JP3512994B2 - Adjusting the charged particle optical column - Google Patents

Adjusting the charged particle optical column

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JP3512994B2
JP3512994B2 JP31062197A JP31062197A JP3512994B2 JP 3512994 B2 JP3512994 B2 JP 3512994B2 JP 31062197 A JP31062197 A JP 31062197A JP 31062197 A JP31062197 A JP 31062197A JP 3512994 B2 JP3512994 B2 JP 3512994B2
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charged particle
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウェ
ハ上に微細パターンを形成するために用いられる荷電粒
子ビーム描画装置等の荷電粒子光学鏡筒において、非点
収差の補正や焦点合わせを行うための荷電粒子光学鏡筒
の調整方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is for correcting astigmatism and focusing in a charged particle optical lens barrel such as a charged particle beam drawing apparatus used for forming a fine pattern on a semiconductor wafer. The present invention relates to a method for adjusting a charged particle optical lens barrel.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体製造プロセスに用いられる
電子ビーム描画技術では、従来の丸ビームを用いたもの
に加えて、スループットを上げるために、矩形,三角
形,若しくは任意パターンの断面を有するビームを発生
して描画する、可変成形又はキャラクタープロジェクシ
ョン方式の電子ビーム描画装置が用いられている。ま
た、パターン形成の微細化と高精度化が進み、この種の
電子ビーム描画装置においても、ビーム寸法の高精度化
が要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in the electron beam writing technique used in semiconductor manufacturing processes, in addition to the conventional round beam technique, a beam having a rectangular, triangular or arbitrary cross section is used to increase throughput. A variable shaping or character projection type electron beam drawing apparatus for generating and drawing is used. Further, as the pattern formation becomes finer and more precise, the electron beam drawing apparatus of this kind is also required to have a higher beam dimension.

【0003】ビーム寸法の高精度化を実現するための条
件の一つとして、ビームの焦点を正確に調節すること、
更には非点収差を除去することが求められる。ビームの
焦点位置を正確に求めるためには、例えば図1(a)に
示すように、ビーム1を微細マーク2上で走査し、この
とき得られる図1(b)に示すような反射電子信号の端
部の信号の立ち上がり,立ち下がりの急峻度から合焦点
の程度を求める。図1(b)で矢印で示した線の長さが
狭い程、合焦点位置に近いと考える。また、急峻度の方
向性、例えばx方向にマーク上を走査した時とy方向に
走査した時とでの急峻度の違いから、非点収差の程度を
求める。
As one of the conditions for realizing the high precision of the beam dimension, the focus of the beam is accurately adjusted,
Furthermore, it is required to remove astigmatism. In order to accurately obtain the focal position of the beam, for example, as shown in FIG. 1A, the beam 1 is scanned over the fine mark 2 and the reflected electron signal obtained at this time as shown in FIG. The degree of focus is obtained from the steepness of the rising and falling edges of the signal at the edge. It is considered that the narrower the length of the line shown by the arrow in FIG. 1B, the closer to the in-focus position. Further, the degree of astigmatism is obtained from the directivity of the steepness, for example, the difference in steepness between when the mark is scanned in the x direction and when it is scanned in the y direction.

【0004】マークが、例えば重金属薄膜に微細な孔を
開けて造られたものの場合は、信号の極性が逆になる。
また、マークとして、微小なファラデーカップ構造のも
のを用いて、その流入電流を測定することもできる。
When the mark is formed by, for example, making a fine hole in a heavy metal thin film, the polarities of the signals are reversed.
The inflow current can also be measured by using a mark having a minute Faraday cup structure.

【0005】ところで、この種のビーム調整において高
精度な測定を行おうとする場合に、以下のような問題が
生じる。即ち、マークの形状は必ずしも真円ではなく方
向性を持っている。特に微細なマークの場合、形状を真
円にするのは困難である。また、成形ビームやキャラク
タービームを用いる装置の場合には、マーク形状の異方
性が問題となる。
By the way, the following problems occur when highly accurate measurement is performed in this type of beam adjustment. That is, the shape of the mark is not necessarily a perfect circle but has directionality. Particularly in the case of fine marks, it is difficult to make the shape a perfect circle. Further, in the case of an apparatus using a shaped beam or a character beam, the anisotropy of the mark shape becomes a problem.

【0006】これに対して本発明者らは、マークから得
られる2次元像のフーリエ変換の違いから、非点方向及
び合焦点位置を決定する方法を既に提案している(特願
平7−237456号)。しかしこの方法では、合焦点
位置の候補が複数存在する場合、合焦点位置を精度良く
求めることが困難であった。
On the other hand, the present inventors have already proposed a method for determining the astigmatic direction and the in-focus position based on the difference in the Fourier transform of the two-dimensional image obtained from the mark (Japanese Patent Application No. 7- 237456). However, with this method, when there are a plurality of candidates for the in-focus position, it is difficult to accurately obtain the in-focus position.

【0007】また、より高精度に合焦点位置を求めよう
とすると、マークはできるだけ小さい方がよい。ところ
が、マークからの信号は近似的にはマークの面積に比例
するので、信号はマークの大きさに2乗に比例して小さ
くなる。つまり、精度を上げるためにマークを小さくす
ると、信号のSN比が低下してしまう。この事情を、図
2(a)〜(c)で説明する。図2(a)では、マーク
が大きく従って信号のSN比は高いが、得られる分解能
は低い。図2(b)では、マークが図2(a)よりも小
さくなったため分解能は高くなっているが、SN比は低
くなっている。さらに図2(c)では、マークが小さい
ため信号のSN比が小さく、従ってビームの分解能の測
定はできない。
In order to obtain the in-focus position with higher accuracy, it is better that the mark is as small as possible. However, since the signal from the mark is approximately proportional to the area of the mark, the signal becomes smaller in proportion to the square of the size of the mark. In other words, if the mark is made smaller in order to improve the accuracy, the SN ratio of the signal will decrease. This situation will be described with reference to FIGS. In FIG. 2A, the mark is large and thus the signal to noise ratio is high, but the obtained resolution is low. In FIG. 2B, the mark is smaller than that in FIG. 2A, so the resolution is high, but the SN ratio is low. Further, in FIG. 2C, since the mark is small, the SN ratio of the signal is small, and therefore the beam resolution cannot be measured.

【0008】このように、マークの大きさは許容できる
SN比によって決められてしまう。即ち、測定の分解能
が信号のSN比によって制限されてしまう。これは、高
精度のビーム調整の観点から深刻な問題である。
As described above, the size of the mark is determined by the allowable SN ratio. That is, the measurement resolution is limited by the SN ratio of the signal. This is a serious problem from the viewpoint of high precision beam adjustment.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の荷
電粒子光学鏡筒の調整方法においては、非点が存在する
場合に更に細かく焦点距離を合わせようとすると、合焦
点位置の候補が複数存在し、精度良い調整ができないと
言う問題があった。また、これまでの単一マークを用い
たビーム調整方法においては、分解能が信号のSN比に
よって制限されてしまい、精度良い調整ができないと言
う問題があった。
As described above, in the conventional method of adjusting the charged particle optical lens barrel, when the astigmatism is present and the focal length is further finely adjusted, a plurality of focusing position candidates are obtained. There was a problem that it could not be adjusted accurately. Further, in the beam adjusting method using the single mark up to now, there is a problem that the resolution is limited by the SN ratio of the signal, and the accurate adjustment cannot be performed.

【0010】本発明は、上記の事情を考慮してなされた
もので、その目的とするところは、合焦点位置の候補が
複数存在する場合も非点収差を正確に補正することがで
き、より高度な非点収差の補正及び焦点合わせを可能と
した荷電粒子光学鏡筒の調整方法を提供することにあ
る。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to be able to accurately correct astigmatism even when there are a plurality of candidates for the in-focus position. It is an object of the present invention to provide a method for adjusting a charged particle optical lens barrel that enables a high degree of astigmatism correction and focusing.

【0011】また、本発明の他の目的は、信号のSN比
によって分解能が制限されることはなく高い分解能と高
いSN比を共に満足させることができ、より高度な非点
収差の補正及び焦点合わせを可能とした荷電粒子光学鏡
筒の調整方法を提供することにある。
Another object of the present invention is that the resolution is not limited by the signal-to-noise ratio of the signal and both high resolution and high signal-to-noise ratio can be satisfied, and higher astigmatism correction and focus can be achieved. It is an object of the present invention to provide a method of adjusting a charged particle optical lens barrel that enables adjustment.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】(構成)上記課題を解決
するために本発明は、次のような構成を採用している。 (1) 荷電粒子光学鏡筒の調整方法において、荷電粒子ビ
ームを試料面上のマーク上に2次元的に走査して得られ
る2次元信号分布を、試料面上に該ビームを収束させる
レンズの焦点距離が異なる複数の設定において求める工
程と、該工程により得られた2次元信号分布のそれぞれ
のフーリエ変換の違いによって決定される第1の評価関
数を用いて非点収差の方向を決定し、かつ第1の評価関
数を処理して得られる第2の評価関数の焦点設定に対す
る変化より合焦点位置を求める工程とを含むこと。
(Structure) In order to solve the above problems, the present invention adopts the following structure. (1) In the method for adjusting a charged particle optical lens barrel, a two-dimensional signal distribution obtained by two-dimensionally scanning a mark on a sample surface with a charged particle beam is used to focus the beam on the sample surface. Determining the direction of the astigmatism using a step of obtaining in a plurality of settings having different focal lengths and a first evaluation function determined by the difference of the Fourier transform of the two-dimensional signal distribution obtained by the step, And the step of obtaining the in-focus position from the change in the focus setting of the second evaluation function obtained by processing the first evaluation function.

【0013】(2) 荷電粒子ビームを試料面上のマーク上
に2次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料
面上に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる
複数の設定において求める工程と、該工程により得られ
た2次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換の違いによ
って決定される第1の評価関数を処理して得られる第2
の評価関数の焦点設定に対する変化より合焦点位置を
める工程とを含む荷電粒子光学鏡筒の調整方法であっ
て、第2の評価関数の値が非点収差がない場合の合焦点
位置付近の2個所以上で合焦点位置の候補を与えると
き、そのうちの2個所でのフーリエ変換信号を用いて第
1の評価関数を求め、この第1の評価関数から非点収差
の方向を求めることを特徴とする。
(2) A two-dimensional signal distribution obtained by two-dimensionally scanning a mark on a sample surface with a charged particle beam is set to a plurality of settings with different focal lengths of a lens for converging the beam on the sample surface. And a second obtained by processing the first evaluation function determined by the difference in the Fourier transform of the two-dimensional signal distribution obtained in the step
Seek from focus position change to the focus setting of the evaluation function
A method of adjusting a charged particle optical lens barrel, the method including: a step of adjusting a position of the second evaluation function, wherein a candidate for the focus position is provided at two or more positions near the focus position when the value of the second evaluation function has no astigmatism. The first evaluation function is obtained by using the Fourier transform signals at two of them, and the direction of astigmatism is obtained from this first evaluation function.

【0014】(3) (1) 又は(2) において、前記レンズの
異なる焦点距離で求められる2次元信号分布のフーリエ
変換がI(kx,ky),I´(kx,ky)で与えら
れるとき、第1の評価関数はI(kx,ky),I´
(kx,ky)の絶対値の大小に対応して符号が正負に
決まる関数であり、第2の評価関数は対象とする波数領
域で第1の評価関数を平均又は加重平均したものである
こと。
(3) In (1) or (2), when the Fourier transform of the two-dimensional signal distribution obtained at different focal lengths of the lens is given by I (kx, ky), I '(kx, ky) , The first evaluation function is I (kx, ky), I ′
The sign is positive or negative depending on the magnitude of the absolute value of (kx, ky), and the second evaluation function is the average or weighted average of the first evaluation function in the target wave number region. .

【0015】(4) 荷電粒子ビームを試料面上のマーク上
に2次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料
面上に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる
複数の設定において求める工程と、該工程により得られ
た2次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換の違いによ
って決定される第1の評価関数を用いて非点収差の方向
を決定するか、第1の評価関数を処理して得られる第2
の評価関数の焦点設定に対する変化より合焦点位置を求
めるかの少なくとも一方を行う工程とを含む荷電粒子光
学鏡筒の調整方法であって、第1の評価関数から、波数
空間分布の方向性に依存する第3の評価関数を求め、そ
れぞれの方向に対応する第3の評価関数が同じ焦点設定
位置に合焦点位置の候補を与えるように非点収差の補正
を行うことを特徴とする。
(4) A two-dimensional signal distribution obtained by two-dimensionally scanning a mark on the sample surface with a charged particle beam, a plurality of settings with different focal lengths of the lens for converging the beam on the sample surface. Or the first evaluation function determined by the difference between the Fourier transforms of the two-dimensional signal distributions obtained in the above step, or the direction of the astigmatism is determined, or the first evaluation function is determined. Second obtained by processing
The method of adjusting a charged particle optical lens barrel according to claim 1, wherein at least one of obtaining a focused position from a change in the focus setting of the evaluation function of It is characterized in that a dependent third evaluation function is obtained, and the astigmatism is corrected so that the third evaluation functions corresponding to the respective directions give candidates for the in-focus position to the same focus setting position.

【0016】(5) (4) において、前記レンズの異なる焦
点距離で求められる2次元信号分布のフーリエ変換がI
(kx,ky),I´(kx,ky)で与えられると
き、第1の評価関数はI(kx,ky),I´(kx,
ky)の絶対値の大小に対応して符号が正負に決まる関
数であり、第3の評価関数は対象とする波数領域で第1
の評価関数を重みが角度方向に変化する加重平均したも
のであること。
(5) In (4), the Fourier transform of the two-dimensional signal distribution obtained at different focal lengths of the lens is I
When given by (kx, ky), I '(kx, ky), the first evaluation function is I (kx, ky), I' (kx,
ky) is a function whose sign is determined to be positive or negative according to the magnitude of the absolute value of ky), and the third evaluation function is the first in the wave number region of interest.
It should be the weighted average of the evaluation function of the weight that changes in the angular direction.

【0017】(6) 荷電粒子ビームを試料面上のマーク上
に2次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料
面上に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる
複数の設定においてそれぞれ測定する工程と、該工程に
より得られた2次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換
の違いを用いて、非点収差の方向を決定するか合焦点位
置を求めるかの少なくとも一方を行う工程とを含む荷電
粒子光学鏡筒の調整方法であって、前記測定に用いるビ
ームに相当するビーム面積内を該ビームよりも小さいビ
ームで1次元走査したときに得られる信号に2個以上の
極大又は極小ができるように、前記マークを配置したこ
とを特徴とする。
(6) A two-dimensional signal distribution obtained by two-dimensionally scanning a mark on a sample surface with a charged particle beam is set to a plurality of settings with different focal lengths of lenses for converging the beam on the sample surface. And the step of performing at least one of determining the direction of astigmatism and obtaining the in-focus position using the difference in the Fourier transform of the two-dimensional signal distribution obtained in the step. A method for adjusting a charged particle optical lens barrel including: a signal obtained when one-dimensionally scanning a beam area corresponding to a beam used for the measurement with a beam smaller than the beam, having two or more maxima or minima. The mark is arranged so as to enable

【0018】(7) (6) において、2次元信号分布の最大
値が、信号測定系の線形性が成立する範囲にあること。 (8) (6) において、前記マークは、前記測定に用いるビ
ームが一度に照射できる領域に2つ以上配置されるこ
と。
(7) In (6), the maximum value of the two-dimensional signal distribution is within the range where the linearity of the signal measuring system is established. (8) In (6), two or more of the marks are arranged in an area where the beam used for the measurement can be irradiated at one time.

【0019】(9) (6) において、2次元信号分布の最大
値が、信号測定系のSN比が1よりも十分大きくなる領
域にあること。 (作用)本発明(請求項1〜5)において、荷電粒子光
学鏡筒における非点収差の補正及び焦点合わせを行う際
に、第2の評価関数が合焦点位置付近の2個所以上で極
値を有する時にその中央の両側の2個所付近での2次元
像を用いて非点収差の方向を求めるようにしている。又
は、第3の評価関数を用いて異なる方向について合焦点
位置の候補を求め、それらが一致するように調整してい
る。これにより、合焦点位置の候補が複数存在する場合
も非点収差を正確に補正することができ、より高度な非
点収差の補正及び焦点合わせが可能となる。
(9) In (6), the maximum value of the two-dimensional signal distribution is in a region where the SN ratio of the signal measuring system is sufficiently larger than 1. (Operation) In the present invention (claims 1 to 5), when the astigmatism in the charged particle optical lens barrel is corrected and the focusing is performed, the second evaluation function has an extreme value at two or more positions near the in-focus position. In the case of, the astigmatism direction is obtained by using a two-dimensional image near two points on both sides of the center. Alternatively, the third evaluation function is used to find candidates for the in-focus position in different directions, and adjustment is made so that they match. As a result, even if there are a plurality of in-focus position candidates, astigmatism can be accurately corrected, and higher-level astigmatism correction and focusing can be performed.

【0020】また、本発明(請求項6〜8)では、マー
クは該マークから得られる2次元像の高周波成分が大き
くなるようにしてあり、マークを十分なSN比がとれる
だけ設け、さらに測定系の線形性が成立する範囲に信号
が得られるようにしてある。この条件で、マークよりの
反射信号等より得られる2次元像のフーリエ変換の変化
から、合焦点位置及び非点収差の検出を行うようにして
ある。これにより、大きなSN比が得られる上に、反射
信号より得られる2次元像のフーリエ変換の変化から、
合焦点位置及び非点収差の検出を行うようにしてあるの
で、必要な分解能での調整が可能となる。
Further, in the present invention (claims 6 to 8), the mark is arranged so that the high-frequency component of the two-dimensional image obtained from the mark becomes large, and the mark is provided so as to obtain a sufficient SN ratio, and further measurement is performed. The signal is obtained in the range where the linearity of the system holds. Under this condition, the in-focus position and the astigmatism are detected from the change of the Fourier transform of the two-dimensional image obtained from the reflection signal from the mark. As a result, a large SN ratio is obtained, and from the change of the Fourier transform of the two-dimensional image obtained from the reflected signal,
Since the in-focus position and the astigmatism are detected, the adjustment can be performed with a required resolution.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細を図示の実施
形態によって説明する。 (第1の実施形態)まず、本発明者らが既に提案してい
るビーム調整方法(周波数空間イメージ変化法:FSI
D法、特願平7−237456号)について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The details of the present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments. (First Embodiment) First, a beam adjustment method (frequency space image change method: FSI) already proposed by the present inventors.
Method D, Japanese Patent Application No. 7-237456).

【0022】マークを電子ビームで走査して得られた信
号分布をI(x,y)、ビームの電流分布をb(x−x
0,y−y0)、マークの分布をm(x,y)とする。
ここで、x0,y0はビームの中心の位置とする。I
(x,y),b(x−x0,y−y0),m(x,y)
の間には比例定数を無視すると、以下の関係式が成立す
ると考えてよい。
The signal distribution obtained by scanning the mark with the electron beam is I (x, y), and the current distribution of the beam is b (xx).
0, y−y0), and the mark distribution is m (x, y).
Here, x0 and y0 are the positions of the center of the beam. I
(X, y), b (x-x0, y-y0), m (x, y)
If the constant of proportionality is ignored, the following relational expression may hold.

【0023】 I(x,y)=∫∫b(x-x',y-y')m(x',y')dx'dy' … (1) ここで、積分範囲はビームをマークを含まない位置まで
走査して得られた信号であれば、十分な近似で±無限大
ととってよい。さて、関数I(x,y),b(x,
y),m(x,y)のフーリエ変換を各々I(kx,k
y),B(kx,ky),M(kx,ky)と表すと、
以下の関係式が成立する。
I (x, y) = ∫∫b (x-x ', y-y') m (x ', y') dx'dy '(1) Here, the integration range marks the beam. If the signal is obtained by scanning to a position not included, ± infinity may be taken with sufficient approximation. Now, the functions I (x, y), b (x,
y) and m (x, y) Fourier transforms are respectively I (kx, k)
y), B (kx, ky), M (kx, ky),
The following relational expression holds.

【0024】 I(kx,ky)=B(kx,ky) M(kx,ky) … (2) ところで、b(x,y)はぼけのない理想的なビーム分
布b0(x,y)と、ぼけを表す関数t(x,y)とを
用いて、 b(x,y)=∫∫t(x-x',y-y')b0(x',y')dx'dy' … (3) と表される。但し、積分範囲は±無限大である。従っ
て、t(x,y),b0(x,y)のフーリエ変換をT
(kx,ky),B0(kx,ky)と表せば、 B(kx,ky)=T(kx,ky) B0(kx,ky) … (4) なる関係が成立する。従って、関係式 I(kx,ky)=T(kx,ky) B0(kx,ky) M(kx,ky) … (5) が成立する。
I (kx, ky) = B (kx, ky) M (kx, ky) (2) By the way, b (x, y) is an ideal beam distribution b0 (x, y) without blurring. , B (x, y) = ∫∫t (x-x ', y-y') b0 (x ', y') dx'dy 'using the function t (x, y) representing blurring. It is expressed as (3). However, the integration range is ± infinity. Therefore, the Fourier transform of t (x, y), b0 (x, y) is T
When expressed as (kx, ky) and B0 (kx, ky), the following relationship holds: B (kx, ky) = T (kx, ky) B0 (kx, ky) (4). Therefore, the relational expression I (kx, ky) = T (kx, ky) B0 (kx, ky) M (kx, ky) (5) holds.

【0025】いま、対物レンズの異なる焦点距離設定で
の反射電子信号分布をi1(x,y),i2(x,y)
とし、その各々のフーリエ変換をI1(kx,ky),
I2(kx,ky)とする。ここで、I1(kx,k
y),I2(kx,ky)の絶対値の大小によって符号
が決まる評価関数R(kx,ky)を、例えば R(kx,ky)= log(|I1(kx,ky)|/|I2(kx,ky)|)… (6) と定義する。式(5) で、レンズの焦点距離を変えた時に
変化するのは十分良い近似でT(kx,ky)だけであ
るから、I1(kx,ky),I2(kx,ky)に対
応するT(kx,ky)を各々T1(kx,ky),T
2(kx,ky)とおくと、 R(kx,ky)= log(|T1(kx,ky)|/|T2(kx,ky)|)… (7) で表される。即ち、R(kx,ky)は、ビーム形状や
マーク形状等によらず決まる。
Now, the reflected electron signal distributions at different focal length settings of the objective lens are i1 (x, y) and i2 (x, y).
And the Fourier transform of each of them is I1 (kx, ky),
Let I2 (kx, ky). Where I1 (kx, k
y), I2 (kx, ky), the evaluation function R (kx, ky) whose sign is determined depending on the magnitude of the absolute value is, for example, R (kx, ky) = log (| I1 (kx, ky) | / | I2 ( kx, ky) |) ... It is defined as (6). In equation (5), only T (kx, ky) changes with a good approximation when the focal length of the lens is changed, so T corresponding to I1 (kx, ky), I2 (kx, ky) Let (kx, ky) be T1 (kx, ky), T
When 2 (kx, ky) is set, R (kx, ky) = log (| T1 (kx, ky) | / | T2 (kx, ky) |) ... (7) That is, R (kx, ky) is determined regardless of the beam shape, the mark shape, or the like.

【0026】まず、非点収差が存在しない場合について
考える。その場合、t(x,y)をフーリエ変換して得
られるT(kx,ky)は T(kx,ky)=α exp(−ka22 )… (8) と表される。但し、k2 =kx2 +ky2 、αは比例定
数、kaはビームの広がりを示すパラメータである。こ
こで、αは電流が一定であればレンズの焦点距離によら
ないと考えてよい。
First, consider the case where there is no astigmatism. In that case, T (kx, ky) obtained by Fourier transforming t (x, y) is expressed as T (kx, ky) = α exp (−ka 2 k 2 ) ... (8). However, k 2 = kx 2 + ky 2 , α is a proportional constant, and ka is a parameter indicating the spread of the beam. Here, it may be considered that α does not depend on the focal length of the lens as long as the current is constant.

【0027】いま、 T1(kx,ky) = α exp{-(k/k1)2 } T2(kx,ky) = α exp{-(k/k2)2 } … (9) とすると、 R(kx,ky)=−(k/k1)2 +(k/k2)2 …(10) となる。原理的には、図3(a)に示すように原点、即
ちk=0の点を除き、R(kx,ky)の符号はk1,
k2の大小によって決まる。即ち、 k1>k2なら、R(kx,ky)>0 k1<k2なら、R(kx,ky)<0 …(11) となる。
Now, assuming that T1 (kx, ky) = α exp {-(k / k1) 2 } T2 (kx, ky) = α exp {-(k / k2) 2 } ... (9), R ( kx, ky) =-(k / k1) 2 + (k / k2) 2 (10). In principle, the code of R (kx, ky) is k1, except for the origin, that is, the point of k = 0, as shown in FIG. 3 (a).
Determined by the size of k2. That is, if k1> k2, R (kx, ky)> 0 If k1 <k2, R (kx, ky) <0 (11)

【0028】実用的には、例えば対象とする空間周波数
領域におけるR(kx,ky)の平均値の符号を用いれ
ば良い。これにより、非点収差が存在する場合でも近似
的に合焦点位置を求めることができる。
Practically, for example, the sign of the average value of R (kx, ky) in the spatial frequency domain of interest may be used. Thereby, even if there is astigmatism, the in-focus position can be approximately calculated.

【0029】合焦点位置を求めるには、焦点距離を変え
ながら2次粒子像を測定し、連続する2つの焦点距離設
定条件での2次粒子像に基づいて、上記のR(kx,k
y)を求める。焦点距離、z1,z2,…,znで、R
(kx,ky)を求めて、これをR1,…,Rnとし、
R0=0とするとき、zi(i=1,2,…,n)にお
いて第2の評価関数Fi(kx,ky)を導入し、Fi
=R0+R1+…+Riとする。合焦点位置でT(k
x,ky)の広がりが最大になるとすると、その位置で
F(kx,ky)は最小となる。ここでも、ある点での
Fi(kx,ky)を用いるのではなく、対象とする空
間周波数領域におけるR(kx,ky)の平均値の符号
を使うのが実用的である。
In order to obtain the in-focus position, the secondary particle image is measured while changing the focal length, and based on the secondary particle images under two continuous focal length setting conditions, the above R (kx, k)
y) is calculated. Focal length, z1, z2, ..., Zn, R
(Kx, ky) is obtained and is set as R1, ..., Rn,
When R0 = 0, the second evaluation function Fi (kx, ky) is introduced in zi (i = 1,2, ..., n), and Fi
= R0 + R1 + ... + Ri. T (k
If the spread of (x, ky) is the maximum, F (kx, ky) is the minimum at that position. Here again, it is practical to use the sign of the average value of R (kx, ky) in the spatial frequency domain of interest, instead of using Fi (kx, ky) at a certain point.

【0030】また、非点が存在する時にはR(kx,k
y)の符号分布は、図3(b)に示すように2回対称の
分布となる。非点収差の向きの判定はR(kx,ky)
を対象とする周波数領域で、角度方向θに対してexp
(i2θ)に比例する項を求め、その位相角より非点の
方向を求められる。実用的には、上記で求めた合焦点位
置を挟む焦点距離設定条件を使うことが有利である。
When an astigmatism exists, R (kx, k
The code distribution of y) is a two-fold symmetrical distribution as shown in FIG. The determination of the direction of astigmatism is R (kx, ky)
In the frequency domain of
The term proportional to (i2θ) is obtained, and the astigmatic direction can be obtained from the phase angle. Practically, it is advantageous to use the focal length setting condition sandwiching the in-focus position obtained above.

【0031】非点収差を補正するには、対象とするレン
ズに対応したスティグマタ強度を調節して、上記のex
p(i2θ)に比例する項のexp(i0θ)に比例す
る項への比の絶対値を最小にするようにする。或いは、
スティグマタを非点収差の方向を変えない条件下で調節
していき、角度方向の符号分布が反転するスティグマタ
強度をもって、正しく補正される条件を与える強度とす
ることもできる。
In order to correct astigmatism, the stigmata intensity corresponding to the target lens is adjusted and the above ex
The absolute value of the ratio of the term proportional to p (i2θ) to the term proportional to exp (i0θ) is minimized. Alternatively,
It is also possible to adjust the stigmata under the condition that the direction of the astigmatism is not changed, and use the stigmata intensity at which the code distribution in the angular direction is inverted as the intensity that gives the condition for correct correction.

【0032】ところで、本発明者らのその後の詳細な研
究により、上記第2の評価関数は合焦点位置付近で極値
を複数とり得ることが分かった。即ち、非点収差が存在
する場合に一方向に収束する焦点距離と、他方向に収束
する焦点距離とが異なるために、図4(a)に示すよう
に上記の評価関数がそれぞれの付近で極小値を取ること
が起こり得る。また、非点収差がほぼ補正できている場
合には、例えば図4(b)のように合焦点位置の両側に
極小値が生ずることが起こり得る。
By the way, the subsequent detailed studies by the present inventors have revealed that the second evaluation function can have a plurality of extreme values near the in-focus position. That is, when the astigmatism is present, the focal length that converges in one direction and the focal length that converges in the other direction are different, so that as shown in FIG. It is possible that a minimum value is taken. Further, when the astigmatism is almost corrected, it is possible that local minimum values occur on both sides of the in-focus position as shown in FIG. 4B, for example.

【0033】そこで本実施形態では、図4において次の
ような処理を行う。即ち、合焦点位置の候補が2つ
(A,B)存在する場合には非点収差が存在するものと
見做し、A,Bにおけるフーリエ変換像から、非点収差
の方向を判定する。次いで、求められた非点収差の方向
に基づいて非点収差の補正をスティグマタを用いて行
う。非点格差が小さくなり、合焦点位置の候補が3つ
(A,B,C)現れた場合にはA,Cにおけるフーリエ
変換像から、非点収差の方向を判定する。次いで、求め
られた非点収差の方向に基づいて非点収差の補正をステ
ィグマタを用いて行う。調整は合焦点位置の候補が所定
の距離以内に近づくまで行う。或いは、例えば図4
(b)でFz,Fz´,Fz″で示す合焦点候補での第
2の評価関数の値の比Ez/Fz′,Fz/Rz″が所
定の値以上になるまで調整することもできる。
Therefore, in this embodiment, the following processing is performed in FIG. That is, when there are two candidates (A, B) for the in-focus position, it is considered that there is astigmatism, and the direction of astigmatism is determined from the Fourier transform image at A and B. Next, the astigmatism is corrected by using the stigmator based on the obtained direction of the astigmatism. When the astigmatic difference becomes small and three candidates (A, B, C) of in-focus positions appear, the direction of astigmatism is determined from the Fourier transform images in A and C. Next, the astigmatism is corrected by using the stigmator based on the obtained direction of the astigmatism. The adjustment is performed until the candidates for the in-focus position approach within a predetermined distance. Alternatively, for example, FIG.
It is also possible to make adjustments until the ratios Ez / Fz ', Fz / Rz "of the values of the second evaluation function in the focusing point candidates indicated by Fz, Fz', Fz" in (b) become equal to or greater than a predetermined value.

【0034】また、非点収差の方向の決定は、次のよう
に行うこともできる。R(kx,ky)から、直接非点
収差を求める代わりに、図5に示すように波数空間でk
x軸に対して角度θ方向に回転した新座標系(kx´,
ky´)を考え、新座標系において、例えば斜線で示し
た様にkx´軸に対して、±45度で引いた線で囲まれ
る領域の内、対象とする周波数範囲でR(kx,ky)
を積分した量の基準焦点距離で求めた値との差を第3の
評価関数とする。
Further, the direction of astigmatism can be determined as follows. Instead of directly obtaining the astigmatism from R (kx, ky), as shown in FIG.
A new coordinate system (kx ', rotated in the angle θ direction with respect to the x-axis
ky ′), in the new coordinate system, for example, R (kx, ky) in the frequency range of interest within the region surrounded by the line drawn by ± 45 degrees with respect to the kx ′ axis as shown by the diagonal lines. )
The difference from the value obtained by the reference focal length of the integrated amount is defined as the third evaluation function.

【0035】この場合は、基準焦点距離での第3の評価
関数の値は便宜上例えば0とする。或いは、R(kx,
ky)を積分するときに例えばkx´軸に対してなす角
度をαとするとき、cos(α)を重み関数として積分
することで方向性を強調することもできる。第3の評価
関数はα方向の像の鮮明さを与えるものと考えられる。
In this case, the value of the third evaluation function at the reference focal length is set to 0 for convenience. Alternatively, R (kx,
When integrating ky), for example, when the angle formed with respect to the kx ′ axis is α, cos (α) can be integrated as a weighting function to emphasize the directivity. The third evaluation function is considered to give the sharpness of the image in the α direction.

【0036】θとして、0度,90度,45度,135
度を取り、それぞれについて第3の評価関数の焦点位置
依存性を求める。これが、例えば図6に示すように0度
方向ではz0で最小、90度方向でz90で最小、45
度,135度方向では2つの極値を持つとする。ここ
で、第3の評価関数は見やすさのために絶対値をずらせ
て表示している。まず、0度−90度に対応するスティ
グマタを調節して、z0とz90が一致するようにす
る。さらに、45度−135度に対応するスティグマタ
を調節して、45度,135度方向にも極値を与える焦
点位置が所定の範囲内で一致するように調節する。
As θ, 0 °, 90 °, 45 °, 135
The degree is determined, and the focus position dependency of the third evaluation function is obtained for each. This is, for example, as shown in FIG. 6, the minimum is z0 in the 0 ° direction and the minimum in z90 in the 90 ° direction.
It has two extreme values in the directions of 135 degrees and 135 degrees. Here, the third evaluation function is displayed with its absolute value shifted for ease of viewing. First, the stigmata corresponding to 0 ° -90 ° is adjusted so that z0 and z90 match. Further, the stigmata corresponding to 45 ° -135 ° is adjusted so that the focal positions that give the extreme values also in the 45 ° and 135 ° directions coincide with each other within a predetermined range.

【0037】このように本実施形態によれば、合焦点位
置の候補が複数存在するときに、両端の2点で得られる
フーリエ変換像から得られる第1の評価関数から非点の
方向を求めて調整するか、又は角度方向のイメージの鮮
明さを与える第3の評価関数の合焦点位置の候補が一致
するように調整する。これにより、合焦点位置の候補が
複数存在する場合も非点収差を正確に補正することがで
き、より高度な非点収差の補正及び焦点合わせを可能に
することができる。
As described above, according to this embodiment, when there are a plurality of in-focus position candidates, the astigmatic direction is obtained from the first evaluation function obtained from the Fourier transform images obtained at the two points at both ends. Adjustment is performed, or adjustment is performed so that the candidates of the in-focus position of the third evaluation function that gives the sharpness of the image in the angular direction match. As a result, even when there are a plurality of in-focus position candidates, astigmatism can be accurately corrected, and more advanced astigmatism correction and focusing can be performed.

【0038】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態について説明する。図7(a)は、本実施形態
で測定したいビーム1の試料上の断面形状の例と、マー
ク2の配置例を示す。ここで、マーク2の寸法は測定し
たいビーム1の分解能に比べて十分小さい大きさにする
のが望ましい。この例では、矩形ビームを考えている。
この場合に得られる信号の2次元分布は、概ね図7
(b)のようになる。図7(b)の破線に沿った信号分
布は、例えば図7(c)のようになる。図2(b)の従
来例に比べて高いSN比を持つが、従来のように信号波
形の立ち上がり、立ち下がりからビームのぼけを調べる
方法では正確に合焦点位置を求めたり、非点収差を補正
することはできない。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 7A shows an example of a cross-sectional shape of the beam 1 to be measured on the sample and an arrangement example of the marks 2 in this embodiment. Here, it is desirable that the size of the mark 2 be sufficiently smaller than the resolution of the beam 1 to be measured. In this example, a rectangular beam is considered.
The two-dimensional distribution of the signal obtained in this case is roughly as shown in FIG.
It becomes like (b). The signal distribution along the broken line in FIG. 7B is as shown in FIG. 7C, for example. Although it has a higher SN ratio than the conventional example of FIG. 2 (b), the conventional method for checking the blur of the beam from the rising and falling of the signal waveform accurately obtains the in-focus position and produces astigmatism. It cannot be corrected.

【0039】ところで、先にも述べたように発明者ら
は、反射電子等の2次粒子の信号の2次元分布のフーリ
エ変換の変化から成形ビームや、キャラクタービームの
場合でも正確に合焦点位置を求め、或いは非点収差を補
正する方法(FSID法)を提案している。しかしなが
ら、この時には具体的なマーク配置方法については述べ
ていなかった。
By the way, as described above, the inventors of the present invention can accurately determine the in-focus position even in the case of a shaped beam or a character beam from the change of the Fourier transform of the two-dimensional distribution of the signal of secondary particles such as backscattered electrons. Has been proposed or a method of correcting astigmatism (FSID method) has been proposed. However, at this time, no specific mark arrangement method was mentioned.

【0040】本実施形態では、マークを次のように配置
した。即ち、測定したいビームに相当するビーム面積内
を該ビームよりも小さいビームで1次元走査したときに
得られる信号に2個以上の極大又は極小ができるように
配置した。より具体的には、ビームに一度に照射される
領域内にマークが複数入るように配置した。
In this embodiment, the marks are arranged as follows. That is, it is arranged so that the signal obtained when one-dimensionally scanning with a beam smaller than the beam within the beam area corresponding to the beam to be measured has two or more maximums or minimums. More specifically, the marks are arranged so that a plurality of marks are included in the region irradiated with the beam at one time.

【0041】これにより、十分なSN比と分解能が得ら
れる条件下でFSID法を用いて合焦点位置の検出と、
非点収差の補正を行うことにより、従来の単一微細マー
クを用いる場合に比べて格段に高精度な調節が可能とな
る。特に、測定したい高い空間周波成分がより大きくな
るようにしてある。さらに、測定系の感度はかならずし
も全信号強度でリニアリティは保たれない。従って、本
方式を用いることにより、主たる測定信号が測定形のリ
ニアリティが保たれる領域に納まるように測定を行うこ
ともできる。さらに、図には示されていないが、2次元
信号分布は図2(a)の例に比べて高い空間周波数成分
が大きい。
As a result, detection of the in-focus position using the FSID method under the condition that a sufficient SN ratio and resolution are obtained,
By correcting the astigmatism, it becomes possible to perform adjustment with extremely high precision as compared with the case of using the conventional single fine mark. In particular, the high spatial frequency component to be measured is made larger. Furthermore, the sensitivity of the measurement system cannot always maintain linearity at all signal intensities. Therefore, by using this method, it is possible to perform the measurement so that the main measurement signal falls within the region where the linearity of the measurement type is maintained. Further, although not shown in the drawing, the two-dimensional signal distribution has a large spatial frequency component higher than that in the example of FIG.

【0042】ここで、本実施形態のようなマーク配置
で、矩形ビームに対してFSID法を適用した場合につ
いて説明する。図7(b)において得られた信号分布を
I(x,y)、ビームの電流分布をb(x−x0,y−
y0)、マークの分布をm(x,y)とする。ここで、
x0,y0はビームの中心の位置とする。I(x,
y),b(x−x0,y−y0),m(x,y)の間に
は比例定数を無視すると、前記式(1) の関係式が成立す
ると考えてよい。
Here, the case where the FSID method is applied to a rectangular beam in the mark arrangement as in this embodiment will be described. The signal distribution obtained in FIG. 7B is I (x, y), and the beam current distribution is b (x-x0, y-).
y0), and the mark distribution is m (x, y). here,
Let x0 and y0 be the positions of the center of the beam. I (x,
It may be considered that the relational expression of the above formula (1) is established if the proportional constant is neglected between y), b (x-x0, y-y0) and m (x, y).

【0043】さて、関数I(x,y),b(x,y),
m(x,y)のフーリエ変換を各々I(kx,ky),
B(kx,ky),M(kx,ky)と表すと、前記式
(2)の関係式が成立する。
Now, the functions I (x, y), b (x, y),
The Fourier transform of m (x, y) is I (kx, ky),
B (kx, ky) and M (kx, ky) represent the above formula
The relational expression (2) holds.

【0044】ところで、b(x,y)はぼけのない理想
的なビーム分布b0(x,y)と、ぼけを表す関数t
(x,y)とを用いて、前記式(3) のように表される。
従って、t(x,y),b0(x,y)のフーリエ変換
をT(kx,ky),B0(kx,ky)と表せば、前
記式(4) なる関係が成立し、前記式(5) の関係式が成立
する。
By the way, b (x, y) is an ideal beam distribution b0 (x, y) with no blur, and a function t representing the blur.
It is expressed by the above equation (3) using (x, y).
Therefore, if the Fourier transform of t (x, y) and b0 (x, y) is expressed as T (kx, ky), B0 (kx, ky), the relation of the above equation (4) is established, and the above equation (4) is established. The relational expression of 5) is established.

【0045】いま、対物レンズの異なる焦点距離設定で
の反射電子信号分布をi1(x,y),i2(x,y)
とし、その各々のフーリエ変換をI1(kx,ky),
I2(kx,ky)とする。ここで、I1(kx,k
y),I2(kx,ky)の絶対値の大小によって符号
が決まる評価関数R(kx,ky)を、例えば前記式
(6) のように定義する。式(5) で、レンズの焦点距離を
変えた時に変化するのは十分良い近似でT(kx,k
y)だけであるから、I1(kx,ky),I2(k
x,ky)に対応するT(kx,ky)を各々T1(k
x,ky),T2(kx,ky)とおくと、前記式(7)
で表される。即ち、R(kx,ky)はビーム形状や、
マーク形状によらず決まる。
Now, the reflected electron signal distributions at different focal length settings of the objective lens are i1 (x, y) and i2 (x, y).
And the Fourier transform of each of them is I1 (kx, ky),
Let I2 (kx, ky). Where I1 (kx, k
y), I2 (kx, ky), the evaluation function R (kx, ky) whose sign is determined by the magnitude of the absolute value of
Define as in (6). In Eq. (5), it is a good approximation that T (kx, k changes when the focal length of the lens is changed.
y) only, so I1 (kx, ky), I2 (k
T (kx, ky) corresponding to x, ky) is T1 (k)
x, ky) and T2 (kx, ky), the above equation (7)
It is represented by. That is, R (kx, ky) is the beam shape,
Determined regardless of the mark shape.

【0046】まず、非点収差が存在しない場合について
考える。その場合、t(x,y)をフーリエ変換して得
られるT(kx,ky)は前記式(8) で表される。さら
に、前記式(9) からR(kx,ky)は前記式(10)で表
される。また、例えば R(kx,ky) ={I1(kx,ky) -I2(kx,ky)}/{I1(kx,k
y) +I2(kx,ky)} と定義してもよい。この場合、 となる。
First, consider the case where there is no astigmatism. In that case, T (kx, ky) obtained by Fourier transforming t (x, y) is expressed by the above equation (8). Further, R (kx, ky) from the above equation (9) is represented by the above equation (10). Also, for example, R (kx, ky) = {I1 (kx, ky) -I2 (kx, ky)} / {I1 (kx, k
y) + I2 (kx, ky)} may be defined. in this case, Becomes

【0047】以下、前記式(10)で考える。式(10)(12)の
場合とも原理的には、図8(a)に示すように原点、即
ちk=0の点を除き、R(kx,ky)の符号はk1,
k2の大小によって決まる。即ち、 k1>k2なら、R(kx,ky)>0 k1<k2なら、R(kx,ky)<0 となる。実用的には、例えば対象とする空間周波数領域
におけるR(kx,ky)の平均値の符号を用いれば良
い。これにより、非点収差が存在する場合でも近似的に
合焦点位置を求めることができる。
The equation (10) is considered below. In principle also in the case of the equations (10) and (12), the code of R (kx, ky) is k1, except for the origin, that is, the point of k = 0, as shown in FIG.
Determined by the size of k2. That is, if k1> k2, R (kx, ky)> 0. If k1 <k2, R (kx, ky) <0. Practically, for example, the sign of the average value of R (kx, ky) in the target spatial frequency domain may be used. Thereby, even if there is astigmatism, the in-focus position can be approximately calculated.

【0048】合焦点位置を求めるには、焦点距離を変え
ながら2次粒子像を測定し、連続する2つの焦点距離設
定条件での2次粒子像に基づいて、上記のR(kx,k
y)を求め、その符号が反転する位置を合焦点位置とす
ればよい。焦点距離を変えるステップは必要に応じて細
かくすることで合焦点位置の測定精度を高めることがで
きる。
In order to obtain the in-focus position, the secondary particle image is measured while changing the focal length, and based on the secondary particle images under two continuous focal length setting conditions, the above R (kx, k)
y) is obtained, and the position at which the sign is reversed may be set as the focus position. The step of changing the focal length can be made as fine as necessary to improve the measurement accuracy of the in-focus position.

【0049】また、非点が存在する時にはR(kx,k
y)の符号分布は、例えば図8(b)に示すように2回
対称の分布となる。非点収差の向きの判定はR(kx,
ky)を対象とする周波数領域で、角度方向θに対して
exp(i2θ)に比例する項を求め、その位相角より
非点の方向を求められる。実用的には、上記で求めた合
焦点位置を挟む焦点距離設定条件を使うことが有利であ
る。具体的には、第1の実施形態を用いるのが便利であ
る。
When an astigmatism exists, R (kx, k
The code distribution of y) is, for example, a two-fold symmetrical distribution as shown in FIG. The determination of the direction of astigmatism is R (kx,
In the frequency domain of ky), the term proportional to exp (i2θ) with respect to the angular direction θ is obtained, and the astigmatic direction can be obtained from the phase angle. Practically, it is advantageous to use the focal length setting condition sandwiching the in-focus position obtained above. Specifically, it is convenient to use the first embodiment.

【0050】このように本実施形態によれば、測定ビー
ムで一度に照射される領域内に複数のマークが入るよう
に配置することにより、信号のSN比によって分解能が
制限されることはなく高い分解能と高いSN比を共に満
足させることができ、より高度な非点収差の補正及び焦
点合わせを可能とすることができる。さらに、マークか
ら得られる2次元信号分布の高周波成分が強調されるの
で、より高精度の測定が可能となる。
As described above, according to this embodiment, by disposing a plurality of marks in the area irradiated with the measurement beam at one time, the resolution is not limited by the SN ratio of the signal and is high. Both the resolution and the high SN ratio can be satisfied, and more advanced astigmatism correction and focusing can be achieved. Further, since the high frequency component of the two-dimensional signal distribution obtained from the mark is emphasized, it is possible to measure with higher accuracy.

【0051】非点収差を補正するには、第1の実施形態
を用いるのが便利である。また、対象とするレンズに対
応したスティグマタ強度を調節して、上記のexp(i
2θ)に比例する項のexp(i0θ)に比例する項へ
の比の絶対値を最小にするようにする。或いは、スティ
グマタを非点収差の方向を変えない条件下で調節してい
き、角度方向の符号分布が反転するスティグマタ強度を
もって、正しく補正される条件を与える強度とすること
もできる。
To correct the astigmatism, it is convenient to use the first embodiment. Also, by adjusting the stigmata intensity corresponding to the target lens, the above exp (i
The absolute value of the ratio of the term proportional to 2θ) to the term proportional to exp (i0θ) is minimized. Alternatively, the stigmata may be adjusted under the condition that the direction of astigmatism is not changed, and the stigmata intensity at which the code distribution in the angular direction is inverted may be set as the intensity that gives the condition for correct correction.

【0052】本実施形態では、原理的にはビーム形状や
マーク形状には依存しない調整が可能である。しかし、
信号強度の照射電流に対する線形性を仮定している。従
って、処理すべき信号は図9に示すように、その殆どが
線形領域にあるものであることが条件となる。マークの
大きさや配置は従って、十分なSN比がとれて且つ信号
の線形性が成立する範囲に収まるようにすることが望ま
しい。
In the present embodiment, in principle, adjustment is possible without depending on the beam shape or the mark shape. But,
The linearity of the signal intensity with respect to the irradiation current is assumed. Therefore, the condition is that most of the signals to be processed are in the linear region, as shown in FIG. Therefore, it is desirable that the size and arrangement of the marks be within a range in which a sufficient SN ratio is obtained and the linearity of the signal is established.

【0053】また、マークの構造としては、重金属のド
ットをシリコン等の原子番号の低い基板上に形成したも
のや、重金属薄膜に微細孔を開けたものを用いて反射電
子を測定する、或いは微細孔を通過した電子電流を測定
するようなものでもよい。要は、必要な空間周波数を有
するものであればよい。さらに、マークの形状として
は、必ずしも図7(a)に示したような点状のマークを
用いる必要はない。例えば、図10(a)(b)に示す
ようなものでも同様な効果が得られることは明らかであ
る。必要な信号強度が得られ、かつ必要な空間周波数情
報を含む信号が得られるものであればマークの形状や、
信号の取得方法に制限はない。
As for the mark structure, the backscattered electrons are measured by using a heavy metal dot formed on a substrate having a low atomic number such as silicon or a heavy metal thin film having fine holes, or For example, the electron current passing through the hole may be measured. The point is that it has only to have a necessary spatial frequency. Further, as the shape of the mark, it is not always necessary to use the dot-shaped mark as shown in FIG. For example, it is obvious that similar effects can be obtained even with the ones shown in FIGS. If the required signal strength is obtained and a signal containing the necessary spatial frequency information is obtained, the shape of the mark,
There is no limitation on the signal acquisition method.

【0054】なお、本発明は上述した各実施形態に限定
されるものではない。測定すべきビームの形状は矩形に
何等限定されるものではなく、円形ビームであってもよ
い。また、電子ビームに限らずイオンビームの測定にも
適用することができる。その他、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲で、種々変形して実施することができる。
The present invention is not limited to the above embodiments. The shape of the beam to be measured is not limited to a rectangle and may be a circular beam. Further, the present invention can be applied not only to electron beams but also to ion beams. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、合
焦点位置の候補が複数存在する場合も非点収差を正確に
補正することができ、より高度な非点収差の補正及び焦
点合わせが可能となる。また、信号のSN比によって分
解能が制限されることはなく高い分解能と高いSN比を
共に満足させることができ、より高度な非点収差の補正
及び焦点合わせが可能となる。
As described above, according to the present invention, astigmatism can be accurately corrected even when there are a plurality of in-focus position candidates, and more advanced astigmatism correction and focusing can be performed. Is possible. Further, the resolution is not limited by the SN ratio of the signal, both high resolution and high SN ratio can be satisfied, and higher-level astigmatism correction and focusing can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の単一マークを用いてビーム分解能を測定
する方法を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a method for measuring a beam resolution using a conventional single mark.

【図2】単一マーク上を直線状にビーム走査したときに
得られる反射電子信号の例を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a backscattered electron signal obtained when linearly scanning a beam on a single mark.

【図3】非点収差が無いときと有るときのR(kx,k
y)の例を示す図。
FIG. 3 shows R (kx, k with and without astigmatism.
The figure which shows the example of y).

【図4】非点収差がある場合の第3の評価関数の分布を
示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a distribution of a third evaluation function when there is astigmatism.

【図5】θ方向の第3の評価関数を求める範囲を与える
ための図。
FIG. 5 is a diagram for giving a range for obtaining a third evaluation function in the θ direction.

【図6】第3の評価関数の分布の例を示す図。FIG. 6 is a diagram showing an example of distribution of a third evaluation function.

【図7】第2の実施形態で用いるマークの配置例と得ら
れる信号を示す図。
FIG. 7 is a view showing an arrangement example of marks used in the second embodiment and signals obtained.

【図8】評価関数の符号分布の様子を示す図。FIG. 8 is a diagram showing a state of code distribution of an evaluation function.

【図9】2次元信号分布の最大値が信号測定系の線形性
が成立する範囲にあることを示す図。
FIG. 9 is a diagram showing that the maximum value of a two-dimensional signal distribution is in a range where the linearity of a signal measuring system is established.

【図10】マークの他の例を示す図。FIG. 10 is a diagram showing another example of a mark.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…電子ビーム 2…マーク 1 ... Electron beam 2 ... mark

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】荷電粒子ビームを試料面上のマーク上に2
次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料面上
に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる複数
の設定において求める工程と、該工程により得られた2
次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換の違いによって
決定される第1の評価関数を用いて非点収差の方向を決
定し、かつ第1の評価関数を処理して得られる第2の評
価関数の焦点設定に対する変化より合焦点位置を求める
工程とを含むことを特徴とする荷電粒子光学鏡筒の調整
方法。
1. A charged particle beam is directed onto a mark on a sample surface.
A step of obtaining a two-dimensional signal distribution obtained by dimensional scanning at a plurality of settings with different focal lengths of the lens for converging the beam on the sample surface;
The focus of the second evaluation function obtained by processing the first evaluation function by determining the direction of astigmatism using the first evaluation function determined by the difference between the Fourier transforms of the dimensional signal distributions. And a step of obtaining a focused position from a change with respect to a setting.
【請求項2】荷電粒子ビームを試料面上のマーク上に2
次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料面上
に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる複数
の設定において求める工程と、該工程により得られた2
次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換の違いによって
決定される第1の評価関数を処理して得られる第2の評
価関数の焦点設定に対する変化より合焦点位置を求める
工程とを含む荷電粒子光学鏡筒の調整方法であって、 第2の評価関数の値が非点収差がない場合の合焦点位置
付近の2個所以上で合焦点位置の候補を与えるとき、そ
のうちの2個所でのフーリエ変換信号を用いて第1の評
価関数を求め、この第1の評価関数から非点収差の方向
を求めることを特徴とする荷電粒子光学鏡筒の調整方
法。
2. A charged particle beam is directed onto a mark on a sample surface.
A step of obtaining a two-dimensional signal distribution obtained by dimensional scanning at a plurality of settings with different focal lengths of the lens for converging the beam on the sample surface;
Request focus position from the changes to the focus setting of the second evaluation function obtained by processing the first evaluation function determined by the respective differences of the Fourier transform of dimensional signal distribution
A method for adjusting a charged particle optical lens barrel including the steps of: providing a candidate for a focus position at two or more positions near the focus position when the value of the second evaluation function has no astigmatism. A method for adjusting a charged particle optical lens barrel, characterized in that the first evaluation function is obtained by using the Fourier transform signals at the two positions, and the direction of astigmatism is obtained from the first evaluation function.
【請求項3】前記レンズの異なる焦点距離で求められる
2次元信号分布のフーリエ変換がI(kx,ky),I
´(kx,ky)で与えられるとき、第1の評価関数は
I(kx,ky),I´(kx,ky)の絶対値の大小
に対応して符号が正負に決まる関数であり、第2の評価
関数は対象とする波数領域で第1の評価関数を平均又は
加重平均したものであることを特徴とする請求項1又は
2記載の荷電粒子光学鏡筒の調整方法。
3. The Fourier transform of the two-dimensional signal distribution obtained at different focal lengths of the lens is I (kx, ky), I
When given by ′ (kx, ky), the first evaluation function is a function whose sign is determined to be positive or negative corresponding to the magnitude of the absolute value of I (kx, ky), I ′ (kx, ky). 3. The charged particle optical lens barrel adjusting method according to claim 1, wherein the evaluation function of 2 is an average or weighted average of the first evaluation function in a target wave number region.
【請求項4】荷電粒子ビームを試料面上のマーク上に2
次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料面上
に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる複数
の設定において求める工程と、該工程により得られた2
次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換の違いによって
決定される第1の評価関数を用いて非点収差の方向を決
定するか、第1の評価関数を処理して得られる第2の評
価関数の焦点設定に対する変化より合焦点位置を求める
かの少なくとも一方を行う工程とを含む荷電粒子光学鏡
筒の調整方法であって、 第1の評価関数から、波数空間分布の方向性に依存する
第3の評価関数を求め、それぞれの方向に対応する第3
の評価関数が同じ焦点設定位置に合焦点位置の候補を与
えるように非点収差の補正を行うことを特徴とする荷電
粒子光学鏡筒の調整方法。
4. A charged particle beam is directed onto a mark on the surface of a sample.
A step of obtaining a two-dimensional signal distribution obtained by dimensional scanning at a plurality of settings with different focal lengths of the lens for converging the beam on the sample surface;
The astigmatism direction is determined using the first evaluation function determined by the difference in the Fourier transform of the dimensional signal distribution, or the focus of the second evaluation function obtained by processing the first evaluation function. A method of adjusting a charged particle optical lens barrel, comprising the step of determining at least one of a focused position from a change with respect to a setting, the third evaluation method being dependent on a directionality of a wave number spatial distribution from a first evaluation function. The evaluation function is obtained and the third corresponding to each direction is obtained.
The method for adjusting a charged particle optical lens barrel is characterized in that astigmatism is corrected so that the evaluation functions of (1) to (3) provide candidates for in-focus positions at the same focus setting position.
【請求項5】前記レンズの異なる焦点距離で求められる
2次元信号分布のフーリエ変換がI(kx,ky),I
´(kx,ky)で与えられるとき、第1の評価関数は
I(kx,ky),I´(kx,ky)の絶対値の大小
に対応して符号が正負に決まる関数であり、第3の評価
関数は対象とする波数領域で第1の評価関数を重みが角
度方向に変化する加重平均したものであることを特徴と
する請求項4記載の電粒子光学鏡筒の調整方法。
5. The Fourier transform of a two-dimensional signal distribution obtained at different focal lengths of the lens is I (kx, ky), I
When given by ′ (kx, ky), the first evaluation function is a function whose sign is determined to be positive or negative corresponding to the magnitude of the absolute value of I (kx, ky), I ′ (kx, ky). 5. The method of adjusting an electron particle optical lens barrel according to claim 4, wherein the evaluation function of 3 is a weighted average of the first evaluation function in the wave number region of interest in which the weight changes in the angular direction.
【請求項6】荷電粒子ビームを試料面上のマーク上に2
次元的に走査して得られる2次元信号分布を、試料面上
に該ビームを収束させるレンズの焦点距離が異なる複数
の設定においてそれぞれ測定する工程と、該工程により
得られた2次元信号分布のそれぞれのフーリエ変換の違
いを用いて、非点収差の方向を決定するか合焦点位置を
求めるかの少なくとも一方を行う工程とを含む荷電粒子
光学鏡筒の調整方法であって、 前記測定に用いるビームに相当するビーム面積内を該ビ
ームよりも小さいビームで1次元走査したときに得られ
る信号に2個以上の極大又は極小ができるように、前記
マークを配置したことを特徴とする荷電粒子光学鏡筒の
調整方法。
6. A charged particle beam is directed onto a mark on a sample surface.
Measuring the two-dimensional signal distribution obtained by dimensional scanning at a plurality of settings with different focal lengths of the lens for converging the beam on the sample surface, and the two-dimensional signal distribution obtained by the step. A method for adjusting a charged particle optical lens barrel, which comprises the step of determining at least one of a direction of astigmatism and a focus position by using a difference between respective Fourier transforms, which is used for the measurement. Charged particle optics characterized in that the marks are arranged so that two or more maximums or minimums can be obtained in a signal obtained by one-dimensional scanning with a beam smaller than the beam within a beam area corresponding to the beam. How to adjust the lens barrel.
【請求項7】2次元信号分布の最大値が、信号測定系の
線形性が成立する範囲にあることを特徴とする請求項6
記載の荷電粒子光学鏡筒の調整方法。
7. The maximum value of the two-dimensional signal distribution is in a range where the linearity of the signal measuring system is established.
A method for adjusting a charged particle optical lens barrel as described above.
【請求項8】前記マークは、前記測定に用いるビームが
一度に照射できる領域に2つ以上配置されることを特徴
とする請求項6記載の荷電粒子光学鏡筒の調整方法。
8. The method of adjusting a charged particle optical lens barrel according to claim 6, wherein two or more marks are arranged in a region where the beam used for the measurement can be irradiated at one time.
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