JP3652486B2 - Color filter substrate and method for manufacturing the color filter substrate - Google Patents

Color filter substrate and method for manufacturing the color filter substrate Download PDF

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルター基板の製造方法に関するものである。特に携帯性にすぐれたプラスチックフィルム基板に好適なカラーフィルター基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
液晶表示装置は様々な分野で使用されるようになり、情報表示装置としてCRTにせまる勢いである。特に、携帯性が要求される機器においては小型、軽量、小消費電力であることから多くの機器に採用されている。このうち、ほとんどのものが基板にガラスを使用したものであるが、携帯電話や電子手帳等の携帯用機器にはプラスチックフィルムを使用した液晶表示装置が用いられるようになった。プラスチックフィルムはその厚さが0.1〜0.3mm程度であり、重量も軽いため携帯用機器に最適である。しかしながら、フィルム基板では微細なパターンニングが困難であること、基板の寸法が温度や湿度等の環境によって微妙に変化することなどから、カラーフィルターを形成することが難しく、ほとんどのものはモノクロ表示である。一方、カラーフィルターを使用しないカラー表示方法も提案されているが、表示できる色数に制限があり、その表示色も鮮やかなものではない。また、この方法では2枚の基板間距離(セルギャップ)を厳密に制御する必要があるため、基板間距離の制御が難しいプラスチックフィルム液晶表示装置ではいまだ実用化に至ってはいない。
液晶用カラーフィルターの製造方法としては染色法、顔料分散法、電着法、ミセル電解法、印刷法等さまざまなものが提案されている。染色法、顔料分散法、印刷法などでは赤(R)、緑(G)、青(B)及び黒(BK)のパターン形成において、それぞれ位置を他のパターンに対して正確に位置合わせを行う必要がある。たとえば、始めに黒パターンを形成し、この黒パターンに対して赤、緑、青の各パターンを精密に位置合わせしながら形成していく。また、カラーフィルターパターンと液晶駆動用電極との位置合わせも必要である。位置合わせ精度は使用する基板の材質、サイズ、製造装置等によるが、ガラス基板を使用する場合、ミクロン単位の位置合わせが可能である。一方、ガラス基板と比較してプラスチックフィルム基板は大きな寸法変化を起こす。熱履歴は当然のこと、フィルムが置かれている温湿度によって±0.1%もの寸法変化を起こす。このため、精密な位置合わせを行うことは非常に難しい。プラスチックフィルム基板上にカラーフィルターを作成するためには、精密な位置合わせを必要としない、もしくは精密な位置合わせを必要とする工程を極力減らした製造プロセスが必要である。
【0003】
前述したカラーフィルターの製造方法のうちミセル電解法(特開平2−24603、特開平2−146001)においては基板に設けられた透明導電膜パターン上に選択的にカラーフィルター層を形成するため、RGB各色間に位置ずれが発生しない。また、カラーフィルター層を導電性材料にする、もしくはカラーフィルター層に導電性材料を混合することによってフィルター形成用の電極を液晶駆動用電極と兼用することが提案されている(特開平6−34809)。
しかしながら、カラーフィルター層を導電性にした場合、複数色(たとえばR、G、Bの三色)から成るカラーフィルターを形成する場合には各色ごとに電極を選択的に接続しなければならない。カラー液晶表示装置の電極ピッチは100μm以下のものが一般的であり、その一本、一本の電極を直接プロービングして外部回路と接続することは難しい。このため、特開平3−102302においてはR、G、B各色に対応する電極を選択的に取り出せるような電極取出窓口を感光性樹脂により形成したのち、導電性ペーストにて外部回路との接続を行っている。ところがこの方法によりプラスチックフィルム基板上にカラーフィルターの形成を試みたところ、基板寸法変化による導電性ペーストと電極材料との接触不良等の問題が発生した。
一方、特開平2−175897や特開平3−4202には電極取出窓を使用せず、着色後の電極をエッチングにより切断する方法も提案されているが、いずれの方法も製造工程が複雑になり、プラスチックフィルム基板に応用することは難しい。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的はプラスチックフィルム基板上に電気化学的法により導電性カラーフィルターを形成する方法、及びこの導電性カラーフィルターを装着したフィルム基板を使用したプラスチックカラー液晶表示装置を提供することである。
特にコンタクトホール部の導通をより確実にし、接続不良に伴うフィルター形成時の不良を大幅に低減した導電性カラーフィルターおよびその製造方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
図2は従来のコンタクトホール部の断面図を模式的に示したものである。このような従来例の電気的接続では接続が不安定となり、接触不良によって部分的にカラーフィルターが形成されないという不良を生ずることがあった。この現象は基板1として樹脂フィルムを用いたときには特に顕著であった。
本発明者らはこのような現象を改良すべく種々検討を行った結果、前記接触不良の原因は、導通材と電極の接着力にあり、特に柔軟性のある樹脂基板の場合、基板の変形に伴ってコンタクトホール部の導通材が浮いてしまい、導電材と電極の十分な接触が得られないことによるという結論に達した。さらに本発明者らはこの点を改良すべく検討を行った結果、コンタクトホール部に導通材との接触面積を増加させる構造を設けることによってこのような問題点を解決できることを見いだし本発明に至った。
【0006】
すなわち、本発明によれば、基板上にパターン形成された電極の選択された電極に着色成分が堆積され、該着色電極上にはコンタクトホールが絶縁材によって形成されており、かつ前記コンタクトホールによって導通材を介して電極と外部電源を接続して構成されるカラーフィルター基板において、コンタクトホール部に導通材との接触面積を増加させる構造を設けたことを特徴とするカラーフィルター基板および該カラーフィルター基板の製造方法を提供することにより、前記カラーフィルター基板に関する課題を解決することができた。
【0007】
本発明のカラーフィルター基板は、例えば基板上にパターン形成された電極の特定の電極には、導通材を介して電極と外部電源を接続するためのコンタクトホールが絶縁材によって電極上の一部に形成され、かつ該コンタクトホール部に導通材との接触面積を増加させる構造を設けたパターン形成された電極基板を着色成分を含む電解液に浸漬し、選択した電極に通電して着色成分を電極上に堆積させることにより製造することができる。
【0008】
以下、本発明のカラーフィルター基板、および該カラーフィルター基板の製造法を図面に基づいて詳しく説明する。
図1は、電解液に浸漬する基板の模式図である。
1はガラスや合成樹脂などからなる絶縁性基板、21〜23は基板上に設けられた電極であり、たとえば21が青、22が緑、23が赤というように複数色のフィルターに対応して設けられる。3は絶縁膜であり、コンタクトホール4が形成されている。5は導通材、52、53は外部電源回路との接続部である。この基板を例えばAで示した線より下を顔料を含む電解液に漬け、外部回路から導通材を介してコンタクトホールの開けられた電極に電圧を印加することによって、特定の選択された電極群にのみカラーフィルターが形成される。例えば、青の電解液に浸漬し通電することにより21の電極上に青フィルターが、緑の電解液に浸漬し通電することにより22の電極上に緑のフィルターが、赤の電解液に浸漬して通電することによって23に赤のフィルターを形成することができる。
【0009】
図3は本発明の別のカラーフィルター基板の構成例を示したものである。本例のものではコンタクトホールの壁面に図3に示すような逆テーパー構造を設け、コンタクトホール内の導通材の浮きを防止するものである。逆テーパー状の構造を形成する方法は特に限定されないが、例えば、パターン基板上に露光によって可溶化するポジ型フォトレジストを塗布し、裏面からパターン露光することにより図3に示すような逆テーパー状の壁面を持ったコンタクトホールを形成する。または露光によって架橋し不溶となるネガ型のフォトレジストを用い上面から露光することによっても逆テーパー状の断面を得ることができる。この場合のテーパーの角度は10゜から45゜の範囲が好ましい。
【0010】
図4は本発明の別のカラーフィルター基板の構成例を示したものである。
本例のものではコンタクトホール内に突起部7を設けることにより、導通材の接着力を向上させるとともに導通材を平坦化し、コンタクトホール部にかかる応力を分散させるものである。
突起部7の形状は高さが絶縁膜厚の10%〜120%が好ましく、50%〜100%の範囲が好ましい。コンタクトホールの水平寸法に対しては、突起の幅は5%〜90%の範囲が好ましい。また突起の数はコンタクトホールに対して1個とは限らず、複数個を設けることができ、この場合、さらに接着強度が向上するため好ましい。
突起は絶縁膜と同じ材料でも異なっていても良いが、同じ材料で構成する方がプロセスが簡略化されて好ましい。なお、本例のものにおいて、図5のように逆テーパー状の壁面構造および突起部7を設けることでさらに導通材の接着力を高めることができる。また、突起部は図4および5に示すように電極上に形成することもできるが、図8に示すように電極下部に設けることもできる。このような構造により、導通材を平坦に近くまたは周辺に対して盛り上がるように形成することができる。このような構造とすることにより導通材の硬化時に導通材が電極から浮き上がりにくくすることができるためより確実な接続を確保することができる。またこの例では突起部を絶縁体を用いて形成した場合に比べて導通面積を大きくすることができるという利点を有しており好ましい。このような構造を実現するには、具体的には電極成膜前にフォトレジスト等を用いて突起部9を形成すればよい。また、このような盛り上がり部を複数設けることもできる。
【0011】
図6(a)および(b)は本発明の別のカラーフィルター基板の構成例を示したものである。
本例のものでは、各電極あたり1つであったコンタクトホールを複数個にすることによって、より確実な接触を得るものであり、本図のものは、コンタクトホールの数が4の場合である。コンタクトホールの開いている領域は図1と同様であるが、該領域は各々8μm×15μmの寸法の4つのコンタクトホールに分割されている。
ここで図6(a)は断面図、図6(b)は平面図である。コンタクトホールをこのような複数個の構成とすることにより、仮に1つのコンタクトホールの接触が不良となっても残りのコンタクトホールによって電気的接続が確保されるので均一なフィルター形成を行わせることができる。コンタクトホールの数は特に制約されないが、小さくしすぎた場合には逆に接触不良を生じやすくなるため、開口部の直径が5μm程度が寸法の下限となる。また、数を増やした場合、結果としてコンタクト部の面積が大きくなり、基板の有効領域を狭めてしまうため、適当な数に設定する必要がある。1本の電極あたりの数は好ましくは2個〜20個の範囲である。
【0012】
図7(a)および(b)は本発明の別のカラーフィルター基板の構成例を示したものである。
本例ではコンタクトホール下部に凹部8をもうけることによって接着強度を向上させるものである。凹部8は、電極のパターンで形成させた構造である。また凹部8を設ける構造としては、電極下部に別の凹部を有する層を設ける構造が挙げられる。前者の構造は接触する電極面積が大きくとれるため有利であり、後者の構造は電極のパターニングに際して同時に形成することができるのでプロセスの増加を伴うことがない点で有利である。
凹部の大きさの下限は凹部の形成方法の精度に依存し、上限はコンタクトホールの大きさから決まり、また設ける数にも依存するため好適な大きさの規定は難しいが、該凹部の直径が1μm以上であることが好ましく、また、コンタクトホールの大きさの70%以下であることが好ましい。また、凹部の深さは0.05μm〜5μmが好ましく、0.1μm〜2μmの範囲がより好ましい。
【0013】
本発明で用いることのできる基板としては、ガラス、合成樹脂シート、合成樹脂フィルムなどを用いることができる。特に、合成樹脂シートや合成樹脂フィルムでは製造工程でのハンドリングや電解液へ浸積、温湿度の変化による基板の変形があり、従来の接続方法では接続不良が多発するのに対し、本発明を適用することにより欠陥のないカラーフィルターを提供できることから合成樹脂シートや合成樹脂フィルムは、本発明が特に効果が大きい基板である。
【0014】
絶縁膜としては絶縁性を有するものであれば用いることができるが、フィルム用途には柔軟性を有するものが好ましく、有機の高分子膜を好ましく用いる。この絶縁膜はコンタクトホールをパターン形成する必要があるため、それ自体に感光性を有し、パターン形成が容易なフォトレジスト材料を特に好ましく用いる。
【0015】
絶縁膜の膜厚の下限はピンホールなどによる絶縁不良が生じない膜厚であり、一般的には0.2μm程度が下限となる。厚すぎた場合には導通不良が生じやすくなるが、上限の膜厚はコンタクホールの大きさや形状、導通材の材質、膜厚等の多くの要因で決定される。一般的には20μm以下が好ましく、成膜の容易性を考慮すると5μm以下が好ましい。また本発明における絶縁膜や突起部、凹凸はフォトレジスト材料を用いて形成することもできる。この場合、黒色のフォトレジスト材料はマスクの設計によってフィルター間にブラックマスクをも同時に形成できるため特に好ましい。
【0016】
導通材としては、図1のようにパターン形成可能なものが必要である。例えば金属を蒸着等で成膜してフォトリソグラフィーによってパターン形成することもできる。しかしながら工業的には導電ペーストを印刷やディスペンサーなどによってパターン状に形成する方法が簡便で有利である。特に樹脂フィルムを基板とした場合には、導電ペーストの硬化後の固さが接続の信頼性に影響する。このためウレタンやシリコーンなどの柔軟性を有し、基板の変形に追従する材料を特に好ましく用いる。上述のコンタクトホール形状と柔軟性のある導電ペーストを併用することによって特に接続部の信頼性の高い製造方法を提供することができる。
また、本発明によって製造されたカラーフィルターは導通不良による濃度むらがなく高い均一性を有している。
したがって、このフィルターを用いて製造された液晶表示装置はフィルターの濃度むらが少ないために均一性に優れるという特徴を有している。
【0017】
次に、実施例に基づき本発明を説明する。
以下の実施例において、特に断りのない限り、基板にはポリエーテルスルホン基板、電極材料にはITO、導通材にはアクリル系の銀ペースト、絶縁膜にはポジ型のフォトレジスト(OFPR)(東京応化製)を用い、膜厚は1.5μmとした。導通材の厚さは0.4mm、塗布幅は1mmとした。コンタクトホールは20μm×40μmとした。
電極は幅100μm、ピッチ110μmのストライプ形状で、電極の長さは150mm、ストライプの数は1920本とした。電極の接続は図1に示すように2本おきに導通するようにした。
【0018】
実施例1
コンタクトホールの壁面に図3に示すような逆テーパー構造を設けた。テーパーの角度は約20°とした。この上に熱硬化型のアクリル系の銀ペーストをディスペンサーを用いて塗布し、焼成して樹脂を硬化させた。この基板を青顔料と酸化錫からなる導電性微粒子と電解質と界面活性剤を含み、顔料と導電性微粒子が界面活性剤によってミセル化された水性分散液に浸漬し、電極に通電した。この電解液の場合、電極反応によって界面活性剤が酸化され、ミセルが壊れ、電極上に顔料と導電性微粒子が堆積する(膜厚1.5μm)。ついで水洗を行い余分の顔料を洗浄した。100℃で乾燥後、緑の顔料を含む電解液に浸漬し、他の電極群に通電した。同様の操作を繰り返すことにより青、緑、赤のフィルターを形成した。このようにして作製されたフィルターは欠陥がなく均一性も優れていた。
【0019】
実施例2
実施例1において絶縁膜のテーパー構造をなくし、絶縁膜のパターン形成と同時にフォトレジストによって5μm×10μmの突起部を二つ形成した。このようなコンタクトホール形状によって、実施例1と同様のフィルター形成を行わせた。このようにして作製されたフィルターは欠陥がなく均一性も優れていた。
【0020】
実施例3
実施例2において突起部と絶縁膜の両方に実施例1と同様の逆テーパー構造を設けた。このようにして作製されたフィルターは欠陥がなく均一性もさらに優れていた。
【0021】
実施例4
図8に示すように基板上に黒のフォトレジストによって20μm×10μm、高さ1μmの凸部を設け、次いでITOを成膜した。なお黒のフォトレジストはフィルター間にあたる部分にも設け、ブラックマスクを兼ねる構成とした。他は実施例1のものの逆テーパーがない場合と同様にしてフィルターを作製した。このようにして作製されたフィルターは欠陥がなく均一性も実施例2のものよりさらに優れていた。
【0022】
実施例5
図7に示すように、膜厚0.15μmのITO電極をパターニングすることにより、5μm角の8個の凹部をコンタクトホール内に形成した。他は実施例1の逆テーパーがない場合と同様にしてカラーフィルターを作製した。このようにして作製されたフィルターは欠陥がなく均一性も優れていた。
【0023】
実施例6
実施例5において、凹部の形成を電極下面に設けた黒のフォトレジスト層で行った。この場合、実施例5よりさらに均一なフィルターを形成することができた。なお黒のフォトレジストはフィルター間にあたる部分にも設け、ブラックマスクを兼ねる構成とした。
【0024】
実施例7〜12
実施例1〜5において基板にガラス基板を用いたところ同様に高い均一性のフィルターを形成することができた。
【0025】
実施例13
実施例1〜6において導電性樹脂としてウレタン系の柔軟性のある導電性樹脂を用いたところ、接続不良は全く発生せず、均一性はさらに向上した。
【0026】
実施例14〜19
実施例1〜6で作製したカラーフィルターにオーバーコートを施した上で可溶性ポリイミド配向膜(AL3046:日本合成ゴム製)を600Åの厚さで成膜した。隣接するカラーフィルターの配向膜をラビング処理し、同様に配向処理を行った対向基板とをラビング方向が240°の角度を成すように6.8μm粒径のシリカスペーサーを介して張り合わせ、空隙にΔnが0.128なる誘電異方性が正の液晶と光学活性物質の混合液晶を注入してSTN型のセルを作製した。セルの上下にはレターデーションが420nmである位相差板を設け、さらに上下を偏光板で挾んだ。
これらの装置を動作させたところ均一で良好な表示が行えた。
【0027】
比較例
実施例1において逆テーパーを設けずにフィルターを作製した。
このフィルターは一部の電極にフィルターが形成されない欠陥を生じ、また、フィルターが形成された部分の均一性も実施例1に対して劣っていた。
【0028】
【効果】
1. 生産プロセスにおいて導通不良を生ずることがない。そのため、良品率が高くなるとともに、電気的に接続が不完全なことに起因する膜厚むら、濃度むらがなく、高い均一性を有するカラーフィルター基板を提供することができる。
2. 上記効果に加えて、従来の樹脂基板、特に樹脂フィルムを用いた場合の基板変形によって引き起こされる導通不良を大幅に低減もしくは皆無とすることができるため、樹脂基板を用いた場合にも高い良品率を得ることができ、電気的な接続が不完全なことに起因する膜厚むら、濃度むらがなく、高い均一性を有するカラーフィルター基板を提供することができる。
3. 上記効果に加えて、さらに良品率が高くなるとともに、電気的な接続が不完全なことに起因する膜厚むら、濃度むらがなく、高い均一性を有するカラーフィルターを提供することができる。
4. 濃度むらが少ないために均一性に優れた液晶表示装置が得られた。
5. 前記1〜3の効果を奏するカラーフィルター基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】カラーフィルター基板の断面図。
【図2】従来のコンタクトホール部の断面図。
【図3】壁面を逆テーパー構造としたコンタクトホール部の断面図。
【図4】(a)コンタクトホール内に突起部を設けた構造としたコンタクトホール部の断面図。
(b)コンタクトホール内に突起部を設けた構造としたコンタクトホール部の平面図。
【図5】図4において、突起部およびコンタクトホール壁面を逆テーパー状構造としたもののコンタクトホール断面図。
【図6】(a)コンタクトホールを複数個としたコンタクトホールの断面図。
(b)コンタクトホールを複数個としたコンタクトホールの平面図。
【図7】(a)下部に凹部を設けたコンタクトホールの断面図。
(b)下部に凹部を設けたコンタクトホールの平面図。
【図8】電極下部に凸部を設けたコンタクトホールの断面図。
【符号の説明】
1 絶縁性基板
2 電極
21 電極(青色のカラーフィルターに対応)
22 電極(緑色のカラーフィルターに対応)
23 電極(赤色のカラーフィルターに対応)
3 絶縁膜
4 コンタクトホール
41 コンタクトホール
42 コンタクトホール
43 コンタクトホール
44 コンタクトホール
5 導通材
52 外部電源回路との接続部
53 外部電源回路との接続部
7 突起部
8 凹部
9 突起部
A 電解液に基板を浸積した場合の浸積部分と非浸積部分の境界線
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a method for manufacturing a color filter substrate used in a color liquid crystal display device. In particular, the present invention relates to a method for manufacturing a color filter substrate suitable for a plastic film substrate having excellent portability.
[0002]
[Prior art]
Liquid crystal display devices have come to be used in various fields, and the CRT as an information display device has become a momentum. In particular, devices that require portability are adopted in many devices because of their small size, light weight, and low power consumption. Among them, most of them use glass as a substrate, but liquid crystal display devices using a plastic film have come to be used for portable devices such as mobile phones and electronic notebooks. The plastic film has a thickness of about 0.1 to 0.3 mm and is light in weight, so it is most suitable for portable devices. However, it is difficult to form a color filter due to the fact that fine patterning is difficult on a film substrate and the dimensions of the substrate slightly change depending on the environment such as temperature and humidity. is there. On the other hand, although a color display method that does not use a color filter has been proposed, the number of colors that can be displayed is limited, and the display color is not vivid. Further, in this method, since it is necessary to strictly control the distance between two substrates (cell gap), the plastic film liquid crystal display device in which it is difficult to control the distance between the substrates has not yet been put into practical use.
Various methods such as a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a micelle electrolysis method, and a printing method have been proposed as a method for producing a color filter for liquid crystal. In the dyeing method, the pigment dispersion method, the printing method, etc., in the pattern formation of red (R), green (G), blue (B), and black (BK), each position is accurately aligned with other patterns. There is a need. For example, a black pattern is first formed, and red, green, and blue patterns are formed while precisely aligning the black pattern. Further, it is necessary to align the color filter pattern and the liquid crystal driving electrode. The alignment accuracy depends on the material, size, manufacturing apparatus, and the like of the substrate to be used, but when a glass substrate is used, alignment in units of microns is possible. On the other hand, the plastic film substrate undergoes a large dimensional change compared to the glass substrate. Naturally, the thermal history causes a dimensional change of ± 0.1% depending on the temperature and humidity where the film is placed. For this reason, it is very difficult to perform precise alignment. In order to produce a color filter on a plastic film substrate, a manufacturing process that does not require precise alignment or reduces the number of steps that require precise alignment is required.
[0003]
Among the color filter manufacturing methods described above, in the micellar electrolysis method (JP-A-2-24603, JP-A-2-146001), a color filter layer is selectively formed on the transparent conductive film pattern provided on the substrate. There is no misalignment between colors. Further, it has been proposed that the color filter layer is made of a conductive material, or the electrode for forming a filter is also used as a liquid crystal driving electrode by mixing a conductive material in the color filter layer (Japanese Patent Laid-Open No. 6-34809). ).
However, when the color filter layer is made conductive, when forming a color filter composed of a plurality of colors (for example, three colors of R, G, and B), electrodes must be selectively connected for each color. A color liquid crystal display device generally has an electrode pitch of 100 μm or less, and it is difficult to directly probe one electrode and connect it to an external circuit. For this reason, in Japanese Patent Laid-Open No. 3-102302 , an electrode extraction window that can selectively extract electrodes corresponding to R, G, and B colors is formed of a photosensitive resin, and then connected to an external circuit with a conductive paste. Is going. However, when an attempt was made to form a color filter on a plastic film substrate by this method, problems such as poor contact between the conductive paste and the electrode material due to changes in the substrate dimensions occurred.
On the other hand, JP-A-2-175977 and JP-A-3-4202 propose a method of cutting the colored electrode by etching without using an electrode extraction window, but both methods complicate the manufacturing process. It is difficult to apply to plastic film substrates.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a method for forming a conductive color filter on a plastic film substrate by an electrochemical method, and a plastic color liquid crystal display device using the film substrate on which the conductive color filter is mounted.
In particular, the present invention is to provide a conductive color filter and a method for manufacturing the same, in which the conduction of the contact hole portion is further ensured, and the failure at the time of filter formation accompanying the connection failure is greatly reduced.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
FIG. 2 schematically shows a cross-sectional view of a conventional contact hole portion. In such an electrical connection of the conventional example, the connection becomes unstable, and there is a case where a color filter is not partially formed due to poor contact. This phenomenon was particularly remarkable when a resin film was used as the substrate 1.
As a result of various studies to improve such a phenomenon, the present inventors have found that the cause of the contact failure is an adhesive force between the conductive material and the electrode, and in particular in the case of a flexible resin substrate, the deformation of the substrate. As a result, the conductive material in the contact hole part floated, and it was concluded that sufficient contact between the conductive material and the electrode could not be obtained. Furthermore, as a result of investigations to improve this point, the present inventors have found that such a problem can be solved by providing a structure that increases the contact area with the conductive material in the contact hole portion, resulting in the present invention. It was.
[0006]
That is, according to the present invention, a colored component is deposited on a selected electrode of a patterned electrode on a substrate, a contact hole is formed on the colored electrode with an insulating material, and the contact hole A color filter substrate configured by connecting an electrode and an external power source through a conductive material, wherein the contact hole portion has a structure for increasing the contact area with the conductive material, and the color filter By providing a method for manufacturing a substrate, the problems related to the color filter substrate could be solved.
[0007]
In the color filter substrate of the present invention, for example, a specific electrode of a patterned electrode on the substrate has a contact hole for connecting the electrode and an external power source through a conductive material in a part on the electrode by an insulating material. A patterned electrode substrate that is formed and provided with a structure that increases the contact area with the conductive material in the contact hole portion is immersed in an electrolytic solution containing a coloring component, and the selected electrode is energized to supply the coloring component to the electrode. It can be manufactured by depositing on it.
[0008]
Hereinafter, a color filter substrate of the present invention and a method for producing the color filter substrate will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view of a substrate immersed in an electrolytic solution.
1 is an insulating substrate made of glass or synthetic resin, 21 to 23 are electrodes provided on the substrate, and for example, 21 is blue, 22 is green, and 23 is red. Provided. Reference numeral 3 denotes an insulating film in which a contact hole 4 is formed. Reference numeral 5 is a conductive material, and 52 and 53 are connecting portions to an external power supply circuit. A specific selected electrode group is obtained by, for example, immersing the substrate below the line indicated by A in an electrolyte containing a pigment and applying a voltage from an external circuit to an electrode having a contact hole through a conductive material. A color filter is formed only on the surface. For example, a blue filter is immersed in a red electrolyte by dipping in a blue electrolyte and energizing a blue filter on 21 electrodes, and a green filter is immersed in a green electrolyte and energizing in 22 electrodes. The red filter can be formed in 23 by energizing.
[0009]
FIG. 3 shows a configuration example of another color filter substrate of the present invention. In this example, a reverse taper structure as shown in FIG. 3 is provided on the wall surface of the contact hole to prevent the conductive material from floating in the contact hole. The method of forming the reverse tapered structure is not particularly limited, but for example, a positive photoresist that is solubilized by exposure is applied on the pattern substrate, and the pattern is exposed from the back surface, thereby forming the reverse tapered shape as shown in FIG. A contact hole having a wall surface is formed. Alternatively, a reverse-tapered cross section can also be obtained by exposing from the upper surface using a negative photoresist that is crosslinked and insoluble by exposure. In this case, the taper angle is preferably in the range of 10 ° to 45 °.
[0010]
FIG. 4 shows a configuration example of another color filter substrate of the present invention.
In this example, by providing the protrusion 7 in the contact hole, the adhesive force of the conductive material is improved, the conductive material is flattened, and the stress applied to the contact hole portion is dispersed.
The height of the protrusion 7 is preferably 10% to 120% of the insulating film thickness, and more preferably 50% to 100%. For the horizontal dimension of the contact hole, the width of the protrusion is preferably in the range of 5% to 90%. The number of protrusions is not limited to one for the contact hole, and a plurality of protrusions can be provided. In this case, the adhesive strength is further improved, which is preferable.
The protrusion may be made of the same material as or different from the insulating film, but it is preferable that the protrusion is made of the same material because the process is simplified. In addition, in the thing of this example, the adhesive force of a conduction | electrical_connection material can further be heightened by providing the reverse taper-shaped wall surface structure and the projection part 7 like FIG. The protrusions can be formed on the electrode as shown in FIGS. 4 and 5, but can also be provided on the lower part of the electrode as shown in FIG. With such a structure, the conductive material can be formed so as to be nearly flat or swell with respect to the periphery. With such a structure, the conductive material can be made difficult to lift from the electrode when the conductive material is cured, so that a more reliable connection can be ensured. In addition, this example has an advantage that the conductive area can be increased as compared with the case where the protrusion is formed using an insulator, which is preferable. In order to realize such a structure, specifically, the protrusion 9 may be formed using a photoresist or the like before the electrode is formed. Also, a plurality of such raised portions can be provided.
[0011]
FIGS. 6A and 6B show a configuration example of another color filter substrate of the present invention.
In this example, a more reliable contact is obtained by using a plurality of contact holes, one for each electrode, and the figure shows the case where the number of contact holes is four. . The area where the contact hole is open is the same as in FIG. 1, but the area is divided into four contact holes each having a size of 8 μm × 15 μm.
Here, FIG. 6A is a sectional view, and FIG. 6B is a plan view. By adopting such a plurality of contact holes, even if the contact of one contact hole becomes defective, electrical connection is ensured by the remaining contact hole, so that uniform filter formation can be performed. it can. The number of contact holes is not particularly limited. However, if the contact hole is too small, contact failure tends to occur. Therefore, the diameter of the opening is about 5 μm, which is the lower limit of the size. Further, when the number is increased, the area of the contact portion is increased as a result, and the effective area of the substrate is narrowed. Therefore, it is necessary to set an appropriate number. The number per electrode is preferably in the range of 2 to 20.
[0012]
FIGS. 7A and 7B show a configuration example of another color filter substrate of the present invention.
In this example, the adhesive strength is improved by providing a recess 8 below the contact hole. The recess 8 has a structure formed by an electrode pattern. Moreover, as a structure which provides the recessed part 8, the structure which provides the layer which has another recessed part in the electrode lower part is mentioned. The former structure is advantageous because it allows a large electrode area to be contacted, and the latter structure is advantageous in that it can be formed simultaneously with the patterning of the electrodes and thus does not involve an increase in the number of processes.
The lower limit of the size of the recess depends on the accuracy of the method of forming the recess, and the upper limit is determined by the size of the contact hole. It is preferably 1 μm or more, and preferably 70% or less of the size of the contact hole. The depth of the recess is preferably 0.05 μm to 5 μm, and more preferably 0.1 μm to 2 μm.
[0013]
As a substrate that can be used in the present invention, glass, a synthetic resin sheet, a synthetic resin film, or the like can be used. In particular, with synthetic resin sheets and synthetic resin films, there are deformations in the substrate due to handling in the manufacturing process, immersion in the electrolyte, and changes in temperature and humidity. Since a color filter free from defects can be provided by application, a synthetic resin sheet or a synthetic resin film is a substrate in which the present invention is particularly effective.
[0014]
Any insulating film can be used as long as it has insulating properties. However, a film having flexibility is preferable for use in a film, and an organic polymer film is preferably used. Since this insulating film needs to form a contact hole pattern, a photoresist material having photosensitivity and easy pattern formation is particularly preferably used.
[0015]
The lower limit of the thickness of the insulating film is a thickness at which insulation failure due to pinholes or the like does not occur, and generally the lower limit is about 0.2 μm. If it is too thick, poor conduction tends to occur, but the upper limit film thickness is determined by many factors such as the size and shape of the contact hole, the material of the conductive material, and the film thickness. In general, the thickness is preferably 20 μm or less, and is preferably 5 μm or less in consideration of the ease of film formation. In addition, the insulating film, protrusions, and irregularities in the present invention can be formed using a photoresist material. In this case, a black photoresist material is particularly preferable because a black mask can be simultaneously formed between the filters depending on the design of the mask.
[0016]
As the conductive material, a material capable of pattern formation as shown in FIG. 1 is required. For example, a metal film can be formed by vapor deposition or the like, and a pattern can be formed by photolithography. However, industrially, a method of forming a conductive paste in a pattern by printing or a dispenser is simple and advantageous. In particular, when a resin film is used as the substrate, the hardness of the conductive paste after curing affects the connection reliability. Therefore, a material having flexibility such as urethane and silicone and following the deformation of the substrate is particularly preferably used. By using the above-described contact hole shape and a flexible conductive paste in combination, it is possible to provide a highly reliable manufacturing method for the connection portion.
In addition, the color filter manufactured according to the present invention has high uniformity with no density unevenness due to poor conduction.
Therefore, a liquid crystal display device manufactured using this filter has a feature that it has excellent uniformity because of the small density unevenness of the filter.
[0017]
Next, this invention is demonstrated based on an Example.
In the following examples, unless otherwise noted, the substrate is a polyethersulfone substrate, the electrode material is ITO, the conductive material is an acrylic silver paste, and the insulating film is a positive photoresist (OFPR) (Tokyo). And a film thickness of 1.5 μm. The thickness of the conductive material was 0.4 mm, and the coating width was 1 mm. The contact hole was 20 μm × 40 μm.
The electrodes had a stripe shape with a width of 100 μm and a pitch of 110 μm, the electrode length was 150 mm, and the number of stripes was 1920. The connection of the electrodes was conducted every two lines as shown in FIG.
[0018]
Example 1
A reverse taper structure as shown in FIG. 3 was provided on the wall surface of the contact hole. The taper angle was about 20 °. On this, a thermosetting acrylic silver paste was applied using a dispenser and baked to cure the resin. This substrate was immersed in an aqueous dispersion containing conductive fine particles composed of blue pigment and tin oxide, an electrolyte, and a surfactant. The pigment and conductive fine particles were micellized with the surfactant, and the electrode was energized. In the case of this electrolytic solution, the surfactant is oxidized by the electrode reaction, the micelle is broken, and the pigment and the conductive fine particles are deposited on the electrode (film thickness: 1.5 μm). Then, the excess pigment was washed with water. After drying at 100 ° C., it was immersed in an electrolytic solution containing a green pigment, and other electrode groups were energized. By repeating the same operation, blue, green and red filters were formed. The filter thus produced had no defects and excellent uniformity.
[0019]
Example 2
In Example 1, the tapered structure of the insulating film was eliminated, and two 5 μm × 10 μm protrusions were formed by photoresist simultaneously with the formation of the insulating film pattern. With such a contact hole shape, the same filter formation as in Example 1 was performed. The filter thus produced had no defects and excellent uniformity.
[0020]
Example 3
In Example 2, the reverse taper structure similar to that in Example 1 was provided on both the protrusion and the insulating film. The filter thus produced had no defects and was even more uniform.
[0021]
Example 4
As shown in FIG. 8, a convex part having a size of 20 μm × 10 μm and a height of 1 μm was provided on the substrate by a black photoresist, and then ITO was formed. A black photoresist is also provided between the filters and serves as a black mask. The filter was produced in the same manner as in Example 1 without the reverse taper. The filter thus produced was free from defects and the uniformity was even better than that of Example 2.
[0022]
Example 5
As shown in FIG. 7, by patterning a 0.15 μm thick ITO electrode, eight 5 μm square recesses were formed in the contact hole. Otherwise, a color filter was produced in the same manner as in Example 1 without the reverse taper. The filter thus produced had no defects and excellent uniformity.
[0023]
Example 6
In Example 5, the concave portion was formed with a black photoresist layer provided on the lower surface of the electrode. In this case, a more uniform filter than in Example 5 could be formed. A black photoresist is also provided between the filters and serves as a black mask.
[0024]
Examples 7-12
When a glass substrate was used as the substrate in Examples 1 to 5, a highly uniform filter could be formed in the same manner.
[0025]
Example 13
In Examples 1 to 6, when a urethane-based flexible conductive resin was used as the conductive resin, no connection failure occurred and the uniformity was further improved.
[0026]
Examples 14-19
An overcoat was applied to the color filters prepared in Examples 1 to 6, and then a soluble polyimide alignment film (AL3046: manufactured by Japan Synthetic Rubber) was formed to a thickness of 600 mm. The alignment film of the adjacent color filter is rubbed, and the opposite substrate, which has been subjected to the alignment process in the same manner, is bonded through a silica spacer having a particle size of 6.8 μm so that the rubbing direction forms an angle of 240 °, and Δn An STN type cell was manufactured by injecting a liquid crystal of positive dielectric anisotropy having a dielectric constant of 0.128 and an optically active mixed liquid crystal. Retardation plates having a retardation of 420 nm were provided on the top and bottom of the cell, and the top and bottom were sandwiched with polarizing plates.
When these devices were operated, uniform and good display was achieved.
[0027]
Comparative Example In Example 1, a filter was produced without providing a reverse taper.
This filter had a defect that a filter was not formed on some of the electrodes, and the uniformity of the part where the filter was formed was also inferior to that of Example 1.
[0028]
【effect】
1. There is no conduction failure in the production process. Therefore, it is possible to provide a color filter substrate having a high uniformity, with a high yield rate and no unevenness in film thickness or density due to incomplete electrical connection.
2. In addition to the above effects, it is possible to greatly reduce or eliminate the conduction failure caused by substrate deformation when using conventional resin substrates, especially resin films. Thus, it is possible to provide a color filter substrate having high uniformity without unevenness in film thickness and density due to imperfect electrical connection.
3. In addition to the above effects, the yield rate can be further increased, and there can be provided a color filter having high uniformity without unevenness in film thickness and density due to imperfect electrical connection.
4). A liquid crystal display device with excellent uniformity was obtained because of less uneven density.
5. A color filter substrate having the effects 1 to 3 can be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a color filter substrate.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a conventional contact hole portion.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a contact hole portion having a reverse tapered structure on a wall surface.
FIG. 4A is a cross-sectional view of a contact hole portion having a structure in which a protrusion is provided in the contact hole.
(B) The top view of the contact hole part made into the structure which provided the projection part in the contact hole.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a contact hole in FIG. 4 in which the protrusion and the wall surface of the contact hole have an inversely tapered structure.
FIG. 6A is a cross-sectional view of a contact hole including a plurality of contact holes.
(B) A plan view of a contact hole having a plurality of contact holes.
7A is a cross-sectional view of a contact hole in which a recess is provided in the lower part.
(B) The top view of the contact hole which provided the recessed part in the lower part.
FIG. 8 is a cross-sectional view of a contact hole in which a convex portion is provided under the electrode.
[Explanation of symbols]
1 Insulating substrate 2 Electrode 21 Electrode (supports blue color filter)
22 electrodes (supports green color filter)
23 electrodes (supports red color filter)
3 Insulating film 4 Contact hole 41 Contact hole 42 Contact hole 43 Contact hole 44 Contact hole 5 Conductive material 52 Connection to external power supply circuit 53 Connection to external power supply circuit 7 Protrusion 8 Recess 9 Protrusion A Boundary between the immersed and non-immersed parts

Claims (15)

基板上にパターン形成された電極の選択された電極に着色成分が堆積され、該着色電極上の電極取り出し部は絶縁膜により被覆され、絶縁膜の一部にコンタクトホールが形成されており、かつ前記コンタクトホールによって導通材を介して電極と外部電源を接続して構成されるカラーフィルター基板において、コンタクトホールを複数設けることにより、コンタクトホール内における導通材と、絶縁膜及び電極とで形成される接触面積を増加させる構造としたことを特徴とするカラーフィルター基板。A colored component is deposited on a selected electrode of the patterned electrode on the substrate, an electrode extraction portion on the colored electrode is covered with an insulating film, and a contact hole is formed in a part of the insulating film ; and In a color filter substrate configured by connecting an electrode and an external power source through a conductive material through the contact hole, a plurality of contact holes are provided to form the conductive material, the insulating film, and the electrode in the contact hole. A color filter substrate characterized in that the contact area is increased . 基板上にパターン形成された電極の選択された電極に着色成分が堆積され、該着色電極上の電極取り出し部は絶縁膜により被覆され、絶縁膜の一部にコンタクトホールが形成されており、かつ前記コンタクトホールによって導通材を介して電極と外部電源を接続して構成されるカラーフィルター基板において、コンタクトホール内に突起部を設けることにより、コンタクトホール内における導通材と、絶縁膜及び電極とで形成される接触面積を増加させる構造としたことを特徴とするカラーフィルター基板。A colored component is deposited on a selected electrode of the patterned electrode on the substrate, an electrode extraction portion on the colored electrode is covered with an insulating film, and a contact hole is formed in a part of the insulating film; and In a color filter substrate configured by connecting an electrode and an external power source through a conductive material through the contact hole, by providing a protrusion in the contact hole, the conductive material in the contact hole, the insulating film, and the electrode A color filter substrate characterized in that the contact area to be formed is increased. 突起部が絶縁材によって形成されたものであることを特徴とする請求項2記載のカラーフィルター基板。3. The color filter substrate according to claim 2, wherein the projection is formed of an insulating material. 突起部が電極下面に設けられた凸構造によって形成されたものであることを特徴とする請求項2または3記載のカラーフィルター基板。4. The color filter substrate according to claim 2, wherein the protrusion is formed by a convex structure provided on the lower surface of the electrode. 突起部が、逆テ−パー状の突起により形成されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載のカラーフィルター基板。The color filter substrate according to any one of claims 2 to 4, wherein the protrusion is formed of an inverted taper-shaped protrusion. コンタクトホールの壁面を逆テ−パー状とすることにより、コンタクトホール内における導通材と、絶縁膜及び電極とで形成される接触面積を増加させる構造としたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のカラーフィルター基板 6. A structure in which a contact area formed by a conductive material, an insulating film and an electrode in the contact hole is increased by making the wall surface of the contact hole into an inverted taper shape. The color filter substrate according to any one of the above . 絶縁膜および/または突起部が黒色のフォトレジスト膜で形成されたものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のカラーフィルター基板。The color filter substrate according to claim 1, wherein the insulating film and / or the protrusion is formed of a black photoresist film. 基板上にパターン形成された電極の選択された電極に着色成分が堆積され、該着色電極上の電極取り出し部は絶縁膜により被覆され、絶縁膜の一部にコンタクトホールが形成されており、かつ前記コンタクトホールによって導通材を介して電極と外部電源を接続して構成されるカラーフィルター基板において、コンタクトホール下部に凹部を形成することにより、コンタクトホール内における導通材と、絶縁膜及び電極とで形成される接触面積を増加させる構造としたことを特徴とするカラーフィルター基板。A colored component is deposited on a selected electrode of the patterned electrode on the substrate, an electrode extraction portion on the colored electrode is covered with an insulating film, and a contact hole is formed in a part of the insulating film; and In a color filter substrate configured by connecting an electrode and an external power source through a conductive material through the contact hole, the conductive material in the contact hole, the insulating film, and the electrode are formed by forming a recess in the lower portion of the contact hole. A color filter substrate characterized in that the contact area to be formed is increased. コンタクトホール下部に設けられた凹部が電極下面に設けられた凹構造によって形成されたものであることを特徴とする請求項8記載のカラーフィルター基板。9. The color filter substrate according to claim 8, wherein the concave portion provided in the lower portion of the contact hole is formed by a concave structure provided in the lower surface of the electrode. コンタクトホール下部に設けられた凹部が電極材料のパターンによって形成されたものであることを特徴とする請求項8記載のカラーフィルター基板。 9. The color filter substrate according to claim 8, wherein the concave portion provided in the lower portion of the contact hole is formed by a pattern of an electrode material. コンタクトホール下部に設けられた凹部が黒色のフォトレジスト膜で形成されたものであることを特徴とする請求項8または9記載のカラーフィルター基板。 10. The color filter substrate according to claim 8, wherein the concave portion provided in the lower portion of the contact hole is formed of a black photoresist film. 基板が樹脂基板であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のカラーフィルター基板。The color filter substrate according to claim 1, wherein the substrate is a resin substrate. 導通材が導電粒子と樹脂基板の変形に追随して変形できる導電性樹脂の混合組成物から形成されたものであることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載のカラーフィルター基板。 The color filter substrate according to any one of claims 1 to 12, wherein the conductive material is formed from a mixed composition of conductive resin that can be deformed following the deformation of the conductive particles and the resin substrate. 請求項1〜13のいずれかに記載のカラーフィルター基板を装着したことを特徴とする液晶表示装置。A liquid crystal display device comprising the color filter substrate according to claim 1 . 基板上にパターン形成された電極の特定の電極には、導通材を介して電極と外部電源を接続するため、該電極上の電極取り出し部は絶縁膜により被覆され、絶縁膜の一部にコンタクトホールが形成され、該コンタクトホール内における導通材と、絶縁膜及び電極とで形成される接触面積を増加させる構造を設けたパターン形成された電極基板を着色成分を含む電解液に浸漬し、選択した電極に通電して着色成分を電極上に堆積させることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載のカラーフィルター基板の製造方法。In order to connect an electrode and an external power supply through a conductive material, a specific electrode of the electrode patterned on the substrate is covered with an insulating film, and contacts a part of the insulating film. A hole is formed, and a patterned electrode substrate provided with a structure for increasing the contact area formed by the conductive material in the contact hole, the insulating film, and the electrode is immersed in an electrolyte containing a coloring component and selected. The method for producing a color filter substrate according to claim 1, wherein a colored component is deposited on the electrode by energizing the prepared electrode.
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