JP3521560B2 - Abrasive - Google Patents
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドやガラスフ
ァイバー等の高度な仕上げ面精度が必要な表面研磨加工
に使用できる研磨材に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an abrasive material that can be used for surface polishing such as magnetic heads and glass fibers that require a high degree of surface finish.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁気ヘッドは、記録または再生時に記録
媒体と接触する為に、磁気ヘッドの仕上げ面精度は、摺
動特性や磁気特性を大きく左右する。近年、ハードディ
スクやフロッピーディスクの高密度化、磁気テープの高
密度記録システムが使われ始めており、これらに対応す
るべく磁気ヘッド表面の仕上げ精度の要求が高まってき
た。また、高度情報化社会に対応すべくガラスファイバ
ー網の広域化が進むにつれて、ガラスファイバー端面を
精度良く、しかも簡易に研磨する研磨材が求められてい
る。通常の研磨材は、ダイヤモンド、酸化アルミニウ
ム、炭化珪素等の数μmの粒子が用いられ、これをバイ
ンダーである合成樹脂に混合して使われているが、これ
ら通常の研磨材では、上記の目的にかなう高い仕上げ精
度が必要な研磨は、不可能であった。2. Description of the Related Art Since a magnetic head comes into contact with a recording medium at the time of recording or reproducing, the precision of the finished surface of the magnetic head greatly influences the sliding characteristic and the magnetic characteristic. In recent years, high-density recording of hard disks and floppy disks and high-density recording systems of magnetic tapes have begun to be used, and there is an increasing demand for finishing accuracy of the magnetic head surface in order to meet these requirements. Further, as the area of the glass fiber network is widened in order to cope with the highly information-oriented society, there is a demand for an abrasive material that accurately and easily polishes the glass fiber end surface. As a normal abrasive, particles of several μm such as diamond, aluminum oxide, and silicon carbide are used, and these are mixed with a synthetic resin as a binder and used. Polishing, which requires extremely high finishing accuracy, was impossible.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
技術的課題を背景になされたもので、磁気ヘッドやガラ
スファイバーの表面を平滑にかつ高い仕上げ精度が得ら
れる研磨材を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional technical problems, and provides an abrasive capable of smoothing the surface of a magnetic head or glass fiber and obtaining high finishing accuracy. With the goal.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、基材上に、1
分子中に重合性二重結合を含有する基を2個以上有する
架橋性モノマー7〜95重量%および非架橋性モノマー
を含有する重合性モノマーを、界面活性剤を使用して、
乳化重合によって得られる平均粒子径が0.01〜2μ
mの架橋ポリマー粒子を含有する層を設けてなることを
特徴とする研磨材、ならびに、1分子中に重合性二重結
合を含有する基を2個以上有する架橋性モノマー7〜9
5重量%および非架橋性モノマーを含有する重合性モノ
マーを、界面活性剤を使用して乳化重合することによっ
て得られる平均粒子径が0.01〜2μmの架橋ポリマ
ー粒子を分散媒に分散してなる研磨材を提供するもので
ある。以下、本発明について詳細に説明する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention comprises a base material, 1
7-95% by weight of a crosslinkable monomer having two or more groups having a polymerizable double bond in the molecule and a non-crosslinkable monomer
The polymerizable monomer containing, using a surfactant,
The average particle size obtained by emulsion polymerization is 0.01 to 2 μm.
An abrasive containing a layer containing m cross-linked polymer particles , and a polymerizable double bond in one molecule.
Crosslinkable monomers having two or more groups containing a compound
Polymerizable monomer containing 5% by weight and non-crosslinkable monomer
By emulsion polymerizing the polymer using a surfactant.
Crosslinked polymer having an average particle diameter of 0.01 to 2 μm
The present invention provides an abrasive in which particles are dispersed in a dispersion medium . Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0005】架橋性モノマーとしては、ジビニルベンゼ
ンに代表される非共役多ビニル化合物あるいはトリメチ
レンプロパントリメタクリレートも代表される多価アク
リレート化合物などの2個以上の共重合性二重結合を有
する下記の化合物が挙げられ、これらは1種または2種
以上で用いられる。本発明において用いられる架橋性モ
ノマーの具体例としては、ポリエチレングリコールジア
クリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレー
ト、1,6−ブチレングリコールジアクリレート、1,
6−ヘキサンレングリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、ポリプロピレンジアク
リレート、2,2′−ビス(4−アクリロキシプロピロ
キシフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−アクリ
ロキシジエトキシフェニル)プロパンなどのジアクリレ
ート化合物、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメ
チロールメタントリアクリレートなどのトリアクリレー
ト化合物、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレートなどのテトラアク
リレート化合物、エチレングコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グコールメタクリレート、ポリエチレングリコールメタ
クリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレ
ート、1,4−ブチレングリコールジメタクリレート、
1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジメタクリレート、ジプロピレングリ
コールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジ
メタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシジ
エトキシフェニル)プロパンなどのメタクリレート化合
物、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレートなどのトリメタク
リレート化合物、メチレンビスアクリルアミド、ジビニ
ルベンゼンなどが挙げられる。以上のうち、ジビニルベ
ンゼン、エチレングリコールジメタクリレート、または
トリメチロールプロパントリメタクリレートを用いるこ
とが好ましく、特にジビニルベンゼンが好ましい。架橋
性モノマーの使用量は重合性モノマーの5重量%以上、
好ましくは7〜95重量%、さらに好ましくは10〜9
0重量%である。架橋性モノマーの含有量が重合性モノ
マーの5重量%未満であると、架橋ポリマー粒子の硬さ
が不足となり、研磨効率が劣るようになる。As the crosslinkable monomer, a non-conjugated polyvinyl compound typified by divinylbenzene or a polyvalent acrylate compound typified by trimethylenepropanetrimethacrylate, which has two or more copolymerizable double bonds described below, is used. Compounds may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the crosslinkable monomer used in the present invention include polyethylene glycol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, 1,6-butylene glycol diacrylate, 1,
6-hexanelene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polypropylene diacrylate, 2,2'-bis (4-acryloxyproproxyphenyl) propane, 2,2'-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) Diacrylate compounds such as propane, trimethylol propane triacrylate, trimethylol ethane triacrylate, triacrylate compounds such as tetramethylol methane triacrylate, di trimethylol propane tetraacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, tetra acrylates such as pentaerythritol tetraacrylate Compound, ethylene glycol dimethacrylate,
Diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol methacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, 1,4-butylene glycol dimethacrylate,
Methacrylate compounds such as 1,6-hexane glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) propane, trimethylolpropane tri Examples thereof include trimethacrylate compounds such as methacrylate and trimethylolethanetrimethacrylate, methylenebisacrylamide, and divinylbenzene. Of these, divinylbenzene, ethylene glycol dimethacrylate, or trimethylolpropane trimethacrylate is preferably used, and divinylbenzene is particularly preferable. The amount of the crosslinkable monomer used is 5% by weight or more of the polymerizable monomer,
Preferably 7 to 95% by weight, more preferably 10 to 9
It is 0% by weight. When the content of the crosslinkable monomer is less than 5% by weight of the polymerizable monomer, the hardness of the crosslinked polymer particles becomes insufficient and the polishing efficiency becomes poor.
【0006】本発明においては、架橋性モノマー以外
に、他の共重合可能なモノマーを使用することができ
(以下、単に「非架橋性モノマー」という)、これらは
1種または2種以上で使用される。非架橋性モノマーと
しては、スチレン、エチルビニルベンゼン、α−メチル
スチレン、フルオロスチレン、ビニルピリンなどの芳香
族モノビニル化合物、ブチルアクリレート、2−エチル
ヘキシルアクリレート、β−メタクリロイルオキシエチ
ルハイドロジエンフタレート、N,N′−ジメチルアミ
ノエチルアクリレートなどのアクリル酸エステルモノマ
ー、2−エチルヘキシルメタクリレート、メトキシジエ
チレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレ
ングリコールメタクリレート、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、N,
N′−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジ
ルメタクリレートなどのメタクリル酸エステルモノマ
ー、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシア
ン化ビニル化合物、シリコン変性モノマー、マクロモノ
マーなどを挙げることができる。さらに、ブタジエン、
イソプレンなどの共役二重結合化合物や酢酸ビニルなど
のビニルエステル化合物、4−メチル−1−ペンテン、
その他のα−オレフィン化合物が挙げられる。非架橋モ
ノマーのうちでは、スチレン、メチルメタクリレート、
アクリロニトリルなどが好ましい。非架橋性モノマーの
使用量は、重合性モノマーの通常、95重量%以下、好
ましくは10〜90重量%である。In the present invention, in addition to the crosslinkable monomer, other copolymerizable monomers can be used (hereinafter simply referred to as "non-crosslinkable monomer"), and these can be used alone or in combination of two or more. To be done. Examples of the non-crosslinkable monomer include aromatic monovinyl compounds such as styrene, ethylvinylbenzene, α-methylstyrene, fluorostyrene and vinylpyrine, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, β-methacryloyloxyethylhydrogenphthalate, N, N ′. -Acrylic ester monomers such as dimethylaminoethyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, methyl methacrylate,
Ethyl methacrylate, butyl methacrylate, N,
Examples thereof include methacrylic acid ester monomers such as N′-dimethylaminoethyl methacrylate and glycidyl methacrylate, vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile, silicon-modified monomers and macromonomers. In addition, butadiene,
Conjugated double bond compounds such as isoprene and vinyl ester compounds such as vinyl acetate, 4-methyl-1-pentene,
Other α-olefin compounds may be mentioned. Among the non-crosslinking monomers, styrene, methylmethacrylate,
Acrylonitrile and the like are preferable. The amount of the non-crosslinkable monomer used is usually 95% by weight or less, preferably 10 to 90% by weight of the polymerizable monomer.
【0007】次に、本発明で使用する架橋ポリマー粒子
の好ましい製造方法を説明する。架橋性モノマーを含む
重合性モノマーの乳化重合における重合性モノマーの添
加方法としては、全量一括添加方法、一部または全量を
連続的または間欠的に添加する方法などが挙げられる。
またシード乳化重合法を用いることもできる。架橋性モ
ノマーを含む重合性モノマーの乳化重合で使用される重
合開始剤としては、通常の乳化重合で用いられるもので
あれば特に制限されないが、過硫酸カリウム、過硫酸ナ
トリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩系開始
剤、アゾ系開始剤および過酸化水素、有機過酸化物など
を単独で、あるいはアスコルビン酸などの各種還元剤と
組み合わせて使用してもよい。Next, a preferable method for producing the crosslinked polymer particles used in the present invention will be described. Examples of the method of adding the polymerizable monomer in the emulsion polymerization of the polymerizable monomer containing the crosslinkable monomer include a method of adding the whole amount at once and a method of adding a part or the whole amount continuously or intermittently.
A seed emulsion polymerization method can also be used. The polymerization initiator used in the emulsion polymerization of the polymerizable monomer containing the crosslinkable monomer is not particularly limited as long as it is used in ordinary emulsion polymerization, but is not limited to those such as potassium persulfate, sodium persulfate and ammonium persulfate. The sulfate-based initiator, azo-based initiator, hydrogen peroxide, organic peroxide and the like may be used alone or in combination with various reducing agents such as ascorbic acid.
【0008】上記の乳化重合において使用される界面活
性剤としては通常のものを用いることができ、例えば、
ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシル硫酸塩、ラウ
リル硫酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシ
エチンアナルキルプロペニルフェニルエーテル硫酸塩、
ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物などのアニオ
ン系界面活性剤を例示するこができる。ここで、塩とし
てナトリウム、アンモニウムなどを挙げることができ
る。さらに、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリオ
キシエチレンアルキルプロペニルフェニルエーテル、ソ
ルビタンモノステアレートなどのノニオン系界面活性剤
を使用することも可能である。Usual surfactants can be used as the above-mentioned emulsion polymerization.
Dodecylbenzene sulfonate, dodecyl sulfate, lauryl sulfate, dialkyl sulfosuccinate, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, polyoxyethyne alkenyl propenyl phenyl ether sulfate,
Anionic surfactants such as a formalin condensate of naphthalene sulfonic acid can be exemplified. Here, examples of the salt include sodium and ammonium. Furthermore, it is also possible to use nonionic surfactants such as polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol monostearate, polyoxyethylene alkylpropenyl phenyl ether, sorbitan monostearate.
【0009】また、ナフタレンスルホン酸ナトリウムな
ど一般に知られている反応性乳化剤を単独あるいは上記
の界面活性剤と併用して使用することが可能である。こ
れらは、単独でもよく、また組み合わせて使用すること
が可能である。本発明において架橋ポリマー粒子を合成
する方法としてポリスチレン系超微粒子をシードとして
重合することもできる。本発明で使用される架橋ポリマ
ー粒子の平均粒子径は、0.01〜2μm、好ましくは
0.02〜1.5μm、さらに好ましくは0.03〜
0.08μmである。架橋ポリマー粒子の平均粒子径が
2μmより大きいと磁気ヘッド表面に切削傷が入り、出
力が著しく低下し、0.01μmより小さいと目的とす
る切削量が得られず好ましくない。ここでの平均粒子径
は、透過型電子顕微鏡写真により直接100個の架橋ポ
リマー粒子について計測した粒子径(粒子が円球でない
場合は、長径と短径を測定しその平均値を求めた。)の
平均値を求めることにより行なう。本発明においては、
さらにこの架橋ポリマー粒子の表面を部分的または全面
的に前記の非架橋性モノマーを重合して得られる重合体
で変性すると、結合剤との密着性が良好となり、好まし
い。Further, it is possible to use a generally known reactive emulsifier such as sodium naphthalenesulfonate alone or in combination with the above-mentioned surfactant. These may be used alone or in combination. In the present invention, as a method for synthesizing the crosslinked polymer particles, it is possible to polymerize using polystyrene-based ultrafine particles as a seed. The average particle diameter of the crosslinked polymer particles used in the present invention is 0.01 to 2 μm, preferably 0.02 to 1.5 μm, and more preferably 0.03 to.
It is 0.08 μm. When the average particle diameter of the crosslinked polymer particles is larger than 2 μm, cutting scratches are formed on the surface of the magnetic head and the output is remarkably reduced, and when it is smaller than 0.01 μm, the desired cutting amount cannot be obtained, which is not preferable. The average particle size here is a particle size measured directly on 100 crosslinked polymer particles by a transmission electron micrograph (when the particles are not spherical, the major axis and the minor axis were measured and the average value was obtained). This is done by obtaining the average value of. In the present invention,
Further, if the surface of the crosslinked polymer particles is partially or entirely modified with a polymer obtained by polymerizing the non-crosslinkable monomer, the adhesion with the binder becomes good, which is preferable.
【0010】本発明の研磨材には、架橋ポリマー粒子
と結合剤樹脂からなる層(研磨層)を基材上に形成して
なる研磨材、架橋ポリマー粒子を分散媒に分散してな
る液状の研磨材がある。上記の研磨材において基材と
して使用することのできるものは、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリイミド、紙、不織布などが用いられる。
また、結合剤樹脂としては、従来公知の熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、
可視光線硬化型樹脂を単独、もしくは、これら2種以上
の混合物が使用できる。架橋ポリマー粒子100重量部
に対する結合剤樹脂の使用割合は、通常、0.1〜10
00重量部、好ましくは1〜100重量部である。ま
た、研磨層の厚みは、通常、1〜100μm、好ましく
は10〜30μmである。上記の研磨材で使用できる
分散媒としては、水、アルコール、有機溶剤、これらの
混合物を用いることができる。架橋ポリマー粒子の分散
媒への分散量は、通常0.1〜90重量%、好ましくは
1〜10重量%である。上記およびの研磨材のいず
れにおいても、架橋ポリマー粒子以外にさらにダイヤモ
ンド等の研磨剤、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防
止剤、着色剤等を添加することができる。The abrasive of the present invention comprises an abrasive formed by forming a layer (polishing layer) composed of crosslinked polymer particles and a binder resin on a substrate, and a liquid formed by dispersing the crosslinked polymer particles in a dispersion medium. There is an abrasive. As the material that can be used as the base material in the above-mentioned abrasive, polyethylene terephthalate, polyimide, paper, non-woven fabric or the like is used.
As the binder resin, a conventionally known thermoplastic resin,
Thermosetting resin, electron beam curable resin, ultraviolet curable resin,
The visible light curable resins may be used alone or as a mixture of two or more thereof. The ratio of the binder resin used to 100 parts by weight of the crosslinked polymer particles is usually 0.1-10.
The amount is 00 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight. The thickness of the polishing layer is usually 1 to 100 μm, preferably 10 to 30 μm. Water, alcohol, an organic solvent, or a mixture thereof can be used as the dispersion medium that can be used in the above abrasive. The amount of the crosslinked polymer particles dispersed in the dispersion medium is usually 0.1 to 90% by weight, preferably 1 to 10% by weight. In any of the above and above abrasives, an abrasive such as diamond, a dispersant, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, a colorant and the like can be added in addition to the crosslinked polymer particles.
【0011】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。なお、以下の記載
において「部」は重量部、「%」は「重量%」を表わ
す。実施例1
ジビニルベンゼン(三共化成製、純度55%、残余の4
0%はエチルビニルベンセン、残余の5%はジエチルベ
ンゼン)18部、スチレン77部、アクリル酸5部、ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム15部、イオン交
換水900部および過硫酸ナトリウム1部を反応容器に
仕込み、攪拌下80℃で1時間重合した。得られた研磨
材用重合体微粒子の平均粒子径を測定したところ、0.
03μmであった。得られた重合体微粒子を用いて以下
の組成で研磨層塗工液を調整した。
重合体微粒子 90重量部
ダイヤモンド(平均粒子径0.9μm) 10重量部
メタクリル酸エステルースチレン共重合体 5重量部
トルエン 200重量部
上記の各成分を卓上サンドミル(関西ペイント製)で十
分混合攪拌し、研磨層塗工液を調製した。得られた研磨
層塗工液をポリエチレンテレフタレートに厚さ1μmと
なるように塗工して研磨材を得た。この研磨材を用いて
8mmVTR用ヘッドを約30秒間研磨加工仕上げを行
ない、そのヘッドの研磨面状態の評価結果を表1に示
す。
(1)研磨面状態の観察
走査型電子顕微鏡により研磨した表面の状態を確認し
た。評価結果は次のとおり示す。
A:研削キズはなく、良好
B:研削量が不足であり、不良
C:研削キズがあり、不良EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. In the following description, "part" means "part by weight" and "%" means "% by weight". Example 1 Divinylbenzene (manufactured by Sankyo Kasei, purity 55%, residual 4
Charge 0% ethyl vinyl benzene, the remaining 5% diethylbenzene) 18 parts, styrene 77 parts, acrylic acid 5 parts, sodium dodecylbenzene sulfonate 15 parts, ion-exchanged water 900 parts and sodium persulfate 1 part to the reaction vessel. Polymerization was carried out at 80 ° C. for 1 hour with stirring. The average particle size of the obtained polymer fine particles for abrasives was measured and found to be 0.
It was 03 μm. The obtained polymer fine particles were used to prepare a polishing layer coating liquid with the following composition. Polymer fine particles 90 parts by weight Diamond (average particle size 0.9 μm) 10 parts by weight Methacrylate-styrene copolymer 5 parts by weight Toluene 200 parts by weight The above components are sufficiently mixed and stirred with a tabletop sand mill (made by Kansai Paint Co., Ltd.). A coating solution for polishing layer was prepared. The polishing layer coating liquid thus obtained was coated on polyethylene terephthalate to a thickness of 1 μm to obtain an abrasive. An 8 mm VTR head was polished and finished for about 30 seconds using this abrasive, and Table 1 shows the evaluation results of the polished surface state of the head. (1) Observation of Polished Surface State The state of the polished surface was confirmed by a scanning electron microscope. The evaluation results are shown below. A: No grinding flaw, good B: Insufficient amount of grinding, bad C: Grinding flaw, bad
【0012】実施例2〜3および比較例1〜2
実施例1において、各種モノマー、乳化剤量を表1のよ
うに変更した以外は実施例1と同様に乳化重合を行ない
各種重合体微粒子を製造した。得られた各種重合体微粒
子を用いて実施例1と同様に研磨層塗工液を調製し、研
磨した表面の状態を実施例1と同様にして評価した。結
果を表1に示す。
比較例3
重合体微粒子を全く使用しない以外は実施例1と同様に
して、研磨層塗工液を調整し、実施例1と同様にして研
磨したヘッドの表面状態を評価した。結果を表1に示
す。Examples 2 to 3 and Comparative Examples 1 to 2 Emulsion polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that the amounts of various monomers and emulsifiers were changed as shown in Table 1 to produce various polymer fine particles. did. Using the various polymer fine particles obtained, a polishing layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 1, and the state of the polished surface was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. Comparative Example 3 A polishing layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that no polymer fine particles were used, and the surface condition of the head polished in the same manner as in Example 1 was evaluated. The results are shown in Table 1.
【0013】[0013]
【表1】 DBSN:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム[Table 1] DBSN: Sodium dodecylbenzene sulfonate
【0016】[0016]
【発明の効果】本発明の研磨材は、磁気ヘッドの表面を
平滑にかつ高い仕上げ精度が得られ、加工性能に優れ
る。EFFECT OF THE INVENTION The abrasive material of the present invention provides a smooth magnetic head surface and high finishing accuracy, and is excellent in processing performance.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−297487(JP,A) 特開 昭62−88569(JP,A) 特開 昭57−8278(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 5/00 - 5/24 C09K 3/14 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-1-297487 (JP, A) JP-A-62-88569 (JP, A) JP-A-57-8278 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) C08J 5/00-5/24 C09K 3/14
Claims (2)
含有する基を2個以上有する架橋性モノマー7〜95重
量%および非架橋性モノマーを含有する重合性モノマー
を、界面活性剤を使用して乳化重合することによって得
られる平均粒子径が0.01〜2μmの架橋ポリマー粒
子を含有する層を設けてなることを特徴とする研磨材。On the 1. A substrate, crosslinking monomers 7-95 fold having a group containing a polymerizable double bond at least two per molecule
Polymerizable Monomer Containing Amount% And Non-Crosslinkable Monomer
Is provided with a layer containing cross-linked polymer particles having an average particle diameter of 0.01 to 2 μm obtained by emulsion polymerization using a surfactant .
を2個以上有する架橋性モノマー7〜95重量%および
非架橋性モノマーを含有する重合性モノマーを、界面活
性剤を使用して乳化重合することによって得られる平均
粒子径が0.01〜2μmの架橋ポリマー粒子を分散媒
に分散してなる研磨材。2. A crosslinkable monomer having 2 or more groups having a polymerizable double bond in one molecule, 7 to 95% by weight, and
A polymerizable monomer containing a non-crosslinkable monomer is used as an interfacial active agent.
A polishing material obtained by dispersing cross-linked polymer particles having an average particle diameter of 0.01 to 2 μm obtained by emulsion polymerization using a tonicity agent in a dispersion medium.
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JP18089395A JP3521560B2 (en) | 1995-06-23 | 1995-06-23 | Abrasive |
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