JP3483238B2 - Film carrier and film carrier device using the same - Google Patents

Film carrier and film carrier device using the same

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JP3483238B2
JP3483238B2 JP24941297A JP24941297A JP3483238B2 JP 3483238 B2 JP3483238 B2 JP 3483238B2 JP 24941297 A JP24941297 A JP 24941297A JP 24941297 A JP24941297 A JP 24941297A JP 3483238 B2 JP3483238 B2 JP 3483238B2
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    • HELECTRICITY
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    • H05K3/361Assembling flexible printed circuits with other printed circuits

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶駆動用のフィ
ルムキャリア(TAB)およびこれにICを実装したフ
ィルムキャリアデバイスに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film carrier (TAB) for driving a liquid crystal and a film carrier device having an IC mounted thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶駆動用ICのパッケージとし
て高密度化や薄型化に適したフィルムキャリアを用いた
TAB方式がますます用いられるようになってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, a TAB method using a film carrier suitable for high density and thinning has been increasingly used as a package of a liquid crystal driving IC.

【0003】一般にフィルムキャリアに液晶駆動用IC
を接続する方法として、フィルムキャリアの銅などの導
体で形成されたリードをICチップ電極上に形成された
Auバンプと位置合わせした後、リードとバンプを接合
するリード面の反対側よりボンディング用ツールを用い
て加熱加圧することによって接合することが一般的であ
る。
A liquid crystal driving IC is generally used as a film carrier.
As a method of connecting the wires, after aligning the lead formed of a conductor such as copper of the film carrier with the Au bump formed on the IC chip electrode, a bonding tool is applied from the opposite side of the lead surface for joining the lead and the bump. It is common to bond by heating and pressurizing using.

【0004】そのため従来ICを接続するフィルムキャ
リアでは、図1に示されるように、ポリイミド樹脂等の
絶緑性フィルム(ベースフィルム)1にICを接続する
ための穴(デバイスホール)2を、あらかじめパンチン
グ等により設け、さらにデバイスホールにはインナーリ
ード3をオーバーハングさせ、ICチップ電極上に形成
されたAuバンプと位置合わせした後、リードとバンプ
を接合するリード面の反対側よりボンディング用ツール
を用いて加熱加圧することによって接合する方法が一般
的である。そして、接続されたICは信頼性の確保のた
めに、エポキシ系のIC封止樹脂により封止される。
Therefore, in a conventional film carrier for connecting an IC, as shown in FIG. 1, a hole (device hole) 2 for connecting an IC is formed in advance in an insulative film (base film) 1 such as a polyimide resin. It is provided by punching, and the inner lead 3 is overhanged in the device hole and aligned with the Au bump formed on the IC chip electrode. Then, a bonding tool is applied from the opposite side of the lead surface for joining the lead and the bump. The method of joining by heating and pressurizing is generally used. Then, the connected IC is sealed with an epoxy-based IC sealing resin to ensure reliability.

【0005】さらに、フィルムキャリアをプリント基板
等に接続する方法として、次の2通りがある。ベースフ
ィルム上の所定の場所にパンチング等により穴(アウタ
ーホール)4を形成し、さらにアウターホール部にアウ
ターリード5を形成し、上記方法にてICを接続後フィ
ルムキャリアを1個ずつ切断し、液晶のパネルの取り付
けスペースを小さくしたい場合には折り曲げ部9で折り
曲げた後にプリント基板に半田付け等により接続する。
また、近年では穴(アウターホール)を形成せずベース
フィルム上に直接アウターリード5を形成し、異方性導
電膜を使用してプリント基板に加熱接続する方法があ
る。
Further, there are the following two methods for connecting the film carrier to a printed circuit board or the like. A hole (outer hole) 4 is formed at a predetermined place on the base film by punching or the like, and an outer lead 5 is further formed in the outer hole portion. After connecting the ICs by the above method, the film carriers are cut one by one, When it is desired to reduce the mounting space of the liquid crystal panel, the liquid crystal panel is bent at the bending portion 9 and then connected to the printed board by soldering or the like.
Further, in recent years, there is a method in which the outer lead 5 is directly formed on the base film without forming a hole (outer hole) and the anisotropic conductive film is used to heat and connect to the printed board.

【0006】そして、上記ボンディングに寄与する部分
以外の配線パターンには、半田付け時に半田がブリッジ
しないように、また導電性異物によるパターンショート
や腐食、エレクトロマイグレーション、ホイスカーの発
生による信頼性の低下を起こさないように、さらにSn
やAu、半田によるパターン仕上げメッキの不要部分を
マスキングするために、IC接続前にオーバーコート剤
を塗布することが一般的である。
Then, in the wiring pattern other than the portion contributing to the above-mentioned bonding, the solder is not bridged at the time of soldering, and the reliability is deteriorated due to pattern short-circuit, corrosion, electromigration and whiskers due to conductive foreign matter. In order not to cause it, Sn
In general, an overcoat agent is applied before IC connection in order to mask an unnecessary portion of pattern finish plating with Au, solder, or the like.

【0007】この場合、オーバーコート剤に要求される
特性の一つとして、ICの信頼性確保のために処理され
るエポキシ系の封止樹脂との密着性が極めて重要であ
る。封止樹脂との密着性が低いオーバーコート剤を使用
すると、フィルムキャリアパッケージの製造段階での外
力や実装時の折り曲げる力で接着面が剥がれる危険性が
高い。
In this case, as one of the characteristics required for the overcoating agent, the adhesiveness with the epoxy type encapsulating resin treated to secure the reliability of the IC is extremely important. When an overcoating agent having low adhesion to the sealing resin is used, there is a high risk that the adhesive surface will be peeled off by an external force at the manufacturing stage of the film carrier package or a bending force at the time of mounting.

【0008】また、高密度パターンを有するフィルムキ
ャリアでは、オーバーコート剤と絶縁性ポリイミドフィ
ルムとの熱収縮率や熱膨張率の差によって発生するフィ
ルムキャリアの反りが、特にアウターリードを接合する
時に歩留まりや信頼性を下げる原因となっている。その
ためオーバーコート剤に要求される重要な特性の1つと
して硬化収縮の小さい、すなわち反りの少ないことが必
要である。
Further, in the case of a film carrier having a high-density pattern, the warp of the film carrier caused by the difference in the thermal contraction rate and the thermal expansion rate between the overcoating agent and the insulating polyimide film, especially the yield when joining the outer leads. And causes a decrease in reliability. Therefore, one of the important properties required for the overcoat agent is that the curing shrinkage is small, that is, the warpage is small.

【0009】また、高密度パターンになると配線パター
ンの導体幅も従来より著しく小さくなる。そこでオーバ
ーコート剤に要求される特性として、銅等の導体表面と
の密着性も重要となる。密着が悪い場合は、オーバーコ
ート剤塗布後のメッキ工程でメッキ中の成分がオーバー
コート剤の端部に浸透し銅などが腐食する。そのため
に、マイグレーションが発生し信頼性が低下する。
Further, in the case of a high-density pattern, the conductor width of the wiring pattern becomes significantly smaller than that of the conventional one. Therefore, as a characteristic required for the overcoat agent, the adhesion to the conductor surface such as copper is also important. If the adhesion is poor, the components in the plating permeate into the ends of the overcoat agent in the plating step after the application of the overcoat agent, and copper or the like corrodes. As a result, migration occurs and reliability decreases.

【0010】さらに、最近では液晶の大画面化のため、
パネルの額縁を小さくする目的で折り曲げて実装するこ
とが急速に進んでいる。その場合、折り曲げる部分の絶
縁性フィルムの一部または全てを除去して、折り曲げる
部分に柔軟性の高いオーバーコート剤を塗布する必要が
ある。柔軟性が低いオーバーコート剤を使用すると、折
り曲げ実装時やリペア時にオーバーコート剤にクラック
が発生し配線パターンが断線したり、折り曲げ後の保持
時にバックテンションが高くなり、フィルムキャリアの
配線と基板との接続部が剥がれるという致命的な欠陥が
発生する。
Further, recently, due to the large screen of liquid crystal,
Bending and mounting for the purpose of reducing the frame of the panel is rapidly progressing. In that case, it is necessary to remove a part or all of the insulating film in the bent portion and apply a highly flexible overcoat agent to the bent portion. If an overcoating agent with low flexibility is used, cracks may occur in the overcoating agent during bending mounting or repair and the wiring pattern may be broken, or the back tension may increase during holding after bending, which may cause damage to the wiring of the film carrier and the substrate. A fatal defect occurs that the connection part of is peeled off.

【0011】このようなフィルムキャリア用のオーバー
コート剤としては、従来よりエポキシ系オーバーコート
剤(例えば、アサヒ化学研究所製CCR−232GF)
やポリイミド系オーバーコー卜剤(例えば、宇部興産製
FS−100L)等が使用されているが、上記樹脂との
密着性が高く、かつ反りが少なく、さらに柔軟性が高い
という特性を満足するオーバーコート剤はなく、複数の
オーバーコート剤を組み合わせて塗布することが必要で
ある(特開平6−283575号)。
As an overcoating agent for such a film carrier, conventionally, an epoxy-based overcoating agent (for example, CCR-232GF manufactured by Asahi Chemical Research Institute) is used.
And a polyimide-based overcoating agent (for example, FS-100L manufactured by Ube Industries, Ltd.) are used, but the adhesiveness with the above resin is high, the warpage is small, and the flexibility is high. There is no coating agent, and it is necessary to apply a plurality of overcoating agents in combination (JP-A-6-283575).

【0012】図1において、6は封止剤や銅との密着に
優れたエポキシ系オーバーコート剤(CCR−232G
F)が塗布され、7は柔軟性が高く収縮の少ないポリイ
ミド系オーバーコート剤(FS−100L)が塗布され
ている。
In FIG. 1, 6 is an epoxy type overcoating agent (CCR-232G) which is excellent in adhesion to a sealant and copper.
F) is applied, and 7 is applied with a polyimide-based overcoating agent (FS-100L) having high flexibility and less shrinkage.

【0013】しかしこの場合、複数のオーバーコート剤
を塗布するために、塗布工程が複数必要であり、著しい
生産性の低下や歩留まりの低下によるコスト高になるだ
けでなく、 フィルムキャリア設計上の制約が多くなり、
高価で経済的ではないフィルムキャリアとなる。
However, in this case, in order to apply a plurality of overcoat agents, a plurality of coating steps are required, which not only results in a significant decrease in productivity and a decrease in yield but also an increase in cost, but also a constraint on the film carrier design. Will increase
It becomes an expensive and economical film carrier.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の課題を解決すべくなされたもので、生産性や歩留ま
りが高く経済的でIC封止樹脂との密着性を下げること
なく、反りを著しく小さくし、柔軟性が高く折り曲げて
使用しても信頼性の高いフィルムキャリアおよびフィル
ムキャリアデバイスを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art. It has a high productivity and a high yield, is economical, and does not reduce the adhesiveness to the IC encapsulating resin, so that the warpage can be prevented. An object of the present invention is to provide a film carrier and a film carrier device which are remarkably small and have high flexibility and are highly reliable even when they are folded and used.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、折り曲げ部を含む接続
部以外の配線パターン面側にウレタン樹脂を主成分とす
るオーバーコート剤を塗布することにより、IC封止樹
脂との密着性を下げることなく、反りを著しく小さく
し、柔軟性が高く折り曲げて使用しても信頼性の高いフ
ィルムキャリアおよびフィルムキャリアデバイスが得ら
れることを見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies aimed at achieving the above object, the present inventors have found that an overcoating agent containing a urethane resin as a main component is formed on the wiring pattern surface side other than the connecting portion including the bent portion. It has been found that by applying the composition, a warp can be remarkably reduced without lowering the adhesion with the IC encapsulating resin, and a highly flexible film carrier and a film carrier device can be obtained even when used by being bent and having high flexibility. The present invention has been completed.

【0016】 すなわち、本発明のフィルムキャリア
は、絶縁性フィルムとその上に金属箔膜で形成されたパ
ターンを有し、折り曲げ部の絶縁性フィルムの一部また
は全てが除去されている液晶駆動用のフィルムキャリア
において、折り曲げ部を含む接続部以外の配線パターン
面側に(A)数平均分子量が1000〜8000で、1
分子当たり2〜10個の水酸基を有するポリブタジエン
ポリオール、(B)数平均分子量が13000〜300
00で、1分子当たり2〜10個の水酸基を有するポリ
エステルポリオール及び(C)数平均分子量が1000
〜8000で、1分子当たり2〜10個の水酸基を有す
るポリブタジエンポリブロックイソシアネートを必須成
分とし、ポリオールの重量比が固形分において(A):
(B)=40:60〜90:10であり、ポリブロック
イソシアネート(C)の量がポリオールの総水酸基当量
に対し、0.8〜3.5当量を含有するウレタン樹脂を
主成分とするオーバーコート剤を塗布したことを特徴と
するものである。また本発明のフィルムキャリアデバイ
スは、このようなフィルムキャリアを用いたことを特徴
とするものである。
That is, the film carrier of the present invention has a pattern formed of an insulating film and a metal foil film on the insulating film, and a part or all of the insulating film at the bent portion is removed for driving liquid crystal. In the film carrier of (1) , the (A) number average molecular weight is 1000 to 8000 on the side of the wiring pattern surface other than the connection portion including the bent portion , and
Polybutadiene having 2 to 10 hydroxyl groups per molecule
Polyol, (B) number average molecular weight 13,000-300
00, poly having 2 to 10 hydroxyl groups per molecule
Ester polyol and (C) number average molecular weight of 1000
~ 8000, having 2-10 hydroxyl groups per molecule
Essential polybutadiene polyblock isocyanate
And the weight ratio of the polyol is the solid content (A):
(B) = 40: 60 to 90:10, polyblock
The amount of isocyanate (C) is the total hydroxyl equivalent of the polyol
On the other hand, an overcoat agent containing a urethane resin as a main component containing 0.8 to 3.5 equivalents is applied. The film carrier device of the present invention is characterized by using such a film carrier.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明のフィルムキャリア
およびこれを用いたフィルムキャリアデバイスについて
図面を用いて詳細に説明する。図2は、本発明の液晶ド
ライバー用フィルムキャリアの平面図であり、図1と同
一の符号は同様のものを示し、8はウレタン系オーバー
コート剤である。同図に示される様に、絶縁性フィルム
1の一部または全部を予めパンチングやポリイミドエッ
チング等により除去して、デバイスホール2、アウター
ホール4及び折り曲げ部9が設けられている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The film carrier of the present invention and the film carrier device using the same will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 2 is a plan view of a film carrier for a liquid crystal driver of the present invention, in which the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same things, and 8 is a urethane-based overcoating agent. As shown in the figure, part or all of the insulating film 1 is previously removed by punching, polyimide etching or the like to provide a device hole 2, an outer hole 4 and a bent portion 9.

【0018】ここに用いられる絶緑性フィルムとして
は、ポリイミド樹脂やガラスエポキシ樹脂、BTレジ
ン、ポリエステルテープ等が例示されるが、加工性や特
性等を考慮するとポリイミド樹脂が好ましく使用され
る。絶縁性フィルムに除去部分を設ける手段は、パンチ
ングやポリイミドエッチングに限らず任意である。ま
た、金属薄膜は、導体パターンが形成できる導電性のも
のであれば特に限定されていないが、銅箔が一般的であ
る。通常、ベースフィルムに所定の厚みの電解銅箔をエ
ポキシ系接着剤などを用いて接着し、オーブン中で加熱
してラミネートされる。
Examples of the insulative film used here include polyimide resin, glass epoxy resin, BT resin, polyester tape and the like, but polyimide resin is preferably used in consideration of processability and characteristics. The means for providing the removed portion on the insulating film is not limited to punching and polyimide etching, and is arbitrary. The metal thin film is not particularly limited as long as it is a conductive thin film capable of forming a conductor pattern, but a copper foil is generally used. Usually, an electrolytic copper foil having a predetermined thickness is bonded to a base film by using an epoxy adhesive or the like, and heated in an oven to be laminated.

【0019】次に、ラミネート後の銅箔上に、常法に従
って、フォトレジストの塗布、現像及びエッチングを行
い、その後折り曲げ部を含む接続部以外の配線パターン
面側にスクリーン印刷にてオーバーコート剤を所定の厚
みに塗布し、通常、オーブン中で120〜160℃、1
〜2時間加熱して、フィルムキャリアが形成される。
Next, a photoresist is applied, developed and etched on the laminated copper foil in accordance with a conventional method, and then an overcoating agent is applied by screen printing to the wiring pattern surface side other than the connection portion including the bent portion. To a predetermined thickness, usually in an oven at 120-160 ° C, 1
Heat for ~ 2 hours to form a film carrier.

【0020】本発明ではオーバーコート剤として、ウレ
タン樹脂を主成分とする組成物が用いられる。すなわ
ち、この組成物は成分として、(A)数平均分子量が1
000〜8000で、1分子当たり2〜10個の水酸基
を有するポリブタジエンポリオール、(B)数平均分子
量が13000〜30000で、1分子当たり2〜10
個の水酸基を有するポリエステルポリオール及び(C)
数平均分子量が1000〜8000で、1分子当たり2
〜10個の水酸基を有するポリブタジエンポリブロック
イソシアネートを必須成分とし、ポリオールの重量比が
固形分において(A):(B)=40:60〜90:1
0であり、ポリブロックイソシアネート(C)の量がポ
リオールの総水酸基当量に対し、0.8〜3.5当量を
含有するものである。
In the present invention, a composition containing a urethane resin as a main component is used as the overcoat agent. That is, this composition has as a component (A) a number average molecular weight of 1
000 to 8,000, polybutadiene polyol having 2 to 10 hydroxyl groups per molecule, (B) number average molecular weight of 13,000 to 30,000, and 2 to 10 per molecule.
Polyester polyol having one hydroxyl group and (C)
Number average molecular weight is 1000-8000 and 2 per molecule
Polybutadiene polyblock isocyanate having 10 to 10 hydroxyl groups is an essential component, and the weight ratio of polyol is (A) :( B) = 40: 60 to 90: 1 in solid content.
It is 0, and the amount of the polyblock isocyanate (C) is 0.8 to 3.5 equivalent to the total hydroxyl equivalent of the polyol.

【0021】上記(A)成分は耐熱性、耐薬品性など剛
直性樹脂に見られる特性と、可とう性、低収縮性など柔
軟性樹脂に見られる特性の両方を付与させるのに重要で
ある。分子量がこの範囲よりも小さくなる場合や、1分
子当たりの水酸基の数がこの範囲よりも大きくなる場合
は、硬化時の架橋密度が高くなるため、より固い硬化物
となり、硬化塗膜の柔軟性や硬化時の低収縮性に関して
十分な物性は得られない。一方、分子量がこの範囲より
も大きくなる場合や、1分子当たりの水酸基の数がこの
範囲よりも小さくなる場合は、硬化時の架橋密度が低く
なるため、より柔軟な硬化物となる反面、硬化塗膜の耐
熱性や耐薬品性が著しく低下する。また、この成分
(A)がポリブタジエン骨格であることより、柔軟性や
硬化時の低収縮性をより向上させる効果がある。
The component (A) is important for imparting both the characteristics found in the rigid resin such as heat resistance and chemical resistance, and the characteristics found in the flexible resin such as flexibility and low shrinkage. . If the molecular weight is smaller than this range or the number of hydroxyl groups per molecule is larger than this range, the crosslink density during curing will be higher, resulting in a harder cured product and the flexibility of the cured coating film. Sufficient physical properties cannot be obtained with respect to low shrinkage during curing. On the other hand, when the molecular weight is larger than this range or when the number of hydroxyl groups per molecule is smaller than this range, the crosslinking density at the time of curing becomes low, resulting in a more flexible cured product, while curing The heat resistance and chemical resistance of the coating film are significantly reduced. Further, since the component (A) has a polybutadiene skeleton, it has an effect of further improving flexibility and low shrinkage upon curing.

【0022】(B)成分は柔軟性向上、硬化時の低収縮
性など、柔軟性硬化物に見られる特性を付与させるとと
もに、樹脂骨格に含まれる極性の高いエステル結合の影
響から、下地との密着性を向上させるのに重要である。
The component (B) imparts the characteristics found in a flexible cured product such as improved flexibility and low shrinkage at the time of curing, and also has the effect of the highly polar ester bond contained in the resin skeleton to form a base. It is important to improve the adhesion.

【0023】(C)成分は耐熱性、耐薬品性など剛直性
樹脂に見られる特性と、可とう性、低収縮性など柔軟性
樹脂に見られる特性の両方を付与させるのに重要であ
る。分子量がこの範囲よりも小さくなる場合や、1分子
当たりの水酸基の数がこの範囲よりも大きくなる場合
は、硬化時の架橋密度が高くなるため、より固い硬化物
となり、硬化塗膜の柔軟性や硬化時の低収縮性に関して
十分な物性は得られない。一方、分子量がこの範囲より
も大きくなる場合や、1分子当たりの水酸基の数がこの
範囲よりも小さくなる場合は、硬化時の架橋密度が低く
なるため、より柔軟な硬化物となる反面、硬化塗膜の耐
熱性や耐薬品性が著しく低下する。また、この成分
(A)がポリブタジエン骨格であることより、柔軟性や
硬化時の低収縮性をより向上させる効果がある。
The component (C) is important for imparting both the characteristics found in the rigid resin such as heat resistance and chemical resistance and the characteristics found in the flexible resin such as flexibility and low shrinkage. If the molecular weight is smaller than this range or the number of hydroxyl groups per molecule is larger than this range, the crosslink density during curing will be higher, resulting in a harder cured product and the flexibility of the cured coating film. Sufficient physical properties cannot be obtained with respect to low shrinkage during curing. On the other hand, when the molecular weight is larger than this range or when the number of hydroxyl groups per molecule is smaller than this range, the crosslinking density at the time of curing becomes low, resulting in a more flexible cured product, while curing The heat resistance and chemical resistance of the coating film are significantly reduced. Further, since the component (A) has a polybutadiene skeleton, it has an effect of further improving flexibility and low shrinkage upon curing.

【0024】ポリブタジエンポリオール(A)だけを単
独でポリブタジエンポリイソシアネート(B)で硬化さ
せる場合は、比較的、耐熱性、耐薬品性と柔軟性、硬化
時の低収縮性についてバランスの良い硬化物になるもの
の、完全には柔軟性、硬化時の低収縮性、下地との密着
性について十分に満足できる特性とは言えないレベルで
あるため、ポリエステルポリオール(B)と組み合わせ
ることが必要である。すなわち、(A):(B)=4
0:60〜90:10の範囲で混合して用いるのが好ま
しく、ポリオール(A)がこの範囲よりも少ない場合
は、架橋密度が下がりすぎるため、塗膜の耐熱性、耐薬
品性などの特性が著しく低下する。また、ポリブタジエ
ンポリブロックイソシアネート(C)の量は、ポリオー
ルの総水酸基当量に対し、0.8〜3.5当量となるこ
とが好ましく、これよりも多い場合も少ない場合もとも
に架橋密度が低下しすぎるため、塗膜の耐熱性、耐薬品
性などの特性が著しく低下する。
When the polybutadiene polyol (A) alone is cured with the polybutadiene polyisocyanate (B), a cured product having a relatively good balance of heat resistance, chemical resistance and flexibility, and low shrinkage upon curing is obtained. However, it is necessary to combine it with the polyester polyol (B) because it is a level that cannot be said to be fully satisfactory in terms of flexibility, low shrinkage upon curing, and adhesion to the base. That is, (A) :( B) = 4
It is preferable to use a mixture in the range of 0:60 to 90:10. When the amount of the polyol (A) is less than this range, the crosslinking density is too low, and thus the coating film has properties such as heat resistance and chemical resistance. Is significantly reduced. In addition, the amount of polybutadiene polyblock isocyanate (C) is preferably 0.8 to 3.5 equivalents relative to the total hydroxyl equivalents of the polyol, and the crosslinking density decreases when the amount is more or less than this. Since it is too much, the properties such as heat resistance and chemical resistance of the coating film are significantly deteriorated.

【0025】また、本発明は、以上の必須要素の他に必
要に応じて、ポリオールとイソシアネートの硬化促進剤
や、充填剤、添加剤、チキソ剤、溶剤等を添加しても差
し支えない。特に、耐折り曲げ性をより向上させるため
にはゴム微粒子を添加することが好ましく、また、下地
の銅回路や、ポリイミド、ポリエステルフィルムなどの
ベース基材、接着剤層との密着性をより向上させるため
にはポリアミド微粒子を添加することが好ましい。通
常、オーバーコート剤は、スクリーン印刷法により配線
パターン形成後に印刷塗布され、その後所定の温度で硬
化されるのが一般的であるがスズメッキ、金メッキ等の
メッキ処理後でも良い。
In the present invention, in addition to the above essential elements, a curing accelerator for polyol and isocyanate, a filler, an additive, a thixotropic agent, a solvent and the like may be added, if necessary. In particular, it is preferable to add rubber fine particles in order to further improve the bending resistance, and further improve the adhesion with the underlying copper circuit, a base substrate such as polyimide or polyester film, or the adhesive layer. Therefore, it is preferable to add polyamide fine particles. Generally, the overcoating agent is generally applied by printing after forming a wiring pattern by a screen printing method and then cured at a predetermined temperature, but it may be applied after a plating treatment such as tin plating or gold plating.

【0026】このようにして塗布したオーバーコート剤
の厚さは5μm以上60μm以下、好ましくは10μm
以上30μm以下が望ましい。5μm未満では、メッキ
液の成分の塗膜への浸透によりオーバーコート剤の下の
銅パターンに変色が発生し、信頼性の低下をもたらし好
ましくない。また、60μmより厚いと硬化収縮により
反りが大きくなり、パッケージ実装で問題が発生しやす
く好ましくない。
The thickness of the overcoating agent applied in this manner is 5 μm or more and 60 μm or less, preferably 10 μm.
It is preferably 30 μm or less. When the thickness is less than 5 μm, the copper pattern under the overcoat agent is discolored due to the permeation of the components of the plating solution into the coating film, which is unfavorable because the reliability is lowered. On the other hand, if it is thicker than 60 μm, the warpage becomes large due to curing shrinkage, and a problem occurs in package mounting, which is not preferable.

【0027】また本発明のフィルムキャリアデバイス
は、このようにして得られたフィルムキャリアを用い、
これにICを接続し、エポキシ系IC封止樹脂などで封
止して作成される。
The film carrier device of the present invention uses the film carrier thus obtained,
It is made by connecting an IC to this and sealing with an epoxy-based IC sealing resin or the like.

【0028】[0028]

【本発明の効果】このように、本発明によれば、フィル
ムキャリアの折り曲げ部を含む接続部以外の配線パター
ン面側にウレタン樹脂を主成分とするオーバーコート剤
を採用することにより、生産性や歩留まりが高く経済的
でIC封止樹脂との密着性を下げることなく、反りを著
しく小さくし、柔軟性が高く折り曲げて使用しても信頼
性の高いフィルムキャリアおよびフィルムキャリアデバ
イスが得られる。
As described above, according to the present invention, productivity is improved by adopting the overcoating agent containing urethane resin as a main component on the wiring pattern surface side other than the connection portion including the bent portion of the film carrier. It is possible to obtain a film carrier and a film carrier device which have a high yield and are economical and which have a significantly small warpage without lowering the adhesiveness to the IC sealing resin, have high flexibility, and have high reliability even when they are bent and used.

【0029】[0029]

【実施例】以下、実施例および比較例に基づいて本発明
を具体的に説明する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on Examples and Comparative Examples.

【0030】[0030]

【実施例1】図2に示されるように、折り曲げ部分9を
有する液晶ドライバー用のフィルムキャリアにおいて、
ベースフィルム1として75μmのポリイミド樹脂(商
品名、ユーピレックスS 宇部興産(株)製)を用い、
パンチにてデバイスホール2及びアウターホール4、折
り曲げ除去部9をそれぞれ設けた。次にベースフィルム
に厚み18μmの電解銅箔(商品名、FX−VLP三井
金属鉱業(株)製)をエポキシ系接着剤(商品名X、巴
川製紙(株)製)で接着し、オーブン中で加熱しラミネ
ートした。
Example 1 As shown in FIG. 2, in a film carrier for a liquid crystal driver having a bent portion 9,
A 75 μm polyimide resin (trade name, manufactured by Upilex S Ube Industries, Ltd.) is used as the base film 1.
The device hole 2 and the outer hole 4 and the bend removing portion 9 are provided by punching, respectively. Next, an electrolytic copper foil (trade name, FX-VLP manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm was adhered to the base film with an epoxy adhesive (trade name X, manufactured by Tomagawa Paper Manufacturing Co., Ltd.), and placed in an oven. Heated and laminated.

【0031】次に、ラミネート後の銅箔上に、常法に従
って、フォトレジストの塗布、現像及びエッチングを行
い、その後折り曲げ部を含む接続部以外の配線パターン
面側にスクリーン印刷にてオーバーコート剤としてウレ
タン樹脂(商品名、AE−70−Mll 味の素(株)
製)を20μm厚となるように塗布し、150℃で1時
間加熱して、図2に示されるようなフィルムキャリアを
作成した。
Next, a photoresist is coated, developed and etched on the laminated copper foil by a conventional method, and then an overcoating agent is applied by screen printing to the wiring pattern surface side other than the connection portion including the bent portion. Urethane resin (trade name, AE-70-Mll Ajinomoto Co., Inc.)
Manufactured to a thickness of 20 μm and heated at 150 ° C. for 1 hour to prepare a film carrier as shown in FIG.

【0032】このフィルムキャリアにICを接続し、エ
ポキシ系IC封止樹脂(商品名、CEL−C−5020
−D20日立化成製)で封止しフィルムキャリアデバイ
スを作成した。このフィルムキャリアデバイスについて
反りの大きさを測定した。
An IC is connected to this film carrier, and an epoxy type IC sealing resin (trade name, CEL-C-5020) is used.
-D20 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) to form a film carrier device. The magnitude of warpage was measured for this film carrier device.

【0033】この反りの大きさの測定は、測定機として
Measuring Fine Scope(MF−1
00:(株)ミツトヨ製)を用い、測定サンプルは実施
例1で得られた個片(1ピースに切り離したサンプル)
を用いた。
The measurement of the magnitude of the warp is carried out by using a measuring fine scope (MF-1) as a measuring machine.
00: manufactured by Mitutoyo Co., Ltd., and the measurement sample is the individual piece obtained in Example 1 (sample cut into one piece).
Was used.

【0034】先ず測定サンプルを測定機のテーブル上に
ベース材面を上にして置き、次に、テーブル面を基準位
置(0mm)にして、デバイスホール部の幅方向の中心
部の湾曲した高さを測定した。
First, the measurement sample is placed on the table of the measuring device with the surface of the base material facing upward, and then the table surface is set to the reference position (0 mm), and the curved height of the central portion in the width direction of the device hole portion is set. Was measured.

【0035】反りの高さは、Measuring Fi
ne Scopeにより、テープの幅方向の中心部の湾
曲した箇所に焦点を合わせることにより高さを測定し、
得られた高さを反り量とした。
The height of the warp depends on the Measuring Fi
With ne Scope, measure the height by focusing on the curved part of the widthwise center of the tape,
The obtained height was defined as the amount of warpage.

【0036】また、折り曲げて基板に実装し、さらに温
度85℃湿度85%で100Vの電圧を印加し、100
0時間後の絶縁抵抗を測定した。なお、絶縁抵抗は10
8 Ω以下を不良とし、20個中の不良個数で評価した。
この結果、反りはlmm以下と良好で、折り曲げて基板
に実装したときの不良個数はゼロで、1000時間後も
不良個数はゼロであった。
Further, after bending and mounting on a substrate, a voltage of 100 V is applied at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% to obtain 100
The insulation resistance after 0 hours was measured. The insulation resistance is 10
A defect of 8 Ω or less was regarded as a defect, and the number of defective products out of 20 was evaluated.
As a result, the warpage was as good as 1 mm or less, the number of defects when bent and mounted on the substrate was zero, and the number of defects was zero even after 1000 hours.

【0037】[0037]

【比較例1】オーバーコート剤としてエポキシ系(商品
名CCR−232GF、アサヒ化学研究所製)のものを
使用した以外は実施例1と同様の材料、工程によってフ
ィルムキャリアデバイスを20個作成した。
Comparative Example 1 Twenty film carrier devices were prepared by the same materials and process as in Example 1 except that an epoxy type (trade name: CCR-232GF, manufactured by Asahi Chemical Laboratory) was used as an overcoat agent.

【0038】このようにして得られたフィルムキャリア
デバイスについて実施例1と同じ評価を行ったところ、
反りが2.2mmと大きく、さらに折り曲げて基板に実
装したときに2個断線し、1000時間後では合計8個
が不良となった。
The film carrier device thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1.
The warpage was as large as 2.2 mm, and two wires were broken when further bent and mounted on the substrate, and a total of eight pieces became defective after 1000 hours.

【0039】[0039]

【比較例2】オーバーコート剤としてポリイミド系(商
品名FS−100L、宇部興産製)のものを使用した以
外は実施例1と同様の材料、工程によってフィルムキャ
リアデバイスを20個作成した。
[Comparative Example 2] Twenty film carrier devices were prepared by the same materials and process as in Example 1 except that a polyimide type (trade name: FS-100L, manufactured by Ube Industries) was used as an overcoat agent.

【0040】このようにして得られたフィルムキャリア
デバイスについて実施例1と同じ評価を行ったところ、
反りはlmm以下と良好であったが、さらに折り曲げて
基板に実装し1000時間後では合計10個が不良とな
った。また、フィルムキャリアとしての歩留りも実施例
1より2%悪くなった。
When the film carrier device thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1,
The warp was as good as 1 mm or less, but after bending and mounting on the substrate for 1000 hours, a total of 10 pieces became defective. The yield as a film carrier was also 2% worse than that in Example 1.

【0041】[0041]

【比較例3】オーバーコート剤としてデバイスホールの
周辺部にエポキシ系(商品名CCR−232GF、アサ
ヒ化学研究所製)のものを使用し、折り曲げ部を含むそ
れ以外の部分にはポリイミド系(商品名FS−100
L、宇部興産製)のものを塗布した以外は実施例1と同
様の材料、工程によってフィルムキャリアデバイスを2
0個作成した。
[Comparative Example 3] An epoxy type (trade name CCR-232GF, manufactured by Asahi Chemical Laboratory) was used as an overcoating agent around the device hole, and a polyimide type (product Name FS-100
L, manufactured by Ube Industries, Ltd., except that the film carrier device was formed by the same material and process as in Example 1 except that
I made 0.

【0042】この結果、反りはlmm以下と良好で、折
り曲げて基板に実装したときの不良個数はゼロで、10
00時間後も不良個数はゼロであったが、フィルムキャ
リアとしての歩留まりが実施例1より9%悪くなった。
As a result, the warp was as good as 1 mm or less, and the number of defects when bent and mounted on the substrate was zero, and 10
The number of defective products was zero even after 00 hours, but the yield as a film carrier was 9% worse than that in Example 1.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 従来のフィルムキャリアの平面図を示す。FIG. 1 shows a plan view of a conventional film carrier.

【図2】 本発明のフィルムキャリアの平面図を示す。FIG. 2 shows a plan view of the film carrier of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:絶縁性フィルム、2:デバイスホール、3:インナ
ーリード、4:アウターホール、5:アウターリード、
6:エポキシ系オーバーコート剤、7:ポリイミド系オ
ーバーコート剤、8:ウレタン系オーバーコート剤、
9:折り曲げ部。
1: Insulating film, 2: Device hole, 3: Inner lead, 4: Outer hole, 5: Outer lead,
6: Epoxy-based overcoat agent, 7: Polyimide-based overcoat agent, 8: Urethane-based overcoat agent,
9: Bent portion.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 織壁 宏 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味 の素株式会社中央研究所内 (72)発明者 横田 忠彦 神奈川県川崎市川崎区鈴木町1−1 味 の素株式会社中央研究所内 (56)参考文献 特開 平5−3228(JP,A) 特開 平7−122597(JP,A) 特開 平5−267397(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 311 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Oribe 1-1 Suzuki-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Ajinomoto Co., Inc. Central Research Laboratory (72) Inventor Tadahiko Yokota 1 Suzuki-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa -1 Central Research Institute of Ajinomoto Co., Inc. (56) Reference JP-A-5-3228 (JP, A) JP-A-7-122597 (JP, A) JP-A-5-267397 (JP, A) (58) ) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/60 311

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁性フィルムとその上に金属箔膜で形
成されたパターンを有し、折り曲げ部の絶縁性フィルム
の一部または全てが除去されている液晶駆動用のフィル
ムキャリアにおいて、折り曲げ部を含む接続部以外の配
線パターン面側に(A)数平均分子量が1000〜80
00で、1分子当たり2〜10個の水酸基を有するポリ
ブタジエンポリオール、(B)数平均分子量が1300
0〜30000で、1分子当たり2〜10個の水酸基を
有するポリエステルポリオール及び(C)数平均分子量
が1000〜8000で、1分子当たり2〜10個の水
酸基を有するポリブタジエンポリブロックイソシアネー
トを必須成分とし、ポリオールの重量比が固形分におい
て(A):(B)=40:60〜90:10であり、ポ
リブロックイソシアネート(C)の量がポリオールの総
水酸基当量に対し、0.8〜3.5当量を含有するウレ
タン樹脂を主成分とするオーバーコート剤を塗布したこ
とを特徴とするフィルムキャリア。
1. A film carrier for driving a liquid crystal, comprising an insulating film and a pattern formed of a metal foil film on the insulating film, and part or all of the insulating film in the bending part is removed. (A) the number average molecular weight is 1000 to 80 on the side of the wiring pattern other than the connection portion including
00, poly having 2 to 10 hydroxyl groups per molecule
Butadiene polyol, (B) number average molecular weight is 1300
0-30000, 2-10 hydroxyl groups per molecule
Polyester polyol having and (C) number average molecular weight
Is 1000-8000 and 2-10 water per molecule
Polybutadiene Polyblock Isocyanate Having Acid Group
Is an essential component, and the weight ratio of the polyol is solid odor.
(A) :( B) = 40: 60 to 90:10,
The amount of reblocked isocyanate (C) is the total amount of polyol
A film carrier characterized by being coated with an overcoating agent containing a urethane resin as a main component , the content being 0.8 to 3.5 equivalents relative to the hydroxyl equivalents .
【請求項2】 請求項1に記載のフィルムキャリアを用
いたフィルムキャリアデバイス。
2. A film carrier device using the film carrier according to claim 1.
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