【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに係り、より詳細には、各表示セルを形成する障壁の交差部に発生する亀裂を防止し、発光時のクロストーク、誤放電などを防止できるようにしたプラズマディスプレイパネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
まず、プラズマディスプレイパネルの構造に関し、直流（ＤＣ）型プラズマディスプレイパネルを例にとって説明する。ＤＣ型カラープラズマディスプレイパネルの一例として模式図を図５に示す。このプラズマディスプレイパネルは、一定の空間を隔てて絶縁板よりなる前面板１と背面板２を配し、該両板１、２間に相対向して交差するアノード電極群（陽極）３とカソード電極群（陰極）４を設け、また両電極群３、４間に、光のクロストークを防ぎ、両電極群３、４間を一定に隔て、放電空間を確保するための障壁５を設け、該障壁５により表示セル６と補助セル７を形成し、かつ両電極群３、４間に希ガスを封入した構成とされている。
【０００３】
そして、このプラズマディスプレイパネルの発光は、補助セル７における種火放電から荷電粒子などの供給をプライミングパス２８を通して受けながら表示セル６の内部に表示用放電を起こして紫外線を発生させる。この紫外線によって励起された蛍光面８、９、１０から可視光を得る。従って、このカラープラズマディスプレイパネルでは、高輝度を得るためのメモリー駆動のため、あるいは色滲み防止のため、表示セルを形成する障壁は密閉型が必要となる。
【０００４】
ところで、このプラズマディスプレイパネルにおける障壁は、近年、障壁幅の微細化、寸法精度の向上およびパネルの大型化の観点から、フォトリソグラフィ法を用いた形成法が提案されている（特開平２−１６５５３８号公報参照）。このフォトリソグラフィ法は、図６に示すように、基板１１上に、障壁粉末と紫外線硬化樹脂を混合したペースト（スリップ）を塗布して塗布膜１２を設け、この塗布膜１２に、遮光マスク１３を用いて障壁パターン部分に紫外線１４を照射し露光・硬化させ、この工程を複数回繰り返すことにより塗布層１５を得る。そして、この塗布層１５を一括現像してパターンニングし、非露光部１６を溶出することにより所望とする高さの障壁パターン１７を得た後、この障壁パターン１７を焼成することにより障壁１８を形成する方法である。そして、この方法によれば、１００μｍ以下のライン幅およびライン間隔をもち、かつ１００μｍ以上の障壁高さを有するプラズマディスプレイパネル用の障壁を得ることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このフォトリソグラフィ法による障壁形成法の場合、次のような問題がある。すなわち、
（１）感光性ペースト中に、多くの紫外線硬化樹脂を必要とするため障壁粉末の充填が阻害されるので、焼成時の障壁パターン収縮率が大きい。
（２）このため密閉型の障壁形状では、該障壁の焼成収縮方向の均衡が保たれず、コーナー部に亀裂が発生しやすい。
（３）この亀裂は、発光時の発光漏れ（色滲み）となり、パネル作成の歩留を低下させる。
（４）また、この亀裂は隣接するセルから荷電粒子などを過剰に通すため、誤放電を起こす原因となり、パネル作成の歩留を低下させる。
等の問題がある。
【０００６】
本発明は、上述した課題に対処して創作したものであって、その目的とする処は、障壁の欠け、欠落、あるいは亀裂の発生を防止し、歩留のよいプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
そして、上記課題を解決するための手段としての本発明のプラズマディスプレイパネルは、一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該両絶縁板間に相対向して交差するアノード電極群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフォトリソグラフィ法により形成した障壁パターンを焼成して得た密閉型の障壁を設け、該障壁により四角形のセルを形成したプラズマディスプレイパネルにおいて、該障壁が線幅の細い横障壁と線幅の広い縦障壁とを有し、しかも前記横障壁の幅を３０μｍ以上でかつ前記横障壁の幅を前記縦障壁の幅より２０μｍ以上小さくし、更に、該線幅の異なる障壁を交差させて、この交差部の亀裂の発生を抑制している。
【０００８】
【０００９】
また、本発明の別のプラズマディスプレイパネルは、一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該両絶縁板間に相対向して交差するアノード電極群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフォトリソグラフィ法により形成した障壁パターンを焼成して得た障壁を設け、該障壁により表示セルと補助セルを形成したプラズマディスプレイパネルにおいて、前記各表示セルを形成する障壁の前記補助セル側の障壁交差部に、該補助セル側から延びる楔状開口部を形成している。
【００１０】
【００１１】
【作用】
【００１２】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、各セルを形成する障壁を、線幅の細い障壁と線幅の広い障壁で形成すると共に、該線幅の異なる障壁を交差させているので、該障壁の焼成の際に、線幅の細い障壁の焼成収縮の絶対値が、線幅の広い障壁の焼成収縮に対してより小さくなることにより、向きの異なる障壁の収縮バランスが良くなり、その交差部の亀裂の発生を抑制できる。
【００１３】
そして、本発明の別のプラズマディスプレイパネルは、各表示セルを形成する障壁の前記補助セル側の障壁交差部に、該補助セル側から延びる楔状開口部を形成しているので、亀裂の発生を抑制できる。
【００１４】
【実施例】
以下、図面を参照しながら、本発明を具体化した実施例について説明する。
【００１５】
−実施例１−
本実施例のプラズマディスプレイパネルは、前述した従来技術で説明したように、一定の空間を隔てて絶縁板よりなる前面板１と背面板２を配し、該両板１、２間に相対向して交差するアノード電極３，とカソード電極４，を設け、また両電極３、４間に、光のクロストークを防ぎ、両電極群３、４間を一定に隔て、放電空間を確保するための密閉状の障壁５を設け、該障壁５により表示セル６と補助セル７を形成し、かつ両電極３、４間に希ガスを封入した構成とされている（図５参照）。
【００１６】
前面板１と背面板２は、ガラス板等よりなる絶縁基板であって、前面板１の内側には、カソード電極４が平行に複数本設けられ、また背面板２の内側には、アノード電極３が、カソード電極と直交するように複数本設けられている。アノード電極３は、Ｎｉ，Ａｌ等の導体金属、あるいはこれらの合金、更にこれらの金属に少量のガラスを混入したペーストが用いられ、表示電極３ａと補助電極３ｂからなる。またカソード電極４は、酸化インジウム、酸化スズを蒸着した透明電極が用いられている。
【００１７】
障壁５は、図１、図５に示すように、アノード電極３に平行な三本の縦障壁５ｂと、カソード電極４に平行で、縦障壁５ｂと直交する複数本の横障壁５ａで形成され、縦障壁５ｂと横障壁５ａにより区画された複数個の空間に、カソード電極４と表示電極３ａにより四角形の表示セル６が形成されている。そして、この障壁５が、複数個並列に設けられ、隣接する障壁５，５間の空間に、補助電極３ｂとカソード電極４により補助セル７が形成されている。
【００１８】
ここで、縦障壁５ｂと横障壁５ａの障壁側コーナー部には、図１に示すように、アール部２３が形成されている。そして、そのアール（曲面）は、その曲率半径が、障壁幅の１／２以上であることが好ましい。これは、後述する試験結果を総合的に検討した結果に基づくものである。
【００１９】
次に、本実施例のプラズマディスプレイにおける障壁構造について、その作用・効果を確認するために、図１に示される密閉型の障壁５として、障壁幅：６０μｍ、表示セルの内径：４６０×５６０μｍ、障壁高さ：２００μｍの形状を有する密閉型のコーナー部のアール（曲面）部の曲率半径を変更して、フォトリソグラフィ法を利用し、Ｎｏ． １〜Ｎｏ． ５の５種類の障壁を作成し、それぞれの障壁のコーナー部の亀裂の発生の有無、アール部を設けたことによる表示セルの開口部の減少率について観察、測定した。ここで、障壁材料、焼成温度は一定条件とした。そして、その結果を表１に示す。
【００２０】
【表１】
【００２１】
そして、表１に示すように、障壁幅：６０μｍ、表示セルの内径：４６０×５６０μｍ、障壁高さ：２００μｍの形状の障壁で、該障壁のコーナー部にアール部がない場合、該コーナー部に亀裂が認められた（Ｎｏ． ５参照）。これに対して、該コーナー部にアール部を設けた場合、亀裂は認められなかった（Ｎｏ． ２，３参照）。ただ、その曲率半径が２００μｍ以上の場合は、表示セルの開口部が１３．４％程度減少するため、パネル化したとき発光輝度の低下が予想される。またアール部を有し、その曲率半径が２５μｍ以下の場合は、亀裂が認められた（Ｎｏ． １参照）。これは、焼成の際の収縮を完全に吸収することができないことによると考えられる。このことより、該障壁のコーナー部にアール部を設けることの作用・効果が確認できると共に、該アール部は、障壁幅の１／２以上が好ましいことが確認できた。
【００２２】
なお、前述した実施例は、障壁幅：６０μｍ、表示セルの内径：４６０×５６０μｍ、障壁高さ：２００μｍの形状の障壁のもので説明したが、該アール部の寸法は、障壁幅、表示セルの大きさ（障壁の長さ、高さ）、障壁焼成収縮率（障壁材料、焼成温度等によって可変）等によって決定される。
【００２３】
−実施例２−
本実施例のプラズマディスプレイパネルは、図２に示すように、横障壁５ａの障壁幅Ａを、縦障壁５ｂの障壁幅Ｂより細くした障壁構造を有している。すなわち、フォトリソグラフィ法によって障壁パターンを作成する際に、該横方向の障壁パターンの線幅を、縦方向の障壁パターンの線幅より細くし、該障壁パターンを焼成の際の収縮による影響を除いた障壁構造を有している。
【００２４】
ここで、縦障壁５ｂの障壁幅Ｂと、横障壁５ａの障壁幅Ａは、障壁高さが、２００μｍ、表示セルの内径が、４２０μｍ×５５０μｍの場合で、横障壁５ａの障壁幅Ａを縦壁壁５ｂの障壁幅Ｂより、好ましくは２０μｍ以上細くした場合が好ましい。これは、後述する試験結果を総合的に検討した結果に基づくものである。
【００２５】
次に、本実施例のプラズマディスプレイにおける障壁構造について、その作用・効果を確認するために、図２に示される密閉型の障壁５を、障壁高さが、２００μｍ、表示セル内径が、４２０μｍ×５５０μｍとし、その縦障壁と横障壁の障壁幅を変えて、フォトリソグラフィ法を利用し、Ｎｏ． １〜Ｎｏ． ５の５種類の障壁を作成し、それぞれの障壁のコーナー部の亀裂の発生の有無について、観察、測定した。ここで、障壁材料、焼成温度は一定条件とした。そして、その結果を表２に示す。
【００２６】
【表２】
【００２７】
そして、その結果、表２に示すように、横障壁の障壁幅と、縦障壁の障壁幅を同幅とした場合（Ｎｏ． ５参照）、および横障壁の障壁幅を、縦障壁の障壁幅より太くした場合（Ｎｏ． ４参照）は、該障壁のコーナー部に亀裂が認められた。これに対して、該横障壁の障壁幅を縦障壁の障壁幅より細くした場合、該亀裂が認められなかった。これは、前述した通り、横障壁の焼成収縮の絶対値が、縦障壁の焼成収縮に対してより小さくなることにより、特に補助セル側の縦障壁とそれに交差する横障壁の収縮バランスが良くなるためと考えられる。ただし、横障壁の障壁幅が、３０μｍ未満の場合（Ｎｏ． ３参照）は、該横障壁に欠落や欠けが発生した。これは、後述する実施例４により解決することができる。このことより、該横障壁の障壁幅を縦障壁の障壁幅より細くすることによる作用・効果が確認できると共に、該横障壁の障壁幅を縦障壁の障壁幅より好ましくは２０μｍ以上細くした場合が好ましいことが確認できた。
【００２８】
従って、本実施例のプラズマディスプレイの場合、各セルを形成する障壁のうち、該セルの短辺方向の障壁幅を、該セルの長辺方向の障壁幅より細くしているので、該障壁の焼成の際に、該短辺方向の障壁の焼成収縮の絶対値が、該長辺方向の障壁の焼成収縮に対してより小さくなることにより、両者のバランスが良くなり、その交差部の亀裂の発生を抑制できる。
【００２９】
−実施例３−
本実施例のプラズマディスプレイパネルは、図３に示すように、各表示セル６を形成する障壁５の補助セル７側の障壁交差部２５に、該補助セル７側から延びる楔状開口部２６を設けた構成よりなる。そして、この構成とすることにより、障壁パターンを焼成する際に、横障壁５ａの焼成収縮の絶対値が、縦障壁５ｂの焼成収縮に対してより小さくなることにより、特に補助セル側の縦障壁とそれに交差する横障壁５ａの収縮バランスが良くなり、その交差部の亀裂の発生を抑制できる。
【００３０】
ここで、楔状開口部２６は、焼成前の障壁パターンにおいて、図４に示すように、スリットであって、そのスリット幅Ｅが、横障壁５ａの障壁幅Ａの１／２以上で、そのスリット長さＦが縦障壁５ｂの障壁幅Ｂと同幅若しくはそれ以上であることが好ましい。これは、後述する試験結果を総合的に検討した結果に基づくものである。
【００３１】
次に、本実施例のプラズマディスプレイにおける障壁構造について、その作用・効果を確認するために、図３に示される密閉型の障壁５を、図４の説明図に示すように、障壁高さ：１５０μｍ、表示セルの内径：４２０μｍ×５５０μｍ：横障壁の障壁幅Ａ：６０μｍ、縦障壁の障壁幅Ｂ：６０μｍとし、楔状開口部２６のスリット幅Ｅ、スリット長さＦ、および障壁交差部２５におけるスリット幅Ｇを変えて、フォトリソグラフィ法を利用して作成し、それぞれの障壁の剥がれ、障壁のコーナー部の亀裂の発生の有無について、観察、測定した。ここで、障壁材料、焼成温度は一定条件とした。そして、その結果を表３に示す。
【００３２】
【表３】
【００３３】
そして、その結果、表３に示すように、スリットを設けなかった場合（Ｎｏ． ５参照）は、コーナー部に亀裂が発生したのに対して、障壁パターンに、前記スリットを形成し、該障壁パターンを焼成して障壁５を作成した場合、収縮による障壁剥がれ、障壁のコーナー部の亀裂が認められなかった（Ｎｏ． １、２参照）。ただ、スリット幅Ｅが、障壁交差部におけるスリット幅Ｇより小さいとスリットが形成できず、またスリット幅Ｅがスリット幅Ｇの３倍以上であると、スリット形成の効果が表れなかった（Ｎｏ． ３参照）。またスリット幅Ｅは、スリット幅Ｇ以上であって、スリット幅の３倍未満であることが好ましいことが確認できた。また、横障壁の障壁幅Ａと、スリット幅Ｇとの差は、４０μｍ以上確保することが好ましく、横障壁の障壁幅Ａとスリット幅Ｇとの差が４０μｍ未満の場合は、障壁強度が確保できず、障壁の欠け、剥がれが発生するため好ましくないことが確認できた（Ｎｏ． ４参照）。このことより、
３Ｇ＞Ｅ＞Ｇ ， Ａ−Ｇ≧４０
の関係にすることが、より好ましいことが確認できた。
【００３４】
従って、本実施例のプラズマディスプレイによれば、各セルを形成する障壁の隣接セル側の障壁交差部に、該隣接セル側から延びる楔状開口部を設けているので、該隣接セルの放電空間を広くできると共に、該障壁の焼成の際に、該開口部が熱収縮を吸収し、その交差部の断線および亀裂の発生を抑制できる。
【００３５】
−実施例４−
本実施例のプラズマディスプレイパネルは、前述した実施例１と実施例２の障壁構造を組み合わせた障壁構造を有する構成よりなる。すなわち、図７に示すように、縦障壁５ｂと横障壁５ａの障壁側コーナー部にアール部２３が形成されると共に、横障壁５ａの障壁幅Ａを、縦障壁５ｂの障壁幅Ｂより細くした障壁構造を有している。
【００３６】
次に、本実施例のプラズマディスプレイにおける障壁構造について、その作用・効果を確認するために、図７に示される密閉型の障壁５を、障壁のセル内側コーナー部の曲率半径が５０μｍ、２５μｍ、０μｍ、障壁高さが、２００μｍ、表示セルの内径が、４２０μｍ×５５０μｍとし、その縦障壁と横障壁の障壁幅を変え、フォトリソグラフィ法を利用し、Ｎｏ． １〜Ｎｏ． ６の６種類の障壁を作成し、それぞれの障壁のコーナー部の亀裂の発生の有無について、観察、測定した。ここで、障壁材料、焼成温度は一定条件とした。そして、その結果を表４に示す。
【００３７】
【表４】
【００３８】
そして、その結果、焼成後の障壁外観評価において、欠落の認められた横障壁幅：２５μｍ、縦障壁幅：５０μｍで、コーナー部にアール部が形成されていないの障壁（実施例２のＮｏ． ３参照）、また亀裂の認められた縦横障壁幅：６０μｍ、コーナー部に曲率半径：２５μｍのアール部が形成されている障壁（実施例１のＮｏ． １参照）であっても、表４に示すように、欠落、欠け、および亀裂が認められなかった（Ｎｏ． ３、Ｎｏ． ６参照）。このことから、障壁のコーナー部にアール部を形成し、かつ横障壁を縦障壁より細くすることによって、欠け、欠落、亀裂のない障壁が形成できることが確認できた。
【００３９】
従って、本実施例のプラズマディスプレイによれば、各セルを形成する障壁のコーナー部を曲面とし、かつ該セルの短辺方向の障壁幅を、該セルの長辺方向の障壁幅より細くしているので、前述した実施例１と実施例２の利点を合わせもち、いっそう欠けや亀裂の発生を防止できる。
【００４０】
なお、本発明は、上述した実施例に限定されるものでなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で変形実施できる構成を含む。因に、セル配列は、千鳥格子状等の配列よりなる密閉型の障壁についても同様である。
【００４１】
ところで、前述した各実施例においては、セルが、表示セルと補助セルを有する構成で説明したが、補助セルを有しない構成であってもよい。すなわち、図８に示すような基本単位を有するプラズマディスプレイに、前述した実施例１〜実施例４を具体化した構成としてもよい（図９〜図１１参照）。さらに前述した各実施例においては、ＤＣ型プラズマディスプレイを例にとって説明したが、本発明は、その他すべてのプラズマディスプレイにもあてはまる。
【００４２】
【発明の効果】
【００４３】
以上の説明より明らかなように、本発明の請求項１のプラズマディスプレイパネルによれば、各セルを形成する障壁を、線幅の細い障壁と線幅の広い障壁で形成すると共に、該線幅の異なる障壁を交差させているので、該障壁の焼成の際に、線幅の細い障壁の焼成収縮の絶対値が、線幅の広い障壁の焼成収縮に対してより小さくなることにより、向きの異なる障壁の収縮バランスが良くなり、その交差部の亀裂の発生を抑制できる。
【００４４】
また、本発明の請求項２のプラズマディスプレイパネルによれば、楔状開口部が焼成収縮を緩和・吸収することになるので、亀裂の発生を抑制できる。
【００４５】
【００４６】
従って、以上の本発明によれば、発光特性に優れたプラズマディスプレイパネルの作成が可能で、かつ高精細なプラズマディスプレイパネルが歩留よく作成できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を示し、密閉型障壁の表示セルのコーナー部に曲面を設けた密閉型障壁の構造を示す概略図である。
【図２】本発明の実施例を示し、各表示セルを構成する横障壁を縦障壁に対して細くした障壁構造を示す概略図である。
【図３】本発明の実施例を示し、各セルを構成する隣接セル側の障壁交差部に、隣接セル側から延びる楔状開口部を設けた密閉型障壁の構造を示す概略図である。
【図４】密閉型障壁に設ける楔状開口部の寸法を説明するための参照図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの基本単位を示す模式図である。
【図６】フォトリソグラフィ法による障壁の形成方法の説明図である。
【図７】本発明の実施例を示し、密閉型障壁の表示セルのコーナー部に曲面を設け、かつ各表示セルを構成する横障壁を縦障壁に対して細くした密閉型障壁の構造を示す概略図である。
【図８】補助セルを有しないプラズマディスプレイパネルの基本単位を示す模式図である。
【図９】図８のプラズマディスプレイパネルに具体化した本発明の他の実施例の概略図である。
【図１０】図８のプラズマディスプレイパネルに具体化した本発明の他の実施例の概略図である。
【図１１】図８のプラズマディスプレイパネルに具体化した本発明の他の実施例の概略図である。
【符号の説明】
１：前面板、２：背面板、３：アノード電極群（陽極）、４：カソード電極群（陰極）、５：障壁、５ａ：横障壁、５ｂ：縦障壁、６：表示セル、７：補助セル、８、９、１０：蛍光面、１１：基板、１２：塗布膜、１３：遮光マスク、１４：紫外線、１５：塗布層、１６：非露光部、１７：障壁パターン、１８：障壁、２１：障壁交差部、２３：アール部、２５：障壁交差部、２６：楔状開口部、２８：プライミングパス[0001]
[Industrial applications]
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display in which cracks generated at intersections of barriers forming display cells are prevented, and crosstalk during light emission, erroneous discharge, and the like are prevented. About the panel.
[0002]
[Prior art]
First, the structure of a plasma display panel will be described using a direct current (DC) plasma display panel as an example. FIG. 5 shows a schematic diagram as an example of a DC type color plasma display panel. In this plasma display panel, a front plate 1 and a back plate 2 made of an insulating plate are arranged with a certain space therebetween, and an anode electrode group (anode) 3 and a cathode which intersect and cross each other between the two plates 1 and 2. An electrode group (cathode) 4 is provided, and a barrier 5 is provided between the electrode groups 3 and 4 to prevent light crosstalk, to keep a constant space between the electrode groups 3 and 4, and to secure a discharge space. A display cell 6 and an auxiliary cell 7 are formed by the barrier 5, and a rare gas is sealed between the electrode groups 3 and 4.
[0003]
The light emission of the plasma display panel generates a display discharge inside the display cell 6 while receiving supply of charged particles and the like from the pilot discharge in the auxiliary cell 7 through the priming path 28 to generate ultraviolet rays. Visible light is obtained from the fluorescent screens 8, 9, and 10 excited by the ultraviolet light. Therefore, in this color plasma display panel, a sealed type is required for a barrier for forming a display cell for driving a memory for obtaining high luminance or for preventing color bleeding.
[0004]
By the way, as for the barrier in the plasma display panel, a formation method using a photolithography method has been proposed in recent years from the viewpoint of miniaturization of the barrier width, improvement of the dimensional accuracy, and enlargement of the panel (Japanese Patent Laid-Open No. 2-165538). Reference). In this photolithography method, as shown in FIG. 6, a paste (slip) in which a barrier powder and an ultraviolet curable resin are mixed is applied on a substrate 11 to form a coating film 12. The coating layer 15 is obtained by irradiating ultraviolet rays 14 to the barrier pattern portion and exposing and curing the same, and repeating this process a plurality of times. Then, the coating layer 15 is collectively developed and patterned to elute the non-exposed portions 16 to obtain a barrier pattern 17 having a desired height. It is a method of forming. According to this method, a barrier for a plasma display panel having a line width and a line interval of 100 μm or less and a barrier height of 100 μm or more can be obtained.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, the barrier formation method using the photolithography method has the following problems. That is,
(1) Since a large amount of ultraviolet curable resin is required in the photosensitive paste, the filling of the barrier powder is hindered, so that the shrinkage ratio of the barrier pattern during firing is large.
(2) For this reason, in the closed type barrier shape, the balance in the firing shrinkage direction of the barrier is not maintained, and cracks are likely to be generated at the corners.
(3) The cracks cause light emission leakage (color bleeding) at the time of light emission, and lower the yield of panel production.
(4) In addition, the cracks allow charged particles or the like to pass excessively from adjacent cells, causing erroneous discharge, and lowering the yield of panel production.
There are problems such as.
[0006]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a plasma display panel with a high yield that prevents the occurrence of a chipped, missing, or cracked barrier. It is in.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The plasma display panel according to the present invention as a means for solving the above-mentioned problem is provided with a pair of insulating plates separated by a certain space, and an anode electrode group facing and intersecting between the two insulating plates. In a plasma display panel in which a cathode electrode group is provided, and a closed type barrier obtained by firing a barrier pattern formed by a photolithography method between the two electrode groups is provided, and the barrier forms a rectangular cell, Has a horizontal barrier with a narrow line width and a vertical barrier with a large line width, and further has a width of the horizontal barrier of 30 μm or more and a width of the horizontal barrier smaller than that of the vertical barrier by 20 μm or more. Barriers with different line widths are crossed to suppress the occurrence of cracks at the crossing points.
[0008]
[0009]
In another plasma display panel of the present invention, a pair of insulating plates are arranged with a certain space therebetween, and an anode electrode group and a cathode electrode group which face each other and intersect with each other are provided between the insulating plates, and In a plasma display panel in which a barrier obtained by firing a barrier pattern formed by a photolithography method is provided between both electrode groups and a display cell and an auxiliary cell are formed by the barrier, the auxiliary of the barrier forming each display cell is provided. A wedge-shaped opening extending from the auxiliary cell side is formed at the barrier intersection on the cell side .
[0010]
[0011]
[Action]
[0012]
In the plasma display panel of the present invention, the barriers forming each cell are formed of a narrow line width barrier and a wide line width barrier, and the different line width barriers intersect. In this case, since the absolute value of the firing shrinkage of the narrow line width barrier is smaller than the firing shrinkage of the wide line width barrier, the shrinkage balance of the barriers having different directions is improved, and the cracks at the intersections are reduced. Generation can be suppressed.
[0013]
In another plasma display panel according to the present invention, a wedge-shaped opening extending from the auxiliary cell side is formed at a barrier intersection on the auxiliary cell side of a barrier forming each display cell. Can be suppressed.
[0014]
【Example】
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0015]
-Example 1-
The plasma display panel of the present embodiment has a front plate 1 and a back plate 2 made of an insulating plate separated by a certain space as described in the above-mentioned prior art. To intersect the anode electrode 3 and the cathode electrode 4, to prevent light crosstalk between the electrodes 3 and 4, and to keep a constant space between the electrode groups 3 and 4 to secure a discharge space. , A display cell 6 and an auxiliary cell 7 are formed by the barrier 5, and a rare gas is sealed between the electrodes 3 and 4 (see FIG. 5).
[0016]
The front plate 1 and the back plate 2 are insulating substrates made of a glass plate or the like, and a plurality of cathode electrodes 4 are provided inside the front plate 1 in parallel. 3 are provided so as to be orthogonal to the cathode electrode. The anode electrode 3 is made of a conductive metal such as Ni or Al, or an alloy thereof, or a paste obtained by mixing a small amount of glass with these metals, and includes a display electrode 3a and an auxiliary electrode 3b. As the cathode electrode 4, a transparent electrode on which indium oxide or tin oxide is deposited is used.
[0017]
As shown in FIGS. 1 and 5, the barrier 5 is formed by three vertical barriers 5b parallel to the anode electrode 3 and a plurality of horizontal barriers 5a parallel to the cathode electrode 4 and orthogonal to the vertical barrier 5b. In a plurality of spaces defined by the vertical barrier 5b and the horizontal barrier 5a, a rectangular display cell 6 is formed by the cathode electrode 4 and the display electrode 3a. A plurality of the barriers 5 are provided in parallel, and an auxiliary cell 7 is formed by the auxiliary electrode 3b and the cathode electrode 4 in a space between the adjacent barriers 5 and 5.
[0018]
Here, as shown in FIG. 1, a rounded portion 23 is formed at a corner portion on the barrier side of the vertical barrier 5b and the horizontal barrier 5a. The radius of curvature of the radius (curved surface) is preferably not less than の of the barrier width. This is based on the result of comprehensively examining the test results described below.
[0019]
Next, in order to confirm the operation and effect of the barrier structure in the plasma display of the present embodiment, as the sealed barrier 5 shown in FIG. 1, the barrier width: 60 μm, the inner diameter of the display cell: 460 × 560 μm, Barrier height: The radius of curvature of the round (curved surface) portion of a closed corner having a shape of 200 μm is changed, and the photolithography method is used. 1 to No. Five types of barriers were prepared, and the presence or absence of cracks at the corners of each barrier and the reduction rate of the opening of the display cell due to the formation of the radius were observed and measured. Here, the barrier material and the firing temperature were made constant. Table 1 shows the results.
[0020]
[Table 1]
[0021]
As shown in Table 1, a barrier having a barrier width of 60 μm, an inner diameter of a display cell of 460 × 560 μm, and a barrier height of 200 μm. Cracks were observed (see No. 5). On the other hand, when the round portion was provided at the corner, no crack was observed (see Nos. 2 and 3). However, when the radius of curvature is 200 μm or more, since the aperture of the display cell is reduced by about 13.4%, it is expected that light emission luminance is reduced when the panel is formed. In the case of having a radius portion and a radius of curvature of 25 μm or less, a crack was observed (see No. 1). This is presumably because shrinkage during firing cannot be completely absorbed. From this, it was confirmed that the function and effect of providing the round portion at the corner portion of the barrier were confirmed, and it was also confirmed that the radius of the round portion was preferably １ ／ or more of the barrier width.
[0022]
In the above-described embodiment, a barrier having a shape having a barrier width of 60 μm, an inner diameter of a display cell of 460 × 560 μm, and a barrier height of 200 μm has been described. (Length and height of the barrier), barrier firing shrinkage (variable depending on barrier material, firing temperature, etc.), and the like.
[0023]
Example 2
As shown in FIG. 2, the plasma display panel of this embodiment has a barrier structure in which the width A of the horizontal barrier 5a is smaller than the width B of the vertical barrier 5b. That is, when forming a barrier pattern by a photolithography method, the line width of the horizontal barrier pattern is made smaller than the line width of the vertical barrier pattern, and the influence of shrinkage at the time of firing the barrier pattern is eliminated. It has a barrier structure.
[0024]
Here, the barrier width B of the vertical barrier 5b and the barrier width A of the horizontal barrier 5a are as follows. When the barrier height is 200 μm and the inner diameter of the display cell is 420 μm × 550 μm, the barrier width A of the horizontal barrier 5a is It is preferable that the width is smaller than the barrier width B of the wall 5b by 20 μm or more. This is based on the result of comprehensively examining the test results described below.
[0025]
Next, in order to confirm the operation and effect of the barrier structure in the plasma display of the present embodiment, the sealed barrier 5 shown in FIG. 2 was replaced with a barrier height of 200 μm and a display cell inner diameter of 420 μm × 550 μm, the width of the vertical barrier and the width of the horizontal barrier were changed, and the photolithography method was used. 1 to No. Five types of barriers were prepared, and observations and measurements were made for the presence or absence of cracks at the corners of each barrier. Here, the barrier material and the firing temperature were made constant. Table 2 shows the results.
[0026]
[Table 2]
[0027]
As a result, as shown in Table 2, when the barrier width of the horizontal barrier is equal to the barrier width of the vertical barrier (see No. 5), the barrier width of the horizontal barrier is set to the barrier width of the vertical barrier. When the barrier was made thicker (see No. 4), cracks were observed at the corners of the barrier. On the other hand, when the width of the horizontal barrier was made smaller than that of the vertical barrier, the crack was not observed. This is because, as described above, the absolute value of the firing shrinkage of the horizontal barrier is smaller than the firing shrinkage of the vertical barrier, so that the contraction balance of the vertical barrier on the auxiliary cell side and the horizontal barrier intersecting with the auxiliary barrier is particularly improved. It is thought that it is. However, when the width of the lateral barrier was less than 30 μm (see No. 3), the lateral barrier was chipped or chipped. This can be solved by a fourth embodiment described later. From this, it is possible to confirm the operation and effect of making the barrier width of the horizontal barrier smaller than the barrier width of the vertical barrier, and to make the width of the horizontal barrier preferably 20 μm or more smaller than the barrier width of the vertical barrier. It was confirmed that it was favorable.
[0028]
Therefore, in the case of the plasma display of the present embodiment, among the barriers forming each cell, the barrier width in the short side direction of the cell is narrower than the barrier width in the long side direction of the cell. During firing, the absolute value of the shrinkage of the barrier in the short-side direction becomes smaller with respect to the shrinkage of the barrier in the long-side direction. Generation can be suppressed.
[0029]
Example 3
In the plasma display panel of this embodiment, as shown in FIG. 3, a wedge-shaped opening 26 extending from the auxiliary cell 7 side is provided at a barrier intersection 25 on the auxiliary cell 7 side of the barrier 5 forming each display cell 6. It consists of a configuration. With this configuration, when the barrier pattern is fired, the absolute value of the firing shrinkage of the horizontal barrier 5a becomes smaller than the firing shrinkage of the vertical barrier 5b. And the shrinkage balance of the transverse barrier 5a intersecting therewith is improved, and the occurrence of cracks at the intersection can be suppressed.
[0030]
Here, the wedge-shaped openings 26 are slits in the barrier pattern before firing, as shown in FIG. 4, and the slit width E is equal to or more than 1/2 of the barrier width A of the horizontal barrier 5a. Preferably, the length F is equal to or greater than the barrier width B of the vertical barrier 5b. This is based on the result of comprehensively examining the test results described below.
[0031]
Next, in order to confirm the operation and effect of the barrier structure in the plasma display of the present embodiment, the sealed barrier 5 shown in FIG. 3 was replaced with a barrier height as shown in the explanatory view of FIG. 150 μm, inner diameter of display cell: 420 μm × 550 μm: barrier width A of horizontal barrier: 60 μm, barrier width B of vertical barrier: 60 μm, slit width E of wedge-shaped opening 26, slit length F, and barrier intersection 25 The photolithography method was used to change the slit width G, and the barriers were peeled off and the corners of the barriers were observed for cracks and observed. Here, the barrier material and the firing temperature were made constant. Table 3 shows the results.
[0032]
[Table 3]
[0033]
As a result, as shown in Table 3, when the slit was not provided (see No. 5), the crack was generated in the corner portion. When the pattern 5 was fired to form the barrier 5 , no barrier peeling due to shrinkage and no cracks at the corners of the barrier were observed (see Nos. 1 and 2). However, if the slit width E is smaller than the slit width G at the barrier intersection, the slit cannot be formed, and if the slit width E is three times or more the slit width G, no effect of the slit formation appears (No. 3). Also, it was confirmed that the slit width E was preferably equal to or more than the slit width G and less than three times the slit width. It is preferable that the difference between the barrier width A of the lateral barrier and the slit width G is 40 μm or more. When the difference between the barrier width A of the lateral barrier and the slit width G is less than 40 μm, the barrier strength is secured. No, it was confirmed that it was not preferable because chipping and peeling of the barrier occurred (see No. 4). From this,
3G>E> G, A−G ≧ 40
It was confirmed that it was more preferable to set the relationship as follows.
[0034]
Therefore, according to the plasma display of the present embodiment, since the wedge-shaped opening extending from the adjacent cell side is provided at the barrier intersection on the adjacent cell side of the barrier forming each cell, the discharge space of the adjacent cell is reduced. In addition to being able to be widened, at the time of firing of the barrier, the opening absorbs heat shrinkage, so that disconnection and cracking at the intersection can be suppressed.
[0035]
Example 4
The plasma display panel of this embodiment has a configuration having a barrier structure obtained by combining the barrier structures of the first and second embodiments. That is, as shown in FIG. 7, the rounded portions 23 are formed at the corners on the barrier side of the vertical barrier 5b and the horizontal barrier 5a, and the barrier width A of the horizontal barrier 5a is made smaller than the barrier width B of the vertical barrier 5b. It has a barrier structure.
[0036]
Next, in order to confirm the operation and effect of the barrier structure in the plasma display of the present embodiment, the closed type barrier 5 shown in FIG. 7 was replaced with a radius of curvature of 50 μm, 25 μm at the corner inside the cell of the barrier. 0 μm, the barrier height was 200 μm, the inner diameter of the display cell was 420 μm × 550 μm, and the vertical and horizontal barrier widths were changed. 1 to No. Six types of barriers were prepared, and the presence or absence of cracks at the corners of each barrier was observed and measured. Here, the barrier material and the firing temperature were made constant. Table 4 shows the results.
[0037]
[Table 4]
[0038]
Then, as a result, in the barrier appearance evaluation after firing, a barrier having a missing horizontal barrier width of 25 μm and a vertical barrier width of 50 μm and having no rounded corner was formed (No. 2 of Example 2). Table 4 also shows the barrier (see No. 1 of Example 1) in which a vertical and horizontal barrier width where a crack is recognized is 60 μm, and a radius of curvature of 25 μm is formed at a corner. As shown, no chips, chips or cracks were observed (see No. 3 and No. 6). From this, it was confirmed that by forming the rounded portion at the corner portion of the barrier and making the horizontal barrier thinner than the vertical barrier, a barrier without chipping, chipping, and cracking can be formed.
[0039]
Therefore, according to the plasma display of the present embodiment, the corners of the barriers forming each cell are curved, and the barrier width in the short side direction of the cell is smaller than the barrier width in the long side direction of the cell. Therefore, the advantages of the first embodiment and the second embodiment are combined, and the occurrence of chipping and cracking can be further prevented.
[0040]
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes a configuration that can be modified and implemented without changing the gist of the present invention. Incidentally, the cell arrangement is the same for a closed barrier composed of an arrangement such as a staggered lattice.
[0041]
By the way, in each of the above-described embodiments, the description has been made of the configuration in which the cell has the display cell and the auxiliary cell. That is, a configuration in which the first to fourth embodiments described above are embodied in a plasma display having a basic unit as shown in FIG. 8 may be employed (see FIGS. 9 to 11). Further, in each of the embodiments described above, the DC type plasma display is described as an example, but the present invention is also applicable to all other types of plasma displays.
[0042]
【The invention's effect】
[0043]
As is apparent from the above description , according to the plasma display panel of the first aspect of the present invention, the barriers forming each cell are formed by a narrow line width barrier and a wide line width barrier, and Crossing different barriers, the absolute value of the firing shrinkage of the narrow line width barrier during firing of the barrier is smaller than the firing shrinkage of the wide line width barrier, thereby reducing the orientation. The contraction balance of the different barriers is improved, and the generation of cracks at the intersections can be suppressed.
[0044]
Further, according to the plasma display panel of the second aspect of the present invention, since the wedge-shaped openings alleviate and absorb the firing shrinkage, the generation of cracks can be suppressed.
[0045]
[0046]
Therefore, according to the present invention described above , there is an effect that a plasma display panel having excellent emission characteristics can be manufactured, and a high-definition plasma display panel can be manufactured with high yield.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of the present invention and showing a structure of a closed barrier having a curved surface provided at a corner portion of a display cell of the closed barrier.
FIG. 2 is a schematic view showing an embodiment of the present invention and showing a barrier structure in which a horizontal barrier constituting each display cell is made thinner than a vertical barrier.
FIG. 3 shows the embodiment of the present invention and is a schematic view showing the structure of a closed type barrier provided with a wedge-shaped opening extending from the adjacent cell side at the intersection of the barriers on the adjacent cell side constituting each cell.
FIG. 4 is a reference diagram for explaining dimensions of a wedge-shaped opening provided in a closed barrier.
FIG. 5 is a schematic view showing a basic unit of the plasma display panel.
FIG. 6 is an explanatory diagram of a method of forming a barrier by photolithography.
FIG. 7 shows an embodiment of the present invention, and shows a structure of a sealed barrier in which a curved surface is provided at a corner portion of a display cell of a sealed barrier, and a horizontal barrier constituting each display cell is made thinner than a vertical barrier. It is a schematic diagram.
FIG. 8 is a schematic diagram showing a basic unit of a plasma display panel having no auxiliary cell.
FIG. 9 is a schematic view of another embodiment of the present invention embodied in the plasma display panel of FIG.
FIG. 10 is a schematic view of another embodiment of the present invention embodied in the plasma display panel of FIG.
FIG. 11 is a schematic view of another embodiment of the present invention embodied in the plasma display panel of FIG.
[Explanation of symbols]
1: front panel, 2: rear panel, 3: anode electrode group (anode), 4: cathode electrode group (cathode), 5: barrier, 5a: horizontal barrier, 5b: vertical barrier, 6: display cell, 7: auxiliary Cell, 8, 9, 10: phosphor screen, 11: substrate, 12: coating film, 13: light shielding mask, 14: ultraviolet ray, 15: coating layer, 16: non-exposed part, 17: barrier pattern, 18: barrier, 21 : Barrier intersection, 23: radius, 25: barrier intersection, 26: wedge-shaped opening, 28: priming pass
