JP3506628B2 - Manufacturing method of organic positive temperature coefficient thermistor - Google Patents

Manufacturing method of organic positive temperature coefficient thermistor

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JP3506628B2
JP3506628B2 JP02059999A JP2059999A JP3506628B2 JP 3506628 B2 JP3506628 B2 JP 3506628B2 JP 02059999 A JP02059999 A JP 02059999A JP 2059999 A JP2059999 A JP 2059999A JP 3506628 B2 JP3506628 B2 JP 3506628B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、温度センサーや過
電流保護素子として用いられ、温度上昇とともに抵抗値
が増大するPTC(positive temperature coefficient
of resistivity)特性を有する有機質正特性サーミス
タに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used as a temperature sensor or an overcurrent protection element and has a PTC (positive temperature coefficient) whose resistance value increases as temperature rises.
organic positive temperature coefficient thermistor having a characteristic of resistivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】結晶性の高分子に導電性粒子を分散させ
た有機質正特性サーミスタはこの分野では公知であり、
米国特許第3243753号明細書および同第3351
882号明細書等に開示されている。抵抗値の増大は、
結晶性高分子が融解に伴って膨張し、導電性微粒子の導
電経路を切断するためと考えられている。
2. Description of the Related Art Organic positive temperature coefficient thermistors in which conductive particles are dispersed in a crystalline polymer are known in the art,
U.S. Pat. Nos. 3,243,753 and 3,351
No. 882 specification and the like. The increase in resistance is
It is considered that the crystalline polymer expands with melting and cuts the conductive path of the conductive fine particles.

【0003】有機質正特性サーミスタは、自己制御型発
熱体、過電流保護素子、温度センサー等に利用すること
ができる。これらに要求される特性としては、非動作時
の室温抵抗値が十分低いこと、室温抵抗値と動作時の抵
抗値の変化率が十分大きいこと、繰り返し動作による抵
抗値の変化が小さいことが挙げられる。
The organic positive temperature coefficient thermistor can be used for a self-regulating heating element, an overcurrent protection element, a temperature sensor and the like. The characteristics required for these are that the room temperature resistance value during non-operation is sufficiently low, that the rate of change between the room temperature resistance value and the resistance value during operation is sufficiently large, and the change in resistance value due to repeated operation is small. To be

【0004】こうした要求特性を満足させるために、高
分子マトリックス中にワックス等の低分子有機化合物を
含有させることが提案されている。このような有機質正
特性サーミスタとしては、例えば、ポリイソブチレン/
パラフィンワックス/カーボンブラック系(F.Bueche,J.
Appl.Phys.,44,532,1973)、スチレン−ブタジエンラバ
ー/パラフィンワックス/カーボンブラック系(F.Buech
e,J.Polymer Sci.,11,1319,1973)、低密度ポリエチレン
/パラフィンワックス/カーボンブラック系(K.Ohe et
al.,Jpn.J.Appl.Phys.,10,99,1971)がある。また、特公
昭62-16523号、特公平7-109786号、同7-48396号、特開
昭62-51184号、同62-51185号、同62-51186号、同62-511
87号、特開平1-231284号、同3-132001号、同9-27383
号、同9-69410号の各公報にも低分子有機化合物を使っ
た有機質正特性サーミスタを用いた自己温度制御発熱
体、限流素子等が開示されている。これらの場合は低分
子有機化合物の融解により抵抗値が増大すると考えられ
る。
In order to satisfy such required characteristics, it has been proposed to incorporate a low molecular weight organic compound such as wax in a polymer matrix. Examples of such an organic positive temperature coefficient thermistor include polyisobutylene /
Paraffin wax / carbon black (F. Bueche, J.
Appl.Phys., 44 , 532, 1973), styrene-butadiene rubber / paraffin wax / carbon black system (F.Buech
e, J.Polymer Sci., 11 , 1319,1973), low density polyethylene / paraffin wax / carbon black system (K.Ohe et al.
al., Jpn.J.Appl.Phys., 10 , 99, 1971). Further, Japanese Patent Publication No. 62-16523, Japanese Patent Publication No. 7-109786, No. 7-48396, JP-A Nos. 62-51184, 62-51185, 62-51186, 62-511.
87, JP-A 1-231284, 3-132001, 9-27383
No. 9-69410 discloses a self-temperature control heating element using an organic positive temperature coefficient thermistor using a low molecular weight organic compound, a current limiting element, and the like. In these cases, it is considered that the resistance value increases due to the melting of the low molecular weight organic compound.

【0005】したがって、低分子有機化合物を用いると
きの利点は、一般に高分子に比べて結晶化度が高いた
め、昇温により抵抗が増大する際の立ち上がりが急峻に
なることが挙げられる。また、高分子は過冷却状態を取
りやすいため、通常、昇温時に抵抗値が増大する温度よ
り降温時に抵抗値が減少する温度の方が低くなるような
ヒステリシスを示すが、低分子有機化合物を用いること
でこのヒステリシスを抑えることができる。さらには、
融点の異なる低分子有機化合物を用いれば、抵抗が増大
する温度(動作温度)を簡単に制御できる。高分子の場
合、分子量や結晶化度の違い、また、コモノマーと共重
合することによって融点が変化し、動作温度を変化させ
ることができるが、その際、結晶状態の変化を伴うため
十分なPTC特性が得られないことがある。これは、特
に100℃未満に動作温度を設定するときに、より顕著
になる傾向がある。
Therefore, the advantage of using a low-molecular weight organic compound is that the crystallinity is generally higher than that of a polymer, so that the rise when the resistance increases due to temperature rise becomes sharp. In addition, since a polymer is likely to be in a supercooled state, it usually exhibits a hysteresis such that the temperature at which the resistance value decreases at the time of temperature decrease becomes lower than the temperature at which the resistance value increases at the time of temperature increase. By using this, it is possible to suppress this hysteresis. Moreover,
If low molecular weight organic compounds having different melting points are used, the temperature at which the resistance increases (operating temperature) can be easily controlled. In the case of a polymer, the melting point and the operating temperature can be changed by the difference in the molecular weight and the degree of crystallinity, and by copolymerization with a comonomer, but at that time, the crystal state is changed, so that the sufficient PTC is obtained. The characteristics may not be obtained. This tends to be more pronounced, especially when setting the operating temperature below 100 ° C.

【0006】上記文献の中で、Jpn.J.Appl.Phys.,10,9
9,1971には、比抵抗値(Ω cm)が108倍増加した例が
示されている。しかし、室温での比抵抗値は104Ω cm
で非常に高く、特に過電流保護素子や温度センサーに使
うには実用的ではない。また、他の文献における抵抗値
(Ω)あるいは比抵抗値(Ω cm)の増加は、いずれも
10倍以下から104倍程度の範囲にあり、室温抵抗も
十分低いものではない。
In the above literature, Jpn.J.Appl.Phys., 10 , 9
9,1971 shows an example in which the specific resistance value (Ω cm) is increased 10 8 times. However, the resistivity at room temperature is 10 4 Ω cm
It is very high, and it is not practical to use for overcurrent protection device and temperature sensor. Further, the increase in the resistance value (Ω) or the specific resistance value (Ω cm) in other documents is in the range of 10 times or less to 10 4 times, and the room temperature resistance is not sufficiently low.

【0007】一方、上記のものも含め、従来の有機質正
特性サーミスタでは導電性粒子としてカーボンブラック
や黒鉛が多く用いられてきたが、初期抵抗値を下げるた
めカーボンブラックの充填量を多くしたときに十分な抵
抗変化率が得られず、低い初期抵抗と大きな抵抗変化率
とを両立できないという欠点があった。また、一般の金
属粒子を導電性粒子に用いた例もあるが、同じように低
い初期抵抗と大きな抵抗変化率とを両立させることは困
難であった。
On the other hand, in the conventional organic positive temperature coefficient thermistor including the above-mentioned ones, carbon black and graphite have been often used as conductive particles, but when the carbon black filling amount is increased to lower the initial resistance value. There is a drawback that a sufficient resistance change rate cannot be obtained, and a low initial resistance and a large resistance change rate cannot both be achieved. In addition, although there is an example in which general metal particles are used as the conductive particles, it is similarly difficult to achieve both a low initial resistance and a large resistance change rate.

【0008】上記の欠点を解決する方法として、スパイ
ク状の突起を有する導電性粒子を用いる方法が特開平5
−47503号公報に開示されている。より具体的に
は、結晶性の高分子としてポリフッ化ビニリデンを用
い、スパイク状の突起を有する導電性粒子としてはスパ
イク状Niパウダーを用いたものが開示されている。ま
た、米国特許第5378407号明細書にも、スパイク
状の突起を有するフィラメント形状のNiと、ポリオレ
フィン、オレフィン系コポリマー、あるいはフルオロポ
リマーとを用いたものが開示されている。
As a method for solving the above-mentioned drawbacks, a method of using conductive particles having spike-shaped protrusions is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. HEI 5/1993.
-47503 gazette. More specifically, it is disclosed that polyvinylidene fluoride is used as the crystalline polymer, and spike-shaped Ni powder is used as the conductive particles having spike-shaped protrusions. Further, US Pat. No. 5,378,407 also discloses a filament-shaped Ni having spike-like protrusions, and a polyolefin, an olefin-based copolymer, or a fluoropolymer.

【0009】これらのものでは、低い初期抵抗と大きな
抵抗変化を両立させる効果は向上するものの、ヒステリ
シスの点が不十分であり、特に温度センサーのような用
途には適さない。しかも、これらのものは、動作温度は
100℃以上である。動作温度が60〜90℃のものも
あるが、これらは繰り返し動作による特性が不安定であ
り、実用的でない。2次電池、電気毛布、便座、車両用
シート用のヒーター等の保護素子としての用途を考えた
場合、100℃以上の動作温度では人体への危険性が大
きい。人体に対しての安全性を考えると、動作温度は1
00℃未満であることが必要である。また、最近、有機
質正特性サーミスタは、携帯電話、パソコン等の過電流
保護素子としての需要が高いが、その使用温度は通常4
0〜90℃程度であり、この面からも動作温度が40℃
以上100℃未満のサーミスタが求められている。
Although these compounds improve the effect of achieving both low initial resistance and large resistance change, they have insufficient hysteresis and are not suitable for applications such as temperature sensors. Moreover, the operating temperature of these is 100 ° C. or higher. There are some operating temperatures of 60 to 90 ° C, but these are not practical because the characteristics due to repeated operation are unstable. Considering the use as a protective element for secondary batteries, electric blankets, toilet seats, heaters for vehicle seats, etc., operating temperature of 100 ° C. or higher poses a great danger to the human body. Considering safety for human body, operating temperature is 1
It must be below 00 ° C. Recently, the organic PTC thermistor is in high demand as an overcurrent protection device for mobile phones, personal computers, etc., but its operating temperature is usually 4
It is about 0 to 90 ° C, and from this aspect the operating temperature is 40 ° C.
A thermistor having a temperature of 100 ° C. or above is required.

【0010】以上のとおり、動作温度100℃未満で良
好な特性を示し、特性の安定な有機正特性サーミスタ
は、現在のところ得られていない。
As described above, an organic positive temperature coefficient thermistor which exhibits good characteristics at an operating temperature of less than 100 ° C. and has stable characteristics has not been obtained so far.

【0011】本発明者らは、特願平9−350108号
公報において、熱可塑性高分子マトリックス、低分子有
機化合物およびスパイク状の突起を有する導電性粒子を
含む有機質正特性サーミスタを提案している。このもの
は、室温比抵抗が8×10-2Ω cm以下で十分低く、動
作時と非動作時の抵抗変化率が10桁以上と大きく、さ
らには、温度−抵抗曲線のヒステリシスが小さい。しか
も、その動作温度は40℃以上100℃未満である。
The present inventors have proposed, in Japanese Patent Application No. 9-350108, an organic positive temperature coefficient thermistor containing a thermoplastic polymer matrix, a low molecular weight organic compound and conductive particles having spike-like protrusions. . This one has a sufficiently low room temperature specific resistance of 8 × 10 −2 Ωcm or less, a large resistance change rate of 10 digits or more during operation and non-operation, and has a small hysteresis of a temperature-resistance curve. Moreover, the operating temperature is 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C.

【0012】しかし、このサーミスタは、特性安定性が
不十分であり、特に高温高湿下では抵抗が顕著に増加す
る。これは、低分子有機化合物の低い融点と低い溶融粘
度とに起因し、動作時に溶融−凝固を繰り返すうちに動
作物質の低分子有機化合物の偏析等が起こり、高分子マ
トリックス、低分子有機化合物および導電性粒子の分散
状態が変化したりして特性が劣化すると思われる。この
ような特性安定性の問題は、低分子有機化合物を動作物
質にする上で重要な問題である。
However, this thermistor has insufficient characteristic stability, and the resistance increases remarkably under high temperature and high humidity. This is due to the low melting point and low melt viscosity of the low molecular weight organic compound, segregation of the low molecular weight organic compound of the operating substance occurs during repeated melting-solidification during operation, and the polymer matrix, low molecular weight organic compound and It is considered that the characteristics are deteriorated due to changes in the dispersed state of the conductive particles. The problem of such characteristic stability is an important problem in using a low molecular weight organic compound as an operating material.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
低い室温抵抗が得られ、動作時と非動作時の抵抗変化率
が大きく、100℃未満で動作し、温度−抵抗曲線のヒ
ステリシスが小さく、動作温度の調整が容易であり、し
かも、特性安定性が高い有機質正特性サーミスタを提供
することである。
The object of the present invention is to obtain a sufficiently low room temperature resistance, a large rate of resistance change during operation and non-operation, to operate below 100 ° C., and to obtain a hysteresis of the temperature-resistance curve. An object of the present invention is to provide an organic positive temperature coefficient thermistor which is small, whose operating temperature can be easily adjusted, and whose characteristic stability is high.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
の本発明により達成される。 (1) 熱可塑性高分子マトリックス、融点が40℃以
上100℃未満の低分子有機化合物およびスパイク状の
突起を有する導電性粒子を混練し、この混練物を、ビニ
ル基または(メタ)アクリロイル基と、アルコキシ基と
を有するシラン系カップリング剤で架橋処理して有機質
正特性サーミスタを得る有機質正特性サーミスタの製造
方法。 (2) 前記シラン系カップリング剤がビニルトリメト
キシシランまたはビニルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルメトキシシランまたはγ−メタクリ
ロキシプロピルエトキシシランである上記(1)の有機
質正特性サーミスタの製造方法。 (3) 前記低分子有機化合物の重量平均分子量が1,
000以下である上記(1)または(2)の有機質正特
性サーミスタの製造方法。 (4) 前記低分子有機化合物が石油系ワックスである
上記(1)〜(3)のいずれかの有機質正特性サーミス
タの製造方法。 (5) 前記スパイク状の突起を有する導電性粒子が鎖
状に連なっている上記(1)〜(4)のいずれかの有機
質正特性サーミスタの製造方法。 (6) 前記熱可塑性高分子マトリックスがポリオレフ
ィンである上記(1)〜(5)のいずれかの有機質正特
性サーミスタの製造方法 (7) 前記ポリオレフィンが高密度ポリエチレンであ
る上記(6)の有機質正特性サーミスタの製造方法。 (8) 前記高密度ポリエチレンのメルトフローレート
が3.0g/10min以下である上記(7)の有機質正
特性サーミスタの製造方法。 (9) 動作温度が100℃未満である上記(1)〜
(8)のいずれかの有機質正特性サーミスタの製造方
法。
The above object is achieved by the present invention described below. (1) A thermoplastic polymer matrix, a low molecular weight organic compound having a melting point of 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C., and conductive particles having spike-like protrusions are kneaded, and the kneaded product is mixed with a vinyl group or a (meth) acryloyl group. A method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor, which is obtained by cross-linking with a silane coupling agent having an alkoxy group to obtain an organic positive temperature coefficient thermistor. (2) The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to (1), wherein the silane coupling agent is vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane or γ-methacryloxypropylethoxysilane. (3) The low molecular weight organic compound has a weight average molecular weight of 1,
The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to the above (1) or (2), which is 000 or less. (4) The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to any of (1) to (3) above, wherein the low molecular weight organic compound is a petroleum wax. (5) The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to any one of the above (1) to (4), wherein the conductive particles having the spike-like protrusions are connected in a chain. (6) The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to any one of (1) to (5) above, wherein the thermoplastic polymer matrix is a polyolefin (7) The organic positive electrode according to (6), wherein the polyolefin is a high-density polyethylene. Method of manufacturing characteristic thermistor. (8) The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to (7) above, wherein the high-density polyethylene has a melt flow rate of 3.0 g / 10 min or less. (9) The above (1) to which the operating temperature is less than 100 ° C.
8. The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to any one of (8).

【0015】[0015]

【作用】本発明の有機質正特性サーミスタは、熱可塑性
高分子マトリックス、融点が40℃以上100℃未満の
低分子有機化合物およびスパイク状の突起を有する導電
性粒子を含み、これらの混合物を、ビニル基または(メ
タ)アクリロイル基と、アルコキシ基とを有するシラン
系カップリング剤で架橋処理したものである。
The organic positive temperature coefficient thermistor of the present invention comprises a thermoplastic polymer matrix, a low molecular weight organic compound having a melting point of 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C., and conductive particles having spike-like protrusions. A silane coupling agent having a group or a (meth) acryloyl group and an alkoxy group is crosslinked.

【0016】本発明では、スパイク状の突起を有する導
電性粒子を用いることで、その形状のためトンネル電流
が流れやすくなり、球状の導電性粒子と比較して低い室
温抵抗が得られる。また、導電性粒子間の間隔が球状の
ものに比べて大きいため、動作時には大きな抵抗変化が
得られる。
In the present invention, the conductive particles having spike-like protrusions are used, so that the tunnel current easily flows due to the shape, and a lower room temperature resistance is obtained as compared with the spherical conductive particles. Further, since the distance between the conductive particles is larger than that of the spherical particles, a large resistance change can be obtained during operation.

【0017】また、熱可塑性高分子マトリックス、好ま
しくはポリオレフィンに低分子有機化合物を含有させ、
この低分子有機化合物の融解により温度上昇とともに抵
抗値が増大するPTC特性を発現させているので、高分
子マトリックスのみを用いる場合に比べて温度−抵抗曲
線のヒステリシスが小さくなる。また、高分子の融点変
化を利用して動作温度を調整する場合に比べ、融点の異
なる低分子有機化合物を用いることなどにより容易に動
作温度を調整することができる。しかも、本発明では、
融点が40℃以上100℃未満の低分子有機化合物を動
作物質に用いることによって、動作温度を100℃未満
にしている。
Further, a low molecular organic compound is contained in a thermoplastic polymer matrix, preferably polyolefin,
By melting the low molecular weight organic compound, the PTC characteristic in which the resistance value increases as the temperature rises is exhibited, so that the hysteresis of the temperature-resistance curve becomes smaller than that in the case where only the polymer matrix is used. Further, as compared with the case where the operating temperature is adjusted by utilizing the change in melting point of the polymer, the operating temperature can be easily adjusted by using a low molecular weight organic compound having a different melting point. Moreover, in the present invention,
The operating temperature is set to less than 100 ° C. by using a low molecular weight organic compound having a melting point of 40 ° C. or more and less than 100 ° C. as an operating material.

【0018】そして、熱可塑性高分子マトリックス、低
分子有機化合物およびスパイク状の突起を有する導電性
粒子の混合物を、ビニル基または(メタ)アクリロイル
基と、アルコキシ基とを有するシラン系カップリング剤
で架橋処理することにより、保存時、繰り返し動作時の
特性安定性が著しく向上する。
Then, a mixture of a thermoplastic polymer matrix, a low molecular weight organic compound and conductive particles having spike-like protrusions is treated with a silane coupling agent having a vinyl group or a (meth) acryloyl group and an alkoxy group. By the cross-linking treatment, the stability of characteristics during storage and repeated operation is significantly improved.

【0019】高分子マトリックスと低分子有機化合物と
を架橋構造にすることにより、高分子マトリックスで形
状を保持し、動作時に溶融−凝固を繰り返す低分子有機
化合物の凝集、偏析を抑制し、有機質正特性サーミスタ
の特性安定性が向上すると考えられる。また、カップリ
ング剤は、上記の有機マトリックスの架橋だけではな
く、有機−無機材料の間に化学結合を形成し、その界面
の改質に大きな効果を示すと考えられている。熱可塑性
高分子マトリックス、低分子有機化合物および導電性粒
子の混合物をシラン系カップリング剤で処理することに
より、高分子マトリックス−導電性粒子の界面、低分子
有機化合物−導電性粒子の界面、高分子マトリックス−
金属電極の界面、低分子有機化合物−金属電極の界面を
強固にし、さらに特性の安定向上に寄与していると考え
られる。
By forming a cross-linking structure between the polymer matrix and the low molecular weight organic compound, the shape of the polymer matrix is maintained, and aggregation and segregation of the low molecular weight organic compound that repeatedly melts and solidifies during operation are suppressed, and the organic positive electrode is suppressed. It is considered that the characteristic stability of the characteristic thermistor is improved. Further, it is considered that the coupling agent not only crosslinks the above organic matrix but also forms a chemical bond between the organic-inorganic material and has a great effect on the modification of the interface. By treating the mixture of the thermoplastic polymer matrix, the low molecular weight organic compound and the conductive particles with the silane coupling agent, the polymer matrix-conductive particle interface, the low molecular weight organic compound-conductive particle interface, Molecular matrix
It is considered that the interface of the metal electrode and the interface of the low molecular weight organic compound-metal electrode are strengthened, and further contribute to the stable improvement of the characteristics.

【0020】本発明では、カップリング剤は、炭素の二
重結合(C=C)を有する基を介して熱可塑性高分子マ
トリックスおよび低分子有機化合物にグラフト化され、
その後、水の存在下で脱アルコール、脱水縮合により架
橋される。その反応式を下記に示す。
In the present invention, the coupling agent is grafted to the thermoplastic polymer matrix and the low molecular weight organic compound through a group having a carbon double bond (C═C),
Then, it is crosslinked by dealcoholization and dehydration condensation in the presence of water. The reaction formula is shown below.

【0021】[0021]

【化1】 [Chemical 1]

【0022】架橋方法としては、他に、有機過酸化物を
用いる化学架橋法、電子線照射による放射線架橋法があ
る。しかし、化学架橋法は、成形後高分子マトリックス
の融点よりもさらに高い温度で熱処理しなければなら
ず、形状を保持するのが難しく、素子が熱劣化してしま
う可能性がある。放射線架橋法は、装置が高価であり、
しかも、特に素子が厚い場合、内部まで十分に架橋する
ことが難しく、均一な架橋が困難である。
Other cross-linking methods include a chemical cross-linking method using an organic peroxide and a radiation cross-linking method by electron beam irradiation. However, in the chemical crosslinking method, it is necessary to perform heat treatment at a temperature higher than the melting point of the polymer matrix after molding, it is difficult to maintain the shape, and the element may be thermally deteriorated. The radiation crosslinking method requires expensive equipment,
Moreover, especially when the element is thick, it is difficult to sufficiently crosslink the inside, and it is difficult to uniformly crosslink.

【0023】なお、シラン架橋処理を行うことは既に提
案されている。低分子有機化合物を使わない系では、例
えば、特開昭59−60904号公報には、ゲル分率が
60%以上の水架橋されたシリル変性ポリオレフィン中
に、15〜50wt%の導電性カーボンが均一に分散され
ている半導電性組成物が開示されている。特開平4−6
8501号公報には、水架橋されたポリマ、具体的には
有機シラン変性ポリマに導電性粉末が分散されているP
TC特性を有する抵抗体が開示されている。特開平4−
157701号公報には、水架橋されないポリマ(ポリ
オレフィン系樹脂)と導電性粉末(カーボンブラック)
とを混合し、さらに水架橋されるポリマ(活性シラン基
を有するポリエチレン)を加えて混合した後、水架橋し
たPTC特性を有する抵抗体が開示されている。
It has already been proposed to carry out a silane crosslinking treatment. In a system that does not use a low molecular weight organic compound, for example, in JP-A-59-60904, 15 to 50 wt% of conductive carbon is contained in a water-crosslinked silyl-modified polyolefin having a gel fraction of 60% or more. Semi-conductive compositions that are uniformly dispersed are disclosed. Japanese Patent Laid-Open No. 4-6
In Japanese Patent No. 8501, a conductive powder is dispersed in a water-crosslinked polymer, specifically, an organosilane-modified polymer.
A resistor having TC characteristics is disclosed. Japanese Patent Laid-Open No. 4-
No. 157701 discloses a polymer (polyolefin resin) which is not water-crosslinked and a conductive powder (carbon black).
Disclosed is a resistor having PTC characteristics, which is obtained by mixing and mixing, and further adding a water-crosslinkable polymer (polyethylene having an active silane group) and mixing.

【0024】しかし、これらは低分子有機化合物を含ま
ず、ポリオレフィンが動作物質であり、動作温度が10
0℃以上で高い。また、導電性粒子にカーボンブラック
等を用いているので、室温比抵抗は101Ω cm以上と高
く、抵抗変化率は2〜5桁程度であり、特性が不十分で
ある。なお、これらの公報では、特性の安定性について
全く示唆がない。
However, these do not contain low molecular weight organic compounds, the polyolefin is the working substance, and the working temperature is 10
High above 0 ° C. Further, since carbon black or the like is used for the conductive particles, the room temperature resistivity is as high as 10 1 Ωcm or more, the resistance change rate is about 2 to 5 digits, and the characteristics are insufficient. In these publications, there is no suggestion of stability of characteristics.

【0025】また、特公平3−74481号公報には、
ポリオレフィン系の結晶性高分子樹脂、シラン系化合
物、有機過酸化物、安定剤および導電性粉末、具体的に
はカーボンからなる発熱体樹脂組成物が開示されてい
る。安定剤の存在下で結晶性高分子にシラン系化合物を
有機過酸化物を用いて化学結合させ、さらに、カーボン
表面の官能基と化学結合を形成、または、親和性を向上
させてカーボンが偏在し、抵抗が変化することを防止す
るとともに、シラン系化合物が化学結合することによっ
て電極材料との接着性も向上するので、特性の安定性が
高いとされている。特開平4−345785号公報に
は、結晶性高分子組成物中に導電性粉末を分散させて導
電性組成物を調製して架橋し、この架橋物を粉砕してシ
ランカップリング剤で表面処理し、これを結晶性高分子
組成物に混合分散した正抵抗温度係数をもつ抵抗体が開
示されている。粒子状導電性組成物にシランカップリン
グ剤を塗布することによって、バインダ高分子や金属電
極との間に化学結合が形成されるので、結合が強固なも
のになり、通電時の導電パスの形成と通電発熱による熱
膨張に起因する導電性粉体中のクラックの発生の抑制と
のため、発熱体の抵抗増大を抑制し、発熱体の寿命を長
くすることができるとされている。
Further, Japanese Patent Publication No. 3-74481 discloses that
A heating element resin composition comprising a polyolefin-based crystalline polymer resin, a silane-based compound, an organic peroxide, a stabilizer and a conductive powder, specifically carbon is disclosed. Chemically bond a silane compound to a crystalline polymer in the presence of a stabilizer using an organic peroxide, and further form a chemical bond with a functional group on the carbon surface, or improve the affinity and unevenly distribute carbon. However, since the resistance is prevented from changing and the silane compound is chemically bonded to improve the adhesiveness with the electrode material, it is said that the stability of the characteristics is high. In JP-A-4-345785, a conductive powder is dispersed in a crystalline polymer composition to prepare a conductive composition and crosslinked, and the crosslinked product is pulverized and surface-treated with a silane coupling agent. However, a resistor having a positive temperature coefficient of resistance obtained by mixing and dispersing this in a crystalline polymer composition is disclosed. By applying a silane coupling agent to the particulate conductive composition, a chemical bond is formed between the binder polymer and the metal electrode, so that the bond becomes strong and a conductive path is formed when current is applied. In order to suppress the occurrence of cracks in the conductive powder due to the thermal expansion due to heat generation by energization, it is said that the resistance increase of the heating element can be suppressed and the life of the heating element can be extended.

【0026】しかし、これらのものはあくまで表面処理
を行っているだけであり、特性安定性の向上は小さく、
本発明のものの方が長期間にわたって安定した特性が得
られる。また、上記の公報ではともに、実施例に初期の
特性が示されておらず、試験による劣化がどれくらいか
は不明である。また、導電性粉末としてカーボンを用い
ており、本発明のように低い初期抵抗と大きな抵抗変化
率とを両立させてはいない。また、これらのものも低分
子有機化合物を含んでおらず、結晶性高分子樹脂が動作
物質であり、動作温度が100℃以上で高い。
However, these are only subjected to surface treatment, and the improvement in characteristic stability is small,
According to the present invention, stable characteristics can be obtained over a long period of time. Further, in both of the above publications, the initial characteristics are not shown in the examples, and it is unclear how much the test deteriorates. Further, since carbon is used as the conductive powder, the low initial resistance and the large resistance change rate are not compatible with each other as in the present invention. Further, these materials also do not contain a low molecular weight organic compound, the crystalline polymer resin is an operating substance, and the operating temperature is high at 100 ° C. or higher.

【0027】さらには、低分子有機化合物を用いた系で
もシラン架橋処理を行うことが提案されている。
Further, it has been proposed to perform silane crosslinking treatment even in a system using a low molecular weight organic compound.

【0028】特開平1−231284号公報には、水架
橋形ポリオレフィン、具体的には有機シラン変性ポリオ
レフィンに導電性フィラーと低分子量ポリオレフィンワ
ックスとを配合してなる自己温度制御型発熱体素子が開
示されている。特開平9−69410号公報には、水架
橋形ポリオレフィン、具体的には有機シラン変性ポリオ
レフィンに導電性フィラーと低分子量ポリオレフィンワ
ックスとを配合してなる限流素子が開示されている。し
かしながら、これらのものは水架橋形ポリオレフィンに
低分子量ポリオレフィンワックスを混合しており、本発
明のように高分子マトリックスと低分子有機化合物とを
架橋構造にしていない。そのため、特性の安定性の向上
は非常に小さく、本発明のものほど長期間にわたって高
い特性を保てない。なお、これらの公報では、特性の安
定性について全く示唆がない。また、特開平9−694
10号公報では、導電性フィラーにはカーボンブラッ
ク、グラファイト、カーボン繊維、金属粉末(例えば、
Ni)が用いられており、スパイク状の突起を有する導
電性粒子については言及されていない。そのため、この
ものは、室温比抵抗は10-1〜100Ω cmと低いが、抵
抗変化率は3桁以下と小さく、過電流保護素子や温度セ
ンサーに用いるのに十分な特性を有していない。特開平
1−231284号公報では、導電性フィラーにはカー
ボンブラックが用いられているため、室温比抵抗は10
1〜102Ω cmと高く、抵抗変化率は約3桁と小さく、
十分な特性を有していない。また、これらは、有機シラ
ン変性ポリオレフィン、低分子量ポリオレフィンワック
スともに動作物質であり、動作温度も融点100〜16
0℃のワックスを用いているので本発明のものよりも高
く、100℃未満で動作するものではない。本発明で
は、融点が40℃以上100℃未満の低分子有機化合物
のみを動作物質としているので、動作温度が100℃未
満と低くできる。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 1-231284 discloses a self-temperature control type heating element which comprises a water-crosslinkable polyolefin, more specifically, an organosilane-modified polyolefin, and a conductive filler and a low molecular weight polyolefin wax. Has been done. Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-69410 discloses a current limiting element obtained by mixing a water-crosslinkable polyolefin, specifically, an organosilane-modified polyolefin with a conductive filler and a low molecular weight polyolefin wax. However, in these, a water-crosslinked polyolefin is mixed with a low molecular weight polyolefin wax, and the polymer matrix and the low molecular weight organic compound are not in a crosslinked structure as in the present invention. Therefore, the improvement in the stability of the characteristics is very small, and the high characteristics cannot be maintained for a long period of time as much as that of the present invention. In these publications, there is no suggestion of stability of characteristics. In addition, JP-A-9-694
In JP-A-10, the conductive filler is carbon black, graphite, carbon fiber, metal powder (for example,
Ni) is used, and no mention is made of conductive particles having spike-like protrusions. Therefore, this one, but the room temperature resistivity is low as 10 -1 ~10 0 Ω cm, the resistance change rate is 3 digits or less and small, have sufficient properties for use in over-current protection device and a temperature sensor Absent. In JP-A-1-231284, since carbon black is used as the conductive filler, the room temperature resistivity is 10
It is as high as 1 to 10 2 Ω cm, and the rate of resistance change is as small as about 3 digits.
It does not have sufficient characteristics. Further, these are operating substances, both of the organosilane-modified polyolefin and the low molecular weight polyolefin wax, and the operating temperature is 100 to 16 as the melting point.
Since a 0 ° C. wax is used, it is higher than that of the present invention and does not operate below 100 ° C. In the present invention, since only the low molecular weight organic compound having a melting point of 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C. is used as the operating substance, the operating temperature can be lowered to less than 100 ° C.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の有機質正特性サーミスタは、熱可塑性高
分子マトリックス、融点が40℃以上100℃未満の低
分子有機化合物およびスパイク状の突起を有する導電性
粒子を含み、これらの混合物を、ビニル基または(メ
タ)アクリロイル基と、アルコキシ基とを有するシラン
系カップリング剤で架橋処理したものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. The organic positive temperature coefficient thermistor of the present invention comprises a thermoplastic polymer matrix, a low molecular weight organic compound having a melting point of 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C., and conductive particles having spike-shaped protrusions, and a mixture of these with a vinyl group or ( It is a product obtained by crosslinking treatment with a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group and an alkoxy group.

【0030】熱可塑性高分子マトリックスの融点は、動
作時の低分子有機化合物の融解による流動、素体の変形
等を防ぐため、低分子有機化合物の融点よりも高いこと
が好ましく、好ましくは30℃以上、より好ましくは3
0℃以上110℃以下高いことが好ましい。また、熱可
塑性高分子マトリックスの融点は、通常70〜200℃
であることが好ましい。
The melting point of the thermoplastic polymer matrix is preferably higher than the melting point of the low molecular weight organic compound, preferably 30 ° C., in order to prevent flow of the low molecular weight organic compound due to melting during operation, deformation of the element body and the like. Or more, more preferably 3
It is preferable that the temperature is higher than 0 ° C and lower than 110 ° C. The melting point of the thermoplastic polymer matrix is usually 70 to 200 ° C.
Is preferred.

【0031】熱可塑性高分子マトリックスは、結晶性で
も非晶性でもよく、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニ
ルコポリマー、ポリエチルアクリレート等のポリアルキ
ルアクリレート、ポリメチル(メタ)アクリレート等の
ポリアルキル(メタ)アクリレート等のポリオレフィ
ン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレ
ン、ポリヘキサフルオロプロピレン、これらのコポリマ
ー等のフッ素系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、塩素化ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、これらのコポリマー等の塩
素系ポリマーなどのハロゲン系ポリマー、ポリスチレ
ン、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。ポリオレフ
ィンは共重合体であってもよい。具体的には、高密度ポ
リエチレン[例えば、商品名ハイゼックス2100JP
(三井石油化学製)、商品名Marlex6003(フ
ィリップス社製)等]、低密度ポリエチレン[例えば、
商品名LC500(日本ポリケム製)、商品名DYNH
−1(ユニオンカーバイド社製)等]、中密度ポリエチ
レン[例えば、商品名2604M(ガルフ社製)等]、
エチレン−エチルアクリレートコポリマー[例えば、商
品名DPD6169(ユニオンカーバイド社製)等]、
エチレン−酢酸コポリマー[例えば、商品名ノバテック
EVALV241(日本ポリケム製)等]、ポリフッ化
ビニリデン[例えば、商品名Kynar711(エルフ
・アトケム社製)等]、フッ化ビニリデン−テトラフル
オロエチレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマー
[例えば、商品名KynarADS(エルフ・アトケム
社製)等]などが挙げられる。このような熱可塑性高分
子の重量平均分子量Mwは1万〜500万程度であるこ
とが好ましい。
The thermoplastic polymer matrix may be crystalline or amorphous, and may be polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyalkyl acrylate such as polyethyl acrylate, polyalkyl (meth) acrylate such as polymethyl (meth) acrylate, or the like. Fluorine-based polymers such as polyolefin, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, polyhexafluoropropylene, copolymers thereof, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyvinyl chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, etc. Examples thereof include halogen-based polymers such as chlorine-based polymers such as copolymers, polystyrene, and thermoplastic elastomers. The polyolefin may be a copolymer. Specifically, high density polyethylene [for example, trade name HiZex 2100JP
(Manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., trade name Marlex 6003 (manufactured by Philips), etc.), low density polyethylene [eg,
Product name LC500 (manufactured by Nippon Polychem), product name DYNH
-1 (manufactured by Union Carbide Co.) and the like], medium density polyethylene [for example, product name 2604M (manufactured by Gulf Co., Ltd.)],
Ethylene-ethyl acrylate copolymer [for example, trade name DPD6169 (manufactured by Union Carbide Co.) and the like],
Ethylene-acetic acid copolymer [eg, trade name Novatec EVALV241 (manufactured by Japan Polychem), etc.], polyvinylidene fluoride [eg, trade name Kynar711 (manufactured by Elf Atchem), etc.], vinylidene fluoride-tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer [For example, trade name KynarADS (manufactured by Elf Atchem) and the like] and the like can be mentioned. The weight average molecular weight Mw of such a thermoplastic polymer is preferably about 10,000 to 5,000,000.

【0032】熱可塑性高分子マトリックスとしては、ポ
リオレフィンを用いることが好ましく、中でも高密度ポ
リエチレンを用いることが好ましい。高密度ポリエチレ
ンとは密度が0.942g/cm3以上のものをいい、数
十気圧以下の中・低圧下、遷移金属触媒を用いて配位ア
ニオン重合で製造され、直鎖状である。
Polyolefin is preferably used as the thermoplastic polymer matrix, and high density polyethylene is particularly preferably used. The high-density polyethylene refers to one having a density of 0.942 g / cm 3 or more, which is produced by coordinated anionic polymerization using a transition metal catalyst under medium or low pressure of several tens of atmospheres or less and is linear.

【0033】高密度ポリエチレンのASTM D1238で定義さ
れるメルトフローレート(MFR)は、3.0g/10
min以下、特に1.5g/10min以下が好ましい。MF
Rがこれより高いと、溶融粘度が低すぎて、特性の安定
性に劣る傾向が見られる。MFRの下限は特にないが、
通常0.1g/10min程度である。
The melt flow rate (MFR) of high density polyethylene as defined by ASTM D1238 is 3.0 g / 10.
min or less, particularly preferably 1.5 g / 10 min or less. MF
If R is higher than this, the melt viscosity tends to be too low and the stability of properties tends to be poor. There is no particular lower limit of MFR,
Usually, it is about 0.1 g / 10 min.

【0034】本発明の熱可塑性高分子マトリックスは、
1種のみを用いても2種以上を併用してもかまわない
が、MFR3.0g/10min以下の高密度ポリエチレ
ンのみを用いることが好ましい。
The thermoplastic polymer matrix of the present invention comprises
Although only one kind may be used or two or more kinds may be used in combination, it is preferable to use only high density polyethylene having MFR of 3.0 g / 10 min or less.

【0035】本発明に用いる低分子有機化合物は、分子
量1000程度まで、好ましくは200〜800の結晶
性物質であり、融点mpが40℃以上100℃未満であ
れば特に制限はないが、常温(25℃程度の温度)で固
体であるものが好ましい。
The low molecular weight organic compound used in the present invention is a crystalline substance having a molecular weight of up to about 1000, preferably 200 to 800, and is not particularly limited as long as it has a melting point mp of 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C. Those that are solid at a temperature of about 25 ° C.) are preferable.

【0036】低分子有機化合物としては、ワックス(具
体的には、パラフィンワックスやマイクロクリスタリン
ワックス等の石油系ワックス、植物系ワックス、動物系
ワックス、鉱物系ワックスのような天然ワックス等)、
油脂(具体的には、脂肪または固体脂と称されるもの)
などがある。ワックスや油脂の成分は、炭化水素(具体
的には、炭素数22以上のアルカン系の直鎖炭化水素
等)、脂肪酸(具体的には、炭素数12以上のアルカン
系の直鎖炭化水素の脂肪酸等)、脂肪酸エステル(具体
的には、炭素数20以上の飽和脂肪酸とメチルアルコー
ル等の低級アルコールとから得られる飽和脂肪酸のメチ
ルエステル等)、脂肪酸アミド(具体的には、オレイン
酸アミド、エルカ酸アミドなどの不飽和脂肪酸アミド
等)、脂肪族アミン(具体的には、炭素数16以上の脂
肪族第1アミン)、高級アルコール(具体的には、炭素
数16以上のn−アルキルアルコール)などであるが、
これら自体を単独で低分子有機化合物として用いること
ができる。低分子有機化合物としては石油系ワックスが
好ましい。
Examples of the low molecular weight organic compound include waxes (specifically, petroleum waxes such as paraffin wax and microcrystalline wax, natural waxes such as plant wax, animal wax, and mineral wax),
Fats and oils (specifically, fats or solid fats)
and so on. The components of wax and fats and oils include hydrocarbons (specifically, alkane-based straight chain hydrocarbons having 22 or more carbon atoms) and fatty acids (specifically, alkane-based straight chain hydrocarbons having 12 or more carbon atoms). Fatty acid), fatty acid ester (specifically, saturated fatty acid methyl ester obtained from saturated fatty acid having 20 or more carbon atoms and lower alcohol such as methyl alcohol), fatty acid amide (specifically, oleic acid amide, Unsaturated fatty acid amides such as erucic acid amide), aliphatic amines (specifically, aliphatic primary amines having 16 or more carbon atoms), higher alcohols (specifically, n-alkyl alcohols having 16 or more carbon atoms) ) Etc.,
These can be used alone as a low molecular weight organic compound. Petroleum wax is preferred as the low molecular weight organic compound.

【0037】これらの低分子有機化合物は、市販されて
おり、市販品をそのまま用いることができる。
These low molecular weight organic compounds are commercially available, and commercially available products can be used as they are.

【0038】本発明では、動作温度が100℃未満のサ
ーミスタを目的としているため、低分子有機化合物とし
ては、融点mpが40℃以上100℃未満であるものを
用いる。このようなものとしては、パラフィンワックス
(例えば、テトラコサンC2450;mp49〜52℃、
ヘキサトリアコンタンC3674;mp73℃、商品名H
NP−10(日本精蝋社製);mp75℃、HNP−3
(日本精蝋社製);mp66℃など)、マイクロクリス
タリンワックス(例えば、商品名Hi−Mic−108
0(日本精蝋社製);mp83℃、Hi−Mic−10
45(日本精蝋社製);mp70℃、Hi−Mic20
45(日本精蝋社製);mp64℃、Hi−Mic30
90(日本精蝋社製);mp89℃、セラッタ104
(日本石油精製社製);mp96℃、155マイクロワ
ックス(日本石油精製社製);mp70℃など)、脂肪
酸(例えば、ベヘン酸(日本精化製);mp81℃、ス
テアリン酸(日本精化製);mp72℃、パルミチン酸
(日本精化製);mp64℃など)、脂肪酸エステル
(例えば、アラキン酸メチルエステル(東京化成製);
mp48℃など)、脂肪酸アミド(例えば、オレイン酸
アミド(日本精化製);mp76℃)などがある。ま
た、パラフィンワックスに樹脂類を配合した配合ワック
スやこの配合ワックスにマイクロクリスタリンワックス
を混合したものであって融点を40℃以上100℃未満
にしたものも好ましく用いることができる。
Since the present invention aims at a thermistor having an operating temperature of less than 100 ° C., a low molecular weight organic compound having a melting point mp of 40 ° C. or more and less than 100 ° C. is used. Examples thereof include paraffin wax (eg, tetracosane C 24 H 50 ; mp 49 to 52 ° C.,
Hexatriacontane C 36 H 74 ; mp 73 ° C, trade name H
NP-10 (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.); mp75 ° C., HNP-3
(Manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.); mp66 ° C., etc., Microcrystalline wax (for example, trade name Hi-Mic-108)
0 (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.); mp 83 ° C., Hi-Mic-10
45 (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.); mp 70 ° C., Hi-Mic 20
45 (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.); mp 64 ° C., Hi-Mic 30
90 (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.); mp 89 ° C., serrata 104
(Nippon Petroleum Refining Co., Ltd.); mp96 ° C., 155 microwax (Nippon Petroleum Refining Co., Ltd.); mp70 ° C.), fatty acids (eg, behenic acid (Nippon Seika); mp81 ° C., stearic acid (Nippon Seika) ); Mp72 ° C., palmitic acid (Nippon Seika); mp64 ° C., etc.), fatty acid ester (eg, arachidic acid methyl ester (Tokyo Kasei);
mp48 ° C.) and fatty acid amides (eg, oleic acid amide (Nippon Seika); mp76 ° C.). Further, a blended wax obtained by blending paraffin wax with a resin and a blended wax mixed with microcrystalline wax and having a melting point of 40 ° C. or more and less than 100 ° C. can be preferably used.

【0039】低分子有機化合物は、動作温度等によって
1種あるいは2種以上を選択して用いることができる。
The low molecular weight organic compounds may be used alone or in combination of two or more depending on the operating temperature and the like.

【0040】本発明に用いるスパイク状の突起を有する
導電性粒子は、1個、1個が鋭利な突起をもつ一次粒子
から形成されており、粒径の1/3〜1/50の高さの
円錘状のスパイク状の突起が1個の粒子に複数(通常1
0〜500個)存在するものである。その材質は金属、
特にNi等が好ましい。
The conductive particles having spike-like projections used in the present invention are formed of primary particles each having a sharp projection, and have a height of 1/3 to 1/50 of the particle diameter. There are multiple cone-shaped spike-shaped protrusions of one particle (usually 1
0 to 500) exist. The material is metal,
Ni or the like is particularly preferable.

【0041】このような導電性粒子は、1個、1個が個
別に存在する粉体であってもよいが、一次粒子が10〜
1000個程度鎖状に連なり二次粒子を形成しているこ
とが好ましい。鎖状のものには、一部一次粒子が存在し
てもよい。前者の例としては、スパイク状の突起をもつ
球状のニッケルパウダがあり、商品名INCO Typ
e 123ニッケルパウダ(インコ社製)として市販さ
れており、その平均粒径は3〜7μm 程度、見かけの密
度は1.8〜2.7g/cm3程度、比表面積は0.34
〜0.44m2/g程度である。
Such conductive particles may be powders in which one particle and one particle are individually present.
It is preferable that about 1000 particles are connected in a chain to form secondary particles. Some of the chain-like particles may have primary particles. An example of the former is a spherical nickel powder having spike-shaped protrusions, which has a trade name of INCO Type.
e 123 Nickel powder (manufactured by Inco), having an average particle size of about 3 to 7 μm, an apparent density of about 1.8 to 2.7 g / cm 3 , and a specific surface area of 0.34.
It is about 0.44 m 2 / g.

【0042】また、好ましく用いられる後者の例として
は、フィラメント状ニッケルパウダがあり、商品名IN
CO Type 210、255、270、287ニッ
ケルパウダ(インコ社製)として市販されており、この
うちINCO Type 255、270、287が好
ましい。そして、その一次粒子の平均粒径は、好ましく
は0.1μm 以上、より好ましくは0.5以上4.0μ
m以下程度である。これらのうち、一次粒子の平均粒径
は1.0以上4.0μm以下が最も好ましく、これに平
均粒径0.1μm 以上1.0μm未満のものを50重量
%以下混合してもよい。また、見かけの密度は0.3〜
1.0g/cm3程度、比表面積は0.4〜2.5m2/g
程度である。
The latter, which is preferably used, is a filamentary nickel powder, which has a trade name of IN.
It is commercially available as CO Type 210, 255, 270, 287 Nickel Powder (manufactured by Inco), and among these, INCO Type 255, 270, 287 is preferable. The average particle size of the primary particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 or more and 4.0 μm.
It is about m or less. Among these, the average particle size of the primary particles is most preferably 1.0 or more and 4.0 μm or less, and 50% by weight or less of particles having an average particle size of 0.1 μm or more and less than 1.0 μm may be mixed therein. The apparent density is 0.3-
About 1.0 g / cm 3 , specific surface area 0.4-2.5 m 2 / g
It is a degree.

【0043】なお、この場合の平均粒径はフィッシュー
・サブシーブ法で測定したものである。
The average particle size in this case is measured by the Fish-Subsieve method.

【0044】このような導電性粒子については、特開平
5−47503号公報、米国特許第5378407号明
細書に記載されている。
Such conductive particles are described in JP-A-5-47503 and US Pat. No. 5,378,407.

【0045】また、導電性粒子として、スパイク状の突
起を有する導電性粒子の他に、カーボンブラック、グラ
ファイト、炭素繊維、金属被覆カーボンブラック、グラ
ファイト化カーボンブラック、金属被覆炭素繊維等の炭
素系導電性粒子、球状、フレーク状、繊維状等の金属粒
子、異種金属被覆金属(銀コートニッケル等)粒子、炭
化タングステン、窒化チタン、窒化ジルコニウム、炭化
チタン、ホウ化チタン、ケイ化モリブデン等のセラミッ
ク系導電性粒子、また、特開平8−31554号、同9
−27383号公報に記載されている導電性チタン酸カ
リウムウィスカー等を添加してもよい。このような導電
性粒子は、スパイク状の突起を有する導電性粒子の25
重量%以下とすることが好ましい。
As the conductive particles, in addition to the conductive particles having spike-like protrusions, carbon-based conductive particles such as carbon black, graphite, carbon fiber, metal-coated carbon black, graphitized carbon black, and metal-coated carbon fiber. Particles, metallic particles in the form of spheres, flakes, fibers, etc., dissimilar metal-coated metal (silver-coated nickel, etc.) particles, ceramics such as tungsten carbide, titanium nitride, zirconium nitride, titanium carbide, titanium boride, molybdenum silicide, etc. Conductive particles, and JP-A-8-31554 and JP-A-8-31554
The conductive potassium titanate whiskers described in JP-A-273383 may be added. Such conductive particles are similar to those of conductive particles having spike-shaped protrusions.
It is preferable to set the content to be not more than weight%.

【0046】本発明における熱可塑性高分子マトリック
スと低分子有機化合物の混合比は、重量比で、熱可塑性
高分子1に対して低分子有機化合物0.2〜4倍である
ことが好ましい。この混合比が小さくなって低分子有機
化合物の量が少なくなると、抵抗変化率が十分得られに
くくなる。反対に大きくなって低分子有機化合物の量が
多くなると、低分子化合物が溶融する際に素体が大きく
変形する他、導電性粒子との混合が困難になる。導電性
粒子は、高分子マトリックスと低分子有機化合物の合計
重量の2〜5倍とすることが好ましい。この混合比が小
さくなって導電性粒子の量が少なくなると、非動作時の
室温抵抗を十分低くすることができなくなってくる。反
対に導電性粒子の量が多くなると、大きな抵抗変化率が
得られにくくなり、また、均一な混合が困難になって再
現性ある抵抗値が得られにくくなる。
The mixing ratio of the thermoplastic polymer matrix to the low molecular weight organic compound in the present invention is preferably 0.2 to 4 times the weight of the low molecular weight organic compound with respect to the thermoplastic polymer 1. If this mixing ratio becomes small and the amount of the low molecular weight organic compound becomes small, it becomes difficult to obtain a sufficient resistance change rate. On the contrary, when the amount of the low molecular weight organic compound becomes large and the amount of the low molecular weight organic compound increases, the element body is largely deformed when the low molecular weight compound is melted, and mixing with the conductive particles becomes difficult. The conductive particles are preferably 2 to 5 times the total weight of the polymer matrix and the low molecular weight organic compound. If this mixing ratio becomes small and the amount of conductive particles becomes small, it becomes impossible to sufficiently lower the room temperature resistance during non-operation. On the contrary, when the amount of the conductive particles is large, it becomes difficult to obtain a large rate of resistance change, and it becomes difficult to uniformly mix the particles, and it becomes difficult to obtain a reproducible resistance value.

【0047】混練は、熱可塑性高分子マトリックスの融
点以上の温度(好ましくは融点+5〜40℃の温度)で
行えばよい。具体的には公知の方法によればよく、ミル
等で5〜90分程度混練すればよい。また、あらかじめ
熱可塑性高分子と低分子有機化合物とを溶融混合または
溶媒中で溶解し混合してもよい。そして、この混練物に
シラン系カップリング剤を添加して架橋処理する。
The kneading may be carried out at a temperature not lower than the melting point of the thermoplastic polymer matrix (preferably melting point + 5 to 40 ° C.). Specifically, a known method may be used, and kneading may be performed for about 5 to 90 minutes with a mill or the like. Further, the thermoplastic polymer and the low molecular weight organic compound may be melt-mixed or dissolved in a solvent in advance and mixed. Then, a silane coupling agent is added to this kneaded product to perform a crosslinking treatment.

【0048】シラン系カップリング剤は、脱アルコール
および脱水により縮合可能であり、無機酸化物と化学結
合可能なアルコキシ基と、有機材料と親和性をもつか、
化学結合するビニル基または(メタ)アクリロイル基と
を分子中に有する。シラン系カップリング剤としては、
C=C結合含有トリアルコキシシランである。
The silane-based coupling agent can be condensed by dealcoholation and dehydration and has an affinity with an alkoxy group capable of chemically bonding with an inorganic oxide and with an organic material.
It has a vinyl group or a (meth) acryloyl group chemically bonded in the molecule. As a silane coupling agent,
C = C bond-containing trialkoxysilane.

【0049】アルコキシ基は炭素数が少ない方が好まし
く、メトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。C=C結
合を含有する基は、ビニル基または(メタ)アクリロイ
ル基であり、ビニル基が好ましい。これらの基は直接S
iに結合していても、炭素数1〜3の炭素鎖を介してS
iに結合していてもよい。
The alkoxy group preferably has a small number of carbon atoms, and a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable. The group containing a C = C bond is a vinyl group or a (meth) acryloyl group, and a vinyl group is preferable. These groups are directly S
Even if bonded to i, S is bonded through a carbon chain having 1 to 3 carbon atoms.
It may be bonded to i.

【0050】シラン系カップリング剤は、常温で液体で
あるものが好ましい。
The silane coupling agent is preferably liquid at room temperature.

【0051】シラン系カップリング剤としては、具体的
には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラ
ン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン等が挙げられる。中でも、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランが好まし
い。
Specific examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- ( Examples thereof include (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane. Of these, vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane are preferable.

【0052】カップリング処理は、熱可塑性高分子マト
リックス、低分子有機化合物、導電性粒子の混練物中
に、熱可塑性高分子と低分子有機化合物の合計重量の
0.1〜5重量%のシラン系カップリング剤を滴下し、
よく混合した後、水架橋する。カップリング剤がこれよ
り少量の場合は架橋処理の効果が小さくなり、多量の場
合はその効果に変化が見られなくなってくる。ビニル基
をもつシラン系カップリング剤を用いる場合は、カップ
リング剤の5〜20重量%の有機過酸化物、例えば、
2,2−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタン、ジクミ
ルパーオキサイド、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシ
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等をともに混
入させ、ビニル基を介して有機物、つまり熱可塑性高分
子と低分子有機化合物とにグラフト化を行う。シラン系
カップリング剤の添加は、熱可塑性高分子と低分子有機
化合物と導電性粒子とが十分均一に混練された後に行
う。
The coupling treatment is carried out in the kneaded product of the thermoplastic polymer matrix, the low molecular weight organic compound and the conductive particles, with 0.1 to 5% by weight of silane based on the total weight of the thermoplastic polymer and the low molecular weight organic compound. Drop the system coupling agent,
After mixing well, it is water-crosslinked. When the amount of the coupling agent is smaller than that, the effect of the crosslinking treatment becomes small, and when the amount of the coupling agent is large, no change is observed in the effect. When using a silane coupling agent having a vinyl group, 5 to 20% by weight of the coupling agent of an organic peroxide, for example,
2,2-di- (t-butylperoxy) butane, dicumyl peroxide, 1,1-di-t-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane, etc. were mixed together and the vinyl group was added. Then, the organic substance, that is, the thermoplastic polymer and the low molecular weight organic compound are grafted. The silane coupling agent is added after the thermoplastic polymer, the low molecular weight organic compound, and the conductive particles are sufficiently and uniformly kneaded.

【0053】混練物は所定の厚さのシート形状にプレス
成型し、水の存在下で架橋処理を行う。具体的には、触
媒としてジブチルすずジラウレート、ジオクチルすずジ
ラウレート、酢酸すず、オクト酸すず、オクト酸亜鉛な
どの金属カルボキシレートを用い、温水中で6〜8時間
成形体を浸積して行う。また、触媒をサーミスタ素体に
混練し、高温高湿度下において架橋を行うこともでき
る。触媒としては、中でもジブチルすずジラウレートを
用いることが好ましい。架橋温度は、繰り返し動作等の
特性の安定性を高めるために、低分子有機化合物の融点
以下で行うことが好ましい。そして、架橋処理した後、
成形体を乾燥し、Cu、Ni等の金属電極を熱圧着して
サーミスタ素子とする。
The kneaded product is press-molded into a sheet having a predetermined thickness and subjected to a crosslinking treatment in the presence of water. Specifically, a metal carboxylate such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, tin acetate, tin octoate, or zinc octoate is used as a catalyst, and the compact is immersed in warm water for 6 to 8 hours. It is also possible to knead the catalyst in the thermistor body and carry out crosslinking under high temperature and high humidity. Among them, dibutyltin dilaurate is preferably used as the catalyst. The crosslinking temperature is preferably below the melting point of the low molecular weight organic compound in order to enhance the stability of characteristics such as repeated operation. And after the cross-linking treatment,
The molded body is dried, and a metal electrode such as Cu or Ni is thermocompression bonded to obtain a thermistor element.

【0054】本発明の有機質正特性サーミスタは、非動
作時における初期抵抗が低く、その室温比抵抗値は10
-2〜100Ω cm程度であり、動作時における抵抗の立ち
上がりが急峻であり、非動作時から動作時にかけての抵
抗変化率が6桁以上と大きい。また、80℃80%RH
で500時間(東京では20年以上、那覇では10年以
上の湿度寿命)以上経過してもその特性はほとんど劣化
しない。
The organic positive temperature coefficient thermistor of the present invention has a low initial resistance when not in operation, and its room temperature specific resistance value is 10%.
-2 is about to 10 0 Omega cm, a steep rise in resistance at the time of operation, the rate of resistance change over the operation from during non-operation is as large as 6 digits or more. Also, 80 ° C 80% RH
After 500 hours (20 years or more in Tokyo, 10 years or more in Naha), its characteristics hardly deteriorate.

【0055】また、本発明の有機質サーミスタには、高
分子マトリックス、低分子有機化合物の熱劣化を防止す
るために酸化防止剤を混入することもでき、フェノール
類、有機イオウ類、フォスファイト類(有機リン系)な
どが用いられる。
Further, the organic thermistor of the present invention may be mixed with an antioxidant in order to prevent thermal deterioration of the polymer matrix and the low molecular weight organic compound, such as phenols, organic sulfurs and phosphites ( Organophosphorus) or the like is used.

【0056】また、良熱導電性添加物として、特開昭5
7−12061号公報に記載されている窒化ケイ素、シ
リカ、アルミナ、粘土(雲母、タルク等)、特公平7−
77161号公報に記載されているシリコン、炭化ケイ
素、窒化ケイ素、ベリリア、セレン、特開平5−217
711号公報に記載されている無機窒化物、酸化マグネ
シウム等を添加してもよい。
Further, as a good thermal conductive additive, Japanese Patent Laid-Open No.
7-12061, silicon nitride, silica, alumina, clay (mica, talc, etc.), Japanese Patent Publication No. 7-
Silicon, silicon carbide, silicon nitride, beryllia, selenium described in Japanese Patent No. 77161, JP-A-5-217
Inorganic nitrides, magnesium oxide and the like described in Japanese Patent No. 711 may be added.

【0057】耐久性向上のために、特開平5−2261
12号公報に記載されている酸化チタン、酸化鉄、酸化
亜鉛、シリカ、酸化マグネシウム、アルミナ、酸化クロ
ム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、水酸化カルシウ
ム、酸化鉛、特開平6−68963号公報に記載されて
いる高比誘電率の無機固体、具体的には、チタン酸バリ
ウム、チタン酸ストロンチウム、ニオブ酸カリウム等を
添加してもよい。
To improve durability, Japanese Patent Laid-Open No. 5-2261
Titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, silica, magnesium oxide, alumina, chromium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, calcium hydroxide, lead oxide described in JP-A-6-68963. Inorganic solid having a high relative dielectric constant, specifically, barium titanate, strontium titanate, potassium niobate or the like may be added.

【0058】耐電圧改善のために、特開平4−7438
3号公報に記載されている炭化ホウ素等を添加してもよ
い。
To improve the withstand voltage, Japanese Patent Laid-Open No. 7438/1992.
Boron carbide and the like described in Japanese Patent Publication No. 3 may be added.

【0059】強度改善のために、特開平5−74603
号公報に記載されている水和チタン酸アルカリ、特開平
8−17563号公報に記載されている酸化チタン、酸
化鉄、酸化亜鉛、シリカ等を添加してもよい。
In order to improve the strength, JP-A-5-74603 is used.
The hydrated alkali titanate described in JP-A-8-17563 and the titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, silica and the like described in JP-A-8-17563 may be added.

【0060】結晶核剤として、特公昭59−10553
号公報に記載されているハロゲン化アルカリ、メラミン
樹脂、特開平6−76511号公報に記載されている安
息香酸、ジベンジリデンソルビトール、安息香酸金属
塩、特開平7−6864号公報に記載されているタル
ク、ゼオライト、ジベンジリデンソルビトール、特開平
7−263127号公報に記載されているソルビトール
誘導体(ゲル化剤)、アスファルト、さらには、リン酸
ビス(4−t−ブチルフェニル)ナトリウム等を添加し
てもよい。
As a crystal nucleating agent, JP-B-59-10553
Alkali halide, melamine resin described in JP-A-6-76511, benzoic acid, dibenzylidene sorbitol, metal benzoate described in JP-A-6-76511, and JP-A-7-6864. Talc, zeolite, dibenzylidene sorbitol, sorbitol derivative (gelling agent) described in JP-A-7-263127, asphalt, and bis (4-t-butylphenyl) sodium phosphate are added. Good.

【0061】ア−ク調節制御剤としては、特公平4−2
8744号公報に記載されているアルミナ、マグネシア
水和物、特開昭61−250058号公報に記載されて
いる金属水和物、炭化ケイ素等を添加してもよい。
As an arc control agent, Japanese Patent Publication 4-2
Alumina, magnesia hydrate described in Japanese Patent No. 8744, metal hydrate described in JP-A No. 61-250058, silicon carbide and the like may be added.

【0062】金属害防止剤として、特開平7−6864
号公報に記載されているイルガノックスMD1024
(チバガイギー製)等を添加してもよい。
As a metal damage inhibitor, JP-A-7-6864 is known.
Irganox MD1024 described in Japanese Patent Publication No.
(Manufactured by Ciba Geigy) or the like may be added.

【0063】また、難燃剤として、特開昭61−239
581号公報に記載されている三酸化二アンチモン、水
酸化アルミニウム、特開平5−74603号公報に記載
されている水酸化マグネシウム、さらには、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロ
パン、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)等のハロゲン
を含有する有機化合物(重合体を含む)、リン酸アンモ
ニウム等のリン系化合物等を添加してもよい。
Further, as a flame retardant, JP-A-61-239
Diantimony trioxide and aluminum hydroxide described in Japanese Patent No. 581, magnesium hydroxide described in JP-A-5-74603, and further 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-). Organic compounds (including polymers) containing halogen such as dibromophenyl) propane and polyvinylidene fluoride (PVDF), phosphorus-based compounds such as ammonium phosphate and the like may be added.

【0064】これら以外にも、硫化亜鉛、塩基性炭酸マ
グネシウム、酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケ
イ酸マグネシウム、アルミノシリケート粘土(雲母、タ
ルク、カオリナイト、モンモリロナイト等)、ガラス
粉、ガラスフレーク、ガラス繊維、硫酸カルシウム等を
添加してもよい。
In addition to these, zinc sulfide, basic magnesium carbonate, aluminum oxide, calcium silicate, magnesium silicate, aluminosilicate clay (mica, talc, kaolinite, montmorillonite, etc.), glass powder, glass flakes, glass fiber , Calcium sulfate, etc. may be added.

【0065】これらの添加剤は、高分子マトリックス、
低分子有機化合物および導電性粒子の合計重量の25重
量%以下であることが好ましい。
These additives are a polymer matrix,
It is preferably 25% by weight or less based on the total weight of the low molecular weight organic compound and the conductive particles.

【0066】[0066]

【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに示
し、本発明を具体的に説明する。 <実施例1>高分子マトリックスとして高密度ポリエチ
レン(日本ポリケム製、商品名HY540;MFR1.
0g/10min、融点135℃)、低分子有機化合物と
してマイクロクリスタリンワックス(日本精蝋社製、H
i−Mic−1080;融点83℃)、導電性粒子とし
てフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、商品
名Type255ニッケルパウダ)を用いた。導電性粒
子の平均粒径は2.2〜2.8μm 、見かけの密度は
0.5〜0.65g/cm3、比表面積は0.68m2/gであ
る。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below together with comparative examples to specifically describe the present invention. <Example 1> High-density polyethylene as a polymer matrix (manufactured by Nippon Polychem, trade name HY540; MFR1.
0g / 10min, melting point 135 ℃, as a low molecular weight organic compound microcrystalline wax (Nippon Seiwa Co., Ltd., H
i-Mic-1080; melting point 83 ° C.), and filamentous nickel powder (manufactured by INCO, trade name Type 255 nickel powder) was used as the conductive particles. The average particle diameter of the conductive particles is 2.2 to 2.8 μm, the apparent density is 0.5 to 0.65 g / cm 3 , and the specific surface area is 0.68 m 2 / g.

【0067】高密度ポリエチレンと、その4倍重量のニ
ッケルパウダとをミル中、150℃で5分間混練した。
そして、高密度ポリエチレンの1.5倍重量のワックス
と、ワックスの4倍重量のニッケルパウダとをさらに加
えて混練した。シラン系カップリング剤として、ポリエ
チレンとワックスの合計重量の1.0重量%のビニルト
リエトキシシラン(信越化学工業製、製品名KBE10
03)と、有機過酸化物として、ビニルトリエトキシシ
ランの20重量%の2,2−ジ−(t−ブチルパーオキ
シ)ブタン(化薬アクゾ製、製品名トリゴノックスD−
T50)とを混練物中に滴下し、60分間混練した。
High-density polyethylene and 4 times its weight of nickel powder were kneaded in a mill at 150 ° C. for 5 minutes.
Then, 1.5 times the weight of the high-density polyethylene wax and 4 times the weight of the nickel powder were further added and kneaded. As a silane coupling agent, 1.0% by weight of the total weight of polyethylene and wax is vinyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name KBE10.
03) and 20% by weight of vinyltriethoxysilane as an organic peroxide, 2,2-di- (t-butylperoxy) butane (manufactured by Kayaku Akzo, product name Trigonox D-
T50) was added dropwise to the kneaded product and kneaded for 60 minutes.

【0068】この混練物を150℃で厚さ1.1mmのシ
ート状に熱プレス機で成形した。そして、このシートを
ジブチルすずジラウレート(東京化成製)20重量%乳
濁水液に浸積し、65℃で8時間架橋処理を行った。
This kneaded product was formed into a sheet having a thickness of 1.1 mm at 150 ° C. by a hot press machine. Then, this sheet was immersed in 20% by weight of dibutyltin dilaurate (manufactured by Tokyo Kasei) in an emulsion water solution and subjected to a crosslinking treatment at 65 ° C. for 8 hours.

【0069】この架橋処理したシートを乾燥後、両面を
厚さ30μm のNi箔電極で挟み、熱プレス機を用いて
150℃でシートにNi箔を圧着し、全体で厚さ1mmの
成型品を得た。そして、これを直径10mmの円盤状に打
ち抜き、サーミスタ素子を得た。このサーミスタ素子の
断面図を図1に示す。図1に示されるように、サーミス
タ素子はNi箔から形成された電極11間に、低分子有
機化合物と高分子マトリックスと導電性粒子とを含む混
練成型シートであるサーミスタ素体12を挟み込んだも
のである。
After the crosslinked sheet was dried, both sides were sandwiched by Ni foil electrodes having a thickness of 30 μm, and the Ni foil was pressure-bonded to the sheet at 150 ° C. by using a heat press machine to form a molded product having a thickness of 1 mm. Obtained. Then, this was punched into a disk shape having a diameter of 10 mm to obtain a thermistor element. A cross-sectional view of this thermistor element is shown in FIG. As shown in FIG. 1, the thermistor element has a thermistor element body 12, which is a kneading molded sheet containing a low molecular weight organic compound, a polymer matrix and conductive particles, sandwiched between electrodes 11 formed of Ni foil. Is.

【0070】この素子を恒温槽内で加熱、冷却し、所定
の温度で、4端子法で抵抗値を測定して温度−抵抗曲線
を得た。この結果を図2に示す。
This element was heated and cooled in a constant temperature bath, and the resistance value was measured by the 4-terminal method at a predetermined temperature to obtain a temperature-resistance curve. The result is shown in FIG.

【0071】室温(25℃)抵抗値は2.0×10-3Ω
(1.6×10-2Ω cm)で、75℃付近で抵抗の急激
な上昇が見られ、最大抵抗値は1.6×105Ω(1.
3×106Ω cm)となり、抵抗変化率は7.9桁であっ
た。
Room temperature (25 ° C.) resistance value is 2.0 × 10 −3 Ω
At (1.6 × 10 -2 Ω cm), a sharp increase in resistance was observed around 75 ° C., and the maximum resistance value was 1.6 × 10 5 Ω (1.
3 × 10 6 Ωcm), and the resistance change rate was 7.9 digits.

【0072】この素子を、80℃80%RHに設定した
恒温恒湿槽に放置して加速試験を行った。各放置時間に
おける室温抵抗と抵抗変化率を図3に示す。500時間
後の室温(25℃)抵抗値は5.3×10-3Ω(4.2
×10-2Ω cm)、抵抗変化率は7.2桁であり、室温
抵抗値、抵抗変化率はほとんど変化せずに十分なPTC
特性が保たれていた。
This device was left in a constant temperature and constant humidity chamber set at 80 ° C. and 80% RH for an acceleration test. FIG. 3 shows the room temperature resistance and the resistance change rate at each standing time. After 500 hours, the room temperature (25 ° C.) resistance value is 5.3 × 10 −3 Ω (4.2
× 10 -2 Ω cm), resistance change rate is 7.2 digits, room temperature resistance value, resistance change rate is almost unchanged
The characteristics were retained.

【0073】80℃80%RH、500時間の加速試験
は、絶対湿度換算で、東京では20年以上、那覇では1
0年以上の湿度寿命に相当する。絶対湿度換算につい
て、80℃80%RH条件下での寿命から25℃60%
RH条件下での寿命への計算を例にして説明する。80
℃80%RHの絶対湿度は232.5g/m3、25℃
60%RHの絶対湿度は13.8g/m3である。加速
定数は2として、次の計算式で求める。 (232.5/13.8)2≒283.85 この場合、80℃80%RH条件下での寿命が500hr
であれば、25℃60%RH条件下での寿命は 500hr×283.85=141925hr≒5914日
≒16.2年 となる。東京、那覇の湿度は、月々の平均相対湿度を絶
対湿度換算し、その合計を年間の湿度とした。
The accelerated test at 80 ° C. and 80% RH for 500 hours was converted to absolute humidity in Tokyo for 20 years or more and in Naha as 1
Equivalent to a humidity life of 0 years or more. Regarding absolute humidity conversion, from life at 80 ° C and 80% RH, 25 ° C and 60%
The calculation of the life under the RH condition will be described as an example. 80
Absolute humidity of ℃ 80% RH 232.5g / m 3 , 25 ℃
The absolute humidity at 60% RH is 13.8 g / m 3 . The acceleration constant is set to 2 and is calculated by the following calculation formula. (232.5 / 13.8) 2 ≈ 283.85 In this case, the life under conditions of 80 ° C and 80% RH is 500 hours.
Then, the life under the condition of 25 ° C. and 60% RH is 500 hr × 283.85 = 141925 hr≈5914 days≈16.2 years. Regarding the humidity in Tokyo and Naha, the monthly average relative humidity was converted into absolute humidity, and the total was taken as the annual humidity.

【0074】<実施例2>低分子非水溶性有機化合物と
してパラフィンワックス(日本精蝋社製、商品名HNP
−10、融点75℃)を用いた他は実施例1と同様にし
てサーミスタ素子を得た。そして、実施例1と同様にし
て温度−抵抗曲線を得、加速試験を行った。
Example 2 Paraffin wax (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd., trade name HNP) as a low molecular weight non-water-soluble organic compound
A thermistor element was obtained in the same manner as in Example 1 except that -10, melting point 75 ° C) was used. Then, in the same manner as in Example 1, a temperature-resistance curve was obtained and an acceleration test was performed.

【0075】この素子の室温(25℃)抵抗値は2.0
×10-3Ω(1.6×10-2Ω cm)で、75℃付近で
抵抗の急激な上昇が見られ、最大抵抗値は7.7×10
6Ω(6.0×107Ω cm)となり、抵抗変化率は9.
6桁であった。
The room temperature (25 ° C.) resistance value of this element is 2.0.
At × 10 -3 Ω (1.6 × 10 -2 Ω cm), a sharp increase in resistance was observed around 75 ° C, and the maximum resistance value was 7.7 × 10
It becomes 6 Ω (6.0 × 10 7 Ω cm), and the resistance change rate is 9.
It was 6 digits.

【0076】80℃80%RH加速試験では、500時
間後の室温抵抗値は6.2×10-3Ω(4.9×10-2
Ω cm)、抵抗変化率は8.7桁であり、室温抵抗値、
抵抗変化率はほとんど変化せずに十分なPTC特性が保
たれていた。
In the 80 ° C. 80% RH acceleration test, the room temperature resistance value after 500 hours was 6.2 × 10 −3 Ω (4.9 × 10 −2).
Ω cm), resistance change rate is 8.7 digits, room temperature resistance value,
The rate of resistance change hardly changed, and sufficient PTC characteristics were maintained.

【0077】<実施例3>高分子マトリックスとして高
密度ポリエチレン(日本ポリケム製、商品名HY42
0;MFR0.4g/10min、融点134℃)を用い
た他は実施例1と同様にしてサーミスタ素子を得た。そ
して、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得、加速
試験を行った。
Example 3 High-density polyethylene (manufactured by Nippon Polychem, trade name HY42) as a polymer matrix
0: MFR 0.4 g / 10 min, melting point 134 ° C.) was used to obtain a thermistor element in the same manner as in Example 1. Then, in the same manner as in Example 1, a temperature-resistance curve was obtained and an acceleration test was performed.

【0078】この素子の室温(25℃)抵抗値は4.0
×10-3Ω(3.1×10-2Ω cm)で、75℃付近で
抵抗の急激な上昇が見られ、最大抵抗値は6.0×10
4Ω(4.7×105Ω cm)となり、抵抗変化率は7.
2桁であった。
The room temperature (25 ° C.) resistance value of this element is 4.0.
At × 10 -3 Ω (3.1 × 10 -2 Ω cm), a sharp increase in resistance was observed at around 75 ° C, and the maximum resistance value was 6.0 × 10.
4 Ω (4.7 × 10 5 Ω cm), and the resistance change rate was 7.
It was two digits.

【0079】80℃80%RH加速試験では、500時
間後の室温抵抗値は7.5×10-3Ω(5.9×10-2
Ω cm)、抵抗変化率は6.5桁であり、室温抵抗値、
抵抗変化率はほとんど変化せずに十分なPTC特性が保
たれていた。
In the 80 ° C. 80% RH accelerated test, the room temperature resistance value after 500 hours was 7.5 × 10 −3 Ω (5.9 × 10 −2).
Ω cm), resistance change rate is 6.5 digits, room temperature resistance value,
The rate of resistance change hardly changed, and sufficient PTC characteristics were maintained.

【0080】<比較例1>シラン系カップリング剤と有
機過酸化物とを加えず、架橋処理を行わなかった他は実
施例1と同様にしてサーミスタ素子を得た。
Comparative Example 1 A thermistor element was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent and the organic peroxide were not added and the crosslinking treatment was not performed.

【0081】実施例1と同様にしてこのサンプルの温度
−抵抗曲線を得た。この素子の室温(25℃)抵抗値は
3.0×10-3Ω(2.4×10-2Ω cm)で、75℃
付近で抵抗の急激な上昇が見られ、最大抵抗値は8.2
×104Ω(6.4×105Ωcm)となり、抵抗変化率は
7.4桁であった。
The temperature-resistance curve of this sample was obtained in the same manner as in Example 1. The resistance value of this element at room temperature (25 ° C) is 3.0 x 10 -3 Ω (2.4 x 10 -2 Ω cm) and 75 ℃.
A sharp rise in resistance was seen in the vicinity, and the maximum resistance value was 8.2.
It was × 10 4 Ω (6.4 × 10 5 Ωcm), and the resistance change rate was 7.4 digits.

【0082】実施例1と同様にして、80℃80%RH
でこの素子の加速試験を行った。各放置時間における室
温抵抗と抵抗変化率を図4に示す。500時間後の室温
抵抗値は3.4×10-2Ω(2.7×10-1Ω cm)で
初期値から10倍以上増加し、抵抗変化率は5.4桁に
減少した。
In the same manner as in Example 1, 80 ° C. 80% RH
Then, the acceleration test of this device was performed. FIG. 4 shows the room temperature resistance and the resistance change rate at each standing time. After 500 hours, the room temperature resistance value was 3.4 × 10 −2 Ω (2.7 × 10 −1 Ω cm), which was more than 10 times the initial value, and the resistance change rate decreased to 5.4 digits.

【0083】<比較例2>シラン系カップリング剤と有
機過酸化物とを加えず、架橋処理を行わなかった他は実
施例2と同様にしてサーミスタ素子を得た。そして、実
施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得、加速試験を行
った。
Comparative Example 2 A thermistor element was obtained in the same manner as in Example 2 except that the silane coupling agent and the organic peroxide were not added and the crosslinking treatment was not performed. Then, in the same manner as in Example 1, a temperature-resistance curve was obtained and an acceleration test was performed.

【0084】この素子の室温(25℃)抵抗値は2.0
×10-3Ω(1.6×10-2Ω cm)で、75℃付近で
抵抗の急激な上昇が見られ、最大抵抗値は8.0×10
7Ω(6.3×108Ω cm)となり、抵抗変化率は1
0.6桁であった。
The room temperature (25 ° C.) resistance value of this element is 2.0.
At × 10 -3 Ω (1.6 × 10 -2 Ω cm), a sharp increase in resistance was observed at around 75 ° C, and the maximum resistance value was 8.0 × 10.
It becomes 7 Ω (6.3 × 10 8 Ω cm), and the resistance change rate is 1
It was 0.6 digit.

【0085】80℃80%RH加速試験では、500時
間後の室温抵抗値は7.7Ω(60.5Ω cm)、抵抗
変化率は7.1桁であり、室温抵抗値、抵抗変化率とも
に著しい劣化が見られた。
In the 80 ° C. 80% RH acceleration test, the room temperature resistance value after 500 hours was 7.7 Ω (60.5 Ω cm), and the resistance change rate was 7.1 digits. Both the room temperature resistance value and the resistance change rate were remarkable. Deterioration was seen.

【0086】<比較例3>高分子マトリックスとして低
密度ポリエチレン(日本ポリケム製、商品名LC50
0;MFR4.0g/10min、融点106℃)を用い
た他は実施例1と同様にしてサーミスタ素子を得た。そ
して、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得、加速
試験を行った。
Comparative Example 3 Low density polyethylene (manufactured by Nippon Polychem, trade name LC50) as a polymer matrix
0; MFR 4.0 g / 10 min, melting point 106 ° C.) was used to obtain a thermistor element in the same manner as in Example 1. Then, in the same manner as in Example 1, a temperature-resistance curve was obtained and an acceleration test was performed.

【0087】この素子の室温(25℃)抵抗値は3.0
×10-3Ω(2.4×10-2Ω cm)で、80℃付近で
抵抗の急激な上昇が見られ、最大抵抗値は1.0×10
9Ω(7.8×109Ω cm)以上となり、抵抗変化率は
11桁以上であった。
The room temperature (25 ° C.) resistance value of this element is 3.0.
At × 10 -3 Ω (2.4 × 10 -2 Ω cm), a sharp increase in resistance was observed around 80 ° C, and the maximum resistance value was 1.0 × 10
It was 9 Ω (7.8 × 10 9 Ω cm) or more, and the resistance change rate was 11 digits or more.

【0088】80℃80%RH加速試験では、100時
間後の最大抵抗値は1.0×109Ω以上であったが、
室温抵抗値は7.0×10-1Ω(5.5Ω cm)で著し
く増加した。
In the 80 ° C. 80% RH acceleration test, the maximum resistance value after 100 hours was 1.0 × 10 9 Ω or more.
The room temperature resistance value was 7.0 × 10 −1 Ω (5.5 Ω cm), which was a remarkable increase.

【0089】<比較例4>高分子マトリックスとして高
密度ポリエチレン(日本ポリケム製、商品名HJ36
0;MFR6.0g/10min、融点131℃)を用い
た他は実施例1と同様にしてサーミスタ素子を得た。そ
して、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得、加速
試験を行った。
<Comparative Example 4> High density polyethylene (manufactured by Nippon Polychem, trade name HJ36 as a polymer matrix
0; MFR 6.0 g / 10 min, melting point 131 ° C.) was used to obtain a thermistor element in the same manner as in Example 1. Then, in the same manner as in Example 1, a temperature-resistance curve was obtained and an acceleration test was performed.

【0090】この素子の室温(25℃)抵抗値は3.8
×10-3Ω(3.0×10-2Ω cm)で、75℃付近で
抵抗の急激な上昇が見られ、最大抵抗値は8.0×10
6Ω(6.3×107Ω cm)となり、抵抗変化率は9.
3桁であった。
The room temperature (25 ° C.) resistance value of this element was 3.8.
At × 10 -3 Ω (3.0 × 10 -2 Ω cm), a sharp increase in resistance was observed at around 75 ° C, and the maximum resistance value was 8.0 × 10.
It becomes 6 Ω (6.3 × 10 7 Ω cm), and the resistance change rate is 9.
It was three digits.

【0091】80℃80%RH加速試験では、500時
間後の室温抵抗値は6.4×10-3Ω(5.0×10-2
Ω cm)であまり変化しなかったが、温度上昇とともに
抵抗値が増加するものの初期に見られた明確な抵抗値の
転移点が認められず、75℃での抵抗値は1.3×10
-1Ω、室温からの変化率は1.3桁であった。
In the 80 ° C. 80% RH accelerated test, the room temperature resistance value after 500 hours was 6.4 × 10 −3 Ω (5.0 × 10 −2).
Ω cm) did not change so much, but the resistance value increased with temperature, but the clear transition point of the resistance value seen in the early stage was not recognized, and the resistance value at 75 ° C was 1.3 x 10
The rate of change from room temperature to -1 Ω was 1.3 digits.

【0092】実施例1〜3、比較例1〜4の加速試験前
後の室温抵抗値、抵抗変化率を表1にまとめる。なお、
高分子マトリックスのメルトフローレート(MFR)、
低分子有機化合物の融点mpを併記する。
Table 1 shows the room temperature resistance values and resistance change rates before and after the acceleration test of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4. In addition,
Polymer matrix melt flow rate (MFR),
The melting point mp of the low molecular weight organic compound is also shown.

【0093】[0093]

【表1】 [Table 1]

【0094】実施例1〜3において、シラン系カップリ
ング剤にビニルトリメトキシシランを用いても、それぞ
れ、ビニルトリエトキシシランを用いた実施例1〜3と
同等の結果が得られた。また、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリエトキシシランを用いても同様の効果が得られた。
In Examples 1 to 3, even when vinyltrimethoxysilane was used as the silane coupling agent, the same results as in Examples 1 to 3 using vinyltriethoxysilane were obtained. The same effect was obtained by using γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropyltriethoxysilane.

【0095】[0095]

【発明の効果】本発明によれば、十分低い室温抵抗が得
られ、動作時と非動作時の抵抗変化率が大きく、100
℃未満で動作し、温度−抵抗曲線のヒステリシスが小さ
く、動作温度の調整が容易であり、しかも、特性安定性
が高い有機質正特性サーミスタを提供することができ
る。
According to the present invention, a sufficiently low room temperature resistance can be obtained, and the rate of change in resistance during operation and non-operation is large.
It is possible to provide an organic positive temperature coefficient thermistor which operates at a temperature of less than ° C, has a small hysteresis of the temperature-resistance curve, is easy to adjust the operating temperature, and has high characteristic stability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】有機質正特性サーミスタ素子の概略断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an organic positive temperature coefficient thermistor element.

【図2】実施例1のサーミスタ素子の温度−抵抗曲線で
ある。
2 is a temperature-resistance curve of the thermistor element of Example 1. FIG.

【図3】実施例1のサーミスタ素子の80℃80%RH
加速試験の各放置時間における室温抵抗と抵抗変化率で
ある。
FIG. 3 is a thermistor element of Example 1 at 80 ° C. and 80% RH.
The room temperature resistance and the rate of resistance change at each standing time in the acceleration test.

【図4】比較例1のサーミスタ素子の80℃80%RH
加速試験の各放置時間における室温抵抗と抵抗変化率で
ある。
FIG. 4 is a thermistor element of Comparative Example 1 at 80 ° C. and 80% RH.
The room temperature resistance and the rate of resistance change at each standing time in the acceleration test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 電極 12 サーミスタ素体 11 electrodes 12 Thermistor body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−69410(JP,A) 特開 平5−47503(JP,A) 特開 平10−116702(JP,A) 特開 平7−263202(JP,A) 特開 平2−156502(JP,A) 特開 昭62−51184(JP,A) 特開 平1−231284(JP,A) 特開 平3−132001(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01C 7/02 - 7/22 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) References JP-A-9-69410 (JP, A) JP-A-5-47503 (JP, A) JP-A-10-116702 (JP, A) JP-A-7- 263202 (JP, A) JP 2-156502 (JP, A) JP 62-51184 (JP, A) JP 1-231284 (JP, A) JP 3-132001 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01C 7/ 02-7/22

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 熱可塑性高分子マトリックス、融点が4
0℃以上100℃未満の低分子有機化合物およびスパイ
ク状の突起を有する導電性粒子を混練し、この混練物
を、ビニル基または(メタ)アクリロイル基と、アルコ
キシ基とを有するシラン系カップリング剤で架橋処理し
て有機質正特性サーミスタを得る有機質正特性サーミス
タの製造方法。
1. A thermoplastic polymer matrix having a melting point of 4
A silane coupling agent having a vinyl group or a (meth) acryloyl group and an alkoxy group is obtained by kneading a low-molecular organic compound having a temperature of 0 ° C. or more and less than 100 ° C. and conductive particles having spike-like protrusions. A method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor, which is obtained by cross-linking with an organic positive temperature coefficient thermistor.
【請求項2】 前記シラン系カップリング剤がビニルト
リメトキシシランまたはビニルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシランまたはγ−メ
タクリロキシプロピルエトキシシランである請求項1の
有機質正特性サーミスタの製造方法。
2. The silane coupling agent is vinyltrimethoxysilane or vinyltriethoxysilane, γ
A method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 1, which is -methacryloxypropylmethoxysilane or γ-methacryloxypropylethoxysilane.
【請求項3】 前記低分子有機化合物の重量平均分子量
が1,000以下である請求項1または2の有機質正特
性サーミスタの製造方法。
3. The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 1, wherein the low molecular weight organic compound has a weight average molecular weight of 1,000 or less.
【請求項4】 前記低分子有機化合物が石油系ワックス
である請求項1〜3のいずれかの有機質正特性サーミス
タの製造方法。
4. The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 1, wherein the low molecular weight organic compound is a petroleum wax.
【請求項5】 前記スパイク状の突起を有する導電性粒
子が鎖状に連なっている請求項1〜4のいずれかの有機
質正特性サーミスタの製造方法。
5. The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 1, wherein the conductive particles having the spike-shaped protrusions are connected in a chain.
【請求項6】 前記熱可塑性高分子マトリックスがポリ
オレフィンである請求項1〜5のいずれかの有機質正特
性サーミスタの製造方法
6. The method for producing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 1, wherein the thermoplastic polymer matrix is polyolefin.
【請求項7】 前記ポリオレフィンが高密度ポリエチレ
ンである請求項6の有機質正特性サーミスタの製造方
法。
7. The method for manufacturing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 6, wherein the polyolefin is high density polyethylene.
【請求項8】 前記高密度ポリエチレンのメルトフロー
レートが3.0g/10min以下である請求項7の有機
質正特性サーミスタの製造方法。
8. The method for manufacturing an organic positive temperature coefficient thermistor according to claim 7, wherein the high-density polyethylene has a melt flow rate of 3.0 g / 10 min or less.
【請求項9】 動作温度が100℃未満である請求項1
〜8のいずれかの有機質正特性サーミスタの製造方法。
9. The operating temperature is less than 100 ° C.
[8] A method for manufacturing an organic positive temperature coefficient thermistor.
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