JP3462731B2 - Maintenance method of high temperature bag filter and filter membrane - Google Patents

Maintenance method of high temperature bag filter and filter membrane

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JP3462731B2
JP3462731B2 JP26401397A JP26401397A JP3462731B2 JP 3462731 B2 JP3462731 B2 JP 3462731B2 JP 26401397 A JP26401397 A JP 26401397A JP 26401397 A JP26401397 A JP 26401397A JP 3462731 B2 JP3462731 B2 JP 3462731B2
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  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ゴミ焼却炉や灰溶
融炉のような廃棄物処理炉で発生する高温排ガス中の煤
塵等をフィルタ膜で物理的に捕集して除去する高温バグ
フィルタ、及び、そのフィルタ膜の保守方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high temperature bag filter that physically collects and removes soot and dust in high temperature exhaust gas generated in a waste treatment furnace such as a refuse incinerator and an ash melting furnace by a filter membrane. And a method of maintaining the filter membrane.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、この種のバグフィルタは、排ガ
ス処理室内に筒状のフィルタユニットを複数備え、前記
排ガス処理室内に供給された排ガスが、各フィルタユニ
ットのフィルタ膜を通過し、その通過時に排ガス中の煤
塵等が除去され、各フィルタユニットの煤塵等が除去さ
れた後の排ガスを排出する開口部を通過して、排ガス処
理室外へ吸引排出されるように構成されている。また、
各フィルタユニットのフィルタ膜に付着した煤塵等を洗
浄除去するために、各フィルタユニットの前記開口部に
沿って逆圧洗浄用パイプを配置し、その逆圧洗浄用パイ
プに設けられた空気噴出口を前記各開口部に対向するよ
うに設置した構造の逆圧洗浄装置を備えたものがある。
具体的には、前記逆圧洗浄用パイプに供給された圧搾空
気を前記空気噴出口から前記各開口部に向けて噴出する
ことで、その空気が通常の排ガス処理時の排ガスの流れ
とは逆方向に各フィルタユニットの内側から外側に向け
て前記各フィルタ膜に噴射されて、そのフィルタ膜に付
着した煤塵等が逆圧洗浄される。
2. Description of the Related Art Generally, a bag filter of this type is provided with a plurality of cylindrical filter units in an exhaust gas treatment chamber, and the exhaust gas supplied into the exhaust gas treatment chamber passes through a filter membrane of each filter unit and passes therethrough. Sometimes, soot and the like in the exhaust gas are removed, and after passing through the opening for exhaust gas after the soot and the like of each filter unit is removed, it is sucked and discharged to the outside of the exhaust gas processing chamber. Also,
In order to clean and remove soot and dust adhering to the filter membrane of each filter unit, a back pressure cleaning pipe is arranged along the opening of each filter unit, and an air ejection port provided in the back pressure cleaning pipe. There is a back pressure cleaning device having a structure in which is installed so as to face each of the openings.
Specifically, the compressed air supplied to the back pressure cleaning pipe is ejected from the air ejection port toward each of the openings, so that the air is opposite to the flow of the exhaust gas during normal exhaust gas treatment. In a direction from the inside to the outside of each filter unit, the soot dust and the like adhering to the filter film and sprayed on the filter film are back-pressure washed.

【0003】ところで、従来より、前記フィルタ膜に天
然繊維、合成繊維、または、無機質繊維等の布を使用し
た通常のバグフィルタが一般に普及しているが、かかる
通常のバグフィルタでは、その排ガスの入口上限温度
は、そのフィルタ膜の耐熱性より150℃乃至200℃
に制限する必要があった。このため、500℃乃至60
0℃程度の高温の排ガスは、前記通常のバグフィルタに
供給する前に、ガス冷却塔等で一旦150℃乃至200
℃程度の低温に冷却する必要があり、また、煤塵除去後
の燃焼排ガスを再び昇温して、触媒反応塔等で燃焼排ガ
ス中の有害物質である窒素酸化物、ダイオキシン等を除
去する必要があり、かかる冷却・昇温過程を必要とする
ので、燃焼排ガス処理のために必要以上の熱損失を招く
という問題を有していた。
By the way, conventionally, an ordinary bag filter in which a cloth made of natural fiber, synthetic fiber, inorganic fiber or the like is used for the filter membrane has been generally popular. Due to the heat resistance of the filter membrane, the maximum inlet temperature is 150 to 200 ° C.
Had to be limited to. Therefore, 500 ℃ to 60
Exhaust gas having a high temperature of about 0 ° C. is temporarily supplied at 150 ° C. to 200 ° C. in a gas cooling tower or the like before being supplied to the normal bag filter.
It is necessary to cool to a low temperature of about ℃, and to raise the temperature of the combustion exhaust gas after removing the dust again to remove nitrogen oxides, dioxins, etc. which are harmful substances in the combustion exhaust gas in the catalytic reaction tower etc. However, since such a cooling / heating process is required, there is a problem that an excessive heat loss is caused for the treatment of combustion exhaust gas.

【0004】更に、前記ガス冷却塔等において水噴射に
よって高温排ガスの冷却処理を行う場合、大量の水蒸気
が発生することから、排ガスの絶対量が増加し、吸引送
風機の能力を増大する必要が生じたり、煤塵除去後の燃
焼排ガスの単位排ガス量当たりの熱量が低下し、廃熱利
用効率が低下する要因となっていた。また、かかる冷却
過程において、排ガス温度がダイオキシンの再合成温度
である300℃を通過して低下するため、前記通常のバ
グフィルタで回収される煤塵等にダイオキシンが多量に
含まれる結果となり、前記回収された煤塵等に対して別
途キレート処理を施す必要があった。
Further, when cooling the high temperature exhaust gas by water injection in the gas cooling tower or the like, a large amount of water vapor is generated, so that the absolute amount of the exhaust gas is increased and it is necessary to increase the capacity of the suction blower. In addition, the amount of heat per unit amount of exhaust gas of the combustion exhaust gas after the dust removal has decreased, which has been a factor of decreasing the waste heat utilization efficiency. Further, in the cooling process, the exhaust gas temperature is lowered by passing through the dioxin resynthesis temperature of 300 ° C., so that a large amount of dioxin is contained in the dust and the like collected by the normal bag filter, and the recovery is performed. It was necessary to separately perform chelating treatment on the generated dust and so on.

【0005】前記通常のバグフィルタの有する上記問題
に対処するために、近年、前記フィルタ膜に、700℃
程度の高温下でも使用可能なセラミック繊維や金属系多
孔質膜等の無機材質からなる耐熱フィルタ膜を用いた高
温バグフィルタが提案され、燃焼排ガス等の高温の排ガ
スを冷却処理せずに直接除塵処理可能な構成が採用され
ている。
In order to deal with the above problems of the ordinary bag filter, recently, the filter film is provided with 700 ° C.
A high-temperature bag filter that uses a heat-resistant filter membrane made of an inorganic material such as ceramic fiber or a metal-based porous membrane that can be used under moderately high temperatures has been proposed, and high-temperature exhaust gas such as combustion exhaust gas is directly removed without cooling treatment. A processable configuration is adopted.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ゴミ焼
却炉や灰溶融炉のような廃棄物処理炉で発生する排ガス
中の飛灰には、350℃乃至400℃付近の低い融点を
持つ低融点物質が含まれており、この低融点物質が前記
フィルタ膜表面に溶着して、フィルタ膜の目詰まりを惹
起し、濾過集塵機能の低下を来していた。更に、前記フ
ィルタ膜表面に溶着した低融点物質は、通常の逆圧洗浄
では前記フィルタ膜表面から除去できず、前記高温バグ
フィルタの稼働を停止して、前記フィルタ膜表面を一旦
冷却してから前記低融点物質の除去を行わなければなら
ず、前記高温バグフィルタの稼働効率及び保守作業効率
を著しく阻害し、設備維持コストの高騰を招く結果とな
っていた。
However, fly ash in exhaust gas generated in a waste treatment furnace such as a refuse incinerator or an ash melting furnace has a low melting point substance having a low melting point of around 350 ° C to 400 ° C. The low melting point substance was deposited on the surface of the filter membrane, causing the filter membrane to be clogged, resulting in deterioration of the filter dust collecting function. Further, the low melting point substance deposited on the surface of the filter film cannot be removed from the surface of the filter film by normal back pressure cleaning, and the operation of the high temperature bag filter is stopped to cool the surface of the filter film once. Since the low melting point substance must be removed, the operating efficiency and maintenance work efficiency of the high temperature bag filter are significantly impaired, resulting in a sharp rise in equipment maintenance cost.

【0007】本発明は、かかる問題点に着目してなされ
たものであり、その目的は、前記フィルタ膜表面に溶着
した低融点物質の洗浄除去が容易に行える高温バグフィ
ルタ及びその保守方法を提供し、高温バグフィルタの特
長を最大限に発現させる点にある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a high-temperature bag filter capable of easily cleaning and removing the low melting point substance deposited on the surface of the filter film, and a maintenance method thereof. However, it is the point that the features of the high temperature bag filter are fully realized.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明の第一の特徴構成は、フィルタユニットの排ガ
ス吸入側のフィルタ膜表面に剥離自在な多孔質薄膜層を
形成してなる高温バグフィルタであって、前記排ガス吸
入側のフィルタ膜表面に向けて、前記多孔質薄膜層を形
成する剥離剤を噴射する第1噴射機構を具備する点にあ
る。
The first characteristic constitution of the present invention for attaining this object is a high temperature formed by forming a peelable porous thin film layer on the surface of the filter membrane on the exhaust gas intake side of the filter unit. It is a bag filter,
Form the porous thin film layer toward the filter membrane surface on the inlet side.
The point is that the first injection mechanism for injecting the releasing agent is formed.

【0009】同第二の特徴構成は、第一の特徴構成に加
えて、前記多孔質薄膜層を剥離除去する薄膜層除去機構
を具備する点にある。
The second characteristic structure is added to the first characteristic structure.
Another point is that a thin film layer removing mechanism for peeling and removing the porous thin film layer is provided.

【0010】同第三の特徴構成は、第一または第二の特
徴構成に加えて、前記多孔質薄膜層が、珪藻土、Ca
(OH)、CaO、または、CaCO等の微粉粒子
からなる剥離剤を前記排ガス吸入側のフィルタ膜表面に
付着させて形成してある点にある。
The third characteristic configuration is the first or second characteristic configuration.
In addition to the characteristic structure, the porous thin film layer is composed of diatomaceous earth, Ca
This is because a stripping agent composed of fine powder particles such as (OH) 2 , CaO, or CaCO 3 is attached to the surface of the filter membrane on the exhaust gas suction side.

【0011】 同第四の特徴構成は、第三の特徴構成に加
えて、 複数の排ガス処理室を有し、各排ガス処理室に、
少なくとも前記フィルタユニット一基と、前記排ガス処
理室外から前記排ガス処理室内に向けて前記剥離剤を噴
射する第2噴射機構を設けてなる点にある。
[0011] The same fourth characteristic configuration of, addition to the third feature configuration
Ete has a plurality of exhaust gas treatment chamber, each exhaust gas treatment chamber,
At least one filter unit and a second injection mechanism for injecting the release agent from outside the exhaust gas treatment chamber toward the exhaust gas treatment chamber are provided.

【0012】 この目的を達成するための本発明の第五の
特徴構成は、第一から第四の特徴構成の何れかの高温バ
グフィルタのフィルタ膜の保守方法に関し、フィルタ膜
洗浄時に、前記フィルタ膜表面に付着した煤塵等の除去
と同時に、前記多孔質薄膜層及びそれに付着した煤塵等
を前記フィルタ膜表面より剥離除去する点にある。
The fifth aspect of the present invention for achieving this object
The characteristic configuration is the high temperature bar according to any one of the first to fourth characteristic configurations.
Concerning the maintenance method of the filter film of the filter, at the time of cleaning the filter film, at the same time as removing the dust and the like adhering to the filter film surface, the porous thin film layer and the dust and the like adhering to the porous film layer are removed from the filter film surface is there.

【0013】 同第六の特徴構成は、 複数の排ガス処理室
を有し、各排ガス処理室に第一から第三の特徴構成の何
れかの前記フィルタユニットを少なくとも一基設けてあ
る高温バグフィルタ、または、第四の特徴構成の高温バ
グフィルタのフィルタ膜の保守方法に関し、前記複数の
排ガス処理室の内の一部を選択し、選択されない他の排
ガス処理室だけを通常の濾過集塵処理に供し、当該選択
された排ガス処理室の前記フィルタユニットに対して、
前記フィルタ膜表面に付着した煤塵等の除去と同時に、
前記多孔質薄膜層及びそれに付着した煤塵等を前記フィ
ルタ膜表面より剥離除去する洗浄工程を施し、前記多孔
質薄膜層が剥離除去された後のフィルタ膜表面に新たな
多孔質薄膜層を形成する多孔質薄膜層形成工程を実行す
る点にある。
[0013] the sixth characterizing feature of having a plurality of exhaust gas treatment chamber, what the first third characterizing feature in the exhaust gas treatment chamber
A high-temperature bag filter provided with at least one of the above filter units, or a high-temperature bag filter of the fourth characteristic configuration.
Concerning the maintenance method of the filter membrane of the filter , a part of the plurality of exhaust gas treatment chambers is selected, and only the other exhaust gas treatment chambers that are not selected are subjected to normal filter dust collection treatment, and the selected exhaust gas treatment chambers For the filter unit,
At the same time as removing dust and the like adhering to the filter membrane surface,
A cleaning step of peeling and removing the porous thin film layer and dust and the like adhering to the porous thin film layer from the filter membrane surface is performed, and a new porous thin film layer is formed on the filter membrane surface after the porous thin film layer is peeled and removed. The point is to execute the porous thin film layer forming step.

【0014】 同第七の特徴構成は、 前記複数の排ガス処
理室の全てに対して、同第六の特徴構成のフィルタ膜の
保守方法を逐次実行する点にある。
[0014] the seventh characterizing feature, relative to all of the plurality of exhaust gas treatment chamber, lies in performing maintenance method of the sixth characterizing feature of the filter membrane sequentially.

【0015】 以下に作用並びに効果を説明する。第一の
特徴構成によれば、前記低融点物質が前記フィルタ膜表
面に直接溶着せずに、前記多孔質薄膜層に溶着するた
め、たとえ前記低融点物質の溶着によって前記フィルタ
膜表面に目詰まりが生じても、第五の特徴構成のように
通常の逆圧洗浄等のフィルタ膜洗浄で前記溶着した低融
点物質を溶着状態のまま前記多孔質薄膜層とともに前記
フィルタ膜表面より剥離除去することができるのであ
る。
The operation and effect will be described below. According to the first characteristic configuration, the low-melting point substance is not directly welded to the filter membrane surface but is welded to the porous thin film layer, so that even if the low-melting point substance is welded, the filter film surface is clogged. Even if occurs, the low melting point substance deposited by the filter film cleaning such as the normal back pressure cleaning as in the fifth characteristic configuration is peeled off from the filter film surface together with the porous thin film layer in the welded state. Can be done.

【0016】 第一の特徴構成によれば、更に、 通常の逆
圧洗浄で前記溶着した低融点物質を前記多孔質薄膜層と
ともに前記フィルタ膜表面より剥離除去した後に、前記
フィルタ膜表面に新たな多孔質薄膜層を簡便に形成する
ことができるのである。この場合、複数の前記フィルタ
ユニットの一部を選択してフィルタ膜を、例えば逆圧洗
浄等で洗浄する場合、排ガス処理室内への排ガスの供給
を一時的に停止したり、逆圧洗浄後も当該フィルタユニ
ットへの逆圧洗浄空気の噴出量を加減することで、当該
フィルタユニットのフィルタ膜表面への排ガスの吸引を
抑制しながら、前記剥離剤だけを前記フィルタ膜表面に
付着させることができるのである。結果として、多孔質
薄膜層形成処理によって通常の低温のバグフィルタと比
較して前記高温バグフィルタの稼働効率及び保守作業効
率を大幅に犠牲にすることなく、高温バグフィルタの特
長を最大限に発現させることができるのである。
[0016] According to a first characterizing feature, further, a low-melting substance the welding in a conventional counter-pressure washing after the filter membrane surface than peeled off together with the porous thin film layer, new to the filter membrane surface The porous thin film layer can be easily formed. In this case, when a part of the plurality of filter units is selected to wash the filter membrane by, for example, back pressure cleaning, the supply of exhaust gas into the exhaust gas treatment chamber may be temporarily stopped, or even after back pressure cleaning. By controlling the ejection amount of the back pressure cleaning air to the filter unit, only the release agent can be attached to the filter film surface while suppressing the suction of the exhaust gas to the filter film surface of the filter unit. Of. As a result, the features of the high-temperature bag filter are maximized without sacrificing the operating efficiency and maintenance work efficiency of the high-temperature bag filter significantly compared to the normal low-temperature bag filter by the porous thin film layer forming process. It can be done.

【0017】 更に、第二の特徴構成によれば、薄膜層除
去機構をフィルタ膜洗浄機構と兼用機構または専用機構
とすることで、前記多孔質薄膜層の剥離除去時に前記溶
着した低融点物質を溶着状態のまま前記多孔質薄膜層と
ともに剥離除去することができるのである。結果とし
て、通常の逆圧洗浄工程で前記低融点物質の除去が可能
となるため、前記低融点物質の除去処理によって通常の
低温のバグフィルタと比較して前記高温バグフィルタの
稼働効率及び保守作業効率を犠牲にすることなく、高温
バグフィルタの特長を最大限に発現させることができる
のである。つまり、高温バグフィルタ前段での排ガスの
冷却処理が不要なため、前記ダイオキシンの再合成が回
避でき、冷却に伴う水蒸気の発生がないため、誘引送風
機の小型化が可能となる。また、単位排ガス量当たりの
熱量が高いため、高効率で廃熱の再利用ができるのであ
る。
Furthermore, according to the second characterizing feature, by a thin layer removal mechanism and the filter membrane cleaning mechanism and shared mechanisms or dedicated mechanism, a low-melting substance the welding at the time of peeling removal of said porous thin layer It can be peeled and removed together with the porous thin film layer in the welded state. As a result, since it becomes possible to remove the low melting point substance in the normal back pressure washing step, the operation efficiency and maintenance work of the high temperature bag filter as compared with the normal low temperature bag filter by the treatment of removing the low melting point substance. The features of the high temperature bag filter can be maximized without sacrificing efficiency. That is, since it is not necessary to cool the exhaust gas before the high-temperature bag filter, re-synthesis of the dioxin can be avoided, and steam is not generated due to the cooling, so that the induction blower can be downsized. Moreover, since the amount of heat per unit amount of exhaust gas is high, waste heat can be reused with high efficiency.

【0018】 第三の特徴構成によれば、前記剥離剤が特
にバインダー等を要せず前記フィルタ膜表面に付着
し、前記剥離剤の微粉粒子が前記フィルタ膜のメッシュ
より大きく前記剥離剤自体が前記フィルタ膜を通過した
り目詰まりさせることなく、前記フィルタ膜表面に前記
フィルタ膜よりも粗い多孔質薄膜層を形成することがで
きるのである。従って、前記多孔質薄膜層は前記フィル
タ膜の濾過集塵機能を阻害することなく、前記フィルタ
膜への前記低融点物質の溶着を防止できるのである。特
に剥離剤として、例えば珪藻土を使用すると排ガス中に
含まれる塩化水素などの腐食性ガスに対する中和作用は
ないものの、吸着、剥離作用は著しいものがありその効
果は大である。また、剥離剤として、例えばCa(O
H)、CaO、または、CaCO等のアルカリ粉末
を使用すると、塩化水素などの腐食性ガスに対する中和
作用を有するため、塩素が固定(CaCl)されるの
で有害なダイオキシン類の発生につながる前駆体の生成
を回避でき、高温バグフィルタの下流側でのダイオキシ
ンの再合成を阻止できるのである。更に、高温バグフィ
ルタから排出される脱塩処理された高温でクリーンな排
ガスは、直接にロータリキルンの加熱用熱源等の廃熱回
収装置の熱源に使用しても当該設備の伝熱管等を腐食さ
せたりする心配がなく、廃熱回収効率の向上を図ること
ができるのである。尚、剥離剤としては、排ガス含有成
分と反応して有害ガス成分を生成する虞のないものを用
いる必要がある。
According to a third characterizing feature, the release agent is particularly attached to the filter membrane surface without requiring binder or the like, fine particles of the release agent is greater than the mesh of the filter membrane the release agent itself It is possible to form a porous thin film layer that is rougher than the filter film on the surface of the filter film without passing through or clogging the filter film. Therefore, the porous thin film layer can prevent the low melting point substance from adhering to the filter film without impairing the filter dust collecting function of the filter film. In particular, when diatomaceous earth, for example, is used as a stripping agent, it does not have a neutralizing effect on corrosive gases such as hydrogen chloride contained in the exhaust gas, but it has a remarkable adsorption and stripping effect, and its effect is great. Further, as a release agent, for example, Ca (O
H) 2 , CaO, or CaCO 3 or the like uses an alkaline powder, which has a neutralizing effect on corrosive gases such as hydrogen chloride, so that chlorine is fixed (CaCl 2 ) and harmful dioxins are generated. It is possible to avoid the formation of the connected precursor and prevent the re-synthesis of dioxin downstream of the high temperature bag filter. Furthermore, the desalted high-temperature, clean exhaust gas discharged from the high-temperature bag filter corrodes the heat transfer tubes of the equipment even when directly used as the heat source of the waste heat recovery device such as the heat source for heating the rotary kiln. It is possible to improve the waste heat recovery efficiency without worrying about it. As the stripping agent, it is necessary to use a stripping agent that does not react with the exhaust gas-containing component to produce a harmful gas component.

【0019】第四または第六の特徴構成によれば、逆圧
洗浄による前記多孔質薄膜層の剥離除去及び新たな多孔
質薄膜層の形成を選択的に排ガス処理室単位に独立して
行え、他の排ガス処理室での通常の除塵処理を停止する
必要が無いため、全体としての継続的な稼働を簡単な構
成で維持できるのである。また、多孔質薄膜層の形成過
程において、前記第2噴射機構から噴射された前記剥離
剤の微粉末が前記排ガス処理室内で浮遊し、通常の排ガ
スを吸引する吸引機構でそれらが前記フィルタ膜表面に
吸い寄せられて付着し前記新たな多孔質薄膜層を形成す
るのである。尚、当該排ガス処理室内への排ガスの供給
は停止する必要がある。前記剥離剤の微粉末を排ガスに
混入した状態で前記フィルタ膜表面に付着させた場合、
前記低融点物質も同様に前記フィルタ膜表面に付着する
ため、前記多孔質薄膜層を設ける本来の効果が大幅に阻
害されるからである。
According to the fourth or sixth characteristic configuration, the removal and removal of the porous thin film layer by back pressure cleaning and the formation of a new porous thin film layer can be selectively performed independently for each exhaust gas treatment chamber unit, Since it is not necessary to stop the normal dust removal processing in another exhaust gas processing chamber, the continuous operation as a whole can be maintained with a simple configuration. Further, in the process of forming the porous thin film layer, the fine powder of the release agent injected from the second injection mechanism floats in the exhaust gas processing chamber, and the fine powder of the release agent is sucked by a normal exhaust gas to cause the fine powder of the release agent to flow through the filter film surface. It is attracted to and adheres to and forms the new porous thin film layer. Note that it is necessary to stop the supply of exhaust gas into the exhaust gas processing chamber. When the fine powder of the release agent is attached to the filter membrane surface in a state of being mixed in the exhaust gas,
This is because the low melting point substance also adheres to the surface of the filter film, and the original effect of providing the porous thin film layer is significantly impaired.

【0020】第七の特徴構成によれば、全てのフィルタ
ユニットに対して、フィルタ膜表面状態を常に一定品質
以上に維持でき、前記高温バグフィルタの処理特性を低
下させずに高稼働効率を維持できるのである。
According to the seventh characteristic configuration , the filter film surface condition can be always maintained at a certain quality or higher for all the filter units, and high operating efficiency is maintained without deteriorating the processing characteristics of the high temperature bag filter. You can do it.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る高温バグフ
ィルタ(以下、本発明装置と略称する)の実施の形態に
ついて図面に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a high temperature bag filter according to the present invention (hereinafter, simply referred to as an apparatus of the present invention) will be described below with reference to the drawings.

【0022】図1に示すように、本発明装置は、一般の
バグフィルタと同様に、本発明装置の排ガス処理室内6
aに吸引または送入された濾過集塵処理前の高温の燃焼
排ガスを、鉛直軸芯を有する略円筒状の複数のフィルタ
ユニット1のフィルタ膜8を通過させて煤塵除去した
後、その煤塵除去後の燃焼排ガスを前記フィルタユニッ
ト1の上方に位置する開口部9より排ガス処理室外6b
へ排出するように構成されている。更に、前記各フィル
タユニット1は、金属製の環状及び線状部材を組み合わ
せて構成されたフレーム10にその外側からセラミック
繊維からなる前記フィルタ膜8を装着して構成され、排
ガス処理室の天井隔壁11に設けられた天井開口部12
と前記開口部9を一致させ、その周縁部に適当なシール
処理を施して前記天井隔壁11より吊り下げ支持されて
いる。
As shown in FIG. 1, the apparatus of the present invention, like a general bag filter, has an exhaust gas treatment chamber 6 of the apparatus of the present invention.
The high-temperature combustion exhaust gas that has been sucked into or fed into a and has not been filtered yet has passed through the filter membranes 8 of the plurality of substantially cylindrical filter units 1 having vertical axis cores to remove soot and then the soot removal. The combustion exhaust gas afterward is discharged through the opening 9 located above the filter unit 1 outside the exhaust gas treatment chamber 6b.
Is configured to be discharged to. Further, each of the filter units 1 is configured by mounting the filter membrane 8 made of ceramic fiber from the outside on a frame 10 configured by combining metal annular and linear members, and a ceiling partition wall of an exhaust gas treatment chamber. Ceiling opening 12 provided at 11
And the opening 9 are aligned with each other, and the periphery of the opening 9 is subjected to an appropriate sealing treatment and is suspended and supported from the ceiling partition wall 11.

【0023】本発明装置は、前記フィルタ膜8を逆圧洗
浄するための逆圧洗浄機構13と、前記フィルタ膜8の
外側面で排ガス吸入側に面したフィルタ膜表面2に向け
て、珪藻土、Ca(OH)2 、CaO、または、CaC
3 等の微粉粒子からなる剥離剤4を側方から噴射して
前記フィルタ膜表面2に多孔質薄膜層3を形成する第1
噴射機構5とを備えている。
The apparatus of the present invention comprises a back pressure cleaning mechanism 13 for back pressure cleaning of the filter membrane 8 and a diatomaceous earth toward the filter membrane surface 2 facing the exhaust gas suction side on the outer surface of the filter membrane 8. Ca (OH) 2 , CaO, or CaC
First, a release agent 4 composed of fine powder particles such as O 3 is sprayed from the side to form a porous thin film layer 3 on the filter film surface 2.
The injection mechanism 5 is provided.

【0024】前記逆圧洗浄機構13は、逆圧洗浄用圧搾
空気を搬送する逆洗パイプ13aが前記天井隔壁11の
上方に前記天井開口部12に沿って配管し、前記フィル
タユニット1の内部に向けて前記逆圧洗浄用圧搾空気を
噴射する噴射ノズル13bが、前記天井開口部12の上
方において各別にソレノイド弁13cを介して前記逆洗
パイプ13aに接続した構成となっている。
In the back pressure cleaning mechanism 13, a back cleaning pipe 13a for conveying compressed air for back pressure cleaning is piped above the ceiling partition wall 11 along the ceiling opening 12, and inside the filter unit 1. An injection nozzle 13b for injecting the compressed air for backwashing toward the backwash pipe 13a is separately connected to the backwash pipe 13a above the ceiling opening 12 via a solenoid valve 13c.

【0025】更に、前記第1噴射機構5は、一端が閉塞
した一方側面に多数の噴出口14aを有するセラミック
製の剥離剤噴射パイプ14を前記フィルタ膜表面2の周
囲に前記フィルタユニット1の軸芯と平行に複数本、前
記天井隔壁11を貫通して設け、前記各剥離剤噴射パイ
プ14の開放端側を前記天井隔壁11の上方で一本に集
合し、ソレノイド弁15を介して圧搾空気とともに前記
剥離剤4を搬送する剥離剤搬送パイプ16と接続させ、
前記剥離剤搬送パイプ16の途中に前記剥離剤4を添加
する剥離剤添加装置17を設けた構成となっている。
Further, in the first injection mechanism 5, a ceramic release agent injection pipe 14 having a large number of ejection openings 14a on one side closed at one end is provided around the filter membrane surface 2 around the axis of the filter unit 1. A plurality of pipes are provided so as to penetrate through the ceiling partition wall 11 in parallel with the core, and the open end sides of the release agent injection pipes 14 are gathered together above the ceiling partition wall 11 and compressed air is supplied through the solenoid valve 15. Together with the release agent delivery pipe 16 for delivering the release agent 4,
A release agent adding device 17 for adding the release agent 4 is provided in the middle of the release agent transport pipe 16.

【0026】本発明装置は、排ガス中の煤塵等を濾過集
塵処理する前に、予め前記第1噴射機構5によって、前
記各フィルタユニット1の前記フィルタ膜表面2に前記
剥離剤4を専ら物理的係合により付着させて前記多孔質
薄膜層3を形成しておき、排ガス中の飛灰に含まれる3
50℃乃至400℃付近の低い融点を持つ低融点物質が
直接前記フィルタ膜表面2に溶着するのを防止してい
る。具体的には、前記フィルタ膜表面2に付着した煤塵
等と前記多孔質薄膜層3及び前記多孔質薄膜層3に付着
或いは溶着した煤塵や低融点物質等が、前記逆圧洗浄機
構13によって洗浄除去された後に、当該洗浄除去され
た前記フィルタユニット1の周囲に配置した前記各剥離
剤噴射パイプ14に接続する前記ソレノイド弁15を選
択的に開放し、圧搾空気と共に前記剥離剤4を送り込
み、前記噴出口14aより前記フィルタ膜表面2に向け
て前記剥離剤4を吹き付けるのである。以上の動作を前
記フィルタユニット1の全てに対して実行する。尚、前
記剥離剤4は、珪藻土、Ca(OH)2 、CaO、また
は、CaCO3等の内の一部または全部の混合微粉粒子
であっても、何れか一種類の微粉粒子であっても構わな
い。
In the apparatus of the present invention, before the filter dust collecting process of soot and dust in the exhaust gas, the first spraying mechanism 5 is used to physically remove the release agent 4 onto the filter membrane surface 2 of each filter unit 1 in advance. The porous thin film layer 3 is formed by being adhered by mechanical engagement, and is included in the fly ash in the exhaust gas.
A low-melting substance having a low melting point of around 50 ° C. to 400 ° C. is prevented from directly adhering to the filter film surface 2. Specifically, soot and the like adhering to the filter membrane surface 2 and the porous thin film layer 3 and soot and low melting point substances adhering to or adhering to the porous thin film layer 3 are washed by the back pressure washing mechanism 13. After being removed, the solenoid valve 15 connected to each of the stripping agent injection pipes 14 arranged around the cleaned and removed filter unit 1 is selectively opened, and the stripping agent 4 is sent together with compressed air, The release agent 4 is sprayed from the ejection port 14a toward the filter membrane surface 2. The above operation is executed for all of the filter units 1. The stripping agent 4 may be mixed fine powder particles of a part or all of diatomaceous earth, Ca (OH) 2 , CaO, CaCO 3 or the like, or any one kind of fine powder particles. I do not care.

【0027】前記フィルタ膜表面2の逆圧洗浄はパルス
ジェット方式等の公知手段及び公知方法によって実行す
る。具体的には、前記フィルタユニット1の全てに対し
て、一部のフィルタユニット1を逐次選択し、選択され
たフィルタユニット1に対応する前記噴射ノズル13b
から圧搾空気を噴出すべく、それに接続したソレノイド
弁13cを開放する。前記多孔質薄膜層3はバインダー
等によらずに専ら物理的係合により付着しているだけで
あるので、逆洗エアーのフィルタ膜の通過及びそれに伴
うフィルタ膜の振動によって容易に前記フィルタ膜表面
2から剥離除去され得るのである。結果として、前記逆
圧洗浄機構13は前記多孔質薄膜層を剥離除去する薄膜
層除去機構としても機能するのである。
The back pressure cleaning of the filter membrane surface 2 is carried out by a known means such as a pulse jet method and a known method. Specifically, for some of the filter units 1, some of the filter units 1 are sequentially selected, and the injection nozzle 13b corresponding to the selected filter unit 1 is selected.
The solenoid valve 13c connected to the compressed air is opened in order to blow compressed air from it. Since the porous thin film layer 3 is adhered only by physical engagement without using a binder or the like, the surface of the filter film is easily caused by the passage of backwash air through the filter film and the accompanying vibration of the filter film. It can be peeled off from 2. As a result, the back pressure cleaning mechanism 13 also functions as a thin film layer removing mechanism for peeling and removing the porous thin film layer.

【0028】以下に、別実施形態を説明する。 〈1〉前記第1噴射機構5は、必ずしも図1に示す構
造、形態、材質に限定されるものではない。例えば、図
2に示すように、前記複数の剥離剤噴射パイプ14の代
わりに前記フィルタユニット1の周囲を環状に囲う形状
の環状剥離剤噴射パイプ18を、上下方向に複数本固定
して設けたり、或いは、一つの前記環状剥離剤噴射パイ
プ19が上下に移動可能に取り付けて構成するのも好ま
しい形態である。また、前記多孔質薄膜層3は必ずしも
前記第1噴射機構5によって形成されなくても構わな
い。適宜、その形成材料及び形成手段は変更可能であ
る。
Another embodiment will be described below. <1> The first injection mechanism 5 is not necessarily limited to the structure, form, and material shown in FIG. For example, as shown in FIG. 2, instead of the plurality of release agent injection pipes 14, a plurality of annular release agent injection pipes 18 having a shape that annularly surrounds the periphery of the filter unit 1 may be provided by being fixed vertically. Alternatively, it is also a preferable mode that one of the annular release agent injection pipes 19 is attached so as to be vertically movable. The porous thin film layer 3 does not necessarily have to be formed by the first injection mechanism 5. The forming material and forming means can be changed appropriately.

【0029】〈2〉前記フィルタ膜表面2の洗浄は、前
記逆圧洗浄機構13の他に、機械振動等の他の洗浄方式
による洗浄機構を用いても構わない。また、前記逆圧洗
浄工程における逆圧洗浄方式も、他の方式であっても構
わない。
<2> For cleaning the filter membrane surface 2, a cleaning mechanism of another cleaning method such as mechanical vibration may be used in addition to the back pressure cleaning mechanism 13. Further, the back pressure cleaning method in the back pressure cleaning step may be another method.

【0030】〈3〉上記実施形態において、前記排ガス
処理室内6aが、単一の排ガス処理室か、複数の排ガス
処理室の内の一つであるかは、特に限定する必要はな
い。他の別実施形態として、図3に示すように、複数の
排ガス処理室6を有し、各排ガス処理室6に、少なくと
も前記フィルタユニット1一基と、前記排ガス処理室外
6bから前記排ガス処理室内6aに向けて前記剥離剤4
を噴射する、前記第1噴射機構5とは異なる構造の第2
噴射機構7を設けた構成とするのも好ましい実施の形態
である。ここで、前記剥離剤4は前記多孔質薄膜層3を
形成するために噴射するのであるから、前記剥離剤4が
噴射される前記排ガス処理室内6aは、除塵処理前の排
ガスを収容する空間を指す。図3に示すように、前記各
排ガス処理室6には、各別に、排ガス給入口20、排ガ
ス排出口21、前記第2噴射機構7を設けてある。前記
各第2噴射機構7は、前記排ガス処理室外6bでソレノ
イド弁22を介して圧搾空気とともに前記剥離剤4を搬
送する剥離剤搬送パイプ23と接続し、前記剥離剤搬送
パイプ23の途中に前記剥離剤4を添加する剥離剤添加
装置24を設けた構成となっている。前記各第2噴射機
構7を前記排ガス給入口20とは独立に設けてあるの
は、前記剥離剤4を清浄な空気とともに前記排ガス処理
室内6aに噴射するためである。仮に、前記排ガス給入
口20から排ガスとともにに噴射した場合、排ガス中の
前記低融点物質も同様に前記フィルタ膜表面に付着する
ため、前記多孔質薄膜層を設ける本来の効果が大幅に阻
害されるからである。
<3> In the above embodiment, it is not particularly limited whether the exhaust gas treatment chamber 6a is a single exhaust gas treatment chamber or one of a plurality of exhaust gas treatment chambers. As another embodiment, as shown in FIG. 3, it has a plurality of exhaust gas processing chambers 6, and each exhaust gas processing chamber 6 has at least one filter unit 1 and the exhaust gas processing chamber outside 6b to the exhaust gas processing chamber. Release agent 4 toward 6a
A second structure having a structure different from that of the first injection mechanism 5 for injecting
It is also a preferable embodiment that the injection mechanism 7 is provided. Here, since the stripping agent 4 is sprayed to form the porous thin film layer 3, the exhaust gas processing chamber 6a into which the stripping agent 4 is sprayed has a space for containing exhaust gas before dust removal processing. Point to. As shown in FIG. 3, each of the exhaust gas processing chambers 6 is provided with an exhaust gas inlet 20, an exhaust gas outlet 21, and the second injection mechanism 7 separately. Each of the second injection mechanisms 7 is connected to a stripping agent transport pipe 23 that transports the stripping agent 4 together with compressed air via the solenoid valve 22 outside the exhaust gas treatment chamber 6b, and the stripping agent transport pipe 23 is provided with the stripping agent transport pipe 23 in the middle thereof. The peeling agent adding device 24 for adding the peeling agent 4 is provided. The reason why each of the second injection mechanisms 7 is provided independently of the exhaust gas inlet 20 is to inject the release agent 4 into the exhaust gas processing chamber 6a together with clean air. If the low melting point substance in the exhaust gas is also adhered to the surface of the filter film when it is injected together with the exhaust gas from the exhaust gas inlet port 20, the original effect of providing the porous thin film layer is significantly impaired. Because.

【0031】本別実施形態において、前記フィルタ膜表
面2に付着した煤塵等の除去と同時に、前記多孔質薄膜
層3及びそれに付着した煤塵等を前記フィルタ膜表面2
より剥離除去する逆圧洗浄工程と、前記多孔質薄膜層3
が剥離除去された後のフィルタ膜表面2に新たな多孔質
薄膜層3を形成する多孔質薄膜層形成工程とを特定の前
記フィルタユニット1に対して連続して実行する。その
特定のフィルタユニット1の選択は、前記複数の排ガス
処理室の内の一部を選択して行い、選択されない他の排
ガス処理室は通常の濾過集塵処理に供することで、本発
明装置全体としては、常に稼働状態を維持することがで
きるのである。ここで、前記複数の排ガス処理室6の内
から一部の排ガス処理室を選択する方法としては、前記
フィルタ膜表面2の煤塵等の付着状態或いは濾過能力を
何らかの手段で検出して、その検出結果に基づいて、前
記逆圧洗浄工程が必要と判断された排ガス処理室を逐次
選択するようにしてもよく、また、単純に所定の順番で
所定数の排ガス処理室を選択するようにしても構わな
い。
In the present embodiment, at the same time as removing the dust and the like adhering to the filter membrane surface 2, the porous thin film layer 3 and the dust and the like adhering thereto are removed from the filter membrane surface 2.
Back pressure cleaning step for further peeling and removal, and the porous thin film layer 3
The porous thin film layer forming step of forming a new porous thin film layer 3 on the filter membrane surface 2 after the peeling and removal is continuously performed for the specific filter unit 1. The selection of the specific filter unit 1 is performed by selecting a part of the plurality of exhaust gas treatment chambers, and the other exhaust gas treatment chambers that are not selected are subjected to a normal filter dust collection treatment, whereby the entire apparatus of the present invention is provided. As a result, the operating state can be maintained at all times. Here, as a method of selecting a part of the exhaust gas processing chambers from the plurality of exhaust gas processing chambers 6, the attachment state of the dust or the like on the filter membrane surface 2 or the filtering ability is detected by some means, and the detection is performed. Based on the result, the exhaust gas treatment chambers determined to require the back pressure cleaning step may be sequentially selected, or simply a predetermined number of exhaust gas treatment chambers may be selected in a predetermined order. I do not care.

【0032】前記多孔質薄膜層形成工程において、前記
第2噴射機構7から噴射された前記剥離剤4の微粉末が
前記排ガス処理室内6aで浮遊し、通常の排ガスを吸引
する吸引機構でそれらが前記フィルタ膜表面2に吸い寄
せられて付着し前記新たな多孔質薄膜層3を形成するの
である。また、前記逆圧洗浄工程における逆圧洗浄方式
は、先の実施形態と同様の方式であっても、他の方式で
あっても構わない。
In the step of forming the porous thin film layer, the fine powder of the stripping agent 4 sprayed from the second spraying mechanism 7 floats in the exhaust gas processing chamber 6a, and the fine powder is sucked by a suction mechanism for sucking normal exhaust gas. It is attracted to and adheres to the filter membrane surface 2 to form the new porous thin film layer 3. In addition, the back pressure cleaning method in the back pressure cleaning step may be the same method as the previous embodiment or another method.

【0033】〈4〉上記の各実施形態におけるフィルタ
ユニット1の形状、構造、寸法、または、そのフィルタ
膜8の材質は、高温バグフィルタとしての本来の機能を
発揮できる範囲で適宜変更可能であることは当然であ
る。例えば、フィルタ膜8の材質として、金属系多孔質
膜を使用してもよく、その場合、その重量、形状等を考
慮して支持構造等を適当に変更する必要がある。
<4> The shape, structure, dimensions of the filter unit 1 or the material of the filter film 8 in each of the above-described embodiments can be appropriately changed within a range in which the original function as a high temperature bag filter can be exhibited. It is natural. For example, a metal-based porous membrane may be used as the material of the filter membrane 8, and in that case, it is necessary to appropriately change the support structure and the like in consideration of its weight, shape and the like.

【0034】〈5〉尚、前記低融点物質の成分同定と本
発明の効果とは直接関係するものではない。本発明に伴
う実験結果として、排ガスのDTA分析より、融点が3
59.1℃、420.9℃、470.2℃等の低融点物
質の存在が確認されており、また、Pb、PbCl2
Zn、ZnCl2 の融点が夫々329℃、501℃、4
19℃、365℃であることから、これらの低融点物質
若しくはこれらと組成が類似する化合物が排ガス中の飛
灰等に含まれているものと推察される。
<5> The identification of the components of the low melting point substance and the effect of the present invention are not directly related. As a result of the experiment according to the present invention, a melting point of 3 was found from the DTA analysis of exhaust gas.
The presence of low melting point substances such as 59.1 ° C., 420.9 ° C., 470.2 ° C. has been confirmed, and Pb, PbCl 2 ,
The melting points of Zn and ZnCl 2 are 329 ° C., 501 ° C., and 4 respectively.
Since the temperature is 19 ° C. and 365 ° C., it is presumed that these low melting point substances or compounds similar in composition to them are contained in fly ash and the like in the exhaust gas.

【0035】尚、特許請求の範囲の項に、図面との対照
を便利にするために符号を記すが、該記入により本発明
は添付図面の構成に限定されるものではない。
It should be noted that reference numerals are added to the claims for convenience of comparison with the drawings, but the present invention is not limited to the configurations of the accompanying drawings by the entry.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る高温バグフィルタの一実施形態を
示す一部切欠側面図
FIG. 1 is a partially cutaway side view showing an embodiment of a high temperature bag filter according to the present invention.

【図2】本発明に係る第1噴射機構の別実施形態を説明
する要部斜視図
FIG. 2 is a perspective view of a main part for explaining another embodiment of the first injection mechanism according to the present invention.

【図3】本発明に係る高温バグフィルタの別実施形態を
示す斜視図
FIG. 3 is a perspective view showing another embodiment of the high temperature bag filter according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フィルタユニット 2 フィルタ膜表面 3 多孔質薄膜層 4 剥離剤 5 第1噴射機構 6 排ガス処理室 6a 排ガス処理室内 6b 排ガス処理室外 7 第2噴射機構 8 フィルタ膜 9 開口部 10 フレーム 11 天井隔壁 12 天井開口部 13 逆圧洗浄機構(薄膜層除去機構) 13a 逆洗パイプ 13b 噴射ノズル 13c、15、22 ソレノイド弁 14 剥離剤噴射パイプ 14a 噴出口 16、23 剥離剤搬送パイプ 17、24 剥離剤添加装置 18、19 環状剥離剤噴射パイプ 20 排ガス給入口 21 排ガス排出口 1 Filter unit 2 Filter membrane surface 3 Porous thin film layer 4 Release agent 5 First injection mechanism 6 Exhaust gas treatment room 6a Exhaust gas treatment room 6b Outside the exhaust gas treatment room 7 Second injection mechanism 8 filter membrane 9 openings 10 frames 11 ceiling partition 12 Ceiling opening 13 Back pressure cleaning mechanism (thin film layer removal mechanism) 13a Backwash pipe 13b injection nozzle 13c, 15,22 solenoid valve 14 Release agent injection pipe 14a spout 16, 23 Release agent carrier pipe 17, 24 Stripping agent adding device 18, 19 Annular release agent injection pipe 20 Exhaust gas inlet 21 Exhaust gas outlet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−79130(JP,A) 特開 平8−103617(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 61/00 - 65/10 B01D 46/00 - 46/54 B01D 53/22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-6-79130 (JP, A) JP-A-8-103617 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) B01D 61/00-65/10 B01D 46/00-46/54 B01D 53/22

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 フィルタユニット(1)の排ガス吸入側
のフィルタ膜表面(2)に剥離自在な多孔質薄膜層
(3)を形成してなる高温バグフィルタであって、 前記排ガス吸入側のフィルタ膜表面(2)に向けて、前
記多孔質薄膜層(3)を形成する剥離剤(4)を噴射す
る第1噴射機構(5)を具備する高温バグフィルタ。
1. A high-temperature bag filter obtained by forming a freely porous thin film layer peeled off the exhaust gas inlet side of the filter membrane surface of the filter unit (1) (2) (3), of the flue gas suction side filter Forward towards the membrane surface (2)
The release agent (4) forming the porous thin film layer (3) is sprayed.
High temperature bag filter comprising a first injection mechanism (5).
【請求項2】 前記多孔質薄膜層(3)を剥離除去する
薄膜層除去機構(13)を具備する請求項1記載の高温
バグフィルタ。
2. The high temperature bag filter according to claim 1, further comprising a thin film layer removing mechanism (13) for peeling and removing the porous thin film layer (3).
【請求項3】 前記剥離剤(4)は、珪藻土、Ca(O
H)、CaO、または、CaCO等の微粉粒子から
なる請求項1または2記載の高温バグフィルタ。
3. The stripping agent (4) is diatomaceous earth, Ca (O).
The high temperature bag filter according to claim 1 or 2, which is made of fine powder particles such as H) 2 , CaO, or CaCO 3 .
【請求項4】 複数の排ガス処理室(6)を有し、各排
ガス処理室(6)に、少なくとも前記フィルタユニット
(1)一基と、前記排ガス処理室外(6b)から前記排
ガス処理室内(6a)に向けて前記剥離剤(4)を噴射
する第2噴射機構(7)を設けてなる請求項1から3の
何れか一項に記載の高温バグフィルタ。
4. A plurality of exhaust gas treatment chambers (6), wherein each exhaust gas treatment chamber (6) includes at least one filter unit (1) and the exhaust gas treatment chamber (6b) to the exhaust gas treatment chamber (6). The second injection mechanism (7) for injecting the release agent (4) toward 6a) is provided .
The high temperature bag filter according to any one of items .
【請求項5】 請求項1から4の何れか一項に記載の高
温バグフィルタのフィルタ膜の保守方法であって、 フィルタ膜洗浄時に、前記フィルタ膜表面(2)に付着
した煤塵等の除去と同時に、前記多孔質薄膜層(3)及
びそれに付着した煤塵等を前記フィルタ膜表面(2)よ
り剥離除去することを特徴とするフィルタ膜の保守方
法。
5. A method of maintaining a filter film of a high temperature bag filter according to any one of claims 1 to 4 , wherein dust and the like adhering to the filter film surface (2) is removed during cleaning of the filter film. At the same time, a method for maintaining a filter membrane, characterized in that the porous thin film layer (3) and soot and dust adhering thereto are peeled off from the filter membrane surface (2).
【請求項6】 複数の排ガス処理室(6)を有し、各排
ガス処理室(6)に請求項1から3の何れか一項に記載
の前記フィルタユニット(1)を少なくとも一基設けて
ある高温バグフィルタ、または、請求項4記載の高温バ
グフィルタにおいて、 前記複数の排ガス処理室の内の一部を選択し、選択され
ない他の排ガス処理室だけを通常の濾過集塵処理に供
し、当該選択された排ガス処理室の前記フィルタユニッ
ト(1)に対して、前記フィルタ膜表面(2)に付着し
た煤塵等の除去と同時に、前記多孔質薄膜層(3)及び
それに付着した煤塵等を前記フィルタ膜表面(2)より
剥離除去する洗浄工程を施し、前記多孔質薄膜層(3)
が剥離除去された後のフィルタ膜表面に新たな多孔質薄
膜層(3)を形成する多孔質薄膜層形成工程を実行する
フィルタ膜の保守方法。
6. A plurality of exhaust gas treatment chambers (6), wherein each exhaust gas treatment chamber (6) is provided with at least one filter unit (1) according to any one of claims 1 to 3. A certain high-temperature bag filter or a high-temperature bag filter according to claim 4 , wherein a part of the plurality of exhaust gas treatment chambers is selected, and only the other exhaust gas treatment chambers that are not selected are subjected to normal filter dust collection treatment, With respect to the filter unit (1) of the selected exhaust gas treatment chamber, at the same time as removing the dust and the like adhering to the filter membrane surface (2), the porous thin film layer (3) and the dust and the like adhering thereto are removed. A cleaning step of peeling and removing from the filter membrane surface (2) is performed, and the porous thin film layer (3)
A method for maintaining a filter film, which comprises performing a porous thin film layer forming step of forming a new porous thin film layer (3) on the surface of the filter film after the film has been removed by peeling.
【請求項7】 前記複数の排ガス処理室(6)の全てに
対して、請求項6記載のフィルタ膜の保守方法を逐次実
行することを特徴とするフィルタ膜の保守方法。
7. For all of the plurality of exhaust gas treatment chamber (6), the filter membrane method maintenance and executes the service method of the filter membrane of claim 6, wherein sequentially.
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