JP3480309B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3480309B2
JP3480309B2 JP13946498A JP13946498A JP3480309B2 JP 3480309 B2 JP3480309 B2 JP 3480309B2 JP 13946498 A JP13946498 A JP 13946498A JP 13946498 A JP13946498 A JP 13946498A JP 3480309 B2 JP3480309 B2 JP 3480309B2
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恭弘 青山
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はメモリを搭載し、外
部から供給される電源電位を降圧する降圧回路を内蔵し
て構成される半導体記憶装置に関する。 【0002】 【従来の技術】一般にDRAM(ダイナミック・ランダ
ム・アクセス・メモリ)をメモリセルとして有する半導
体記憶装置に於いては、外部から供給される電源電位を
内部の降圧回路にて降圧して使用している。この降圧電
源方式は、以下に述べるように、メモリの信頼性の確保
および低消費電力化、高性能化の点から必須の技術であ
る。一般にMOS型半導体装置においては、高集積化と
動作速度の向上のためにトランジスタの微細化が進めら
れているが、微細化に伴ってゲート酸化膜の耐圧が低下
するため、特にメモリセルアレイおよびその周辺部で電
源電位を下げてゲート絶縁膜における電界密度を小さく
し、信頼性を確保する必要がある。その他降圧回路方式
を採用する利点として、チップ全体としての消費電力が
低減されるとともに、外部電源の瞬時的変動やノイズの
影響が、降圧電源回路部分で緩和されることにより、メ
モリ動作の安定化が望める。 【0003】従来、このような用途に使用される降圧電
源回路の構成として、図4に示す回路が用いられてい
る。この回路は、アクティブ時用の降圧回路1およびス
タンバイ時用の降圧回路2と、前記降圧回路1および前
記降圧回路2で作られる電位の2分の1の降圧電位を発
生させる降圧回路3から構成される。REFVINTと
してそれぞれの降圧回路に供給される電位は、リファレ
ンス電位発生回路(図4には図示せず)において外部電
源電位VDDをもとに作られる電位であり、降圧回路1
及び2では、このREFVINTを入力として、REF
VINTと同一電位の降圧電位VINTを発生させる。 【0004】図4において、10は外部電源電位VDD
をこの降圧回路に供給する電源線、11は同様にグラン
ド電位VSSを供給する電源線である。また、アクティ
ブ時用の降圧回路1はpMOSトランジスタ12、1
3、nMOSトランジスタ14〜16により構成された
差動増幅器型の比較回路とその比較結果に応じて17の
pMOSトランジスタを制御する帰還ループから構成さ
れている。このアクティブ時用の降圧回路1は、チップ
全体の消費電力を抑える目的で、スタンバイ時では非活
性状態とする。この制御は内部信号であるACT信号に
よってなされ、スタンバイ時にはACT=Lに設定す
る。 【0005】また、スタンバイ時用の降圧回路2は22
乃至26のpMOSトランジスタ22、23、nMOS
トランジスタ24〜26により構成された差動増幅器型
の比較回路と、その比較回路に応じて27のpMOSト
ランジスタを制御する帰還ループよりなり、アクティブ
時用の降圧回路1と同様の構成の回路である。スタンバ
イ時用の降圧回路2は常に活性状態にあるため、DRA
Mの動作がスタンバイ時には降圧回路2のみが活性化さ
れて降圧電位VINTを供給するが、VINTの供給能
力が多く必要とされるアクティブ時には、さらにアクテ
ィブ時用の降圧回路1が活性化されることにより安定し
た降圧電位VINTを供給するといった動作を行う。こ
のため、スタンバイ時用の降圧回路2を構成するトラン
ジスタのサイズはアクティブ時用の降圧回路1を構成す
るトランジスタのサイズよりも小さく設定されている。 【0006】降圧回路3は降圧回路1あるいは降圧回路
2で発生させた降圧電位VINTを入力とし、そのちょ
うど半分の降圧電位VBLPと降圧電位VCPを発生さ
せる回路である。以上の回路構成に於いて、VINTは
センスアンプを駆動する為の電源電圧として供給され、
またVCPはメモリセルのセルプレート電位として、V
BLPはメモリセルのデータをセンスアンプで読み出す
前段階にデータ線対をプリチャージする電位として、と
もにメモリ部4に供給される。 【0007】なお、図6は上記で図4を参照しながら説
明した従来の半導体記憶装置のブロック図である。動作
及び構成については、図4と同様であるので、同一の構
成については同一の符号を付してここでは説明を省略す
る。 【0008】 【発明が解決しようとする課題】上記したように、内部
の降圧回路1及び2によって発生させた第1の降圧電位
VINTを、メモリ部4の電源として供給し、かつ別の
降圧回路の入力として用いることで、例えばその1/2
の降圧電位といった第2の降圧電位VBLP、VCPを
発生させようとする場合、第1の降圧電位(VINT)
の変動に同調して第2の降圧電位(VBLP、VCP)
がともに変動を起こすことが懸念される。図4の降圧回
路を有する半導体装置において、降圧電位VINTはD
RAMのセンスアンプに供給される電源電位であるが、
一般にDRAMでは読み出し動作やリフレッシュ動作と
いったタイミングで同一チップ内に配置された多数のセ
ンスアンプ群が同時に活性化し、過渡的に大電流が流れ
る為にVINTの電位が瞬時的に大きく変動する。図5
にVINT波形の一例を示す。図5の例のようにVIN
Tの波形はDRAM自体の動作周期に同期して大きく変
動するのが一般であり、図4に示した回路構成では、V
INT電位そのものを入力として作られる降圧電位VC
P及びVBLPに関しても、VINTの変動の影響を受
け、同時に変動してしまう。 【0009】一方、VBLPはプリチャージ時のデータ
線の電圧として信号検出の基準となる電位であり、VB
LPの変動はメモリセルのデータをセンスアンプで読み
出す際の判定基準を狂わせる恐れがある。また、VCP
はメモリセルキャパシタ電極の電位であることから、V
CPが変動した場合はDRAMが低電圧動作を行なう場
合やポーズタイム時など、メモリセルの蓄積電荷量が少
ない場合の読み出し動作特性が劣化する恐れがある。 【0010】この降圧電位の変動を抑えるために、降圧
電位の駆動トランジスタのサイズを大きくして電位の供
給能力を増やすことや、降圧電位に平滑容量をつけるこ
とで電位の変動を小さく抑えることで対応してきた。し
かしながら、DRAMの容量増加に伴って、要求される
ビット幅やページ長は増加する傾向にあり、加えて近年
では、CPUやASICなどのカスタムロジックとDR
AMをワンチップに集積した半導体装置が実用化され、
その傾向はますます強まってきている。このことはDR
AM内部で同時活性化されるセンスアンプの数を増加さ
せる結果となり、従来の対策ではVINTの変動とVI
NT/2電位の変動を小さく抑えることが困難となって
きている。 【0011】 【課題を解決するための手段】本発明は外部電源電位を
降圧してなる第1の降圧電位をメモリ部へ出力する第1
の降圧回路と、外部電源電位を降圧して第1の降圧電位
と同一電位の第2の降圧電位を第3の降圧回路に出力す
る第2の降圧回路と、第2の降圧電位を降圧してなる第
3の降圧電位を前記メモリ部に出力する第3の降圧回路
第1の降圧電位と、第2の降圧電位を直結する回路
直結手段と、メモリ部の動作状態に従って回路直結手段
を制御する制御手段とを有し、第2の降圧電位は、前記
第3の降圧回路に出力され、かつ、メモリ部には出力さ
れないことを特徴とするものである。 【0012】この構成により、第3の降圧電位は第1の
降圧電位を発生した降圧回路(第1の降圧回路に対応)
とは別の降圧回路(第2及び第3の降圧回路に対応)に
より発生させているので、第3の降圧回路からメモリ部
へ出力される第3の降圧電位は、第1の降圧電位の影響
をうけることはないので、第3の降圧回路からは常に安
定した第3の降圧電位をメモリ部に供給することができ
る。 【0013】 【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。 【0014】(実施の形態1)図1を参照しながら本発
明の実施の形態について説明する。 【0015】なお、図1では開示を省略するが、アクテ
ィブ時用のVINT降圧回路51、スタンバイ時用のV
INT降圧回路52、VINT1降圧回路53、VIN
T用リミッタ回路54、VINT1用のリミッタ回路5
5、VINT1/2降圧回路56の全てについて、外部
電源電位VDD、グランド電位VSSが供給されている
ものとする。 【0016】図1に示すように、5はリファレンス電圧
発生回路で、リファレンス電圧発生回路5は外部電源電
位VDDをもとに作られる基準電位REFVINTをア
クティブ時用のVINT降圧回路51、スタンバイ時用
のVINT降圧回路52、VINT1降圧回路53に供
給する。7はタイミング発生回路で、アクティブ時用の
VINT降圧回路51、スタンバイ時用のVINT降圧
回路52、VINT1降圧回路53にACT信号を出力
する。また、タイミング発生回路7はVINT用リミッ
タ回路54、VINT1用リミッタ回路55に、BIV
INT信号を出力する。 【0017】51はアクティブ時にVDDを降圧してな
る降圧電位VINTを発生する降圧回路、52はスタン
バイ時にVDDを降圧してなる降圧電位VINTを発生
する降圧回路、53はVDDを降圧してなる降圧電位V
INT1を発生する降圧回路、54はVINT電位の上
限を規定し、さらにはバーインテスト時にVINT電位
をVDD電位に等しくするためのVINT用リミッタ回
路、55はVINT1電位の上限を規定し、さらにバー
インテスト時にVINT1電位をVDD電位に等しくす
るためのVINT1用リミッタ回路、56はVINT1
を降圧してなる降圧電位VBLPおよび降圧電位VCP
を発生する降圧回路をそれぞれ示している。6は電位直
結手段で、VINTとVINT1を直結させるための回
路である。 【0018】次に、降圧回路51、降圧回路52、降圧
回路53、VINT用リミッタ回路54、VINT1用
のリミッタ回路55、VINT1/2降圧回路56のそ
れぞれについて、図2及び図3を参照しながらさらに詳
細に説明する。 【0019】なお、図2では図1に示した電位直結手段
6(インバータ回路89、pMOSトランジスタ90で
構成されている)を、VINT1/2降圧回路56の内
部に示している。 【0020】図2に示すように、60は外部電源電位V
DDをこの回路全体に供給する電源線、61は同様にグ
ランド電位VSSを供給する電源線である。REFVI
NTと示した配線は、リファレンス電圧発生回路(図2
では図示せず)からの一定電位を供給する信号線を示し
ており、ACT、BIVINTと示した配線は、タイミ
ング発生回路(図2では図示せず)からの信号線を示し
ている。 【0021】アクティブ時用の降圧回路51において、
62、63はカレントミラー回路をなすpMOSトラン
ジスタであり、64、65は駆動トランジスタをなすn
MOSトランジスタ、66は定電流源を成すnMOSト
ランジスタ、67はレギュレータを成すpMOSトラン
ジスタである。62乃至66のトランジスタにより構成
される差動増幅回路は入力電位REFVINTと出力電
位VINTの電位差を検出する比較回路としての働きを
成し、その比較結果に応じて67のpMOSトランジス
タを制御する帰還ループを構成し、REFVINTと同
一電位のVINTを出力する。 【0022】すなわち降圧電位VINTが入力電位RE
FVINTよりも低くなり始めると、pMOSトランジ
スタ67はゲート電位がより低くなるために、よりオン
状態へと推移し、電流を供給しながら出力電位VINT
を充電し始める。出力電位VINTが上昇し、REFV
INTより高くなり始めると、逆にpMOSトランジス
タ67はゲート電位が上昇するためにオフ状態となり、
充電は停止する。このような動作によって降圧電位VI
NTの変動は抑えられる。 【0023】また、スタンバイ時用の降圧回路52にお
いて、72、73はカレントミラー回路をなすpMOS
トランジスタであり、74、75は駆動トランジスタを
なすnMOSトランジスタ、76は定電流源を成すnM
OSトランジスタ、77はレギュレータを成すpMOS
トランジスタである。72乃至76のトランジスタによ
り構成される差動増幅回路は入力電位REFVINTと
出力電位VINTの電位差を検出する比較回路としての
働きを成し、その比較結果に応じて77のpMOSトラ
ンジスタを制御する帰還ループを構成し、REFVIN
Tと同一電位のVINTを出力する。 【0024】上記の動作を行うアクティブ時用の降圧回
路51は、チップ全体の消費電力を抑える目的のため
に、スタンバイ時では非活性状態とする。この制御はタ
イミング発生回路7より供給されるACT信号によって
なされ、スタンバイ時ではACT=Lに設定する。その
際nMOSトランジスタ66はオフ状態となり、pMO
Sトランジスタ68がオン状態となるために、ゲートに
Hレベルが与えられたpMOSトランジスタ67がオフ
状態となり、結果としてアクティブ時用の降圧回路51
に於ける差動増幅回路は非活性状態となるとともに出力
電位は高インピーダンス状態となる。一方、スタンバイ
時用のVINT降圧回路52の構成はアクティブ時用の
VINT降圧回路51と同様の構成であり、トランジス
タ72乃至77はそれぞれトランジスタ62乃至67と
同様の働きを有するが、消費電力の低減を目的に、その
サイズは相対的に小さく設計されている。また、nMO
Sトランジスタ76のゲート電極は電源電位VDDに固
定されているため、スタンバイ時用の降圧回路52は常
に活性状態となる。すなわち、スタンバイ時には降圧回
路52のみが活性化されて降圧電位VINTを供給する
が、VINTの供給能力が多く必要とされるアクティブ
時には、さらにアクティブ時用の降圧回路部51が活性
化されることにより安定した降圧電位VINTの供給を
補償している。 【0025】また、53のVINT1降圧回路におい
て、82、83はカレントミラー回路をなすpMOSト
ランジスタであり、84、85は駆動トランジスタをな
すnMOSトランジスタ、86は定電流源を成すnMO
Sトランジスタ、87はレギュレータを成すpMOSト
ランジスタを示している。また、88は降圧回路の出力
を高インピーダンス状態にするためのpMOSトランジ
スタ、89はACT信号の反転信号を発生させるインバ
ーター回路、90はVINTとVINT1を直結させる
ためのpMOSトランジスタを示している。82乃至8
6のトランジスタにより構成される差動増幅回路の回路
構成はアクティブ時用のVINT降圧回路51と同様の
構成であるが、それぞれのトランジスタサイズとしては
相対的に小さく設計されている。VINT1降圧回路5
3は入力電位REFVINTと同一電位を出力するとい
う点でアクティブ時用のVINT降圧回路51と同様の
機能を有すると共に、その発生電位VINT1も降圧電
位VINTに全く等しく設定されている。また、スタン
バイ時すなわちACT=L時に作動アンプ自体が非活性
状態となることも降圧回路51と同様の働きであり、こ
の場合はpMOSトランジスタ90がオンすることでV
INT1とVINTが直結され、VINT1電位はスタ
ンバイ時用の降圧回路52から供給されることになる。
この降圧電位VINT1はVBLP及びVCP降圧回路
56の入力電位として供給されることを除いて、他の回
路へ供給される事はない。 【0026】図2において、54のVINT用リミッタ
回路では、pMOSトランジスタ100とnMOSトラ
ンジスタ102はタイミング発生回路より供給される信
号BIVINTをゲート電極に有する。通常動作時には
BIVINT=H電位に固定されており、pMOSトラ
ンジスタ100がオフ状態、nMOSトランジスタ10
2がオン状態となることから、pMOSトランジスタ1
01のドレンイ電位はほぼグランド電位VSSとなる。
ここでpMOSトランジスタ101の働きとしては、ゲ
ート電位のREFVINTに対してソース電位VINT
が、pMOSトランジスタ101のしきい値電位VTP
分だけ高くなったところで、電流を流し始める為、この
回路はVINTの電位がある程度以上高くなるのを防ぐ
クランプ回路としての働きを成す。一方で、チップのバ
ーインテスト時にはBIVINT=Lに設定する。この
際、pMOSトランジスタ100はオン状態、nMOS
トランジスタ102がオフ状態となり、トランジスタ1
00を介してVINT電位はVDDと同電位に設定され
る。バーイン動作時には通常動作時のストレス条件を一
様に加速する必要があるため用いられる回路手段であ
る。55のVINT1用リミッタ回路についても、上記
所望の機能を降圧電位VINT1について実現するため
の同様の構成の回路であり、110乃至112のトラン
ジスタは100乃至102のトランジスタと同様の働き
を有する。 【0027】さらに降圧回路56は降圧回路53で発生
させた降圧電位VINT1を入力とし、その半分のレベ
ルの降圧電位VBLPあるいはVCPを発生させる降圧
回路である。抵抗91及び94の値は十分に大きく、ま
た同等の値であり、ノード99の電位はその抵抗比から
VINT1/2となるよう設計されている。この回路に
おけるトランジスタのしきい値を一律VTとするなら
ば、ノード97、98の電位はトランジスタnMOSト
ランジスタ92及びpMOSトランジスタ93のクラン
プ作用によりそれぞれ(VINT/2)+VT、(VI
NT/2)―VTとなり、出力電位はVINT1/2で
安定する。この際、nMOSトランジスタ95は出力電
位がVINT1/2レベルを下回った際に電源線から出
力へと電流を流し、出力電位を上昇させる働きを有し、
逆にpMOSトランジスタ96は出力電位がVINT1
/2レベルを上回った際に出力からグランド線へと電流
を流し、出力を下降させる働きを有する。 【0028】以上のような構成の降圧回路を有する半導
体装置であって、降圧電位VINTはDRAMのメモリ
セルアレイに供給される電源電位である。このVINT
電圧は主としてメモリセルのデータを読み出すセンスア
ンプ群の電源として消費されるが、一般にDRAMでは
読み出し動作やリフレッシュ動作といったタイミングで
装置内の複数のセンスアンプ群が同時に活性化し、VI
NTから大電流が流れる。この際流れる電流はDRAM
の消費電流の大部分を占める大きな電流であるために、
VINTのレベルが瞬時的に大きな変動をみせる。 【0029】図3は図1及び図2の回路の動作を説明す
るための波形図である。タイミング発生回路7で作られ
るACT信号は、DRAMの読み出し動作時やリフレッ
シュ動作時など、VINTの消費量が多くなるアクティ
ブ時にACT=Hに設定され、VINTの供給能力を増
加させるよう降圧回路の制御を行なう。しかしながら、
前述した大電流の影響を回路方式によって低減すること
は困難であり、VINTの波形は図のように変動してし
まう。 【0030】一方、降圧回路53によって供給されるV
INT1は降圧回路56の入力電位として使われること
以外に使用されることがないために、メモリの内部動作
状態に同調してそのレベルが変動することはなく、図3
に示すように常に安定したレベルを保つ。他方、VBL
PおよびVCPは、VINT1を入力として作られるた
めに、同じく安定した動作が望める。結果として、降圧
電位VINTに電位変動が起こっている場合でも、VI
NT/2電位をもつ降圧電位VBLP、VCPを安定化
させることが可能となる。このことは高い精度が求めら
れるメモリセルのセルプレート電位VCPの電位設定及
び安定したビットラインプリチャージレベルVBLPの
供給に非常に有効である。 【0031】本実施の形態に於いてはスタンバイ時の消
費電力を低減する目的で降圧回路53の活性化期間をア
クティブ時だけに限定し、スタンバイ時にはVINTか
らVINT1レベルの供給をさせているが、降圧回路5
3を降圧回路52と同様に常時活性化する構成であって
も構わない。さらにVINTに関してもアクティブ時の
降圧回路51とスタンバイ時の降圧回路52の使い分け
をせず、常時活性状態にある降圧回路単体による供給を
行う場合や、逆に3つ以上の降圧回路を用いることで段
階的にVINT供給能力を変え得る構成であっても、差
し支えない。要するに第一の降圧回路により作られる降
圧電位VINTに対してそのちょうど半分のレベルであ
るVINT/2を発生させる第二の降圧回路を構成する
場合、その入力電位として直接VINTを用いることは
せず、第三の降圧回路を用いてVINTと同電位の降圧
電位VINT1を作り、このVINT1を第二の降圧回
路の入力電位とすればよい。以上の本質を損なわぬ範疇
において、51乃至56の諸処の回路ブロックの回路方
式に関しては特に限定するものではない。 【0032】また、本発明の半導体記憶装置は、ダイナ
ミック型のメモリセルおよびその周辺回路が集積された
汎用DRAMとしての構成であったり、ダイナミック型
のメモリセルおよびその周辺回路と、CPUやカスタム
ロジックで構成されたロジック回路を同一チップ内に集
積した構成であっても差し支えない。 【0033】以上、本発明の好適な実施の形態について
説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されること
なく、本発明の精神を逸脱しない範囲内において種々の
設計変更をなし得ることは勿論である。 【0034】なお、VINT用のリミッタ回路54及び
VINT1用のリミッタ回路55は本実施の形態の効果
を得るために必ずしも必要とするものではない。 【0035】 【発明の効果】本発明によれば、外部電源電位VDDを
降圧してなる内部降圧電位VINTと内部降圧電位VI
NTを降圧してなる内部降圧電位VBLPおよびVCP
を有する半導体装置において、VBLPおよびVCP電
位を発生させる降圧回路の入力電位として、直接VIN
Tを用いずVINTと同電位でかつ別の降圧回路により
供給される降圧電位VINT1を用いる。このVINT
1をVBLPおよびVCP電位を発生させる降圧回路の
入力としてのみ用いることで、DRAMの動作周期に同
期してVINTのレベルが変動した場合でも、その影響
をうけて変動することのない、安定したVBLPおよび
VCP電位を作ることができる。 【0036】このVCP、VBLPは降圧電位はそれぞ
れDRAMのメモリセルキャパシタ電極の電位として、
またはメモリセルのデータを読み出す際の判定基準電位
として高い電位設定精度と安定したレベル供給が求めら
れる電位であり、本発明を適用することにより、外部電
源電位やその他の内部降圧電位が一時的に変動した場合
でも安定動作を行う半導体記憶装置を得ることができ
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a built-in memory and a step-down circuit for stepping down an externally supplied power supply potential. 2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor memory device having a DRAM (Dynamic Random Access Memory) as a memory cell, a power supply potential supplied from the outside is stepped down by an internal step-down circuit and used. are doing. This step-down power supply system is an indispensable technique from the viewpoints of securing the reliability of the memory, reducing the power consumption, and improving the performance, as described below. In general, in MOS type semiconductor devices, transistors are being miniaturized for higher integration and operating speed. However, with the miniaturization, the withstand voltage of a gate oxide film is reduced. It is necessary to lower the power supply potential in the peripheral portion to reduce the electric field density in the gate insulating film and to ensure reliability. Other advantages of using the step-down circuit method are that the power consumption of the entire chip is reduced, and the instantaneous fluctuations of external power supply and the effects of noise are alleviated in the step-down power supply circuit, thereby stabilizing the memory operation. Can be expected. Conventionally, a circuit shown in FIG. 4 has been used as a configuration of a step-down power supply circuit used for such an application. This circuit comprises a step-down circuit 1 for an active state and a step-down circuit 2 for a standby state, and a step-down circuit 3 for generating a step-down potential of one half of the potential generated by the step-down circuit 1 and the step-down circuit 2. Is done. The potential supplied to each step-down circuit as REFVINT is a potential generated based on the external power supply potential VDD in a reference potential generation circuit (not shown in FIG. 4).
And 2 use this REFVINT as input and
A step-down potential VINT of the same potential as VINT is generated. In FIG. 4, reference numeral 10 denotes an external power supply potential VDD.
Is a power supply line for supplying the voltage step-down circuit, and 11 is a power supply line for similarly supplying the ground potential VSS. Further, the step-down circuit 1 for the active time includes pMOS transistors 12, 1
3. A differential amplifier type comparison circuit composed of nMOS transistors 14 to 16 and a feedback loop for controlling 17 pMOS transistors in accordance with the comparison result. The step-down circuit 1 for the active state is inactive in the standby state for the purpose of suppressing the power consumption of the entire chip. This control is performed by an ACT signal which is an internal signal, and ACT = L is set during standby. Further, the step-down circuit 2 for the standby mode has
To 26 pMOS transistors 22 and 23, nMOS
The circuit is composed of a differential amplifier type comparison circuit composed of transistors 24 to 26, and a feedback loop for controlling 27 pMOS transistors in accordance with the comparison circuit. . Since the step-down circuit 2 for standby is always in the active state, DRA
When the operation of M is in standby mode, only the step-down circuit 2 is activated to supply the step-down potential VINT. However, in the active state where a large supply capability of VINT is required, the step-down circuit 1 for the active state is further activated. To supply a stable step-down potential VINT. For this reason, the size of the transistor forming the step-down circuit 2 for standby is set smaller than the size of the transistor forming the step-down circuit 1 for active. The step-down circuit 3 receives the step-down potential VINT generated by the step-down circuit 1 or step-down circuit 2 and generates a step-down potential VBLP and a step-down potential VCP that are exactly half of the step-down potential VINT. In the above circuit configuration, VINT is supplied as a power supply voltage for driving the sense amplifier,
VCP is the cell plate potential of the memory cell, VCP
BLP is supplied to the memory unit 4 as a potential for precharging the data line pair before the data of the memory cell is read by the sense amplifier. FIG. 6 is a block diagram of the conventional semiconductor memory device described above with reference to FIG. The operation and configuration are the same as those in FIG. 4, and thus the same configuration is denoted by the same reference numeral and description thereof is omitted here. As described above, the first step-down potential VINT generated by the internal step-down circuits 1 and 2 is supplied as a power source of the memory unit 4 and another step-down circuit is provided. By using as an input of
When generating the second step-down potentials VBLP and VCP such as the step-down potential of the first step-down potential, the first step-down potential (VINT)
The second step-down potential (VBLP, VCP) in synchronization with the fluctuation of
Are likely to fluctuate. In the semiconductor device having the step-down circuit shown in FIG.
The power supply potential supplied to the sense amplifier of the RAM,
Generally, in a DRAM, a large number of sense amplifier groups arranged in the same chip are simultaneously activated at the timing of a read operation or a refresh operation, and a large current flows transiently, so that the potential of VINT fluctuates greatly instantaneously. FIG.
Shows an example of the VINT waveform. As shown in the example of FIG.
Generally, the waveform of T fluctuates greatly in synchronization with the operation cycle of the DRAM itself, and in the circuit configuration shown in FIG.
Step-down potential VC created using the INT potential itself as input
P and VBLP are also affected by the fluctuation of VINT and fluctuate at the same time. On the other hand, VBLP is a potential used as a reference for signal detection as a voltage of the data line at the time of precharge.
Fluctuations in LP may degrade the criterion for reading data from a memory cell with a sense amplifier. Also, VCP
Is the potential of the memory cell capacitor electrode,
When the CP fluctuates, there is a possibility that the read operation characteristics may be degraded when the amount of charge stored in the memory cell is small, such as when the DRAM operates at a low voltage or during a pause time. In order to suppress the fluctuation of the step-down potential, the size of the driving transistor for the step-down potential is increased to increase the supply capability of the potential, or the fluctuation of the potential is suppressed by adding a smoothing capacitor to the step-down potential. I have responded. However, the required bit width and page length tend to increase as the capacity of the DRAM increases, and in recent years, custom logic such as a CPU and an ASIC has
Semiconductor devices that integrate AM in one chip have been put into practical use,
That trend is increasing. This is DR
As a result, the number of sense amplifiers that are simultaneously activated inside the AM is increased.
It has become difficult to keep the fluctuation of the NT / 2 potential small. According to the present invention, a first step-down potential obtained by stepping down an external power supply potential is output to a memory unit.
, A second step-down circuit for stepping down an external power supply potential and outputting a second step-down potential having the same potential as the first step-down potential to a third step-down circuit, and stepping down the second step-down potential a third step-down circuit the third down-converted potential output to the memory unit comprising Te, a first step-down voltage, and a circuit directly coupled means directly connecting the second step-down voltage, the circuit directly means according to the operating state of the memory unit , And the second step-down potential is output to the third step-down circuit and is not output to the memory unit. With this configuration, the third step-down potential is a step-down circuit that has generated the first step-down potential (corresponding to the first step-down circuit).
Is generated by another step-down circuit (corresponding to the second and third step-down circuits), so that the third step-down potential output from the third step-down circuit to the memory unit is equal to the first step-down potential. Since there is no influence, the third step-down circuit can always supply a stable third step-down potential to the memory unit. Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Although not shown in FIG. 1, a VINT step-down circuit 51 for active mode and a VINT step-down circuit 51 for standby mode are provided.
INT step-down circuit 52, VINT1 step-down circuit 53, VIN
T limiter circuit 54, VINT1 limiter circuit 5
5. It is assumed that the external power supply potential VDD and the ground potential VSS are supplied to all of the VINT1 / 2 step-down circuits 56. As shown in FIG. 1, reference numeral 5 denotes a reference voltage generation circuit. The reference voltage generation circuit 5 converts a reference potential REFVINT generated based on the external power supply potential VDD to a VINT step-down circuit 51 for active use and a standby voltage for standby use. To the VINT step-down circuit 52 and the VINT1 step-down circuit 53. Reference numeral 7 denotes a timing generation circuit which outputs an ACT signal to a VINT step-down circuit 51 for active mode, a VINT step-down circuit 52 for standby mode, and a VINT1 step-down circuit 53. In addition, the timing generation circuit 7 supplies the BINT limiter circuit 54 and the VINT1 limiter circuit 55 with BIV
Outputs an INT signal. Reference numeral 51 denotes a step-down circuit which generates a step-down potential VINT obtained by stepping down VDD when active, 52 denotes a step-down circuit which generates a step-down potential VINT obtained by stepping down VDD during standby, and 53 denotes a step-down circuit which steps down VDD. Potential V
A step-down circuit for generating INT1, 54 defines an upper limit of the VINT potential, a VINT limiter circuit for equalizing the VINT potential to the VDD potential during the burn-in test, and 55 defines an upper limit of the VINT1 potential. Sometimes, a VINT1 limiter circuit for equalizing the VINT1 potential to the VDD potential, and 56 is a VINT1
Potential VBLP and reduced potential VCP obtained by stepping down voltage
Are shown, respectively. Reference numeral 6 denotes a potential direct connection means, which is a circuit for directly connecting VINT and VINT1. Next, the step-down circuit 51, step-down circuit 52, step-down circuit 53, limiter circuit 54 for VINT, limiter circuit 55 for VINT1, and step-down circuit 56 for VINT1 / 2 will be described with reference to FIGS. This will be described in more detail. In FIG. 2, the potential direct connection means 6 (constituted by the inverter circuit 89 and the pMOS transistor 90) shown in FIG. 1 is shown inside the VINT1 / 2 step-down circuit 56. As shown in FIG. 2, reference numeral 60 denotes an external power supply potential V
DD is a power supply line for supplying the entire circuit, and 61 is a power supply line for similarly supplying the ground potential VSS. REFVI
The wiring indicated by NT is a reference voltage generation circuit (FIG. 2)
, BIVINT indicate a signal line from a timing generation circuit (not shown in FIG. 2). In the step-down circuit 51 for the active time,
62 and 63 are pMOS transistors forming a current mirror circuit, and 64 and 65 are n transistors forming a driving transistor.
A MOS transistor 66 is an nMOS transistor forming a constant current source, and 67 is a pMOS transistor forming a regulator. The differential amplifier circuit composed of the transistors 62 to 66 functions as a comparison circuit for detecting a potential difference between the input potential REFVINT and the output potential VINT, and a feedback loop for controlling 67 pMOS transistors in accordance with the comparison result. And outputs VINT having the same potential as REFVINT. That is, the step-down potential VINT changes to the input potential RE.
When the voltage of the pMOS transistor 67 starts to become lower than FVINT, the gate potential of the pMOS transistor 67 becomes lower.
Start charging. The output potential VINT rises and REFV
On the other hand, when the voltage starts to become higher than INT, the pMOS transistor 67 is turned off because the gate potential rises.
Charging stops. By such an operation, the reduced potential VI
The fluctuation of NT can be suppressed. In the step-down circuit 52 for standby, 72 and 73 are pMOSs forming a current mirror circuit.
Transistors 74 and 75 are nMOS transistors serving as driving transistors, and 76 is an nM transistor serving as a constant current source.
OS transistor, 77 is a pMOS that forms a regulator
It is a transistor. The differential amplifier circuit composed of the transistors 72 to 76 functions as a comparison circuit for detecting a potential difference between the input potential REFVINT and the output potential VINT, and a feedback loop for controlling the pMOS transistor 77 according to the comparison result. And REFVIN
VINT having the same potential as T is output. The active step-down circuit 51 for performing the above operation is inactive in the standby state for the purpose of suppressing the power consumption of the entire chip. This control is performed by the ACT signal supplied from the timing generation circuit 7, and ACT = L is set during standby. At this time, the nMOS transistor 66 is turned off, and pMO
Since the S transistor 68 is turned on, the pMOS transistor 67 whose gate is supplied with the H level is turned off.
In this case, the differential amplifier circuit becomes inactive and the output potential becomes high impedance. On the other hand, the configuration of the standby VINT step-down circuit 52 is the same as that of the active state VINT step-down circuit 51, and the transistors 72 to 77 have the same functions as the transistors 62 to 67, respectively. The size is designed to be relatively small for the purpose. Also, nMO
Since the gate electrode of S transistor 76 is fixed at power supply potential VDD, step-down circuit 52 for standby is always active. That is, during standby, only the step-down circuit 52 is activated to supply the step-down potential VINT. However, at the time of an active state in which a large supply capability of VINT is required, the step-down circuit unit 51 for the active state is further activated. The supply of the stable step-down potential VINT is compensated. In the VINT1 step-down circuit 53, 82 and 83 are pMOS transistors forming a current mirror circuit, 84 and 85 are nMOS transistors forming a driving transistor, and 86 is an nMO transistor forming a constant current source.
The S transistor 87 indicates a pMOS transistor forming a regulator. Reference numeral 88 denotes a pMOS transistor for setting the output of the step-down circuit to a high impedance state, 89 denotes an inverter circuit for generating an inverted signal of the ACT signal, and 90 denotes a pMOS transistor for directly connecting VINT and VINT1. 82 to 8
The circuit configuration of the differential amplifier circuit composed of six transistors is similar to that of the active-state VINT step-down circuit 51, but the size of each transistor is designed to be relatively small. VINT1 step-down circuit 5
3 has the same function as the active-time VINT step-down circuit 51 in that it outputs the same potential as the input potential REFVINT, and the generated potential VINT1 is set exactly equal to the step-down potential VINT. In addition, the operation of the operation amplifier itself becomes inactive at the time of standby, that is, at the time of ACT = L, has the same function as the step-down circuit 51.
INT1 and VINT are directly connected, and the VINT1 potential is supplied from the step-down circuit 52 for standby.
This step-down potential VINT1 is not supplied to other circuits except that it is supplied as an input potential of the VBLP and VCP step-down circuit 56. In FIG. 2, in the VINT limiter circuit 54, the pMOS transistor 100 and the nMOS transistor 102 have the signal BIVINT supplied from the timing generation circuit at the gate electrode. During normal operation, BIVINT is fixed at the H potential, the pMOS transistor 100 is turned off, and the nMOS transistor 10 is turned off.
2 is turned on, the pMOS transistor 1
The drain potential of 01 is almost the ground potential VSS.
Here, the function of the pMOS transistor 101 is that the source potential VINT is compared with the gate potential REFVINT.
Is the threshold potential VTP of the pMOS transistor 101
Since the current starts to flow when the voltage becomes higher by this amount, this circuit functions as a clamp circuit for preventing the potential of VINT from becoming higher than a certain level. On the other hand, at the time of chip burn-in test, BIVINT = L is set. At this time, the pMOS transistor 100 is turned on and the nMOS
The transistor 102 is turned off, and the transistor 1
Via 00, the VINT potential is set to the same potential as VDD. This circuit means is used because it is necessary to uniformly accelerate the stress condition in the normal operation during the burn-in operation. The 55 VINT1 limiter circuit is also a circuit having a similar configuration for realizing the above-described desired function for the step-down potential VINT1, and the transistors 110 to 112 have the same function as the transistors 100 to 102. Further, the step-down circuit 56 is a step-down circuit which receives the step-down potential VINT1 generated by the step-down circuit 53 as input and generates a step-down potential VBLP or VCP of a half level thereof. The values of the resistors 91 and 94 are sufficiently large and equivalent, and the potential of the node 99 is designed to be VINT1 / 2 based on the resistance ratio. If the threshold value of the transistor in this circuit is uniformly VT, the potentials of the nodes 97 and 98 are (VINT / 2) + VT, (VI) due to the clamping action of the transistor nMOS transistor 92 and the pMOS transistor 93, respectively.
NT / 2) -VT, and the output potential is stabilized at VINT1 / 2. At this time, the nMOS transistor 95 has a function of flowing a current from the power supply line to the output when the output potential falls below the VINT1 / 2 level, thereby increasing the output potential.
Conversely, the output potential of the pMOS transistor 96 is VINT1
When the voltage exceeds the / 2 level, a current flows from the output to the ground line to lower the output. In the semiconductor device having the step-down circuit configured as described above, the step-down potential VINT is a power supply potential supplied to the memory cell array of the DRAM. This VINT
The voltage is mainly consumed as a power supply of a sense amplifier group for reading data from a memory cell. In general, in a DRAM, a plurality of sense amplifier groups in a device are simultaneously activated at timings such as a read operation and a refresh operation, and VI is used.
A large current flows from NT. The current flowing at this time is DRAM
Is a large current that accounts for most of the current consumption of
The level of VINT shows a large fluctuation instantaneously. FIG. 3 is a waveform diagram for explaining the operation of the circuits shown in FIGS. The ACT signal generated by the timing generation circuit 7 is set to ACT = H when the VINT consumption is large, such as during a DRAM read operation or a refresh operation, and the step-down circuit is controlled so as to increase the VINT supply capability. Perform However,
It is difficult to reduce the influence of the large current described above by a circuit method, and the waveform of VINT fluctuates as shown in the figure. On the other hand, V supplied by the step-down circuit 53
Since INT1 is not used except for being used as the input potential of the step-down circuit 56, its level does not fluctuate in synchronization with the internal operation state of the memory.
Always keep a stable level as shown. On the other hand, VBL
Since P and VCP are made using VINT1 as an input, the same stable operation can be expected. As a result, even when a potential fluctuation occurs in the step-down potential VINT, VI
The step-down potentials VBLP and VCP having the NT / 2 potential can be stabilized. This is very effective for setting the cell plate potential VCP of the memory cell requiring high accuracy and supplying a stable bit line precharge level VBLP. In the present embodiment, the activation period of the step-down circuit 53 is limited to only the active period in order to reduce the power consumption at the time of standby, and the VINT1 level is supplied from VINT at the time of standby. Step-down circuit 5
3 may be always activated similarly to the step-down circuit 52. Further, as for VINT, the voltage step-down circuit 51 in the active state and the voltage step-down circuit 52 in the standby state are not properly used. A configuration in which the VINT supply capacity can be changed stepwise may be used. In short, when configuring the second step-down circuit that generates VINT / 2 which is just half the level of the step-down potential VINT generated by the first step-down circuit, VINT is not used directly as the input potential. Then, a step-down potential VINT1 having the same potential as VINT may be generated using the third step-down circuit, and this VINT1 may be used as the input potential of the second step-down circuit. As long as the above essence is not impaired, there is no particular limitation on the circuit system of the circuit blocks of 51 to 56. The semiconductor memory device of the present invention may be configured as a general-purpose DRAM in which a dynamic memory cell and its peripheral circuits are integrated, or may be a dynamic memory cell and its peripheral circuits, a CPU and a custom logic. May be integrated in the same chip. The preferred embodiment of the present invention has been described above. However, the present invention is not limited to the above embodiment, and various design changes can be made without departing from the spirit of the present invention. Of course. The limiter circuit 54 for VINT and the limiter circuit 55 for VINT1 are not always necessary to obtain the effect of the present embodiment. According to the present invention, the internal step-down potential VINT and the internal step-down potential VI are obtained by stepping down the external power supply potential VDD.
Internal step-down potentials VBLP and VCP obtained by stepping down NT
Of the step-down circuit for generating the VBLP and VCP potentials as VIN
A step-down potential VINT1 which is the same potential as VINT and is supplied by another step-down circuit without using T is used. This VINT
1 is used only as an input to the step-down circuit for generating the VBLP and VCP potentials, so that even if the level of VINT fluctuates in synchronization with the operation cycle of the DRAM, a stable VBLP does not fluctuate under the influence of the fluctuation. And VCP potential. The VCP and VBLP have the reduced potentials as the potentials of the memory cell capacitor electrodes of the DRAM, respectively.
Alternatively, high potential setting accuracy and stable level supply are required as determination reference potentials when reading data from a memory cell. By applying the present invention, the external power supply potential and other internal step-down potentials are temporarily reduced. It is possible to obtain a semiconductor memory device that performs a stable operation even when it fluctuates.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の半導体記憶装置の実施の形態を示すブ
ロック図 【図2】本発明の半導体記憶装置の実施の形態を示す回
路図 【図3】本発明の半導体記憶装置に実施の形態を説明す
るための波形図 【図4】従来の半導体記憶装置を示す回路図 【図5】従来の半導体記憶装置を説明するための波形図 【図6】従来の半導体記憶装置を示すブロック図 【符号の説明】 1 降圧回路 2 降圧回路 3 降圧回路 4 メモリ部 5 リファレンス電圧発生回路 6 電位直結手段 7 タイミング発生回路 10 電源線(VDD) 11 電源線(VSS) 12、22 pMOSトランジスタ 13、23 pMOSトランジスタ 14、24 nMOSトランジスタ 15、25 nMOSトランジスタ 16、26 nMOSトランジスタ 17、27 pMOSトランジスタ 19 pMOSトランジスタ 51 降圧回路 52 降圧回路 53 降圧回路 54 VINT用リミッタ回路 55 VINT1用リミッタ回路 56 VINT1/2降圧回路 60 電源線(VDD) 61 電源線(VSS) 62、72、82 pMOSトランジスタ 63、73、83 pMOSトランジスタ 64、74、84 nMOSトランジスタ 65、75、85 nMOSトランジスタ 66、76、86 nMOSトランジスタ 67、77、87 pMOSトランジスタ 68、88 pMOSトランジスタ 100、110 pMOSトランジスタ 101、111 pMOSトランジスタ 102、112 nMOSトランジスタ 90 トランジスタ 91、94 抵抗 92、95 nMOSトランジスタ 93、96 pMOSトランジスタ 97、98、99 1/2降圧回路の配線
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device of the present invention. FIG. 4 is a circuit diagram illustrating a conventional semiconductor memory device. FIG. 5 is a waveform diagram illustrating a conventional semiconductor memory device. FIG. 6 is a waveform diagram illustrating a conventional semiconductor memory device. Block diagram showing storage device [Description of reference numerals] 1 step-down circuit 2 step-down circuit 3 step-down circuit 4 memory unit 5 reference voltage generation circuit 6 potential direct connection means 7 timing generation circuit 10 power supply line (VDD) 11 power supply line (VSS) 12, 22 pMOS transistor 13, 23 pMOS transistor 14, 24 nMOS transistor 15, 25 nMOS transistor 16, 26 nMOS transistor 17, 27 pMOS transistor Transistor 19 pMOS transistor 51 step-down circuit 52 step-down circuit 53 step-down circuit 54 limiter circuit for VINT 55 limiter circuit 56 for VINT1 VINT1 / 2 step-down circuit 60 power supply line (VDD) 61 power supply line (VSS) 62, 72, 82 pMOS transistor 63, 73, 83 pMOS transistors 64, 74, 84 nMOS transistors 65, 75, 85 nMOS transistors 66, 76, 86 nMOS transistors 67, 77, 87 pMOS transistors 68, 88 pMOS transistors 100, 110 pMOS transistors 101, 111 pMOS transistors 102, 112 nMOS transistor 90 transistor 91, 94 resistor 92, 95 nMOS transistor 93, 96 pMOS transistor 97, 98, 991 / Wiring of the step-down circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−93977(JP,A) 特開 平8−55480(JP,A) 特開 平5−334879(JP,A) 特開 平6−325569(JP,A) 特開 平11−250665(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/401 - 11/419 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-7-93977 (JP, A) JP-A-8-55480 (JP, A) JP-A-5-334879 (JP, A) 325569 (JP, A) JP-A-11-250665 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 11/401-11/419

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 外部から供給される外部電源電位を降圧
して得られる降圧電位をメモリ部の電源として使用する
半導体記憶装置において、 前記外部電源電位を降圧してなる第1の降圧電位を前記
メモリ部へ出力する第1の降圧回路と、 前記外部電源電位を降圧して前記第1の降圧電位と同一
電位の第2の降圧電位を第3の降圧回路に出力する第2
の降圧回路と、 前記第2の降圧電位を降圧してなる第3の降圧電位を前
記メモリ部に出力する前記第3の降圧回路と、 前記第1の降圧電位と、前記第2の降圧電位を直結する
回路直結手段と、 前記メモリ部の動作状態に従って前記回路直結手段を制
御する制御手段とを有し、 前記第2の降圧電位は、前記第3の降圧回路に出力さ
れ、かつ、前記メモリ部には出力されないことを特徴と
する半導体記憶装置。
(57) A semiconductor memory device using a reduced potential obtained by stepping down an external power supply potential supplied from the outside as a power supply of a memory unit, wherein the external power supply potential is stepped down. A first step-down circuit for outputting a first step-down potential to the memory section, and a third step-down circuit for stepping down the external power supply potential and setting a second step-down potential having the same potential as the first step-down potential. Output to the second
A third step-down circuit that outputs a third step-down potential obtained by stepping down the second step-down potential to the memory unit; a first step-down potential; and a second step-down potential And a control means for controlling the circuit direct connection means in accordance with an operation state of the memory unit, wherein the second step-down potential is output to the third step-down circuit , and A semiconductor memory device which is not output to a memory unit.
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