・拡散・吸収するようにすることで遮光手段とすることもできる。
【0011】
以上は、焦点検出手段の有無を問題としない態様であるが、焦点検出手段を設ける場合、正立光学系の第一反射面には、該反射面に入射した光束を分割して、視準望遠鏡の焦点状態を検出する焦点検出手段に与える半透過面を形成することができる。
【0012】
本発明は、さらに別の態様では、測定対象物を視準する視準望遠鏡;この視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間に配置した半透過面;及びこの半透過面を透過した光束を受けて上記視準望遠鏡の焦点状態を検出する焦点検出手段;を有する測量機において、視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間には、対物レンズによる物体像の上下左右を反転する正立光学系が配置されていること;正立光学系の第一反射面と第二反射面のいずれかに光束分割プリズムが接着されていること;半透過面は、正立光学系のいずれかの反射面または光束分割プリズムに設けられていること;及び光束分割プリズムの出射面に、半透過面に入射する視野外光束が焦点検出手段に達するのを防止する遮光手段を設けたこと;を特徴としている。
【0014】
遮光手段はマスクから構成することができる。
【0016】
焦点検出手段は、視準望遠鏡の対物レンズ上に設定された異なる一対の瞳範囲及び上記半透過面を通過した光束により結像された一対の像の相関関係からピント位置を検出する位相差方式の焦点検出手段、あるいは、半透過面を通過した光束により結像された像のコントラストからピント位置を検出するコントラスト方式の焦点検出手段のいずれを用いてもよい。位相差方式、コントラスト方式ともに、具体的な構成はよく知られている。
【0017】
正立光学系としては、例えば、ポロプリズムまたはシュミットプリズムを用いることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
図1ないし図5について、本発明の対象とする視準望遠鏡10を有する測量機(トータルステーション)の一例を説明する。本測量機は、AF機能を有するタイプである。視準望遠鏡10は、図1及び図2に示すように、物体側(前方)から順に、対物レンズ11、焦点調節レンズ12、正立光学系(ポロプリズム)13、焦点板14、及び接眼レンズ15を備えている。焦点板14上には、その中心に、視準の際の目印となる十字線ヘアライン(視準線)16(図5、図7参照)が描かれている。焦点調節レンズ12は光軸方向に可動であり、測定対象物(測定点に置いたコーナーキューブ)17の距離に応じて位置調節することにより、その像を正しく焦点板14の対物レンズ11側の表面に結像させる。観察者は、この焦点板14上の像を接眼レンズ15を介して拡大観察する。
【0019】
視準望遠鏡10の対物レンズ11と焦点調節レンズ12との間には、図示しない固定手段によって、光波距離計20の構成要素であるダイクロイックプリズム21が固定されて配置されている。ダイクロイックプリズム21は、視準望遠鏡10の光軸Xと直交する面に対して傾斜して位置する、特定の波長領域の光のみを選択的に反射する波長選択コート面21aを有している。図1に示す波長選択コート面21aは、光軸Xに対して45゜をなすように形成されている。
【0020】
ダイクロイックプリズム21の図1の上方には、光波距離計20の発光素子(LD)23が位置している。この発光素子23は、ダイクロイックプリズム21の波長選択コート面21aによる選択波長領域内の特定波長の測距光を発する。この測距光は、波長選択コート面21aで反射し対物レンズ11を介して測定対象物17に投光される。測定対象物17で反射し対物レンズ11を透過した測距光は再び波長選択コート面21aで反射する。このとき、波長選択コート面21aで反射しなかった光束(測距光以外の光束)はダイクロイックプリズム21を透過する。
【0021】
発光素子23とダイクロイックプリズム21の間の測距光路上には、測距光中心に直交する面Fで分割した片側のみに位置させて、反射面22aを有する直角プリズム22が配置されている。従って、発光素子23が発した光束のうち、直角プリズム22と干渉しない光束はそのままダイクロイックプリズム21の波長選択コート面21aに入射する。そして該波長選択コート面21aに入射し反射した光束は、測定対象物17で反射して戻り、波長選択コート面21aで反射した後、直角プリズム22の反射面22aで反射する。この直角プリズム22の反射面22aで反射した光束は受光素子31に入射する。
【0022】
発光素子23と直角プリズム22の間の測距光路上には、切換プリズム28と送光用NDフィルタ29が配置されている。切換プリズム28は、図3に示すように、軸28aを中心に発光素子23の光路内に進出する状態と退避する状態との間を回動可能であり、進出状態では発光素子23からの光を反射ミラー24aに与え、退避状態では発光素子23からの測距光を直角プリズム22方向に与え、該プリズム22で遮られない略半分の光束をダイクロイックプリズム21に与える。反射ミラー24aに与えられた測距光は、反射ミラー24bを介して受光素子31に導かれる。送光用NDフィルタ29は、測定対象物17に投光する測距光の光量調節用である。
【0023】
受光素子31と直角プリズム22との間の測距光路上には、受光用NDフィルタ32及びバンドパスフィルタ34が順に配置されている。受光素子31は、演算制御回路40に接続され、演算制御回路40は、切換プリズム28のアクチュエータ41と演算結果表示器42に接続されている。
【0024】
以上の光波距離計20は、周知のように、演算制御回路40がアクチュエータ41を介して切換プリズム28を駆動し、発光素子23からの測距光を直角プリズム22(ダイクロイックプリズム21)に与える状態と、反射ミラー24aに与える状態とを作り出す。ダイクロイックプリズム21に与えられた測距光は、上述のように、ダイクロイックプリズム21の波長選択コート面21a、対物レンズ11を介して測定対象物17に投光され、その反射光が対物レンズ11、ダイクロイックプリズム21の波長選択コート面21a、直角プリズム22の反射面22aを介して受光素子31に入射する。そして、演算制御回路40が、この測定対象物17で反射して受光素子31に入射する測距光と、切換プリズム28を介して反射ミラー24a、24bを介して受光素子31に与えられた内部参照光との位相差または時間差を検出し、測定対象物17迄の距離を演算して、演算結果表示器42に表示する。送光と反射光の位相差及び内部参照光での初期位相、又は送光と反射光の時間差による測距演算は周知である。
【0025】
以上の本測量機は、ポロプリズム13の反射面に関連させて、AF検出ユニット(焦点検出手段)50を備えている。ポロプリズム13は、図5に示すように、光束の進行方向に順に、入射光軸13Xと直交する入射面13a、入射面13aから入射した光束を直角に下方に曲げる第一反射面13b、第一反射面13bで反射した光束を第三反射面13dの方向に曲げる第二反射面13c、第二反射面13cで反射した光束を再び上方に直角に曲げる第三反射面13d、第三反射面13dで反射した光束を直角に曲げ入射光軸13Xと平行な出射光軸13Y上に出射する第四反射面13e、及び第四反射面13eで反射した光束を出射する、出射光軸13Yと直交する出射面13fを備えている。接眼レンズ15は、出射光軸13Y上に位置している。
【0026】
そして、図示例では、ポロプリズム13から焦点検出のための光路を分割するために、第一反射面(半透過面)13bに、半透過コートが施され、その半透過コート上に光路分割直角プリズム18が接着されている。光路分割直角プリズム18は、第一反射面13bと接着される入射面18a、この入射面18aと直交し、入射面18aから入射した光束を上方に向けて反射する反射面18b、及び反射面18bで反射した光束を出射する出射面18cを備えている。第一反射面13bと入射面18aを透過した光束が、反射面18b、出射面18cを介してAF検出ユニット50に与えられ、該第一反射面13bで反射した光束が上記第二反射面13c〜出射面13fを経て接眼レンズ15に与えられる。
【0027】
このAF検出ユニット50は、焦点板14と光学的に等価な焦点検出面51の焦点状態、すなわち、前ピン、後ピンなどのデフォーカス量を検出するもので、図4にその概念図を示す。焦点検出面51上に結像する対物レンズ11による物体像は、集光レンズ52及び基線長だけ離して配置した一対のセパレータレンズ(結像レンズ)53によって分割され、この分割された一対の像は一対のCCDラインセンサ54上に再結像する。ラインセンサ54は多数の光電変換素子を有し、各光電変換素子が、受光した物体像を光電変換して光電変換した電荷を積分(蓄積)し、積分した電荷をAFセンサデータとして出力し、演算制御回路40に入力する。演算制御回路40は、一対のAFセンサデータに基づいて、所定のデフォーカス演算によってデフォーカス量を算出し、モータ19を介して、焦点調節レンズ12を合焦位置に移動させる。このようなデフォーカス演算は当業者周知である。演算制御回路40には、AF開始スイッチ44と測距開始スイッチ45が接続されている。
【0028】
以上のAF検出ユニット50は、各ラインセンサ54に結像する一対の像を基準に考えると、対物レンズ11上において異なる一対の瞳範囲を通過した光束11A、11Bによりラインセンサ54上に結像された一対の像でピント位置を検出することになる。瞳範囲の形状は、各セパレータレンズ53の近傍にそれぞれ配置するマスク55によって設定することができる。
【0029】
図6、図7は、例えば以上の構成を有する測量機における視野外光束の問題点を説明する図である。すなわち、対物レンズ11の最大有効径の近傍から視野外光束60が図6のように入射し、ポロプリズム13の入射面13aの隅部に特定の角度で入射すると、同視野外光束60がポロプリズム13の半透過面(第一反射面13b)で反射して、入射面13aに戻り、同入射面13aで全反射して焦点板14の中心付近に像を結ぶ状態が生じうる。この像は、接眼レンズ15による対象物の観察視野内に観察とは関係のないゴーストとして表れ、観察されてしまう。特に視野外光束60が強い光であると、ゴーストとして観察されやすい。なお、図5には、比較のため、対物レンズ11の光軸上を通過する中心光63がポロプリズム13に入射する様子を描いている。
【0030】
第一反射面13bでの光束分割が無い状態(第一反射面13bに半透過コートを形成しない状態)では、同反射面での反射率は、全反射角以下の入射角度であるため5%程度であり、一般的に観察に与える悪影響は少ない。すなわち、第一反射面13bに半透過コートを施さない場合、視野内光は第一反射面13bに臨界角(BK7の臨界角は約41度)以上で入射するため全反射するが、視野外光束は臨界角以下で入射するためほとんど透過してしまい視野内への影響は比較的小さい。しかし、半透過コートを施すと、臨界角以下でも反射率は高くなってしまう。有効径に対してかなり余裕のあるサイズのポロプリズムであれば、視野外光束は側面で反射しても視野内に入ることはないが、測量機には運搬性が求められており、そのため小形軽量は装置として必須条件となっている。よってポロプリズムのサイズは小さくなる傾向にあり、そうした場合視野外光束のうち、ある方向の光は第一反射面で反射後、第1入射面で全反射して視野内に結像する。結果として2つの像が重なることにより視準望遠鏡の性能(分解能等)を低下させてしまう。さらに、視野外光束60は、第一反射面13bで一部が透過してAF検出ユニット50にも達するため、AFの検出精度にも悪影響を与えてしまう。
【0031】
図8は、別方向の視野外光束61の影響を説明する図である。図5とは、上下対称方向から入射する視野外光束61は、ポロプリズム13の側壁13gで反射を繰り返すため、視野内への影響は比較的小さいが、存在しないことが好ましい。ポロプリズム13の側壁13g(入射面13aないし出射面13f以外の面)は、摺り面として形成されている。
【0032】
以上は、ポロプリズム13の第一反射面13bを焦点検出用の半透過面とした場合の具体的な問題点であるが、半透過面を形成しない場合(測量機にAF機能を与えない場合)にも、視野外光束がゴーストの原因となることがある。また、第一反射面13b以外の反射面に光束分割コ−トを設けた場合においても、視野外に強い光を放つ物体があった場合は観察視野に悪影響を及ぼす。
【0033】
本実施形態は、以上のようなゴーストを除く装置を提案するもので、基本的には、ポロプリズム13の入射面13aから出射面13fに至る光路中に、該ポロプリズム13に入射する視野外光束が接眼レンズ15に達するのを防止する遮光手段、あるいは、第一反射面13bからAF検出ユニット50に至る光路中に、該第一反射面13bに入射する視野外光束がAF検出ユニット50に達するのを防止する遮光手段を設けている。
【0034】
図9ないし図21は、ポロプリズム13の第一反射面13bに半透過面を形成する場合(第一反射面13bに光路分割直角プリズム18を接着する場合)の実施形態である。まず、図9、図10は、ポロプリズム13の入射面13a(の前)に、マスク(絞)70を配置して、視野外光束60が入射しないようにした実施形態を示している。マスク70は、透光部(開口部)70a以外から光の入射を許さない。入射面13aの隅部に入射する視野外光束60は、入射面13aから第一反射面13bまでの光路長が短いほど、観察に大きい悪影響を与える。そこで、この実施形態では、透光部70aの形状を入射光軸13Xに関して非対称とし、基本的に円形をなす透光部70aの上方に、透光部70aを非円形とする遮光部70bを設けている。この遮光部70bは、入射面13aと第一反射面13bとの間の光路長を考えたとき、入射光軸13Xから同光路長が短い側への透光部70aの径方向長さR1を、同光路長が長い側への透光部70aの径方向長さR2より短くしている。つまり、入射光軸13Xを通る図10の水平線の上方部分の透光部70aの面積は、同下方の透光部70aの面積より小さい。
【0035】
図11及び図12は、第二の実施形態を示している。この実施形態では、ポロプリズム13を、入射面13aと第一反射面13bを有する第一プリズム13‐1、第二反射面13cと第三反射面13dを有する第二プリズム13‐2、及び第四反射面13eと出射面13fを有する第三プリズム13‐3の3つの接合プリズムに分割し、この第一プリズム13‐1と第二プリズム13‐2の接合面の隅部に、視野外光束60の光路に位置させて、切欠81を形成している。この切欠81は、図11、図12に示すように、第一プリズム13‐1に形成しても、図13に示すように、第二プリズム13‐2に形成してもよい。勿論、両方に形成することもできる。
【0036】
図14及び図15は、第三の実施形態を示している。この実施形態は、図11ないし図13の実施形態の切欠81に代えて、面取り82を施したものである。この面取り82は、図14、図15に示すように、第一プリズム13‐1に形成しても、図16に示すように、第二プリズム13‐2に形成してもよい。勿論、両方に形成することもできる。
【0037】
これらの実施形態によれば、切欠81または面取り82に達した視野外光束60は、それ以後、ポロプリズム13内を進行することがなく、従って、接眼レンズ15あるいはAF検出ユニット50へ到達することがない。切欠81及び面取り82には、無反射塗装を施すことが好ましい。
【0038】
図17、図18は、第四の実施形態を示している。この実施形態では、上述の実施形態の第一プリズム13‐1を、その入射面13aが焦点調節レンズ12側に延長された変形タイプとし、第一反射面13bで反射した視野外光束60が第二反射面13cに入射することなく、該延長部分から外部に出射するように形成している。また、延長部分をスリ面、無反射塗装として反射・拡散・吸収してもよい。すなわち、第一プリズム13‐1は、その入射面13aと第一反射面13bとが接続せず、両者の間に距離dが確保された分だけ、焦点調節レンズ12側に延長されている。
【0039】
以上の各実施形態は、単独でも複合してもよい。またいずれの実施形態でも、第一ないし第三プリズム13‐1、13‐2、13‐3の接合面には、視野外光束60を遮光する絞り(マスク)を介在させることができる。
【0040】
以上の各実施形態はいずれも、ポロプリズム13に入射する視野外光束60が接眼レンズ15に到達しないようにした実施形態である。これに対し、図19ないし図27は、ポロプリズム13の反射面を透過した視野外光束60がAF検出ユニット50に到達しないようにした実施形態である。まず、図19ないし図21の実施形態では、第一反射面13bを半透過面とし、この第一反射面13bに(第一反射面13bと光路分割直角プリズム18の入射面18aとの間に)、横長の開口90aを有するマスク(絞)90(図20)を介在させている。さらに、光路分割直角プリズム18の出射面18cにも同様のマスク90(図21)を設けている。第一反射面13bに設けるマスク90は、視野外光束60を反射、吸収または拡散する性質とする。開口90aの形状は、AF検出ユニット50の左右瞳範囲の光束11A、11Bのみを通過させるサイズにしておけば、他のノイズ光も除去できるため、精度のよいAFを行うためにさらに有利である。なお図20及び図21では、マスク90の開口90a以外の部分にハッチングを付してある。
【0041】
図22ないし図25は、ポロプリズム13の第二反射面13cを半透過面として、この第二反射面13cに光路分割直角プリズム18’を接着し、この第二反射面13cと光路分割直角プリズム18’の入射面18dとの間、及び光路分割直角プリズム18’の出射面18eに、それぞれ、開口90aを有するマスク90を介在させた実施形態を示している。このように、ポロプリズム13のどの反射面を半透過面とするかは自由度があり、マスク90は、その半透過面の位置及び(又は)該半透過面に接着する光路分割直角プリズム18または18’の出射面位置に対応させて設けることができる。開口90aの形状は、図20ないし図21の実施形態と同様とする。
【0042】
図26、図27は、ポロプリズム13とは別に、ポロプリズム13の前方に位置させて光束分割プリズム95を位置させ、この光束分割プリズム95に、AF検出ユニット50に分割光束を導く半透過面95aを形成した実施形態である。図26では、この光束分割プリズム95の出射面95bに、中心透光部95cと周辺非透光部(摺り面、無反射塗装等)95dとを設け、図27では、開口90aを有するマスク90(図28)を設けている。中心透光部95cの形状は例えば開口90aと対応させることができる。これらの実施形態においても、AF検出ユニット50に視野外光束60が入射するのを防止し、高精度の焦点検出が可能となる。本実施例では、第2ポロプリズムで説明したが、第1ポロプリズムでもかまわない。
【0043】
以上の各実施形態はいずれも、正立光学系としてポロプリズム13を用いた実施形態である。これに対し、図29ないし図33は、ポロプリズム13の代わりにダハプリズムを用いた正立光学系(シュミットプリズム)130を用いた実施形態である。
【0044】
シュミットプリズム130は、図29及び図30に示すように、入射光軸13Xと直交する入射面130a、入射面130aから入射した光束を直角に上方に曲げる第一反射面130b、第一反射面130bで反射した光束を図29の右斜め下方に曲げる第二反射面130c、第二反射面130cで反射した光束を直角に斜め下方に曲げる第三反射面130d、第三反射面130dで反射した光束を入射光軸13Xと直交する方向に曲げるダハ面である第四反射面130e、第四反射面130eで反射した光束を直角に曲げ入射光軸13Xと平行な出射光軸13Y2上に出射する第五反射面130f、及び第五反射面130fで反射した光束を射出する、出射光軸13Y2と直交する出射面130gを備えている。第三反射面130dと出射面130gは同一平面である。さらに図示例では、シュミットプリズム130から焦点検出用の光路を分割するため、第二反射面(半透過面)130cに半透過コートが施され、その半透過コート上に光路分割直角プリズム18が接着されている。すなわち、第一反射面130bで反射した光束の一部は、第二反射面130cを透過して、光路分割直角プリズム18から入射光軸13Xと直交する出射光軸13Y1上に射出される。
【0045】
図30は、シュミットプリズム130の入射面130a(の前)に、マスク(絞)70を配置して、視野外光束60が入射しないようにした実施形態を示し、図31は、シュミットプリズム130(第二反射面130c)と光路分割直角プリズム18の接合面の隅部に、視野外光束60の光路に位置させて、切欠181を形成した実施形態を示している。また図32は、シュミットプリズム130の第二反射面130cを半透過面とし、この第二反射面130cに(第二反射面130cと光路分割直角プリズム18の入射面18aとの間に)、横長の開口90aを有するマスク(絞)90(図33)を介在させた実施形態を示している。いずれの実施形態においても、シュミットプリズム130に入射した視野外光束60が接眼レンズ14あるいはAF検出ユニット50に到達することがない。
【0046】
以上の各実施形態では、AF検出ユニット50が位相差方式であるとして説明したが、コントラスト方式等、他の方式の焦点検出装置を用いることもできる。また本発明は、ト−タルステ−ションに限らず、セオドライト等の他の視準望遠鏡を有する測量機に適用できる。さらに、実施形態の正立光学系に限らず他の正立光学系にも適用できる。
【0047】
なお、上記構成の本AF測量機の動作例を説明すると次の通りである。
第1ステップ
視準望遠鏡10に付属した視準器(図示せず)から測定対象物17を覗き、視準望遠鏡10の光軸を概ね測定対象物17に合致させる。
弟2ステップ
AF開始スイッチ44を押して上述のAF動作を実行し、焦点調節レンズ12を合焦位置に移動させる。
第3ステップ
合焦状態で、接眼レンズ15を覗き、焦点板14の十字線ヘアライン16を正確に測定対象物17に一致させる。このように十字線ヘアライン16を正確に測定対象物17に一致させることにより、光波距離計20の測距光を正しく測定対象物17に投光することができる。
第4ステップ
測距開始スイッチ45を押して光波距離計20による上述の測距動作を実行し、演算結果表示器42に測距結果を表示する。
【0048】
【発明の効果】
以上のように本発明の測量機によると、視準望遠鏡のゴーストの発生を防ぎ、焦点検出手段を有する場合には、高精度の焦点検出を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の対象とする測量機としてのトータルステーションの一例を示す、側面図を含む系統接続図である。
【図2】図1のII‐II線に沿う断面図である。
【図3】図1のIII矢視図である。
【図4】図1のIV矢視図であって、焦点検出手段(AF検出ユニット、位相差方式焦点検出手段)の概念図である。
【図5】図1のポロプリズム回りの斜視図である。
【図6】図1のAF測量機における視野外光束による問題点を説明するための光線を描いた側面図である。
【図7】図6の視野外光束がポロプリズムを通る際の光路を示す斜視図である。
【図8】図1のAF測量機における別の方向の視野外光束を説明するための光線を描いた図である。
【図9】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第一の実施形態を示す側面図である。
【図10】図9のX矢視図である。
【図11】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第二の実施形態を示す側面図である。
【図12】図11の実施形態のポロプリズム部分の斜視図である。
【図13】図11、図12の実施形態の変形例を示す要部の側面図である。
【図14】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第三の実施形態を示す側面図である。
【図15】図14の実施形態のポロプリズム部分の斜視図である。
【図16】図14、図15の実施形態の変形例を示す要部の側面図である。
【図17】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第四の実施形態を示す側面図である。
【図18】図17の実施形態のポロプリズム部分の斜視図である。
【図19】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第五の実施形態を示す側面図である。
【図20】図19のX‐X線から見たマスクを示す平面図である。
【図21】図19のY‐Y線から見たマスクを示す平面図である。
【図22】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第六の実施形態を示す側面図である。
【図23】図22のP矢視図である。
【図24】図22のQ‐Q線から見たマスクを示す平面図である。
【図25】図23のR‐R線から見たマスクを示す平面図である。
【図26】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第六の実施形態を示す側面図である。
【図27】本発明によるゴースト・フレア防止装置の第七の実施形態を示す側面図である。
【図28】図27のS矢視図である。
【図29】正立光学系として使用するシュミットプリズムを示す図である。
【図30】図9の実施形態において、正立光学系をシュミットプリズムとした側面図である。
【図31】図11の実施形態において、正立光学系をシュミットプリズムとした側面図である。
【図32】図19の実施形態において、正立光学系をシュミットプリズムとした側面図である。
【図33】図32のT矢視図である。
【符号の説明】
10 視準望遠鏡
11A 11B 瞳範囲を通過した光束
12 焦点調節レンズ
13 正立光学系(ポロプリズム)
13X 入射光軸
13a 入射面
13b 第一反射面
13c 第二反射面
13d 第三反射面
13e 第四反射面
13f 出射面
13g 側壁
13‐1 第一プリズム
13‐2 第二プリズム
13‐3 第三プリズム
14 焦点板
15 接眼レンズ
16 十字線ヘアライン(視準線)
17 測定対象物(コーナーキューブ)
18 18’ 光路分割直角プリズム
19 モータ
20 光波距離計
21 ダイクロイックプリズム
21a 波長選択コート面
22 直角プリズム
22a 反射面
23 発光素子
28 切換プリズム
29 送光用NDフィルタ
31 受光素子
32 受光用NDフィルタ
34 バンドパスフィルタ
40 演算制御回路
41 アクチュエータ
42 演算結果表示器
43 レンズ駆動手段
44 AF開始スイッチ
45 測距開始スイッチ
50 AF検出ユニット(位相差方式焦点検出手段)
51 焦点検出面
52 集光レンズ
53 セパレータレンズ
54 CCDラインセンサ
55 マスク
60 61 視野外光束
70 マスク
70a 透光部(開口部)
81 切欠
82 面取り
90 マスク
90a 開口
95 光束分割プリズム
95a 半透過面
95b 出射面
130 シュミットプリズム
130a 入射面
130b 第一反射面
130c 第二反射面
130d 第三反射面
130e 第四反射面(ダハ面)
130f 第五反射面
130g 出射面
181 切欠
[0001]
【Technical field】
The present invention relates to a surveying instrument having a collimating telescope.
[0002]
[Prior art and its problems]
A surveying instrument such as a total station has a function of measuring distance and angle, and an optical distance meter (EDM) is generally used as the distance meter. The lightwave distance meter has a light transmission system that transmits distance measuring light via a collimating telescope, and a light receiving system that receives reflected light from the measurement object. The distance is calculated from the phase difference of the reflected light and the initial phase of the internal reference light, or the time difference between the transmitted light and the reflected light.
[0003]
In a surveying instrument equipped with such a lightwave distance meter, a surveying instrument using a dichroic prism is known as a branching optical system which is a wavelength selection means for separating distance measuring light of a specific wavelength of the lightwave distance meter. The dichroic prism is arranged between the objective lens and eyepiece of the collimating telescope, and the distance measuring light of a specific wavelength from the light emitting element is reflected by the wavelength selection coat surface of the dichroic prism and transmitted from the objective lens. Is done. The distance measuring light reflected by the measurement object is selectively reflected by the wavelength selection coat surface of the dichroic prism and guided to the light receiving element.
[0004]
On the other hand, the use of AF for collimating telescopes is also progressing in surveying instruments. A phase difference type AF device widely used as an AF device is a correlation (phase difference) between a pair of images formed by light beams that have passed through a pair of different pupil ranges set on an objective lens of a collimating telescope. ), And the collimating telescope is focused based on the detection result.
[0005]
Further, in order to divide the pair of AF pupil ranges and the collimating telescope optical path, the present applicant has proposed an apparatus in which any reflecting surface of the Porro prism is a semi-transmissive surface (Japanese Patent Laid-Open No. 10-73772). . It is effective to divide the reflecting surface of the Porro prism by the first reflecting surface. This is described in Japanese Patent Application No. 2000-138313 by the present applicant.
[0006]
However, in surveying instruments equipped with these collimating telescopes, particularly surveying instruments equipped with Porro prisms, out-of-field luminous fluxes sometimes cause ghosts and flares that enter the viewer's eyes via eyepieces. When these out-of-field light fluxes that cause ghosts and flares enter the focus detection device via the semi-transmissive surface, the focus detection performance (AF performance) is degraded.
[0007]
OBJECT OF THE INVENTION
An object of the present invention is to provide a ghost / flare prevention device for a surveying instrument that can sufficiently exhibit both the performance and the focus detection performance of a collimating telescope.
[0008]
SUMMARY OF THE INVENTION
  In an aspect in which the presence or absence of focus detection means is not a problem, the present invention is a collimating telescope that collimates a measurement object; and an object image that is located between an objective lens and an eyepiece of the collimating telescope, In a surveying instrument having an upright, left, and right upside-down optical system, an out-of-field light beam entering the upright optical system reaches the eyepiece in the optical path from the entrance surface to the exit surface of the upright optical system. Provided with light shielding means to preventThe light shielding means is a mask formed on the entrance surface of the erecting optical system; and the translucent shape of the mask is asymmetric with respect to the optical axis of incidence on the entrance surface of the erecting optical system; When considering the optical path length to the first reflecting surface, the light transmitting part length from the incident optical axis to the side with the shorter optical path length is shorter than the light transmitting part length to the side with the longer optical path length. thing;It is characterized by.
[0009]
  According to another aspect of the present invention, there is provided a collimating telescope for collimating a measurement target; and an objective lens and an eyepiece of the collimating telescope; In a surveying instrument having an erecting optical system that is inverted; preventing an out-of-field light beam incident on the erecting optical system from reaching the eyepiece in the optical path from the incident surface of the erecting optical system to the first reflecting surface The first reflecting surface of the erecting optical system has a semi-transmissive surface that divides the light beam incident on the reflecting surface and gives it to the focus detecting unit that detects the focus state of the collimating telescope. It is characterized by being formed. In this aspect, the light shielding means is a mask formed on the incident surface of the erecting optical system, and the shape of the light transmitting portion of the mask is asymmetric with respect to the incident optical axis to the incident surface of the erecting optical system. When considering the optical path length between the surface and the first reflecting surface, the translucent part length from the incident optical axis to the side with the short optical path length is shorter than the translucent part length to the side with the long optical path length. It is preferable.
[0010]
Alternatively, the light shielding means may be formed by forming notches, chamfers, or tapered surfaces at the corners of the cemented surfaces of the plurality of cemented prisms forming the erecting optical system. In addition, the erecting optical system is configured as a modified erecting optical system in which the incident surface is extended to the objective lens side, and the out-of-field light beam reflected by the first reflecting surface is not incident on the second reflecting surface from the extended portion. It can also be used as a light shielding means by emitting to the outside or reflecting / diffusing / absorbing.
[0011]
The above is a mode in which the presence or absence of the focus detection unit is not a problem. However, when the focus detection unit is provided, the light beam incident on the reflection surface is divided on the first reflection surface of the erecting optical system, and collimation is performed. It is possible to form a semi-transmissive surface to be given to a focus detection means for detecting the focus state of the telescope.
[0012]
  The present inventionfurtherIn another aspect, a collimating telescope for collimating a measurement object; a semi-transmissive surface disposed between an objective lens and an eyepiece of the collimating telescope; A focus detection means for detecting a focus state of the quasi-telescope;Between the objective lens and the eyepiece of the collimating telescope, an erecting optical system for inverting the top, bottom, left and right of the object image by the objective lens is disposed; the first reflecting surface and the second reflecting surface of the erecting optical system A light beam splitting prism is bonded to one of the surfaces; the semi-transmissive surface is provided on any reflecting surface or light beam splitting prism of the erecting optical system; and Providing a light shielding means for preventing the out-of-view light beam incident on the semi-transmissive surface from reaching the focus detection means;It is characterized by.
[0014]
The light shielding means can be composed of a mask.
[0016]
The focus detection means detects the focus position from the correlation between a pair of different pupil ranges set on the objective lens of the collimating telescope and a pair of images formed by the light beam that has passed through the semi-transmissive surface. Any of these focus detection means or contrast-type focus detection means for detecting the focus position from the contrast of the image formed by the light beam that has passed through the semi-transmissive surface may be used. The specific configurations of both the phase difference method and the contrast method are well known.
[0017]
As the erecting optical system, for example, a Porro prism or a Schmitt prism can be used.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An example of a surveying instrument (total station) having a collimating telescope 10 as an object of the present invention will be described with reference to FIGS. This surveying instrument is a type having an AF function. As shown in FIGS. 1 and 2, the collimating telescope 10 includes an objective lens 11, a focus adjustment lens 12, an erecting optical system (polo prism) 13, a focusing screen 14, and an eyepiece in order from the object side (front). 15 is provided. On the focusing screen 14, a cross hairline (collimation line) 16 (see FIGS. 5 and 7) is drawn at the center of the focusing plate 14 as a mark for collimation. The focus adjustment lens 12 is movable in the direction of the optical axis, and by adjusting the position according to the distance of the measurement object (corner cube placed at the measurement point) 17, the image is correctly aligned on the objective lens 11 side of the focusing screen 14. Image on the surface. The observer magnifies and observes the image on the focusing screen 14 through the eyepiece 15.
[0019]
Between the objective lens 11 and the focus adjustment lens 12 of the collimating telescope 10, a dichroic prism 21 that is a component of the lightwave distance meter 20 is fixed and arranged by a fixing means (not shown). The dichroic prism 21 has a wavelength selection coat surface 21 a that is selectively tilted with respect to a plane orthogonal to the optical axis X of the collimating telescope 10 and selectively reflects only light in a specific wavelength region. The wavelength selection coat surface 21a shown in FIG. 1 is formed so as to form 45 ° with respect to the optical axis X.
[0020]
A light emitting element (LD) 23 of the optical distance meter 20 is located above the dichroic prism 21 in FIG. The light emitting element 23 emits distance measuring light having a specific wavelength within a selection wavelength region by the wavelength selection coat surface 21 a of the dichroic prism 21. The distance measuring light is reflected by the wavelength selection coat surface 21 a and projected onto the measurement object 17 through the objective lens 11. The distance measuring light reflected by the measurement object 17 and transmitted through the objective lens 11 is reflected again by the wavelength selection coat surface 21a. At this time, the light beam (light beam other than the distance measuring light) that has not been reflected by the wavelength selection coat surface 21 a passes through the dichroic prism 21.
[0021]
On the distance measuring optical path between the light emitting element 23 and the dichroic prism 21, a right angle prism 22 having a reflecting surface 22a is disposed only on one side divided by a surface F orthogonal to the distance measuring light center. Accordingly, of the light beams emitted from the light emitting element 23, the light beam that does not interfere with the right-angle prism 22 is directly incident on the wavelength selection coat surface 21 a of the dichroic prism 21. The light beam incident on and reflected by the wavelength selection coat surface 21 a is reflected by the measurement object 17, reflected by the wavelength selection coat surface 21 a, and then reflected by the reflection surface 22 a of the right-angle prism 22. The light beam reflected by the reflecting surface 22 a of the right-angle prism 22 enters the light receiving element 31.
[0022]
On the distance measuring optical path between the light emitting element 23 and the right-angle prism 22, a switching prism 28 and a light transmission ND filter 29 are disposed. As shown in FIG. 3, the switching prism 28 can rotate between a state where it advances into the optical path of the light emitting element 23 and a state where it retracts around the shaft 28a. In the advanced state, the light from the light emitting element 23 can be rotated. Is applied to the reflecting mirror 24 a, and in the retracted state, the distance measuring light from the light emitting element 23 is applied in the direction of the right-angle prism 22, and a substantially half light beam that is not blocked by the prism 22 is applied to the dichroic prism 21. The distance measuring light given to the reflection mirror 24a is guided to the light receiving element 31 via the reflection mirror 24b. The ND filter 29 for light transmission is used for adjusting the amount of distance measuring light projected onto the measurement object 17.
[0023]
On the distance measuring optical path between the light receiving element 31 and the right-angle prism 22, a light receiving ND filter 32 and a band pass filter 34 are sequentially arranged. The light receiving element 31 is connected to the calculation control circuit 40, and the calculation control circuit 40 is connected to the actuator 41 of the switching prism 28 and the calculation result display 42.
[0024]
In the above lightwave distance meter 20, as is well known, the calculation control circuit 40 drives the switching prism 28 via the actuator 41, and provides the distance measuring light from the light emitting element 23 to the right angle prism 22 (dichroic prism 21). And a state to be given to the reflection mirror 24a. The distance measuring light given to the dichroic prism 21 is projected onto the measurement object 17 via the wavelength selection coat surface 21a of the dichroic prism 21 and the objective lens 11 as described above, and the reflected light is reflected on the objective lens 11, The light enters the light receiving element 31 through the wavelength selection coat surface 21 a of the dichroic prism 21 and the reflection surface 22 a of the right-angle prism 22. Then, the arithmetic control circuit 40 receives the distance measuring light reflected by the measurement object 17 and incident on the light receiving element 31, and the inside given to the light receiving element 31 via the switching prism 28 and the reflecting mirrors 24 a and 24 b. The phase difference or time difference from the reference light is detected, the distance to the measuring object 17 is calculated, and displayed on the calculation result display 42. Distance calculation based on the phase difference between the transmitted light and the reflected light and the initial phase of the internal reference light, or the time difference between the transmitted light and the reflected light is well known.
[0025]
The surveying instrument described above includes an AF detection unit (focus detection means) 50 in association with the reflection surface of the Porro prism 13. As shown in FIG. 5, the Porro prism 13 includes an incident surface 13a orthogonal to the incident optical axis 13X, a first reflecting surface 13b that bends the light beam incident from the incident surface 13a downward at right angles, A second reflecting surface 13c that bends the light beam reflected by one reflecting surface 13b in the direction of the third reflecting surface 13d, a third reflecting surface 13d that bends the light beam reflected by the second reflecting surface 13c again at a right angle, and a third reflecting surface. The light beam reflected by 13d is bent at a right angle and emitted onto the outgoing optical axis 13Y parallel to the incident optical axis 13X, and the luminous flux reflected by the fourth reflective surface 13e is emitted and orthogonal to the outgoing optical axis 13Y. 13f is provided. The eyepiece lens 15 is located on the outgoing optical axis 13Y.
[0026]
In the illustrated example, in order to divide the optical path for focus detection from the Porro prism 13, a semi-transmissive coating is applied to the first reflecting surface (semi-transmissive surface) 13b, and the optical path dividing right angle is formed on the semi-transmissive coating. The prism 18 is bonded. The optical path splitting right angle prism 18 includes an incident surface 18a bonded to the first reflecting surface 13b, a reflecting surface 18b that is orthogonal to the incident surface 18a and reflects the light beam incident from the incident surface 18a upward, and a reflecting surface 18b. Is provided with an exit surface 18c that emits the light beam reflected by. The light beam that has passed through the first reflecting surface 13b and the incident surface 18a is given to the AF detection unit 50 via the reflecting surface 18b and the emitting surface 18c, and the light beam reflected by the first reflecting surface 13b is the second reflecting surface 13c. To the eyepiece 15 through the exit surface 13f.
[0027]
The AF detection unit 50 detects a focus state of a focus detection surface 51 optically equivalent to the focusing screen 14, that is, a defocus amount such as a front pin and a rear pin. FIG. 4 shows a conceptual diagram thereof. . An object image formed by the objective lens 11 that forms an image on the focus detection surface 51 is divided by a condenser lens 52 and a pair of separator lenses (imaging lenses) 53 that are arranged apart from each other by a base line length, and this pair of divided images. Re-images on the pair of CCD line sensors 54. The line sensor 54 has a large number of photoelectric conversion elements, and each photoelectric conversion element photoelectrically converts the received object image and integrates (accumulates) the photoelectrically converted charges, and outputs the integrated charges as AF sensor data. Input to the arithmetic control circuit 40. The arithmetic control circuit 40 calculates a defocus amount by a predetermined defocus calculation based on the pair of AF sensor data, and moves the focus adjustment lens 12 to the in-focus position via the motor 19. Such a defocus operation is well known to those skilled in the art. An AF start switch 44 and a distance measurement start switch 45 are connected to the arithmetic control circuit 40.
[0028]
The above AF detection unit 50 forms an image on the line sensor 54 by the light beams 11A and 11B that have passed through a different pair of pupil ranges on the objective lens 11 when considering a pair of images formed on each line sensor 54 as a reference. The focus position is detected by the paired images. The shape of the pupil range can be set by a mask 55 disposed in the vicinity of each separator lens 53.
[0029]
6 and 7 are diagrams for explaining the problem of the out-of-field light flux in the surveying instrument having the above-described configuration, for example. That is, when the out-of-field light beam 60 enters from the vicinity of the maximum effective diameter of the objective lens 11 as shown in FIG. 6 and enters the corner of the incident surface 13a of the Porro prism 13 at a specific angle, the out-of-field light beam 60 is 13 is reflected by the semi-transmissive surface (first reflective surface 13 b), returns to the incident surface 13 a, and is totally reflected by the incident surface 13 a, so that an image is formed near the center of the focusing screen 14. This image appears as a ghost unrelated to the observation in the observation field of the object by the eyepiece 15 and is observed. In particular, when the out-of-field light beam 60 is strong light, it is easily observed as a ghost. For comparison, FIG. 5 illustrates a state in which the central light 63 passing on the optical axis of the objective lens 11 is incident on the Porro prism 13.
[0030]
In a state where there is no light beam splitting on the first reflecting surface 13b (a state where a semi-transparent coating is not formed on the first reflecting surface 13b), the reflectance on the reflecting surface is an incident angle equal to or smaller than the total reflection angle, and is 5%. And generally has little adverse effect on observation. That is, in the case where the first reflecting surface 13b is not subjected to a semi-transparent coating, the in-field light is totally reflected because it is incident on the first reflecting surface 13b at a critical angle (the critical angle of BK7 is about 41 degrees) or more. Since the light beam is incident below the critical angle, it is almost transmitted and the influence on the field of view is relatively small. However, when a semi-transparent coating is applied, the reflectance increases even below the critical angle. If it is a Porro prism of a size that has a considerable margin with respect to the effective diameter, the out-of-field light flux will not enter the field of view even if it is reflected from the side, but the surveying instrument is required to be transportable, so it is small Light weight is an essential condition for the device. Accordingly, the size of the Porro prism tends to be small. In such a case, light in a certain direction out of the luminous flux outside the field of view is reflected by the first reflecting surface and then totally reflected by the first incident surface and forms an image in the field of view. As a result, the performance (resolution, etc.) of the collimating telescope is deteriorated by overlapping the two images. Further, since the out-of-field light beam 60 partially transmits through the first reflecting surface 13b and reaches the AF detection unit 50, the AF detection accuracy is also adversely affected.
[0031]
FIG. 8 is a diagram for explaining the influence of the out-of-field light beam 61 in another direction. Since the out-of-field light beam 61 incident from the vertically symmetrical direction is repeatedly reflected by the side wall 13g of the Porro prism 13, the influence on the inside of the field of view is relatively small, but it is preferably not present. A side wall 13g of the Porro prism 13 (a surface other than the incident surface 13a or the emitting surface 13f) is formed as a sliding surface.
[0032]
The above is a specific problem when the first reflecting surface 13b of the Porro prism 13 is a semi-transmissive surface for focus detection, but when the semi-transmissive surface is not formed (when the AF function is not given to the surveying instrument). ), Out-of-view light flux may cause ghosting. Even when a light beam splitting coat is provided on a reflecting surface other than the first reflecting surface 13b, if there is an object emitting strong light outside the field of view, the observation field of view is adversely affected.
[0033]
The present embodiment proposes an apparatus that eliminates the ghost as described above. Basically, in the optical path from the entrance surface 13a to the exit surface 13f of the Porro prism 13, it is out of the field that enters the Porro prism 13. A light blocking means for preventing the light beam from reaching the eyepiece lens 15 or an out-of-field light beam incident on the first reflection surface 13b in the AF detection unit 50 in the optical path from the first reflection surface 13b to the AF detection unit 50. A light blocking means is provided to prevent it from reaching.
[0034]
9 to 21 show an embodiment in which a semi-transmissive surface is formed on the first reflecting surface 13b of the Porro prism 13 (when the optical path dividing right-angle prism 18 is bonded to the first reflecting surface 13b). First, FIG. 9 and FIG. 10 show an embodiment in which a mask (diaphragm) 70 is arranged on the entrance surface 13a of the Porro prism 13 so that the out-of-field light beam 60 does not enter. The mask 70 does not allow light to enter from other than the translucent part (opening part) 70a. The out-of-field light beam 60 incident on the corner of the incident surface 13a has a greater adverse effect on observation as the optical path length from the incident surface 13a to the first reflecting surface 13b is shorter. Therefore, in this embodiment, the shape of the light transmitting portion 70a is asymmetric with respect to the incident optical axis 13X, and the light shielding portion 70b in which the light transmitting portion 70a is non-circular is provided above the light transmitting portion 70a that is basically circular. ing. When considering the optical path length between the incident surface 13a and the first reflecting surface 13b, the light shielding portion 70b has a radial length R1 of the translucent portion 70a from the incident optical axis 13X to the side having the shorter optical path length. The light transmission portion 70a toward the longer optical path length is shorter than the radial length R2. That is, the area of the translucent part 70a in the upper part of the horizontal line in FIG. 10 passing through the incident optical axis 13X is smaller than the area of the translucent part 70a in the lower part thereof.
[0035]
11 and 12 show a second embodiment. In this embodiment, the Porro prism 13 includes a first prism 13-1 having an incident surface 13a and a first reflecting surface 13b, a second prism 13-2 having a second reflecting surface 13c and a third reflecting surface 13d, and a first prism 13-2. The light beam is divided into three cemented prisms, ie, a third prism 13-3 having four reflecting surfaces 13e and an exit surface 13f, and an out-of-field light beam is formed at the corner of the cemented surface of the first prism 13-1 and the second prism 13-2. A notch 81 is formed in the optical path 60. The notches 81 may be formed in the first prism 13-1 as shown in FIGS. 11 and 12, or may be formed in the second prism 13-2 as shown in FIG. Of course, it can be formed in both.
[0036]
14 and 15 show a third embodiment. In this embodiment, a chamfer 82 is provided instead of the notch 81 in the embodiment of FIGS. The chamfer 82 may be formed on the first prism 13-1 as shown in FIGS. 14 and 15, or may be formed on the second prism 13-2 as shown in FIG. Of course, it can be formed in both.
[0037]
According to these embodiments, the out-of-field light beam 60 that reaches the notch 81 or the chamfer 82 does not travel in the Porro prism 13 thereafter, and therefore reaches the eyepiece 15 or the AF detection unit 50. There is no. The notches 81 and the chamfers 82 are preferably subjected to non-reflective coating.
[0038]
17 and 18 show a fourth embodiment. In this embodiment, the first prism 13-1 of the above-described embodiment is a modified type in which the incident surface 13a is extended to the focus adjusting lens 12 side, and the out-of-field light beam 60 reflected by the first reflecting surface 13b is the first. The second reflection surface 13c is formed so as to be emitted to the outside without entering the second reflection surface 13c. Further, the extended portion may be reflected, diffused, or absorbed as a frayed surface or a non-reflective coating. That is, the first prism 13-1 is not connected to the incident surface 13a and the first reflecting surface 13b, and is extended toward the focus adjustment lens 12 by the distance d secured between them.
[0039]
Each of the above embodiments may be used alone or in combination. In any of the embodiments, a diaphragm (mask) that shields the out-of-field light beam 60 can be interposed between the joint surfaces of the first to third prisms 13-1, 13-2, and 13-3.
[0040]
Each of the above embodiments is an embodiment in which the out-of-field light beam 60 incident on the Porro prism 13 does not reach the eyepiece lens 15. On the other hand, FIGS. 19 to 27 show an embodiment in which the out-of-field light beam 60 transmitted through the reflecting surface of the Porro prism 13 does not reach the AF detection unit 50. First, in the embodiment of FIGS. 19 to 21, the first reflecting surface 13 b is a semi-transmissive surface, and the first reflecting surface 13 b (between the first reflecting surface 13 b and the incident surface 18 a of the optical path splitting right-angle prism 18). ), A mask (diaphragm) 90 (FIG. 20) having a horizontally long opening 90a is interposed. Further, a similar mask 90 (FIG. 21) is provided on the exit surface 18 c of the optical path dividing right-angle prism 18. The mask 90 provided on the first reflecting surface 13b reflects, absorbs, or diffuses the out-of-field light beam 60. If the aperture 90a has a size that allows only the light beams 11A and 11B in the left and right pupil range of the AF detection unit 50 to pass, other noise light can be removed, which is further advantageous for performing accurate AF. . 20 and 21, the portion other than the opening 90 a of the mask 90 is hatched.
[0041]
22 to 25, the second reflecting surface 13c of the Porro prism 13 is used as a semi-transmissive surface, and an optical path dividing right angle prism 18 'is bonded to the second reflecting surface 13c, and the second reflecting surface 13c and the optical path dividing right angle prism are bonded. An embodiment is shown in which a mask 90 having an opening 90a is interposed between the entrance surface 18d of 18 'and the exit surface 18e of the optical path dividing rectangular prism 18'. In this way, there is a degree of freedom as to which reflecting surface of the Porro prism 13 is a semi-transmissive surface, and the mask 90 is positioned at the semi-transmissive surface and / or the optical path dividing right-angle prism 18 bonded to the semi-transmissive surface. Or it can provide corresponding to the output surface position of 18 '. The shape of the opening 90a is the same as that of the embodiment of FIGS.
[0042]
26 and 27 show a semi-transparent surface that separates the Porro prism 13 from the Porro prism 13 and positions the light beam splitting prism 95 and guides the split light beam to the AF detection unit 50. This is an embodiment in which 95a is formed. In FIG. 26, a central light transmitting portion 95c and a peripheral non-light transmitting portion (sliding surface, non-reflective coating, etc.) 95d are provided on the exit surface 95b of the light beam splitting prism 95. In FIG. 27, a mask 90 having an opening 90a. (FIG. 28) is provided. The shape of the central light transmitting portion 95c can correspond to, for example, the opening 90a. Also in these embodiments, it is possible to prevent the out-of-field light beam 60 from entering the AF detection unit 50 and to perform focus detection with high accuracy. In the present embodiment, the second Porro prism has been described, but the first Porro prism may be used.
[0043]
Each of the above embodiments is an embodiment using the Porro prism 13 as an erecting optical system. On the other hand, FIGS. 29 to 33 show an embodiment in which an erecting optical system (Schmidt prism) 130 using a roof prism instead of the Porro prism 13 is used.
[0044]
As shown in FIGS. 29 and 30, the Schmitt prism 130 includes an incident surface 130a orthogonal to the incident optical axis 13X, a first reflecting surface 130b that bends the light beam incident from the incident surface 130a upward at a right angle, and a first reflecting surface 130b. The second reflecting surface 130c that bends the light beam reflected in FIG. 29 diagonally downward to the right, the third reflective surface 130d that bends the light beam reflected by the second reflective surface 130c diagonally downward, and the light beam reflected by the third reflective surface 130d. The fourth reflecting surface 130e, which is a roof surface that bends the light beam in a direction perpendicular to the incident optical axis 13X, and the outgoing light axis 13Y parallel to the incident optical axis 13X is obtained by bending the light beam reflected by the fourth reflecting surface 130e at a right angle.2The fifth reflecting surface 130f that exits upward, and the outgoing optical axis 13Y that emits the light beam reflected by the fifth reflecting surface 130f.2The output surface 130g orthogonal to the above is provided. The third reflecting surface 130d and the emitting surface 130g are the same plane. Further, in the illustrated example, in order to divide the optical path for focus detection from the Schmitt prism 130, a semi-transmissive coating is applied to the second reflective surface (semi-transmissive surface) 130c, and the optical path dividing right-angle prism 18 is bonded on the semi-transmissive coating. Has been. That is, a part of the light beam reflected by the first reflecting surface 130b is transmitted through the second reflecting surface 130c and emitted from the optical path splitting right-angle prism 18 to the outgoing optical axis 13Y orthogonal to the incident optical axis 13X.1Injected up.
[0045]
FIG. 30 shows an embodiment in which a mask (aperture) 70 is disposed on (in front of) the entrance surface 130a of the Schmitt prism 130 so that the out-of-field light beam 60 does not enter. FIG. An embodiment is shown in which a notch 181 is formed at the corner of the joint surface between the second reflecting surface 130c) and the optical path dividing right-angle prism 18 so as to be positioned in the optical path of the out-of-field light beam 60. In FIG. 32, the second reflecting surface 130c of the Schmitt prism 130 is a semi-transmissive surface, and the second reflecting surface 130c (between the second reflecting surface 130c and the incident surface 18a of the optical path splitting right angle prism 18) is horizontally long. An embodiment in which a mask (diaphragm) 90 (FIG. 33) having an opening 90a is interposed is shown. In any of the embodiments, the out-of-field light beam 60 incident on the Schmitt prism 130 does not reach the eyepiece 14 or the AF detection unit 50.
[0046]
In each of the embodiments described above, the AF detection unit 50 has been described as being a phase difference method, but other types of focus detection devices such as a contrast method may be used. The present invention is not limited to the total station but can be applied to a surveying instrument having other collimating telescopes such as theodolite. Furthermore, the present invention can be applied not only to the erecting optical system of the embodiment but also to other erecting optical systems.
[0047]
An example of the operation of the AF surveying instrument configured as described above will be described as follows.
First step
The object to be measured 17 is viewed from a collimator (not shown) attached to the collimating telescope 10, and the optical axis of the collimating telescope 10 is substantially matched with the object 17 to be measured.
Brother 2 steps
The AF start switch 44 is pressed to execute the above-described AF operation, and the focus adjustment lens 12 is moved to the in-focus position.
Third step
In the focused state, the eyepiece lens 15 is looked at and the cross hair line 16 of the focusing screen 14 is made to coincide with the measurement object 17 accurately. As described above, by accurately matching the cross hairline 16 with the measurement object 17, the distance measuring light of the light wave rangefinder 20 can be correctly projected onto the measurement object 17.
4th step
The distance measurement start switch 45 is pressed to execute the above-described distance measurement operation by the light wave distance meter 20, and the distance measurement result is displayed on the calculation result display 42.
[0048]
【The invention's effect】
As described above, according to the surveying instrument of the present invention, it is possible to prevent the ghost of the collimating telescope and to perform highly accurate focus detection when the focus detection means is provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a system connection diagram including a side view showing an example of a total station as a surveying instrument which is a subject of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.
FIG. 3 is a view taken in the direction of arrow III in FIG.
4 is a conceptual diagram of a focus detection unit (an AF detection unit, a phase difference type focus detection unit), as viewed in the direction of an arrow IV in FIG. 1;
5 is a perspective view around the Porro prism in FIG. 1. FIG.
6 is a side view depicting light rays for explaining a problem caused by an out-of-field light flux in the AF surveying instrument of FIG. 1. FIG.
7 is a perspective view showing an optical path when the out-of-field light beam of FIG. 6 passes through the Porro prism.
8 is a diagram depicting light rays for explaining an out-of-view light flux in another direction in the AF surveying instrument of FIG. 1. FIG.
FIG. 9 is a side view showing a first embodiment of the ghost / flare preventing apparatus according to the present invention.
10 is a view taken in the direction of the arrow X in FIG. 9;
FIG. 11 is a side view showing a second embodiment of the ghost / flare preventing apparatus according to the present invention.
12 is a perspective view of a Porro prism portion of the embodiment of FIG. 11. FIG.
13 is a side view of an essential part showing a modification of the embodiment of FIGS. 11 and 12. FIG.
FIG. 14 is a side view showing a third embodiment of the ghost / flare preventing apparatus according to the present invention.
15 is a perspective view of a Porro prism portion of the embodiment of FIG.
16 is a side view of an essential part showing a modification of the embodiment of FIGS. 14 and 15. FIG.
FIG. 17 is a side view showing a fourth embodiment of the ghost / flare preventing apparatus according to the present invention.
18 is a perspective view of a Porro prism portion of the embodiment of FIG.
FIG. 19 is a side view showing a fifth embodiment of the ghost / flare preventing apparatus according to the present invention;
20 is a plan view showing the mask as seen from the line XX in FIG. 19;
FIG. 21 is a plan view showing the mask as seen from the YY line in FIG. 19;
FIG. 22 is a side view showing a sixth embodiment of the ghost / flare prevention device according to the present invention;
23 is a view on arrow P in FIG.
24 is a plan view showing the mask viewed from the line QQ in FIG. 22. FIG.
25 is a plan view showing the mask viewed from the line RR in FIG. 23. FIG.
FIG. 26 is a side view showing a sixth embodiment of the ghost / flare prevention device according to the present invention;
FIG. 27 is a side view showing a seventh embodiment of the ghost / flare preventing apparatus according to the present invention;
28 is a view on arrow S in FIG. 27. FIG.
FIG. 29 is a diagram showing a Schmitt prism used as an erecting optical system.
30 is a side view in which the erecting optical system is a Schmitt prism in the embodiment of FIG.
31 is a side view in which the erecting optical system is a Schmitt prism in the embodiment of FIG.
32 is a side view in which the erecting optical system is a Schmitt prism in the embodiment of FIG.
33 is a view on arrow T in FIG. 32. FIG.
[Explanation of symbols]
10 collimating telescope
11A 11B Light flux that has passed through the pupil range
12 Focusing lens
13 Erecting optical system (Porro prism)
13X Incident optical axis
13a Incident surface
13b First reflective surface
13c Second reflecting surface
13d Third reflective surface
13e Fourth reflective surface
13f Outgoing surface
13g side wall
13-1 First prism
13-2 Second prism
13-3 Third prism
14 Focus plate
15 Eyepiece
16 Crosshair (line of sight)
17 Measurement object (corner cube)
18 18 'Optical path splitting right angle prism
19 Motor
20 Lightwave distance meter
21 Dichroic Prism
21a Wavelength selection coat surface
22 Right angle prism
22a Reflective surface
23 Light Emitting Element
28 switching prism
29 ND filter for light transmission
31 Light receiving element
32 ND filter for light reception
34 Bandpass filter
40 Arithmetic control circuit
41 Actuator
42 Calculation result display
43 Lens drive means
44 AF start switch
45 Ranging start switch
50 AF detection unit (phase difference type focus detection means)
51 Focus detection surface
52 Condensing lens
53 Separator lens
54 CCD line sensor
55 Mask
60 61 Out-of-field luminous flux
70 mask
70a Translucent part (opening)
81 Notch
82 Chamfer
90 mask
90a opening
95 Light Splitting Prism
95a translucent surface
95b Outgoing surface
130 Schmidt Prism
130a Incident surface
130b First reflecting surface
130c Second reflecting surface
130d Third reflective surface
130e Fourth reflective surface (Dach surface)
130f Fifth reflecting surface
130g Outgoing surface
181 Notch

Claims (11)

測定対象物を視準する視準望遠鏡;及びこの視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間に位置し、対物レンズによる物体像の上下左右を反転する正立光学系;を有する測量機において、
上記正立光学系の入射面から出射面に至る光路中に、該正立光学系に入射する視野外光束が接眼レンズに達するのを防止する遮光手段を設けたこと;
上記遮光手段は、正立光学系の入射面に形成したマスクであること;及び
上記マスクの透光部形状は、正立光学系の入射面への入射光軸に関し非対称であって、該入射面と第一反射面との間の光路長を考えたとき、上記入射光軸から同光路長が短い側への透光部長さが同光路長が長い側への透光部長さより短い形状をしていること;
を特徴とする測量機のゴースト・フレア防止装置。
In a surveying instrument comprising: a collimating telescope that collimates a measurement object; and an erecting optical system that is positioned between an objective lens and an eyepiece lens of the collimating telescope and inverts the top, bottom, left, and right of an object image by the objective lens ,
Providing a light shielding means for preventing an out-of-field light beam incident on the erecting optical system from reaching the eyepiece in the optical path from the incident surface to the exit surface of the erecting optical system;
The light shielding means is a mask formed on an incident surface of an erecting optical system; and
The shape of the translucent portion of the mask is asymmetric with respect to the incident optical axis to the incident surface of the erecting optical system, and when considering the optical path length between the incident surface and the first reflecting surface, the incident optical axis The translucent part length from the side to the short side of the optical path length is shorter than the translucent part length to the side of the long optical path length;
A ghost and flare prevention device for surveying instruments.
測定対象物を視準する視準望遠鏡;及びこの視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間に位置し、対物レンズによる物体像の上下左右を反転する正立光学系;を有する測量機において、In a surveying instrument comprising: a collimating telescope that collimates a measurement object; and an erecting optical system that is positioned between an objective lens and an eyepiece lens of the collimating telescope and inverts the top, bottom, left and right of an object image by the objective ,
上記正立光学系の入射面から第一反射面に至る光路中に、該正立光学系に入射する視野外光束が接眼レンズに達するのを防止する遮光手段を設けたこと;Providing a light shielding means for preventing an out-of-field light beam incident on the erecting optical system from reaching the eyepiece in the optical path from the incident surface of the erecting optical system to the first reflecting surface;
上記正立光学系の第一反射面には、該反射面に入射した光束を分割して、上記視準望遠鏡の焦点状態を検出する焦点検出手段に与える半透過面が形成されていること;The first reflecting surface of the erecting optical system is formed with a semi-transmissive surface that divides the light beam incident on the reflecting surface and gives it to a focus detection means for detecting the focus state of the collimating telescope;
を特徴とする測量機のゴースト・フレア防止装置。A ghost and flare prevention device for surveying instruments.
請求項2記載のゴースト・フレア防止装置において、上記遮光手段は正立光学系の入射面に形成したマスクであり、該マスクの透光部形状は、正立光学系の入射面への入射光軸に関し非対称であって、該入射面と第一反射面との間の光路長を考えたとき、上記入射光軸から同光路長が短い側への透光部長さが同光路長が長い側への透光部長さより短い形状をしているゴースト・フレア防止装置。3. The ghost / flare prevention apparatus according to claim 2, wherein the light shielding means is a mask formed on an incident surface of an erecting optical system, and a shape of a translucent portion of the mask is incident light on an incident surface of the erecting optical system. When the optical path length between the incident surface and the first reflecting surface is considered, the translucent portion length from the incident optical axis to the side with the shorter optical path length is the side with the longer optical path length. Ghost / flare prevention device that has a shape shorter than the length of the translucent part. 請求項記載のゴースト・フレア防止装置において、上記遮光手段は、正立光学系を形成する複数の接合プリズムの接合面の隅部に形成した、切欠、面取りまたはテーパ面である測量機のゴースト・フレア防止装置。 3. The ghost / flare prevention apparatus according to claim 2, wherein the light shielding means is a notch, chamfer, or tapered surface ghost formed at a corner of a cemented surface of a plurality of cemented prisms forming an erecting optical system.・ Flare prevention device. 請求項記載のゴースト・フレア防止装置において、上記遮光手段は、正立光学系の入射面を対物レンズ側に延長した変形正立光学系として構成され、第一反射面で反射した視野外光束が第二反射面に入射することなく、該延長部分から外部に出射するように形成されている測量機のゴースト・フレア防止装置。 3. The ghost / flare prevention apparatus according to claim 2, wherein the light shielding means is configured as a modified erecting optical system in which an incident surface of the erecting optical system is extended to the objective lens side, and is reflected from the first reflecting surface. A ghost / flare prevention device for a surveying instrument that is formed so as to exit from the extended portion without entering the second reflecting surface. 請求項1ないしのいずれか1項記載のゴースト・フレア防止装置において、上記正立光学系は、ポロプリズムまたはシュミットプリズムである測量機のゴースト・フレア防止装置。In ghost flare prevention apparatus according to any one of claims 1 to 5, the erecting optical system, ghost flare prevention device of the surveying instrument is Porro prism or a Schmidt prism. 測定対象物を視準する視準望遠鏡;この視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間に配置した半透過面;及びこの半透過面を透過した光束を受けて上記視準望遠鏡の焦点状態を検出する焦点検出手段;を有する測量機において、A collimating telescope for collimating the object to be measured; a semi-transmissive surface disposed between the objective lens and the eyepiece of the collimating telescope; and a focus state of the collimating telescope upon receiving a light beam transmitted through the semi-transmissive surface A surveying instrument having focus detection means for detecting
上記視準望遠鏡の対物レンズと接眼レンズとの間には、対物レンズによる物体像の上下左右を反転する正立光学系が配置されていること;Between the objective lens and the eyepiece of the collimating telescope, an erecting optical system for inverting the top / bottom / left / right of the object image by the objective lens is disposed;
上記正立光学系の第一反射面と第二反射面のいずれかに光束分割プリズムが接着されていること;A light beam splitting prism is bonded to either the first reflecting surface or the second reflecting surface of the erecting optical system;
上記半透過面は、上記正立光学系のいずれかの反射面または上記光束分割プリズムに設けられていること;及びThe semi-transmission surface is provided on any reflection surface of the erecting optical system or the light beam splitting prism; and
上記光束分割プリズムの出射面に、上記半透過面に入射する視野外光束が焦点検出手段に達するのを防止する遮光手段を設けたこと;A light shielding means for preventing an out-of-view light beam incident on the semi-transmissive surface from reaching the focus detection means on the exit surface of the light beam splitting prism;
を特徴とする測量機のゴースト・フレア防止装置。A ghost and flare prevention device for surveying instruments.
請求項7記載のゴースト・フレア防止装置において、上記遮光手段はマスクである測量機のゴースト・フレア防止装置。8. The ghost / flare prevention apparatus according to claim 7, wherein the light shielding means is a mask. 請求項7または8記載の測量機のゴースト・フレア防止装置において、上記焦点検出手段は、視準望遠鏡の対物レンズ上に設定された異なる一対の瞳範囲及び上記半透過面を通過した光束により結像された一対の像の相関関係からピント位置を検出する位相差方式の焦点検出手段である測量機のゴースト・フレア防止装置。9. The ghost / flare prevention apparatus for a surveying instrument according to claim 7 or 8, wherein the focus detection means is formed by a pair of different pupil ranges set on the objective lens of the collimating telescope and a light beam that has passed through the semi-transmissive surface. A ghost / flare prevention device for a surveying instrument, which is a phase difference type focus detection means for detecting a focus position from a correlation between a pair of images. 請求項ないしのいずれか1項記載のゴースト・フレア防止装置において、上記焦点検出手段は、上記半透過面を通過した光束により結像された像のコントラストからピント位置を検出するコントラスト方式の焦点検出手段である測量機のゴースト・フレア防止装置。In ghost flare prevention apparatus according to any one of claims 7 to 9, the focus detecting means, the contrast method of detecting a focus position from the contrast of the image formed by the light beam that has passed through the semi-transmitting surface A ghost / flare prevention device for a surveying instrument that is a focus detection means. 請求項ないし10のいずれか1項記載のゴースト・フレア防止装置において、上記正立光学系は、ポロプリズムまたはシュミットプリズムである測量機のゴースト・フレア防止装置。In ghost flare prevention apparatus according to any one of claims 7 to 10, the erecting optical system, ghost flare prevention device of the surveying instrument is Porro prism or a Schmidt prism.
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