JP3513770B2 - Electrophotographic photosensitive member substrate surface processing apparatus and surface processing method - Google Patents

Electrophotographic photosensitive member substrate surface processing apparatus and surface processing method

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JP3513770B2 JP17699993A JP17699993A JP3513770B2 JP 3513770 B2 JP3513770 B2 JP 3513770B2 JP 17699993 A JP17699993 A JP 17699993A JP 17699993 A JP17699993 A JP 17699993A JP 3513770 B2 JP3513770 B2 JP 3513770B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体基体の表
面加工方法に関し、詳しくはアルミニウム系材料からな
る電子写真感光体基体の表面加工装置及び表面加工方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface processing method for an electrophotographic photosensitive member substrate, and more particularly to a surface processing apparatus and a surface processing method for an electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum material.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真複写機,デジタルコピア,レー
ザープリンター等においては、回転ドラム状の電子写真
感光体基体(以下適宜「基体」と略称する)上に感光層
を設けてなる電子写真感光体が広く使用されている。か
かる電子写真感光体を構成する基体の材料としては、低
コスト,軽量,加工容易性等の利点から、アルミニウム
系材料が好ましく用いられている。このアルミニウム系
材料からなる回転ドラム状の基体は、一般に、管状素材
の表面を切削加工して仕上げられ、この切削加工時に
は、通常、切削液が使用される。この切削液は、冷却作
用,潤滑作用,洗浄作用等を目的として使用されるもの
であり、具体的には、石油系,ポリブテン系,灯油系,
白灯油系等が使用されている。また、画像欠陥の発生を
防止するために、基体の切削加工後に、ブラシや研磨剤
等を利用した接触式の洗浄手段により基体の表面を洗浄
することも行われている。
2. Description of the Related Art In an electrophotographic copying machine, a digital copier, a laser printer, etc., an electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer provided on a rotating drum-shaped electrophotographic photosensitive member substrate (hereinafter appropriately referred to as "substrate"). Is widely used. Aluminum-based materials are preferably used as the material of the substrate that constitutes such an electrophotographic photosensitive member because of their advantages such as low cost, light weight, and easy processing. The rotary drum-shaped substrate made of this aluminum-based material is generally finished by cutting the surface of a tubular material, and a cutting fluid is usually used during this cutting. This cutting fluid is used for the purpose of cooling action, lubrication action, cleaning action, etc. Specifically, petroleum-based, polybutene-based, kerosene-based,
White kerosene is used. Further, in order to prevent the occurrence of image defects, it is also practiced to clean the surface of the substrate by a contact type cleaning means using a brush, an abrasive or the like after cutting the substrate.

【0003】電子写真感光体基体の表面加工方法に関連
する具体的な技術としては、従来、以下に掲げるものが
提案されている。
Conventionally, the following techniques have been proposed as specific techniques relating to the method of processing the surface of the electrophotographic photosensitive member substrate.

【0004】(1)油性向上剤および/または極圧添加
剤を1.0重量%以下含有する切削油を使用して電子写真
感光体基体の加工を行う技術(特開昭63-307463号公
報)。
(1) A technique for processing an electrophotographic photoreceptor substrate by using a cutting oil containing an oiliness improver and / or an extreme pressure additive in an amount of 1.0% by weight or less (JP-A-63-307463).

【0005】(2)特定範囲の割合のマグネシウムとケ
イ素と銅とチタンとを含有するアルミニウム合金からな
る電子写真感光体基体の表面を、切削部に丸みを有する
切削工具によって仕上げる技術(特開昭64-86151号公
報)。
(2) A technique for finishing the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing magnesium, silicon, copper and titanium in a specific range of ratios with a cutting tool having a rounded cutting portion (Japanese Patent Laid-Open Publication No. Sho. 64-86151).

【0006】(3)特定範囲の割合のケイ素と鉄とを含
有するアルミニウム合金からなる電子写真感光体基体を
用いる技術(特開昭64-86152号公報)。
(3) A technique using an electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum alloy containing silicon and iron in a specific range of ratio (Japanese Patent Laid-Open No. 64-86152).

【0007】(4)特定範囲の割合のマグネシウムとケ
イ素と銅とを含有するアルミニウム合金からなる電子写
真感光体基体の表面を、切削部に丸みを有する切削工具
によって仕上げる技術(特開昭64-86153号公報)。
(4) A technique for finishing the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing magnesium, silicon and copper in a specific range by a cutting tool having a rounded cutting portion (JP-A-64- No. 86153).

【0008】(5)特定範囲の割合のケイ素とマグネシ
ウムと鉄とを含有するアルミニウム合金からなる電子写
真感光体基体を用いる技術(特開昭64-86154号公報)。
(5) A technique using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing silicon, magnesium and iron in a specific range of ratio (Japanese Patent Laid-Open No. 64-86154).

【0009】(6)特定範囲の割合のマグネシウムとケ
イ素と銅とチタンとを含有するアルミニウム合金からな
る電子写真感光体基体を用いる技術(特開昭64-86155号
公報)。
(6) A technique using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing magnesium, silicon, copper and titanium in a specific range of ratio (Japanese Patent Laid-Open No. 64-86155).

【0010】(7)特定範囲の割合のケイ素と鉄とマグ
ネシウムと、特定割合以下のその他の金属とを含有する
アルミニウム合金からなる電子写真感光体基体を用いる
技術(特開平1-123245号公報)。
(7) A technique of using an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum alloy containing silicon, iron and magnesium in a specific ratio and other metals in a specific ratio or less (Japanese Patent Laid-Open No. 1-123245). .

【0011】(8)旋盤ユニットと、高圧液噴射加工ユ
ニットと、電子写真感光体基体の搬送ユニットとからな
り、旋盤加工と高圧噴射加工とが連続して自動的に行え
るようにした表面加工装置を用いる技術(特開平1-1725
73号公報)。
(8) A surface processing apparatus comprising a lathe unit, a high-pressure liquid jet processing unit, and a transfer unit for the electrophotographic photosensitive member substrate, which is capable of continuously and automatically performing lathe processing and high-pressure jet processing. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-1725
73 publication).

【0012】(9)高圧の水の供給源に接続されたノズ
ルの噴射孔から電子写真感光体基体の表面に高圧の水を
噴射させながら、このノズルを当該基体の表面に沿って
走査させて当該基体の表面を所定の表面粗さに粗面化す
る技術(特開昭63-264764号公報)。
(9) While jetting high-pressure water onto the surface of the electrophotographic photosensitive substrate from the jet holes of the nozzle connected to the high-pressure water supply source, the nozzle is made to scan along the surface of the substrate. A technique for roughening the surface of the substrate to a predetermined surface roughness (Japanese Patent Laid-Open No. 63-264764).

【0013】(10)アルミニウム系材料からなる電子写
真感光体基体の表面に水からなる切削液を供給しなが
ら、当該基体の表面を多結晶ダイヤモンド焼結体からな
るバイトにより切削加工する技術(特願平2-417448
号)。
(10) A technique of cutting the surface of an electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum-based material with a cutting tool made of a polycrystalline diamond sintered body while supplying a cutting liquid made of water to the surface (special feature: Wishhei 2-417448
issue).

【0014】(11)アルミニウム系材料からなる電子写
真感光体基体の表面に、界面活性剤または水溶性有機溶
剤の水溶液からなる切削液を供給しながら当該基体の表
面を多結晶ダイヤモンド焼結体からなるバイトにより切
削加工する技術(特願平2-417449号) (12)アルミニウム系材料からなる電子写真感光体基体
の表面に水を含まない水溶性有機溶剤からなる切削液を
供給しながら当該基体の表面を多結晶ダイヤモンド焼結
体からなるバイトにより切削加工する技術(特願平2-41
7447号)。
(11) The surface of the electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum-based material is supplied from a polycrystalline diamond sintered body while supplying a cutting liquid made of an aqueous solution of a surfactant or a water-soluble organic solvent. Technology for cutting with a cutting tool (Japanese Patent Application No. 2-417449) (12) While supplying a cutting fluid containing a water-free water-soluble organic solvent to the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum-based material Technology for cutting the surface of diamond with a cutting tool made of polycrystalline diamond sintered body (Japanese Patent Application No. 2-41)
No. 7447).

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上記(1)〜(8)の
従来技術では、切削油を使用して表面加工されたアルミ
ニウム系材料からなる基体の表面には、アルミニウム切
削粉,ほこりやごみ等の環境異物,さび等が切削油に取
り込まれた状態で当該基体に強固に付着する場合があ
り、この状態が例えば1ヶ月以上の長期にわたり放置さ
れると、特に夏場の高温高湿下においては、上記の付着
物がさらに強固に固着されるようになり、基体の表面に
部分的な腐食(さび)が発生し、この腐食は目視によっ
ては認識できない場合もある。
In the prior arts (1) to (8) above, the surface of the substrate made of an aluminum-based material which has been surface-treated with cutting oil has aluminum cutting powder, dust or dust on the surface. There is a case where environmental foreign matter such as rust and rust etc. are firmly adhered to the substrate in a state taken in by the cutting oil, and if this state is left for a long time of, for example, one month or more, especially under high temperature and high humidity in summer. The above-mentioned deposits become more firmly fixed and partial corrosion (rust) occurs on the surface of the substrate, and this corrosion may not be visually recognizable.

【0016】このような腐食は、有機溶剤や界面活性剤
溶液に浸漬したり、あるいは超音波洗浄や紫外線/O3
照射洗浄等の非接触洗浄によっては完全に除去すること
ができず、従って、かかる腐食が存在する基体の表面に
感光層を設けて電子写真感光体を構成すると、当該腐食
部分に画像欠陥が発生する。
Such corrosion may be caused by immersion in an organic solvent or a surfactant solution, ultrasonic cleaning or ultraviolet / O 3
It cannot be completely removed by non-contact cleaning such as irradiation cleaning. Therefore, if a photosensitive layer is provided on the surface of the substrate where such corrosion exists, an electrophotographic photosensitive member is formed, and image defects occur in the corroded portion. To do.

【0017】基体表面の部分的な腐食は、当該基体表面
をブラシや研磨剤を用いて接触洗浄することによりある
程度は除去することができるが、アルミニウム系材料に
よっては基体表面に却ってキズがついてしまい、当該キ
ズの部分上に形成される感光層特にキャリア発生層の膜
厚が変化しやすいため、感光層の光感度が変化し、ハー
フトーン画像においてコントラストが生じて画像欠陥と
なる問題がある。
Partial corrosion on the surface of the substrate can be removed to some extent by contact cleaning the surface of the substrate with a brush or an abrasive, but depending on the aluminum material, the surface of the substrate is rather scratched. Since the thickness of the photosensitive layer formed on the scratched portion, particularly the thickness of the carrier generation layer, is likely to change, the photosensitivity of the photosensitive layer is changed, resulting in a contrast in a halftone image, resulting in an image defect.

【0018】また、従来技術(1)〜(8)のように切
削油を使用して表面加工されたアルミニウム系材料から
なる基体では、切削油を十分に除去するためには、フロ
ン11,112,113等のフロン、トリクロルエチレン、1,1,
1-トリクロルエタン、パークロルエチレン、塩化メチレ
ン等の塩素系溶剤を用いて洗浄しなければならず、従っ
て、このような溶剤を多量に使用することは、オゾン層
破壊,発ガン性等の観点から環境汚染,作業安全性に問
題がある。
Further, in the case of the base body made of an aluminum material surface-treated with cutting oil as in the prior arts (1) to (8), in order to remove the cutting oil sufficiently, the flon 11, 112 is used. , 113 etc. Freon, trichlorethylene, 1,1,
It must be washed with a chlorine-based solvent such as 1-trichloroethane, perchlorethylene, methylene chloride, etc. Therefore, using a large amount of such a solvent will cause ozone layer depletion and carcinogenicity. Therefore, there are problems with environmental pollution and work safety.

【0019】また、上記(9)の技術は、高圧の水を噴
射させながら基体表面の加工を行うものであるが、高圧
の水のみでは金属表面の均一な加工を行うことは困難で
あるという問題がある。
Further, in the above technique (9), the surface of the substrate is processed while jetting high-pressure water, but it is difficult to uniformly process the metal surface with only high-pressure water. There's a problem.

【0020】上記(10)〜(12)の技術は、以上の問題
点を解決すべく開発された技術であるが、それらによれ
ば画像欠陥の発生は、基体の表面加工時に発生した切削
粉、環境異物等が切削油をバインダーとして基体表面に
固着し、あるいは切削油自体が分解して強固に固着し、
さらには化学反応により強固に付着することが原因であ
ることが突き止められている。上記(10)〜(12)の技
術は、切削油のかわりに水または界面活性剤の水溶液ま
たは水溶性有機溶剤の水溶性または水を含まない水溶性
有機溶剤からなる切削液を用いて、多結晶ダイヤモンド
焼結体からなるバイトにより切削することにより、上記
の問題を解決するものである。
The above-mentioned techniques (10) to (12) are techniques developed to solve the above problems. According to them, the image defects are caused by the cutting powder generated during the surface processing of the substrate. , Environmental foreign matters adhere to the substrate surface using cutting oil as a binder, or the cutting oil itself decomposes and firmly adheres,
Furthermore, it has been found that the cause is that the chemical reaction causes strong adhesion. The above techniques (10) to (12) use a cutting fluid composed of water or an aqueous solution of a surfactant or a water-soluble or water-free water-soluble organic solvent instead of the cutting oil. The above problems are solved by cutting with a cutting tool made of a crystal diamond sintered body.

【0021】とろこで、電子写真感光体基体の表面加工
法としては、バイトの材質に単結晶ダイヤモンドを用い
る場合と多結晶ダイヤモンド焼結体を使用する場合が一
般的に知られている。上記(10)〜(12)の技術は、多
結晶ダイヤモンド焼結体を使用するものであり、本発明
者らがこの技術の単結晶ダイヤモンドを使用した電子写
真感光体基体の表面加工法への適用を検討したところ、
表面に多数の傷が発生し所望の基体表面を得られなかっ
た。これは、単結晶ダイヤモンドからなるバイトを使用
した表面加工では、バイト刃先稜によるバニッシュ作用
により基体表面が鏡面に仕上げられるため、水系切削液
や水溶性有機溶剤の切削液では潤滑作用が不十分なた
め、油性切削液を用いないと表面が鏡面に仕上がらなか
ったと考えられる。従って、単結晶ダイヤモンドからな
るバイトにより表面加工を行う電子写真感光体基体につ
いては、油性切削液の使用が必要であり、そのため先に
述べたように基体表面への切削油による切削粉や循環異
物などの固着や、切削油自体の固着により画像欠陥が発
生する可能性が高かった。
As a method of processing the surface of the electrophotographic photosensitive member base, it is generally known to use a single crystal diamond as a material of the cutting tool and a polycrystalline diamond sintered body. The above techniques (10) to (12) use a polycrystalline diamond sintered body, and the inventors of the present invention have proposed a method for processing a surface of an electrophotographic photoreceptor substrate using single crystal diamond of this technique. After considering the application,
Many scratches were generated on the surface, and the desired substrate surface could not be obtained. This is because in surface processing using a bite made of single crystal diamond, the surface of the substrate is mirror-finished due to the vanishing action of the cutting edge of the bite, so the lubricating action is insufficient with a water-based cutting fluid or a water-soluble organic solvent cutting fluid. Therefore, it is considered that the surface could not be mirror-finished without using the oil-based cutting fluid. Therefore, it is necessary to use an oil-based cutting fluid for the electrophotographic photoreceptor substrate that is surface-treated with a bite made of single crystal diamond. Therefore, as described above, the cutting powder or circulating foreign matter due to the cutting oil on the substrate surface is used. There is a high possibility that image defects may occur due to the sticking of the cutting oil or the sticking of the cutting oil itself.

【0022】そこで本発明者は、基体の表面加工におけ
る切削液の果たす機能や切削液供給方法や切削液供給量
及び使用するバイト形状などの加工条件について鋭意検
討を重ねた結果、切削油の代わりに水系の切削液又は水
を含まない水溶性有機溶剤の切削液又は防錆剤を含む水
系切削液又は水を含まない水溶性有機溶剤の切削液を用
い、単結晶ダイヤモンドからなるバイトにより切削加工
することにより、画像欠陥が少なく、その後の洗浄も容
易であり、さらにフロンや塩素系溶剤を使用せずにある
いは使用するとしても少量で済み、品質の優れた電子写
真感光体基体を提供する技術開発に成功した。
Therefore, the present inventor has conducted extensive studies on the functions of the cutting fluid in the surface processing of the substrate, the cutting fluid supply method, the cutting fluid supply amount, and the processing conditions such as the bite shape to be used. Using a water-based cutting fluid or a water-free water-soluble organic solvent cutting fluid, or a water-based cutting fluid containing a rust preventive agent or a water-free water-soluble organic solvent cutting fluid, cutting with a bite made of single crystal diamond By doing so, there are few image defects, the subsequent cleaning is easy, and even a small amount of fluorocarbon or chlorine-based solvent can be used, or a small amount even if used, and a technology for providing an electrophotographic photoreceptor substrate of excellent quality Successful development.

【0023】さらに、本願発明者らは、従来技術(10)
〜(12)の方法及び上記方法にて加工された電子写真感
光体基体は洗浄が容易であるので、感光基体を切削液を
かけながら工作機械で切削加工をした後、その同じ工作
機械に取付けた洗浄装置のノズルから加工済み表面に洗
浄液を噴射させながら洗浄することにより、通常加工工
程の後に別個の装置にて行っていた洗浄を、省略または
簡略化できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
Furthermore, the inventors of the present application have proposed the prior art (10).
Since the electrophotographic photosensitive member substrate processed by the method (12) and the above method is easy to clean, after cutting the photosensitive substrate with a machine tool while applying a cutting liquid, it is attached to the same machine tool. To complete the present invention, it was found that by performing cleaning while spraying the cleaning liquid from the nozzle of the cleaning device onto the processed surface, the cleaning which is usually performed in a separate device after the processing step can be omitted or simplified. I arrived.

【0024】本発明の課題目的は、洗浄性がよく、画像
欠陥の少ない表面を有する電子写真感光体基体を高い生
産性で得ることができる表面加工装置及び表面加工方法
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a surface processing apparatus and a surface processing method capable of obtaining an electrophotographic photosensitive member substrate having a surface having good cleaning properties and few image defects with high productivity.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
a又はbによって達成される。
This object is achieved by the following technical means a or b.

【0026】(a)アルミニウム系材料からなる電子写
真感光体基体の表面に切削液として水系切削液または水
を含まない水溶性有機溶剤を供給しながら、当該基体の
表面を単結晶ダイヤモンドまたは多結晶ダイヤモンドか
らなるバイトにより切削加工がなされるのと共に、該バ
イトの進む方向と同じ方向に進み、洗浄液を当該基体表
面に噴射しながら移動させて、当該基体表面を加工機上
で洗浄する洗浄装置を備えたことを特徴とする電子写真
感光体基体の表面加工装置。
(A) While supplying a water-based cutting liquid or a water-free water-soluble organic solvent as a cutting liquid to the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum-based material, the surface of the substrate is made of single crystal diamond or polycrystal. A cutting device that performs cutting with a cutting tool made of diamond, moves in the same direction as the cutting tool advances, moves while spraying a cleaning liquid onto the surface of the substrate, and cleans the surface of the substrate on a processing machine. An apparatus for processing a surface of an electrophotographic photosensitive member base, which is provided.

【0027】(b)a項に記載の加工装置を用いたこと
を特徴とする電子写真感光体基体の表面加工方法。
(B) A method of processing a surface of an electrophotographic photosensitive member substrate, which uses the processing apparatus described in item a).

【0028】[0028]

【作用】切削液として水系切削液または水を含まない水
溶性有機溶剤を使用することにより、アルミニウム切削
粉、ほこりやごみ等の環境異物等の基体表面への溶着や
固着が有効に防止される。仮に付着物が生じたとしても
強固に付着することがないので、洗浄が容易であり、加
工を行った同じ工作機械上に取り付けた洗浄装置による
洗浄を行うことにより、従来は加工工程の後で別個の洗
浄装置により行っていた洗浄を省略または簡略化できる
ので、洗浄工程数の大幅な減少により生産性が向上す
る。また、本発明の表面加工法においては、加工後行う
洗浄工程において、ブラシや研磨剤を用いた接触洗浄を
行う場合にも、擦過力が小さくてよいので、基体表面に
キズを発生させるおそれが少ない。
[Function] By using a water-based cutting fluid or a water-free water-soluble organic solvent as the cutting fluid, it is possible to effectively prevent aluminum cutting powder, environmental foreign matter such as dust and dust from adhering to and adhering to the substrate surface. . Even if deposits are generated, they do not adhere strongly, so cleaning is easy, and by using a cleaning device installed on the same machine tool that has been used for machining, it has been possible to use conventional methods after the machining process. Since the cleaning performed by the separate cleaning device can be omitted or simplified, the productivity is improved due to a large reduction in the number of cleaning steps. Further, in the surface processing method of the present invention, even in the case where contact cleaning using a brush or an abrasive is performed in the cleaning step performed after processing, since the rubbing force may be small, scratches may occur on the substrate surface. Few.

【0029】しかも、洗浄にはフロンや塩素系溶剤を用
いる必要性が少ないので、環境汚染,作業安全性の問題
が生じない。さらに水系切削液は、油系切削液に比べて
冷却効果が高いことからバイトの長寿命化も図ることが
できる。水系切削液としては水道水やイオン交換水や純
水などの水、界面活性剤水溶液または水溶性有機溶剤の
水溶液、エマルジョン水溶液などがあげられる。切削液
として水を用いる場合、切削液のコストの低減化を図る
ことができる。また、界面活性剤または水溶性有機溶剤
の水溶液を切削液として用いる場合、バイトと基体との
接触界面に当該水溶液による良好な膜が形成されるの
で、単なる水に比べて良好な潤滑作用が発揮される。水
溶性有機溶剤(水を含まず)を切削液として用いる場
合、水系切削液に比べてさらに冷却効果が高いことから
バイトの長寿命化を図ることができる。そして、エマル
ジョン水溶液を切削液として用いる場合、バイトと基体
の接触界面に当該水溶液による良好な膜が形成されるの
で、単なる水に比べて良好な潤滑作用が発揮される。
Moreover, since it is less necessary to use chlorofluorocarbon or a chlorine-based solvent for cleaning, environmental pollution and work safety problems do not occur. Furthermore, since the water-based cutting fluid has a higher cooling effect than the oil-based cutting fluid, the life of the cutting tool can be extended. Examples of the water-based cutting fluid include tap water, water such as ion exchanged water and pure water, an aqueous solution of a surfactant or an aqueous solution of a water-soluble organic solvent, and an aqueous emulsion solution. When water is used as the cutting fluid, the cost of the cutting fluid can be reduced. Also, when an aqueous solution of a surfactant or a water-soluble organic solvent is used as the cutting fluid, a good film is formed by the aqueous solution at the contact interface between the cutting tool and the substrate, so a better lubrication effect is exhibited compared to simple water. To be done. When a water-soluble organic solvent (not containing water) is used as the cutting fluid, it has a higher cooling effect than the water-based cutting fluid, so that the tool life can be extended. When an aqueous emulsion solution is used as the cutting fluid, a good film is formed by the aqueous solution at the contact interface between the cutting tool and the substrate, so that a good lubricating action is exhibited as compared with simple water.

【0030】これ等の水系切削液又は水溶性有機溶剤に
防錆剤を含ませたものは該基体の孔食防止及び工作機械
の防錆に効果があり、特に工作機械のメンテナンスが容
易になる。
A water-based cutting fluid or a water-soluble organic solvent containing an anticorrosive agent is effective in preventing pitting corrosion of the substrate and rustproofing of the machine tool, and particularly facilitates maintenance of the machine tool. .

【0031】また、加工後の洗浄としては、加工中に加
工が終る部分を続けて追いかけながら洗浄して行く方
考えられ、効率よく良質の洗浄が達成できる。
[0031] Also, as the cleaning after processing, how we washed while chasing continue to part processing is completed during processing
Is considered, efficiency better quality of cleaning can be achieved.

【0032】[0032]

【実施例】本発明の表面加工方法においては、アルミニ
ウム系材料からなる電子写真感光体基体の表面に水系切
削液又は水を含まない水溶性有機溶剤又はそれ等に防錆
剤を含ませたものからなる切削液を供給しながら、当該
基体の表面を単結晶ダイヤモンドまたは多結晶ダイヤモ
ンドからなるバイトにより表面を切削加工して仕上げ
る。
EXAMPLES In the surface processing method of the present invention, a water-based cutting fluid or a water-free water-soluble organic solvent containing aluminum or a rust preventive agent is added to the surface of an electrophotographic photoreceptor substrate made of an aluminum material. The surface of the substrate is finished by cutting with a cutting tool made of single crystal diamond or polycrystalline diamond while supplying a cutting fluid made of.

【0033】アルミニウム系材料としては、JISで規
定されているA1070,A1100,A3003,A5005,A580
5,A6063等が用いられる。基体の形態としては特に限
定されず、回転ドラム状,エンドレスシートベルト状の
いずれであってもよい。
Aluminum-based materials include A1070, A1100, A3003, A5005, A580 defined by JIS.
5, A6063, etc. are used. The form of the substrate is not particularly limited, and may be in the form of a rotating drum or an endless seat belt.

【0034】切削液としては水系切削液又は水を含まな
い水溶性有機溶剤又はそれ等に防錆剤を含ませたものを
用いるが、基体表面へのこれ等切削液の供給は、例えば
扶桑精機社製の「マジックカット」等を用いてミスト状
にして行うことが好ましい。これ等のミストを用いるこ
とにより、切削加工時に発生した切削粉や環境異物の基
体表面への強固な固着が有効に防止される。さらに、切
削粉等が基体表面に強固に付着しないので洗浄が容易で
あり、従って本発明の加工装置にて工作機械上で洗浄を
行う場合はもちろん、加工工程の後で別個の装置にて洗
浄を行う場合にも、フロンや塩素系溶剤を使用する必要
がなく環境衛生上の問題を生ずるおそれがない。また、
加工工程の後に別個の装置で行う洗浄工程において、ブ
ラシのような接触式洗浄を適用する場合にも、小さな擦
過力で十分に洗浄することができ、基体表面に画像欠陥
の原因となるようなキズが発生するおそれもない。ま
た、長時間放置されても、切削粉や環境異物が基体表面
に強固に付着するおそれがない。
As the cutting fluid, a water-based cutting fluid or a water-free water-soluble organic solvent or a mixture thereof containing an anticorrosive agent is used. The supply of these cutting fluid to the surface of the substrate is, for example, Fuso Seiki. It is preferable to make it into a mist using "Magic Cut" manufactured by the company. By using these mists, the solid adhesion of cutting powder and environmental foreign matter generated during cutting to the substrate surface is effectively prevented. Further, since cutting powder and the like do not adhere strongly to the surface of the substrate, cleaning is easy. Therefore, not only when cleaning is performed on the machine tool by the processing apparatus of the present invention, but also by a separate apparatus after the processing step. When performing, it is not necessary to use CFCs or chlorine-based solvents, and there is no risk of environmental hygiene. Also,
Even when a contact type cleaning such as a brush is applied in a cleaning process performed by a separate device after the processing process, it is possible to sufficiently clean with a small rubbing force, which causes an image defect on the substrate surface. There is no risk of scratches. Further, even if it is left for a long time, there is no possibility that cutting powder or environmental foreign matter will firmly adhere to the substrate surface.

【0035】切削液として水だけを使用する場合の具体
例としては、純水,イオン交換水,水道水,井戸水,あ
るいはこれ等の混合水等が挙げられる。
Specific examples of using only water as the cutting fluid include pure water, ion exchange water, tap water, well water, and mixed water thereof.

【0036】水ミストにより良好な緩衝作用を発揮さ
せ、基体の表面加工時にアルミニウムおよび添加金属と
水ミストとの反応による孔食腐食や、ノジュラー孔食腐
食を防止する観点から、水ミストの比抵抗は2kΩ/cm
〜10MΩ/cmが好ましく、水ミストの伝導度は0.05〜500
μS/cmが好ましく、水ミストの電解質濃度は0.05〜250
ppmが好ましい。
From the viewpoint of making water mist exhibit a good buffering effect and preventing pitting corrosion and nodular pitting corrosion caused by the reaction of aluminum and added metal with water mist during surface processing of the substrate, the specific resistance of water mist Is 2 kΩ / cm
~ 10MΩ / cm is preferable, conductivity of water mist is 0.05 ~ 500
μS / cm is preferable, and the electrolyte concentration of water mist is 0.05 to 250
ppm is preferred.

【0037】また、水ミストによるノジュラー孔食を防
止し、針状孔食を伴う全面腐食を防止する観点から、水
ミストの全硬度は50ppm以下が好ましく、水ミストの塩
素イオン濃度は20ppm以下が好ましい。特に、全硬度と
塩素イオン濃度が1:1である場合には全面腐食とな
り、画像欠陥とはならないので好ましい。
From the viewpoint of preventing nodular pitting corrosion caused by water mist and preventing general corrosion accompanied by needle-like pitting corrosion, the total hardness of water mist is preferably 50 ppm or less, and the chloride ion concentration of water mist is 20 ppm or less. preferable. Particularly, when the total hardness and the chlorine ion concentration are 1: 1, general corrosion is caused and an image defect does not occur, which is preferable.

【0038】また他の水系切削液としては、界面活性剤
または水溶性有機溶剤の水溶液を用いる。
As another water-based cutting fluid, an aqueous solution of a surfactant or a water-soluble organic solvent is used.

【0039】界面活性剤としては、高級アルキルスルホ
ン酸塩,高級アルコール硫酸エステル塩,リン酸エステ
ル塩,カルボン酸塩等のアニオン性界面活性剤,ベンザ
ルコニウムクロライド,サバミン型第4級アンモニウム
塩,ピリジニウム塩,アミン塩等のカチオン性界面活性
剤,アミノ酸型,ベタイン型等の両性界面活性剤,ポリ
エチレングリコール型,多価アルコール型等の非イオン
性界面活性剤等が挙げられる。
As the surfactant, anionic surfactants such as higher alkyl sulfonate, higher alcohol sulfate ester salt, phosphate ester salt, carboxylate salt, benzalkonium chloride, sabamin type quaternary ammonium salt, Examples thereof include cationic surfactants such as pyridinium salts and amine salts, amphoteric surfactants such as amino acid type and betaine type, nonionic surfactants such as polyethylene glycol type and polyhydric alcohol type.

【0040】水溶性有機溶剤としては、メタノール,エ
タノール,1-プロパノール等の直鎖アルコール,イソプ
ロパノール等の分枝アルコール等のアルコール類,アセ
トン,メチルエチルケトン等のケトン類等が挙げられ
る。
Examples of water-soluble organic solvents include linear alcohols such as methanol, ethanol and 1-propanol, alcohols such as branched alcohols such as isopropanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone.

【0041】また、他の水系切削液としては、エマルジ
ョン水溶液を用いる。エマルジョン水溶液としては、ポ
リオキシエーテル類の水溶液などがあげられる。
An emulsion aqueous solution is used as the other water-based cutting fluid. Examples of the emulsion aqueous solution include an aqueous solution of polyoxyethers.

【0042】また、他の切削液としては、水溶性有機溶
剤(水を含まず)を用いる。かかる水溶性有機溶剤(水
を含まず)としては、メタノール,エタノール,イソプ
ロパノール,ブタノール等のアルコール類,アセトン,
メチルエチルケトン等のケトン類等が挙げられる。
A water-soluble organic solvent (not containing water) is used as another cutting fluid. Examples of such water-soluble organic solvent (not containing water) include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, acetone,
Examples include ketones such as methyl ethyl ketone.

【0043】さらにこれらの切削液へ防錆剤を含ませた
切削液も使われる。防錆剤としては亜硝酸ジシクロヘキ
シルアンモニウムなどの揮発性防錆剤や、亜硝酸ソーダ
などの水溶性防錆剤が挙げられる。
Furthermore, cutting fluids containing an anticorrosive agent in these cutting fluids are also used. Examples of the rust preventive agent include volatile rust preventive agents such as dicyclohexyl ammonium nitrite and water-soluble rust preventive agents such as sodium nitrite.

【0044】また、防錆剤を含んだエマルジョン水溶液
としては、JIS K2241で規定されている水溶性切削
油剤W1種3号として市販されている切削油剤を使うこ
ともできる。
As the emulsion aqueous solution containing a rust preventive agent, a cutting oil agent commercially available as a water-soluble cutting oil agent W1 type 3 defined in JIS K2241 can be used.

【0045】ここでこれら切削液の供給量は、良好な冷
却作用,潤滑作用,洗浄作用を得る観点から2ml/min
以上であることが好ましい。供給量が2ml/min以下の
場合、潤滑作用が不十分となり、基体表面にスティック
スリップ状の傷が発生する。
Here, the supply amount of these cutting fluids is 2 ml / min from the viewpoint of obtaining good cooling action, lubrication action and cleaning action.
The above is preferable. When the supply amount is 2 ml / min or less, the lubricating action becomes insufficient and stick-slip-like scratches occur on the surface of the substrate.

【0046】本発明においては、これらの切削液を使用
し、切削工具として、荒加工では通常多結晶ダイヤモン
ド焼結体が用いられ、仕上げ加工としては単結晶ダイヤ
モンドまたは多結晶ダイヤモンド焼結体からなるバイト
を用いる。単結晶ダイヤモンドからなるバイトとして
は、ノーズ形状は平,Rのどちらを用いても良く、R形
状の場合ノーズの丸みの半径Rは10〜30mm程度のものを
使用することが好ましい。多結晶ダイヤモンド焼結体か
らなるバイトとしては、ノーズ形状は平,Rのどちらを
用いても良いが、粒度が0.5μm程度のものを使用するこ
とが好ましく、さらに形状として、段取の容易性から、
R形状であり、かつ、ノーズの丸みの半径Rが20mm以上
のバイトを使用することが好ましい。ノーズの丸みの半
径が大きいものを使用することにより、バイトの送りピ
ッチ内における最大高さRmaxが小さくなった滑らかな形
状になり、加工面が洗浄しやすい形状となる。また、ノ
ーズの丸みの半径Rを大きくすることにより、最大高さ
Rmaxが同じ場合、バイトの送りピッチを大きくでき、タ
クトタイムにも有効である。
In the present invention, these cutting fluids are used, and as a cutting tool, a polycrystalline diamond sintered body is usually used for roughing and a single crystal diamond or a polycrystalline diamond sintered body is used for finishing. Use a bite. As the cutting tool made of single crystal diamond, either a flat nose or a round nose may be used. In the case of the R shape, it is preferable to use a rounded radius R of the nose of about 10 to 30 mm. As the cutting tool made of a polycrystalline diamond sintered body, either a flat nose shape or a rounded nose shape may be used, but it is preferable to use one having a particle size of about 0.5 μm. Further, the shape is easy to set up. From
It is preferable to use a cutting tool having an R shape and a radius R of roundness of the nose of 20 mm or more. By using a tool with a large radius of nose, the maximum height Rmax within the feed pitch of the cutting tool is reduced, resulting in a smooth shape and a machined surface that is easy to clean. Also, by increasing the radius R of the roundness of the nose, the maximum height
If Rmax is the same, the feed pitch of the cutting tool can be increased, which is also effective for takt time.

【0047】ここで、最大高さRmaxは、JIS B-0601
-1982に準じて測定されたものである。使用した測定器
は、JIS B0651に規定された触針式表面粗さ測定器
である「表面粗さ測定器SE-30H」(小坂研究所製)
であり、使用した触針の先端曲率半径の呼び値は2μm
である。
Here, the maximum height Rmax is JIS B-0601.
-Measured according to 1982. The measuring instrument used is the "Surface roughness measuring instrument SE-30H" (made by Kosaka Laboratory), which is a stylus type surface roughness measuring instrument specified in JIS B0651.
And the nominal radius of curvature of the tip of the stylus used is 2 μm
Is.

【0048】表面加工の条件としては、荒加工では、主
軸回転数が2000〜6000rpm、切り込みが0.1〜0.2mm、送
りピッチが0.2mm/rev程度がよく、仕上げ加工では、主
軸回転数が2000〜6000rpm、切り込みが20μm、送りピッ
チは平形状のバイトの場合0.2mm/rev程度がよく、R形
状のバイトの場合0.1〜0.2mm/rev程度が良い。なお、
主軸回転数は、管状の基体の外径によっても異なるの
で、一概に規定することはできない。
As the conditions of the surface processing, the spindle rotational speed is 2000 to 6000 rpm, the cutting depth is 0.1 to 0.2 mm and the feed pitch is 0.2 mm / rev in the rough processing, and the spindle rotational speed is 2000 to 2000 in the finishing processing. 6000 rpm, depth of cut is 20 μm, and feed pitch is preferably about 0.2 mm / rev for flat-shaped cutting tool and about 0.1 to 0.2 mm / rev for R-shaped cutting tool. In addition,
The main shaft rotation speed cannot be unconditionally specified because it depends on the outer diameter of the tubular base body.

【0049】基体の表面加工に使用できる工作機械とし
ては、特に限定されないが、例えば図1に示す基体加工
用旋盤が挙げられる。図1において、1はドラム状の基
体であり、2はマグネットベース、3はホルダー、4は
アトマイザー、5は噴霧ノズル、6は切削液容器、7は
操作用空気弁、8はバイトである。そして2〜7の部材
は図2の斜視図にも示すような水ミストの噴霧装置を構
成している。操作用空気弁7を操作者が足で踏むとエア
ーがアトマイザー4に送られて、切削液容器6の噴霧ノ
ズル5から切削液が、バイト8と基体1との接触部分に
ミスト状に噴霧される。切削液の噴霧装置の具体例とし
ては、「マジックカット」(扶桑精機社製)が挙げられ
る。
The machine tool that can be used for the surface processing of the substrate is not particularly limited, but examples include a lathe for substrate processing shown in FIG. In FIG. 1, 1 is a drum-shaped substrate, 2 is a magnet base, 3 is a holder, 4 is an atomizer, 5 is a spray nozzle, 6 is a cutting fluid container, 7 is an operating air valve, and 8 is a cutting tool. The members 2 to 7 form a water mist spraying device as shown in the perspective view of FIG. When the operator steps on the operation air valve 7 with air, air is sent to the atomizer 4, and the cutting fluid is sprayed from the spray nozzle 5 of the cutting fluid container 6 in the form of mist on the contact portion between the cutting tool 8 and the base 1. It As a specific example of the cutting liquid spraying device, "Magic Cut" (manufactured by Fuso Seiki Co., Ltd.) can be mentioned.

【0050】表面加工された基体は、次に洗浄を施すこ
とになるが、本発明の表面加工装置及びそれを使う表面
加工方法を適用した基体表面は洗浄が容易であるため、
切削と洗浄を同じ工作機械の中で行うようにした。即
ち、図3の側断面図で示すような洗浄装置9を図1で示
した基体加工用旋盤に取付けたのが図4の側断面図及び
図5の部分正面図に示す本発明の表面加工装置である。
The surface-treated substrate is then washed, but since the surface of the substrate to which the surface processing apparatus of the present invention and the surface processing method using the same is applied is easy to clean,
Cutting and cleaning were done in the same machine tool. That is, the cleaning apparatus 9 as shown in the side sectional view of FIG. 3 is attached to the substrate processing lathe shown in FIG. 1 by the surface processing of the present invention shown in the side sectional view of FIG. 4 and the partial front view of FIG. It is a device.

【0051】洗浄装置9は、洗浄液タンク内のポンプ61
により供給されてくる洗浄液が上ノズル10aによって該
旋盤の主軸シャフト72と図示しない心押し台とにはさま
れて固定して取付けられた感光体基体1の表面に噴射さ
れ下ノズル10bによって吸込まれて、液溜め9bから集
塵容器内に集塵ポンプによって回収されるようにしてあ
る。
The cleaning device 9 includes a pump 61 in the cleaning liquid tank.
The cleaning liquid supplied by means of the upper nozzle 10a is sprayed by the upper nozzle 10a between the main shaft 72 of the lathe and the tailstock (not shown), and is sprayed onto the surface of the photosensitive body 1 which is fixedly attached, and is sucked by the lower nozzle 10b. Then, the liquid is collected from the liquid reservoir 9b into the dust collecting container by a dust collecting pump.

【0052】感光体基体1はチャック73と図示しない心
押し台に取り付けられたチャックとに内径で嵌合し、図
示しない心押し台を主軸シャフトの軸右向に油圧又は空
気圧で移動させることより固定され、スピンドルヘッド
71の主軸シャフト72と反対側の心押台とで両持ちで支持
され回転が伝達される。そして刃物台80に取付けられた
バイト8が軸方向と直角方向に切込量を決めて、該感光
体基体の軸方向に送りがかけられることにより感光体基
体1の外周は旋削されて行く。
The photoconductor substrate 1 is fitted to the chuck 73 and a chuck mounted on a tailstock (not shown) with an inner diameter, and the tailstock (not shown) is moved hydraulically or pneumatically to the right of the spindle shaft. Fixed and spindle head
The main shaft 71 of 71 and the tailstock on the opposite side are supported by both ends and rotation is transmitted. Then, the cutting amount of the cutting tool 8 attached to the tool rest 80 is determined in the direction perpendicular to the axial direction and is fed in the axial direction of the photoconductor substrate, whereby the outer periphery of the photoconductor substrate 1 is turned.

【0053】そして旋削時には切削液のミストが刃物台
80にマグネットベース2によって固定された噴霧ノズル
によって供給され該基体1の表面が仕上げられて行くと
共に、適度の間隔を置いて同じく刃物台80に固定された
洗浄装置9がバイト8の進む方向と同じ方向に進み旋削
の終った領域を洗いさって行くようにしてある。そし
て、旋削が完了すると共に一定間隔と一定時間を置いて
洗浄も完了するようにしてある。
When turning, the mist of cutting fluid is the tool post.
The surface of the substrate 1 is finished by being supplied to the 80 by the spray nozzle fixed by the magnet base 2, and the cleaning device 9 also fixed to the tool rest 80 at an appropriate interval is set in the advancing direction of the cutting tool 8. It is designed to go in the same direction and wash the area where turning has ended. Then, when the turning is completed, the cleaning is also completed at a fixed interval and a fixed time.

【0054】また洗浄装置を刃物台に固定するのではな
く、独立して軸方向に移動する移動台を設けてその上に
固定し、刃物台の動きと独立して動くようにしても良
い。
Instead of fixing the cleaning device to the tool rest, it is also possible to provide a moving base that independently moves in the axial direction and fix it on the moving base so that it moves independently of the movement of the tool rest.

【0055】なお、上ノズル10aと下ノズル10bは感光
体基体1の外径に応じてそれに見合うものをいくつか用
意して交換するようにしてある。
The upper nozzle 10a and the lower nozzle 10b are designed to be replaced depending on the outer diameter of the photoconductor substrate 1 by preparing some of them.

【0056】洗浄に使用する洗浄液としては、通常使用
される有機溶剤はもちろん、本発明の加工方法による基
体は洗浄が容易であるので純水やノニオン系界面活性剤
の水溶液などがあげられる。
Examples of the washing liquid used for washing include not only organic solvents which are usually used, but also pure water and aqueous solutions of nonionic surfactants because the substrate prepared by the processing method of the present invention is easy to wash.

【0057】このようにして表面加工・洗浄された基体
においては、基体表面への切削粉等の固着が充分に防止
される。次に本発明の加工方法により加工された基体
は、別個の装置での洗浄を行う場合は洗浄工程を経由し
て、乾燥工程に付されるが、乾燥手段としては例えば蒸
気等が用いられる。
In the substrate whose surface is processed and washed in this way, the adhesion of cutting powder and the like to the substrate surface is sufficiently prevented. Next, the substrate processed by the processing method of the present invention is subjected to a drying process via a cleaning process when cleaning is performed in a separate device, and as the drying means, for example, steam or the like is used.

【0058】本発明の方法により表面加工された電子写
真感光体基体は、電子写真複写機,デジタルコピア,レ
ーザープリンター等に用いられる電子写真感光体を構成
するために使用されるが、かかる電子写真感光体は、例
えば当該基体の表面にキャリア発生層とキャリア輸送層
を含む有機感光層を設けて構成される。
The electrophotographic photosensitive member substrate surface-treated by the method of the present invention is used for constituting an electrophotographic photosensitive member used in an electrophotographic copying machine, a digital copier, a laser printer, etc. The photoreceptor is constituted by providing an organic photosensitive layer including a carrier generating layer and a carrier transporting layer on the surface of the substrate, for example.

【0059】以下、さらに具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
Hereinafter, more specific examples will be described, but the present invention is not limited to these examples.

【0060】まず基体の形成について説明する。First, the formation of the base will be described.

【0061】基体No.1 以下の条件に従って、基体の表面に切削液を供給しなが
ら、当該基体の表面をバイトにより切削加工し、更に、
その加工機上で水系の洗浄液により洗浄して、表面加工
された電子写真感光体基体を得た。この基体の表面粗さ
は0.09μmRmaxであった。
Substrate No. 1 According to the following conditions, the surface of the substrate is cut with a cutting tool while supplying a cutting fluid to the surface of the substrate, and further,
It was washed on the processing machine with an aqueous cleaning liquid to obtain a surface-processed electrophotographic photoreceptor substrate. The surface roughness of this substrate was 0.09 μm Rmax.

【0062】(1)基体 アルミニウム系材料からなる基体であって、外径が80mm
で長さが360mmの日本軽金属製A5805(5000系)からな
る回転ドラム状の基体を用いた。なお、このA5805は、
アルミニウムのほかに、マグネシウムが0.6〜1.0重量
%、ケイ素が0.06重量%以下、鉄が0.09重量%以下、銅
が0.1重量%以下の割合で含有されているものである。
(1) Substrate A substrate made of an aluminum material having an outer diameter of 80 mm
A rotating drum-shaped substrate made of A5805 (5000 series) made by Nippon Light Metal Co., Ltd. having a length of 360 mm was used. This A5805 is
In addition to aluminum, magnesium is contained in an amount of 0.6 to 1.0% by weight, silicon is 0.06% by weight or less, iron is 0.09% by weight or less, and copper is 0.1% by weight or less.

【0063】(2)切削液 比抵抗が5kΩ/cmの水道水を用いた。(2) Cutting fluid Tap water having a specific resistance of 5 kΩ / cm was used.

【0064】(3)切削液の供給量 2ml/minとなるように供給した。(3) Supply of cutting fluid It was supplied at 2 ml / min.

【0065】(4)工作機械 切削液の噴霧装置としては図2に示す「マジックカッ
ト」(扶桑精機社製)と図3に示す洗浄装置9とを備え
た、図4及び図5に示した基体加工用旋盤を用いた。
(4) Machine tool cutting fluid spraying device shown in FIGS. 4 and 5 equipped with "Magic Cut" (manufactured by Fuso Seiki Co., Ltd.) shown in FIG. 2 and cleaning device 9 shown in FIG. A lathe for substrate processing was used.

【0066】(5)バイト 荒加工では、ノーズRが3mm、粒度が5μmの多結晶ダ
イヤモンド焼結体からなるバイトを使用した。
(5) In the roughing of the cutting tool, a cutting tool made of a polycrystalline diamond sintered body having a nose R of 3 mm and a grain size of 5 μm was used.

【0067】仕上げ加工では、平形状単結晶ダイヤモン
ドからなるバイトを使用した。
In the finishing process, a cutting tool made of flat single crystal diamond was used.

【0068】(6)加工条件 荒加工では、主軸回転数を3000rpm、送りピッチを0.2mm
/rev、切り込みを0.2mmとした。
(6) Machining conditions In rough machining, the spindle speed is 3000 rpm and the feed pitch is 0.2 mm.
/ Rev, the cut was 0.2 mm.

【0069】仕上げ加工では、主軸回転数を3000rpm、
送りピッチを0.2mm/rev、切り込みを20μmとした。
In the finishing process, the spindle speed is 3000 rpm,
The feed pitch was 0.2 mm / rev and the cut was 20 μm.

【0070】洗浄液としてはノニオン系界面活性剤ソニ
ックフェロー製SE 115の10重量%の水溶液を用い3l
/minで洗浄装置9に供給しながら洗浄を行った。
As the cleaning liquid, a 10 wt% aqueous solution of nonionic surfactant SE 115 manufactured by Sonic Fellow was used, and 3 liters thereof were used.
Cleaning was performed while supplying to the cleaning device 9 at a flow rate of / min.

【0071】基体No.2〜7 後記表1に示す条件としたほかは、基体No.1と同様に
して表面加工された電子写真感光体基体No.2〜7を得
た。得られた各基体の表面粗さは表1に示すとおりであ
った。
Substrate Nos. 2 to 7 Electrophotographic photosensitive substrate Nos. 2 to 7 which were surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except for the conditions shown in Table 1 below were obtained. The surface roughness of each of the obtained substrates was as shown in Table 1.

【0072】基体No.8 比較例として、切削液供給量を1.8ml/min、とした他は
基体No.1と同様にして表面加工された電子写真感光体
基体No.8を得た。得られた基体の表面粗さは0.20μmRm
axであり、基体表面には微細な傷が観察された。
Substrate No. 8 As a comparative example, an electrophotographic photosensitive substrate No. 8 surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting fluid supply rate was 1.8 ml / min. The surface roughness of the obtained substrate is 0.20 μm Rm
ax and fine scratches were observed on the surface of the substrate.

【0073】基体No.9〜10 比較例として、切削液を油性の「D110(エッソ社
製)」にした他は基体No.1と同様にして表面加工され
た電子写真感光体基体No.9〜10を得た。
Substrate Nos. 9 to 10 As a comparative example, an electrophotographic photoreceptor substrate No. 9 was surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting fluid was oil-based "D110" (manufactured by Esso Corporation). Got ~ 10.

【0074】基体No.11〜12 比較例としては切削液を油性の「6930改(出光興産社
製)」にした他は基体No.1と同様にして表面加工され
た電子写真感光体基体No.11〜12を得た。
Substrate Nos. 11 to 12 As comparative examples, the electrophotographic photoreceptor substrate No. surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting fluid was oily "6930 Kai (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.)" I got .11-12.

【0075】これら基体No.1〜12の加工条件と仕上り
の表面粗さの結果を表1に示す。
Table 1 shows the processing conditions of these substrate Nos. 1 to 12 and the results of the finished surface roughness.

【0076】[0076]

【表1】 [Table 1]

【0077】次に複写機用感光体の作成について述べ
る。
Next, the production of a photoconductor for a copying machine will be described.

【0078】以上の基体No.1〜12の電子写真感光体基
体を用いて次のようにして、下引層,キャリア発生層,
キャリア輸送層を順に積層して、機能分離型の2層構成
の有機感光層を備えた電子写真感光体No.1〜12を作製
した。
Using the above electrophotographic photosensitive member substrates Nos. 1 to 12, the undercoat layer, the carrier generating layer, and the
The carrier transport layers were laminated in order to prepare electrophotographic photoreceptors Nos. 1 to 12 each having a function-separated two-layer organic photosensitive layer.

【0079】(1)下引層 ポリアミド樹脂「X-1874M」(ダイセルヒュルス社
製)をメタノール/1-ブタノール(=4/1)に溶解した塗
布液を用いて、アルミニウム基体上に膜厚0.3μmの下引
層を設けた。
(1) Subbing layer Polyamide resin "X-1874M" (manufactured by Daicel Hüls) was dissolved in methanol / 1-butanol (= 4/1) to obtain a film thickness on an aluminum substrate. An undercoat layer of 0.3 μm was provided.

【0080】(2)キャリア発生層 電荷発生物質として下記の化学構造式で示されるCGM
-2;2.5部、バインダー樹脂としてポリビニルブチラー
ル樹脂「エレックスBX-1」(積水化学社製)1部を
MIPK(メチルイソプロピルケトン)143部と共にサ
ンドミルを用いて分散し、均一に分散された塗布液を用
いて前記下引層上に浸漬塗布して膜厚0.7μmのキャリア
発生層を形成した。
(2) Carrier generation layer CGM represented by the following chemical structural formula as a charge generation material
-2; 2.5 parts, 1 part of polyvinyl butyral resin "Elex BX-1" (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) as a binder resin was dispersed together with 143 parts of MIPK (methyl isopropyl ketone) using a sand mill, and the coating liquid was uniformly dispersed. Was applied onto the undercoat layer by dip coating to form a carrier generation layer having a film thickness of 0.7 μm.

【0081】[0081]

【化1】 [Chemical 1]

【0082】(3)キャリア輸送層 電荷輸送物質として下記の化学構造式で示されるCTM
-2;75部とポリカーボネート樹脂「ユーピロンZ300」
(粘度平均分子量30,000)(三菱瓦斯化学社製)100
部、酸化防止剤「サノールLS-2626」(三共社製)7
部及び微量のシリコンオイル「KF-54」(信越化学社
製)をジクロロメタン500部に溶解した液を前記キャリ
ア発生層上に浸漬塗布して、乾燥の後、膜厚25μmのキ
ャリア輸送層を形成した。
(3) Carrier Transport Layer CTM represented by the following chemical structural formula as a charge transport material
-2; 75 parts and polycarbonate resin "Iupilon Z300"
(Viscosity average molecular weight: 30,000) (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 100
Part, antioxidant "SANOL LS-2626" (manufactured by Sankyosha) 7
Part and a small amount of silicon oil "KF-54" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) dissolved in 500 parts of dichloromethane is applied onto the carrier generation layer by dip coating, and after drying, a carrier transport layer having a film thickness of 25 μm is formed. did.

【0083】[0083]

【化2】 [Chemical 2]

【0084】実施例1〜7及び比較例1〜5として、上
記電子写真感光体No.1〜12をコニカ社製の複写機Ubix
U3035に搭載して、A4サイズの普通紙に画像を形成
する実写テストを行い、画質,黒点,黒スジを評価し
た。画質の評価は黒点およびカブリの発生しない場合を
◎、黒点が若干発生したがカブリのない場合を○、黒点
およびカブリが発生した場合を×とした。
As Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5, the electrophotographic photosensitive members Nos. 1 to 12 were used as copying machines Ubix manufactured by Konica Corporation.
It was mounted on U3035, and a live-shooting test was conducted to form an image on A4 size plain paper, and the image quality, black dots, and black streaks were evaluated. The image quality was evaluated as ⊚ when black dots and fog did not occur, ◯ when black dots and slight fog did not occur, and x when black dots and fog occurred.

【0085】表2に結果を示す。The results are shown in Table 2.

【0086】[0086]

【表2】 [Table 2]

【0087】次にレーザープリンター用の感光体の作製
について述べる。基体No.1〜12の電子写真感光体基体
を用いて、下記のようにして、下引層,キャリア発生
層,キャリア輸送層を順に積層して、機能分離型の2層
構成の有機感光層を備えた電子写真感光体No.13〜24を
作製した。
Next, the production of a photoconductor for a laser printer will be described. Using the electrophotographic photosensitive member substrates Nos. 1 to 12, an undercoat layer, a carrier generating layer, and a carrier transport layer are sequentially laminated in the following manner to form a function-separated two-layer organic photosensitive layer. Electrophotographic photoreceptors Nos. 13 to 24 equipped with were prepared.

【0088】(1)下引層 塗布溶剤として、トルエンと2-ブタノン(MEK)とを
用い、バインダーとしてエルバックス4260(エチレン系
共重合体)を用いて、電子写真感光体基体上に乾燥後の
膜厚が0.2μmの下引層を設けた。
(1) Toluene and 2-butanone (MEK) were used as the solvent for coating the undercoat layer, and Elvacs 4260 (ethylene-based copolymer) was used as the binder, after drying on the electrophotographic photoreceptor substrate. An undercoat layer having a thickness of 0.2 μm was provided.

【0089】(2)キャリア発生層 塗布溶剤として2-ブタノン(MEK)を用い、バインダ
ー(溶剤)としてKR-5240(シリコーン樹脂)を用
い、キャリア発生物質といてτ型無金属フタロシアニン
を用いて、上記下引層の上に乾燥後の付着量が4mg/dm
2のキャリア発生層を設けた。
(2) 2-butanone (MEK) was used as the solvent for coating the carrier generating layer, KR-5240 (silicone resin) was used as the binder (solvent), and τ-type metal-free phthalocyanine was used as the carrier generating substance. Adhesion amount after drying on the above subbing layer is 4 mg / dm
Two carrier generation layers were provided.

【0090】(3)キャリア輸送層 塗布溶剤として1,2-ジクロロエタンを用い、バインダー
としてユーピロンZ-200(ポリカーボネートBPZ)を
用い、キャリア輸送物質としてED-485(スチリルトリ
フェニルアミン系)を用い、酸化防止剤としてイルガノ
ックス-1010(ペンタエリスリル-テトラキス[3-(3,5-ジ
-ターシャリブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート])を用い、シリコーンオイルとしてKF-54(1/10
希釈液)を用いて、上記キャリア発生層の上に乾燥後の
膜厚が20μmのキャリア輸送層を設けた。
(3) Carrier Transport Layer 1,2-Dichloroethane was used as a coating solvent, Iupilon Z-200 (polycarbonate BPZ) was used as a binder, and ED-485 (styryltriphenylamine type) was used as a carrier transport material. Irganox-1010 (pentaerythryl-tetrakis [3- (3,5-di-
-Tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]) as a silicone oil, KF-54 (1/10
Diluted solution) was used to provide a carrier transport layer having a thickness of 20 μm after drying on the carrier generation layer.

【0091】実施例8〜14及び比較例6〜10 上記電子写真感光体No.13〜24をコニカ社製のレーザー
プリンター「LP3115」に搭載して、反転現像法により
A4サイズの普通紙に画像を形成する実写テストを行
い、下記のようにして画質,黒点,黒スジを評価した。
なお、帯電電圧は、黒点,黒スジ,カブリが出やすいよ
うにVH=450Vに設定した。また、画質の評価は黒点お
よびカブリの発生しない場合を◎、黒点が若干発生した
がカブリのない場合を○、黒点およびカブリが発生した
場合を×とした。
Examples 8 to 14 and Comparative Examples 6 to 10 The above electrophotographic photosensitive members Nos. 13 to 24 were mounted on a laser printer "LP3115" manufactured by Konica Corporation, and images were printed on A4 size plain paper by a reversal development method. The image quality, the black spots, and the black streaks were evaluated as follows.
The charging voltage was set to V H = 450 V so that black spots, black streaks, and fogging easily occur. The image quality was evaluated as ⊚ when black spots and fog did not occur, as ◯ when black spots and fog did not occur, and as x when black spots and fog occurred.

【0092】以上の結果を次の表3に示す。The above results are shown in Table 3 below.

【0093】[0093]

【表3】 [Table 3]

【0094】実施例15〜30及び比較例11〜18 切削液、バイト材質、バイト形状を次の表4に示すよう
に変更したほかは基体No.1と同様にして表面加工され
た電子写真感光体基体No.13〜20を得た。
Examples 15 to 30 and Comparative Examples 11 to 18 An electrophotographic photosensitive member surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting fluid, the material of the cutting tool, and the shape of the cutting tool were changed as shown in Table 4 below. Body substrates No. 13 to 20 were obtained.

【0095】基体No.13〜15は水溶性有機溶剤水溶液、N
o.16〜17は界面活性剤水溶液、No.18〜20はエマルジョ
ン水溶液を切削液として表面加工した例である。
Substrates No. 13 to 15 are water-soluble organic solvent aqueous solution, N
o.16 to 17 are examples of surface treatment using a surfactant aqueous solution, and Nos. 18 to 20 are surface treatment using an emulsion aqueous solution as a cutting fluid.

【0096】また、比較例として、切削液を表4に示す
切削液に変更し、切削液供給量を1.8ml/minとした他は
基体No.1と同様にして表面加工された電子写真感光体
基体No.21〜24を得た。基体No.21〜24では基体表面に基
体No.8と同様に傷が観察された。
Further, as a comparative example, the electrophotographic photosensitive member surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting fluid shown in Table 4 was changed to supply the cutting fluid at 1.8 ml / min. Body substrates No. 21 to 24 were obtained. In the bases Nos. 21 to 24, scratches were observed on the surface of the base as in the case of the base No. 8.

【0097】[0097]

【表4】 [Table 4]

【0098】次に、これらの電子写真感光体基体を用い
て、それぞれ感光体基体No.1及びNo.13と同様にして感
光体No.25〜36及びNo.37〜48を作製し、表5及び表6に
示すように実施例15〜22、比較例11〜14及び実施例23〜
30、比較例15〜18を評価したところ、表5及び表6に示
す結果を得た。
Next, using these electrophotographic photoconductor substrates, photoconductors Nos. 25 to 36 and Nos. 37 to 48 were prepared in the same manner as the photoconductor substrates No. 1 and No. 13, respectively. 5 and Table 6, Examples 15 to 22, Comparative Examples 11 to 14 and Examples 23 to
When 30 and Comparative Examples 15 to 18 were evaluated, the results shown in Tables 5 and 6 were obtained.

【0099】[0099]

【表5】 [Table 5]

【0100】[0100]

【表6】 [Table 6]

【0101】実施例31〜42及び比較例19〜22 切削液、バイト材質、バイト形状を次の表7に示すよう
に変更したほかは基体No.1と同様にして表面加工され
た電子写真感光体基体No.25〜30を得た。また比較例と
して、切削液を表7に示す切削液に変更し、切削液供給
量を1.8ml/minとした他は、基体No.1と同様にして表
面加工された電子写真感光体基体No.31〜32を得た。基
体No.31〜32では基体表面に基体No.8と同様に傷が観察
された。
Examples 31 to 42 and Comparative Examples 19 to 22 Electrophotographic photosensitive members surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting fluid, the material of the cutting tool, and the shape of the cutting tool were changed as shown in Table 7 below. Body substrates No. 25 to 30 were obtained. As a comparative example, the electrophotographic photoreceptor substrate No. surface-treated in the same manner as the substrate No. 1 except that the cutting liquid shown in Table 7 was changed and the cutting liquid supply rate was 1.8 ml / min. I got .31-32. In the case of substrate Nos. 31 to 32, scratches were observed on the surface of the substrate as in substrate No. 8.

【0102】[0102]

【表7】 [Table 7]

【0103】これらの電子写真感光体基体を用いてそれ
ぞれ感光体No.1及びNo.13と同様にして感光体No.49〜5
6及びNo.57〜64を作製し、表8及び表9に示すようにそ
れぞれ実施例31〜36、比較例19〜20及び実施例37〜42、
比較例21〜22を評価したところ、表8及び表9に示す結
果を得た。
Using these electrophotographic photosensitive member substrates, in the same manner as the photosensitive members No. 1 and No. 13, respectively, photosensitive members Nos. 49 to 5 were obtained.
6 and Nos. 57 to 64 were prepared, and as shown in Tables 8 and 9, Examples 31 to 36, Comparative Examples 19 to 20 and Examples 37 to 42, respectively.
When Comparative Examples 21 to 22 were evaluated, the results shown in Table 8 and Table 9 were obtained.

【0104】[0104]

【表8】 [Table 8]

【0105】[0105]

【表9】 [Table 9]

【0106】実施例43〜74 切削液を水溶性防錆剤である亜硫酸ソーダを1重量%含
む表10に示した切削液に変更しバイト材質、バイト形
状を表10に示すようにした他は、基体No.1と同様にし
て表面加工された電子写真感光体基体No.33〜42及び45
〜48を得た。また切削液を防錆剤を含んだエマルジョン
水溶液であるユシローケンEZ−20の1重量%水溶液に
変更しバイト材質、バイト形状を表10に示すようにした
他は基体No.1と同様にして表面加工された電子写真感
光体基体No.43〜44を得た。
Examples 43 to 74 The cutting liquid was changed to the cutting liquid shown in Table 10 containing 1% by weight of sodium sulfite, which is a water-soluble rust preventive, and the cutting tool material and the cutting tool shape were changed as shown in Table 10. , Electrophotographic photoconductor substrate Nos. 33 to 42 and 45 which are surface-treated in the same manner as the substrate No. 1.
Got ~ 48. In addition, the cutting liquid was changed to a 1 wt% aqueous solution of Yushiroken EZ-20, which is an emulsion aqueous solution containing a rust preventive, and the cutting tool material and cutting tool shape were changed as shown in Table 10. Processed electrophotographic photosensitive member substrates Nos. 43 to 44 were obtained.

【0107】[0107]

【表10】 [Table 10]

【0108】それぞれ感光体No.1及びNo.13と同様にし
て感光体65〜80及びNo.81〜96を作製し、表11及び表12
に示すようにそれぞれ実施例43〜58及び実施例59〜74を
評価したところ、表11及び表12に示す結果を得た。
Photosensitive members 65 to 80 and No. 81 to 96 were prepared in the same manner as the photosensitive members No. 1 and No. 13, respectively.
When Examples 43 to 58 and Examples 59 to 74 were evaluated as shown in Table 1, the results shown in Table 11 and Table 12 were obtained.

【0109】[0109]

【表11】 [Table 11]

【0110】[0110]

【表12】 [Table 12]

【0111】[0111]

【発明の効果】工作機械上で切削を終る直後に同じ工作
機械上で洗浄も完了させることができるので、従来、別
に設けていた大規模な洗浄工程が不要又は簡略化でき、
生産性が大きく効率化される。
Since the cleaning can be completed on the same machine tool immediately after finishing the cutting on the machine tool, the large-scale cleaning step which has been separately provided conventionally can be eliminated or simplified.
Greater productivity and efficiency.

【0112】また、加工直後に洗浄を行うため、切削液
切粉などの付着物の除去が効率良く容易に行われ、高品
質の感光体基体及び更にそれを元にした感光体が得られ
る。
Further, since cleaning is carried out immediately after processing, the adhered substances such as cutting fluid cutting chips can be removed efficiently and easily, and a high-quality photoconductor substrate and a photoconductor based on it can be obtained.

【0113】加工後の洗浄が不用又は簡略化できるた
め、黒点,黒スジ,黒シマ,局所的カブリなどの少ない
電子写真感光体基体が得られる。
Since cleaning after processing is unnecessary or can be simplified, an electrophotographic photosensitive member substrate having few black spots, black streaks, black stripes, and local fog can be obtained.

【0114】加工後の洗浄が容易であるため、洗浄液と
してフロンや塩素系の溶剤を使用する必要がなく、環境
汚染の問題が生ぜず、作業の安全性を害するおそれがな
い。
Since the cleaning after the processing is easy, it is not necessary to use a CFC or a chlorine-based solvent as the cleaning liquid, the problem of environmental pollution does not occur, and the safety of work is not impaired.

【0115】水系切削液は油性切削液に比べて冷却作用
が高いため、バイトの長寿命化を図ることができる。
Since the water-based cutting fluid has a higher cooling effect than the oil-based cutting fluid, the life of the cutting tool can be extended.

【0116】特に切削液として、水溶性有機溶剤(水を
含まず)を用いると更に冷却作用が高いため、バイトの
長寿命化に有効である。
In particular, when a water-soluble organic solvent (not containing water) is used as the cutting fluid, the cooling action is further enhanced, which is effective for extending the life of the cutting tool.

【0117】更に、上記各切削剤に対して防錆剤を含ま
せた場合には、上述の効果に加えて防錆剤が含まれてい
ることにより、加工後の基体の孔食防止に効果がある。
Further, in the case where a rust preventive agent is added to each of the above cutting agents, the rust preventive agent is contained in addition to the above-mentioned effect, which is effective in preventing pitting corrosion of the substrate after processing. There is.

【0118】また、切削液中に防錆剤が含まれているた
め、工作機械の錆を防止しメンテナンスが容易となる。
Further, since the cutting fluid contains a rust preventive agent, the machine tool is prevented from rusting and maintenance is facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】基体加工用旋盤の側断面図である。FIG. 1 is a side sectional view of a lathe for processing a substrate.

【図2】切削液の噴霧装置の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a cutting fluid spraying device.

【図3】洗浄装置の側断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of the cleaning device.

【図4】洗浄装置を備えた基体加工用旋盤の側断面図で
ある。
FIG. 4 is a side sectional view of a lathe for processing a substrate, which is equipped with a cleaning device.

【図5】洗浄装置を備えた基体加工装置の部分正面図で
ある。
FIG. 5 is a partial front view of a substrate processing apparatus including a cleaning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基体 2 マグネットベース 3 ホルダー 4 アトマイザー 5 噴霧ノズル 6 切削液容器 7 操作用空気弁 8 バイト 9 洗浄装置 10a 上ノズル 10b 下ノズル 71 スピンドルヘッド 72 主軸シャフト 73 チャック 80 刃物台 1 base 2 magnet base 3 holder 4 atomizer 5 spray nozzles 6 cutting fluid container 7 Air valve for operation 8 bytes 9 Cleaning device 10a upper nozzle 10b lower nozzle 71 Spindle head 72 Spindle shaft 73 Chuck 80 Turret

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 豊次 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株 式会社内 (72)発明者 橋本 隆美 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株 式会社内 (72)発明者 大平 晃 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株 式会社内 (56)参考文献 特開 平4−242748(JP,A) 実開 平5−5347(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23B 1/00 B23Q 11/00 G03G 5/00 101 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toyoji Ito, 2970 Ishikawa-cho, Hachioji, Tokyo Konica stock company (72) Inventor Takami Hashimoto 2970 Ishikawa-cho, Hachioji, Tokyo Konica stock company (72) ) Inventor Akira Ohira 2970 Ishikawa-cho, Hachioji-shi, Tokyo Konica Co., Ltd. (56) References Japanese Patent Laid-Open No. 4-242748 (JP, A) Actual Development 5-5347 (JP, U) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) B23B 1/00 B23Q 11/00 G03G 5/00 101

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アルミニウム系材料からなる電子写真感
光体基体の表面に切削液として水系切削液または水を含
まない水溶性有機溶剤を供給しながら、当該基体の表面
を単結晶ダイヤモンドまたは多結晶ダイヤモンドからな
るバイトにより切削加工がなされるのと共に、該バイト
の進む方向と同じ方向に進み、洗浄液を当該基体表面に
噴射しながら移動させて、当該基体表面を加工機上で洗
浄する洗浄装置を備えたことを特徴とする電子写真感光
体基体の表面加工装置。
1. A single crystal diamond or a polycrystal diamond is formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member substrate made of an aluminum-based material while the surface of the substrate is supplied with a water-based cutting liquid or a water-free water-soluble organic solvent as a cutting liquid. And a cleaning device for cleaning the surface of the substrate on a processing machine by moving the cleaning liquid onto the surface of the substrate while advancing in the same direction as that of the cutting tool. An apparatus for processing a surface of an electrophotographic photoconductor substrate, which is characterized in that
【請求項2】 請求項1に記載の加工装置を用いたこ
とを特徴とする電子写真感光体基体の表面加工方法。
2. A method of processing a surface of an electrophotographic photosensitive member substrate, wherein the processing apparatus according to claim 1 is used.
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