JP3553927B2 - Fluorine gas generator and electrolytic bath liquid level control method thereof - Google Patents

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    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B15/00Operating or servicing cells
    • C25B15/02Process control or regulation

Description

本発明は、フッ素ガス発生装置に関し、特に半導体等の製造工程に使用される不純物の極めて少ない高純度フッ素ガスを発生するフッ素ガス発生装置に関する。   The present invention relates to a fluorine gas generator, and more particularly, to a fluorine gas generator that generates a high-purity fluorine gas containing extremely few impurities used in a manufacturing process of a semiconductor or the like.

従来より、フッ素ガスは、例えば半導体製造分野においては欠くことのできない基幹ガスである。そして、それ自体で用いられる場合もあるが、特にフッ素ガスを基にして三フッ化窒素ガス(以下、NF3ガスという。)等を合成し、これを半導体のクリーニングガスやドライエッチング用ガスとしたものは急速に需要が伸びている。また、フッ化ネオンガス(以下、NeFガスという。)、フッ化アルゴンガス(以下、ArFガスという。)、フッ化クリプトンガス(以下、KrFガスという。)等は半導体集積回路のパターニングの際に用いられるエキシマレーザ発振用ガスであり、その原料には希ガスとフッ素ガスの混合ガスが多用されている。 Conventionally, fluorine gas has been an essential gas indispensable in, for example, the semiconductor manufacturing field. In some cases, nitrogen trifluoride gas (hereinafter referred to as NF 3 gas) or the like is synthesized based on fluorine gas, and used as a cleaning gas for semiconductors or a gas for dry etching. The demand is growing rapidly. Further, neon fluoride gas (hereinafter, referred to as NeF gas), argon fluoride gas (hereinafter, referred to as ArF gas), krypton fluoride gas (hereinafter, referred to as KrF gas), or the like is used for patterning a semiconductor integrated circuit. Excimer laser oscillation gas is used, and a mixed gas of a rare gas and a fluorine gas is frequently used as a raw material thereof.

半導体等の製造に使用されるフッ素ガスやNF3ガスは不純物の少ない高純度のガスが要求される。また半導体等の製造現場ではフッ素ガスを充填したガスボンベから必要量のガスを取出して使用している。このためガスボンベの保管場所、ガスの安全性確保や純度維持等の管理が大変重要である。さらにNF3ガスは最近になって需要が急増しているため供給面に問題があり、ある程度の在庫を抱えなければならないという問題もある。地球温暖化やオゾンホール対策として、フッ素がNF3に置き換わる環境になってきているので、これらを考慮すると、ボンベ詰めした高圧のフッ素ガスを扱うよりも、オンデマンド、オンサイトのフッ素ガス発生装置を使用する場所に設置するのが好ましい。 Fluorine gas and NF 3 gas used in the production of semiconductors and the like are required to be high-purity gases with few impurities. Also, in a manufacturing site for semiconductors and the like, a required amount of gas is extracted from a gas cylinder filled with fluorine gas and used. For this reason, it is very important to control the storage location of gas cylinders, ensuring gas safety and maintaining purity. Furthermore, since the demand for NF 3 gas has been rapidly increasing recently, there is a problem in the supply side, and there is also a problem that a certain amount of stock must be held. As an environment that replaces NF 3 with fluorine as a countermeasure against global warming and the ozone hole, considering these factors, an on-demand, on-site fluorine gas generator is more effective than treating high-pressure fluorine gas packed in cylinders. Is preferably installed at a place where it is used.

通常、フッ素ガスは図3に示すような電解槽によって発生させている。電解槽本体201の材質は通常、Ni、モネル、炭素鋼等が使用されている。さらに、電解槽本体201が陰極をかねている場合、その底部には発生した水素ガスとフッ素ガスが混ざるのを防止するためにポリテトラフルオロエチレン等の電気絶縁性や耐食性を有する材料からなる底板212が付設されている。電解槽本体201中には、フッ化カリウム−フッ化水素系(以下、KF−HF系という。)の混合溶融塩が電解浴202として満たされている。そして、モネル等により形成されているスカート209によって、陽極室210と陰極室211に分離されている。この陽極室210に収納された炭素またはニッケル(以下、Niという。)陽極203と、陰極室211に収納されたNiや鉄からなる陰極204の間に電圧を印加し、電解することによりフッ素ガスを発生させている。なお、陽極室210で発生したフッ素ガスは、発生口208から放出され、陰極室211で発生した水素ガスは、発生口207から放出される(例えば、特許文献1参照)。
特表平9−505853号公報
Usually, fluorine gas is generated by an electrolytic cell as shown in FIG. The material of the electrolytic cell body 201 is usually Ni, Monel, carbon steel, or the like. Further, when the electrolytic cell main body 201 also serves as a cathode, a bottom plate 212 made of a material having electrical insulation and corrosion resistance such as polytetrafluoroethylene for preventing the generated hydrogen gas and fluorine gas from being mixed with each other is provided at the bottom thereof. Is attached. The electrolytic bath body 201 is filled with a mixed molten salt of potassium fluoride-hydrogen fluoride (hereinafter, referred to as KF-HF) as an electrolytic bath 202. The anode chamber 210 and the cathode chamber 211 are separated by a skirt 209 formed of Monel or the like. A voltage is applied between the carbon or nickel (hereinafter referred to as Ni) anode 203 housed in the anode chamber 210 and the cathode 204 made of Ni or iron housed in the cathode chamber 211, and the fluorine gas is applied by electrolysis. Is occurring. The fluorine gas generated in the anode chamber 210 is released from the generation port 208, and the hydrogen gas generated in the cathode chamber 211 is released from the generation port 207 (for example, see Patent Document 1).
Japanese Patent Publication No. 9-505853

しかしながら、従来のフッ素ガス発生装置では、電気分解停止時に陽極203と陰極204間への電流の供給が停止され、陽極室210に残存するフッ素ガスが陽極203に吸着することで陽極室210の圧力が低下する。この現象は、特に陽極203が炭素である場合に顕著に現れる。陽極室210の圧力が低下すると陽極室210の電解浴の液面が上昇して、陰極室211の電解浴の液面は低下し、液面の状態が陽極室210と陰極室211で不均一となり電気分解再開時の電解条件が不安定になり、最悪の場合には、発生したガスが隔壁209をくぐってフッ素と水素が混合し、爆発するという問題点がある。   However, in the conventional fluorine gas generator, when the electrolysis is stopped, the supply of current between the anode 203 and the cathode 204 is stopped, and the fluorine gas remaining in the anode chamber 210 is adsorbed by the anode 203, so that the pressure in the anode chamber 210 is reduced. Decreases. This phenomenon is particularly noticeable when the anode 203 is made of carbon. When the pressure in the anode chamber 210 decreases, the level of the electrolytic bath in the anode chamber 210 rises, and the level of the electrolytic bath in the cathode chamber 211 decreases, and the state of the liquid level is uneven between the anode chamber 210 and the cathode chamber 211. In the worst case, the generated gas passes through the partition wall 209 and mixes with fluorine and hydrogen, causing an explosion.

本発明は、上記問題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、フッ素ガス発生装置の陽極室に設けられたフッ素ガスのガス発生口を閉じ、フッ素ガスの発生休止時においても電解槽の電解浴液面の位置を制御することができるフッ素ガス発生装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to close a gas generation port of a fluorine gas provided in an anode chamber of a fluorine gas generator, and to suspend the generation of the fluorine gas when the gas generation is stopped. Another object of the present invention is to provide a fluorine gas generator capable of controlling the position of the electrolytic bath liquid level in the electrolytic cell.

課題を解決するための手段及び効果Means and effects for solving the problem

前記課題を解決するための本発明のフッ素ガス発生装置は、フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を電気分解してフッ素ガスを発生するためのフッ素ガス発生装置であって、隔壁によって分離された陽極室と陰極室とを有しており、前記陽極室及び前記陰極室の圧力を検知する圧力検知手段と、フッ素ガス発生休止時に前記陽極室と前記陰極室のうち少なくともいずれか一方の電解液面高さを制御する前記圧力検知手段に連動した圧力調整手段とを備え、前記圧力検知手段が、適正な電流を陽極に印加することにより、前記陽極室内の圧力を調整して、前記陽極室と前記陰極室との液面差を調整するものである。
この構成によると、フッ素ガス発生装置からフッ素ガスの発生を休止した時、即ち、陽極陰極間の電流印加をやめ、電解槽の陽極室に設けられたフッ素ガスのガス発生口が閉じられたときに、電解槽内に残留するフッ素ガスが炭素陽極気孔内に吸収され、陽極室内の圧力低下による電解浴液面の上昇が発生してもこの現象を制御することが可能となり、電気分解再開時の電解条件を安定させることができる。その結果、発生したガスが隔壁をくぐることはないので、フッ素と水素とが混合することによって発生する爆発を防止することができる。
なお、本明細書において、フッ素ガスの発生を休止したとき(フッ素ガス発生休止時)とは、フッ素ガスを発生放出する必要がない場合に、陽極、陰極の両電極間に印加されている主電解電流の供給を停止し、電解槽の陽極室に設けられたフッ素ガスの発生口が閉じられた状態のことをいう。
A fluorine gas generator of the present invention for solving the above problems is a fluorine gas generator for electrolyzing an electrolytic bath made of a mixed molten salt containing hydrogen fluoride to generate fluorine gas, wherein a partition wall is used. A pressure detecting means for detecting pressures in the anode chamber and the cathode chamber, and at least one of the anode chamber and the cathode chamber when fluorine gas generation is stopped Pressure adjusting means interlocked with the pressure detecting means for controlling the electrolyte surface height of , the pressure detecting means, by applying an appropriate current to the anode, to adjust the pressure in the anode chamber, The liquid level difference between the anode chamber and the cathode chamber is adjusted .
According to this configuration, when the generation of fluorine gas from the fluorine gas generator is stopped, that is, when the application of current between the anode and the cathode is stopped and the gas generation port of the fluorine gas provided in the anode chamber of the electrolytic cell is closed. In addition, even if fluorine gas remaining in the electrolytic cell is absorbed into the pores of the carbon anode and the level of the electrolytic bath rises due to a decrease in the pressure in the anode chamber, this phenomenon can be controlled. Can be stabilized. As a result, the generated gas does not pass through the partition, so that an explosion generated by mixing fluorine and hydrogen can be prevented.
In this specification, when the generation of fluorine gas is stopped (when the generation of fluorine gas is stopped), when there is no need to generate and release the fluorine gas, the main voltage applied between both the anode and the cathode is referred to. This refers to a state in which the supply of the electrolytic current is stopped and the fluorine gas generating port provided in the anode chamber of the electrolytic cell is closed.

また、上記構成によると、電解浴液面差の原因の一つである陽極室内の圧力変化を直接的または間接的に検知することで、正確な電解浴液面の高さ変化の検知が可能となる。これによりフッ素ガス発生装置の電解槽の陽極室に設けられたフッ素ガスのガス発生口が閉じられ、フッ素ガスの発生休止時においても、電解槽の陽陰極室間における電解浴液面の差を制御することが可能となり、電解浴液面の差を制御できるので、電気分解再開時の電解条件を安定させることができる。その結果、発生したガスが隔壁をくぐることはないので、フッ素と水素とが混合することによって発生する爆発を防止することができる。 In addition, according to the above configuration, it is possible to accurately detect a change in the height of the electrolytic bath liquid level by directly or indirectly detecting a pressure change in the anode chamber, which is one of the causes of the electrolytic bath liquid level difference. It becomes. As a result, the gas outlet of the fluorine gas provided in the anode chamber of the electrolytic cell of the fluorine gas generator is closed, and even when the generation of fluorine gas is stopped, the difference in the electrolytic bath liquid level between the positive and negative electrode chambers of the electrolytic cell is reduced. The electrolysis conditions can be stabilized at the time of resuming the electrolysis because the control can be performed and the difference in the electrolytic bath liquid level can be controlled. As a result, the generated gas does not pass through the partition, so that an explosion generated by mixing fluorine and hydrogen can be prevented.

また、上記構成によると、フッ素ガス発生装置の電解槽の陽極室に設けられたフッ素ガスのガス発生口が閉じられ、フッ素ガスの発生休止時においても容易に圧力調整が可能である。なお、本発明でいうところの陽陰極間に印加する電流は、電流密度にして、0.1〜5A/dmであることが好ましく、さらに0.5〜2A/dmであることが好ましい。この際印加する電流は、主電解電源から送電されるものであってもよいし、別に設けられる補助的な電源から送電されるものであってもよい。 Further, according to the above configuration, the gas generating port of the fluorine gas provided in the anode chamber of the electrolytic cell of the fluorine gas generating device is closed, so that the pressure can be easily adjusted even when the generation of the fluorine gas is stopped. The current applied between the positive and negative electrodes in the present invention is preferably 0.1 to 5 A / dm 2 in terms of current density, and more preferably 0.5 to 2 A / dm 2. . The current applied at this time may be transmitted from the main electrolytic power supply or may be transmitted from a separately provided auxiliary power supply.

本発明のフッ素ガス発生装置の電解浴液面制御方法は、隔壁によって分離された陽極室と陰極室とを備え、フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を電気分解してフッ素ガスを発生するためのフッ素ガス発生装置の電解浴液面制御方法であって、フッ素ガスの発生休止時に前記陽極室と前記陰極室のうち少なくともいずれか一方の圧力を圧力検知手段によって検知し、前記圧力検知手段の検知結果によって陽陰極間に微弱電流を供給し、微量のフッ素ガスを発生させることによって前記陽極室の圧力を調整し、前記陽極室と前記陰極室との液面差を制御するものである。
この構成によると、電解浴液面の差の原因である陽極室内の圧力変化を直接的または間接的に検知するので、陽陰極間の電解浴液面の差の検知が可能であり、これによりフッ素ガス発生装置が電気分解停止時においても電解槽の電解浴液面の高さを制御することが可能となり、電気分解再開時の電解条件を安定させることができる。その結果、発生したガスが隔壁をくぐることはないので、フッ素と水素とが混合することによって発生する爆発を防止することができる。
The electrolytic bath liquid level control method of the fluorine gas generator of the present invention includes an anode chamber and a cathode chamber separated by a partition wall, and electrolyzes an electrolytic bath made of a mixed molten salt containing hydrogen fluoride to convert fluorine gas. A method for controlling a liquid level of an electrolytic bath of a fluorine gas generator for generating, wherein at the time of stoppage of generation of fluorine gas, pressure of at least one of the anode chamber and the cathode chamber is detected by pressure detection means, and the pressure is detected. A means for supplying a weak current between the cathode and the cathode according to the detection result of the detection means and adjusting the pressure of the anode chamber by generating a small amount of fluorine gas, thereby controlling a liquid level difference between the anode chamber and the cathode chamber. It is.
According to this configuration, since the pressure change in the anode chamber, which is the cause of the difference in the electrolytic bath liquid level, is detected directly or indirectly, it is possible to detect the difference in the electrolytic bath liquid level between the positive and negative electrodes. Even when the fluorine gas generator stops electrolysis, the height of the electrolytic bath liquid level in the electrolytic cell can be controlled, and the electrolysis conditions at the time of restarting the electrolysis can be stabilized. As a result, the generated gas does not pass through the partition, so that an explosion generated by mixing fluorine and hydrogen can be prevented.

以下、図面に基づいて本発明に係るフッ素ガス発生装置の実施形態の一例を説明する。   Hereinafter, an example of an embodiment of a fluorine gas generator according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本実施形態例のフッ素ガス発生装置の主要部の概略図である。図1において、1は電解槽、2はKF−HF系混合溶融塩からなる電解浴、3は陽極室、4は陰極室、5は陽極室3の電解浴2の液面レベルを5段階で検知する第1液面検知手段、6は陰極室4の液面レベルを5段階で検知する第2液面検知手段である。また、7は陽極室3の圧力を測定する圧力計、8は陰極室4の圧力を測定する圧力計である。そして、9,10は、これら圧力計7,8の圧力に応じて連動して開閉する自動弁である。また、11は電解浴2の温度を測定する温度計、12は温度計11からの信号によって作動して電解槽1の側面及び底部に設けられている温水ジャケット13を制御する温水加熱装置である。14は陰極室4から放出される水素とHFの混合ガス中からHFを除去する除去塔であり、15は陽極室3から放出されるF2とHFとの混合ガス中からHFガスを除去して高純度のフッ素ガスのみを放出するようにするNaF等を充填したHF除去塔である。51は陽極であり、52は陰極である。 FIG. 1 is a schematic view of a main part of the fluorine gas generator of the present embodiment. In FIG. 1, 1 is an electrolytic bath, 2 is an electrolytic bath made of a KF-HF-based mixed molten salt, 3 is an anode room, 4 is a cathode room, and 5 is a liquid level of the electrolytic bath 2 of the anode room 3 in five steps. The first liquid level detecting means 6 for detecting, and the second liquid level detecting means 6 for detecting the liquid level of the cathode chamber 4 in five stages. Reference numeral 7 denotes a pressure gauge for measuring the pressure in the anode chamber 3, and reference numeral 8 denotes a pressure gauge for measuring the pressure in the cathode chamber 4. Reference numerals 9 and 10 denote automatic valves that open and close in conjunction with the pressures of the pressure gauges 7 and 8. Reference numeral 11 denotes a thermometer for measuring the temperature of the electrolytic bath 2, and reference numeral 12 denotes a hot water heating device which operates in response to a signal from the thermometer 11 and controls a hot water jacket 13 provided on the side and bottom of the electrolytic cell 1. . Reference numeral 14 denotes a removal tower for removing HF from a mixed gas of hydrogen and HF released from the cathode chamber 4, and 15 denotes a removal tower for removing HF gas from a mixed gas of F 2 and HF released from the anode chamber 3. HF removal tower filled with NaF or the like that releases only high-purity fluorine gas. 51 is an anode and 52 is a cathode.

電解槽1は、Ni、モネル、純鉄、ステンレス鋼等の金属や合金で形成されている。電解槽1は、モネルからなる隔壁16によって、陽極室3及び陰極室4とに分離されている。陽極室3には、陽極51が配置されている。そして、陰極室4には、陰極52が設けられている。なお、陽極51には低分極性炭素電極を使用することが好ましい。また、陰極52としては、Niや鉄等を使用する。電解槽1の上蓋17には、陽極室3及び陰極室4内を大気圧に維持する圧力維持手段の一つであるガスライン18,19からのパージガス出入口21、20と、陽極室3から発生するフッ素ガスのガス発生口22と、陰極室4から発生する水素ガスのガス発生口23とが設けられている。また、上蓋17には、HFを供給するHF供給ライン24からのHF導入口25と、陽極室3及び陰極室4の液面高さをそれぞれ検知する第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6と、圧力計7,8とが設けられている。   The electrolytic cell 1 is formed of a metal or alloy such as Ni, Monel, pure iron, and stainless steel. The electrolytic cell 1 is separated into an anode chamber 3 and a cathode chamber 4 by a partition 16 made of Monel. An anode 51 is disposed in the anode chamber 3. The cathode chamber 4 is provided with a cathode 52. In addition, it is preferable to use a low-polarization carbon electrode for the anode 51. The cathode 52 is made of Ni, iron, or the like. In the upper lid 17 of the electrolytic cell 1, purge gas inlets and outlets 21 and 20 from gas lines 18 and 19, which are one of pressure maintaining means for maintaining the insides of the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 at atmospheric pressure, and a gas generated from the anode chamber 3. A gas outlet 22 for fluorine gas and a gas outlet 23 for hydrogen gas generated from the cathode chamber 4 are provided. The upper lid 17 has an HF inlet 25 from an HF supply line 24 for supplying HF, first liquid level detecting means 5 for detecting the liquid level of the anode chamber 3 and the liquid level of the cathode chamber 4, and a second liquid level detecting means. A surface detecting means 6 and pressure gauges 7 and 8 are provided.

また、電解槽1は、電解槽1内を加熱する温度調整手段が設けられている。温度調整手段は、電解槽1本体の周囲に密着して設けられている温水ジャケット13と、その温水ジャケット13に接続され、一般的なPID制御が可能な温水加熱装置12と、陽極室3または陰極室4のいずれか一方に設けられている熱電対等の温度計11と、から構成され、電解槽1内の温度制御をしている。なお、温水ジャケット13の周りには図示していないが、断熱材が設けられている。温水ジャケット13は、その形態は特に限定されないが、電解槽1の全周を覆うような形状であることが好ましい。   The electrolytic cell 1 is provided with a temperature adjusting means for heating the inside of the electrolytic cell 1. The temperature adjusting means includes a hot water jacket 13 provided in close contact with the periphery of the electrolytic cell 1 main body, a hot water heating device 12 connected to the hot water jacket 13 and capable of performing general PID control, an anode chamber 3 or And a thermometer 11 such as a thermocouple provided in one of the cathode chambers 4 to control the temperature in the electrolytic cell 1. Although not shown, a heat insulating material is provided around the hot water jacket 13. The shape of the warm water jacket 13 is not particularly limited, but is preferably a shape that covers the entire circumference of the electrolytic cell 1.

陽極室3及び陰極室4内の圧力を目標値に維持する圧力維持手段は、加圧用のボンベからのガスを、陽極室3及び陰極室4内の圧力を測定する圧力計7,8の測定結果に連動して開閉する自動弁9,10と、第1液面検知手段5及び第2液面検知手段6による電解浴2の液面高さの検知結果によって開閉して電解槽1内の陽極室3及び陰極室4それぞれにガスを供給又は排気を行う、自動弁31〜34、この圧力維持手段のガスライン18,19等の開閉を行う手動弁64〜67と、ガスライン内を通過するガス流量を予め所定の流量に設定することができる流量計68〜71とで構成されている。自動弁31〜34は、動作熱をほとんど発生しないエアアクチュエータ方式のものを使用することが好ましい。これによって、作動時に発熱が小さくでき、自動弁本体の腐食を抑えることができるので、ガスラインへ及ぼす影響を小さくすることができる。この圧力維持手段によって、陽極室3及び陰極室4内の圧力が目標値に維持されるので、陽陰極間の液面は制御される。このため、電解条件の変動が少なく、安定した電解を行うことができる。また、電解されて発生するフッ素ガスや水素ガスは、それぞれの発生口22,23から放出される。   The pressure maintaining means for maintaining the pressure in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 at a target value is obtained by measuring the gas from the pressurizing cylinder with pressure gauges 7 and 8 for measuring the pressure in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4. Automatic valves 9 and 10 that open and close in response to the results, and open and close according to the result of detection of the liquid level of the electrolytic bath 2 by the first liquid level detecting means 5 and the second liquid level detecting means 6. Automatic valves 31 to 34 for supplying or exhausting gas to the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 respectively, manual valves 64 to 67 for opening and closing the gas lines 18 and 19 of the pressure maintaining means, and pass through the gas lines. And flow meters 68 to 71 that can set the gas flow rate to be set to a predetermined flow rate in advance. As the automatic valves 31 to 34, it is preferable to use an air actuator type that generates almost no operating heat. As a result, heat generation during operation can be reduced, and corrosion of the automatic valve body can be suppressed, so that the influence on the gas line can be reduced. Since the pressure in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 is maintained at the target value by the pressure maintaining means, the liquid level between the positive and negative electrodes is controlled. Therefore, stable electrolysis can be performed with little change in electrolysis conditions. Further, fluorine gas and hydrogen gas generated by the electrolysis are released from the respective generation ports 22 and 23.

また、圧力維持手段に接続されている電解槽1内に供給するガスとしては、不活性のガスであれば特に限定されない。例えば、Arガス,Neガス,Krガス,Xeガス等の希ガスのうち1種類以上を用いると、フッ素ガスとこれら希ガスとの混合ガスを容易に任意の混合比で得ることができる。これによって、例えば、半導体製造分野における集積回路のパターニング用のエキシマレーザ発振用線源として用いることが可能となり、半導体製造分野の製造ライン上に本発明に係るフッ素ガス発生装置を配置することで、オンサイトで、フッ素ガスと希ガスの混合ガスを必要時に適宜供給することができるようになる。   The gas supplied into the electrolytic cell 1 connected to the pressure maintaining means is not particularly limited as long as it is an inert gas. For example, when one or more rare gases such as Ar gas, Ne gas, Kr gas, and Xe gas are used, a mixed gas of fluorine gas and these rare gases can be easily obtained at an arbitrary mixing ratio. This makes it possible, for example, to use it as a radiation source for excimer laser oscillation for patterning integrated circuits in the semiconductor manufacturing field, and by disposing the fluorine gas generator according to the present invention on a manufacturing line in the semiconductor manufacturing field, A mixed gas of a fluorine gas and a rare gas can be appropriately supplied on-site when needed.

陰極室4から放出される水素ガス中のHFガスを除去するHF除去塔14は、第1除去塔14aと第2除去塔14bとが並列に設けられている。これら第1除去塔14a及び第2除去塔14bは同時に使用することも、いずれか一方を使用することもできる。この除去塔14は、HFに対して耐食性を有する材料で形成されていることが好ましく、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ni等で形成され、内部にソーダライム、フッ化ナトリウム等が装填されて、水素ガス中のHFを除去している。   The HF removal tower 14 for removing HF gas in the hydrogen gas released from the cathode chamber 4 has a first removal tower 14a and a second removal tower 14b provided in parallel. These first removal tower 14a and second removal tower 14b can be used simultaneously or one of them can be used. The removal tower 14 is preferably formed of a material having corrosion resistance to HF. For example, the removal tower 14 is formed of stainless steel, Monel, Ni, or the like, and is loaded with soda lime, sodium fluoride, or the like inside. HF in hydrogen gas is removed.

このHF除去塔14は、圧力維持手段を構成する一つである自動弁10の下流側に配置されている。そして、この自動弁10とHF除去塔14との間には真空発生器26が設けられている。この真空発生器26は、ガスライン27を通過するガスによるエジェクタ効果によってガスライン28内の圧力を減圧状態にするものである。   This HF removal tower 14 is arranged downstream of the automatic valve 10 which is one of the pressure maintaining means. A vacuum generator 26 is provided between the automatic valve 10 and the HF removal tower 14. The vacuum generator 26 reduces the pressure in the gas line 28 by the ejector effect of the gas passing through the gas line 27.

陽極室3から放出されるフッ素ガス中のHFを除去するHF除去塔15は、前述のHF除去塔14と同様に、第1除去塔15a、第2除去塔15bとが並列に設けられている。そして、内部にNaFが充填されており、放出されてくるフッ素ガス中に含まれるHFを除去する。このHF除去塔15も、HF除去塔14同様に、フッ素ガス及びHFに対して耐食性を有する材料で形成されていることが好ましく、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ni等が例示できる。   The HF removal tower 15 for removing HF in the fluorine gas released from the anode chamber 3 is provided with a first removal tower 15a and a second removal tower 15b in parallel, like the HF removal tower 14 described above. . Then, the inside is filled with NaF, and HF contained in the released fluorine gas is removed. Like the HF removal tower 14, the HF removal tower 15 is preferably formed of a material having corrosion resistance to fluorine gas and HF, and examples thereof include stainless steel, Monel, and Ni.

このHF除去塔15の上流または下流側には圧力維持手段を構成する一つであるバルブ、例えば自動弁9が設けられている。陽極室3から発生するガスは、フッ素ガスと同時にHFガス、電解浴飛沫が発生する苛酷な環境となる。自動弁9がHF除去塔15の上流にあると電解槽の内圧のコントロールが容易となる。特にフッ素ガスとHFが混在する環境では、強い酸化性雰囲気になる。このため、自動弁9は、HF除去塔15の下流側に設けることで、HFが除去されたフッ素ガスのみが接する状態にでき、HFガスによる影響を受けることなく開閉動作を行うことが可能となる。自動弁9を設ける位置は仕様に応じて適宜選択することができる。なお、これらHF除去塔14及びHF除去塔15には圧力計30,29が設けられており、内部の詰まりを検知することが可能となっている。自動弁9、10としては、特に限定されないが、ピエゾバルブやマスフローコントローラが例示できる。   On the upstream or downstream side of the HF removal tower 15, a valve which constitutes a pressure maintaining means, for example, an automatic valve 9 is provided. The gas generated from the anode chamber 3 is a severe environment in which HF gas and electrolytic bath splash are generated simultaneously with fluorine gas. When the automatic valve 9 is located upstream of the HF removal tower 15, it is easy to control the internal pressure of the electrolytic cell. Particularly in an environment where fluorine gas and HF are mixed, a strong oxidizing atmosphere is created. For this reason, by providing the automatic valve 9 on the downstream side of the HF removal tower 15, only the fluorine gas from which HF has been removed can be brought into contact, and the opening and closing operation can be performed without being affected by the HF gas. Become. The position where the automatic valve 9 is provided can be appropriately selected according to the specifications. The HF removal tower 14 and the HF removal tower 15 are provided with pressure gauges 30 and 29, respectively, so that clogging inside can be detected. The automatic valves 9 and 10 are not particularly limited, and examples thereof include a piezo valve and a mass flow controller.

これら電解槽1を含むフッ素ガス発生装置は、図示しない1つの筐体からなるキャビネット内に設けられることが好ましい。キャビネット内を排気することで、万が一装置あるいは周辺配管においてガス漏れが発生してもキャビネット内で処理できるため、オンデマンド、オンサイトでの使用が容易になるからである。また、このキャビネットは、フッ素ガスと反応しにくい材料で形成されていることが好ましい。例えば、ステンレス鋼等の金属を使用することができる。   It is preferable that the fluorine gas generator including the electrolytic cell 1 is provided in a cabinet having a single casing (not shown). By exhausting the inside of the cabinet, even if a gas leak occurs in the apparatus or the peripheral piping, the gas can be treated in the cabinet, so that the on-demand and on-site use becomes easy. Further, it is preferable that the cabinet is formed of a material that does not easily react with fluorine gas. For example, a metal such as stainless steel can be used.

図示していないが、高純度のフッ素ガスが放出される下流側には、バッファタンク等の貯蔵手段が設けられていることが好ましい。これによって必要なときに所望量のフッ素ガスを提供することができ、半導体製造設備の製造ラインに配設することが容易となるオンラインのフッ素ガス発生装置となる。   Although not shown, a storage means such as a buffer tank is preferably provided on the downstream side from which high-purity fluorine gas is released. As a result, a desired amount of fluorine gas can be provided when needed, and an on-line fluorine gas generator can be easily installed on a production line of a semiconductor production facility.

陽極51は、圧力計7と連動して微弱電流を供給されてフッ素ガスを微量発生させる圧力調整機能を有する。更に、ガス発生口が閉じられ、フッ素ガスの発生休止時に完全に電圧を遮断すると陽極51と陰極52の極性が逆転して陰極52が溶解してくるため、電解停止時にも陽極51、陰極52間に電圧を付加し続ける。この際、印加する電流は、主電解電源から送電されるものであってもよいし、別に設けられる補助的電源から送電されるものであってもよい。   The anode 51 has a pressure adjusting function for generating a slight amount of fluorine gas by supplying a weak current in conjunction with the pressure gauge 7. Further, when the gas generating port is closed and the voltage is completely cut off when the generation of fluorine gas is stopped, the polarities of the anode 51 and the cathode 52 are reversed and the cathode 52 is melted. Continue applying voltage in between. At this time, the applied current may be transmitted from the main electrolytic power supply or may be transmitted from a separately provided auxiliary power supply.

次に、本実施形態例であるフッ素ガス発生装置のガス発生口が閉じられ、フッ素ガスの発生休止時の作動について図2を参照しつつ説明する。図2は本実施形態例であるフッ素ガス発生装置の電解浴液面制御方法を示すフローチャートである。   Next, the operation of the fluorine gas generator of the present embodiment when the gas generation port is closed and the generation of fluorine gas is stopped will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a flowchart showing the electrolytic bath liquid level control method of the fluorine gas generator according to the present embodiment.

通常、フッ素ガスを発生するための電気分解が行われている状態では、電解槽1内は大気圧に維持されており、陽極室3及び陰極室4内の電解浴2の高さは同じ電解浴液面位置となる。そして、夜間等に、フッ素ガスの発生を休止する場合、陽陰極間に供給する電流を停止すると共に、陽極室3に設けられているガス発生口22が閉じられると(ステップ1)、陽極51から発生し、陽極室3内に滞留しているフッ素ガスは、陽極51として使用されている炭素電極の気孔内部に吸着するようになる。その結果、陽極室3の圧力が低下し、陰極室4の圧力とのバランスで陽極室3の電解浴面位置が上昇すると共に陰極室4の電解浴面位置が降下する。その後、ステップS2に移行して、陽極室3の圧力を測定する電解浴液面位置制御用の圧力計7によってこの圧力変化を検知する。ここで、陽極室3の圧力変化検知基準は、フッ素ガスを発生しているときの圧力の約0〜−10kPa程度となるように調整しておくことが好ましい。圧力計7が陽極室3の圧力変化を検知しない間は(S2:NO)、ステップS2の判断を続ける。圧力計7によって陽極室3の圧力変化を検知すると(S2:YES)、ステップS3に移行し、これに連動して陽陰極間に微弱電流を供給することで再びフッ素ガスが微量発生する。その後ステップS4に移行し、この微弱電流は陽極室3の圧力が元に戻るまで供給しつづけ、圧力計7によって陽極室3の圧力が正常に戻ったことを検知する。圧力計7によって陽極室3の正常圧力を検知しない間は(S4:NO)、ステップS4の判断を続ける。圧力計7によって陽極室3の正常圧力を検知すると(S4:YES)、ステップS5に移行し、陽陰極間に流れる微弱電流の供給を停止する。   Normally, in a state in which electrolysis for generating fluorine gas is performed, the inside of the electrolytic cell 1 is maintained at the atmospheric pressure, and the heights of the electrolytic baths 2 in the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 are the same. It becomes the bath liquid level position. When the generation of fluorine gas is stopped at night or the like, the current supplied between the positive and negative electrodes is stopped, and the gas generation port 22 provided in the anode chamber 3 is closed (step 1). The fluorine gas generated in the anode chamber 3 and staying in the anode chamber 3 is adsorbed inside the pores of the carbon electrode used as the anode 51. As a result, the pressure in the anode chamber 3 decreases, and the electrolytic bath surface position in the anode chamber 3 rises and the electrolytic bath surface position in the cathode chamber 4 drops in balance with the pressure in the cathode chamber 4. Thereafter, the process proceeds to step S2, and this pressure change is detected by the pressure gauge 7 for controlling the electrolytic bath liquid level, which measures the pressure in the anode chamber 3. Here, it is preferable that the pressure change detection standard of the anode chamber 3 is adjusted to be about 0 to −10 kPa of the pressure when the fluorine gas is generated. While the pressure gauge 7 does not detect a pressure change in the anode chamber 3 (S2: NO), the determination in step S2 is continued. When the pressure change of the anode chamber 3 is detected by the pressure gauge 7 (S2: YES), the process proceeds to step S3, and in conjunction therewith, a very small amount of fluorine gas is generated again by supplying a weak current between the positive and negative electrodes. Thereafter, the process proceeds to step S4, where the weak current is continuously supplied until the pressure in the anode chamber 3 returns to the original level, and the pressure gauge 7 detects that the pressure in the anode chamber 3 has returned to normal. Unless the normal pressure in the anode chamber 3 is detected by the pressure gauge 7 (S4: NO), the determination in step S4 is continued. When the normal pressure of the anode chamber 3 is detected by the pressure gauge 7 (S4: YES), the process proceeds to step S5, and the supply of the weak current flowing between the positive and negative electrodes is stopped.

以上のように本実施形態例に係るフッ素ガス発生装置は、フッ素ガス発生休止時に、圧力計によって陽極室の圧力変化を検知すれば、陽陰極間に微弱電流を供給してフッ素ガスを発生させて圧力を調整し、陽極室の圧力が正常に復帰すれば、陽陰極間への微弱電流の供給を停止する。これにより圧力の変化によって微小な電解浴液面位置の変化を検知して正確な電解浴液面位置制御が可能である。このため、フッ素ガスを発生するための電気分解再開を容易にすると同時に、陽極室内の状況をモニタすることができ、安全な操業が可能となる。   As described above, the fluorine gas generating apparatus according to the present embodiment supplies fluorine gas by supplying a weak current between the positive electrode and the negative electrode when the pressure change of the anode chamber is detected by the pressure gauge during the stop of the fluorine gas generation. When the pressure in the anode chamber returns to normal, the supply of the weak current between the positive and negative electrodes is stopped. Thus, a minute change in the electrolytic bath liquid level can be detected by a change in pressure, and accurate electrolytic bath liquid surface position control can be performed. Therefore, the electrolysis for generating fluorine gas can be easily restarted, and at the same time, the condition in the anode chamber can be monitored, and safe operation can be performed.

なお、本発明のフッ素ガス発生装置は、前述の実施形態例に限定されるものではなく、例えば、以下のようなものであっても良い。   The fluorine gas generator of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be, for example, the following.

陽極室の圧力変化を直接検知するのではなく、陰極室の圧力変化を検知することで、間接的に陽極室の圧力変化を検知しても良い。あるいは、圧力計に代えて非接触式の距離計のような電解浴液面位置を直接検知するセンサを使用しても良い。また、陽極室のガス発生口が閉じられ、フッ素ガスの発生休止時における電解槽の電解浴液面高さの制御方法として、陽極室内の圧力に閾値を設定し、陽極に供給する電流値もあらかじめ設定して単純にオンオフ制御してもよいし、圧力変化による偏差を監視し、偏差量に応じて陽極に供給する電流量を変化させてもよい。   Instead of directly detecting the pressure change in the anode chamber, the pressure change in the anode chamber may be indirectly detected by detecting the pressure change in the cathode chamber. Alternatively, instead of the pressure gauge, a sensor such as a non-contact type distance meter that directly detects the electrolytic bath liquid level may be used. In addition, the gas generation port of the anode chamber is closed, and as a control method of the electrolytic bath liquid level in the electrolytic cell when the generation of fluorine gas is stopped, a threshold value is set for the pressure in the anode chamber, and the current value supplied to the anode is also controlled. The on / off control may be simply set in advance, or the deviation due to the pressure change may be monitored, and the amount of current supplied to the anode may be changed according to the deviation amount.

なお、本発明は、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で設計変更できるものであり、上記実施形態に限定されるものではない。   The present invention can be changed in design without departing from the scope of the claims, and is not limited to the above embodiment.

本発明のフッ素ガス発生装置の主要部の模式概略図である。It is a schematic diagram of the principal part of the fluorine gas generator of the present invention. 本発明のフッ素ガス発生装置の電解浴面位置制御方法を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows the electrolytic bath surface position control method of the fluorine gas generator of this invention. 従来使用していたフッ素ガス発生装置の模式図である。It is a schematic diagram of the fluorine gas generator used conventionally.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 電解槽
2 電解浴
3 陽極室
4 陰極室
5 第1液面検知手段
6 第2液面検知手段
7、8 圧力計
9、10、31〜34 自動弁
11 温度計
12 温水加熱装置
13 温水ジャケット
14、15 HF除去塔
16 隔壁
17 上蓋
18、19 ガスライン
20、21 パージガス出入口
22、23 ガス発生口
24 HF供給ライン
25 HF導入口
26 真空発生器
27、28 ガスライン
29、30 圧力計
35〜38 減圧弁
64〜67 手動弁
68〜71 流量計
51 陽極
52 陰極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrolyzer 2 Electrolyte bath 3 Anode chamber 4 Cathode chamber 5 1st liquid level detection means 6 2nd liquid level detection means 7, 8 Pressure gauge 9, 10, 31-34 Automatic valve 11 Thermometer 12 Hot water heating device 13 Hot water jacket 14, 15 HF removal tower 16 Partition wall 17 Upper lid 18, 19 Gas line 20, 21 Purge gas inlet / outlet 22, 23 Gas generating port 24 HF supply line 25 HF inlet 26 Vacuum generator 27, 28 Gas line 29, 30 Pressure gauge 35 to 38 Pressure reducing valve 64 to 67 Manual valve 68 to 71 Flow meter 51 Anode 52 Cathode

Claims (2)

フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を電気分解してフッ素ガスを発生するためのフッ素ガス発生装置であって、
隔壁によって分離された陽極室と陰極室とを有しており、
前記陽極室及び前記陰極室の圧力を検知する圧力検知手段と、フッ素ガス発生休止時に前記陽極室と前記陰極室のうち少なくともいずれか一方の電解溶液面高さを制御する前記圧力検知手段に連動した圧力調整手段とを備え、
前記圧力検知手段が、適正な電流を陽極に印加することにより、前記陽極室内の圧力を調整して、前記陽極室と前記陰極室との液面差を調整するものであるフッ素ガス発生装置。
A fluorine gas generator for electrolyzing an electrolytic bath made of a mixed molten salt containing hydrogen fluoride to generate fluorine gas,
It has an anode compartment and a cathode compartment separated by a partition,
Pressure sensing means for sensing the pressures of the anode chamber and the cathode chamber, and interlocking with the pressure sensing means for controlling the level of the electrolytic solution surface of at least one of the anode chamber and the cathode chamber when fluorine gas generation is stopped Pressure adjusting means,
A fluorine gas generator wherein the pressure detecting means adjusts the pressure in the anode chamber by applying an appropriate current to the anode to adjust a liquid level difference between the anode chamber and the cathode chamber .
隔壁によって分離された陽極室と陰極室とを備え、フッ化水素を含む混合溶融塩からなる電解浴を電気分解してフッ素ガスを発生するためのフッ素ガス発生装置の電解浴液面制御方法であって、
フッ素ガスの発生休止時に前記陽極室と前記陰極室のうち少なくともいずれか一方の圧力を圧力検知手段によって検知し、前記圧力検知手段の検知結果によって陽陰極間に微弱電流を供給し、微量のフッ素ガスを発生させることによって前記陽極室の圧力を調整し、前記陽極室と前記陰極室との液面差を制御するフッ素ガス発生装置の電解浴液面制御方法。
An electrolytic bath liquid level control method for a fluorine gas generator for generating an fluorine gas by electrolyzing an electrolytic bath made of a mixed molten salt containing hydrogen fluoride, comprising an anode chamber and a cathode chamber separated by a partition wall. So,
When the generation of fluorine gas is stopped, the pressure of at least one of the anode chamber and the cathode chamber is detected by pressure detection means, and a weak current is supplied between the positive and negative electrodes according to the detection result of the pressure detection means, and a very small amount of fluorine An electrolytic bath liquid level control method for a fluorine gas generator, wherein a pressure in the anode chamber is adjusted by generating gas to control a liquid level difference between the anode chamber and the cathode chamber.
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