JP3768552B2 - Method for developing silver halide photographic material - Google Patents
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- -1 silver halide Chemical class 0.000 title claims description 65
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 43
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 52
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 26
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 24
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 22
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 15
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 13
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 9
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 7
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 7
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003289 ascorbyl group Chemical class [H]O[C@@]([H])(C([H])([H])O*)[C@@]1([H])OC(=O)C(O*)=C1O* 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 32
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 22
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 13
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 13
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 13
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 13
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 8
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 6
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 5
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 4
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 4
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical class N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid amide group Chemical group P(N)(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 4
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 4
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 150000001555 benzenes Chemical group 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 3
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 3
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenylsulfonyl)propan-2-ol Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(O)CS(=O)(=O)C=C SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYHIXFCITOCVKH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolidine-2-thione Chemical compound CN1CCN(C)C1=S FYHIXFCITOCVKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCCOC(=O)C(C)=C IBDVWXAVKPRHCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002672 4-bromobenzoyl group Chemical group BrC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 2
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 2
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FWFUWXVFYKCSQA-UHFFFAOYSA-M sodium;2-methyl-2-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C FWFUWXVFYKCSQA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M sodium;4-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfidosulfonylbenzene Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=S)C1=CC=CC=C1 BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC)C=C1 OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- MQARLYLUUYQTIR-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound S=C1NCC=N1 MQARLYLUUYQTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWPGKPWCKGMJMG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-aminophenyl)-4,4-dimethylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=C(N)C=C1 IWPGKPWCKGMJMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 1H-indazole Chemical compound C1=CC=C2C=NNC2=C1 BAXOFTOLAUCFNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical compound SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1Br XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1Cl DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYNPIRVEWMUJDE-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC(Cl)=C(O)C=C1Cl AYNPIRVEWMUJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 2-Isopropyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC=C1O HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-[4-(4-methoxyphenyl)-1,3-thiazol-2-yl]-n-(3-methoxypropyl)acetamide Chemical compound S1C(N(C(=O)CCl)CCCOC)=NC(C=2C=CC(OC)=CC=2)=C1 KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-M 2-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006290 2-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C(C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical compound O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAEQSGPURHVZNG-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydro-1,2,4-triazole-5-thione Chemical compound S=C1NCN=N1 CAEQSGPURHVZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 3h-oxathiazole Chemical compound N1SOC=C1 KWIVRAVCZJXOQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKLCDRWGVLVSH-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(hydroxymethyl)-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(CO)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 AJKLCDRWGVLVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IONPWNMJZIUKJZ-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1NC(=O)C(C)(C)C1 IONPWNMJZIUKJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOVXTYUYJRFSOG-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethylamino)phenol Chemical compound OCCNC1=CC=C(O)C=C1 SOVXTYUYJRFSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRYYOKKLTBRLHT-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylamino)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NCC1=CC=CC=C1 SRYYOKKLTBRLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWOZQBARAREECT-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1NC(=O)C(C)(CO)C1 UWOZQBARAREECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1O HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N N-(p-hydroxyphenyl)glycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=C(O)C=C1 WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007945 N-acyl ureas Chemical group 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005279 aryl sulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N azanium;azane;2,3,4-trihydroxy-4-oxobutanoate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOJZPUFVOCGQIP-UHFFFAOYSA-M azanium;potassium;2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [NH4+].[K+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O SOJZPUFVOCGQIP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQMJYWDVABFRZ-UHFFFAOYSA-N cloxiquine Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C(Cl)C2=C1 CTQMJYWDVABFRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 235000013681 dietary sucrose Nutrition 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BXJGUBZTZWCMEX-UHFFFAOYSA-N dimethylhydroquinone Natural products CC1=C(C)C(O)=CC=C1O BXJGUBZTZWCMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical group 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000003402 intramolecular cyclocondensation reaction Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical group O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229940072033 potash Drugs 0.000 description 1
- AVTYONGGKAJVTE-OLXYHTOASA-L potassium L-tartrate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O AVTYONGGKAJVTE-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GNHOJBNSNUXZQA-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate dodecahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GNHOJBNSNUXZQA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001508 potassium citrate Substances 0.000 description 1
- 229960002635 potassium citrate Drugs 0.000 description 1
- QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K potassium citrate (anhydrous) Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000011082 potassium citrates Nutrition 0.000 description 1
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000001472 potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229940111695 potassium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011005 potassium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical class [H]N([H])* 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003385 ring cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N semicarbazide group Chemical group NNC(=O)N DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000004320 sodium erythorbate Substances 0.000 description 1
- 235000010352 sodium erythorbate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000001476 sodium potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N sodium;(2r)-2-[(2r)-3,4-dihydroxy-5-oxo-2h-furan-2-yl]-2-hydroxyethanolate Chemical compound [Na+].[O-]C[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N 0.000 description 1
- WVFDILODTFJAPA-UHFFFAOYSA-M sodium;1,4-dihexoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCOC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCCCCCC WVFDILODTFJAPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M sodium;2-[methyl-[(z)-octadec-9-enyl]amino]ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN(C)CCS([O-])(=O)=O AUPJTDWZPFFCCP-GMFCBQQYSA-M 0.000 description 1
- AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M sodium;2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQFAFFYKLIBKDE-UHFFFAOYSA-M sodium;ethanesulfonate Chemical compound [Na+].CCS([O-])(=O)=O KQFAFFYKLIBKDE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 229960004793 sucrose Drugs 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N thiosemicarbazide group Chemical group NNC(=S)N BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940062627 tribasic potassium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229940001496 tribasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は製版用ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望がある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望まれている。一方、カタログや、大型ポスターの製版には、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケた点の撮影になる。縮小では原稿よりさらに線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを有する画像形成方法が要求されている。
【0003】
オリジナル再現性を改良する方法として特願平1−108215号、特願平1−240967号などに酸化により現像抑制剤を放出するレドックス化合物を含む層と、ヒドラジン誘導体を含む感光性ハロゲン化銀乳剤層とを有する重層構成の超硬調ハロゲン化銀感光材料が開示されている。これによってオリジナル再現性が格段に向上する。
しかしながら、これらの組合せを含む感材はpHが11.0以上の高いpHの現像液を必要とするため、空気酸化されやすかったり、空気中の炭酸ガスを吸収して、pHが変動し、感度やDmaxなどの写真性能の変化が大きく、改良の必要があった。
しかしながら、pH11.0以下ではこれらのレドックス化合物は機能が弱まり、所望のオリジナル再現性が得られない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、硬調でかつ優れたオリジナル再現性と処理安定性を合せ持つ製版用感光材料の現像処理方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層に下記一般式(I)で表されるヒドラジン誘導体、現像処理によって現像抑制剤を放出しうる下記一般式(R−1)〜(R−3)のいずれかで表されるレドックス化合物および下記一般式(AII)または(AIII)で表されるオニウム塩を含むハロゲン化銀写真感光材料を、pH9.0〜11.0でかつジヒドロキシベンゼン系現像主薬とアスコルビン酸類を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法によって達成された。
一般式(I)
【0006】
【化6】
一般式(R−1)
【0007】
【化7】
一般式(R−2)
【0008】
【化8】
一般式(R−3)
【0009】
【化9】
【0010】
【化10】
一般式(I)中、R 1 はアリール基を表わし、R 2 は水素原子、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を表わし、G 1 は−CO−基を表わし、A 1 、A 2 はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
一般式(R−1)〜(R−3)中、R 1 は脂肪族基または芳香族基を表わす。G 1 は−CO−基、−CO−CO−基、−CS−基、−C(=N−G 2 −R 2 )−基、−SO−基、−SO 2 −基または−P(=O)(−G 2 −R 2 )−基を表わす。G 2 は単なる結合手、−O−、−S−または−N(R 2 )−を表わし、R 2 はR 1 と同義の基、または水素原子を表わし、分子内に複数のR 2 が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。A 1 、A 2 は水素原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはアシル基を表わし、これらは置換されていてもよい。ここで、一般式(R−1)ではA 1 、A 2 の少なくとも一方は水素原子である。A 3 はA 1 と同義の基または−CH 2 −CH(A 4 )−(Time) t −PUGを表わす。A 4 はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基または−G 1 −G 2 −R 1 (この場合、分子内の2つの−G 1 −G 2 −R 1 は同じであっても異なってもよい。)を表わす。Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わす。PUGは現像抑制剤を表わす。ここで、PUGまたは(Time)t−PUGはヘテロ原子を介して結合している。
一般式(A II )、(A III )中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。B、Cはそれぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO 2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(R 6 )−を単独または組み合わせて構成される、2価の基を表す。ここでR 6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。R1、R2は各々アルキル基またはアリール基を表し、R3、R4は水素原子またはアリール置換アルキル基、置換あるいは無置換のアリール基を表す。Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合はXは必要ない。
【0011】
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(I)によって表わされる化合物である。
一般式(I)
【0012】
【化11】
【0013】
式中、R1 はアリール基を表わし、R2は水素原子、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を表わし、G1は−CO−基を表わす。
【0014】
A 1、A2はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
【0015】
一般式(I)において、R1で表わされるアリール基は単環または2環のアリール基である。ここで、不飽和ヘテロ環基が単環または2環のアリール基と縮環してヘテロアリール基を形成してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等があるが、なかでもベンゼン環を含むものが好ましい。
R1 のアリール基は置換されていてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環を含む基、ピリジニウム基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アルキルまたはアリールスルホニルオキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ウレタン基、ヒドラジド構造を持つ基、4級アンモニウム構造を持つ基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、アルコキシまたはアリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、アシルウレア構造を持つ基、セレン原子またはテルル原子を含む基、3級スルホニウム構造または4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)などである。
【0016】
一般式(I)において、R2で表わされるアルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、アリール基としては単環または2環のアリール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものである。
R2は置換されていても良く、好ましい置換基としてはR1の置換基として例示したものがあてはまる。
R2で表わされる基のうち好ましいものは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に水素原子、トリフロロメチル基が好ましい。
一般式(I)のG 1 は−CO−基を表わす。
【0017】
A1、A2は水素原子、炭素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状、又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が挙げられる))である。
A1、A2としては水素原子が最も好ましい。
【0018】
一般式(I)のR1、R2の置換基はさらに置換されていても良く、好ましい例としてはR1の置換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・・、というように多重に置換されていても良く、好ましい例はやはりR1の置換基として例示したものがあてはまる。
【0019】
一般式(I)のR1またはR2はその中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。
【0020】
一般式(I)のR1またはR2はその中にハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているものでもよい。かかる吸着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59−195233号、同59−200231号、同59−201045号、同59−201046号、同59−201047号、同59−201048号、同59−201049号、特開昭61−170733号、同61−270744号、同62−948号、同63−234244号、同63−234245号、同63−234246号に記載された基があげられる。
【0021】
本発明において特に好ましいヒドラジン誘導体は、R1がスルホンアミド基、アシルアミノ基またはウレイド基を介してバラスト基、ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を促進する基、4級アンモニウム構造を持つ基、またはアルキルチオ基を有するフェニル基であり、Gが−CO−基であり、R2が水素原子、置換アルキル基または置換アリール基(置換基としては電子吸引性基または2位へのヒドロキシメチル基が好ましい)であるヒドラジン誘導体である。なお、上記のR1およびR2の各選択枝のあらゆる組合せが可能であり、好ましい。
【0022】
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
【0023】
【化12】
【0024】
【化13】
【0025】
【化14】
【0026】
【化15】
【0027】
【化16】
【0028】
【化17】
【0029】
【化18】
【0030】
【化19】
【0031】
【化20】
【0032】
【化21】
【0033】
【化22】
【0034】
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983年11月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、米国特許第4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364号、同4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、同4,478,928号、同4,560,638号、同4,686,167号、同4,912,016号 同4,988,604号、同4,994,365号、同5,041,355号、同5,104,769号、英国特許第2,011,391B号、欧州特許第217,310号、同301,799号、同356,898号、特開昭60−179734号、同61−170733号、同61−270744号、同62−178246号、同62−270948号、同63−29751号、同63−32538号、同63−104047号、同63−121838号、同63−129337号、同63−223744号、同63−234244号、同63−234245号、同63−234246号、同63−294552号、同63−306438号、同64−10233号、特開平1−90439号、同1−100530号、同1−105941号、同1−105943号、同1−276128号、同1−280747号、同1−283548号、同1−283549号、同1−285940号、同2−2541号、同2−77057号、同2−139538号、同2−196234号、同2−196235号、同2−198440号、同2−198441、同2−198442号、同2−220042号、同2−221953号、同2−221954号、同2−285342号、同2−285343号、同2−289843号、同2−302750号、同2−304550号、同3−37642号、同3−54549号、同3−125134号、同3−184039号、同3−240036号、同3−240037号、同3−259240号、同3−280038号、同3−282536号、同4−51143号、同4−56842号、同4−84134号、同2−230233号、同4−96053号、同4−216544号、同5−45761号、同5−45762号、同5−45763号、同5−45764号、同5−45765号、特願平5−94925に記載されたものを用いることができる。
【0035】
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルないし5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
【0036】
本発明のヒドラジン誘導体は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボ−ルミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いることもできる。
【0037】
本発明の現像処理によって現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物について説明する。
レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類であることが好ましく、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
【0038】
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ましくは以下の一般式(R−1)、一般式(R−2)、一般式(R−3)で表わされる。一般式(R−1)で表わされる化合物が特に好ましい。
一般式(R−1)
【0039】
【化23】
【0040】
一般式(R−2)
【0041】
【化24】
【0042】
一般式(R−3)
【0043】
【化25】
【0044】
これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わす。G1は−CO−基、−CO−CO−基、−CS−基、
【0045】
【化26】
【0046】
−SO−基、−SO2−基または
【0047】
【化27】
【0048】
を表わす。G2は単なる結合手、−O−、−S−または−N(R2)−を表わし、R2はR1と同義の基、または水素原子を表わし、分子内に複数のR2が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。
A1、A2は水素原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはアシル基を表わし、置換されていてもよい。一般式(R−1)ではA1、A2の少なくとも一方は水素原子である。A3はA1と同義または−CH2−CH(A4)−(Time)t−PUGを表わす。
A4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基または−G1−G2−R1(この場合、分子内の2つの−G1−G2−R1は同じであっても異なってもよい。)を表わす。
Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わす。PUGは現像抑制剤を表わす。ここで、PUGまたは(Time)t−PUGはヘテロ原子を介して結合している。
【0049】
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)についてさらに詳細に説明する。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において、R1で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。このアルキル基は置換基を有していてもよい。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において、R1で表わされる芳香族基は単環または2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環等がある。なかでもベンゼン環を含むものが好ましい。
R1として特に好ましいものはアリール基である。
R1のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置換されていてもよく、代表的な置換基としては、例えば、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)などである。
【0050】
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におけるG1としては−CO−基、−SO2−基が好ましく、−CO−基が最も好ましい。
A1、A2としては水素原子が好ましく、A3としては水素原子、−CH2−CH(A4)−(Time)t−PUGが好ましい。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)においてTimeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能を有していてもよい。
Timeで表わされる二価の連結基は、酸化還元母核の酸化体から放出されるTime−PUGから一段階あるいはそれ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる基を表わす。
Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米国特許第4,248,962号(特開昭54−145135号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許第4,310,612号(特開昭55−53330号)および同4,358,525号等に記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許第4,330,617号、同4,446,216号、同4,483,919号、特開昭59−121328号等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの;米国特許第4,409,323号、同4,421,845号、リサーチ・ディスクロージャー誌No. 21,228(1981年12月)、米国特許第4,416,977号(特開昭57−135944号)、特開昭58−209736号、同58−209738号等に記載のアリールオキシ基、またはヘテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成してPUGを放出するもの;米国特許第4,420,554号(特開昭57−136640号)、特開昭57−135945号、同57−188035号、同58−98728号および同58−209737号等に記載の含窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放出するもの;特開昭57−56837号に記載の含窒素ヘテロ環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第4,146,396号(特開昭52−90932号)、特開昭59−93442号、同59−75475号、同60−249148号、同60−249149号等に記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭51−146828号、同57−179842号、同59−104641号に記載のカルボキシル基の脱炭酸を伴ってPUGを放出するもの;−O−COOCRaRb−PUG(Ra、Rbは一価の基を表わす。)の構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭60−7429号に記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許第4,438,193号等に記載のカラー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりPUGを放出するものなどを挙げることができる。
これら、Timeで表わされる二価の連結基の具体例については特開昭61−236549号、特開平1−269936号等にも詳細に記載されている。 PUGは(Time)t−PUGまたはPUGとして現像抑制効果を有する基を表わす。
【0051】
PUGまたは(Time)t−PUGで表わされる現像抑制剤はヘテロ原子を有し、ヘテロ原子を介して結合している公知の現像抑制剤であり、これらは、例えばシー・イー・ケー・ミース(C.E.K.Mees)及びテー・エッチ・ジェームズ(T.H.James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス(The Theory of the Photographic Process)」第3版、1966年、マクミラン(Macmillan)社刊、344頁〜346頁などに記載されている。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい。置換基の例としては例えば、R1の置換基として列挙したものが挙げられ、これらの基はさらに置換されていてもよい。
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィン酸基、スルホンアミド基である。
PUGで表わされる現像抑制剤は、現像液に流出した際、現像液成分と反応して、抑制性の少ない化合物に変化しうるものを用いることができる。このような現像抑制剤を用いたレドックス化合物は、特開平4−133051、同4−136839、同4−136840、同4−136841、同4−136843、同4−278939、同4−283743、特願平3−69466等に記載されている。
【0052】
また一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において、R1または−(Time)t−PUGは、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進する基が組み込まれていてもよい。
バラスト基は一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合せからなるものである。バラスト基として好ましくは置換ベンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好ましい。
【0053】
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には、4−チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,4−オキサゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チオン、ベンズオキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チオン、チオトリアジン、1,3−イミダゾリン−2−チオンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプト基(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同じである。)ジスルフィド結合を有する基、ベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の含窒素ヘテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのような複素環四級塩などが挙げられる。これはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えば、R1の置換基として述べたものが挙げられる。
【0054】
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが本発明はこれに限定されるものではない。
【0055】
【化28】
【0056】
【化29】
【0057】
【化30】
【0058】
【化31】
【0059】
【化32】
【0060】
【化33】
【0061】
【化34】
【0062】
【化35】
【0063】
【化36】
【0064】
【化37】
【0065】
【化38】
【0066】
本発明に用いられるレドックス化合物としては上記のものの他に例えば、特開昭61−213847号、同62−260153号、特開平3−39949号、同3−39951号、同3−39953号、同3−67246号に記載されたものを用いることができる。
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば特開昭61−213847号、同62−260153号、特開平1−269936、米国特許第3,379,529号、同3,620,746号、同4,377,634号、同4,332,878号、同4,684,604号、特開昭49−129536号、同56−153336号、同56−153342号などに記載されている。
【0067】
本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあたり1×10-6〜5×10-2モル、より好ましくは1×10-5〜1×10-2モルの範囲内で用いられる。本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いることもできる。
【0068】
本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層に添加される。また、複数のハロゲン化銀乳剤層のうちの少なくとも一層に添加しても良い。
いくつかの構成例をあげるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
構成例 1) 支持体の上に、本発明のレドックス化合物を含むハロゲン化銀乳剤層と保護層を有する。これらの乳剤層、又は保護層に造核剤として第2のヒドラジン化合物を含んでも良い。
構成例 2) 支持体の上に、順に、第1のハロゲン化銀乳剤層と第2のハロゲン化銀乳剤層を有し、第1のハロゲン化銀乳剤層、もしくは隣接する親水性コロイド層に、該第2のヒドラジン化合物を含み、第2のハロゲン化銀乳剤層、もしくは隣接する親水性コロイド層に該レドックス化合物を含む。
構成例 3) 構成例 2) で2つの乳剤層の順が逆の構成である。
構成例 2)と 3)においては、2つの感光性乳剤層の間に、ゼラチンや合成ポリマー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含む中間層を設けても良い。
構成例 4) 支持体上に、第2のヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層の上、もしくは、支持体とハロゲン化銀乳剤層との間に、該レドックス化合物を含む親水性コロイド層を有する。
特に好ましい構成は、構成例 2)または 3)である。
【0069】
本発明において用いられるオニウム塩は下記一般式(AII)または(AIII) で示される化合物である。
【0070】
【化39】
【0071】
式中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。B、Cはそれぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO 2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(R 6 )−を単独または組み合わせて構成される、2価の基を表す。ここでR 6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。R1、R2は各々アルキル基またはアリール基を表し、R3、R4は水素原子またはアリール置換アルキル基、置換あるいは無置換のアリール基を表す。Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合はXは必要ない。
【0072】
次に、一般式(AII)、一般式(AIII) で表されるオニウム塩について更に詳細に説明する。
式中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表し、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環しても構わない。好ましい例として、Aは5から6員環を挙げることができ、更に好ましい例としてピリジン環、キノリン環、イソキノリン環を挙げることができる。また、Aは置換されてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアルキル基(例えばメチル基、ヒドロキシエチル基など)、置換あるいは無置換のアラルキル基(例えばベンジル基、p−メトキシフェネチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基、フリル基、チエニル基、ナフチル基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。特に、好ましい置換基の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を挙げることができる。
B、Cで表される2価基は、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO2−、−SO−、−O−、−S−、−N(R6)−を単独または組み合わせて構成される2価基である。ただし、R6はアルキル基、アリール基、水素原子を表す。特に好ましい例として、B、Cはアルキレン、アリーレン、−O−、−S−を単独または組み合わせて構成されるものを挙げることができる。
R1、R2は炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキル基に置換基が置換していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基、ナフチル基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。特に、好ましい例として、R1、R2は各々炭素数1〜10のアルキル基を表す。好ましい置換基の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を挙げることができる。
【0073】
R3、R4は水素原子またはアリール置換アルキル基、置換あるいは無置換のアリール基を表し、好ましくは、R3、R4は炭素数0〜10である。
Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合はXは必要ない。Xの例として、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、オギザラートを表す。
【0074】
本発明の一般式(AII)、一般式(AIII) で表わされる化合物の合成は一般に良く知られた方法により容易に合成することができるが、以下の文献を参考にすることができる。(参照、Quart. Rev.,16,163(1962).)
【0075】
一般式(AII)、一般式(AIII) で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
【0076】
【化40】
【0077】
【化41】
【0078】
【化42】
【0079】
【化43】
【0080】
【化44】
【0081】
本発明の一般式(AII)、一般式(AIII)で表される化合物の添加量としては、特に制限はないが、ハロゲン化銀1モル当たり1×10-5ないし2×10-2モル含有されるのが好ましく、特に2×10-5ないし1×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
【0082】
また、本発明の一般式(AII)、一般式 (AIII) で表される化合物を、写真感光材料中に含有させるときは、水溶性の場合は水溶液として、水不溶性の場合はアルコール類(たとえばメタノール、エタノール)、エステル類(たとえば酢酸エチル)、ケトン類(たとえばアセトン)などの水に混和しうる有機溶媒の溶液として、ハロゲン化銀乳剤溶液又は、親水性コロイド溶液に添加すればよい。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、微細な分散物にして用いることもできる。
【0083】
本発明に使用する現像液はpH9.0〜11.0の現像液である。用いる現像主薬には特別な制限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロキシベンゼン類またはアスコルビン酸類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベンゼン類またはアスコルビン酸類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ、またはジヒドロキシベンゼン類またはアスコルビン酸類とp−アミノフェノール類の組合せを用いる場合もある。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが、特にハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いるアスコルビン酸類としては、アスコルビン酸またはその塩、エリソルビン酸またはその塩などがある。
本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾリドン、又はその誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬としてはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジルアミノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−アミノフェノールが好ましい。
現像主薬は通常0.05モル/リットル〜0.8モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。また、ジヒドロキシベンゼン類またはアスコルビン酸類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類、又はp−アミノフェノール類との組合せを用いる場合には前者を0.05モル/リットル〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル以下の量で用いるのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は0.3モル/リットル以上、特に0.4モル/リットル以上が好ましい。また上限は2.5モル/リットルまで、特に1.2までとするのが好ましい。
また、アスコルビン酸類をジヒドロキシベンゼン系現像主薬の空気酸化防止剤として使用することも好ましい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムの如きpH調節剤や緩衝剤を含む。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホウ砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカプト系化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベンツトリアゾール系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤などを含んでもよい。特に、特開昭56−106244号に記載のアミノ化合物、特公昭48−35493号に記載のイミダゾール化合物が現像促進あるいは感度上昇という点で好ましい。 本発明に用いられる現像液には、銀汚れ防止剤として特開昭56−24347号及び特開平4−362942号に記載の化合物、現像ムラ防止剤として(特開昭62−212651号)に記載の化合物、溶解助剤として特開昭61−267759号に記載の化合物を用いることができる。
本発明に用いられる現像液には、緩衝剤として特開昭62−186259号に記載のホウ酸、特開昭60−93433に記載の糖類(例えばサッカロース)、オキシム類(例えばアセトオキシム)、フェノール類(例えば5−スルホサルリル酸)、第3リン酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくはホウ酸が用いられる。
【0084】
定着液は定着剤の他に必要に応じて硬膜剤(例えば水溶性アルミニウム化合物)、酢酸及び二塩基酸(例えば酒石酸、クエン酸又はこれらの塩)を含む水溶液であり、好ましくはpH3.8以上、より好ましくは4.0〜5.5を有する。 定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであり、定着速度の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜約5モル/リットルである。
定着液中で主として硬膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩は一般に酸性硬膜定着液の硬膜剤として知られている化合物であり、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどがある。
前述の二塩基酸として、酒石酸あるいはその誘導体、クエン酸あるいはその誘導体が単独で、あるいは二種以上を併用することができる。これらの化合物は定着液1リットルにつき0.005モル以上含むものが有効で、特に0.01モル/リットル〜0.03モル/リットルが特に有効である。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸アンモニウムカリウム、などがある。
本発明において有効なクエン酸あるいはその誘導体の例としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、などがある。
定着液にはさらに所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば酢酸、硼酸)、pH調整剤(例えばアンモニア、硫酸)、画像保存良化剤(例えば沃化カリ)、キレート剤を含むことができる。ここで、pH緩衝剤は、現像液のpHが高いので10〜40g/リットル、より好ましくは18〜25g/リットル程度用いる。
定着温度及び時間は現像の場合と同様であり、約20℃〜約50℃で10秒〜1分が好ましい。
【0085】
また、水洗水には、カビ防止剤(例えば堀口著「防菌防ばいの化学」、特開昭62−115154号明細書に記載の化合物)、水洗促進剤(亜硫酸塩など)、キレート剤などを含有していてもよい。
上記の方法によれば、現像、定着された写真材料は水洗及び乾燥される。水洗は定着によって溶解した銀塩をほぼ完全に除くために行なわれ、約20℃〜約50℃で10秒〜3分が好ましい。乾燥は約40℃〜約100℃で行なわれ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜、変えられるが、通常は約5秒〜3分3秒でよい。
【0086】
ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第3,025,779号明細書、同第3,545,971号明細書などに記載されており、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッサーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっており、本発明の方法も、他の工程(例えば停止工程)を除外しないが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。ここで、水洗工程は、2〜3段の向流水洗方式を用いることによって節水処理することができる。
【0087】
本発明に用いられる現像液は、特開昭61−73147号に記載された酸素透過性の低い包材で保管することが好ましい。また、本発明に用いられる現像液は特開昭62−91939号に記載された補充システムを好ましく用いることができる。
【0088】
本発明の感光材料に用いられる各種添加剤、現像処理方法等に関しては、特に制限は無く、例えば下記箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。
項 目 該 当 箇 所
1)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行目から同第
16頁左上欄10行目の一般式(II-m)ないし(II-p)及び化合物
例II-1ないしII-22、特開平1−179939号公報に記載の
化合物。
2)ハロゲン化銀乳剤 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行目から同第
とその製法 21頁左下欄14行目、特開平2−12236号公報第7頁右
上欄19行目から同第8頁左下欄12行目、および特願平3−
189532号に記載のセレン増感法。
3)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目から同右下
欄4行目、同2−103536号公報第16頁右下欄3行目か
ら同第17頁左下欄20行目、さらに特開平1−112235
号、同2−124560号、同3−7928号、特願平3−1
89532号及び同3−411064号に記載の分光増感色素
。
4)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目から同右下欄
7行目、及び特開平2−18542号公報第2頁左下欄13行
目から同第4頁右下欄18行目、特願平5−204325号。
5)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19行目から同
第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行目から5行目、さらに
特開平1−237538号公報に記載のチオスルフィン酸化合
物。
6)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12行目から同
20行目。
7)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行目から同第
19頁左上欄1行目。
8)マット剤、滑り剤 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15行目から同
可塑剤 第19頁右上欄15行目。
9)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行目から同第
17行目。
10) 染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行目から同1
8行目の染料、同2−294638号公報及び特願平3−18
5773号に記載の固体染料。
11) バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目から20行目
。
12) 黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−118832号公
報に記載の化合物。
13) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化合物(特に化
合物例II−1ないしII−26)。
14) ジヒドロキシ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第12頁左下
ベンゼン類 欄の記載、及びEP452772A号公報に記載の化合物。
15) 現像液及び現像方法 特開平2−103536号公報第19頁右上欄16行目から同
第21頁左上欄8行目。
【0089】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0090】
【実施例】
実施例1
<ハロゲン化銀写真感光材料の作成>
乳剤調整
以下の方法で乳剤AとBを調整した。
〔乳剤A〕
硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK3IrCl6と2.0×10-7モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
【0091】
その後、常法に従ってフロキュレーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり1mgの下記構造式(SE−1)のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になるように化学増感した。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10%)
【0092】
〔乳剤B〕
硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK3IrCl6と1.0×10-6モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
【0093】
その後、常法に従ってフロキュレーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり1.5mgの下記構造式(SE−2)のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になるように化学増感した。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.18μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10%)
【0094】
【化45】
【0095】
塗布試料の作成
塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、順次、UL層、EMU層、ML層、EMO層、PC層、OC層の層構成になるよう塗布し、試料を作成した。
以下に各層の調製法および塗布量を示す。
【0096】
(UL層)
ゼチラン水溶液に、下記染料Aの固体状微粒子分散物(平均粒径0.3μ)50mg/m2およびメチルアクリレートと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と2−アセトアセトキシエチルメタクリレートのラテックス共重合体(重量比88:5:7)を200mg/m2添加し、ゼラチン0.3g/m2になるように塗布した。
【0097】
【化46】
【0098】
(EMU層)
上記乳剤Aに、増感色素として下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モルあたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリン、造核促進剤として下記化合物(A−1)を1×10-4モルを添加した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2塗布されるように添加した。次に、ヒドラジン誘導体(I−40)を5×10-4モル、(d)で示される水溶性ラテックスを200mg/m2、ポリエチルアクリレートの分散物を200mg/m2、メチルアクリレートと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と2−アセトアセトキシエチルメタクリレートのラテックス共重合体(重量比88:5:7)を200mg/m2、平均粒径0.02μmのコロイダルシリカを200mg/m2、さらに硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノールを200mg/m2を加えた。溶液のpHは酢酸を用いて5.65に調製した。それらを塗布銀量3.5g/m2になるように塗布した。
【0099】
【化47】
【0100】
【化48】
【0101】
(ML層)
ゼラチン 1.0g/m2
ポリエチルアクリレートラテックス 0.3g/m2
【0102】
(EMO層)
上記乳剤Bに、増感色素として(S−2)を銀1モルあたり5×10-4モル加え、EMU層に加えたと同じメルカプト化合物(a)と(b)をそれぞれ銀1モルあたり5×10-4モルと6×10-4モルとトリアジン化合物(c)を4×10-4モル加えた。次に、レドックス化合物(RI−11)を120mg/m2と、表1に示す本発明のオニウム塩、又は下記化合物Aを5.0×10-4 モル/銀モルを添加した。塗布銀量が0.6g/m2になるように塗布した。
【0103】
【化49】
【0104】
(PC層)
ゼラチン水溶液にゼラチンに対して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、エチルスルホン酸ナトリウムを5mg/m2、1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布されるように添加し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布した。
【0105】
(OC層)
ゼラチン0.5g/m2、平均粒子サイズ約3.5μmの不定形なSiO2マット剤40mg/m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2および塗布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2を塗布した。
【0106】
【化50】
【0107】
これらの塗布試料は下記組成のバック層およびバック保護層を有する。
〔バック層処方〕
ゼラチン 3g/m2
ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2
界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 200mg/m2
SnO2/Sb (重量比90/10、平均粒径0.20μm) 200mg/m2
染料 染料〔a〕,染料〔b〕,染料〔c〕の混合物
染料〔a〕 70mg/m2
染料〔b〕 70mg/m2
染料〔c〕 90mg/m2
【0108】
【化51】
【0109】
〔バック保護層〕
ゼラチン 0.8mg/m2
ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナリトウム塩 15mg/m2
p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2
酢酸ナトリウム 40mg/m2
【0110】
<写真性能の評価>
(1) 感度、Dmax
上記の試料をタングステン感光計でステップウエッジを通して露光し、下記組成の現像液Aを用いて35℃で30秒間現像をした後、定着、水洗、乾燥処理を行った。定着液としてはGR−F1(富士写真フイルム株式会社製)を用いた。
【0111】
現像液A
水酸化カリウム 35.0g
ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g
炭酸カリウム 12.0g
メタ重亜硫酸ナトリウム 40.0g
臭化カリウム 3.0g
ハイドロキノン 25.0g
5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g
4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン 0.45g
2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオ
キソ−4−(1H)−キナゾリノン 0.04g
2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン
酸ナトリウム 0.15g
エリソルビン酸ナトリウム 3.0g
水酸化カリウムを加えて、水を加えて1リットルとしpHを10.5に合わせる。
感度(S1.5);光学濃度(D)が1.5を与える露光量の逆数であり、サンプル1−1
を100とした時の相対値で示す。
Dmax ;得られる最高光学濃度を表わす。
得られた結果を表1に示した。
【0112】
(2) 網階調、網点品質
上記試料をタングステン感光計で、ステップウェッジとコンタクトスクリーンを通して露光後、(1)と同様に現像処理を行なった。
得られたサンプルの網点品質および網階調の測定結果を表1に示した。網階調は次式で表わした。
*網階調=95%の網点面積率を与える露光量△logE(logE95%)
−5%の網点面積率を与える露光量(logE5%)
網点をルーペで観察し、キレ、スムースネスを5段階評価した。「5」がキレ、スムースネスとも最も良好なレベルを表し、「1」が最低レベルを表す。「3」以上のレベルであると実用的に許容できる。
【0113】
【表1】
【0114】
表1からわかるように、本発明のサンプルは、網階調の値が大きい。このことは、オリジナル再現性が秀れることを意味する。また、網点品質の向上も認められた。感度とDmaxについては大差は認められなかった。
【0115】
実施例2
実施例1において、EMU層に、本発明のオニウム塩A−217を1.0×10-3モル/銀モル添加した以外は、実施例1と同様に行った。EMO層に添加したオニウム塩の種類は表2に示した。得られた結果を表2に示した。
【0116】
【表2】
【0117】
【化52】
【0118】
【化53】
【0119】
【化54】
【0120】
【化55】
【0121】
実施例1での結果と比較してわかるように、EMU層に本発明のオニウム塩を添加することによって、感度とDmaxの著しい増加、さらに網点品質の向上が得られる。
【0122】
実施例3
実施例2において、EMU層のヒドラジン誘導体として(I−40)の代りに、(I−38)、(I−39)、(I−28)、(I−31)および(I−42)を用いてその他は実施例1と同様に行った。その結果、実施例1と同様の結果を得た。
【0123】
実施例4
実施例2において、EMO層のレドックス化合物として、(RI−11)の代りに(RI−14)、(RI−39)および(RI−16)を用いて、その他は実施例1と同様に行った。その結果、実施例1と同様の結果を得た。
【0124】
実施例5
実施例2において、増感色素(S−2)の代りに、下記の(S−3)、(S−4)、(S−5)、(S−6)および(S−7)を用いて、その他は実施例1と同様に行った。その結果、実施例1と同様の結果を得た。
【0125】
【化56】
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a method for developing a silver halide photographic light-sensitive material for plate making.
[0002]
[Prior art]
In the field of photoengraving, in order to cope with the diversity and complexity of printed matter, there is a demand for a photographic light-sensitive material with good original reproducibility, a stable processing solution, or simplification of replenishment.
In particular, in the line drawing process, a manuscript is created by pasting phototyped letters, handwritten characters, illustrations, halftone photos, and the like. Therefore, there is a strong demand for a plate-making camera, a photographic material, or an image forming method in which images having different densities and line widths are mixed in a document, and these documents are finished with good reproducibility. On the other hand, engraving (stretching) or shrinking (shrinking) of a halftone photo is widely performed in the making of catalogs and large posters, and in making a plate using enlarging halftone dots, the number of lines becomes rough and blurred. It will be shooting. With reduction, the number of lines / inch is even larger than that of the original, and thin points are photographed. Therefore, an image forming method having a wider latitude is required in order to maintain halftone gradation reproducibility.
[0003]
As a method for improving the original reproducibility, Japanese Patent Application No. 1-108215, Japanese Patent Application No. 1-2240967 and the like include a layer containing a redox compound that releases a development inhibitor by oxidation, and a photosensitive silver halide emulsion containing a hydrazine derivative. An ultra-high contrast silver halide light-sensitive material having a multi-layer structure having a layer is disclosed. This greatly improves the reproducibility of the original.
However, since the light-sensitive material containing these combinations requires a developer having a high pH of 11.0 or more, it is easily oxidized by air or absorbs carbon dioxide in the air, resulting in a change in pH and sensitivity. There was a great change in photographic performance such as Dmax, and there was a need for improvement.
However, at a pH of 11.0 or lower, these redox compounds have weak functions and the desired original reproducibility cannot be obtained.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a development processing method for a photosensitive material for plate making which has high contrast and has both excellent original reproducibility and processing stability.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The above object of the present invention is to have at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a support, and to the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer.Represented by the following general formula (I)Hydrazine derivatives, which can release development inhibitors by development processingIt is represented by any of the following general formulas (R-1) to (R-3)Redox compound and the following general formula (AII)Or(AIII)A silver halide photographic light-sensitive material containing an onium salt prepared at pH 9.0 to 11.0And containing dihydroxybenzene-based developing agent and ascorbic acidsIt was achieved by a development processing method for a silver halide photographic light-sensitive material characterized by processing with a developer.
Formula (I)
[0006]
[Chemical 6]
Formula (R-1)
[0007]
[Chemical 7]
Formula (R-2)
[0008]
[Chemical 8]
General formula (R-3)
[0009]
[Chemical 9]
[0010]
[Chemical Formula 10]
In general formula (I), R 1 Represents an aryl group, R 2 Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group; 1 Represents a —CO— group, and A 1 , A 2 Each represents a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
In general formulas (R-1) to (R-3), R 1 Represents an aliphatic group or an aromatic group. G 1 Are —CO— group, —CO—CO— group, —CS— group, —C (═NG 2 -R 2 ) -Group, -SO- group, -SO 2 -Group or -P (= O) (-G 2 -R 2 )-Represents a group. G 2 Is simply a bond, -O-, -S- or -N (R 2 )-, R 2 Is R 1 Represents a group having the same meaning as above, or a hydrogen atom, and a plurality of R 2 They may be the same or different. A 1 , A 2 Represents a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, which may be substituted. Here, in the general formula (R-1), A 1 , A 2 At least one of is a hydrogen atom. A Three Is A 1 Or a group having the same meaning as -CH 2 -CH (A Four )-(Time) t -Represents PUG. A Four Is a nitro group, cyano group, carboxyl group, sulfo group or -G 1 -G 2 -R 1 (In this case, two -G in the molecule 1 -G 2 -R 1 May be the same or different. ). Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG represents a development inhibitor. Here, PUG or (Time) t-PUG is bonded via a heteroatom.
Generalformula(A II ), (A III )In the formula, A represents an organic group for completing a heterocycle. B and C are each, Alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, -SO-, -O-, -S-, -N (R 6 )-Alone or in combination,Represents a divalent group.Where R 6 Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.R1, R2Each represents an alkyl group or an aryl group, RThree, RFourRepresents a hydrogen atom, an aryl-substituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. XRepresents an anionic group, but X is not necessary in the case of an inner salt.
[0011]
The hydrazine derivative used in the present invention is a compound represented by the following general formula (I)Is.
Formula (I)
[0012]
Embedded image
[0013]
Where R1 Is an aryl groupRepresents R2Is a hydrogen atom, an alkyl group,Aralkyl group orArylGroupG1Is —CO— groupRepresents.
[0014]
A 1, A2Each represents a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
[0015]
oneIn general formula (I), R1Represented byArylThe group is monocyclic or bicyclic arylOn the basisis there. Where an unsaturated heterocyclic groupButA heteroaryl group may be formed by condensing with a monocyclic or bicyclic aryl group. For example, there are benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, etc. Among them, those containing benzene ring are preferable..
R1 The arylThe group may be substituted and typical substituents include, for example, alkylGroup,Alkenyl group, alkynylGroup,Aryl group, group containing heterocyclic ring, pyridinium group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkyl or arylsulfonyloxy group, amino group, carbonamido group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, semicarbazide group , Thiosemicarbazide group, urethane group, group having hydrazide structure, group having quaternary ammonium structure, alkyl or arylthio group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group, carboxyl group, sulfo group, acyl group, alkoxy or Including aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, halogen atom, cyano group, phosphoric acid amide group, diacylamino group, imide group, group having acylurea structure, selenium atom or tellurium atom Group, a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure, and the like. Preferred substituents are linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl groups (preferably Substituted with a monocyclic or bicyclic alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), a substituted amino group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). Amino groups), acylamino groups (preferably those having 2 to 30 carbon atoms), sulfonamido groups (preferably those having 1 to 30 carbon atoms), ureido groups (preferably those having 1 to 30 carbon atoms). And phosphoric acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).
[0016]
In general formula (I), R2The alkyl group represented by is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, and includes, for example, a benzene ring..
R2May be substituted, and preferred substituents are R1Examples of the substituents in FIG.
R2Preferred among the groups represented by,waterElementary atom, alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group, etc.), Aryl groups (for example, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, etc.), especially hydrogen atom, trifluoromethyl group Is preferred.
Of general formula (I)G 1 Is-CO- groupRepresents.
[0017]
A1, A2Is a hydrogen atom, an alkyl or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is −0.5 or more), carbon number 20 The following acyl groups (preferably benzoyl groups, or benzoyl groups substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is −0.5 or more, or linear or branched or cyclic unsubstituted and substituted aliphatic Acyl group (substituents include, for example, halogen atoms, ether groups, sulfonamido groups, carbonamido groups, hydroxyl groups, carboxy groups, and sulfonic acid groups).
A1, A2Is most preferably a hydrogen atom.
[0018]
R in general formula (I)1, R2The substituent of may be further substituted, and preferred examples include R1What was illustrated as a substituent of is mentioned. Further, the substituent may be substituted in multiple such as the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent, etc. A preferable example is R1Examples of the substituents in FIG.
[0019]
R in general formula (I)1Or R2May be incorporated with ballast groups or polymers commonly used in immobile photographic additives such as couplers. The ballast group is a group that has a carbon number of 8 or more and is relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. You can choose from the inside. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
[0020]
R in general formula (I)1Or R2May be incorporated with a group for enhancing the adsorption to the surface of the silver halide grains. Examples of such adsorbing groups include alkylthio groups, arylthio groups, thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercaptoheterocyclic groups, triazole groups and the like, U.S. Pat. Nos. 4,385,108, 4,459,347, JP, Sho 59-195233, 59-200231, 59-201045, 59-201046, 59-201047, 59-201048, 59-201049, JP-A 61-170733, Examples thereof include groups described in JP-A Nos. 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 63-234246.
[0021]
Particularly preferred hydrazine derivatives in the present invention are R1Is a ballast group via a sulfonamide group, an acylamino group or a ureido group, a group that promotes adsorption to the silver halide grain surface, a group having a quaternary ammonium structure, or a phenyl group having an alkylthio group, and G is —CO The group R2Is a hydrazine derivative in which is a hydrogen atom, a substituted alkyl group or a substituted aryl group (the substituent is preferably an electron-withdrawing group or a hydroxymethyl group at the 2-position). The above R1And R2Any combination of these alternatives is possible and preferred.
[0022]
Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
[0023]
Embedded image
[0024]
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[0025]
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[0026]
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[0027]
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[0028]
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[0029]
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[0030]
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[0031]
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[0032]
Embedded image
[0033]
Embedded image
[0034]
As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 23516 (November 1983, P. 346) and the literature cited therein, U.S. Pat. No. 4,080,207, 4,269,929, 4,276,364, 4,278,748, 4,385,108, 4,459,347, 4,478,928, 4, 560,638, 4,686,167, 4,912,016 4,988,604, 4,994,365, 5,041,355, 5,104, 769, British Patent 2,011,391B, European Patents 217,310, 301,799, 356,898, JP-A-60-179734, 61-170733, 61- 270 No. 44, No. 62-178246, No. 62-270948, No. 63-29751, No. 63-32538, No. 63-104047, No. 63-121838, No. 63-129337, No. 63-223744 63-234244, 63-234245, 63-234246, 63-294552, 63-306438, 64-10233, JP-A-1-904439, 1-100530, 1-105941, 1-105943, 1-276128, 1-280747, 1-283548, 1-283549, 1-285940, 1-22541, 2 -77057, 2-139538, 2-196234, 2-196235, 2-198440, 2-198441, 2-198442, 2-20042, 2-221953, 2-219554, 2-285342, 2-285343, 2-289843, 2-302750 No. 2-304550, No. 3-37642, No. 3-54549, No. 3-125134, No. 3-184039, No. 3-240036, No. 3-240037, No. 3-259240, 3-280038, 3-282536, 4-511143, 4-568842, 4-84134, 2-230233, 4-96053, 4-216544, 5 -45761, 5-45762, 5-45763, 5-45764, 5-45765, and Japanese Patent Application No. 5-94925. It can be used for.
[0035]
The addition amount of the hydrazine derivative in the present invention is 1 × 10 5 per mol of silver halide-6Mol to 5 × 10-2It is preferably contained in a molar amount, in particular 1 × 10-FiveMol to 2 × 10-2A molar range is a preferable addition amount.
[0036]
The hydrazine derivative of the present invention is soluble in an appropriate water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. Can be used.
In addition, using a well-known emulsification dispersion method, it is dissolved using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed An object can be made and used. Alternatively, the hydrazine derivative powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method.
[0037]
The redox compound capable of releasing the development inhibitor by the development processing of the present invention will be described.
The redox group of the redox compound is preferably hydroquinones, catechols, naphthohydroquinones, aminophenols, pyrazolidones, hydrazines, hydroxylamines, or reductones, and more preferably hydrazines.
[0038]
The hydrazines used as redox compounds capable of releasing a development inhibitor when oxidized according to the present invention are preferably the following general formulas (R-1), (R-2), and (R-3). It is represented by A compound represented by formula (R-1) is particularly preferred.
Formula (R-1)
[0039]
Embedded image
[0040]
Formula (R-2)
[0041]
Embedded image
[0042]
General formula (R-3)
[0043]
Embedded image
[0044]
In these formulas, R1Represents an aliphatic group or an aromatic group. G1Are —CO— group, —CO—CO— group, —CS— group,
[0045]
Embedded image
[0046]
-SO- group, -SO2-Group or
[0047]
Embedded image
[0048]
Represents. G2Is simply a bond, -O-, -S- or -N (R2)-, R2Is R1WhenSynonymousOr a plurality of R atoms in the molecule.2They may be the same or different.
A1, A2Represents a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, which may be substituted. In general formula (R-1), A1, A2At least one of is a hydrogen atom. AThreeIs A1Or -CH2-CH (AFour)-(Time)t-Represents PUG.
AFourIs a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group or -G1-G2-R1(In this case, two -G in the molecule1-G2-R1May be the same or different. ).
Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG represents a development inhibitor.Here, PUG or (Time) t-PUG is bonded via a heteroatom.
[0049]
General formulas (R-1), (R-2), and (R-3) will be described in more detail.
In the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), R1Is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. This alkyl group may have a substituent.
In the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), R1The aromatic group represented by is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group.
For example, there are a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, and the like. Of these, those containing a benzene ring are preferred.
R1Particularly preferred is an aryl group.
R1The aryl group or the unsaturated heterocyclic group may be substituted, and examples of typical substituents include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, and a ureido group. Group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group , Acyloxy group, carbonamido group, sulfonamido group, carboxyl group, phosphoric acid amide group and the like, and preferred substituents are linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms), Aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms) Alkoxy groups (preferably those having 1 to 30 carbon atoms), substituted amino groups (preferably amino groups substituted with alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms), acylamino groups (preferably those having 2 to 40 carbon atoms) , Sulfonamido groups (preferably those having 1 to 40 carbon atoms), ureido groups (preferably those having 1 to 40 carbon atoms, phosphoric acid amide groups (preferably those having 1 to 40 carbon atoms), and the like.
[0050]
G in the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3)1As —CO— group, —SO2-Groups are preferred, and -CO- groups are most preferred.
A1, A2Is preferably a hydrogen atom, and AThreeAs a hydrogen atom, -CH2-CH (AFour)-(Time)t-PUG is preferred.
In the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), Time represents a divalent linking group and may have a timing adjustment function.
The divalent linking group represented by Time represents a group capable of releasing PUG from Time-PUG released from the oxidized form of the redox mother nucleus through one or more stages of reaction.
As the divalent linking group represented by Time, for example, PUG is released by an intramolecular ring-closing reaction of a p-nitrophenoxy derivative described in US Pat. No. 4,248,962 (Japanese Patent Laid-Open No. 54-145135). US Pat. No. 4,310,612 (Japanese Patent Laid-Open No. 55-53330) and US Pat. No. 4,358,525, etc., which release PUG by intramolecular ring-closing reaction after ring cleavage; Intramolecular ring closure reaction of carboxyl groups of succinic acid monoesters or analogs thereof as described in 4,330,617, 4,446,216, 4,483,919, JP-A-59-121328, etc. Releases PUG with the formation of acid anhydrides by US; US Pat. Nos. 4,409,323 and 4,421,845, Research Disclosure No. 2 1, 228 (December 1981), U.S. Pat. No. 4,416,977 (JP 57-135944), JP 58-209736, 58-209738, and the like, Or a quinomonomethane, or an analog thereof, which releases PUG by electron transfer through a double bond conjugated with a heterocyclic oxy group; U.S. Pat. No. 4,420,554 (Japanese Patent Laid-Open No. 57-136640) ), From the γ-position of enamine by electron transfer of the nitrogen-containing heterocycle enamine structure described in JP-A-57-135945, JP-A-57-188035, JP-A-58-98728, and JP-A-58-209737. Releases PUG; generated by electron transfer to a carbonyl group conjugated with a nitrogen atom of a nitrogen-containing heterocycle described in JP-A-57-56837 PUG is released by intramolecular ring-closing reaction of an oxy group; U.S. Pat. No. 4,146,396 (JP-A 52-90932), JP-A 59-93442, 59-75475, 60 Release of PUG with the formation of aldehydes described in JP-A Nos. 249148 and 60-249149; carboxyl groups described in JP-A Nos. 51-146828, 57-179842, and 59-104641 That releases PUG with decarboxylation of -O-COOCRaRb-PUG (Ra, RbRepresents a monovalent group. ), Which releases PUG with decarboxylation and subsequent formation of aldehydes; those that release PUG with the formation of isocyanate described in JP-A-60-7429; Examples include those that release PUG by a coupling reaction with an oxidized form of a color developer described in US Pat. No. 4,438,193.
Specific examples of these divalent linking groups represented by Time are also described in detail in JP-A Nos. 61-236549 and 1-269936. PUG is (Time)t-Represents a group having a development inhibitory effect as PUG or PUG.
[0051]
PUG or (Time)tThe development inhibitor represented by -PUG is a known development inhibitor having a heteroatom and bonded via the heteroatom, such as, for example, C.K. “The Theory of the Photographic Process”, 3rd edition, 1966, Macmillan, by Mees) and T.H. James Pp. 344-346.
The development inhibitor represented by PUG may be substituted. Examples of substituents include, for example, R1Are listed as the substituents, and these groups may be further substituted.
Preferred substituents are a nitro group, a sulfo group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a phosphono group, a phosphinic acid group, and a sulfonamide group.
As the development inhibitor represented by PUG, there can be used a developer that can react with a developer component when it flows into the developer and can be changed into a compound having less inhibitory properties. Redox compounds using such a development inhibitor are disclosed in JP-A-4-133301, JP-A-4-136939, JP-A-4-136840, JP-A-4-136842, JP-A-4-136743, JP-A-4-278939, JP-A-4-283743. This is described in Japanese Patent Application No. 3-69466.
[0052]
In the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3), R1Or-(Time)t-PUG is a compound in which a ballast group or general formula (R-1), (R-2), or (R-3) commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is halogenated. Groups that promote adsorption to silver may be incorporated.
The ballast group is an organic material that provides a molecular weight sufficient to prevent the compounds represented by the general formulas (R-1), (R-2), and (R-3) from substantially diffusing into another layer or the processing solution. A group comprising at least one combination of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an ether group, a thioether group, an amide group, a ureido group, a urethane group, and a sulfonamide group. The ballast group is preferably a ballast group having a substituted benzene ring, and particularly preferably a ballast group having a benzene ring substituted with a branched alkyl group.
[0053]
Specific examples of the adsorption promoting group for silver halide include 4-thiazoline-2-thione, 4-imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, thiobarbituric acid, tetrazoline-5-thione, 1,2,4-triazoline-3-thione, 1,3,4-oxazoline-2-thione, benzimidazoline-2-thione, benzoxazoline-2-thione, benzothiazoline-2-thione, thiotriazine, 1, Cyclic thioamide group such as 3-imidazoline-2-thione, chain thioamide group, aliphatic mercapto group, aromatic mercapto group, heterocyclic mercapto group (when the carbon atom to which the —SH group is bonded is a nitrogen atom This is synonymous with the cyclic thioamide group in the tautomeric relationship, and specific examples of this group are the same as those listed above.) Groups having a rufido bond, nitrogen, oxygen, sulfur such as benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, thiazoline, benzoxazole, oxazole, oxazoline, thiadiazole, oxathiazole, triazine, azaindene And a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group composed of a combination of carbon and a heterocyclic quaternary salt such as benzimidazolinium. This may be further substituted with a suitable substituent.
Examples of the substituent include R1And those mentioned as the substituents of.
[0054]
Specific examples of the compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
[0055]
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[0066]
As the redox compound used in the present invention, in addition to the above compounds, for example, JP-A-61-213847, JP-A-62-260153, JP-A-3-39949, JP-A-3-39951, JP-A-3-39953, What was described in 3-67246 can be used.
Examples of the method for synthesizing the redox compound used in the present invention include JP-A-61-213847, JP-A-62-260153, JP-A-1-269936, U.S. Pat. Nos. 3,379,529, 3,620,746, 4,377,634, 4,332,878, 4,684,604, JP-A-49-129536, 56-153336, 56-153342, and the like.
[0067]
The redox compound of the present invention is 1 × 10 5 per mole of silver halide.-6~ 5x10-2Mole, more preferably 1 × 10-Five~ 1x10-2Used within the molar range. The redox compound of the present invention can be used in suitable water-miscible organic solvents such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohols), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. It can be used by dissolving.
In addition, using a well-known emulsification dispersion method, it is dissolved using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. You can also create and use things. Alternatively, the redox compound powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method.
[0068]
The redox compound of the present invention is added to a silver halide emulsion layer or other hydrophilic colloid layer. Further, it may be added to at least one of a plurality of silver halide emulsion layers.
Some configuration examples are given, but the present invention is not limited to these.
Configuration Example 1) A silver halide emulsion layer containing a redox compound of the present invention and a protective layer are provided on a support. These emulsion layers or protective layers may contain a second hydrazine compound as a nucleating agent.
Configuration Example 2) On the support, the first silver halide emulsion layer and the second silver halide emulsion layer are provided in this order, and the first silver halide emulsion layer or the adjacent hydrophilic colloid layer is provided. The second hydrazine compound is contained, and the redox compound is contained in the second silver halide emulsion layer or the adjacent hydrophilic colloid layer.
Configuration Example 3) Configuration Example 2) is a configuration in which the order of the two emulsion layers is reversed.
In Structural Examples 2) and 3), an intermediate layer containing gelatin or a synthetic polymer (such as polyvinyl acetate or polyvinyl alcohol) may be provided between the two photosensitive emulsion layers.
Configuration Example 4) A silver halide emulsion layer containing a second hydrazine compound is provided on a support, and the redox compound is provided on the emulsion layer or between the support and the silver halide emulsion layer. A hydrophilic colloid layer is included.
A particularly preferable configuration is the configuration example 2) or 3).
[0069]
In the present inventionUseThe onium salt that can be used is the following general formula (AII)Or(AIII) soIs the compound shown.
[0070]
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[0071]
In the formula, A represents an organic group for completing a heterocycle. B and C are each, Alkylene, arylene, alkenylene, -SO 2 -, -SO-, -O-, -S-, -N (R 6 )-Alone or in combination,Represents a divalent group.Where R 6 Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.R1, R2Each represents an alkyl group or an aryl group, RThree, RFourRepresents a hydrogen atom, an aryl-substituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. XRepresents an anionic group, but X is not necessary for an inner salt.
[0072]
Next, general formula (AII), general formula (AIII) Onium salt represented byWill be described in more detail.
In the formula, A represents an organic group for completing a heterocycle, and may contain a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and a benzene ring may be condensed. Preferred examples of A include a 5- to 6-membered ring, and more preferred examples include a pyridine ring, a quinoline ring, and an isoquinoline ring. A may be substituted, and preferred substituents include a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), a substituted or unsubstituted alkyl group (for example, a methyl group, a hydroxyethyl group, etc.), a substituted or unsubstituted group. An aralkyl group (for example, benzyl group, p-methoxyphenethyl group, etc.), a substituted or unsubstituted aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl group, furyl group, thienyl group, naphthyl group, etc.), substituted or Unsubstituted acyl group (for example, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group, amide group Sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, unsubstituted or alkyl-substituted amino It represents group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, an arylthio group. Particularly preferable examples of the substituent include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group.
The divalent groups represented by B and C are alkylene, arylene, alkenylene, and -SO.2-, -SO-, -O-, -S-, -N (R6)-Alone or in combinationIt is a divalent group. However, R6Represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. As particularly preferred examples, B and C can include alkylene, arylene, —O—, and —S— alone or in combination.
R1, R2Are preferably alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. The alkyl group may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom and bromine atom), a substituted or unsubstituted aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl).GroupPhthalyl group), substituted or unsubstituted acyl groups (for example, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, etc.) Represents an aryloxy group, an amide group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, an unsubstituted or alkyl-substituted amino group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group. In particular, as a preferred example, R1, R2Each represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of preferred substituents include aryl groups, sulfo groups, carboxy groups, and hydroxy groups.
[0073]
RThree, RFourRepresents a hydrogen atom or an aryl-substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, preferably RThree, RFourHas 0 to 10 carbon atoms.
X represents an anionic group, but X is not necessary in the case of an inner salt. Examples of X are chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate ion, and oxalate.
[0074]
General formula (AII), general formula (AIII) of the present invention) soAlthough the compounds represented can be easily synthesized by generally well-known methods, the following documents can be referred to. (See, Quart. Rev., 16, 163 (1962).)
[0075]
General formula (AII), general formula (AIII) soSpecific examples of the represented compounds are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
[0076]
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[0081]
General formula (AII), general formula (AIII) of the present inventionRepresented byThe amount of the compound added is not particularly limited, but is 1 × 10 5 per mole of silver halide.-FiveOr 2 × 10-2It is preferably contained in a molar amount, particularly 2 × 10-Five1x10-2A molar range is a preferable addition amount.
[0082]
Further, the general formula (AII) of the present inventionGeneral formula (AIII) Represented byWhen the compound is contained in a photographic light-sensitive material, it is an aqueous solution when it is water-soluble, and alcohols (eg, methanol, ethanol), esters (eg, ethyl acetate), ketones (eg, acetone), etc. when water-insoluble. The organic solvent solution miscible with water may be added to a silver halide emulsion solution or a hydrophilic colloid solution.
In addition, using a well-known emulsification dispersion method, it is dissolved using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. You can also create and use things. Alternatively, a fine dispersion can be used by a method known as a solid dispersion method.
[0083]
The developer used in the present invention is a developer having a pH of 9.0 to 11.0. The developing agent used is not particularly limited, but preferably contains dihydroxybenzenes or ascorbic acids from the viewpoint of easily obtaining good dot quality, and the dihydroxybenzenes or ascorbic acids and 1-phenyl-3-pyrazolidones are preferred. Or a combination of dihydroxybenzenes or ascorbic acids and p-aminophenols.
Examples of the dihydroxybenzene developing agent used in the present invention include hydroquinone, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, 2,3-dichlorohydroquinone, 2,5-dichlorohydroquinone, 2,3-dibromohydroquinone, 2,5- Although there are dimethylhydroquinone and the like, hydroquinone is particularly preferable.
Ascorbic acid used in the present invention includes ascorbic acid or a salt thereof, erythorbic acid or a salt thereof, and the like.
As developing agents for 1-phenyl-3-pyrazolidone or its derivatives used in the present invention, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl- 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dihydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, 1-p-aminophenyl-4,4-dimethyl-3 -Pyrazolidone, 1-p-tolyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-p-tolyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone and the like.
Examples of the p-aminophenol developing agent used in the present invention include N-methyl-p-aminophenol, p-aminophenol, N- (β-hydroxyethyl) -p-aminophenol, and N- (4-hydroxyphenyl) glycine. 2-methyl-p-aminophenol, p-benzylaminophenol, etc., among which N-methyl-p-aminophenol is preferable.
The developing agent is usually preferably used in an amount of 0.05 mol / liter to 0.8 mol / liter. When a combination of dihydroxybenzenes or ascorbic acids and 1-phenyl-3-pyrazolidones or p-aminophenols is used, the former is 0.05 mol / liter to 0.5 mol / liter, and the latter is It is preferably used in an amount of 0.06 mol / liter or less.
Examples of the sulfite preservative used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, and sodium formaldehyde bisulfite. The sulfite is preferably 0.3 mol / liter or more, particularly preferably 0.4 mol / liter or more. The upper limit is preferably up to 2.5 mol / liter, particularly up to 1.2.
It is also preferable to use ascorbic acid as an air antioxidant for a dihydroxybenzene developing agent.
Alkaline agents used for setting the pH include pH adjusters such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, tribasic sodium phosphate, tribasic potassium phosphate, sodium silicate, and potassium silicate. Contains buffer.
Additives used in addition to the above components include compounds such as boric acid and borax, development inhibitors such as sodium bromide, potassium bromide and potassium iodide: ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dimethylformamide, methyl cellosolve Organic solvents such as hexylene glycol, ethanol, methanol: mercapto compounds such as 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 2-mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid sodium salt, indazole compounds such as 5-nitroindazole, An antifoggant such as a benztriazole-based compound such as 5-methylbenztriazole may be included, and a color tone, a surfactant, an antifoaming agent, a water softening agent, a hardening agent, and the like may be further included as necessary. In particular, an amino compound described in JP-A-56-106244 and an imidazole compound described in JP-B-48-35493 are preferred from the viewpoint of promoting development or increasing sensitivity. In the developer used in the present invention, the compounds described in JP-A-56-24347 and JP-A-4-3622942 as silver stain preventing agents, and the developing unevenness-preventing agent (described in JP-A-62-212651) are described. The compounds described in JP-A No. 61-267759 can be used as these compounds and dissolution aids.
In the developer used in the present invention, boric acid described in JP-A No. 62-186259, sugars (eg saccharose), oximes (eg acetooxime), phenol described in JP-A No. 60-93433 are used as buffering agents. (For example, 5-sulfosallic acid), tertiary phosphate (for example, sodium salt, potassium salt) and the like are used, and preferably boric acid is used.
[0084]
The fixing solution is an aqueous solution containing a hardening agent (for example, a water-soluble aluminum compound), acetic acid and a dibasic acid (for example, tartaric acid, citric acid, or a salt thereof) in addition to the fixing agent, and preferably has a pH of 3.8. As mentioned above, More preferably, it has 4.0-5.5. Examples of the fixing agent include sodium thiosulfate and ammonium thiosulfate, and ammonium thiosulfate is particularly preferable from the viewpoint of fixing speed. The amount of the fixing agent used can be appropriately changed, and is generally about 0.1 to about 5 mol / liter.
A water-soluble aluminum salt that mainly acts as a hardening agent in a fixing solution is a compound generally known as a hardening agent for an acidic hardening fixing solution, such as aluminum chloride, aluminum sulfate, and potassium alum.
As the above-mentioned dibasic acid, tartaric acid or a derivative thereof, citric acid or a derivative thereof can be used alone or in combination of two or more. Those compounds containing 0.005 mol or more per liter of the fixing solution are effective, and 0.01 mol / liter to 0.03 mol / liter is particularly effective.
Specific examples include tartaric acid, potassium tartrate, sodium tartrate, sodium potassium tartrate, ammonium tartrate, and potassium ammonium tartrate.
Examples of citric acid or a derivative thereof effective in the present invention include citric acid, sodium citrate, and potassium citrate.
If desired, the fixing solution may further include a preservative (eg, sulfite, bisulfite), a pH buffer (eg, acetic acid, boric acid), a pH adjuster (eg, ammonia, sulfuric acid), an image storage improver (eg, iodide). Potash) and chelating agents. Here, since the pH of the developer is high, the pH buffer is used in an amount of about 10 to 40 g / liter, more preferably about 18 to 25 g / liter.
The fixing temperature and time are the same as in the case of development, and it is preferably about 20 ° C. to about 50 ° C. and 10 seconds to 1 minute.
[0085]
In addition, the washing water includes a mold inhibitor (for example, a compound described in Horiguchi's “Bacterial and antibacterial chemistry”, JP-A-62-115154), a washing accelerator (sulfite, etc.), a chelating agent, and the like. May be contained.
According to the above method, the developed and fixed photographic material is washed with water and dried. Washing with water is performed to almost completely remove the silver salt dissolved by fixing, and is preferably about 20 ° C. to about 50 ° C. for 10 seconds to 3 minutes. Drying is performed at about 40 ° C. to about 100 ° C., and the drying time can be appropriately changed depending on the surrounding conditions, but it is usually about 5 seconds to 3 minutes and 3 seconds.
[0086]
The roller-conveying type automatic developing machine is described in US Pat. Nos. 3,025,779 and 3,545,971, etc., and is simply referred to as a roller-conveying processor in this specification. To do. The roller transport type processor is composed of four steps of development, fixing, washing and drying, and the method of the present invention does not exclude other steps (for example, stop step), but it is most preferable to follow these four steps. Here, the water-washing process can perform a water-saving process by using a countercurrent water washing system of 2 to 3 stages.
[0087]
The developer used in the present invention is preferably stored in a packaging material with low oxygen permeability described in JP-A-61-73147. Further, the replenishment system described in JP-A-62-91939 can be preferably used as the developer used in the present invention.
[0088]
There are no particular restrictions on the various additives used in the light-sensitive material of the present invention, the development processing method, and the like. For example, those described in the following locations can be preferably used.
Item Corresponding location
1) Nucleation promoter From the 13th line on the upper right column of page 9 of JP-A-2-103536
16 General formula (II-m) thru | or (II-p) and a compound of the left upper column of 10th page
Examples II-1 to II-22, described in JP-A-1-179939
Compound.
2) Silver halide emulsion As disclosed in JP-A-2-97937, page 20, lower right column, line 12
And its manufacturing method, page 21, lower left column, 14th line, JP-A-2-12236, page 7, right
From the 19th line of the upper column to the 12th line of the lower left column of the same page 8, and Japanese Patent Application No. 3-
The selenium sensitization method as described in 189532.
3) Spectral sensitizing dye, JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to lower right
Column 4th line, 2nd-103536 gazette, page 16, lower right column 3rd line?
Et al., Page 17, lower left column, line 20, JP-A-1-112235.
No., No. 2-124560, No. 3-7928, Japanese Patent Application No. 3-1
Spectral sensitizing dyes described in No. 89532 and No. 3-41064
.
4) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 to lower right column
Line 7 and JP-A-2-18542, page 2, lower left column, line 13
From the eyes on page 4, lower right column, line 18, Japanese Patent Application No. 5-204325.
5) Antifoggant The same as that disclosed in JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19
Page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5,
The thiosulfine oxidation compound described in JP-A-1-237538
object.
6) Polymer latex From the 12th line of the lower left column on page 18 of JP-A-2-103536
20th line.
7) Compound having an acid group As disclosed in JP-A-2-103536, page 18, lower right column, line 6
19th page, upper left column, first line.
8) Matting agent, slipping agent From JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15
Plasticizer, page 19, upper right column, line 15.
9) Hardening agent As disclosed in JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5
17th line.
10) Dye 1 from page 17, lower right column, line 1 of JP-A-2-103536
Dye on the 8th line, Japanese Patent Application No. 2-294638 and Japanese Patent Application No. 3-18
The solid dye described in No. 5773.
11) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20
.
12) Black spot prevention agent US Pat. No. 4,956,257 and Japanese Patent Laid-Open No. 1-118832
The compound described in the report.
13) Monomethine compound A compound of the general formula (II) disclosed in JP-A-2-287532 (in particular
Compound Examples II-1 to II-26).
14) Dihydroxy JP-A-3-39948, page 11, upper left column to page 12, lower left
Compounds described in the “Benzenes” column and EP452772A.
15) Developer and development method From JP-A-2-103536, page 19, upper right column, line 16
Page 21, upper left column, line 8.
[0089]
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
[0090]
【Example】
Example 1
<Preparation of silver halide photographic material>
Emulsion adjustment
Emulsions A and B were prepared by the following method.
[Emulsion A]
Aqueous silver nitrate, potassium bromide, sodium chloride and 3.5 x 10 per mole of silver-7K equivalent to moleThreeIrCl6And 2.0 × 10-7K equivalent to mole2Rh (H2O) ClFiveTo a gelatin aqueous solution containing sodium chloride and sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione with stirring by the double jet method, an average grain size of 0.25 μm, and a silver chloride content of 70 mol% Silver chlorobromide grains were prepared.
[0091]
Thereafter, it was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, 40 g of gelatin per 1 mol of silver was added, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 mg of benzenesulfinic acid were added per 1 mol of silver, pH 6.0, pAg 7.5 Chemical sensitization to obtain optimum sensitivity at 60 ° C by adding 1 mg of selenium sensitizer of the following structural formula (SE-1) per mol of silver, 1 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid did. Thereafter, 150 mg of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added as a stabilizer, and 100 mg of proxel was further added as a preservative. The obtained grains were silver chlorobromide cubic grains each having an average grain size of 0.25 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%)
[0092]
[Emulsion B]
Aqueous silver nitrate, potassium bromide, sodium chloride and 3.5 x 10 per mole of silver-7K equivalent to moleThreeIrCl6And 1.0 × 10-6K equivalent to mole2Rh (H2O) ClFiveTo a gelatin aqueous solution containing sodium chloride and sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione with stirring by the double jet method, an average grain size of 0.25 μm, and a silver chloride content of 70 mol% Silver chlorobromide grains were prepared.
[0093]
Thereafter, it was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, 40 g of gelatin per 1 mol of silver was added, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 mg of benzenesulfinic acid were added per 1 mol of silver, pH 6.0, pAg 7.5 And then add 1.5 mg of selenium sensitizer of the following structural formula (SE-2) per mol of silver, 1 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid to achieve optimum sensitivity at 60 ° C. Sensitized. Thereafter, 150 mg of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added as a stabilizer, and 100 mg of proxel was further added as a preservative. The obtained grains were silver chlorobromide cubic grains each having an average grain size of 0.18 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%)
[0094]
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[0095]
Preparation of coated sample
A polyethylene terephthalate film support having a moisture-proof layer undercoat containing vinylidene chloride was applied in order from the support side so as to have a layer structure of UL layer, EMU layer, ML layer, EMO layer, PC layer, OC layer, and sample. It was created.
The preparation method and coating amount of each layer are shown below.
[0096]
(UL layer)
In a zetilan aqueous solution, a solid fine particle dispersion (average particle size 0.3 μm) of the following dye A 50 mg / m2200 mg / m of a latex copolymer (weight ratio 88: 5: 7) of methyl acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate2Add gelatin 0.3g / m2It applied so that it might become.
[0097]
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[0098]
(EMU layer)
In the above emulsion A, the following compound (S-1) as a sensitizing dye is 5 × 10 5 per mol of silver.-FourMol, (S-2) 5 × 10-FourIn addition, 3 x 10 per mole of silver-FourMol of mercapto compound represented by (a) below, 4 × 10-FourMolar mercapto compound represented by (b), 4 × 10-FourMole of triazine compound represented by (c), 2 × 10-3Mole of 5-chloro-8-hydroxyquinoline, 1 × 10 of the following compound (A-1) as a nucleation accelerator-FourMole was added. Furthermore, hydroquinone 100 mg, N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt 30 mg / m2Added as applied. Next, hydrazine derivative (I-40) was added at 5 × 10-FourMol, 200 mg / m 2 of water-soluble latex represented by (d)2, 200 mg / m of polyethyl acrylate dispersion2200 mg / m of a latex copolymer of methyl acrylate, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (weight ratio 88: 5: 7)2200 mg / m of colloidal silica having an average particle size of 0.02 μm2Furthermore, 200 mg / m of 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol as a hardening agent2Was added. The pH of the solution was adjusted to 5.65 using acetic acid. Apply silver amount 3.5g / m2It applied so that it might become.
[0099]
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[0100]
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[0101]
(ML layer)
Gelatin 1.0g / m2
Polyethyl acrylate latex 0.3g / m2
[0102]
(EMO layer)
To emulsion B, (S-2) as a sensitizing dye is 5 × 10 5 per mol of silver.-FourThe same mercapto compounds (a) and (b) as added to the EMU layer were added in an amount of 5 × 10 5 per silver mole.-Four6x10 with mole-FourMole and triazine compound (c) 4 × 10-FourMole was added. Next, redox compound (RI-11) was added at 120 mg / m.2And the onium salt of the present invention shown in Table 1 or the following compound A is 5.0 × 10 -4 MoThe mole / silver mole was added. The amount of silver applied is 0.6 g / m2It applied so that it might become.
[0103]
Embedded image
[0104]
(PC layer)
Dispersion of 50 wt% ethyl acrylate with respect to gelatin in an aqueous gelatin solution and 5 mg / m of sodium ethyl sulfonate21,5-dihydroxy-2-benzaldoxime at 10 mg / m2Add as applied, gelatin 0.5 g / m2It applied so that it might become.
[0105]
(OC layer)
Gelatin 0.5g / m2Amorphous SiO with an average particle size of about 3.5 μm2Matting agent 40mg / m2Methanol silica 0.1 g / m2, Polyacrylamide 100mg / m2And silicone oil 20mg / m2And 5 mg / m of a fluorosurfactant represented by the following structural formula (e) as a coating aid2And sodium dodecylbenzenesulfonate 100mg / m2Was applied.
[0106]
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[0107]
These coated samples have a back layer and a back protective layer having the following composition.
[Back layer formulation]
Gelatin 3g / m2
Latex Polyethyl acrylate 2g / m2
Surfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m2
1,3-divinylsulfonyl-2-propanol 200 mg / m2
SnO2/ Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m2
Dye Mixture of dye [a], dye [b], dye [c]
Dye [a] 70 mg / m2
Dye [b] 70 mg / m2
Dye [c] 90 mg / m2
[0108]
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[0109]
[Back protection layer]
Gelatin 0.8mg / m2
Polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5μm) 30mg / m2
Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 15mg / m2
Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 15 mg / m2
Sodium acetate 40mg / m2
[0110]
<Evaluation of photographic performance>
(1) Sensitivity, Dmax
The sample was exposed through a step wedge with a tungsten sensitometer, developed with a developer A having the following composition at 35 ° C. for 30 seconds, and then subjected to fixing, washing and drying. GR-F1 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as the fixing solution.
[0111]
Developer A
Potassium hydroxide 35.0g
Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0g
Potassium carbonate 12.0g
Sodium metabisulfite 40.0g
Potassium bromide 3.0g
Hydroquinone 25.0g
5-methylbenzotriazole 0.08g
4-hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl
-3-pyrazolidone 0.45g
2,3,5,6,7,8-hexahydro-2-thio
Xo-4- (1H) -quinazolinone 0.04 g
2-mercaptobenzimidazole-5-sulfone
Sodium acid 0.15g
Sodium erythorbate 3.0g
Add potassium hydroxide, add water to 1 liter and adjust pH to 10.5.
Sensitivity (S1.5); The optical density (D) is the reciprocal of the exposure amount giving 1.5, and Sample 1-1
This is expressed as a relative value when 100 is 100.
Dmax represents the maximum optical density obtained.
The obtained results are shown in Table 1.
[0112]
(2) Halftone and halftone quality
The sample was exposed with a tungsten photometer through a step wedge and a contact screen, and then developed in the same manner as in (1).
Table 1 shows the halftone dot quality and halftone measurement results of the obtained sample. The halftone is expressed by the following equation.
* Halftone = exposure amount giving a halftone dot area ratio of 95% △ logE (logE95%)
Exposure amount giving log area ratio of -5% (logE5%)
The halftone dots were observed with a magnifying glass, and the sharpness and smoothness were evaluated in five levels. “5” represents the best level for both sharpness and smoothness, and “1” represents the lowest level. A level of “3” or higher is practically acceptable.
[0113]
[Table 1]
[0114]
As can be seen from Table 1, the sample of the present invention has a large halftone value. This means that the original reproducibility is excellent. An improvement in halftone dot quality was also observed. There was no significant difference in sensitivity and Dmax.
[0115]
Example 2
In Example 1, the onium salt A-217 of the present invention was added to the EMU layer by 1.0 × 10-3The procedure was the same as Example 1 except that mol / silver mol was added. The types of onium salts added to the EMO layer are shown in Table 2. The obtained results are shown in Table 2.
[0116]
[Table 2]
[0117]
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[0118]
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[0119]
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[0120]
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[0121]
As can be seen from comparison with the results in Example 1, the addition of the onium salt of the present invention to the EMU layer can significantly increase the sensitivity and Dmax, and improve the dot quality.
[0122]
Example 3
In Example 2, instead of (I-40), (I-38), (I-39), (I-28), (I-31) and (I-42) are used as hydrazine derivatives of the EMU layer. The others were used in the same manner as in Example 1. As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
[0123]
Example 4
In Example 2, (RI-14), (RI-39) and (RI-16) were used in place of (RI-11) as the redox compound of the EMO layer, and the others were performed in the same manner as in Example 1. It was. As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
[0124]
Example 5
In Example 2, the following (S-3), (S-4), (S-5), (S-6) and (S-7) were used instead of the sensitizing dye (S-2). The other operations were performed in the same manner as in Example 1. As a result, the same result as in Example 1 was obtained.
[0125]
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Claims (1)
一般式(I)
一般式(R−1)〜(R−3)中、R 1 は脂肪族基または芳香族基を表わす。G 1 は−CO−基、−CO−CO−基、−CS−基、−C(=N−G 2 −R 2 )−基、−SO−基、−SO 2 −基または−P(=O)(−G 2 −R 2 )−基を表わす。G 2 は単なる結合手、−O−、−S−または−N(R 2 )−を表わし、R 2 はR 1 と同義の基、または水素原子を表わし、分子内に複数のR 2 が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。A 1 、A 2 は水素原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはアシル基を表わし、これらは置換されていてもよい。ここで、一般式(R−1)ではA 1 、A 2 の少なくとも一方は水素原子である。A 3 はA 1 と同義の基または−CH 2 −CH(A 4 )−(Time) t −PUGを表わす。A 4 はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基または−G 1 −G 2 −R 1 (この場合、分子内の2つの−G 1 −G 2 −R 1 は同じであっても異なってもよい。)を表わす。Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わす。PUGは現像抑制剤を表わす。ここで、PUGまたは(Time)t−PUGはヘテロ原子を介して結合している。
一般式(A II )、(A III )中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。B、Cはそれぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO 2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(R 6 )−を単独または組み合わせて構成される、2価の基を表す。ここでR 6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。R1、R2は各々アルキル基またはアリール基を表し、R3、R4は水素原子またはアリール置換アルキル基、置換あるいは無置換のアリール基を表す。Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合はXは必要ない。It has at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a support, and a hydrazine derivative represented by the following general formula (I) is added to the emulsion layer or other hydrophilic colloid layer, and a development inhibitor is developed by development processing. the following general formula can release (R-1) ~ silver halide photographic containing onium salt Table redox compounds and the following general formula represented by any one (AII) or (AIII) of (R-3) A method for developing a silver halide photographic material, characterized in that the material is processed with a developer having a pH of 9.0 to 11.0 and containing a dihydroxybenzene developing agent and ascorbic acids .
Formula (I)
In general formulas (R-1) to (R-3), R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group. G 1 represents —CO— group, —CO—CO— group, —CS— group, —C (═NG 2 —R 2 ) — group, —SO— group, —SO 2 — group or —P (= O) (- G 2 -R 2 ) - represents a group. G 2 represents a simple bond, —O—, —S— or —N (R 2 ) —, R 2 represents a group having the same meaning as R 1 or a hydrogen atom, and a plurality of R 2 exist in the molecule. They may be the same or different. A 1 and A 2 each represents a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an acyl group, and these may be substituted. Here, in the general formula (R-1), at least one of A 1 and A 2 is a hydrogen atom. A 3 represents the same group as A 1 or —CH 2 —CH (A 4 ) — (Time) t -PUG. A 4 is a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfo group, or -G 1 -G 2 -R 1 (in this case, the two -G 1 -G 2 -R 1 in the molecule are the same or different. It is good.) Time represents a divalent linking group, and t represents 0 or 1. PUG represents a development inhibitor. Here, PUG or (Time) t-PUG is bonded via a heteroatom.
In the general formulas (A II ) and (A III ) , A represents an organic group for completing a heterocycle. B and C are each a divalent group composed of alkylene, arylene, alkenylene, —SO 2 — , —SO—, —O—, —S— , —N (R 6 ) — alone or in combination. To express. Wherein R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 1 and R 2 each represents an alkyl group or an aryl group, and R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom, an aryl-substituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group . X represents an anionic group, but X is not necessary in the case of an inner salt.
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