JP3625657B2 - Liquid feed line pump - Google Patents
Liquid feed line pump Download PDFInfo
- Publication number
- JP3625657B2 JP3625657B2 JP24811898A JP24811898A JP3625657B2 JP 3625657 B2 JP3625657 B2 JP 3625657B2 JP 24811898 A JP24811898 A JP 24811898A JP 24811898 A JP24811898 A JP 24811898A JP 3625657 B2 JP3625657 B2 JP 3625657B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor
- liquid
- pump
- feed line
- axial
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体装置を製造する際に使用されるレジスト液やウエハ保護膜用液等の特殊薬液の移送に使用して好適な送液ラインポンプに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、上記特殊薬液の移送に使用される送液装置としては、液供給源と液供給先とを結ぶ液移送ラインの途中にピストン型等の容積式ポンプを設置して、このポンプで液体を所定の圧力に圧縮しつつ順次送り出すようにしたものが一般に知られている。
【0003】
一方、前記液移送ラインの途中に、ポンプとモータとを一体となし、配管の途中に簡易に取り付けられるようにしたインライン型ポンプを設置することも広く行われている。この種のインライン型ポンプには、モータの回転に伴い羽根車と一体となって回転する主軸が備えられ、この主軸は、転がり軸受や滑り軸受によって回転自在に支承されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の容積式ポンプを使用した前者にあっては、ライン配管の途中にピストン型のポンプが配置されているため、液体の移送が連続的に滑らかにならないという問題がある。一方、インライン型ポンプを使用した後者にあっては、転がり軸受や滑り軸受での摺動部材の接触が避けられないため、この接触により微細な発塵(パーティクルの発生)を伴うことになる。そして、このようなパーティクルが揚液に混入して、半導体装置の製造設備等の液体の移送先に混入すると、移送対象の薬液を用いて製造する半導体ウエハ等にパーティクルが付着して、その品質の低下に繋がってしまうという問題があった。
【0005】
また、ポンプにおいては、各部品を組合わせて組立てる際に必然的に形成される狭い隙間(組立て隙間)が揚液の流路中に一般に存在する。これにより、揚液の流路中に、淀み領域・死水領域が形成され、その隙間内に液体が入り込み、これが時間とともに腐敗して汚染された液体となる。そして、この液体が徐々に揚液中に染み出して、そのポンプの揚液中に混入し、半導体装置の製造設備等の液体の移送先に混入すると、移送対象の薬液を用いて製造する半導体ウエハ等に汚染された液体が付着して、その品質を劣化させてしまうという問題があった。
【0006】
また、流路中の淀み領域・死水領域に溜まった液体が、時間の経過とともに固化・固着してしまう場合がある。このような場合には、流路を狭め、閉塞する場合もあり、ポンプの揚液性能を著しく劣化させる。このため、このポンプの揚液の移送先の製造装置等の運転に支障をきたすことになる。このため、メンテナンスが必要となり、係るポンプは生産効率上の阻害要因となる。
【0007】
本発明は上記事情に鑑みて為されたもので、移送する薬液等の汚染を防止できると共に、メンテナンス性の向上した送液ラインポンプを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、液体を移送するインライン型ネジ式ポンプで、ロータの両端に設けられた磁気軸受で該ロータをラジアル方向に支持し、該ロータの両端面に取り付けられた円錐状のアキシャルディスクに対峙して設けられた円錐状の制御面を有する制御型磁気軸受により前記ロータをアキシャル方向に支持し、これら両軸受によってロータが磁気浮上して非接触支持され、静止側と何ら接触することなく回転して、前記ロータ外周に設けられたネジ溝によるポンプ作用によって液体を移送することを特徴とする送液ラインポンプである。
【0009】
上記本発明によれば、ラジアル及びアキシャル方向にロータが磁気軸受で非接触支持されるので、ロータが静止側と何ら接触することなく回転して、ロータ外周に設けられたネジ溝によるポンプ作用によって液体を移送することができる。これにより、従来の転がり軸受や滑り軸受を用いたポンプと相違して、摺動部からの発塵(パーティクルの発生)という問題が防止できる。従って、揚液中にパーティクルが混入して、液体の移送先の半導体装置の製造設備等にパーティクルが混入することを防止できる。
【0010】
そして、ポンプの吸込口及び吐出口から、ロータの両端面に取付けられた円錐状のアキシャルディスクに沿って、揚液がロータ外周のネジ溝部につながる軸方向に略直線状に延びる流路が形成されるので、揚液の流路が滑らかとなり、且つ単純化される。これにより揚液の淀み領域・死水領域が排除されると共に、メンテナンス性が向上する。
【0011】
請求項2に記載の発明は、前記ポンプのロータ側及び静止側の接液部は、撥水性を有する材料、もしくはその材料の被膜を形成することによって構成され、揚液の淀み領域又は死水領域を排除したことを特徴とする請求項1に記載の送液ラインポンプである。
【0012】
これにより、ポンプを構成する各部品間の組合せによって生じる、狭い組立隙間が撥水性を有する材料の被膜で被覆される。従って、狭い組立隙間に液体が染み込むことを防止でき、揚液の淀み領域・死水領域を排除することができる。それ故、淀み領域・死水領域に溜まった液体が時間とともに腐敗して汚染物質となり、この液体が徐々に揚液中に染み出して、そのポンプの揚液中に混入し、半導体装置の製造設備等の液体の移送先の装置に混入することを防止できる。また、流路中の淀み領域・死水領域が無くなるので、ここに液体が溜まることが無くなり、時間の経過とともに固化・固着してしまうという問題が生じない。これにより、メンテナンス性が向上する。
【0013】
請求項3に記載の発明は、前記ポンプの吸込口と、前記ネジ溝による液体の移送部と、前記ポンプの吐出口とは、それぞれが軸方向に略直線状に配置され、前記ネジ溝による液体の移送部は、前記ロータの両端面に取り付けられた円錐状のアキシャルディスク面と該面に対峙して設けられた磁気軸受の制御面との間の空隙に沿って、前記ポンプの吸込口及び吐出口とに軸方向に略直線状に連結されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の送液ラインポンプである。これにより、揚液の流路を、軸方向に略直線状に延びるように形成できるので、ポンプの効率を向上できる。
【0014】
請求項4に記載の発明は、前記ロータは、円筒状部と該円筒状部の両端面に設けられた円錐状のアキシャルディスクとから構成され、前記円筒状部の略中央にはモータロータが内蔵され、前記円筒状部の外周のネジ溝部の両端部には、受動型磁気軸受を構成する永久磁石が配設されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の送液ラインポンプである。これにより、アキシャル及びラジアルの両磁気軸受によりロータが非接触浮上支持されたネジ式ポンプをコンパクトな構造で提供することができる。総じて、汚染物質の混入という問題がなく、且つメンテナンス性に優れた送液ラインポンプが提供される。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。尚、各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
【0016】
図1及び図2は、本発明の第1の実施の形態の送液ラインポンプを示す。このポンプは、例えば半導体デバイス等を製造する際に使用され、レジスト液やウエハ保護膜用液等の特殊薬液等の移送ラインに好適なものである。即ち、例えば、移送元のタンク等から、移送先の半導体製造装置等に、化学的に不安定な特殊薬液を送液するのに用いられる。このポンプの吸込口11には、液移送ラインの配管の一部としての図示しない吸込管が吸込口内壁11aに装着され、また同様に図示しない吐出管が吐出口12の内壁12aに装着される。従って、図示しない吸込管と、このポンプと、図示しない吐出管とは略直線状に配置されており、ポンプ内部ではロータのネジ溝の回転によってその軸方向に送液が行われる、いわゆるインライン型ネジ式ポンプである。
【0017】
このネジ式ポンプは、ステータ20と、外周部にネジ溝を有するロータ30とから主に構成されている。ステータ中央部のケーシング21の内周面には、キャン23を備え、モータステータ室22が配置されている。モータステータ室22には巻線22aを備えたモータステータ22bが配置されている。モータステータ22bは、巻線22aに供給される電流により回転磁界が形成され、モータステータの磁極面に対向した位置に配置されているモータロータ32が回転駆動され、これにより、ロータ30が回転する。
【0018】
ロータ30の中央部の外周にはネジ溝33を備え、ロータ30が回転駆動されることにより、ネジ溝33も回転し、キャン23とネジ溝33の空間に存在している液体を移送する。これにより、吸込口11側の液体は、吐出口12側に圧送される。
【0019】
ステータ20は、ケーシング24にロータ30の両端部を支持する無制御のラジアル磁気軸受15を備え、これによりロータ30はラジアル方向に浮上支持される。ラジアル磁気軸受15は、ステータ側の永久磁石15aと、ロータ側の永久磁石15bとの磁極面がそれぞれ対面して配置されており、それぞれの磁極面間に作用する磁気力によりロータ30が非接触で浮上支持される。
【0020】
ロータ30の両端面30aには、円錐状の磁性材料からなるアキシャルディスク35が固定されている。このアキシャルディスク35に磁気力を作用させるために制御用電磁石25が配置され、その同様に円錐状の制御面25aが上述のロータ側のアキシャルディスク35の円錐状の面35aと対面している。ステータ側の電磁石25とロータ側のアキシャルディスク35とから構成されるアキシャル磁気軸受16は、制御型の磁気軸受であり、目標浮上位置にロータ30が位置するように、ロータ30の軸方向浮上位置が制御される。
【0021】
即ち、ステータ側にはアキシャルセンサ26を備え、ロータ30の軸方向変位を検出する。そして図示しない補償回路により制御電流を形成し、これを電磁石25のコイル25bに供給することで、磁気力を調節する。図示するようにこのポンプにおいては、アキシャル磁気軸受16は吸込口11側と吐出口12側との双方に配置されている。これにより、ロータ30の軸方向の浮上位置は、ポンプに生じるスラスト力の大小に関わらず、一定の目標位置に保たれる。
【0022】
電磁石25の磁極面25aとこれに対峙するアキシャルディスクの磁極面35aとの隙間16は、揚液の流路となっている。即ち、吸込口11の液体は流路16を通り、ラジアル磁気軸受を構成する永久磁石15a,15b間の隙間15に設けられた流路15dを通って、ロータ30のネジ溝部33に至る。ここで回転するネジ溝部33のポンプ作用により液体は圧送される。そして、ラジアル磁気軸受を構成する永久磁石15a,15b間の隙間15に設けられた流路15dを通って、更に電磁石25の磁極面25aとこれに対峙するアキシャルディスクの磁極面35aとの隙間である流路16を通って、吐出口12に至る。
【0023】
従って、このポンプのロータ30は、円筒状部と該円筒状部の両端面30aに設けられた円錐状のアキシャルディスク35とから構成されている。この円筒状部の略中央にはモータロータ32が内蔵され、ロータ円筒状部の外周にはポンプの翼に相当するネジ溝部33が配置されている。ロータ円筒状部の両端部には、受動型磁気軸受を構成する永久磁石15bが配置されている。これにより、アキシャル及びラジアルの両磁気軸受によりロータが非接触浮上支持され、その外周にネジ溝を有するロータを極めてコンパクトな構造とすることができる。
【0024】
ポンプの吸込口11と、ネジ溝による液体の移送部33と、前記ポンプの吐出口12とは、それぞれが軸方向に略直線状に配置されている。そして、ネジ溝による液体の移送部33は、ロータ30の両端面30aに取り付けられた円錐状のアキシャルディスク35の面35aと、該面35aに対峙して設けられた磁気軸受の制御面25aとの間の空隙の流路16に沿って、前記ポンプの吸込口11及び吐出口12とに連結されていることは上述したとおりである。この流路16は、図示するように円錐状の面に沿って軸方向に略直線状に形成されている。これにより、ポンプ内の揚液の流路を、全体として軸方向に略直線状に延びるように形成できるので、揚液の淀み領域・死水領域が少なくなり、ポンプの効率を向上できる。
【0025】
このポンプにおいては、ロータ側及び静止側の接液部は、撥水性を有する材料、もしくはその材料の被膜を形成することによって構成されている。即ち、接液部の材料としては、フッ素樹脂等が用いられるか、又はフッ素樹脂コーティーング、フッ素樹脂ライニング、フッ素樹脂系塗料を塗布する等の処理が施されている。例えば、ロータ本体等のバルク的な部材はフッ素樹脂で形成され、キャン23あるいは永久磁石15a,15b等の金属材料又は磁性材料等の接液面はフッ素樹脂のコーティングが施されている。また、制御用電磁石25のコイル25aを配置する収納部はOリング27でシールされ、更にその接液面はフッ素樹脂の充填物が挿入され、更に磁極面の全面にフッ素樹脂のコーティングが施されている。これはアキシャルセンサ26の封入口においても同様である。
【0026】
接液面に撥水性の材料を使用するか、又は撥水性材料の被膜を形成することによって、レジスト液やウエハ保護膜用液等の特殊薬液の揚液が、ポンプを構成する金属材料又は磁性材料等と直接接触しなくなる。これにより、ポンプを構成する金属材料や磁性材料が、特殊薬液と反応して揚液中に汚染物質が溶出することを防止できる。又、このポンプにおいては、各部品を組合せて組立てることによって必然的に形成される狭い隙間部が存在するが、撥水性を有する材料の被膜を形成することで隙間部を被覆する。従って、狭い組立上の隙間部に液体が染み込むことを防止でき、揚液の淀み領域・死水領域を排除することができる。
【0027】
このポンプの動作の概要は以下の通りである。ロータ30は、ロータの両端に設けられた無制御磁気軸受15でラジアル方向に浮上支持されている。そして、ロータ30の両端面30aに取付けられた円錐状のアキシャルディスク35に対峙して設けられた円錐状の制御面25aを有する電磁石25のコイル25bに励磁電流を供給することで、制御型磁気軸受16によりロータ30をアキシャル方向の目標位置に浮上支持する。両軸受15,16によってロータ30が磁気浮上して非接触支持された状態で、モータステータ22bのコイル22aに電流を供給することで、モータロータ22を内蔵するロータ30は、静止側と何ら接触することなく回転する。そして、前記ロータ30の外周に設けられたネジ溝33のポンプ作用によって吸込口11の液体を吐出口12側に圧送する。
【0028】
このように、ロータ30が静止側20と何ら接触することなく回転するので、摺動部からの発塵(パーティクルの発生)という問題が防止できる。従って、揚液中にパーティクルが混入して、液体の移送先の半導体デバイスの製造設備等にパーティクルが混入して、その品質を阻害するという問題が全く生じない。また、揚液の流路は、ポンプの吸込口11と、円錐状の面に沿った流路16と、ネジ溝33によるロータ外周の液体の移送部と、再び円錐状の面に沿った流路16とを経て、ポンプの吐出口12に連結されている。従って、それぞれが軸方向に略直線状に配置されている。又、ポンプのロータ側及び静止側の接液部は、フッ素樹脂等の撥水性を有する材料、もしくはその材料の被膜を形成することによって構成されている。
【0029】
この流路が軸方向に略直線状に配置されていることと、ポンプ内の狭い組立隙間が撥水性を有する材料で被覆されることにより、揚液の淀み領域・死水領域を排除することができる。それ故、淀み領域・死水領域に溜まった液体が時間とともに腐敗して汚染物質となり、この液体が徐々に揚液中に染み出してそのポンプの揚液中に混入し、移送先の装置に混入することを防止できる。また、流路中の淀み領域、死水領域が無くなるので、ここに液体が溜まることが無くなり、時間の経過とともに固化・固着してしまうという問題が生じないので、メンテナンス性を向上させることができる。
【0030】
また、図示するようにこの実施の形態のポンプは、吸込口側と吐出口側とが対称となっており、ポンプを逆転することにより吐出口と吸込口とをそれぞれ逆にして、液体を逆方向に移送することができる。これにより、例えばレジスト液やウエハ保護膜用液等の特殊薬液の移送を停止する際に、ポンプを逆回転して液体をサックバックすることにより、ポンプ内を概略空の状態にしてポンプを停止できる。従って、ポンプの停止時にポンプ内に滞留していた薬液が固化・固着してしまうことを軽減できる。
【0031】
図3乃至図8は、本発明の第2の実施の形態の送液ラインポンプを示す。このポンプの基本的な構成は、図1及び図2に示す第1の実施の形態の送液ラインポンプと同様である。即ち、半導体デバイスの製造等に用いられる、レジスト液やウエハ保護膜溶液等の特殊薬液の移送に好適なインライン型ネジ式ポンプである。そしてロータ30の両端面に取り付けられた円錐状のアキシャルディスク35,40を備え、これに対峙して設けられた円錐状の制御面を有する制御型磁気軸受25,25によりロータ30をアキシャル方向に支持する。そしてロータ30の両端部に設けられた永久磁石15bと、これに対峙してその外周側に設けられたステータ側の永久磁石15aとが磁気軸受15を構成し、ロータ30をラジアル方向に支持する。そしてロータ外周又はステータキャン内周に設けられたネジ溝33,41によるロータ30の回転に伴うポンプ作用によって、上述した液体をポンプ吸込口11側からポンプ吐出口12側へ略直線状に圧送する。
【0032】
従って、両磁気軸受15,25の構成により、ロータ30は磁気浮上して静止側と何ら接触なく回転し、このためロータと静止側との接触によって発生する発塵を完全に抑制することができる。これによって、揚液を汚染させないことになる。又、揚液の流れを軸方向のみに流れる流路形状で、構造をインライン型とし、且つポンプを構成する接液部の材料としてフッ素樹脂等の撥水性の材料又はその被膜を使用することによって、各部品間の組合せによって生じる狭い組立隙間等に揚液が染みこんでいくことを防止でき、これにより揚液の淀み領域や死水領域を排除した構造とすることができる。
【0033】
ここで、図3に示す送液ラインポンプは、図1に示す送液ラインポンプと同様にロータ外周にネジ溝33を設けたものである。これに対して図4に示す送液ラインポンプは、上述のロータ外周に設けられたネジ溝33の代わりに、ステータキャン23の内周側にネジ溝41を設けた変形実施例である。又、図5に示す送液ラインポンプは、ロータ外周とキャンの内周側の双方に、互いに巻き勝手が反対なネジ溝33,41を設けてポンプの性能向上を図った変形実施例を示している。
【0034】
又、図3乃至図5に示す送液ラインポンプは、図1及び図2に示す第1の実施の形態の送液ラインポンプと次の点で改良されている。第1に、図3乃至図5のA−A線及び図6に示すように、ラジアル磁気軸受15の外周側のステータケーシング24内に流路42を設けている。これにより、ロータ30をラジアル磁気軸受15で支持する部分において、揚液の流路を、ロータ外周のネジ溝の面とほぼ同一の半径方向位置に設けることが可能となり、これにより直線的なポンプ流路を形成することができる。又、永久磁石15aが配置されたラジアル磁気軸受の外周側に流路を設けることにより、流路の大きさを任意に形成することができ、これによりポンプの抵抗損失を低減することができる。
【0035】
第2に、図3乃至図5のB−B線及び図7に示すように、ロータ側ののアキシャルディスク35,40と対向しているアキシャル磁気軸受のステータコア25側に流路43を設けている。これによりアキシャル磁気軸受部分での流路を拡大することができ、抵抗損失の低減を図ることができる。第3に、図3乃至図5のC−C線及び図8に示すように、アキシャルディスク40の円錐状頂部を平坦にし、これと対向した回転軸上にアキシャル方向の変位センサ26aを配置して、このセンサの外側に流路44を設けたものである。これにより、アキシャルセンサ26aによるロータ30のアキシャル方向位置の検出が容易となり、又直線状の流路44の形成を妨げることなく、ケーシング45内にアキシャルセンサ26aを配置することができる。
【0036】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、パーティクル又は汚染物質等の揚液中への混入という問題がなく、またメンテナンス性に優れた送液ラインポンプが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の送液ラインポンプの主軸に沿った断面図である。
【図2】図1のA−A線に沿った断面図である。
【図3】本発明の第2の実施の形態の送液ラインポンプの主軸に沿った断面図である。
【図4】図3の変形例を示す断面図である。
【図5】図3の他の変形例を示す断面図である。
【図6】図3乃至図5のA−A線に沿った断面図である。
【図7】図3乃至図5のB−B線に沿った断面図である。
【図8】図3乃至図5のC−C線に沿った断面図である。
【符号の説明】
11 吸込口
12 吐出口
15 無制御ラジアル磁気軸受(永久磁石の磁極面間の隙間)
16 制御型アキシャル磁気軸受(円錐状のアキシャルディスクと電磁石の磁極面間の隙間)
20 ステータ
21,24 ケーシング
22 モータステータ
23 キャン
25 電磁石
25a 電磁石磁極面
25b コイル
26,26a アキシャルセンサ
30 ロータ
30a ロータ端面
32 モータロータ
33,41 ネジ溝
35 円錐状のアキシャルディスク
35a 磁極面
42,43,44 流路[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid feed line pump suitable for use in transferring a special chemical solution such as a resist solution and a wafer protective film solution used when manufacturing a semiconductor device, for example.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a liquid feeding device used for transferring the above-mentioned special chemical liquid, a positive displacement pump such as a piston type is installed in the middle of a liquid transfer line connecting a liquid supply source and a liquid supply destination. In general, those that are sent out while being compressed to a predetermined pressure are known.
[0003]
On the other hand, it is also widely performed to install an in-line pump in the middle of the liquid transfer line, in which the pump and the motor are integrated and can be easily attached in the middle of the piping. This type of in-line pump is provided with a main shaft that rotates integrally with the impeller as the motor rotates, and this main shaft is rotatably supported by a rolling bearing or a sliding bearing.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, the former using the conventional positive displacement pump has a problem that the liquid transfer is not continuously smooth because the piston type pump is arranged in the middle of the line piping. On the other hand, in the latter case using an in-line type pump, the contact of the sliding member at the rolling bearing or the sliding bearing is unavoidable, and this contact is accompanied by fine dust generation (particle generation). When such particles are mixed into the pumped liquid and mixed into the liquid transfer destination of the semiconductor device manufacturing equipment, the particles adhere to the semiconductor wafer manufactured using the chemical solution to be transferred, and the quality There was a problem that it would lead to a decline in
[0005]
Further, in a pump, a narrow gap (assembly gap) inevitably formed when the parts are assembled and assembled is generally present in the flow path of the pumped liquid. As a result, a stagnation region / dead water region is formed in the flow path of the pumped liquid, and the liquid enters the gap, which becomes rotted and contaminated with time. Then, when this liquid gradually oozes out into the pumped liquid, enters the pumped liquid of the pump, and enters the liquid transfer destination of a semiconductor device manufacturing facility or the like, a semiconductor manufactured using the chemical liquid to be transferred There is a problem that the contaminated liquid adheres to the wafer or the like and deteriorates its quality.
[0006]
In addition, the liquid accumulated in the stagnation region / dead water region in the flow path may solidify / adhere over time. In such a case, the flow path may be narrowed and blocked, which significantly deteriorates the pumping performance of the pump. For this reason, it will hinder the operation of the manufacturing apparatus or the like of the pumped liquid transfer destination. For this reason, maintenance is required, and such a pump becomes an impediment to production efficiency.
[0007]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid feed line pump that can prevent contamination of a chemical solution to be transferred and has improved maintainability.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to claim 1 is an inline-type screw pump for transferring a liquid, wherein the rotor is supported in a radial direction by magnetic bearings provided at both ends of the rotor, and is attached to both end faces of the rotor. The rotor is supported in the axial direction by a control type magnetic bearing having a conical control surface provided opposite to the axial disk, and the rotor is magnetically levitated and supported in a non-contact manner by these both bearings. It is a liquid feed line pump which rotates without contacting and transfers liquid by a pump action by a screw groove provided on the outer periphery of the rotor.
[0009]
According to the present invention, since the rotor is supported by the magnetic bearings in the radial and axial directions in a non-contact manner, the rotor rotates without any contact with the stationary side, and is pumped by a screw groove provided on the outer periphery of the rotor. Liquid can be transferred. Thereby, unlike the pump using the conventional rolling bearing or the sliding bearing, the problem of dust generation (generation of particles) from the sliding portion can be prevented. Therefore, it is possible to prevent particles from being mixed into the pumped liquid and mixed into the manufacturing equipment of the semiconductor device to which the liquid is transferred.
[0010]
Then, a flow path extending substantially linearly in the axial direction is formed along the conical axial disk attached to both end faces of the rotor from the suction port and discharge port of the pump, and the pumped liquid is connected to the thread groove on the outer periphery of the rotor. As a result, the flow path of the pumped liquid becomes smooth and simplified. As a result, the stagnation region / dead water region of the pumped liquid is eliminated and the maintainability is improved.
[0011]
According to a second aspect of the present invention, the liquid contact portions on the rotor side and the stationary side of the pump are formed by forming a material having water repellency or a film of the material, and a stagnation region or a dead water region of the pumped liquid The liquid-feeding line pump according to claim 1, wherein
[0012]
As a result, a narrow assembly gap caused by the combination of the parts constituting the pump is covered with a coating of a material having water repellency. Accordingly, it is possible to prevent the liquid from penetrating into the narrow assembly gap and to eliminate the stagnation region / dead water region of the pumped liquid. Therefore, the liquid accumulated in the stagnation area and dead water area decays with time and becomes a pollutant, and this liquid gradually oozes into the pumped liquid and mixes into the pumped liquid. It is possible to prevent the liquid from being mixed into the apparatus to which the liquid is transferred. Further, since the stagnation region / dead water region in the flow path is eliminated, the liquid does not accumulate here, and the problem of solidification / adherence over time does not occur. Thereby, maintainability improves.
[0013]
According to a third aspect of the present invention, the suction port of the pump, the liquid transfer portion by the screw groove, and the discharge port of the pump are each arranged substantially linearly in the axial direction, and the screw groove The liquid transfer section is arranged along a gap between a conical axial disk surface attached to both end surfaces of the rotor and a control surface of a magnetic bearing provided opposite to the surface, and a suction port of the pump The liquid feed line pump according to claim 1, wherein the liquid feed line pump is connected to the discharge port in a substantially straight line in the axial direction. Thereby, the flow path of the pumping liquid can be formed so as to extend substantially linearly in the axial direction, so that the efficiency of the pump can be improved.
[0014]
According to a fourth aspect of the present invention, the rotor includes a cylindrical portion and conical axial disks provided on both end faces of the cylindrical portion, and a motor rotor is built in substantially the center of the cylindrical portion. 4. The liquid feeding device according to claim 1, wherein permanent magnets constituting a passive magnetic bearing are disposed at both ends of a screw groove on the outer periphery of the cylindrical portion. 5. It is a line pump. As a result, it is possible to provide a screw type pump in which the rotor is supported in a non-contact levitation manner by both the axial and radial magnetic bearings with a compact structure. In general, there is provided a liquid feed line pump which is free from the problem of contamination and has excellent maintainability.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
[0016]
FIG.1 and FIG.2 shows the liquid feeding line pump of the 1st Embodiment of this invention. This pump is used, for example, when manufacturing a semiconductor device or the like, and is suitable for a transfer line for a special chemical solution such as a resist solution or a wafer protective film solution. That is, for example, it is used to send a chemically unstable special chemical solution from a transfer source tank or the like to a transfer destination semiconductor manufacturing apparatus or the like. A suction pipe (not shown) as a part of piping of the liquid transfer line is attached to the
[0017]
This screw type pump is mainly composed of a
[0018]
A
[0019]
The
[0020]
An
[0021]
That is, an
[0022]
A
[0023]
Therefore, the
[0024]
The
[0025]
In this pump, the rotor-side and stationary-side liquid contact parts are formed by forming a water-repellent material or a film of the material. That is, as the material for the liquid contact portion, a fluororesin or the like is used, or a treatment such as applying a fluororesin coating, a fluororesin lining, or a fluororesin coating is performed. For example, a bulk member such as a rotor body is formed of a fluororesin, and a liquid contact surface of a metal material such as the
[0026]
By using a water-repellent material on the wetted surface, or by forming a film of the water-repellent material, the lift of special chemicals such as resist solution and wafer protective film solution can be used as a metallic material or magnetic material constituting the pump. No direct contact with materials. Thereby, it can prevent that the metal material and magnetic material which comprise a pump react with a special chemical | medical solution, and a pollutant elutes in a pumping liquid. Further, in this pump, there is a narrow gap that is inevitably formed by assembling the parts together, but the gap is covered by forming a film of a material having water repellency. Accordingly, it is possible to prevent liquid from permeating into the gap portion on the narrow assembly, and it is possible to eliminate the stagnation region / dead water region of the pumped liquid.
[0027]
The outline of the operation of this pump is as follows. The
[0028]
Thus, since the
[0029]
The flow path is arranged substantially linearly in the axial direction, and the narrow assembly gap in the pump is covered with a material having water repellency, thereby eliminating the stagnation area / dead water area of the pumped liquid. it can. Therefore, the liquid accumulated in the stagnation area / dead water area decays with time and becomes a pollutant, and this liquid gradually oozes out into the pumped liquid and mixes into the pumped liquid and enters the destination device. Can be prevented. Further, since the stagnation region and the dead water region in the flow path are eliminated, the liquid does not accumulate here, and the problem of solidification / adherence with the passage of time does not occur, so that the maintainability can be improved.
[0030]
Further, as shown in the figure, the pump of this embodiment has a symmetric suction port side and discharge port side, and the liquid is reversed by reversing the pump so that the discharge port and the suction port are reversed. Can be transferred in the direction. As a result, for example, when stopping the transfer of special chemicals such as resist solution or wafer protective film solution, the pump is reversely rotated to suck back the liquid so that the pump is almost empty and the pump is stopped. it can. Therefore, it can reduce that the chemical | medical solution which stayed in the pump at the time of a pump stop solidifies and adheres.
[0031]
3 to 8 show a liquid feed line pump according to a second embodiment of the present invention. The basic configuration of this pump is the same as that of the liquid feed line pump of the first embodiment shown in FIGS. That is, it is an inline screw pump suitable for transferring a special chemical solution such as a resist solution or a wafer protective film solution used for manufacturing a semiconductor device. Then, conical
[0032]
Therefore, with the configuration of the
[0033]
Here, the liquid feed line pump shown in FIG. 3 is provided with a
[0034]
Further, the liquid feed line pump shown in FIGS. 3 to 5 is improved from the liquid feed line pump of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 in the following points. First, as shown in FIG. 3A to FIG. 5A and FIG. 6, a
[0035]
Second, as shown in FIG. 3 to FIG. 5 BB and FIG. 7, a
[0036]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, there is provided a liquid feed line pump that has no problem of mixing particles or contaminants into the pumped liquid and is excellent in maintainability.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view along a main axis of a liquid feeding line pump according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along the main axis of a liquid feed line pump according to a second embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view showing a modification of FIG.
5 is a cross-sectional view showing another modification of FIG. 3. FIG.
6 is a cross-sectional view taken along line AA in FIGS. 3 to 5. FIG.
7 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIGS. 3 to 5. FIG.
8 is a cross-sectional view taken along the line CC of FIGS. 3 to 5. FIG.
[Explanation of symbols]
11
16 Control type axial magnetic bearing (gap between conical axial disk and pole face of electromagnet)
20
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24811898A JP3625657B2 (en) | 1998-02-18 | 1998-09-02 | Liquid feed line pump |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-52987 | 1998-02-18 | ||
JP5298798 | 1998-02-18 | ||
JP24811898A JP3625657B2 (en) | 1998-02-18 | 1998-09-02 | Liquid feed line pump |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11303788A JPH11303788A (en) | 1999-11-02 |
JP3625657B2 true JP3625657B2 (en) | 2005-03-02 |
Family
ID=26393667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24811898A Expired - Fee Related JP3625657B2 (en) | 1998-02-18 | 1998-09-02 | Liquid feed line pump |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3625657B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012503529A (en) * | 2008-09-26 | 2012-02-09 | ワールドハート インコーポレーテッド | Magnetic levitation blood pump and optimization method enabling miniaturization of the pump |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4909648B2 (en) * | 2006-06-06 | 2012-04-04 | クロリンエンジニアズ株式会社 | Circulating ozone water production apparatus and method of operating the apparatus |
CN104005929B (en) * | 2014-06-12 | 2016-04-20 | 黑龙江广合节能环保科技有限公司 | A kind of potent high speed compressor |
JP6621627B2 (en) * | 2014-09-18 | 2019-12-18 | 株式会社 サンリエ | Micro pump |
CN105041664A (en) * | 2015-04-23 | 2015-11-11 | 李德生 | Barrier-free recessed wall pump device |
JP6616232B2 (en) | 2016-04-25 | 2019-12-04 | ファナック株式会社 | Rotating electric machine having stator core and machine tool provided with the same |
CN108716480B (en) * | 2018-06-15 | 2019-07-05 | 北京航空航天大学 | A kind of magnetic suspension structure and blower |
JP2020128745A (en) * | 2019-02-01 | 2020-08-27 | ホワイト ナイト フルイド ハンドリング インコーポレーテッドWhite Knight Fluid Handling Inc. | Pump having magnet for journaling and magnetically axially positioning rotor thereof, and related method |
CN112160985A (en) * | 2020-08-17 | 2021-01-01 | 江苏大学 | Electric spindle system supported by double-piece radial six-pole hybrid magnetic bearing with different magnetic pole surfaces |
US20220297068A1 (en) * | 2021-03-16 | 2022-09-22 | White Knight Fluid Handling Inc. | Gas liquid mixing device, and related systems and methods |
-
1998
- 1998-09-02 JP JP24811898A patent/JP3625657B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012503529A (en) * | 2008-09-26 | 2012-02-09 | ワールドハート インコーポレーテッド | Magnetic levitation blood pump and optimization method enabling miniaturization of the pump |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11303788A (en) | 1999-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102393559B1 (en) | Magnetic levitated pump | |
US5149253A (en) | Magnet pumps | |
US4948348A (en) | Immersion pump, especially for low-boiling fluids | |
JP4767488B2 (en) | Magnetic levitation pump | |
JP3625657B2 (en) | Liquid feed line pump | |
KR101781010B1 (en) | Rotary pump | |
JP2989233B2 (en) | Turbo type pump | |
US6171078B1 (en) | Centrifugal pump | |
US20030091450A1 (en) | Pump with electrodynamically supported impeller | |
JP3777490B2 (en) | Liquid feeding device and control method thereof | |
US20200392961A1 (en) | Fan | |
KR19980071187A (en) | Control method of liquid transport device and liquid transport pump | |
WO2001031203A1 (en) | Vertical pump | |
KR100190807B1 (en) | Magnet pumps | |
JP2010041742A (en) | Axially levitated rotating motor, and turbo-type pump using axially levitated rotating motor | |
JP3530910B2 (en) | Centrifugal motor pump | |
US7598643B2 (en) | Motor with electrodynamically and hydrodynamically supported rotor | |
JP3006865B2 (en) | Turbo pump | |
JP2007303316A (en) | Motor pump | |
JP3742777B2 (en) | Magnetic levitation type magnet pump | |
JPH04112994A (en) | Turbo pump | |
JP3357639B2 (en) | Turbo type pump | |
JPS63149411A (en) | Static pressure bearing device using magnetic fluid | |
JP2006112235A (en) | Motor pump | |
JP2018013040A (en) | Bearing assembly and pump device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091210 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101210 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101210 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111210 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111210 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121210 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121210 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |