JP3520407B2 - Crystallized glass sintered body for circuit board - Google Patents

Crystallized glass sintered body for circuit board

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JP3520407B2
JP3520407B2 JP29510198A JP29510198A JP3520407B2 JP 3520407 B2 JP3520407 B2 JP 3520407B2 JP 29510198 A JP29510198 A JP 29510198A JP 29510198 A JP29510198 A JP 29510198A JP 3520407 B2 JP3520407 B2 JP 3520407B2
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0009Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent

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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】この発明は、多層基板等の回
路基板において電気絶縁材料として用いられる回路基板
用結晶化ガラス焼結体に関するもので、特に、これを得
るためのガラス粉末を低温焼結可能とするとともに、こ
れを焼成して得られた結晶化ガラス焼結体を高膨張率と
するための改良に関するものである。 【0002】 【従来の技術】近年、ICおよびLSIのような半導体
集積回路素子の発展の成果として、各種の電子機器の小
型化および高密度化が急速に進められ、それに伴い、半
導体集積回路素子を搭載するための回路基板に対して
も、小型化および高密度化が要求され、回路基板におけ
る電気配線の微細化や多層化が進められている。 【0003】また、一般に、導体中を伝播する信号の速
度は、その周囲を形成する材料の誘電率が高いほど遅れ
ることが知られており、高速伝播用としての電気絶縁材
料は、低誘電率であることが求められている。 【0004】しかし、低誘電率の絶縁材料の熱膨張係数
は、電極等の導体材料の熱膨張係数と比較すると、一般
的に小さいため、各種材料を多層化していく場合におい
て、その熱膨張率の差による変形やクラックが問題とな
ってくる。 【0005】これに関連して、たとえば特開平3−45
94号公報では、熱膨張係数の大きい誘電体層を絶縁体
層で挟んだ状態で内蔵させた構造のコンデンサ内蔵複合
回路基板を実現するため、特定の割合で含有させたMg
O、SiO2 およびCaOを主成分として絶縁体層を構
成することにより、絶縁体層の熱膨張係数を大きくする
ことが提案されている。この公報に記載された絶縁体層
は、1000℃〜1300℃の温度で仮焼し、次いで1
240℃〜1340℃の温度で本焼することによって、
フォルステライト(Mg2 SiO4 )の主結晶相を析出
させ、それによって、その熱膨張係数を大きくすること
が行なわれている。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載の絶縁体層を構成する電気絶縁材料は、100
0℃以下の温度での焼結が不可能である。そのため、た
とえば銀を含む導体を表面または内部に形成した回路基
板のための電気絶縁材料としては用いることができな
い。 【0007】なお、フォルステライト(Mg2 Si
4 )よりも大きい熱膨張係数を有する結晶相として、
メルウィナイト(Ca3 MgSi2 8 )、モンティセ
ライト(CaMgSiO4 )ならびにカルシウム珪酸塩
(CaSiO3 、Ca3 Si2 7 、Ca2 SiO4
たはCa3 SiO5 )が知られているが、上記公報に記
載の絶縁体層のための電気絶縁材料は、これらの結晶相
の析出が比較的少ない組成領域となっている。 【0008】そこで、この発明の目的は、1000℃以
下の温度で焼結可能であるとともに、フォルステライト
(Mg2 SiO4 )よりも大きい熱膨張係数を有する、
メルウィナイト(Ca3 MgSi2 8 )、モンティセ
ライト(CaMgSiO4 )ならびにカルシウム珪酸塩
(CaSiO3 、Ca3 Si2 7 、Ca2 SiO4
よびCa3 SiO5 のうちの少なくとも1種)の結晶相
を、上述のような1000℃以下の低温で効率良く析出
させることができ、したがって、比誘電率が10以下、
熱膨張係数が10ppm/℃以上といった、低誘電率か
つ高熱膨張係数の回路基板のための電気絶縁材料を与え
ることができる、回路基板用結晶化ガラス焼結体を提供
しようとすることである。 【0009】 【課題を解決するための手段】この発明に係る回路基板
用結晶化ガラス焼結体は、上述した技術的課題を解決す
るため、主成分として、SiO2 、MgOおよびCaO
を含むとともに、副成分として、(1)Al2 3
(2)BaOおよびSrOのうちの少なくとも1種のア
ルカリ土類金属酸化物および/またはZnO、(3)L
2 O、Na2 OおよびK2 Oのうちの少なくとも1種
のアルカリ金属酸化物、ならびに(4)B2 3 のうち
の少なくとも1種を含み、上述の主成分のSiO2 とM
gOとCaOとの重量%による組成比(SiO2 ,Mg
O,CaO)が、添付の図1に示す3元組成図におい
て、点I(30,19,51)、点J(30,5,6
5)、点K(44,5,51)、および点L(44,1
9,37)で囲まれた領域内にあり、副成分は、主成分
100重量部に対して、合計で0.5〜50重量部含む
とともに、(1)Al2 3 を含む場合には、これを
0.5〜25重量部含み、(2)BaOおよびSrOの
うちの少なくとも1種のアルカリ土類金属酸化物および
/またはZnOを含む場合には、これを0.5〜10重
量部含み、(3)Li2 O、Na2 OおよびK2 Oのう
ちの少なくとも1種のアルカリ金属酸化物を含む場合に
は、これを0.5〜5重量部含み、(4)B2 3 を含
む場合には、これを0.5〜25重量部含む、そのよう
ガラス粉末を焼成して得られた結晶化ガラス焼結体で
あって、メルウィナイト(Ca3 MgSi2 8 )、モ
ンティセライト(CaMgSiO4 )ならびにカルシウ
ム珪酸塩(CaSiO3 、Ca3 Si2 7 、Ca2
iO4 およびCa3 SiO5 のうちの少なくとも1種)
の結晶相を含むことを特徴としている。 【0010】 【0011】 【0012】 【0013】なお、上述のような特定の結晶相は、熱処
理後に析出するのが通常であるが、熱処理前に既に一部
析出している場合もある。また、これら特定の結晶相以
外の結晶相が含まれることもあり、このような他の結晶
相についても、熱処理後に析出したり、熱処理前に既に
一部析出していたりすることがある。 【0014】また、このガラス粉末から上述のような特
定の結晶相を析出させるための熱処理は、通常、その結
晶化温度以上の温度で実施される。この結晶化温度は、
1000℃以下であり、したがって、比較的低温で上述
のような特定の結晶相を生成することができる。 【0015】 【0016】 【0017】 【0018】 【0019】 【実施例】ガラス成分の出発原料として、SiO2 、M
gCO3 、CaCO3 、Al2 3 、ZnO、SrCO
3 、BaCO3 、Li2 CO3 、Na2 CO3 、K2
3 、およびB2 3 をそれぞれ準備し、これらを、表
1ないし表5に示すようなガラス組成(重量部)となる
ように混合した後、得られた混合物を、1500〜17
50℃の温度下で溶融させて溶融ガラスを作製した。そ
の後、この溶融ガラスを純水中へ投入して急冷した後、
粉砕してガラス粉末を得た。 【0020】 【表1】 【0021】 【表2】【0022】 【表3】【0023】 【表4】【0024】 【表5】表1ないし表5に示した各試料に係るガラス組成のう
ち、主成分である、SiO2 、MgOおよびCaOの組
成は、これら3者間では単位を重量%としても記載され
ており、図1の3元組成図においてプロットされてい
る。すなわち、表1ないし表5の「3元組成図中の対応
参照符号」の欄に、A〜Sの各符号が記載されている
が、これらの符号A〜Sは、各試料に係るガラス組成中
の主成分の組成を表わすものであり、図1に記入したA
〜Sの各符号に対応している。 【0025】次に、これらガラス粉末の各々に、有機バ
インダおよび溶媒としてのトルエンを添加しかつ混合
し、次いで、ボールミルで十分混練することによって、
ガラス粉末を均一に分散させたスラリーを調整した。次
いで、このスラリーを、減圧下で脱泡処理した。 【0026】次に、このようにして得られたスラリーか
ら、ドクターブレードを用いたキャスティング法によ
り、フィルム上に厚み0.2mmのグリーンシートをそ
れぞれ成形し、これらグリーンシートを、それぞれ、乾
燥させ、フィルムから剥がし、そして、打ち抜くことに
よって、所定の大きさのグリーンシートとした。 【0027】次いで、これらグリーンシートを複数枚積
層し、プレス成形することによって、成形体を得た。次
に、これらの成形体を、それぞれ、毎時200℃の速度
で昇温しながら、1000℃で2時間焼成し、結晶化ガ
ラス焼結体を得た。 【0028】次に、これらの結晶化ガラス焼結体につい
て、比誘電率、絶縁抵抗、熱膨張係数、1000℃以下
での焼結可否、および結晶相を評価した。 【0029】より具体的には、比誘電率については、1
0mm×10mm×0.5mmの寸法の試料を用い、L
CRメータにて、周波数1MHz、電圧1Vrmsおよ
び温度25℃の各条件で、静電容量を測定し、この静電
容量から比誘電率を算出するようにした。 【0030】絶縁抵抗値については、比誘電率の場合と
同じ寸法の試料を用い、50V直流電圧を印加し、60
秒後にこれを測定した。 【0031】熱膨張係数については、2mm×2mm×
10mmの寸法の試料を用い、30℃〜400℃の温度
範囲における平均熱膨張係数を測定した。 【0032】結晶相については、X線回折分析を行な
い、評価試料表面のX線回折パターンにより同定した。 【0033】上述の評価結果が、表6ないし表10に示
されている。なお、表1ないし表10において、試料番
号の右欄に*を付したものは、この発明の範囲外のもの
である。 【0034】 【表6】 【0035】 【表7】【0036】 【表8】【0037】 【表9】【0038】 【表10】表1ないし表5、表6ないし表10ならびに図1を参照
しながら、この発明に係る回路基板用結晶化ガラス焼結
体を得るためのガラス粉末についての組成範囲の限定理
由について説明する。 【0039】まず、この発明の範囲内にある回路基板用
結晶化ガラス焼結体を得るためのガラス粉末は、主成分
として、SiO2 、MgOおよびCaOを含むととも
に、副成分として、(1)Al2 3 、(2)BaOお
よびSrOのうちの少なくとも1種のアルカリ土類金属
酸化物および/またはZnO、(3)Li2 O、Na2
OおよびK2 Oのうちの少なくとも1種のアルカリ金属
酸化物、ならびに(4)B2 3 のうちの少なくとも1
種を含んでいる。 【0040】上述の点において、副成分を含まない表1
に示した試料1〜18は、この発明の範囲外のものであ
り、これら試料1〜18では、表6に示すように、10
00℃以下では十分な焼結が不可能である。 【0041】 【0042】表1ないし表5に示したガラス組成におけ
る主成分であるxSiO2 −yMgO−zCaO(ただ
し、x、yおよびzは重量%)の組成が、図1に示す3
元組成図において、点I(30,19,51)、点J
(30,5,65)、点K(44,5,51)、および
点L(44,19,37)で囲まれた領域内にあるもの
が、この発明の範囲内にある。すなわち、図1におい
、「G」、「I」、「J」、「K」、「L」および
「M」の各組成が、この発明の範囲内に含まれる。 【0043】このような主成分の組成に関して、この発
明の範囲外にある図1の領域Xには、「O」および
「P」の組成があり、これらの組成は、それぞれ、表1
の試料25および26、表2の試料65および66、表
3の試料105および106、ならびに表5の試料16
3および164が有している。これらの試料については
表6に示した試料25および26、表7に示した試料6
5および66、表8に示した試料105および106、
ならびに表10に示した試料163および164のそれ
ぞれの焼結性からわかるように、1000℃以下では焼
結不十分となっている。 【0044】同じく主成分の組成に関して、この発明の
範囲外にある図1の領域Yには、「S」の組成があり、
この組成は、表5の試料187が有している。この試料
については、表10に示した試料187の熱膨張係数お
よび析出結晶からわかるように、メルウィナイト(Ca
3 MgSi2 8 )、モンティセライト(CaMgSi
4 )ならびにカルシウム珪酸塩(CaSiO3 、Ca
3 Si2 7 、Ca2SiO4 およびCa3 SiO5
うちの少なくとも1種)のいずれもが析出せず、熱膨張
係数が10ppm/℃未満となってしまう。 【0045】また、同じく主成分の組成に関して、この
発明の範囲外にある図1の領域Zには、「Q」および
「R」の組成があり、これらの組成は、それぞれ、表1
の試料27および28、表2の試料67および68、表
3の試料107および108、ならびに表5の試料16
5および166が有している。これらの試料について
は、表6に示した試料27および28、表7に示した試
料67および68、表8に示した試料107および10
8、ならびに表10に示した試料165および166の
各々の熱膨張係数からわかるように、熱膨張係数が10
ppm/℃未満となってしまう。これは、このような組
成領域では、フォルステライト、メルウィナイト、モン
ティセライト、あるいはカルシウム珪酸塩よりも熱膨張
係数の小さいディオプサイト(CaMgSi2 4 )や
エンスタタイト(MgSiO3 )が主結晶となってくる
ためである。 【0046】また、この発明に係る回路基板用結晶化ガ
ラス焼結体を得るためのガラス粉末は、前述したよう
に、副成分として、(1)Al2 3 、(2)BaOお
よびSrOのうちの少なくとも1種のアルカリ土類金属
酸化物および/またはZnO、(3)Li2 O、Na2
OおよびK2 Oのうちの少なくとも1種のアルカリ金属
酸化物、ならびに(4)B2 3 のうちの少なくとも1
種を含むが、これら副成分は、主成分100重量部に対
して、合計で0.5〜50重量%含むとともに、(1)
Al2 3 を含む場合には、これを0.5〜25重量部
含み、(2)BaOおよびSrOのうちの少なくとも1
種のアルカリ土類金属酸化物および/またはZnOを含
む場合には、これを0.5〜10重量部含み、(3)L
2 O、Na2 OおよびK2 Oのうちの少なくとも1種
のアルカリ金属酸化物を含む場合には、これを0.5〜
5重量%含み、(4)B2 3 を含む場合には、これを
0.5〜25重量部含むものでなければならない。 【0047】上述した副成分の含有量の下限に関して言
えば、この副成分は、ガラス粉末の1000℃以下での
焼結性を向上させるものであるが、この効果を実質的に
発揮させるためには、上述のように、主成分100重量
部に対して、合計で0.5重量部以上含んでいなければ
ならない。 【0048】他方、副成分の含有量の上限について、以
下に考察する。 【0049】成分の組成に関して、上述のような含有
量の範囲における上限を超える試料に注目すると、ま
ず、試料35〜40では、表1に示すように、主成分1
00重量部に対して、(1)Al2 3 の含有量が25
重量部を超えているので、表6に示すように、1000
℃以下の焼結が困難となっている。 【0050】また、試料53〜58、75〜80および
93〜98では、表2および表3に示すように、主成分
100重量部に対して、BaOおよびSrOのうちの
1種の含有量が10重量部を超えているので、表7およ
び表8に示すように、1000℃以下の焼結が困難とな
っている。同様に、試料186では、表5に示すよう
に、の副成分であるZnOおよびSrOの双方を含ん
でいるが、これらの合計含有量が、主成分100重量部
に対して10重量部を超えているので、表10に示すよ
うに、1000℃以下の焼結が困難となっている。 【0051】また、試料115〜120、133〜13
8および151〜156では、表3および表4に示すよ
うに、主成分100重量部に対して、Li2 O、Na
2 OおよびK2 Oのうちのいずれかのアルカリ金属酸化
物の含有量が5重量部を超えているので、表8および表
9に示すように、比誘電率が10を超えてしまう。同様
に、試料185では、表5に示すように、の副成分と
して、Li2 O、Na 2 OおよびK2 Oのすべてを含ん
でいるが、これらの合計含有量が主成分100重量部に
対して5重量部を超えているので、比誘電率が10を超
えてしまう。 【0052】また、試料173〜178では、表5に示
すように、主成分100重量部に対して、B2 3
含有量が25重量部を超えているので、表10に示すよ
うに、熱膨張係数が10ppm/℃を下回ってしまう。 【0053】また、試料184では、表5に示すよう
に、(1)の副成分であるAl2 3 、(2)の副成分
であるZnOおよび(4)の副成分であるB2 3 をと
もに含んでおり、主成分100重量部に対する各副成分
の個々の含有量については、この発明の範囲内にある
が、合計での含有量が50重量部を超えている。そのた
め、10に示すように、試料184では、1000℃
以下の焼結が困難となっている。 【0054】これらに対して、表1および表6に示す試
料19〜24および29〜34、表2および表7に示す
試料41〜52、59〜64および69〜74、表3お
よび表8に示す試料81〜92、99〜104および1
09〜114、表4および表9に示す試料121〜13
2および139〜150、ならびに、表5および表10
に示す試料157〜162、167〜172、179〜
183および188〜195によれば、フォルステライ
ト(Mg2 SiO4 )よりも大きい熱膨張係数を有す
る、メルウィナイト(Ca3 MgSi2 8 )、モンテ
ィセライト(CaMgSiO4 )ならびにカルシウム珪
酸塩(CaSiO3 、Ca3 Si2 7 、Ca2 SiO
4 およびCa3 SiO5 のうちの少なくとも1種)のう
ちの少なくとも1種の結晶相が析出しており、1000
℃以下の温度で良好な焼結が可能であり、また、比誘電
率が10以下、熱膨張係数が10ppm/℃以上、絶縁
抵抗(logIR)が9を超えるといった、回路基板の
ための電気絶縁材料として好ましい特性を与えている。 【0055】特に、主成分についてA、B、CおよびD
の各点で囲まれた領域内のより限定された領域、すなわ
ち、図1に示す3元組成図において、点E(25,4
5,30)、点B(25,0,75)、点C(44,
0,56)、点F(44,22,34)、点G(40,
19,41)、および点H(29,40,31)で囲ま
れた領域内にある、表1および表6に示す試料20、2
1、23、30、31および33、表2および表7に示
す試料42、43、45、48、49、51、60、6
1、63、70、71および73、表3および表8に示
す試料82、83、85、88、89、91、100、
101、103、110、111および113、表4お
よび表9に示す試料122、123、125、128、
129、131、140、141、143、146、1
47および149、ならびに、表5および表10に示す
試料158、159、161、168、169、17
1、179〜183および188〜195によれば、よ
り大きな熱膨張係数、すなわち12ppm/℃以上の熱
膨張係数が得られている。 【0056】さらに、上述した、E、B、C、F、Gお
よびHの各点で囲まれた領域内のさらに限定された領
域、すなわち、この発明の範囲内にあるものであって、
図1に示す3元組成図において、点I(30,19,5
1)、点J(30,5,65)、点K(44,5,5
1)、および点L(44,19,37)で囲まれた領域
内にある、表1および表6に示す試料23および33、
表2および表7に示す試料45、51、63および7
3、表3および表8に示す試料85、91、103およ
び113、表4および表9に示す試料125、131、
143および149、ならびに、表5および表10に示
す試料161、171、179〜183および192〜
195によれば、前述したメルウィナイト、モンティセ
ライトならびにカルシウム珪酸塩のいずれもが析出して
おり、12ppm/℃以上の(ほとんどのものが12p
pm/℃を超える)高熱膨張係数が得られるばかりでな
く、絶縁抵抗(logIR)が11を超え、より高い絶
縁性が得られるようになる。 【0057】なお、たとえば、表1の試料24に係る
成の溶融ガラスを金属板上で冷却した場合、フォルステ
ライトが急冷固化物中に析出してしまい、それを熱処理
した場合、フォルステライトやディオプサイトやアケル
マナイトが主結晶となり、所望の結晶相が析出せず、そ
の結果、熱膨張係数が12ppm/℃未満となることが
確認されている。このように、同一ガラス組成の場合で
あっても、所望の結晶相を有する結晶化ガラス焼結体が
得られるかどうかは、その製造方法に依存している。 【0058】 【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなよう
に、この発明に係る回路基板用結晶化ガラス焼結体によ
れば、主成分である、SiO2 とMgOとCaOとの組
成比が、図1に示す3元組成図において、点I(30,
19,51)、点J(30,5,65)、点K(44,
5,51)、および点L(44,19,37)で囲まれ
た領域内にあり、副成分として、(1)Al2 3
(2)BaOおよびSrOのうちの少なくとも1種のア
ルカリ土類金属酸化物および/またはZnO、(3)L
2 O、Na2 OおよびK2 Oのうちの少なくとも1種
のアルカリ金属酸化物、ならびに(4)B2 3 のうち
の少なくとも1種を含み、この副成分は、主成分100
重量部に対して、合計で0.5〜50重量部含むととも
に、前記(1)を含む場合には、これを0.5〜25重
量部含み、前記(2)を含む場合には、これを0.5〜
10重量部含み、前記(3)を含む場合には、これを
0.5〜5重量%含み、前記(4)を含む場合には、こ
れを0.5〜25重量部含む、そのようなガラス粉末
焼成して得られた結晶化ガラス焼結体であって、メルウ
ィナイト(Ca3 MgSi2 8 )、モンティセライト
(CaMgSiO4 )ならびにカルシウム珪酸塩(Ca
SiO3 、Ca3 Si2 7 、Ca2 SiO4 およびC
3 SiO5 のうちの少なくとも1種)の結晶相のいず
れをも含むので、1000℃以下の温度で焼結可能であ
るとともに、比誘電率が10以下、熱膨張係数が10p
pm/℃以上といった、低誘電率かつ高熱膨張係数であ
り、かつ絶縁抵抗の高い、回路基板のための電気絶縁材
料として用いることができる。 【0059】 【0060】 【0061】したがって、この発明に係る回路基板用結
晶化ガラス焼結体は、小型化かつ高密度化され、信号の
高速伝播が要求される多層基板等の回路基板のための電
気絶縁材料として有利に用いることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
Circuit board used as electrical insulating material in circuit board
Related to crystallized glass sintered bodies for
Glass forPowderLow-temperature sintering
The crystallized glass sintered body obtained by firing
It is related to the improvement to make. [0002] 2. Description of the Related Art In recent years, semiconductors such as ICs and LSIs have been developed.
As a result of the development of integrated circuit devices,
Molding and densification are progressing rapidly, and
For circuit boards for mounting conductor integrated circuit elements
Are also required to be smaller and denser, and
Electrical wiring is becoming finer and more multilayered. In general, the speed of a signal propagating in a conductor is
Degree is delayed as the dielectric constant of the material forming the surroundings increases
Electrical insulation for high speed propagation
The material is required to have a low dielectric constant. However, the thermal expansion coefficient of a low dielectric constant insulating material
Is generally smaller than the coefficient of thermal expansion of conductive materials such as electrodes.
Small when used in multi-layers of various materials
Deformation and cracks due to the difference in thermal expansion coefficient
Come. In connection with this, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-45
No. 94 discloses that a dielectric layer having a large coefficient of thermal expansion is
Capacitor built-in composite with built-in structure sandwiched between layers
In order to realize a circuit board, Mg contained in a specific ratio
O, SiOTwoAnd an insulator layer composed mainly of CaO
Increases the coefficient of thermal expansion of the insulator layer
It has been proposed. Insulator layer described in this publication
Is calcined at a temperature of 1000 ° C. to 1300 ° C.
By firing at a temperature of 240 ° C to 1340 ° C,
Forsterite (MgTwoSiOFourPrecipitate the main crystalline phase
And thereby increase its coefficient of thermal expansion
Is being done. [0006] However, the above public
The electric insulating material constituting the insulator layer described in the report is 100
Sintering at temperatures below 0 ° C. is not possible. Therefore,
For example, a circuit board with a conductor containing silver formed on the surface or inside
It cannot be used as an electrical insulating material for boards
No. [0007] Forsterite (Mg)TwoSi
OFour) As a crystalline phase having a larger coefficient of thermal expansion than
Melwinite (CaThreeMgSiTwoO8), Montice
Light (CaMgSiOFour) And calcium silicate
(CaSiOThree, CaThreeSiTwoO 7, CaTwoSiOFourMa
Or CaThreeSiOFive) Is known,
The electrically insulating material for the insulating layer
Is a composition region where precipitation of is relatively small. [0008] Therefore, the object of the present invention is to reduce the temperature to 1000 ° C or lower.
Sinterable at lower temperatures and forsterite
(MgTwoSiOFour) Having a larger coefficient of thermal expansion than
Melwinite (CaThreeMgSiTwoO8), Montice
Light (CaMgSiOFour) And calcium silicate
(CaSiOThree, CaThreeSiTwoO7, CaTwoSiOFourYou
And CaThreeSiOFiveAt least one ofResultCrystal phase
Is efficiently deposited at a low temperature of 1000 ° C. or less as described above.
So that the relative permittivity is 10 or less,
Low dielectric constant such as thermal expansion coefficient of 10ppm / ℃ or more
Provides electrical insulation material for circuit board with high thermal expansion coefficient
Can be a circuit boardConcludingProvide crystallized glass sintered body
Is to try. [0009] A circuit board according to the present invention
The crystallized glass sintered body for use solves the technical problems described above.
Therefore, the main component is SiOTwo, MgO and CaO
And (1) AlTwoOThree,
(2) At least one of BaO and SrO
Alkaline earth metal oxide and / or ZnO, (3) L
iTwoO, NaTwoO and KTwoAt least one of O
Alkali metal oxides, and (4) BTwoOThreeOut of
And at least one of the above-mentioned main components of SiOTwoAnd M
Composition ratio by weight% of gO and CaO (SiOTwo, Mg
O, CaO) in the ternary composition diagram shown in FIG.
And point I (30, 19, 51), point J (30, 5, 6)
5), point K (44, 5, 51), and point L (44, 1)
9, 37), and the sub-component is the main component
0.5 to 50 parts by weight in total with respect to 100 parts by weight
Together with (1) AlTwoOThreeIf you include
0.5 to 25 parts by weight, (2) of BaO and SrO
At least one alkaline earth metal oxide thereof; and
And / or when containing ZnO, 0.5 to 10 times
(3) LiTwoO, NaTwoO and KTwoO no
When containing at least one alkali metal oxide
Contains 0.5 to 5 parts by weight of (B)TwoOThreeIncluding
If this is the case, include 0.5 to 25 parts by weight of
WhatGlass powderWith a crystallized glass sintered body obtained by firing
Oh, Melwinite (CaThreeMgSiTwoO8), Mo
Anticellite (CaMgSiOFour) And calciu
Silicate (CaSiOThree, CaThreeSiTwoO7, CaTwoS
iOFourAnd CaThreeSiOFiveAt least one of
Characterized by containing a crystal phase of [0010] [0011] [0012] The above-mentioned specific crystal phase is subjected to a heat treatment.
Usually, it precipitates after processing, but some
In some cases, they have precipitated. In addition, these specific crystal phases
Other crystal phases may be included,
The phase also precipitates after heat treatment, or already
Some may be precipitated. Also, thisGlass powderFrom the above
Heat treatment to precipitate a certain crystal phase is usually
It is carried out at a temperature above the crystallization temperature. This crystallization temperature is
1000 ° C. or less, and thus at relatively low temperatures
Can be generated. [0015] [0016] [0017] [0018] [0019] EXAMPLE As a starting material for a glass component, SiO 2 was used.Two, M
gCOThree, CaCOThree, AlTwoO Three, ZnO, SrCO
Three, BaCOThree, LiTwoCOThree, NaTwoCOThree, KTwoC
O Three, And BTwoOThreePrepare each of these, and
Glass compositions (parts by weight) as shown in Tables 1 to 5
After mixing, the resulting mixture is
It was melted at a temperature of 50 ° C. to produce a molten glass. So
After that, after putting this molten glass into pure water and quenching,
This was crushed to obtain a glass powder. [0020] [Table 1] [0021] [Table 2][0022] [Table 3][0023] [Table 4][0024] [Table 5]Glass composition of each sample shown in Tables 1 to 5
The main component, SiOTwoOf MgO, MgO and CaO
The results are also described as weight percent between these three parties.
Are plotted in the ternary composition diagram of FIG.
You. That is, in Tables 1 to 5, "correspondence in the ternary composition diagram"
In the column of "reference code", each code of A to S is described.
However, these symbols A to S are in the glass composition of each sample.
Represents the composition of the main component of
To S, respectively. Next, an organic bath is added to each of these glass powders.
Add and mix toluene and solvent
And then kneading well with a ball mill,
A slurry in which glass powder was uniformly dispersed was prepared. Next
Then, this slurry was degassed under reduced pressure. Next, the slurry thus obtained is
The casting method using a doctor blade
Green sheet with a thickness of 0.2 mm on the film.
Each green sheet is molded and dried
For drying, peeling off the film and punching
Therefore, a green sheet having a predetermined size was obtained. Next, a plurality of these green sheets are stacked.
A molded article was obtained by layering and pressing. Next
Each of these compacts was subjected to a speed of 200 ° C./hour.
While heating at 1000 ° C. for 2 hours,
A lath sintered body was obtained. Next, these crystallized glass sintered bodies will be described.
, Relative dielectric constant, insulation resistance, coefficient of thermal expansion, 1000 ° C or less
Sintering and the crystal phase were evaluated. More specifically, the relative permittivity is 1
Using a sample having dimensions of 0 mm × 10 mm × 0.5 mm, L
Using a CR meter, frequency 1 MHz, voltage 1 Vrms and
The capacitance was measured under the conditions of
The relative permittivity was calculated from the capacitance. Regarding the insulation resistance value, the case of the relative dielectric constant
Using a sample of the same size, applying a DC voltage of 50 V,
This was measured after seconds. Regarding the coefficient of thermal expansion, 2 mm × 2 mm ×
Using a sample with a size of 10 mm, a temperature of 30 ° C. to 400 ° C.
The average coefficient of thermal expansion in the range was measured. The crystal phase was analyzed by X-ray diffraction.
The sample was identified by the X-ray diffraction pattern on the evaluation sample surface. The above evaluation results are shown in Tables 6 to 10.
Have been. In Tables 1 to 10, sample numbers
Those marked with * in the right column of the items are outside the scope of the present invention.
It is. [0034] [Table 6] [0035] [Table 7][0036] [Table 8][0037] [Table 9][0038] [Table 10]See Tables 1 to 5, 6 to 10 and FIG.
While using the circuit board according to the present inventionCrystallized glass sintering
Glass powder to get bodyOf composition range for
The reason will be described. First, for a circuit board within the scope of the present invention
Glass powder for obtaining crystallized glass sintered bodyIs the main component
As SiOTwo, Containing MgO and CaO
In addition, (1) AlTwoOThree, (2) BaO
At least one alkaline earth metal of SrO and SrO
Oxide and / or ZnO, (3) LiTwoO, NaTwo
O and KTwoAt least one alkali metal of O
Oxides and (4) BTwoOThreeAt least one of
Contains seeds. In view of the above, Table 1 containing no sub-components
Samples 1 to 18 shown in the above are out of the scope of the present invention.
For these samples 1 to 18, as shown in Table 6, 10
Below 00 ° C., sufficient sintering is not possible. [0041] In the glass compositions shown in Tables 1 to 5,
XSiO which is the main componentTwo-YMgO-zCaO (only
And x, y, and z are% by weight).
In the original composition diagram,Point I (30, 19, 51), Point J
(30, 5, 65), point K (44, 5, 51), and
Point L (44, 19, 37)In the area enclosed by
Are within the scope of the present invention. That is, in FIG.
hand, "G ", ""I", "J", "K", "L"and
Each composition of "M" is included within the scope of the present invention. With respect to the composition of such a main component,
Regions X in FIG. 1 that are outside the range of
There are “P” compositions, each of which is listed in Table 1
Samples 25 and 26 of Table 2, Samples 65 and 66 of Table 2, Table
Samples 105 and 106 of Table 3 and Sample 16 of Table 5
3 and 164. For these samples
Samples 25 and 26 shown in Table 6 and Sample 6 shown in Table 7
5 and 66, Samples 105 and 106 shown in Table 8,
And that of samples 163 and 164 shown in Table 10.
As can be seen from the respective sintering properties, firing at 1000 ° C or lower
It is not enough. With respect to the composition of the main component,
In the region Y of FIG. 1 outside the range, there is a composition of “S”,
This composition is included in Sample 187 in Table 5. This sample
Of the thermal expansion coefficient and the thermal expansion coefficient of the sample 187 shown in Table 10.
And the precipitated crystals, as can be seen from the melwinite (Ca
ThreeMgSiTwoO8), Monticerite (CaMgSi)
OFour) And calcium silicate (CaSiOThree, Ca
ThreeSiTwoO7, CaTwoSiOFourAnd CaThreeSiOFiveof
None of them precipitate and thermal expansion
The coefficient is less than 10 ppm / ° C. Further, regarding the composition of the main component,
Regions Z of FIG. 1 outside the scope of the invention include "Q" and
There are compositions of “R”, each of which is shown in Table 1
Samples 27 and 28 of Table 2, Samples 67 and 68 of Table 2, Table
Samples 107 and 108 of Table 3 and Sample 16 of Table 5
5 and 166. About these samples
Are the samples 27 and 28 shown in Table 6 and the samples shown in Table 7.
Samples 67 and 68, Samples 107 and 10 shown in Table 8
8, and samples 165 and 166 shown in Table 10.
As can be seen from each coefficient of thermal expansion, the coefficient of thermal expansion is 10
ppm / ° C. This is such a pair
Forsterite, Melwinite, Mont
Thermal expansion more than Ticerite or calcium silicate
Diopsite with small coefficient (CaMgSiTwoOFour) And
Enstatite (MgSiOThree) Becomes the main crystal
That's why. Further, the circuit board according to the present inventionCrystallization
Glass powder for obtaining lath sintered bodyIs as described above
In addition, (1) AlTwoOThree, (2) BaO
At least one alkaline earth metal of SrO and SrO
Oxide and / or ZnO, (3) LiTwoO, NaTwo
O and KTwoAt least one alkali metal of O
Oxides and (4) BTwoOThreeAt least one of
Including the seeds, these subcomponents are based on 100 parts by weight of the main component.
To contain 0.5 to 50% by weight in total, and (1)
AlTwoOThreeWhen containing 0.5 to 25 parts by weight
(2) at least one of BaO and SrO
Containing some alkaline earth metal oxides and / or ZnO.
(3) L
iTwoO, NaTwoO and KTwoAt least one of O
When containing an alkali metal oxide of
5% by weight, (4) BTwoOThreeIf you include
It must contain 0.5 to 25 parts by weight. Regarding the lower limit of the content of the subcomponents described above,
For example, this subcomponentGlass powderBelow 1000 ° C
It improves sinterability, but this effect is substantially reduced.
In order to demonstrate, as described above, the main component 100 weight
Not more than 0.5 parts by weight in total
No. On the other hand, regarding the upper limit of the content of the subcomponent,
Consider below. [0049]ViceRegarding the composition of the components,
Focusing on samples that exceed the upper limit of the volume range,
In samples 35 to 40, as shown in Table 1,
For 00 parts by weight,(1)AlTwoOThreeContent of 25
As shown in Table 6, the amount exceeds 1000 parts by weight.
It is difficult to sinter below ℃. Samples 53-58, 75-80 and
93 to 98, as shown in Tables 2 and 3,
For 100 parts by weight, of BaO and SrO
Since the content of one kind exceeds 10 parts by weight, Table 7 and
As shown in Table 8, sintering at 1000 ° C or less is difficult.
ing. Similarly, in sample 186, as shown in Table 5,
Contains both ZnO and SrO, which are subcomponents of
The total content of these components is 100 parts by weight of the main component.
As shown in Table 10,
Thus, sintering at 1000 ° C. or less is difficult. Samples 115 to 120, 133 to 13
8 and 151 to 156, as shown in Tables 3 and 4.
As described above, with respect to 100 parts by weight of the main component, LiTwoO, Na
TwoO and KTwoAlkali metal oxidation of any of O
Since the content of the substance exceeds 5 parts by weight, Table 8 and Table
As shown in FIG. 9, the relative dielectric constant exceeds 10. As well
In addition, in sample 185, as shown in Table 5,
And LiTwoO, Na TwoO and KTwoIncluding all of O
However, the total content of these is 100 parts by weight of the main component
The relative dielectric constant exceeds 10
I get it. For samples 173 to 178, Table 5
As described above, 100 parts by weight of the main componentTwoOThreeof
As shown in Table 10, the content exceeds 25 parts by weight.
Thus, the thermal expansion coefficient falls below 10 ppm / ° C. For sample 184, as shown in Table 5,
Al, which is a subcomponent of (1),TwoOThree, The subcomponent of (2)
ZnO and B as a subcomponent of (4)TwoOThreeAnd
And each sub-component based on 100 parts by weight of the main component
The individual contents of are within the scope of the present invention.
However, the total content exceeds 50 parts by weight. That
,tableAs shown in FIG.
The following sintering is difficult. For these, tableTests shown in Table 1 and Table 6
Charges 19 to 24 and 29 to 34, shown in Tables 2 and 7
Samples 41-52, 59-64 and 69-74, Table 3
And samples 81 to 92, 99 to 104 and 1 shown in Table 8
09-114, Samples 121-13 shown in Tables 4 and 9
2 and 139-150, and Tables 5 and 10
Samples 157 to 162, 167 to 172, 179 to
183 and 188-195,
(MgTwoSiOFourHas a larger coefficient of thermal expansion than
Melwinite (CaThreeMgSiTwoO8), Monte
Iserite (CaMgSiOFour) And calcium silicon
Acid salt (CaSiOThree, CaThreeSiTwoO7, CaTwoSiO
FourAnd CaThreeSiOFiveAt least one of the following)
At least one crystal phase is precipitated,
Good sintering is possible at temperatures below ℃ C.
Rate is 10 or less, coefficient of thermal expansion is 10 ppm / ° C or more, insulation
The circuit board has a resistance (logIR) of more than 9
Characteristics are given as an electrical insulating material. In particular, regarding the main component,A, B, C and D
Area within the area surrounded by the points
In the ternary composition diagram shown in FIG. 1, the point E (25, 4
5, 30), point B (25, 0, 75), point C (44,
0, 56), point F (44, 22, 34), point G (40,
19, 41) and point H (29, 40, 31)
Samples 20 and 2 shown in Tables 1 and 6 in the
1, 23, 30, 31, and 33, and shown in Tables 2 and 7.
Samples 42, 43, 45, 48, 49, 51, 60, 6
1, 63, 70, 71 and 73, and shown in Tables 3 and 8.
Samples 82, 83, 85, 88, 89, 91, 100,
101, 103, 110, 111 and 113, Table 4 and
And samples 122, 123, 125, 128 shown in Table 9
129, 131, 140, 141, 143, 146, 1
47 and 149, and Tables 5 and 10
Samples 158, 159, 161, 168, 169, 17
1, 179-183 and 188-195,
Larger thermal expansion coefficient, ie, heat of 12 ppm / ° C or more
The expansion coefficient has been obtained. Further, E, B, C, F, G, and
And the more limited area within the area enclosed by points H
Area, that is,Within the scope of the present invention,
In the ternary composition diagram shown in FIG. 1, point I (30, 19, 5)
1), point J (30, 5, 65), point K (44, 5, 5)
1) and an area surrounded by a point L (44, 19, 37)
, Samples 23 and 33 shown in Tables 1 and 6,
Samples 45, 51, 63 and 7 shown in Tables 2 and 7
3, samples 85, 91, 103 and
And 113, and samples 125 and 131 shown in Tables 4 and 9;
143 and 149 and Tables 5 and 10
Samples 161, 171, 179-183 and 192-
According to 195, the aforementioned Melwinite, Montise
Both light and calcium silicate precipitate
And more than 12 ppm / ° C (most
not less than pm / ° C.)
And the insulation resistance (logIR) exceeds 11,
Edge properties can be obtained. For example, according to the sample 24 in Table 1.set
Molten molten glassIs cooled on a metal plate.
Light precipitates in the quenched solid and is heat treated.
If you do, forsterite or diopsite or Aker
Manite became the main crystal, and the desired crystal phase did not precipitate.
As a result, the thermal expansion coefficient may be less than 12 ppm / ° C.
Has been confirmed. Thus, in the case of the same glass composition,
Even if there is a crystallized glass sintered body having a desired crystal phase,
Whether it can be obtained depends on the manufacturing method. [0058] As will be apparent from the above description of the embodiment.
The crystallized glass sintered body for a circuit board according to the present invention
Then, the main component, SiOTwoOf MgO and MgO and CaO
In the three-dimensional composition diagram shown in FIG.
19, 51), point J (30, 5, 65), point K (44,
5, 51) and point L (44, 19, 37)
(1) AlTwoOThree,
(2) At least one of BaO and SrO
Alkaline earth metal oxide and / or ZnO, (3) L
iTwoO, NaTwoO and KTwoAt least one of O
Alkali metal oxides, and (4) BTwoOThreeOut of
And at least one of the main components 100
0.5 to 50 parts by weight with respect to parts by weight
In the case where the above (1) is included, it is added to
In the case where the above (2) is contained,
10 parts by weight, when (3) is included,
0.5 to 5% by weight.
Such as 0.5 to 25 parts by weight.Glass powderTo
A crystallized glass sintered body obtained by firing,
Innight (CaThreeMgSiTwoO8), Monticerite
(CaMgSiOFour) And calcium silicate (Ca
SiOThree, CaThreeSiTwoO7, CaTwoSiOFourAnd C
aThreeSiOFiveAt least one of the crystalline phases
It can be sintered at a temperature of 1000 ° C or less.
Has a relative dielectric constant of 10 or less and a thermal expansion coefficient of 10 p
low dielectric constant and high thermal expansion coefficient
Electrical insulation for circuit boards with high insulation resistance
Can be used as a fee. [0059] [0060] Therefore, the circuit board connection according to the present invention
Crystallized glassSukiyakiThe unity is reduced in size and density, and the signal
Power supply for circuit boards such as multilayer boards that require high-speed propagation
It can be advantageously used as a gas insulating material.

【図面の簡単な説明】 【図1】この発明に係る回路基板用結晶化ガラス焼結体
を得るためのガラス粉末に主成分として含まれるSiO
2 とMgOとCaOとの組成範囲を示す3元組成図であ
る。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing SiO contained as a main component in glass powder for obtaining a crystallized glass sintered body for a circuit board according to the present invention.
FIG. 3 is a ternary composition diagram showing a composition range of 2 , MgO, and CaO.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 静晴 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (72)発明者 鷹木 洋 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (56)参考文献 特開 昭61−205637(JP,A) 特開2000−86288(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C03C 10/04 C04B 35/16 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Shizuharu Watanabe 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Inside Murata Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Takagi 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto In Murata Manufacturing Co., Ltd. (56) References JP-A-61-205637 (JP, A) JP-A-2000-86288 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C03C 10 / 04 C04B 35/16

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 主成分として、SiO2 、MgOおよび
CaOを含むとともに、 副成分として、(1)Al2 3 、(2)BaOおよび
SrOのうちの少なくとも1種のアルカリ土類金属酸化
物および/またはZnO、(3)Li2 O、Na2 Oお
よびK2 Oのうちの少なくとも1種のアルカリ金属酸化
物、ならびに(4)B2 3 のうちの少なくとも1種を
含み、 前記主成分のSiO2 とMgOとCaOとの重量%によ
る組成比(SiO2 ,MgO,CaO)が、添付の図1
に示す3元組成図において、点I(30,19,5
1)、点J(30,5,65)、点K(44,5,5
1)、および点L(44,19,37)で囲まれた領域
内にあり、 前記副成分は、前記主成分100重量部に対して、合計
で0.5〜50重量部含むとともに、前記(1)Al2
3 を含む場合には、これを0.5〜25重量部含み、
前記(2)BaOおよびSrOのうちの少なくとも1種
のアルカリ土類金属酸化物および/またはZnOを含む
場合には、これを0.5〜10重量部含み、前記(3)
Li2 O、Na2 OおよびK2 Oのうちの少なくとも1
種のアルカリ金属酸化物を含む場合には、これを0.5
〜5重量部含み、前記(4)B2 3 を含む場合には、
これを0.5〜25重量部含む、 そのようなガラス粉末を焼成して得られた結晶化ガラス
焼結体であって、 メルウィナイト(Ca3 MgSi2 8 )、モンティセ
ライト(CaMgSiO4 )ならびにカルシウム珪酸塩
(CaSiO3 、Ca3 Si2 7 、Ca2 SiO4
よびCa3 SiO5 のうちの少なくとも1種)の結晶相
を含む、回路基板用結晶化ガラス焼結体。
(57) [Claim 1] At least one of (1) Al 2 O 3 , (2) BaO and SrO as a main component, while containing SiO 2 , MgO and CaO as main components. One kind of alkaline earth metal oxide and / or ZnO, (3) at least one kind of alkali metal oxide of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O, and (4) one of B 2 O 3 The composition ratio (SiO 2 , MgO, CaO) by weight% of the main component SiO 2 , MgO and CaO is shown in FIG.
In the ternary composition diagram shown in FIG.
1), point J (30, 5, 65), point K (44, 5, 5)
1) and in a region surrounded by a point L (44, 19, 37), wherein the subcomponent contains 0.5 to 50 parts by weight in total with respect to 100 parts by weight of the main component, and (1) Al 2
When O 3 is contained, it is contained in an amount of 0.5 to 25 parts by weight,
(2) When it contains at least one kind of alkaline earth metal oxide and / or ZnO of BaO and SrO, it contains 0.5 to 10 parts by weight,
At least one of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O
When containing a kind of alkali metal oxide,
Comprising 5 parts by weight, in the case containing the (4) B 2 O 3 is
A crystallized glass sintered body obtained by sintering such a glass powder containing 0.5 to 25 parts by weight of the glass powder , wherein melwinite (Ca 3 MgSi 2 O 8 ), monticelite (CaMgSiO 4 ) and A crystallized glass sintered body for a circuit board, comprising a crystal phase of calcium silicate (at least one of CaSiO 3 , Ca 3 Si 2 O 7 , Ca 2 SiO 4 and Ca 3 SiO 5 ).
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