JP3727519B2 - Sleeve for hot cathode assembly and method for manufacturing the same - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー受像管等の電子管に用いられる熱陰極構体スリーブ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
カラー受像管等の電子管において、電子ビームを放出するために熱陰極が用いられているが、この熱陰極の一種として含浸型陰極が知られている。
【0003】
含浸型陰極は、これまで進行波管、クライストロン等の電子管に用いられてきたが、最近は含浸型陰極の高電流密度特性を活かして、大型、高精細のカラー受像管等に採用されている。
【0004】
このような含浸型陰極構体は、図1に示すように構成され、電子放出物質を含浸した短円柱状の陰極基体1が、有底短円筒状のカップ2内に収納され、このカップ2は、その底部側から円筒状のスリーブ3の一端開口部に挿入され、陰極基体1を露出させた状態でスリーブ3に固定されている。スリーブ3には、ヒータ4が内蔵されている。ヒータ4は、3%レニウム−タングステン合金線で構成され、その表面に絶縁物であるアルミナが被覆されている。さらに、このアルミナの表面に熱放射特性を良くするためにタングステンとアルミナとの混合物からなるダーク層が被覆されている。一方、スリーブ3は、3本のリボン6を介して、段付き円筒状のホルダ5の中央部に同軸的に支持固定されている。またスリーブ3には、ヒータ4が挿入し易いように片方の開口端部にフレア(広がり)3aを設けてある。スリーブ3、カップ2、および3本のリボン6は、いずれもタンタル、ニオブ、またはモリブデン、もしくはその少なくとも1つを主成分とする合金で構成される。そして、スリーブ3の内面には、ヒータから発生される熱を効率よくスリーブに吸収させるための薄い黒色被膜7が付着形成されている。なお、スリーブ3は、例えば肉厚が15〜20μm、直径が1.25mm、長さが4.0mmの細長いパイプである。
【0005】
このようなスリーブに黒色被膜を付着させる方法には、例えば特開平8−287824号公報に開示されている以下の方法がある。
【0006】
即ち、モリブデンからなるスリーブ内面に、スパッタリング法を用いてアルミニウムの薄膜を被着させ、さらに真空雰囲気内において600℃で30分間加熱する第1次熱処理を行い、それに続いて、同じ真空雰囲気内において800℃で1時間加熱する第2次熱処理を行う。続いて、湿潤水素雰囲気内において10000℃で1時間加熱する最終熱処理を行い、アルミニウムとモリブデンとの金属間化合物、アルミニウム−モリブデン酸化物、アルミナ等からなる粗面層を形成している。この粗面層は、表面に微細な凹凸を有しているので、熱吸収面積が増大し、熱吸収性に優れるという利点がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従来のスリーブに黒色被膜を形成させる方法は、工程数が多く、量産する場合にはコストの高い方法である。
【0008】
また、スリーブの内面全体に均一な黒色被膜を形成することが困難であった。
【0009】
本発明は、工程が単純で、低コストで量産性が高く、スリーブ内面全体に均一かつ充分な機械的強度と耐熱性を有する黒色熱吸収性被膜を形成した熱陰極構体用スリーブ及びその製造方法を提供するものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、電子放出陰極の一部を構成するスリーブの内面に付着形成される黒色被膜が、表面に微細クラック構造または微細凹凸構造を有する、タンタルおよび、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物の複合膜であることを特徴とする。
【0011】
また黒色被膜の組成は、タンタルと、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物とが、質量比(タンタル:タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物)で、(80:20)乃至(10:90)の範囲である。
【0012】
さらに、使用されるスリーブの材質は、タンタルまたはタンタルを主成分とする合金、もしくはニオブまたはニオブを主成分とする合金、もしくはモリブデンまたはモリブデンを主成分とする合金からなる。
【0013】
さらに、黒色被膜形成にはスパッタリング法が用いられるが、そのスパッタリング装置は、スパッタリング陽極とスパッタリング陰極間に配置されたスリーブが両極に対して電気的に絶縁された構造を有する方法である。
【0014】
【作用】
前記手段によれば、スリーブ内面全体に均一な黒色粗面が形成される。
【0015】
また、形成された黒色被膜は、表面に微細なクラックまたは微細な凹凸を有するため、熱吸収面積が増大して熱吸収性に優れ、かつ、機械的強度が充分で、含浸型陰極組立およびヒータ挿入時に剥がれることがなく、ヒータを挿入して加熱しても黒色度が変化せず、含有成分の蒸発もない熱吸収層を得ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
【0017】
図2は、本発明に係わる黒色被膜の付着形成に用いられるスパッタリング装置の一例を示す断面構成図である。
【0018】
図2に示されるように、スパッタリング装置は、容器20と、回転軸21と、回転軸21に接続されるスパッタリング陽極22と、回転軸21に接続される絶縁体23と、絶縁体23に接続される保持板24と、スパッタリング陰極となるターゲット25と、マグネット26と、ターゲット25を囲んだシールド板27と、容器20とターゲット25間に接続される高周波電源28と、冷却水挿入口29と、真空排気口30と、不活性ガス挿入口31とからなり、保持板24の一部にスリーブ3を配置するための穴24aが設けられている。
【0019】
スパッタリング陰極となるターゲット25は、タンタル粉末とタングステン粉末とを、質量比(タンタル:タングステン)で、(20:80)で混合させたものであり、粉体状のままターゲットとして用いてもよく、また、粉体を焼結した状態でターゲットとして用いてもよい。
【0020】
このスパッタリング装置を用いてスパッタリングを行う場合、まず、スリーブ3を保持板24に設けられた穴24aに挿入し、そのフレア部によってスリーブ3を穴24a内に保持させる。次いで、高周波電源28によってスパッタリング陽極22とターゲット25間に高周波電圧を印加し、冷却水挿入口29から冷却水を供給し、真空排気口30から排気を行い、不活性ガス挿入口31から放電用アルゴンガスを供給し、さらに回転軸21によって保持板24を回転させる。
【0021】
かかるスパッタリングにより、スリーブ3の内面に、厚さ1μm程度の、表面に微細クラック構造を有する、タンタルおよびタングステンの複合被膜が形成される。
【0022】
なお、このスパッタリングにおいては、スリーブ3の内面だけに複合被膜が形成され、その外面への複合被膜の被着は避けられる。
【0023】
図3は、上記の方法によってスリーブ3の内面に形成された、タンタルおよびタングステンの複合膜の電子顕微鏡写真を示し、被膜は表面に微細なクラックを有する黒色粗面であり、膜の組成は、質量比(タンタル:タングステン)で、(20:80)であった。
【0024】
また図4は、タンタル粉末とタングステン粉末とを、質量比(タンタル:タングステン)で、(40:60)で混合したターゲットを用いて、図2に示すスパッタリング装置を用いて、上記と同様な方法によってスリーブ3の内面に形成された、タンタルおよびタングステンの複合膜の電子顕微鏡写真を示し、被膜は表面に微細な凹凸を有する黒色粗面であり、膜の組成は、質量比(タンタル:タングステン)で、(40:60)であった。
【0025】
このような微細クラック構造または微細凹凸構造を有する複合膜は、膜の組成が質量比(タンタル:タングステン)で、(80:20)乃至(10:90)の範囲である場合に形成されることが、実験の結果、確認された。また、このような組成の調節は、ターゲット材料であるタンタル粉末とタングステン粉末の混合比率を質量比(タンタル:タングステン)で、(80:20)乃至(10:90)の範囲で調整することによって容易に可能である。
【0026】
なお、上記実施形態においては、黒色被膜の材料となるターゲットをタンタルとタングステンの混合にて形成しているが、本発明においては、前記タングステンの代わりに、レニウムまたはタングステンとレニウムの混合物を用いても同様に均一な黒色被膜を得ることができた。
【0027】
また、図2に示されるようなスパッタリング装置、即ち、スパッタリング陽極とスパッタリング陰極間に配置されたスリーブが両極に対して電気的に絶縁された構造を有するスパッタリング装置を用いると、スリーブの内面全体に、均一な黒色粗面を形成することができる理由は、以下のように考えることができる。
【0028】
即ち、図2に示されるようなスパッタリング装置を用いると、スパッタリング動作中においては、プラズマに触れかつ電気的に絶縁されたスリーブ内面は負に帯電し、従ってプラスイオンを引きつけることによって、スパッタリング陽極とスパッタリング陰極間の空間にプラスイオンの流動層を生じ、この流動層がスパッタされた粒子の移動を容易にし、従って、スリーブ内面全体に均一な薄膜が形成されると思われる。
【0029】
また、図2に示すようなスパッタリング装置を用いて、ターゲットの材料としてタンタルとタングステンの混合材を使用すると、微細クラック構造または微細凹凸構造を有する黒色粗面が形成されるが、この理由は次のように考えられる。
【0030】
即ち、一般にスパッタリングによって形成されるタンタル薄膜は、イオンや電子で激しくボンバードされるときにクラックが入り易く、表面が滑らかでないことが多いことが知られている。
【0031】
本実施形態においては、スパッタリング陽極とスパッタリング陰極間に配置されたスリーブが両極に対して絶縁され、スパッタリング中に負に帯電することによって、イオンによってボンバードされるために、タングステン膜中に適量の微細なクラック構造または微細な凹凸構造を有するタンタルが混在して生成し、黒色粗面が形成されると思われる。
【0032】
なお、タンタル単体、またはタングステン単体をターゲット材料として用いてスパッタリングを行った場合には、本実施形態に見られるような、機械的強度が充分でかつ、微細なクラックまたは凹凸を有する黒色粗面を得ることはできなかった。
【0033】
以上の説明から明らかなように、図2のスパッタリング装置においては、スパッタリング陽極とスパッタリング陰極間に配置されたスリーブは両極に対して絶縁されているが、さらにこの絶縁されたスリーブに適当な電圧を印加してバイアススパッタを行っても、同様な効果を得られることは明らかである。
【0034】
また、本実施形態では、高周波マグネトロンスパッタリング法を用いているが、他の方法、即ち高周波スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、DCスパッタリング法を用いても、同様な効果が得られることは明らかである。
【0035】
また、本発明において得られる黒色被膜の厚さは、本実施例の場合の1μm以外の他の厚さ、即ち、0.5乃至5μm程度になるように選んでもよい。
【0036】
また、本実施形態において形成された黒色被膜を有するスリーブ内面は、含浸型陰極の動作温度である950℃付近の温度域において、黒色被膜を被着させていないスリーブと比較して、熱輻射率が0.3乃至0.4程度高いことが判明している。
【0037】
また、本発明による黒色被膜は、機械的強度が充分にあり、スリーブにヒータを挿入して加熱しても黒色度が変化せず、含有成分の蒸発もない熱吸収層である。
【0038】
また、本発明による黒色被膜を有するスリーブは、タンタルまたはタンタルを主成分とする合金、もしくはニオブまたはニオブを主成分とする合金、もしくはモリブデンまたはモリブデンを主成分とする合金から選択できる。
【0039】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明においては、電子放出陰極の一部を構成するスリーブの内面に、表面に微細クラック構造または微細凹凸構造を有する、タンタルおよび、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物の複合膜である熱吸収性黒色被膜をスパッタリング法によって付着させるものである。
【0040】
このように、本発明によれば、機械的強度および耐熱性に優れ、微細なクラックまたは凹凸による増大した熱吸収面積を有することから熱吸収性が優れ、かつ、黒色度が変化せず、含有金属の蒸発もない熱吸収層を、単純な工程によって、低コストで量産性のある方法によって得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の適用対象である含浸型陰極構体を示す図である。
【図2】 本発明に係わるスパッタリング装置の一例を示す断面構成図である。
【図3】 本発明の一実施形態を示す電子顕微鏡写真である。
【図4】 本発明の一実施形態を示す電子顕微鏡写真である。
【符号の説明】
1 陰極基体、2 カップ、3 スリーブ、4 ヒータ、5 ホルダ、6 リボン、7 黒色被膜、22 スパッタリング陽極、23 絶縁体、25 スパッタリング陰極(ターゲット)。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a hot cathode assembly sleeve used for an electron tube such as a color picture tube and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
In an electron tube such as a color picture tube, a hot cathode is used to emit an electron beam, and an impregnated cathode is known as a kind of the hot cathode.
[0003]
The impregnated cathode has been used for electron tubes such as traveling wave tubes and klystrons, but has recently been used in large-sized, high-definition color picture tubes, etc., taking advantage of the high current density characteristics of the impregnated cathode. .
[0004]
Such an impregnated-type cathode assembly is configured as shown in FIG. 1, and a short columnar cathode substrate 1 impregnated with an electron-emitting substance is accommodated in a bottomed short cylindrical cup 2, and the cup 2 Then, it is inserted into one end opening of the cylindrical sleeve 3 from the bottom side, and is fixed to the sleeve 3 with the cathode substrate 1 exposed. A heater 4 is built in the sleeve 3. The heater 4 is made of 3% rhenium-tungsten alloy wire, and its surface is coated with alumina as an insulator. Further, a dark layer made of a mixture of tungsten and alumina is coated on the surface of the alumina in order to improve thermal radiation characteristics. On the other hand, the sleeve 3 is coaxially supported and fixed to the center portion of the stepped cylindrical holder 5 via three ribbons 6. The sleeve 3 is provided with a flare (expansion) 3a at one open end so that the heater 4 can be easily inserted. The sleeve 3, the cup 2, and the three ribbons 6 are all made of tantalum, niobium, molybdenum, or an alloy containing at least one of them as a main component. A thin black film 7 is formed on the inner surface of the sleeve 3 so that the sleeve can efficiently absorb the heat generated from the heater. The sleeve 3 is an elongated pipe having a wall thickness of 15 to 20 μm, a diameter of 1.25 mm, and a length of 4.0 mm, for example.
[0005]
As a method of attaching a black film to such a sleeve, for example, there is the following method disclosed in JP-A-8-287824.
[0006]
That is, an aluminum thin film is deposited on the inner surface of the sleeve made of molybdenum by a sputtering method, and further, a first heat treatment is performed in a vacuum atmosphere at 600 ° C. for 30 minutes, and then in the same vacuum atmosphere. A secondary heat treatment is performed by heating at 800 ° C. for 1 hour. Subsequently, a final heat treatment is performed by heating at 10,000 ° C. for 1 hour in a wet hydrogen atmosphere to form a rough surface layer made of an intermetallic compound of aluminum and molybdenum, aluminum-molybdenum oxide, alumina, or the like. Since this rough surface layer has fine irregularities on the surface, there is an advantage that the heat absorption area is increased and the heat absorption is excellent.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The conventional method of forming a black film on a sleeve is a method with a large number of steps and high cost in mass production.
[0008]
In addition, it is difficult to form a uniform black film on the entire inner surface of the sleeve.
[0009]
The present invention provides a sleeve for a hot cathode assembly having a simple process, low cost, high mass productivity, and a black heat-absorbing coating having a uniform and sufficient mechanical strength and heat resistance on the entire inner surface of the sleeve, and a method for manufacturing the same Is to provide.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to tantalum and tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium, in which the black film formed on the inner surface of the sleeve constituting a part of the electron emission cathode has a fine crack structure or a fine uneven structure on the surface. It is a composite film.
[0011]
The composition of the black film is tantalum and tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium in a mass ratio (tantalum: tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium) (80:20) to (10:90). Range.
[0012]
Further, the sleeve material used is made of tantalum or an alloy containing tantalum as a main component, niobium or an alloy containing niobium as a main component, or molybdenum or an alloy containing molybdenum as a main component.
[0013]
Furthermore, although a sputtering method is used for the black coating film formation, the sputtering device, the sleeve placed between the sputtering anode and sputtering cathode is a method having the electrically insulated structure with respect to both electrodes.
[0014]
[Action]
According to the above means, a uniform black rough surface is formed on the entire inner surface of the sleeve.
[0015]
Further, since the formed black film has fine cracks or fine irregularities on the surface, the heat absorption area is increased, the heat absorption is excellent, the mechanical strength is sufficient, and the impregnated cathode assembly and heater It is possible to obtain a heat absorbing layer that does not peel off at the time of insertion, does not change the blackness even when a heater is inserted and is heated, and does not cause evaporation of the contained components.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0017]
FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram illustrating an example of a sputtering apparatus used for adhesion formation of a black film according to the present invention.
[0018]
As shown in FIG. 2, the sputtering apparatus is connected to the container 20, the rotating shaft 21, the sputtering anode 22 connected to the rotating shaft 21, the insulator 23 connected to the rotating shaft 21, and the insulator 23. Holding plate 24, target 25 serving as a sputtering cathode, magnet 26, shield plate 27 surrounding target 25, high-frequency power source 28 connected between container 20 and target 25, cooling water insertion port 29, The vacuum exhaust port 30 and the inert gas insertion port 31 are provided with a hole 24 a for arranging the sleeve 3 in a part of the holding plate 24.
[0019]
A target 25 serving as a sputtering cathode is a mixture of tantalum powder and tungsten powder in a mass ratio (tantalum: tungsten) (20:80), and may be used as a target in a powder state. Moreover, you may use as a target in the state which sintered powder.
[0020]
When performing sputtering using this sputtering apparatus, first, the sleeve 3 is inserted into the hole 24a provided in the holding plate 24, and the sleeve 3 is held in the hole 24a by the flare portion. Next, a high frequency voltage is applied between the sputtering anode 22 and the target 25 by the high frequency power source 28, cooling water is supplied from the cooling water insertion port 29, exhausted from the vacuum exhaust port 30, and discharged from the inert gas insertion port 31. Argon gas is supplied, and the holding plate 24 is rotated by the rotating shaft 21.
[0021]
By this sputtering, a composite film of tantalum and tungsten having a thickness of about 1 μm and a fine crack structure on the surface is formed on the inner surface of the sleeve 3.
[0022]
In this sputtering, a composite coating is formed only on the inner surface of the sleeve 3, and deposition of the composite coating on the outer surface is avoided.
[0023]
FIG. 3 shows an electron micrograph of a composite film of tantalum and tungsten formed on the inner surface of the sleeve 3 by the above-described method. The coating is a black rough surface having fine cracks on the surface. The mass ratio (tantalum: tungsten) was (20:80).
[0024]
4 is a method similar to the above using a sputtering apparatus shown in FIG. 2 using a target obtained by mixing tantalum powder and tungsten powder in a mass ratio (tantalum: tungsten) at (40:60). 2 shows an electron micrograph of a composite film of tantalum and tungsten formed on the inner surface of the sleeve 3 by coating, the coating is a black rough surface with fine irregularities on the surface, and the composition of the film is a mass ratio (tantalum: tungsten) (40:60).
[0025]
A composite film having such a fine crack structure or fine uneven structure is formed when the composition of the film is in the range of (80:20) to (10:90) at a mass ratio (tantalum: tungsten). However, the result of the experiment was confirmed. In addition, the composition is adjusted by adjusting the mixing ratio of the target material tantalum powder and tungsten powder in a mass ratio (tantalum: tungsten) in the range of (80:20) to (10:90). Easily possible.
[0026]
In the above embodiment, the target that is the material of the black film is formed by mixing tantalum and tungsten. However, in the present invention, rhenium or a mixture of tungsten and rhenium is used instead of tungsten. Similarly, a uniform black film could be obtained.
[0027]
Further, when a sputtering apparatus as shown in FIG. 2, that is, a sputtering apparatus having a structure in which a sleeve disposed between a sputtering anode and a sputtering cathode is electrically insulated from both electrodes, is used on the entire inner surface of the sleeve. The reason why a uniform black rough surface can be formed can be considered as follows.
[0028]
That is, when a sputtering apparatus as shown in FIG. 2 is used, during the sputtering operation, the inner surface of the sleeve that is in contact with the plasma and is electrically insulated is negatively charged, and therefore attracts positive ions, thereby It appears that a fluidized bed of positive ions is created in the space between the sputtering cathodes and this fluidized bed facilitates the movement of the sputtered particles, thus forming a uniform thin film over the entire sleeve inner surface.
[0029]
Further, when a tantalum and tungsten mixed material is used as a target material by using a sputtering apparatus as shown in FIG. 2, a black rough surface having a fine crack structure or a fine uneven structure is formed. It seems like.
[0030]
That is, it is known that a tantalum thin film generally formed by sputtering tends to crack when violently bombarded with ions or electrons, and the surface is often not smooth.
[0031]
In this embodiment, the sleeve disposed between the sputtering anode and the sputtering cathode is insulated from both electrodes, and is negatively charged during sputtering and bombarded by ions. It appears that tantalum having a fine crack structure or fine concavo-convex structure is formed and a black rough surface is formed.
[0032]
When sputtering is performed using tantalum alone or tungsten alone as a target material, a black rough surface having sufficient mechanical strength and having fine cracks or irregularities, as seen in this embodiment, is used. Couldn't get.
[0033]
As apparent from the above description, in the sputtering apparatus of FIG. 2 is a sleeve disposed between the sputtering anode and sputtering cathode is insulated with respect to both poles, further suitable equivalent voltage to the insulated sleeve It is clear that the same effect can be obtained even when bias sputtering is performed with application of.
[0034]
In the present embodiment, the high-frequency magnetron sputtering method is used. However, it is obvious that the same effect can be obtained by using other methods, that is, the high-frequency sputtering method, the magnetron sputtering method, and the DC sputtering method.
[0035]
Further, the thickness of the black film obtained in the present invention may be selected so as to be other than 1 μm in the present embodiment, that is, about 0.5 to 5 μm.
[0036]
In addition, the inner surface of the sleeve having the black coating formed in the present embodiment has a thermal radiation rate in the temperature range near 950 ° C., which is the operating temperature of the impregnated cathode, as compared with the sleeve not coated with the black coating. Has been found to be about 0.3 to 0.4 higher.
[0037]
The black coating according to the present invention is a heat absorbing layer that has sufficient mechanical strength, does not change its blackness even when it is heated by inserting a heater in the sleeve, and does not evaporate contained components.
[0038]
The sleeve having a black coating according to the present invention can be selected from tantalum or an alloy containing tantalum as a main component, niobium or an alloy containing niobium as a main component, or molybdenum or an alloy containing molybdenum as a main component.
[0039]
【The invention's effect】
As described above in detail, in the present invention, tantalum and tungsten, rhenium, or tungsten and rhenium having a fine crack structure or a fine concavo-convex structure on the inner surface of the sleeve constituting a part of the electron emission cathode are provided. A heat-absorbing black coating that is a composite film of the mixture is deposited by sputtering.
[0040]
Thus, according to the present invention, it has excellent mechanical strength and heat resistance, has an increased heat absorption area due to fine cracks or irregularities, has excellent heat absorption, and the blackness does not change and is contained There is an effect that a heat absorption layer free from metal evaporation can be obtained by a simple process with a low-cost and mass-productive method.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an impregnated cathode assembly to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram showing an example of a sputtering apparatus according to the present invention.
FIG. 3 is an electron micrograph showing an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an electron micrograph showing an embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 cathode substrate, 2 cup, 3 sleeve, 4 heater, 5 holder, 6 ribbon, 7 black coating, 22 sputtering anode, 23 insulator, 25 sputtering cathode (target).

Claims (4)

電子放出陰極の一部を構成するスリーブの内面に黒色被膜を付着形成した熱陰極構体用スリーブにおいて、
前記黒色被膜が、表面に微細クラック構造または微細凹凸構造を有する、タンタルおよび、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物の複合膜であることを特徴とする熱陰極構体用スリーブ。
In the sleeve for a hot cathode structure in which a black coating is formed on the inner surface of the sleeve constituting a part of the electron emission cathode,
A sleeve for a hot cathode assembly, wherein the black film is a composite film of tantalum and tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium having a fine crack structure or a fine uneven structure on the surface.
黒色被膜の組成は、タンタルと、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物とが、質量比(タンタル:タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物)で、(80:20)乃至(10:90)の範囲であることを特徴とする請求項1記載の熱陰極構体用スリーブ。  The composition of the black coating is such that tantalum and tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium are in a mass ratio (tantalum: tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium) and are (80:20) to (10:90). The sleeve for a hot cathode assembly according to claim 1, wherein the sleeve is in a range. 電子放出陰極の一部を構成するスリーブの内面に黒色被膜を付着形成した熱陰極構体用スリーブにおいて、
前記スリーブが、タンタルまたはタンタルを主成分とする合金、もしくはニオブまたはニオブを主成分とする合金、もしくはモリブデンまたはモリブデンを主成分とする合金からなり、
前記黒色被膜が、表面に微細クラック構造または微細凹凸構造を有する、タンタルおよび、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物の複合膜であることを特徴とする熱陰極構体用スリーブ。
In the sleeve for a hot cathode structure in which a black coating is formed on the inner surface of the sleeve constituting a part of the electron emission cathode,
The sleeve is made of tantalum or an alloy based on tantalum, or niobium or an alloy based on niobium, or molybdenum or an alloy based on molybdenum.
A sleeve for a hot cathode assembly, wherein the black film is a composite film of tantalum and tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium having a fine crack structure or a fine uneven structure on the surface.
スパッタリング陽極とスパッタリング陰極間に配置し、両極に対して電気的に絶縁した保持板を有する構造のスパッタリング装置を用い、前記保持板上に配置したスリーブの内面に、表面に微細クラック構造または微細凹凸構造を有する、タンタル及び、タングステンまたはレニウムまたはタングステンとレニウムの混合物の複合膜からなる黒色被膜を付着形成することを特徴とする熱陰極構体用スリーブの製造方法。  Using a sputtering apparatus having a holding plate arranged between the sputtering anode and the sputtering cathode and electrically insulated from both electrodes, the inner surface of the sleeve arranged on the holding plate has a fine crack structure or fine unevenness on the surface. A method of manufacturing a sleeve for a hot cathode assembly, comprising forming a black film comprising a composite film of tantalum and tungsten or rhenium or a mixture of tungsten and rhenium having a structure.
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