JP3671222B2 - Method and apparatus for analyzing radical species - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、パーオキシラジカル等の不安定ラジカル種を基板に捕捉し、その化学構造や反応を調べることができるようにしたラジカル種の分析方法及び分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
パーオキシラジカルの化学構造や反応を調べることは、大気環境の研究において大変重要である。例えば、代替フロンのHCFC134a(CF3CH2F)は大気中で分解されCF3OOラジカルを生成するが、このラジカルの大気中反応を調べることはHCFC134aの環境影響を評価する上で大変重要である。また他の大気中有機物質も大気中の酸素と反応し、必ずパーオキシラジカルを生成する分解過程を通るため、このようなラジカル中間体は分岐比や分解機構を調べる上できわめて重要である。
【0003】
パーオキシラジカルを分析する方法として従来では、希ガスマトリックス中に反応出発物質をあらかじめ閉じこめ、その後、マトリックスに光を照射することで、マトリックス中で反応を起こしパーオキシラジカルを生成させ、観測する方法がとられていた。しかしこの方法では実際の気相反応とは反応機構が異なる可能性があり、大気反応の追跡のためには、気相反応で生成したパーオキシラジカルを分析できる手法が必要である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このようなパーオキシラジカル中間体は非常に不安定なため、従来の大気チェンバーによる実験方法では検出することができなかった。パーオキシラジカル種の測定には従来からマトリックス法が使用されていたが、従来の方法ではマトリックス中にあらかじめ反応出発物質を閉じこめ、マトリックス中でパーオキシラジカルを生成させる方法がとられていたが、この方法では、実際の大気反応とは反応機構が異なる可能性もあり、また複雑な反応の場合、パーオキシラジカルを生成するのが困難である。(なお、本装置においては後述するように、気相反応で効率よくパーオキシラジカルを生成し、検出することができるため、大気反応で起こる複雑な反応を扱うことができる。)また、上記のようなパーオキシラジカルに限らず、きわめて不安定なラジカル種を確実に検出することができる手法の開発が望まれている。
【0005】
したがって本発明は、パーオキシラジカル等のラジカル種を正確に、且つ容易に検出することができるラジカル種の分析方法及び分析装置を提供することを主たる目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明に係るラジカル種の分析方法は、超高真空の分析室内に冷却した試料基板を固定し、アルゴンガスと、酸素と、基質ガスとを、前記試料基板の近接位置に集中して供給し、前記ガスの集中部分にレーザを照射してガスを反応させ、反応して生成したラジカル種のガスを前記試料基板にアルゴンガスをマトリックスとして吸着捕捉し、前記吸着捕捉したガスを高感度反射型赤外吸収分光器で測定するようにしたものである。
【0007】
また、本発明に係るラジカル種の分析装置は、試料基板を冷却可能に固定した超高真空の分析室と、アルゴンガスと、酸素と、基質ガスとを、前記試料基板の近接位置に集中して供給するガス供給装置と、前記ガスの集中部分にレーザを照射しガスを反応させるレーザ照射装置と、前記試料基板に吸着捕捉した、アルゴンガスをマトリックスとしたラジカル種のガスを測定する高感度反射型赤外吸収分光器とにより構成したものである。
【0008】
また、本発明に係る他のラジカル種の分析装置は、前記ラジカル種の分析装置において、前記試料基板を液体ヘリウムクライオスタットで分析作業中冷却するようにしたものである。
【0009】
また、本発明に係る更に他のラジカル種の分析装置は、前記ラジカル種の分析装置において、前記集中供給する各ガスを互いに立体角90度で交差させ、試料基板に対して入射角45度で供給するようにしたものである。
【0010】
また、本発明に係る更に他のラジカル種の分析装置は、前記ラジカル種の分析装置において、前記レーザ照射装置から照射するレーザは、試料基板に対して平行に照射するようにしたものである。
【0011】
本発明によるラジカル種の分析装置をより具体的に述べると、この分析装置は大別して、超高真空分析チェンバー、ロードロックチェンバー部、試料基板冷却機構(液体ヘリュウム型クライオスタット)および表面分析用高感度反射型フーリエ変換赤外分光光度計とエキシマーレーザー照射システムの5つで構成されている。なお、本発明において「超高真空」とは、通常この言葉が用いられている10-5〜10-8Paの範囲をいう。このような超高真空のチェンバーに設置した、立体角90度で交差する3系統のガス導入管よりそれぞれ、基質ガス、酸素等のラジカルソースガス、アルゴンガスを、それぞれ冷却基板に対し入射角45度で吹き付け混合させ、同時に波長245nm程度のレーザー光を基板下方におけるこれらのガスが集中する部分に照射し、分析チェンバー内で反応を行う。反応したガスは冷却基板にアルゴンガスをマトリックスとして捕捉される。基板に吸着した反応ガスの分析は反射型FT−IR(IR-RAS;reflection-absorption spectroscopy)を用いて行なう。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明のより具体的な実施例を図面に沿って説明する。図1は本発明によるパーオキシラジカル分析装置1の実施例における、主要構成部品を模式的に表した図であり、この装置は全体として、内部にCu等の試料基板2が図中下方にガス捕捉面を向けて固定される超高真空の分析チェンバー3と、複数の試料を供給可能なロードロックチェンバー4と、試料を冷却する液体ヘリュウム型クライオスタット等が用いられる試料基板冷却装置5と、赤外光源6から射出され、試料基板2で反射した赤外光を赤外検出器7で受光し、その信号をコンピュータ処理して試料基板の表面分析を行う高感度反射型フーリエ変換赤外分光光度計8と、図中紙面に垂直な方向、即ち試料基板2に平行に照射されている例えば波長245nmのレーザー光7を照射する図示されないエキシマレーザー照射装置と、分析チェンバー3に後述するような3種類のガスを供給する3個のノズルを備えたガス供給装置とにより主として構成されている。
【0013】
超高真空分析チェンバー3は7×10-8Pa程度の超高真空とすることができ、その内部には立体角90度でそれぞれ交差する3系統のガス導入管としてのノズルを備えており、図中では第1ノズル10からアルゴンガスを供給し、また第2ノズル11から99.9999%の純度の酸素ガス等のラジカルソースガスを供給し、更に第3ノズル12からCF3I等の基質ガスを供給している。なお、図中では模式的に示しているが、これらのノズルはいずれも試料基板2に対して45度で吹き付けるようにしている。
【0014】
上記のような各ノズルから供給されるガスが集中して衝突し混合する位置に前記のようなレーザ光7が照射され、それによりこれらのガスはこの分析チェンバー3内で反応を行う。なお、図示の装置においては、ロードロックチェンバー4と分析チェンバー3とを連通路13で連通し、この連通路13に隔離用バルブ14を設け、この隔離用バルブ14を解放し、試料移送ロッド15の作動により、分析チェンバー3とほぼ同様の真空に保たれているロードロックチェンバー4内の試料基板を、分析チェンバー3内に移送することができるようになっており、分析チェンバー3内に移送された試料基板は図示されない搬送手段により所定の位置に移送して固定し、図示実施例ではその上に試料基板冷却装置5が載置されてこれを冷却可能にしている。
【0015】
上記のような装置において、本発明者らは以下のような分析実験を行い、この装置によってパーオキシラジカルを検出することができることを確認した。即ちバックグラウンドの真空度を7×10-8Paにした分析チェンバー3に、バリアブルリークバルブで調整しながら第1ノズル10からマトリックスガスとしてのアルゴンガスを、分析チェンバー3内の圧力が5.0×10-6Paになるまで導入する。次に第2ノズル11から99.9999%の酸素ガスを、分析チェンバー3内の圧力が5.0×10-5Paになるまで導入し、最後に基質ガスとしてのCF3Iを第3ノズル13より分析チェンバー3内の圧力が1.3×10-4Paの圧力になるまで導入した。このように3個のノズルから噴射した各ガスが混合している部分にレーザーが当たるように、パルス周期が50Hz、波長が245nmのエキシマーレーザー7を、試料基板2に並行に照射し、これらのガスを反応状態にした。
【0016】
それにより、上記のようにして反応したガスは、予め液体ヘリウムクライオスタットで4度K程度に冷却しておいた試料基板2の表面に対して、Arガスをマトリックスとして捕捉され、さらに吹き付け時間を長くすることにより、微量に生成したパーオキシラジカルを濃縮することができる。このように試料基板2に吸着し捕捉された生成物を、従来から用いられている反射型赤外吸収分光器で測定した。このような反射型赤外吸収分光器(RAS)を用いることにより、高感度に低濃度の生成物を測定することが可能である。
【0017】
図2にそれぞれ、破線で示した光照射なしのスペクトルと、実線で示した光照射ありのスペクトルを示す。同図において、光照射なしの赤外線スペクトルでは、CF2Iの伸縮振動の吸収が1192cm-1、1085cm-1と、偏角振動の吸収が741cm-1に現れる。
【0018】
気相中で測定したCF2の赤外線スペクトルはそれぞれ、1187cm-1、1075cm-1 743cm-1にそれぞれピークが現れるので、上記のようにマトリックスにすると、伸縮振動のピークが上記のようにシフトすることが分かった。光を照射した時の赤外線スペクトルは1192cm-1、1085cm-1のピークが消え、明らかに光酸化分解生成物と思われる、新しいピークが現れた。CF2Iは分析チェンバー内で次式のような分解過程を経由し、CF32・ラジカルが生成することが予想される。
λ=245nm
CF3I → CF3・+ I (1)
CF3+O2 → CF32・ (2)
【0019】
文献によるとCF32・ラジカルは1173cm-1と1094cm-1に特異的な赤外吸収を持つことが報告されている。この文献はそれぞれ熱分解とマトリックス中の光分解でそれぞれ生成したCF32・ラジカルを測定しているデータである。これらの文献を参考に光照射をした時の赤外線スペクトルを定性すると、1263cm-1、1172cm-1、1093cm-1、883cm-1にそれぞれ、CF3、FCF2、O−O、CO結合の伸縮に帰属された。このことにより、本装置を用いて、気相分解で生成したパーオキシラジカル(CF32・)を検出できたことを確認した。
【0020】
【発明の効果】
本発明によるラジカル種の分析方法及び分析装置においては、ガス濃度が約1ppb以下でガス全圧が1/3×10−4Pa程度の低濃度の気相反応によって生成した分解生成物である不安定なラジカル種でも、その微量分析が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるラジカル種の分析装置の実施例を示す図である。
【図2】本発明による分析装置で得られたCF3IのArマトリックスと光酸化生成物のArマトリックスの赤外吸収の実験データを示す図である。
【符号の説明】
1 分析装置
2 試料基板
3 分析チェンバー
4 ロードロックチェンバー
5 試料基板冷却装置
6 赤外光源
7 赤外検出器
8 赤外分光光度計
9 レーザ光
10 第1ノズル
11 第2ノズル
12 第3ノズル
13 連通路
14 隔離用バルブ
15 試料移送ロッド
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a radical species analyzing method and analyzer capable of capturing unstable radical species such as peroxy radicals on a substrate and examining their chemical structures and reactions.
[0002]
[Prior art]
It is very important to study the chemical structure and reactions of peroxy radicals in the study of atmospheric environment. For example, HCFC134a (CF 3 CH 2 F), which is an alternative chlorofluorocarbon, is decomposed in the atmosphere to produce CF 3 OO radicals. Examining the reaction of these radicals in the atmosphere is very important for evaluating the environmental effects of HCFC 134a. is there. In addition, other organic substances in the atmosphere react with oxygen in the atmosphere and always undergo a decomposition process that generates peroxy radicals. Therefore, such radical intermediates are extremely important in examining the branching ratio and decomposition mechanism.
[0003]
As a method for analyzing peroxy radicals, conventionally, a reaction starting material is confined in a rare gas matrix in advance, and then the matrix is irradiated with light to cause peroxy radicals to be generated and observed. Was taken. However, in this method, the reaction mechanism may be different from the actual gas phase reaction, and in order to trace the atmospheric reaction, a method capable of analyzing peroxy radicals generated in the gas phase reaction is necessary.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, since such a peroxy radical intermediate is very unstable, it could not be detected by an experimental method using a conventional atmospheric chamber. Matrix method has been used for the measurement of peroxy radical species, but in the conventional method, a reaction starting material was previously confined in the matrix to generate peroxy radical in the matrix. In this method, the reaction mechanism may be different from the actual atmospheric reaction, and in the case of a complicated reaction, it is difficult to generate a peroxy radical. (In this device, as will be described later, since a peroxy radical can be efficiently generated and detected by a gas phase reaction, a complicated reaction occurring in an atmospheric reaction can be handled.) It is desired to develop a technique capable of reliably detecting extremely unstable radical species in addition to such peroxy radicals.
[0005]
Therefore, the main object of the present invention is to provide a radical species analyzing method and analyzer capable of accurately and easily detecting radical species such as peroxy radicals.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the radical species analysis method according to the present invention fixes a cooled sample substrate in an ultra-high vacuum analysis chamber, and arranges argon gas, oxygen, and substrate gas in the proximity of the sample substrate. The concentrated gas is supplied to the position, the laser is irradiated to the concentrated portion of the gas, the gas reacts, and the radical species gas generated by the reaction is adsorbed and trapped on the sample substrate using argon gas as a matrix. The measured gas is measured with a high sensitivity reflection type infrared absorption spectrometer.
[0007]
Further, the radical species analyzer according to the present invention concentrates an ultra-high vacuum analysis chamber in which a sample substrate is fixed so as to be cooled, an argon gas, oxygen, and a substrate gas at a position close to the sample substrate. A gas supply device that supplies gas, a laser irradiation device that irradiates a laser to a concentrated portion of the gas, and reacts the gas; A reflection type infrared absorption spectrometer.
[0008]
In another radical species analyzer according to the present invention, the sample substrate is cooled by a liquid helium cryostat during an analysis operation in the radical species analyzer.
[0009]
The radical species analyzer according to the present invention is the radical species analyzer, wherein the concentrated gases intersect each other at a solid angle of 90 degrees, and the incident angle is 45 degrees with respect to the sample substrate. It is to be supplied.
[0010]
Still another radical species analyzer according to the present invention is such that in the radical species analyzer, the laser irradiated from the laser irradiation device is irradiated in parallel to the sample substrate.
[0011]
The analysis apparatus for radical species according to the present invention will be described more specifically. The analysis apparatus is roughly classified into an ultra-high vacuum analysis chamber, a load lock chamber section, a sample substrate cooling mechanism (liquid helium type cryostat), and a high sensitivity for surface analysis. It consists of five: a reflection type Fourier transform infrared spectrophotometer and an excimer laser irradiation system. In the present invention, “ultra-high vacuum” refers to a range of 10 −5 to 10 −8 Pa in which this term is usually used. Radiation source gas such as substrate gas, oxygen, etc., and argon gas are respectively incident on the cooling substrate from three gas introduction pipes installed at such an ultra-high vacuum chamber and intersecting at a solid angle of 90 degrees. At the same time, a laser beam having a wavelength of about 245 nm is irradiated to a portion where these gases are concentrated below the substrate, and a reaction is performed in the analysis chamber. The reacted gas is trapped on the cooling substrate using argon gas as a matrix. Analysis of the reaction gas adsorbed on the substrate is performed using reflection-absorption spectroscopy (IR-RAS).
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
More specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing main components in an embodiment of a peroxy radical analyzing apparatus 1 according to the present invention. This apparatus as a whole has a sample substrate 2 such as Cu inside as a gas in the lower part of the figure. An ultra-high vacuum analysis chamber 3 fixed with the capture surface facing, a load lock chamber 4 capable of supplying a plurality of samples, a sample substrate cooling device 5 using a liquid helium cryostat or the like for cooling the samples, red Infrared light emitted from the external light source 6 and reflected by the sample substrate 2 is received by the infrared detector 7, and the signal is computer processed to analyze the surface of the sample substrate. An excimer laser irradiation device (not shown) that irradiates a laser beam 7 having a wavelength of, for example, 245 nm, which is irradiated in a direction perpendicular to the paper surface in FIG. It is composed mainly by a gas supply apparatus provided with three nozzles for supplying three kinds of gases to be described later in the chamber 3.
[0013]
The ultra-high vacuum analysis chamber 3 can be set to an ultra-high vacuum of about 7 × 10 −8 Pa, and is equipped with nozzles as three gas introduction pipes intersecting each other at a solid angle of 90 degrees, In the figure, argon gas is supplied from the first nozzle 10, radical source gas such as oxygen gas having a purity of 99.9999% is supplied from the second nozzle 11, and a substrate such as CF 3 I is further supplied from the third nozzle 12. Gas is being supplied. Although schematically shown in the drawing, these nozzles are all blown at 45 degrees to the sample substrate 2.
[0014]
The laser beam 7 as described above is irradiated at a position where the gases supplied from the nozzles as described above are concentrated and collide with each other, so that these gases react in the analysis chamber 3. In the illustrated apparatus, the load lock chamber 4 and the analysis chamber 3 are communicated with each other through a communication path 13, an isolation valve 14 is provided in the communication path 13, the isolation valve 14 is released, and a sample transfer rod 15 is provided. As a result, the sample substrate in the load lock chamber 4 maintained in a vacuum similar to that of the analysis chamber 3 can be transferred into the analysis chamber 3 and transferred into the analysis chamber 3. The sample substrate is transported to a predetermined position and fixed by a conveying means (not shown), and in the illustrated embodiment, the sample substrate cooling device 5 is placed thereon so that it can be cooled.
[0015]
In the apparatus as described above, the present inventors conducted the following analytical experiment and confirmed that peroxy radicals can be detected by this apparatus. That is, argon gas as a matrix gas is supplied from the first nozzle 10 to the analysis chamber 3 with a background vacuum of 7 × 10 −8 Pa while adjusting with a variable leak valve, and the pressure in the analysis chamber 3 is 5.0. It introduce | transduces until it becomes * 10 <-6> Pa. Next, 99.9999% oxygen gas was introduced from the second nozzle 11 until the pressure in the analysis chamber 3 reached 5.0 × 10 −5 Pa, and finally CF 3 I as a substrate gas was introduced into the third nozzle. 13 until the pressure in the analysis chamber 3 reached 1.3 × 10 −4 Pa. In this way, the sample substrate 2 is irradiated in parallel with the excimer laser 7 having a pulse period of 50 Hz and a wavelength of 245 nm so that the laser strikes a portion where the gases ejected from the three nozzles are mixed. The gas was allowed to react.
[0016]
Thereby, the gas reacted as described above is trapped as Ar gas as a matrix on the surface of the sample substrate 2 that has been cooled to about 4 degrees K in advance with a liquid helium cryostat, and the spraying time is further increased. By doing so, the peroxy radical produced | generated in trace amount can be concentrated. The product thus adsorbed and trapped on the sample substrate 2 was measured with a reflection type infrared absorption spectrometer conventionally used. By using such a reflection type infrared absorption spectrometer (RAS), it is possible to measure a low concentration product with high sensitivity.
[0017]
FIG. 2 shows a spectrum without light irradiation indicated by a broken line and a spectrum with light irradiation indicated by a solid line, respectively. In the figure, in the infrared spectrum without light irradiation, the absorption of the stretching vibration of CF 2 I appears at 1192 cm −1 and 1085 cm −1, and the absorption of the deflection vibration appears at 741 cm −1 .
[0018]
Each infrared spectrum of CF 2 measured in the gas phase is, 1187cm -1, 1075cm -1, the peak respectively appears at 743cm -1, when the matrix as described above, the peak of the stretching vibration shifts as described above I found out that In the infrared spectrum when irradiated with light, the peaks at 1192 cm −1 and 1085 cm −1 disappeared, and new peaks apparently appearing as photooxidative decomposition products appeared. CF 2 I is expected to generate CF 3 O 2 .radicals through a decomposition process of the following formula in the analysis chamber.
λ = 245nm
CF 3 I → CF 3 · + I (1)
CF 3 + O 2 → CF 3 O 2 (2)
[0019]
According to literature, it has been reported that CF 3 O 2 .radical has specific infrared absorption at 1173 cm −1 and 1094 cm −1 . This document is data measuring CF 3 O 2 .radicals generated by thermal decomposition and photolysis in a matrix, respectively. When these documents are qualitative infrared spectrum when irradiated with light as a reference, 1263cm -1, 1172cm -1, 1093cm -1, respectively 883cm -1, CF 3, FCF 2 , O-O, stretching the CO bond Attributed to. Thus, it was confirmed that peroxy radicals (CF 3 O 2. ) Generated by gas phase decomposition could be detected using this apparatus.
[0020]
【The invention's effect】
In the method and apparatus for analyzing radical species according to the present invention, an unstable decomposition product generated by a low-concentration gas phase reaction having a gas concentration of about 1 ppb or less and a total gas pressure of about 1/3 × 10 −4 Pa. Even small radical species can be analyzed in trace amounts.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an apparatus for analyzing radical species according to the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing experimental data of infrared absorption of an Ar matrix of CF 3 I and an Ar matrix of a photooxidation product obtained by the analyzer according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Analyzer 2 Sample substrate 3 Analysis chamber 4 Load lock chamber 5 Sample substrate cooling device 6 Infrared light source 7 Infrared detector 8 Infrared spectrophotometer 9 Laser light 10 First nozzle 11 Second nozzle 12 Third nozzle 13 Station Passage 14 Isolation valve 15 Sample transfer rod

Claims (5)

超高真空の分析室内に冷却した試料基板を固定し、
アルゴンガスと、酸素と、基質ガスとを、前記試料基板の近接位置に集中して供給し、
前記ガスの集中部分にレーザを照射してガスを反応させ、
反応して生成したラジカル種のガスを前記試料基板にアルゴンガスをマトリックスとして吸着捕捉し、
前記吸着捕捉したガスを高感度反射型赤外吸収分光器で測定することを特徴とするラジカル種の分析方法。
Fix the cooled sample substrate in the ultra-high vacuum analysis chamber,
Argon gas, oxygen, and substrate gas are concentrated and supplied to the vicinity of the sample substrate,
Irradiate a laser to the concentrated portion of the gas to react the gas,
The radical species gas generated by the reaction is adsorbed and trapped on the sample substrate using argon gas as a matrix,
A method for analyzing radical species, wherein the adsorbed and trapped gas is measured with a high-sensitivity reflective infrared absorption spectrometer.
試料基板を冷却可能に固定した超高真空の分析室と、
アルゴンガスと、酸素と、基質ガスとを、前記試料基板の近接位置に集中して供給するガス供給装置と、
前記ガスの集中部分にレーザを照射しガスを反応させるレーザ照射装置と、
前記試料基板に吸着捕捉した、アルゴンガスをマトリックスとしたラジカル種のガスを測定する高感度反射型赤外吸収分光器とからなることを特徴とするラジカル種の分析装置。
An ultra-high vacuum analysis chamber in which the sample substrate is fixed so that it can be cooled;
A gas supply device that supplies argon gas, oxygen, and substrate gas in a concentrated manner in the vicinity of the sample substrate;
A laser irradiation device for irradiating a laser to the concentrated portion of the gas and reacting the gas;
An apparatus for analyzing radical species, comprising: a high-sensitivity reflection-type infrared absorption spectrometer that measures radical species gas using argon gas as a matrix adsorbed and captured on the sample substrate.
前記試料基板を液体ヘリウムクライオスタットで分析作業中冷却することを特徴とする請求項2記載のラジカル種の分析装置。3. The radical species analyzer according to claim 2, wherein the sample substrate is cooled during an analysis operation with a liquid helium cryostat. 前記集中供給する各ガスを互いに立体角90度で交差させ、試料基板に対して入射角45度で供給することを特徴とする請求項2記載のラジカル種の分析装置。3. The radical species analyzer according to claim 2, wherein each of the concentrated gases crosses each other at a solid angle of 90 degrees and is supplied to the sample substrate at an incident angle of 45 degrees. 前記レーザ照射装置から照射するレーザは、試料基板に対して平行に照射することを特徴とする請求項2記載のラジカル種の分析装置。3. The radical species analyzer according to claim 2, wherein the laser irradiated from the laser irradiation apparatus is irradiated in parallel to the sample substrate.
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