JP3493882B2 - Multilayer ceramic capacitors - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器に用いら
れる積層セラミックコンデンサ、特に、ニッケルまたは
ニッケル合金からなる内部電極を有する積層セラミック
コンデンサに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a monolithic ceramic capacitor used in electronic equipment, and more particularly to a monolithic ceramic capacitor having internal electrodes made of nickel or nickel alloy.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、積層セラミックコンデンサの
製造工程は、以下のようなものが一般的である。まず、
その表面に内部電極となる電極材料を塗布したシート状
の誘電体材料が準備される。誘電体材料としては、たと
えばBaTiO3を主成分とする材料が用いられる。次
に、この電極材料を塗布したシート状の誘電体材料を積
層して熱圧着し、一体化したものを自然雰囲気中におい
て1250〜1350℃で焼成することで、内部電極を
有する誘電体磁器が得られる。そして、この誘電体磁器
の端面に、内部電極と導通する外部電極を焼き付けるこ
とにより、積層セラミックコンデンサが得られる。2. Description of the Related Art Conventionally, the manufacturing process of a laminated ceramic capacitor is generally as follows. First,
A sheet-shaped dielectric material whose surface is coated with an electrode material serving as an internal electrode is prepared. As the dielectric material, for example, a material containing BaTiO 3 as a main component is used. Next, a sheet-shaped dielectric material coated with this electrode material is laminated, thermocompression-bonded, and integrated to be fired at 1250 to 1350 ° C. in a natural atmosphere to obtain a dielectric ceramic having internal electrodes. can get. Then, an external electrode that is electrically connected to the internal electrode is printed on the end surface of the dielectric ceramic, so that a laminated ceramic capacitor is obtained.
【0003】従って、内部電極の材料としては、次のよ
うな条件を満たす必要がある。
(a)誘電体磁器と内部電極とが同時に焼成されるの
で、誘電体磁器が焼成される温度以上の融点を有するこ
と。Therefore, the material for the internal electrodes must satisfy the following conditions. (A) Since the dielectric ceramic and the internal electrode are fired at the same time, the dielectric ceramic must have a melting point equal to or higher than the firing temperature.
【0004】(b)酸化性の高温雰囲気中においても酸
化されず、しかも誘電体と反応しないこと。(B) It should not be oxidized even in an oxidizing high temperature atmosphere and should not react with the dielectric.
【0005】このような条件を満足させる電極として
は、白金、金、パラジウムあるいは銀−パラジウム合金
などのような貴金属が用いられてきた。Noble metals such as platinum, gold, palladium or silver-palladium alloys have been used as electrodes satisfying such conditions.
【0006】しかしながら、これらの電極材料は優れた
特性を有する反面、高価であった。そのため、積層セラ
ミックコンデンサに占める電極材料費の割合は30〜7
0%にも達し、製造コストを上昇させる最大の要因とな
っていた。However, while these electrode materials have excellent characteristics, they are expensive. Therefore, the ratio of the electrode material cost to the monolithic ceramic capacitor is 30 to 7
It reached 0%, which was the biggest factor in raising the manufacturing cost.
【0007】貴金属以外に高融点をもつものとしてN
i、Fe、Co、W、Mo等の卑金属があるが、これら
の卑金属は高温の酸化性雰囲気中では容易に酸化されて
しまい、電極としての役目を果たさなくなってしまう。
そのため、これらの卑金属を積層セラミックコンデンサ
の内部電極として使用するためには、誘電体磁器ととも
に中性または還元性雰囲気中で焼成する必要がある。し
かしながら、従来の誘電体磁器材料では、このような中
性または還元性雰囲気で焼成すると著しく還元してしま
い、半導体化してしまうという欠点があった。N having a high melting point other than noble metal
Although there are base metals such as i, Fe, Co, W, and Mo, these base metals are easily oxidized in a high-temperature oxidizing atmosphere and cannot serve as an electrode.
Therefore, in order to use these base metals as the internal electrodes of the monolithic ceramic capacitor, it is necessary to fire them together with the dielectric ceramic in a neutral or reducing atmosphere. However, the conventional dielectric ceramic material has a drawback in that it is significantly reduced when it is fired in such a neutral or reducing atmosphere and becomes a semiconductor.
【0008】このような欠点を克服するために、たとえ
ば特公昭57−42588号公報に示されるように、チ
タン酸バリウム固溶体において、バリウムサイト/チタ
ンサイトの比を化学量論比より過剰にした誘電体材料
や、特開昭61−101459号公報のようにチタン酸
バリウム固溶体にLa、Nd、Sm、Dy、Y等の希土
類酸化物を添加した誘電体材料が考えだされた。In order to overcome such drawbacks, for example, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-42588, a barium titanate solid solution having a barium site / titanium site ratio in excess of the stoichiometric ratio is used as a dielectric. A body material and a dielectric material obtained by adding a rare earth oxide such as La, Nd, Sm, Dy or Y to a barium titanate solid solution as in JP-A-61-101459 have been considered.
【0009】また、誘電率の温度変化を小さくしたもの
として、たとえば特開昭62−256422号に示され
るBaTiO3−CaZrO3−MnO−MgO系の組成
や、特公昭61−14611号のBaTiO3−(M
g,Zn,Sr,Ca)O−B2O3−SiO2系の組成
の誘電体材料が提案されてきた。このような誘電体材料
を使用することによって、還元性雰囲気で焼成しても半
導体化しない誘電体磁器を得ることができ、内部電極と
してニッケル等の卑金属を使用した積層セラミックコン
デンサの製造が可能になった。Further, as the one in which the change in the dielectric constant with temperature is made small, for example, the composition of BaTiO 3 --CaZrO 3 --MnO--MgO system disclosed in JP-A-62-256422 and BaTiO 3 in JP-B-61-14611 are disclosed. -(M
g, Zn, Sr, Ca) O—B 2 O 3 —SiO 2 based dielectric materials have been proposed. By using such a dielectric material, it is possible to obtain a dielectric ceramic that does not become a semiconductor even when fired in a reducing atmosphere, and it is possible to manufacture a monolithic ceramic capacitor using a base metal such as nickel as an internal electrode. became.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】近年のエレクトロニク
スの発展に伴い電子部品の小型化が急速に進行し、積層
セラミックコンデンサも小型化、大容量化の傾向が顕著
になってきた。そのため、誘電体材料の高誘電率化と誘
電体層の薄層化が急激な勢いで進んでいる。したがっ
て、高誘電率で、誘電率の温度変化が小さく、信頼性に
優れる誘電体材料に対する需要が大きくなっている。With the development of electronics in recent years, miniaturization of electronic parts has progressed rapidly, and the tendency toward miniaturization and large capacity of multilayer ceramic capacitors has become remarkable. Therefore, the dielectric constant of the dielectric material and the thinning of the dielectric layer are rapidly increasing. Therefore, there is an increasing demand for a dielectric material having a high dielectric constant, a small change in the dielectric constant with temperature, and excellent reliability.
【0011】しかしながら、特公昭57−42588号
公報や、特開昭61−101459号公報に示される誘
電体材料は、大きな誘電率が得られるものの、得られた
誘電体磁器の結晶粒が大きくなり、積層セラミックコン
デンサにおける誘電体層厚みが10μm以下のような薄
膜になると、1つの層中に存在する結晶粒の数が減少
し、信頼性が低下してしまう欠点があった。また、誘電
率の温度変化も大きいという問題もあり、市場の要求に
応えられていない。However, the dielectric materials disclosed in JP-B-57-42588 and JP-A-61-101459 have a large dielectric constant, but the crystal grains of the obtained dielectric porcelain are large. When the thickness of the dielectric layer in the monolithic ceramic capacitor is 10 μm or less, the number of crystal grains present in one layer is reduced, and the reliability is lowered. Further, there is a problem that the change in the dielectric constant with temperature is large, and it has not been possible to meet the market demand.
【0012】一方、特開昭62−256422号公報に
示される誘電体材料では、誘電率が比較的高く、得られ
た誘電体磁器の結晶粒も小さく、誘電率の温度変化も小
さいものの、CaZrO3や焼成過程で生成するCaT
iO3が、Mnなどとともに二次相を生成しやすいた
め、信頼性に問題があった。On the other hand, in the dielectric material disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 62-256422, CaZrO has a relatively high dielectric constant and the obtained dielectric ceramic has small crystal grains and a small change in dielectric constant with temperature. 3 and CaT produced in the firing process
Since iO 3 easily forms a secondary phase together with Mn and the like, there is a problem in reliability.
【0013】また、特公昭61−14611号公報に示
される誘電体材料では、得られる誘電率が 2000〜
2800であり、積層セラミックコンデンサの小型大容
量化という点で不利であるという欠点があった。さら
に、EIA規格で規定されるところの、温度範囲−55
℃〜+125℃の間で静電容量の変化率が±15%以内
を満足し得ないという問題があった。Further, in the dielectric material disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-14611, the obtained dielectric constant is 2000-
It is 2,800, which is disadvantageous in that the multilayer ceramic capacitor is small and has a large capacity. Furthermore, the temperature range specified by the EIA standard is -55.
There is a problem in that the rate of change in capacitance cannot be satisfied within ± 15% between ℃ and +125 ℃.
【0014】上記の組成物を始めとして、これまで提案
されてきた非還元性誘電体磁器組成物は、従来の材料と
比較して絶縁抵抗が低く、特に高電界強度下においてそ
れが顕著であったため、誘電体厚みの薄層化を行う場合
に大きな障害となっていた。この絶縁抵抗の低さをカバ
ーするため、一般に、薄層化した場合には定格電圧を下
げるという手段が用いられてきた。The non-reducing dielectric porcelain compositions proposed so far, including the above-mentioned compositions, have a lower insulation resistance than the conventional materials, and are particularly remarkable under high electric field strength. Therefore, this has been a major obstacle in reducing the thickness of the dielectric. In order to cover this low insulation resistance, a means of lowering the rated voltage has been generally used when the layer is thin.
【0015】ところで、小型大容量の積層セラミックコ
ンデンサにおいては、自動表面実装に対応するため、外
部電極として導電性金属粉末の焼き付け電極の上に半田
などのメッキ膜が形成される。By the way, in a small-sized and large-capacity monolithic ceramic capacitor, in order to support automatic surface mounting, a plating film such as solder is formed as an external electrode on a baked electrode of conductive metal powder.
【0016】メッキ膜の形成方法としては、電解メッキ
が一般的である。通常、導電性金属粉末の焼き付け電極
は、微細な空隙が生じる。そのため、その上にメッキ被
膜を形成するためにメッキ液中に積層セラミックコンデ
ンサを浸漬すると、焼き付け電極の空隙にメッキ液が侵
入し、内部電極と誘電体セラミック界面にまでおよぶこ
とがある。このため、上記に示す誘電体材料を用いた場
合、信頼性の低下を招くという問題がある。Electroplating is generally used as a method for forming a plating film. Normally, fine voids are formed in the baked electrode of conductive metal powder. Therefore, when the monolithic ceramic capacitor is dipped in a plating solution to form a plating film thereon, the plating solution may enter the voids of the baking electrode and reach the interface between the internal electrode and the dielectric ceramic. Therefore, when the above-mentioned dielectric material is used, there is a problem that the reliability is lowered.
【0017】それゆえに、本発明の主たる目的は、誘電
率が3000以上、絶縁抵抗が静電容量との積(CR
積)で表した場合に5000MΩ・μF以上であり、高
電界強度下における絶縁抵抗の低下率が低く、誘電体厚
みを薄くしても信頼性に優れて定格電圧も高く、静電容
量の温度特性がJIS規格で規格するところのB特性及
びEIA規格で規定するところのX7R特性を満足し、
メッキの有無に関係なく信頼性の高い、低コストの小型
大容量の積層セラミックコンデンサを提供することにあ
る。Therefore, the main object of the present invention is to calculate the product of the dielectric constant of 3000 or more and the insulation resistance and the capacitance (CR
Product) is 5000 MΩ · μF or more, the decrease rate of the insulation resistance under high electric field strength is low, the reliability is excellent even when the dielectric thickness is thin, the rated voltage is high, and the temperature of the capacitance is high. The characteristics satisfy the B characteristics specified by the JIS standard and the X7R characteristics specified by the EIA standard,
An object of the present invention is to provide a low-cost, small-sized, large-capacity monolithic ceramic capacitor that is highly reliable regardless of plating.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
目的に鑑みてなされたものである。本発明の積層セラミ
ックコンデンサは、複数の誘電体セラミックス層と、そ
れぞれの端縁が前記誘電体セラミックス層の両端面に露
出するように前記誘電体セラミックス層間に形成された
複数の内部電極と、露出した前記内部電極に電気的に接
続されるように設けられた外部電極とを含む積層セラミ
ックコンデンサにおいて、前記誘電体セラミックス層
が、不純物として含まれるアルカリ金属酸化物の含有量
が0.03重量%以下のチタン酸バリウムと、酸化イッ
トリウム、酸化亜鉛、および酸化ニッケルからなり、次
の組成式、
(1−α−β){BaO}m・TiO2+αY2O3+β
(Zn1-XNiX)O
(ただし、α、β、m、xは、
0.0025≦α≦0.03
0.0025≦β≦0.08
β/α≦8
0<x<1
1.000≦m≦1.035)
で表される主成分100モルに対して、副成分として、
酸化マグネシウムをMgOに換算して0.2〜2.5モ
ル、MnOを0.05〜2.0モル、およびAZrO3
を4.0モル以下(ただし、Aは、Ba、Sr及びCa
のうち少なくとも1種類)添加含有し、さらに、上記成
分を100重量部として、上記成分を100重量部とし
て、Li 2 O−M 1 O−M 2 O−(Ti,Si)O 2 (ただ
し、M 1 はZn、Mnのうち少なくとも1種類、M 2 はB
a、Sr、Ca及びMgのうち少なくとも1種類)と表
したときに、Li 2 O:2〜45モル%、M 1 O:0〜4
0モル%、M 2 O:5〜40モル%、(Ti,Si)
O 2 :35〜70モル%、(ただし、(Ti,Si)O 2
のうちSiO 2 成分が15モル%以上)の組成範囲にあ
る酸化物ガラスを0.2〜3.0重量部含有した材料に
よって構成され、前記内部電極はニッケルまたはニッケ
ル合金によって構成されることに特徴がある。The present invention has been made in view of the above objects. The monolithic ceramic capacitor of the present invention includes a plurality of dielectric ceramic layers, a plurality of internal electrodes formed between the dielectric ceramic layers such that respective edges are exposed at both end surfaces of the dielectric ceramic layer, and exposed. In the monolithic ceramic capacitor including an external electrode provided so as to be electrically connected to the internal electrode, the dielectric ceramic layer has an alkali metal oxide content of 0.03% by weight as an impurity. It consists of the following barium titanate, yttrium oxide, zinc oxide, and nickel oxide, and has the following composition formula: (1-α-β) {BaO} m · TiO 2 + αY 2 O 3 + β
(Zn 1-X Ni x ) O (where α, β, m, and x are 0.0025 ≦ α ≦ 0.03 0.0025 ≦ β ≦ 0.08 β / α ≦ 80 <x <11 1 .000 ≦ m ≦ 1.035) with respect to 100 mol of the main component represented by
0.2 to 2.5 mol in terms of magnesium oxide MgO, 0.05 to 2.0 mol of MnO, and AZrO 3
Up to 4.0 mol (however, A is Ba, Sr and Ca
At least one) containing added further 100 parts by weight of the components, as 100 parts by weight of the components, Li 2 O-M 1 O -M 2 O- (Ti, Si) O 2 ( only one of
However , M 1 is at least one of Zn and Mn, and M 2 is B.
a, Sr, Ca and / or Mg) and a table
When Li 2 O: 2-45 mol%, M 1 O: 0-4
0 mol%, M 2 O: 5 to 40 mol%, (Ti, Si)
O 2: 35 to 70 mol%, (provided that, (Ti, Si) O 2
Of which the SiO 2 component is 15 mol% or more)
That it is constituted by an oxide glass 0.2 to 3.0 parts by weight containing material, wherein the inner electrode is characterized to be constituted by nickel or a nickel alloy.
【0019】[0019]
【0020】また、本発明の積層セラミックコンデンサ
においては、前記酸化物ガラスを100重量部として、
以下の成分のうち、少なくとも1種類添加含有すること
が好ましい。In the monolithic ceramic capacitor of the present invention, the oxide glass is 100 parts by weight,
At least one of the following components is preferably added and contained.
【0021】(1)Al2O3を20重量部以下
(2)ZrO2を10重量部以下
また、本発明の積層セラミックコンデンサにおいては、
前記外部電極は、導電性金属粉末またはガラスフリット
を添加した導電性金属粉末の焼結層によって構成されて
いることが好ましい。また、前記外部電極は、導電性金
属粉末またはガラスフリットを添加した導電性金属粉末
の焼結層からなる第1層と、その上のメッキ層からなる
第2層とからなることが好ましい。(1) 20 parts by weight or less of Al 2 O 3 (2) 10 parts by weight or less of ZrO 2 Further , in the laminated ceramic capacitor of the present invention,
It is preferable that the external electrode is formed of a sintered layer of conductive metal powder or conductive metal powder added with glass frit. In addition, it is preferable that the external electrode includes a first layer formed of a sintered layer of a conductive metal powder or a conductive metal powder to which glass frit is added, and a second layer formed of a plated layer thereon.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明の積層セラミックコンデンサは、誘
電体セラミックス層の材料として、チタン酸バリウム、
酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化ニッケルの組成比を
上述したように調整し、酸化マグネシウム、酸化マンガ
ン、AZrO3(ただし、Aは、Ba、Sr及びCaの
うち少なくとも1種類)を上述した範囲内に添加含有
し、さらに、Li2O−MO−(Ti,Si)O2(ただ
し、Rは、Ba、Sr、Ca及びMgのうち少なくとも
1種類)を主成分とする酸化物ガラスを上述した範囲内
に添加含有させた誘電体磁器組組成物を用いることによ
って、還元性雰囲気中で焼成しても、絶縁抵抗が静電容
量との積(CR積)で表した場合5000MΩ・μF以
上であるとともに高電界強度下においてもその値の低下
率が低く、誘電体の厚みを薄くしても信頼性に優れ、3
000以上の高誘電率を示し、容量変化率もEIAに規
定されているX7R特性を満足する誘電体磁器を得るこ
とが可能となる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. The monolithic ceramic capacitor of the present invention includes barium titanate, as a material of the dielectric ceramic layer,
By adjusting the composition ratio of yttrium oxide, zinc oxide, and nickel oxide as described above, magnesium oxide, manganese oxide, and AZrO 3 (where A is at least one of Ba, Sr, and Ca) within the above range. The content of the oxide glass containing Li 2 O—MO— (Ti, Si) O 2 (wherein R is at least one of Ba, Sr, Ca and Mg) as a main component in the above range. By using the dielectric porcelain composition added and contained therein, the insulation resistance is 5000 MΩ · μF or more when expressed by the product (CR product) with the capacitance even when fired in a reducing atmosphere. In addition, the rate of decrease of the value is low even under high electric field strength, and the reliability is excellent even if the thickness of the dielectric is reduced.
It is possible to obtain a dielectric ceramic exhibiting a high dielectric constant of 000 or more and having a capacitance change rate satisfying the X7R characteristic defined by EIA.
【0023】なお、本発明においては、チタン酸バリウ
ム、酸化イットリウム、酸化亜鉛、酸化ニッケルの誘電
体セラミックス層を構成する誘電体磁器組成物の主成分
において、そのチタン酸バリウム中に不純物として存在
するSrO、CaO等のアルカリ土類金属酸化物、Na
2O、K2O等のアルカリ金属酸化物、その他Al2O3、
SiO2等の酸化物のうち、特にNa2O、K2O等のア
ルカリ金属酸化物の含有量が電気的特性に大きく影響す
ることを確認している。つまり、チタン酸バリウム中に
不純物として存在するアルカリ土類金属酸化物量が0.
03重量%を越えると、得られる誘電率が3,000よ
りも小さくなってしまうことを確認している。In the present invention, the barium titanate is present as an impurity in the main component of the dielectric ceramic composition constituting the dielectric ceramic layer of barium titanate, yttrium oxide, zinc oxide and nickel oxide. Alkaline earth metal oxides such as SrO and CaO, Na
Alkali metal oxides such as 2 O and K 2 O, other Al 2 O 3 ,
It has been confirmed that the content of alkali metal oxides such as Na 2 O and K 2 O among oxides such as SiO 2 has a great influence on electrical characteristics. That is, the amount of alkaline earth metal oxide present as an impurity in barium titanate is 0.
It has been confirmed that when the content exceeds 03% by weight, the obtained dielectric constant becomes smaller than 3,000.
【0024】また、誘電体セラミックス層中にLi2O
−MO−(Ti,Si)O2(ただし、MはBa、S
r、Ca、Mg、Zn及びMnのうち少なくとも1種
類)を主成分とする酸化物ガラスを添加させることによ
って、焼結性が良くなるとともに、耐メッキ性が向上す
ることも確認している。Further, Li 2 O is contained in the dielectric ceramic layer.
-MO- (Ti, Si) O 2 (where M is Ba, S
It has been confirmed that the addition of oxide glass containing at least one of r, Ca, Mg, Zn, and Mn as a main component improves the sinterability and the plating resistance.
【0025】また、本発明の積層セラミックコンデンサ
においては、酸化物ガラスを、Li2O−M1O−M2O
−(Ti,Si)O2(ただし、M1はZn、Mnのうち
少なくとも1種類、M2はBa、Sr、Ca及びMgの
うち少なくとも1種類)と表したときに、上述した組成
範囲内にある。なお、M1Oについては、たとえ添加し
なくても添加したものと同等の特性が得られている。In the multilayer ceramic capacitor of the present invention, oxide glass is used as Li 2 O-M 1 O-M 2 O.
-(Ti, Si) O 2 (where M 1 is at least one of Zn and Mn and M 2 is at least one of Ba, Sr, Ca, and Mg) is within the above composition range. near Ru. It should be noted that M 1 O has the same characteristics as those of M 1 O even if it is not added.
【0026】また、本発明の積層セラミックコンデンサ
においては、上記酸化物ガラスを100重量部として、
次の(1)Al2O3を20重量部以下、(2)ZrO2
を10重量部以下のうち、少なくとも1種類添加含有す
ることが好ましい。これによって、より高い絶縁抵抗を
得ることが可能となる。In the monolithic ceramic capacitor of the present invention, the oxide glass is 100 parts by weight,
20 parts by weight or less of the following (1) Al 2 O 3 and (2) ZrO 2
It is preferable that at least one of 10 parts by weight or less is added and contained. This makes it possible to obtain a higher insulation resistance.
【0027】また、本発明の積層セラミックコンデンサ
においては、外部電極は、導電性金属粉末またはガラス
フリットを添加した導電性金属粉末の焼結層によって構
成されていることが好ましい。Further, in the monolithic ceramic capacitor of the present invention, it is preferable that the external electrode is composed of a sintered layer of conductive metal powder or conductive metal powder to which glass frit is added.
【0028】また、本発明の積層セラミックスコンデン
サにおいては、外部電極は、導電性金属粉末またはガラ
スフリットを添加した導電性金属粉末の焼結層からなる
第1層と、その上のメッキ層からなる第2層とからなる
ことが好ましい。Further, in the laminated ceramic capacitor of the present invention, the external electrode is composed of a first layer formed of a sintered layer of conductive metal powder or conductive metal powder to which glass frit is added, and a plated layer thereover. It is preferably composed of a second layer.
【0029】次に、本発明を実施例に基づき、さらに具
体的に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定さ
れるものではない。Next, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to such examples.
【0030】[0030]
【実施例】以下、本発明の一実施例について説明する。
図1は本実施例の断面図である。この積層セラミックコ
ンデンサ10は、積層セラミック誘電体12を含む。積
層セラミック誘電体12は、複数枚第1の誘電体セラミ
ック層14aおよび2枚の第2の誘電体セラミック層1
4bを積層することによって形成される。この積層誘電
体セラミック体12では、第2の誘電体セラミック層1
4bが両端面に配置され、2枚の第2の誘電体セラミッ
ク層14bが複数枚の第1の誘電体セラミック層14a
を挟み込むように、誘電体セラミック層14a、14b
が積層されるこれらの誘電体セラミック層14a、14
bは、内部電極16を介在して積層される。また、積層
誘電体セラミック体12の両端面には、外部電極18、
第1のメッキ被膜20a及び第2のメッキ被膜20bが
この順に形成される。第1のメッキ被膜20aとして
は、ニッケル、銅などが用いられ、第2のメッキ被膜2
0bとしては、半田、錫などが用いられる。すなわち、
積層セラミックコンデンサ10は、直方体形状のチップ
タイプとなるように形成される。EXAMPLES An example of the present invention will be described below.
FIG. 1 is a sectional view of this embodiment. The monolithic ceramic capacitor 10 includes a monolithic ceramic dielectric 12. The multilayer ceramic dielectric 12 includes a plurality of first dielectric ceramic layers 14a and two second dielectric ceramic layers 1a.
It is formed by laminating 4b. In this laminated dielectric ceramic body 12, the second dielectric ceramic layer 1
4b is arranged on both end surfaces, and the two second dielectric ceramic layers 14b are the plurality of first dielectric ceramic layers 14a.
So that the dielectric ceramic layers 14a and 14b are sandwiched between them.
These dielectric ceramic layers 14a, 14
b is laminated with the internal electrode 16 interposed. Further, the external electrodes 18,
The first plating film 20a and the second plating film 20b are formed in this order. Nickel, copper, or the like is used as the first plating film 20a, and the second plating film 2
As 0b, solder, tin, or the like is used. That is,
The monolithic ceramic capacitor 10 is formed to have a rectangular parallelepiped chip type.
【0031】次に、本発明にかかる積層セラミックコン
デンサ10の製造方法について製造工程順に説明する。
まず、積層誘電体セラミック12が以下のように形成さ
れる。図2に示すように、チタン酸バリウム、酸化イッ
トリウム、酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化マグネシウ
ム、酸化マンガン、AZrO3(ただし、Aは、Ba、
Sr及びCaのうち少なくとも1種類)及びLi2O−
MO−(Ti,Si)O2(ただし、Mは、Ba、S
r、Ca、Mg、Zn及びMnのうち少なくとも1種
類)を主成分とする酸化物ガラスからなる材料粉末をス
ラリー化してシート状とした第1の誘電体セラミック層
14a(グリーンシート)を用意し、その一面にニッケ
ルまたはニッケル合金からなる内部電極16を形成す
る。なお、内部電極16を形成する方法は、スクリーン
印刷などによる形成でもよいし、蒸着、メッキ法による
形成でもよい。内部電極16が形成された第1の誘電体
セラミック層14aは必要枚数積層され、図3に示す如
く、内部電極16が形成されない第2の誘電体セラミッ
ク層14bにて挟んで圧着し、積層体とする。その後、
この積層体を、還元性雰囲気中、所定の温度にて焼成
し、積層誘電体セラミック体12が形成される。Next, a method of manufacturing the monolithic ceramic capacitor 10 according to the present invention will be described in the order of manufacturing steps.
First, the laminated dielectric ceramic 12 is formed as follows. As shown in FIG. 2, barium titanate, yttrium oxide, zinc oxide, nickel oxide, magnesium oxide, manganese oxide, AZrO 3 (where A is Ba,
At least one of Sr and Ca) and Li 2 O-
MO- (Ti, Si) O 2 (where M is Ba, S
A first dielectric ceramic layer 14a (green sheet) is prepared in the form of a sheet by slurrying a material powder made of an oxide glass containing at least one of r, Ca, Mg, Zn and Mn as a main component. An internal electrode 16 made of nickel or nickel alloy is formed on one surface of the internal electrode 16. The internal electrode 16 may be formed by screen printing, vapor deposition, or plating. A required number of the first dielectric ceramic layers 14a on which the internal electrodes 16 are formed are laminated, and sandwiched by the second dielectric ceramic layers 14b on which the internal electrodes 16 are not formed, as shown in FIG. And afterwards,
The laminated body is fired at a predetermined temperature in a reducing atmosphere to form the laminated dielectric ceramic body 12.
【0032】次に、積層誘電体セラミック体12の両端
面に、内部電極16と接続するように、二つの外部電極
18が形成される。この外部電極18の材料としては、
内部電極16と同じ材料を使用することができる。ま
た、外部電極18の材料としては、銀、パラジウム、銀
−パラジウム合金等が使用可能であるが、積層セラミッ
クコンデンサ10の使用用途、使用場所などを考慮に入
れて、適当な材料が選択される。また、外部電極18
は、材料となる金属粉末ペーストを、焼成により得た積
層誘電体セラミック体12に塗布して、焼き付けること
によって形成されるが、焼成前に塗布して、積層誘電体
セラミック体12と同時に形成してもよい。この後、外
部電極18上にニッケル、銅などのメッキを施し、第1
のメッキ被膜20aが形成される。最後に、この第1の
メッキ被膜20aの上に半田、錫などのメッキ被膜20
bが形成され、チップ型の積層セラミックコンデンサ1
0が製造される。Next, two external electrodes 18 are formed on both end faces of the laminated dielectric ceramic body 12 so as to be connected to the internal electrodes 16. As a material of the external electrode 18,
The same material as the internal electrode 16 can be used. Further, as the material of the external electrode 18, silver, palladium, silver-palladium alloy, or the like can be used, but an appropriate material is selected in consideration of the intended use of the monolithic ceramic capacitor 10, the place of use, and the like. . In addition, the external electrode 18
Is formed by applying a metal powder paste as a material to the laminated dielectric ceramic body 12 obtained by firing and baking it. It is applied before firing and formed simultaneously with the laminated dielectric ceramic body 12. May be. After that, the outer electrode 18 is plated with nickel, copper, etc.
Plating film 20a is formed. Finally, the plating film 20 such as solder or tin is formed on the first plating film 20a.
b is formed, and a chip type multilayer ceramic capacitor 1
0 is produced.
【0033】(実施例1)まず、出発原料として種々の
純度のTiCl4とBa(NO3)2とを準備して秤量し
た後、蓚酸により蓚酸チタニルバリウム(BaTiO
(C2O4)・4H2O)として沈澱させ、沈澱物を得
た。この沈澱物を1000℃以上の温度で加熱分解させ
て、表1に示す4種類のチタン酸バリウム(BaTiO
3)を合成した。また24Li2O−6MnO−14Ba
O−6CaO−3TiO2−47SiO2(モル%)の組
成割合になるように、各成分の酸化物、炭酸塩及び水酸
化物を秤量し、混合粉砕した後、蒸発乾燥して粉末を得
た。この粉末をアルミナるつぼ中において、1300℃
で1時間保持した後、急冷し、粉砕することで平均粒径
が1μm以下の酸化物ガラスを得た。Example 1 First, TiCl 4 and Ba (NO 3 ) 2 having various purities as starting materials were prepared and weighed, and then titanyl barium oxalate (BaTiO 3 ) was added with oxalic acid.
The precipitate was obtained as (C 2 O 4 ) .4H 2 O). This precipitate was decomposed by heating at a temperature of 1000 ° C. or higher, and four types of barium titanate (BaTiO 3) shown in Table 1 were used.
3 ) was synthesized. In addition, 24Li 2 O-6MnO-14Ba
Oxide, carbonate and hydroxide of each component were weighed so that the composition ratio was O-6CaO-3TiO 2 -47SiO 2 (mol%), mixed and pulverized, and then evaporated and dried to obtain a powder. . This powder is placed in an alumina crucible at 1300 ° C.
After holding for 1 hour, it was rapidly cooled and pulverized to obtain an oxide glass having an average particle diameter of 1 μm or less.
【0034】[0034]
【表1】 [Table 1]
【0035】次に、チタン酸バリウムのBa/Tiモル
比mを調整するためのBaCO3と、純度99%以上の
Y2O3、ZnO、NiO、MgO、MnO、BaZrO
3、SrZrO3、CaZrO3とを準備した。これらの
原料粉末と酸化物ガラスとを表2に示す組成比となるよ
うに配合し、配合物を得た。この配合物に、ポリビニル
ブチラール系バインダー及びエタノール等の有機溶剤を
加えて、ボールミルにより湿式混合し、セラミックスラ
リーを調製した。このセラミックスラリーをドクターブ
レード法によってシート成形し、厚み14μmの矩形の
グリーンシートを得た。次に、このセラミックグリーン
シート上に、Niを主体とする導電ペーストを印刷し、
内部電極を構成するための導電ペースト層を形成した。Next, BaCO 3 for adjusting the Ba / Ti molar ratio m of barium titanate and Y 2 O 3 , ZnO, NiO, MgO, MnO and BaZrO having a purity of 99% or more.
3 , SrZrO 3 , and CaZrO 3 were prepared. These raw material powders and oxide glass were blended so as to have a composition ratio shown in Table 2 to obtain a blend. A polyvinyl butyral binder and an organic solvent such as ethanol were added to this mixture and wet mixed by a ball mill to prepare a ceramic slurry. This ceramic slurry was formed into a sheet by a doctor blade method to obtain a rectangular green sheet having a thickness of 14 μm. Next, a conductive paste mainly containing Ni is printed on the ceramic green sheet,
A conductive paste layer for forming internal electrodes was formed.
【0036】[0036]
【表2】 [Table 2]
【0037】導電ペースト層が形成されたセラミックグ
リーンシートを導電ペーストの引き出されている側が互
い違いとなるように複数枚積層し、積層体を得た。この
積層体を、N2雰囲気中にて350℃の温度に加熱し、
バインダを燃焼させた後、酸素分圧10-9〜10-12M
PaのH2−N2−H2Oガスからなる還元性雰囲気中に
おいて表3に示す温度で2時間焼成し、セラミック焼結
体を得た。このセラミック焼結体の両端面に銀ペースト
を塗布し、N2雰囲気中において600℃の温度で焼き
付け、内部電極と電気的に接続された外部電極を形成し
た。A plurality of ceramic green sheets having a conductive paste layer formed thereon were laminated so that the sides from which the conductive paste was drawn out were staggered to obtain a laminate. This laminated body is heated to a temperature of 350 ° C. in an N 2 atmosphere,
After burning the binder, oxygen partial pressure 10 -9 to 10 -12 M
The ceramic sintered body was obtained by firing at a temperature shown in Table 3 for 2 hours in a reducing atmosphere composed of H 2 —N 2 —H 2 O gas of Pa. Silver paste was applied to both end faces of this ceramic sintered body and baked at a temperature of 600 ° C. in an N 2 atmosphere to form external electrodes electrically connected to the internal electrodes.
【0038】[0038]
【表3】 [Table 3]
【0039】このようにして得られた積層セラミックコ
ンデンサの外形寸法は、幅:1.6mm、長さ:3.2
mm、厚さ:1.2mmであり、内部電極間に介在され
る誘電体セラミック層の厚みは10μmであった。ま
た、有効誘電体セラミック層の総数は、19であり、一
層当たりの対向電極の面積は、2.1mm2であった。The external dimensions of the monolithic ceramic capacitor thus obtained are: width: 1.6 mm, length: 3.2
mm, thickness: 1.2 mm, and the thickness of the dielectric ceramic layer interposed between the internal electrodes was 10 μm. The total number of effective dielectric ceramic layers was 19, and the area of the counter electrode per layer was 2.1 mm 2 .
【0040】静電容量(C)及び誘電損失(tanδ)
は、自動ブリッジ式測定器を用いて、周波数1KHz、
1Vrms、温度25℃にて測定し、静電容量から誘電
率(ε)を算出した。次に、絶縁抵抗(R)を測定する
ために、絶縁抵抗計を用い、温度25℃にて16V及び
100Vの直流電圧を2分間印加して絶縁抵抗(R)を
測定し、静電容量(C)と絶縁抵抗(R)との積、すな
わちCR積を求めた。また、温度変化に対する静電容量
の変化率を測定した。Capacitance (C) and dielectric loss (tan δ)
Using an automatic bridge type measuring instrument, frequency 1 KHz,
Measurement was performed at 1 Vrms and a temperature of 25 ° C., and the dielectric constant (ε) was calculated from the capacitance. Next, in order to measure the insulation resistance (R), a DC voltage of 16 V and 100 V was applied for 2 minutes at a temperature of 25 ° C. using an insulation resistance meter to measure the insulation resistance (R), and the capacitance ( The product of C) and the insulation resistance (R), that is, the CR product was obtained. In addition, the rate of change of capacitance with respect to temperature change was measured.
【0041】なお、温度変化に対する静電容量の変化率
については、20℃での静電容量を基準とした−25℃
と85℃での変化率(ΔC/C20℃)と、25℃での静
電容量を基準とした−55℃と125℃での変化率(Δ
C/C25℃)および−55℃〜125℃の範囲内で絶対
値としてその変化率が最大である値(|ΔC|max)
を示した。Regarding the rate of change of capacitance with respect to temperature change, the capacitance at 20 ° C. is used as a reference of -25 ° C.
And the rate of change at 85 ° C (ΔC / C 20 ° C), and the rate of change at −55 ° C and 125 ° C (ΔC / C 20 ° C) based on the capacitance at 25 ° C (Δ
C / C 25 ° C) and a value whose change rate is maximum as an absolute value within the range of -55 ° C to 125 ° C (| ΔC | max)
showed that.
【0042】また、高温負荷寿命試験として、各試料を
36個ずつ、温度150℃にて直流電圧を150V印加
して、その絶縁抵抗の経時変化を測定した。なお、高温
負荷寿命試験は、各試料の絶縁抵抗値(R)が106Ω
以下になったときの時間を寿命時間とし、その平均寿命
時間を示す。以上の結果を表3に示した。Further, as a high temperature load life test, a DC voltage of 150 V was applied at a temperature of 150 ° C. to each of 36 samples, and the change in insulation resistance over time was measured. In the high temperature load life test, the insulation resistance (R) of each sample was 10 6 Ω.
The life time is defined as the time when it becomes the following, and the average life time is shown. The above results are shown in Table 3.
【0043】表1、表2、表3から明かなように、本発
明の積層セラミックコンデンサは誘電率εが3,000
以上と高く、誘電正接tanδは2.5%以下で、温度
に対する静電容量の変化率が、−25℃〜85℃での範
囲でJIS規格に規定するB特性規格を満足し、−55
℃と125℃での範囲内でEIA規格に規定するX7R
特性規格を満足する。As is clear from Table 1, Table 2 and Table 3, the multilayer ceramic capacitor of the present invention has a dielectric constant ε of 3,000.
The above is high, the dielectric loss tangent tan δ is 2.5% or less, and the rate of change of the capacitance with respect to temperature satisfies the B characteristic standard stipulated in JIS in the range of −25 ° C. to 85 ° C.
X7R specified in EIA standard within the range of ℃ and 125 ℃
Satisfies the characteristic standards.
【0044】しかも、16V及び100Vで測定した絶
縁抵抗は、CR積で表したときに、それぞれ5,000
MΩ・μF、2,000MΩ・μF以上と高い値を示
す。また、平均寿命時間が300時間以上と長い。さら
に、焼成温度も1300℃以下と比較的低温で焼結可能
である。Moreover, the insulation resistance measured at 16 V and 100 V is 5,000 when expressed by CR product.
It shows high values such as MΩ · μF and 2,000 MΩ · μF or more. Moreover, the average life time is as long as 300 hours or more. Further, it is possible to sinter at a relatively low firing temperature of 1300 ° C. or lower.
【0045】ここで、本実施例の組成限定理由について
説明する。(1−α−β){BaO}m・TiO2+αY
2O3+β(Zn1-XNiX)Oにおいて、αを0.002
5≦α≦0.03の範囲に限定したのは、試料番号1の
ように、Y2O3量αが0.0025未満の場合には、誘
電率εが3,000以下と低く、また、誘電正接tan
δが2.5%を越え、静電容量の温度変化率も大きくな
り、さらに、平均寿命時間が極端に短くなるからであ
る。一方、試料番号18のようにY2O3量αが0.03
を超える場合には、誘電率が3,000を越えず、絶縁
抵抗が低下し、平均寿命時間が短くなるからである。Here, the reason for limiting the composition of this embodiment will be described. (1-α-β) {BaO} m · TiO 2 + αY
In 2 O 3 + β (Zn 1-X Ni X ) O, α is 0.002
The range of 5 ≦ α ≦ 0.03 is limited to that when the amount α of Y 2 O 3 is less than 0.0025 as in Sample No. 1, the dielectric constant ε is as low as 3,000 or less, and , Dissipation factor tan
This is because δ exceeds 2.5%, the rate of change in capacitance with temperature increases, and the average life time becomes extremely short. On the other hand, as in Sample No. 18, the Y 2 O 3 amount α is 0.03.
If it exceeds, the dielectric constant does not exceed 3,000, the insulation resistance is lowered, and the average life time is shortened.
【0046】また、βを0.0025≦β≦0.08の
範囲に限定したのは、試料番号2のように(Zn,N
i)O量βが0.0025未満の場合には、誘電正接t
anδが2.5%を越え、絶縁抵抗が低くなり、平均寿
命時間も短くなり、さらに、静電容量の温度変化率が大
きくなり、JIS規格のB特性及びEIA規格のX7R
特性を満足しなくなるからである。一方、試料番号19
のように(Zn,Ni)O量βが0.08を超える場合
には、100V印加時の絶縁抵抗が2000MΩ・μF
を越えず、平均寿命時間が300時間よりも短くなるか
らである。Further, β was limited to the range of 0.0025 ≦ β ≦ 0.08 as in Sample No. 2 (Zn, N
i) When the O amount β is less than 0.0025, the dielectric loss tangent t
anδ exceeds 2.5%, insulation resistance is low, average life time is short, the rate of change in capacitance is large, and JIS standard B characteristics and EIA standard X7R
This is because the characteristics will not be satisfied. On the other hand, sample number 19
When the (Zn, Ni) O amount β exceeds 0.08, the insulation resistance at 100V is 2000 MΩ · μF.
This is because the average life time becomes shorter than 300 hours without exceeding.
【0047】また、xを0<x<1の範囲に限定したの
は、試料番号3のように、(Zn,Ni)OにおけるN
i量xの値が0の場合には、焼結温度が1300℃を越
え、誘電率が3000よりも小さくなるからである。一
方、試料番号9のように、Ni量xの値が1の場合に
は、(Zn,Ni)O量βが0.06よりも多くなる
と、100V印加時の絶縁抵抗が2000MΩ・μFを
越えず、平均寿命時間が300時間よりも短くなるので
好ましくないからである。Further, x is limited to the range of 0 <x <1 as shown in Sample No. 3 because N in (Zn, Ni) O is
This is because when the value of the i amount x is 0, the sintering temperature exceeds 1300 ° C. and the dielectric constant becomes smaller than 3000. On the other hand, in the case where the value of the Ni content x is 1 as in the case of Sample No. 9, the insulation resistance at the time of applying 100V exceeds 2000 MΩ · μF when the (Zn, Ni) O content β is more than 0.06. This is because the average life time becomes shorter than 300 hours, which is not preferable.
【0048】また、β/α≦8の範囲に限定したのは、
試料番号20のように、Y2O3量αと(Zn,Ni)O
量βの比率β/αが8よりも大きい場合には、静電容量
の温度変化率が大きくなるからである。なお、β/αは
8以下であればよいが、より好ましくは、1/4≦β/
α≦4の範囲である。The range of β / α ≦ 8 is limited to
As in Sample No. 20, Y 2 O 3 content α and (Zn, Ni) O
This is because when the ratio β / α of the amount β is larger than 8, the temperature change rate of the capacitance becomes large. Note that β / α may be 8 or less, and more preferably 1/4 ≦ β /
The range is α ≦ 4.
【0049】また、mを1.000≦m≦1.035の
範囲に限定したのは、試料番号4のように、チタン酸バ
リウムのモル比mが1.000未満の場合には、還元性
雰囲気で焼成したとき磁器が還元され、半導体化して絶
縁抵抗が低下してしまうからである。一方、試料番号2
1のように、モル比mが1.035を超えると焼結性が
極端に悪くなるからである。Further, m is limited to the range of 1.000≤m≤1.035 because the reducing property is reduced when the molar ratio m of barium titanate is less than 1.000, as in Sample No. 4. This is because when fired in an atmosphere, the porcelain is reduced, becoming a semiconductor, and the insulation resistance decreases. On the other hand, sample number 2
When the molar ratio m exceeds 1.035 as in No. 1, the sinterability is extremely deteriorated.
【0050】また、酸化マグネシウムをMgOに換算し
て0.2〜2.5モルの範囲に限定したのは、試料番号
5のように、MgO量が0.2モル未満の場合には、1
00V印加時の絶縁抵抗が2000MΩ・μFを越え
ず、平均寿命時間が300時間よりも短くなり、また、
静電容量の温度変化率がEIA規格が規定するところの
X7R特性規格を満足するものの、JIS規格が規定す
るところのB特性規格を満足することができないからで
ある。一方、試料番号22のようにMgO量が2.5モ
ルより超える場合には、焼結温度が高くなり、誘電率が
3,000を越えず、絶縁抵抗が低下するからである。Further, magnesium oxide is limited to the range of 0.2 to 2.5 mol in terms of MgO, when the amount of MgO is less than 0.2 mol, as in Sample No. 5,
The insulation resistance when applying 00V does not exceed 2000 MΩ · μF, and the average life time is shorter than 300 hours.
This is because the temperature change rate of the electrostatic capacitance satisfies the X7R characteristic standard defined by the EIA standard, but cannot satisfy the B characteristic standard defined by the JIS standard. On the other hand, when the amount of MgO exceeds 2.5 mol as in Sample No. 22, the sintering temperature increases, the dielectric constant does not exceed 3,000, and the insulation resistance decreases.
【0051】また、MnOを0.05〜2.0モルの範
囲に限定したのは、試料番号6のように、MnO量が
0.05モル未満の場合には、絶縁抵抗が低下し、平均
寿命時間が短くなるからである。一方、試料番号23の
ようにMnO量が2.0モルを超える場合には、100
V印加時の絶縁抵抗が低くなり、また、平均寿命時間が
短くなるからである。Further, the MnO content is limited to the range of 0.05 to 2.0 mol. The reason for limiting the MnO content is that if the MnO content is less than 0.05 mol, as shown in sample No. 6, the insulation resistance decreases and the average This is because the life time is shortened. On the other hand, when the amount of MnO exceeds 2.0 mol as in Sample No. 23, 100
This is because the insulation resistance when V is applied is reduced and the average life time is shortened.
【0052】また、AZrO3を4.0モル以下の範囲
に限定したのは、試料番号8のように、AZrO3(た
だし、Aは、Ba、Sr及びCaのうち少なくとも1種
類)を含まない場合には、絶縁抵抗が低下し、それは、
特に100V印加時に顕著であり、また、平均寿命時間
も短くなるからである。一方、試料番号25のようにA
ZrO3が4.0モルを超える場合には、誘電率が低く
なり、また、静電容量の温度変化率がEIA規格が規定
するところのX7R特性規格を満足するものの、JIS
規格が規定するところのB特性規格を満足することがで
きないからである。Further, AZrO 3 was limited to a range of 4.0 mol or less as shown in Sample No. 8 in which AZrO 3 (A is at least one of Ba, Sr and Ca) is not contained. In some cases, the insulation resistance will decrease, which is
This is because it is particularly noticeable when 100 V is applied, and the average life time is shortened. On the other hand, as in sample number 25, A
When ZrO 3 exceeds 4.0 mol, the dielectric constant becomes low, and the temperature change rate of capacitance satisfies the X7R characteristic standard defined by the EIA standard, but JIS
This is because the B characteristic standard defined by the standard cannot be satisfied.
【0053】また、酸化物ガラスを0.2〜3.0重量
部の範囲に限定したのは、試料番号7のように、酸化物
ガラスの量が0.2重量部未満の場合には、焼結温度が
高くなるとともに、絶縁抵抗が低下し、平均寿命時間が
極端に短くなるからである。一方、試料番号24のよう
に、酸化物ガラスの量が3.0重量部を超える場合に
は、誘電率が低くなり、静電容量の温度変化率が大きく
なるからである。Further, the oxide glass is limited to the range of 0.2 to 3.0 parts by weight when the amount of oxide glass is less than 0.2 parts by weight, as in Sample No. 7. This is because as the sintering temperature increases, the insulation resistance decreases and the average life time becomes extremely short. On the other hand, when the amount of the oxide glass exceeds 3.0 parts by weight as in Sample No. 24, the dielectric constant decreases and the temperature change rate of the capacitance increases.
【0054】また、チタン酸バリウムに不純物として含
有されるアルカリ金属量が0.03重量%以下に限定し
たのは、試料番号26のように、チタン酸バリウムに不
純物として含有されるアルカリ金属量が0.03重量%
よりも大きい場合には、誘電率の低下を生じるからであ
る。The amount of the alkali metal contained in barium titanate as an impurity was limited to 0.03% by weight or less because the amount of the alkali metal contained in barium titanate as an impurity was as shown in Sample No. 26. 0.03% by weight
This is because if it is larger than this, the dielectric constant is lowered.
【0055】(実施例2)誘電体粉末として、表1のA
のチタン酸バリウムを用いて、0.979{BaO}
1.010・TiO2+0.007Y2O3+0.007ZnO
+0.007NiO(モル比)からなる主成分100モ
ルに対して、MgOが1.2モル、MnOが0.35モ
ル、BaZrO3が1.2モルになるように配合された
原料を準備し、実施例1と同様の方法で作製された表4
に示す平均粒径1μm以下の酸化物ガラスを添加して、
実施例1と同様の方法で、内部電極と電気的に接続され
た銀からなる外部電極を形成した積層セラミックコンデ
ンサを作製した。なお、作製した積層セラミックコンデ
ンサの外形寸法などは実施例1と同様である。(Example 2) As a dielectric powder, A in Table 1 was used.
Barium titanate of 0.979 {BaO}
1.010・ TiO 2 + 0.007Y 2 O 3 + 0.007ZnO
Prepare 100% of the main component consisting of + 0.007NiO (molar ratio), a raw material blended such that MgO is 1.2 mol, MnO is 0.35 mol, and BaZrO 3 is 1.2 mol, Table 4 prepared in the same manner as in Example 1
The oxide glass having an average particle size of 1 μm or less shown in is added,
In the same manner as in Example 1, a laminated ceramic capacitor having an external electrode made of silver electrically connected to the internal electrode was formed. The outer dimensions of the manufactured monolithic ceramic capacitor are the same as those in the first embodiment.
【0056】[0056]
【表4】 [Table 4]
【0057】そして、これらについて電気的特性を測定
した。静電容量(C)及び誘電損失(tanδ)は、自
動ブリッジ式測定器を用いて周波数1KHz、1Vrm
s、温度25℃にて測定し、静電容量から誘電率(ε)
を算出した。次に、絶縁抵抗(R)を測定するために、
絶縁抵抗計を用い、16V及び100Vの直流電圧を2
分間印加して、25℃での絶縁抵抗(R)を測定し、静
電容量(C)と絶縁抵抗(R)との積、すなわちCR積
を求めた。また、温度変化に対する静電容量の変化率を
測定した。Then, the electrical characteristics of these were measured. Capacitance (C) and dielectric loss (tan δ) were measured at a frequency of 1 KHz, 1 Vrm using an automatic bridge type measuring instrument.
s, measured at a temperature of 25 ° C, from the capacitance to the dielectric constant (ε)
Was calculated. Next, in order to measure the insulation resistance (R),
Using an insulation resistance tester, apply DC voltage of 16V and 100V to 2
The voltage was applied for minutes, and the insulation resistance (R) at 25 ° C. was measured to obtain the product of the electrostatic capacitance (C) and the insulation resistance (R), that is, the CR product. In addition, the rate of change of capacitance with respect to temperature change was measured.
【0058】なお、温度変化に対する静電容量の変化率
については、20℃での静電容量を基準とした−25℃
と85℃での変化率(ΔC/C20℃)と、25℃での静
電容量を基準とした−55℃と125℃での変化率(Δ
C/C25℃)および−55℃〜125℃の範囲内で絶対
値としてその変化率が最大である値(|ΔC/C20℃|
max)を示した。Regarding the rate of change of the capacitance with respect to the temperature change, the capacitance at 20 ° C. was used as a reference at -25 ° C.
And the rate of change at 85 ° C (ΔC / C 20 ° C), and the rate of change at −55 ° C and 125 ° C (ΔC / C 20 ° C) based on the capacitance at 25 ° C (Δ
C / C 25 ° C.) and a value whose change rate is maximum as an absolute value within the range of −55 ° C. to 125 ° C. (| ΔC / C 20 ° C. |
max) was shown.
【0059】これらの測定の後、硫酸ニッケル及び塩化
ニッケル、ホウ酸からなるニッケルメッキ液を用意し、
バレルメッキ法にて銀外部電極上にニッケルメッキし
た。最後に、AS浴(アルカノ−ルスルホン酸)からな
る半田メッキ液を用意し、バレルメッキ法にて、このニ
ッケルメッキ被膜上に半田メッキして、外部電極上にメ
ッキ被膜された積層セラミックコンデンサを得た。After these measurements, a nickel plating solution containing nickel sulfate, nickel chloride and boric acid was prepared,
The silver external electrode was nickel-plated by the barrel plating method. Finally, a solder plating solution consisting of AS bath (alkanol sulfonic acid) is prepared, and the nickel plating film is solder-plated by the barrel plating method to obtain a laminated ceramic capacitor plated on the external electrodes. It was
【0060】得られた積層セラミックコンデンサについ
て、静電容量(C)を自動ブリッジ式測定器を用いて周
波数1KHz、1Vrms、温度25℃にて測定した。
次に、絶縁抵抗(R)を測定するために、絶縁抵抗計を
用い、16V及び100Vのの直流電圧を2分間印加し
て、25℃での絶縁抵抗(R)を測定し、静電容量
(C)と絶縁抵抗(R)との積、すなわちCR積を求め
た。以上の結果を表5に示した。The capacitance (C) of the obtained monolithic ceramic capacitor was measured at a frequency of 1 KHz, 1 Vrms and a temperature of 25 ° C. using an automatic bridge type measuring device.
Next, in order to measure the insulation resistance (R), a DC voltage of 16 V and 100 V was applied for 2 minutes using an insulation resistance meter to measure the insulation resistance (R) at 25 ° C. The product of (C) and insulation resistance (R), that is, the CR product was obtained. The above results are shown in Table 5.
【0061】[0061]
【表5】 [Table 5]
【0062】表4、表5から明かなように、本実施例の
酸化物ガラスを添加含有した誘電体セラミック層から構
成される積層セラミックコンデンサは、誘電率εが3,
000以上と高く、誘電正接tanδは2.5%以下
で、温度に対する静電容量の変化率が、−25℃〜85
℃での範囲でJIS規格に規定するB特性規格と、−5
5℃と125℃での範囲内でEIA規格に規定するX7
R特性規格とを満足する。しかも、メッキを施しても、
電気的特性が劣化しない。As is clear from Tables 4 and 5, the monolithic ceramic capacitor composed of the dielectric ceramic layer containing the oxide glass of the present embodiment has a dielectric constant ε of 3.
2,000 or more, the dielectric loss tangent tan δ is 2.5% or less, and the rate of change in capacitance with temperature is -25 ° C to 85 ° C.
B characteristic standard stipulated in JIS standard in the range of ℃, -5
X7 specified in the EIA standard within the range of 5 ° C and 125 ° C
Satisfies the R characteristic standard. Moreover, even if plated
The electrical characteristics do not deteriorate.
【0063】ここで、本実施例で用いられる酸化物ガラ
スの組成限定理由について説明する。なお、試料番号1
01のように、本実施例の酸化物ガラスを添加含有しな
い場合には、焼結温度が高くなり、絶縁抵抗が低くなる
とともに、メッキによってさらに絶縁抵抗が低下する。Here, the reasons for limiting the composition of the oxide glass used in this example will be described. Sample number 1
As in No. 01, when the oxide glass of this example is not added and contained, the sintering temperature becomes high, the insulation resistance becomes low, and the insulation resistance further decreases due to the plating.
【0064】Li2O−M1O−M2O−(Ti,Si)
O2(ただし、M1は、Zn、Mnのうち少なくとも1種
類、M2は、Ba、Sr、Ca、及びMgのうち少なく
とも1種類)からなる酸化物ガラスにおいて、Li2O
を2〜45モル%の範囲に限定したのは、試料番号10
2のように、Li2O量が2モル%未満の場合には、焼
結温度が1300℃よりも高くなり、誘電正接tanδ
が2.5%を越え、静電容量の温度変化率が大きくなる
からである。一方、試料番号116のようにLi2O量
が40モル%を越える場合には、デラミネーションが発
生するからである。Li 2 O-M 1 O-M 2 O- (Ti, Si)
In an oxide glass made of O 2 (however, M 1 is at least one of Zn and Mn, and M 2 is at least one of Ba, Sr, Ca, and Mg), Li 2 O
Is limited to the range of 2 to 45 mol% by the sample number 10
2, when the amount of Li 2 O is less than 2 mol%, the sintering temperature becomes higher than 1300 ° C. and the dielectric loss tangent tan δ.
Over 2.5%, the rate of change in capacitance with temperature increases. On the other hand, when the amount of Li 2 O exceeds 40 mol% as in sample No. 116, delamination occurs.
【0065】また、M1Oを0〜40モル%の範囲に限
定したのは、試料番号115のように、M1O量が40
モル%を越える場合には、焼結温度が高くなり、誘電率
が3,000を越えないからである。Further, the M 1 O content was limited to the range of 0 to 40 mol% because the M 1 O content was 40% as in Sample No. 115.
This is because when it exceeds mol%, the sintering temperature becomes high and the dielectric constant does not exceed 3,000.
【0066】また、M2Oを5〜40モル%の範囲に限
定したのは、試料番号103のように、M2O量が5モ
ル%未満の場合には、焼結温度が1300℃よりも高く
なり、また、誘電正接taδが2.5を越え、100V
印加時の絶縁抵抗が2000MΩ・μFよりも低くなる
からである。一方、試料番号117のようにM2O量が
40モル%を超える場合には、焼結温度が高くなるとと
もに、誘電率が3,000を越えないからである。さら
に、静電容量の温度変化率が大きくなり、メッキによっ
て絶縁抵抗がわずかに低下するからである。[0066] Further, The reason for limiting the M 2 O in the range of 5 to 40 mol%, as in Sample No. 103, if M 2 O amount is less than 5 mol%, the sintering temperature is from 1300 ° C. And the dielectric loss tangent taδ exceeds 2.5, and 100V
This is because the insulation resistance during application becomes lower than 2000 MΩ · μF. On the other hand, when the amount of M 2 O exceeds 40 mol% as in Sample No. 117, the sintering temperature increases and the dielectric constant does not exceed 3,000. Furthermore, the rate of change in capacitance with temperature increases, and the insulation resistance slightly decreases due to plating.
【0067】また、(Ti,Si)O2を35〜70モ
ル%の範囲に限定したのは、試料番号104のように
(Ti,Si)O2量が35モル%未満の場合には、焼
結温度が高くなり、メッキによって絶縁抵抗が極端に低
下するからである。一方、試料番号118のように(T
i,Si)O2量が70モル%を越える場合には、焼結
温度が高くなり、高温での負荷寿命時間が短くなるから
である。Further, (Ti, Si) O 2 is limited to the range of 35 to 70 mol% when the amount of (Ti, Si) O 2 is less than 35 mol% as in Sample No. 104. This is because the sintering temperature becomes high and the insulation resistance becomes extremely low due to plating. On the other hand, like sample number 118 (T
This is because if the amount of i, Si) O 2 exceeds 70 mol%, the sintering temperature becomes high and the load life time at high temperature becomes short.
【0068】さらに、(Ti,Si)O2のうち、Si
O2を15モル%以上の範囲に限定したのは、試料番号
105のようにSiO2量が15モル%未満の場合に
は、焼結温度が高くなり、メッキによって絶縁抵抗が極
端に低下してしまうからである。なお、試料番号106
のようにTiO2量が0の場合には、メッキによって絶
縁抵抗が極端に低下するので好ましくない。Furthermore, among (Ti, Si) O 2 , Si
O 2 was limited to the range of 15 mol% or more because when the amount of SiO 2 is less than 15 mol% as in sample No. 105, the sintering temperature becomes high and the insulation resistance is extremely lowered by plating. This is because it will end up. Sample number 106
As described above, when the amount of TiO 2 is 0, the insulation resistance is extremely reduced by plating, which is not preferable.
【0069】ここで、Li2O−M1O−M2O−(T
i,Si)O2酸化物ガラスにAl2O3、またはZrO2
を添加含有したのは、これらによって、16V及び10
0V印加時の絶縁抵抗がそれぞれ6000MΩ・μF、
3000MΩ・μFの積層セラミックコンデンサを得ら
れるからである。Here, Li 2 O-M 1 O-M 2 O- (T
i, Si) O 2 oxide glass with Al 2 O 3 or ZrO 2
In addition, the addition of 16V and 10
Insulation resistance when 0V is applied is 6000MΩ ・ μF,
This is because a monolithic ceramic capacitor of 3000 MΩ · μF can be obtained.
【0070】なお、Al2O3、ZrO2の組成限定理由
について説明する。Al2O3を20重量部以下の範囲に
限定したのは、試料番号119のようにAl2O3量が2
0重量部を越える場合には、焼結性が低下し、誘電率が
3,000を越えず、絶縁抵抗が低下するからである。
また、メッキによっても、絶縁抵抗が極端に低下するか
らである。The reasons for limiting the composition of Al 2 O 3 and ZrO 2 will be described. Al 2 O 3 was limited to the range of 20 parts by weight or less because the amount of Al 2 O 3 was 2 as shown in Sample No. 119.
This is because if the amount exceeds 0 part by weight, the sinterability is lowered, the dielectric constant does not exceed 3,000, and the insulation resistance is lowered.
In addition, the insulation resistance is also extremely reduced by the plating.
【0071】さらに、ZrO2を10重量部以下の範囲
に限定したのは、試料番号120のようにZrO2量が
10重量部を超える場合には、焼結性が低下し、誘電率
が3,000を越えず、絶縁抵抗が低下するからであ
る。また、メッキによっても、絶縁抵抗が極端に低下す
るからである。Further, the ZrO 2 content is limited to the range of 10 parts by weight or less. When the amount of ZrO 2 exceeds 10 parts by weight as in Sample No. 120, the sinterability is lowered and the dielectric constant is 3%. This is because the insulation resistance decreases without exceeding 1,000. In addition, the insulation resistance is also extremely reduced by the plating.
【0072】なお、上記実施例では、チタン酸バリウム
として、蓚酸法により作製した粉末を用いたが、これに
限定するものではなく、アルコキシド法あるいは水熱合
成法により作製されたチタン酸バリウム粉末を用いても
よく、これらの粉末を用いることにより、本実施例で示
した特性よりも向上することも有り得る。また、酸化イ
ットリウム、酸化コバルト、酸化ニッケルなども、酸化
物粉末を用いたが、これに限定されるものではなく、本
発明の範囲の誘電体セラミック層を構成するように配合
すれば、アルコキシド、有機金属などの溶液を用いて
も、得られる特性を何等損なうものではない。In the above examples, the powder prepared by the oxalic acid method was used as the barium titanate, but the barium titanate powder prepared by the alkoxide method or the hydrothermal synthesis method is not limited to this. They may be used, and by using these powders, the characteristics shown in this example may be improved. Further, yttrium oxide, cobalt oxide, nickel oxide, and the like also used oxide powders, but the invention is not limited to this, and alkoxides can be used if blended so as to form the dielectric ceramic layer within the scope of the present invention. The use of a solution of organic metal or the like does not impair the obtained characteristics.
【0073】[0073]
【発明の効果】本発明の積層セラミックコンデンサを用
いれば、積層セラミックコンデンサの誘電体セラミック
層が還元性雰囲気中で焼成しても還元されず、半導体化
しない誘電体磁器組成物から構成されているので、電極
材料として卑金属であるニッケル及びニッケルを合金を
用いることができ、1300℃以下と比較的低温で焼成
可能であるため、積層セラミックコンデンサのコストダ
ウンを図る事ができる。When the monolithic ceramic capacitor of the present invention is used, the dielectric ceramic layer of the monolithic ceramic capacitor is composed of a dielectric ceramic composition that is not reduced even when fired in a reducing atmosphere and does not become a semiconductor. Therefore, nickel and nickel, which are base metals, can be used as the electrode material and can be fired at a relatively low temperature of 1300 ° C. or lower, so that the cost of the monolithic ceramic capacitor can be reduced.
【0074】また、この誘電体磁器組成物を用いた積層
セラミックコンデンサでは、誘電率が3,000以上あ
り、しかもこのように高誘電率であるにもかかわらず、
誘電率の温度変化が小さく、絶縁抵抗が高く、また、高
電界強度下における絶縁抵抗の低下率も低く、誘電体厚
みを薄くしても信頼性に優れ、そして定格電圧の高い小
型で大容量の積層セラミックコンデンサを得ることがで
きる。In addition, the monolithic ceramic capacitor using this dielectric ceramic composition has a dielectric constant of 3,000 or more, and has a high dielectric constant as described above.
Dielectric constant changes little with temperature, insulation resistance is high, insulation resistance drop rate is also high under high electric field strength, reliability is excellent even when the dielectric thickness is thin, and high rated voltage is small and large capacity It is possible to obtain the monolithic ceramic capacitor of.
【0075】また、メッキによる電気的特性の劣化がな
いため、自動表面実装に対応可能となる。Further, since there is no deterioration in electrical characteristics due to plating, it is possible to cope with automatic surface mounting.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の一実施例を示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の誘電体セラミック層の一例を示
す平面図。FIG. 2 is a plan view showing an example of a first dielectric ceramic layer of the present invention.
【図3】積層誘電体セラミック体を第1の誘電体セラミ
ック層および第2の誘電体セラミック層を積層すること
によって形成する状態を示す分解斜視図。FIG. 3 is an exploded perspective view showing a state in which a laminated dielectric ceramic body is formed by laminating a first dielectric ceramic layer and a second dielectric ceramic layer.
10 積層セラミックコンデンサ 12 積層誘電体セラミック体 14a 第1の誘電体セラミック層 14b 第2の誘電体セラミック層 16 内部電極 18 外部電極 20a 第1のメッキ被膜 20b 第2のメッキ被膜 10 Multilayer ceramic capacitors 12 Multilayer dielectric ceramic body 14a First dielectric ceramic layer 14b Second dielectric ceramic layer 16 internal electrodes 18 External electrode 20a First plating film 20b Second plating film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−251985(JP,A) 特開 平5−144319(JP,A) 特開 平8−59344(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 4/12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-251985 (JP, A) JP-A-5-144319 (JP, A) JP-A-8-59344 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) H01G 4/12
Claims (4)
露出するように前記誘電体セラミックス層間に形成され
た複数の内部電極と、 露出した前記内部電極に電気的に接続されるように設け
られた外部電極とを含む積層セラミックコンデンサにお
いて、 前記誘電体セラミックス層が、 不純物として含まれるアルカリ金属酸化物の含有量が
0.03重量%以下のチタン酸バリウムと、酸化イット
リウム、酸化亜鉛、および酸化ニッケルからなり、次の
組成式、 (1−α−β){BaO}m・TiO2+αY2O3+β
(Zn1-XNiX)O (ただし、α、β、m、xは、 0.0025≦α≦0.03 0.0025≦β≦0.08 β/α≦8 0<x<1 1.000≦m≦1.035) で表される主成分100モルに対して、副成分として、
酸化マグネシウムをMgOに換算して0.2〜2.5モ
ル、MnOを0.05〜2.0モル、およびAZrO3
を4.0モル以下(ただし、Aは、Ba、Sr及びCa
のうち少なくとも1種類)添加含有し、さらに、上記成
分を100重量部として、Li 2 O−M 1 O−M 2 O−
(Ti,Si)O 2 (ただし、M 1 はZn、Mnのうち少
なくとも1種類、M 2 はBa、Sr、Ca及びMgのう
ち少なくとも1種類)と表したときに、 Li 2 O:2〜45モル% M 1 O:0〜40モル% M 2 O:5〜40モル% (Ti,Si)O 2 :35〜70モル% (ただし、(Ti,Si)O 2 のうちSiO 2 成分が15
モル%以上)の組成範囲 にある 酸化物ガラスを0.2〜
3.0重量部含有した材料によって構成され、 前記内部電極はニッケルまたはニッケル合金によって構
成されることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。1. A plurality of dielectric ceramic layers, a plurality of internal electrodes formed between the dielectric ceramic layers such that respective edges are exposed at both end faces of the dielectric ceramic layer, and the exposed internal portions. A multilayer ceramic capacitor including an external electrode provided so as to be electrically connected to an electrode, wherein the dielectric ceramic layer is made of titanium in which an alkali metal oxide content as an impurity is 0.03% by weight or less. And barium acid, yttrium oxide, zinc oxide, and nickel oxide, and has the following composition formula: (1-α-β) {BaO} m · TiO 2 + αY 2 O 3 + β
(Zn 1-X Ni x ) O (where α, β, m, and x are 0.0025 ≦ α ≦ 0.03 0.0025 ≦ β ≦ 0.08 β / α ≦ 80 <x <11 1 .000 ≦ m ≦ 1.035) with respect to 100 mol of the main component represented by
0.2 to 2.5 mol in terms of magnesium oxide MgO, 0.05 to 2.0 mol of MnO, and AZrO 3
Up to 4.0 mol (however, A is Ba, Sr and Ca
At least one of the above) is added and contained, and further, the above components are added as 100 parts by weight, and Li 2 O-M 1 O-M 2 O
(Ti, Si) O 2 (However, M 1 is a small amount of Zn and Mn.
At least one type, M 2 is Ba, Sr, Ca and Mg
And at least one kind), Li 2 O: 2 to 45 mol% M 1 O: 0 to 40 mol% M 2 O: 5 to 40 mol% (Ti, Si) O 2 : 35 to 70 mol % (However, the SiO 2 component of (Ti, Si) O 2 is 15
Oxide glass in the composition range of 0.2 to
A monolithic ceramic capacitor, which is made of a material containing 3.0 parts by weight, and in which the internal electrodes are made of nickel or a nickel alloy.
て、以下の成分のうち、少なくとも1種類添加含有する
ことを特徴とする請求項1に記載の積層セラミックコン
デンサ。 (1)Al2O3を20重量部以下 (2)ZrO2を10重量部以下2. The monolithic ceramic capacitor according to claim 1 , wherein 100 parts by weight of the oxide glass is added and at least one of the following components is added. (1) 20 parts by weight or less of Al 2 O 3 (2) 10 parts by weight or less of ZrO 2
ガラスフリットを添加した導電性金属粉末の焼結層によ
って構成されていることを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の積層セラミックコンデンサ。Wherein the external electrodes, claim, characterized in that it is constituted by a sintered layer of conductive metal powder with added conductive metal powder or glass frit 1 or請<br/> Motomeko 2 laminated ceramic wolfberry capacitor as claimed in.
ガラスフリットを添加した導電性金属粉末の焼結層から
なる第1層と、その上のメッキ層からなる第2層とから
なることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の
積層セラミックコンデンサ。4. The external electrode comprises a first layer made of a sintered layer of conductive metal powder or conductive metal powder to which glass frit is added, and a second layer made of a plated layer thereon. laminated ceramic wolfberry capacitor according to claim 1 or claim 2, characterized.
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