JP3456685B2 - Fabrication method of waveguide type optical element - Google Patents

Fabrication method of waveguide type optical element

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JP3456685B2
JP3456685B2 JP24277396A JP24277396A JP3456685B2 JP 3456685 B2 JP3456685 B2 JP 3456685B2 JP 24277396 A JP24277396 A JP 24277396A JP 24277396 A JP24277396 A JP 24277396A JP 3456685 B2 JP3456685 B2 JP 3456685B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信分野、光情
報処理分野において使用される光デバイスを構成する導
波路型光学素子の作製法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a waveguide type optical element that constitutes an optical device used in the fields of optical communication and optical information processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の導波路型光学素子は、材
料としては、石英ガラス、誘電体結晶LiNbO3 等を
用い、作製法としては、LSIプロセスでよく用いられ
るフォトリソグラフィ、ドライエッチングプロセスの組
み合わせにより微細加工を施し、高性能な導波路型光素
子を作製していた(例えば、文献;河内正夫 Opticala
nd Quantum Electronics 22巻 391ページ(19
90年)参照)。しかし、製造プロセスが繁雑なこと、
作製装置が高価なことから、大量生産には適していない
こと、あるいは安価に素子を作製できないという決定が
あった。また、素子を作製しても、その後、光ファイバ
などの他の光部品との光結合に精密な調整が必要なた
め、大量生産には適していない、という問題がある。ま
た、より安価な材料、高分子材料を用いて導波路素子を
作製することも行われているが(文献;今村他、Electr
onics Lettes 27巻 1342ページ(1991年)
参照)、ガラス導波路と同様な導波路作製法では、基板
1枚ごとに同じパターンニング工程を繰り返す必要があ
ることや、エッチング装置が高価なこと、などのため、
材料的には安価であっても、素子作製ではガラス導波路
と同様なコストがかかってしまい安価とはならない、と
いう欠点がある。また、同様に素子を作製しても、その
後、光ファイバなどの他の光部品との光結合に精密な調
整が必要なため、大量生産には適していない、とい問題
がある。プロセスコストを下げるため、あるいは光結合
の繁雑さを避けるため、金型の転写による射出成形など
の大量生産に適した高分子成形法により、高分子導波路
を作製する方法も提案されているが、プロセスが繁雑で
あるという欠点があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a waveguide type optical element of this type uses quartz glass, dielectric crystal LiNbO 3 or the like as a material, and as a manufacturing method, photolithography or dry etching process often used in an LSI process. Microfabrication was performed by a combination of the above to manufacture a high-performance waveguide type optical element (for example, reference: Masao Kawachi Opticala
nd Quantum Electronics Volume 22 Page 391 (19
90 years))). However, the manufacturing process is complicated,
Due to the high cost of the manufacturing apparatus, it was decided that it was not suitable for mass production or that the element could not be manufactured at low cost. Further, even if the element is manufactured, thereafter, it is not suitable for mass production because precise adjustment is required for optical coupling with other optical components such as an optical fiber. In addition, although waveguide devices have been manufactured using cheaper materials and polymer materials (reference; Imamura et al., Electr
onics Lettes Vol. 27, page 1342 (1991)
In the same method as that for producing a glass waveguide, it is necessary to repeat the same patterning process for each substrate and the etching apparatus is expensive.
Even if the material is inexpensive, there is a drawback that the cost is not the same as that of the glass waveguide because the cost is not the same as that of the glass waveguide. Further, there is a problem that even if a device is manufactured in the same manner, thereafter, it is not suitable for mass production because precise adjustment is required for optical coupling with other optical components such as an optical fiber. In order to reduce the process cost or avoid the complexity of optical coupling, a method of producing a polymer waveguide by a polymer molding method suitable for mass production such as injection molding by transferring a mold has been proposed, but However, there was a drawback that the process was complicated.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
欠点を解決するためになされたもので、高性能な導波路
型光学素子を安価で簡便に作製でき、しかも、他の光部
品と光結合する際、繁雑な位置合わせ作業が不要となる
V溝等の位置合せ部を導波路と一体化して作製すること
ができる導波路型光学素子の作製法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks, and it is possible to easily manufacture a high-performance waveguide type optical element at low cost, and to compare it with other optical parts. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a waveguide type optical element, which can be manufactured by integrating a positioning portion such as a V-groove with a waveguide, which does not require a complicated positioning work when optically coupling.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の導波路型光学素子の作製法は、基板上に高
分子材料を塗布し、下部クラッド材料とする工程、この
クラッド材料の上に、部分的に凸部を有する金型を被
せ、部分的に凹部を有する下部クラッド層を形成する工
前記下部クラッド層上に、硬化した際に該下部クラ
ッド層よりも屈折率の高い樹脂を形成する液状の光硬化
する材料を塗布する工程前記光硬化する材料の塗布膜
上に、所望の凹形状部を有し、該凹形状部のみが光を通
しその他の部分は光を遮断する金型をのせ、前記凹形状
部に前記光硬化する材料を封入する工程前記金型越し
に光を照射し、前記金型の凹形状部に封入されている前
記光硬化する材料のみを硬化させる工程前記金型を除
去し、前記金型の凹形状部以外に存在した液状の光硬化
する材料を溶媒で洗い流す工程を含み、前記下部クラ
ッド層に形成された凹部の位置に合わせて光導波路のコ
アリッジを形成することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a waveguide type optical element of the present invention is a process of applying a polymer material on a substrate to obtain a lower clad material , On top of the mold with a partially convex
To form a lower clad layer partially having a recess.
Extent, on the lower cladding layer, the lower class when cured
A step of applying a liquid photo-curable material that forms a resin having a higher refractive index than the head layer, and a coating film of the photo-curable material
Above, have a desired concave portion, only the concave shaped portion is a light passing
The other parts are covered with a mold that blocks light, and the concave shape is used.
A step of encapsulating the material to the light cured part, light is irradiated to the mold over, curing only the material of the photocurable enclosed in the concave portion of the mold, removing the mold
Removed by It includes a washing stream to step a solvent material to photocuring the liquid that was present in addition to the concave portion of the mold, the lower class
The core ridge of the optical waveguide is formed in accordance with the position of the recess formed in the pad layer .

【0005】本発明において、前記下部クラッド層に形
成される凹部は光ファイバを位置合わせするV溝および
/または光部品を位置合わせする矩形溝である。
In the present invention, the shape of the lower clad layer is formed.
The recess formed is a V-groove for aligning the optical fiber and
And / or rectangular grooves that align the optical components.

【0006】本発明において、凹形状部を有する金型
して光硬化させる波長で透明であるガラスあるいは高分
を用いることができる
In the present invention , a mold having a concave portion and
Glass can be used or a polymer which is transparent at the wavelength to light cured.

【0007】本発明において、前記液状の光硬化する材
、エポキシ系モノマあるいはオリゴマー、不飽和基
を有するモノマあるいはオリゴマー、およびシロキサン
結合を有するモノマあるいはオリゴマーよりなる群から
選択されるモノマまたはオリゴマーと光開始剤を含み、
好ましくは室温で10000cps以下の粘度を有す
る。
In the present invention , the liquid photocurable material is an epoxy-based monomer or oligomer , or an unsaturated group.
Monomers or oligomers containing siloxane, and siloxane
From the group consisting of monomers or oligomers with bonds
Including a monomer or oligomer of choice and a photoinitiator,
It preferably has a viscosity of 10,000 cps or less at room temperature.

【0008】本発明において、前記下部クラッド材料
は、エポキシ系UVモノマであり、前記部分的に凸部を
有する金型が全面光透過する金型であり、金型越しに光
を照射して前記エポキシ系UVモノマを光硬化させ、部
分的に凹部を有する下部クラッド層を形成する
In the present invention, the lower clad material
Is an epoxy-based UV monomer, and the partial convex portion is
The mold that you have is a mold that allows the entire surface to transmit light, and the light passes through the mold.
To cure the epoxy UV monomer by light.
A lower clad layer having a concave portion is separately formed .

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】本発明では、安価な材料である高分子材料
から、大量生産に適した加工法である金型のパターンを
転写する成形加工により、導波路を作製することを基本
としている。この際の問題は、高分子導波路がコアとク
ラッドの2種類の材料を必要とするため、たとえば、ク
ラッド材料を用いてコア用の溝が付与されたものを成形
加工により作製しても、その溝にコア材料を充填する
際、溝を埋めた後の余剰のコア材料を除去するために、
エッチング、研磨などの繁雑なプロセスが必要となる。
In the present invention, a waveguide is basically manufactured by a molding process for transferring a pattern of a mold, which is a processing method suitable for mass production, from a polymer material which is an inexpensive material. The problem at this time is that since the polymer waveguide requires two kinds of materials, a core and a clad, for example, even if a clad material is used to form a core groove provided by molding, When filling the groove with the core material, in order to remove the excess core material after filling the groove,
A complicated process such as etching and polishing is required.

【0015】そこで、本発明の作製方法では、この余剰
部分の処理プロセスを、溶媒により除去すること、すな
わち、フォトレジスト工程における現像プロセスと同様
に溶媒で除去することが可能なプロセスを取れるよう
に、用いる金型に工夫を施している。
Therefore, in the manufacturing method of the present invention, it is possible to remove the excess portion of the treatment process with a solvent, that is, a process that can be removed with a solvent like the developing process in the photoresist step. , The die used is devised.

【0016】また、成形加工材料として光硬化するタイ
プの材料の構造も、エポキシ環、不飽和基、シリコーン
等を有し硬化収縮が少ない構造としていて、成形加工時
の加工誤差を少なくしている。
Further, the structure of a photo-curing type material as a molding processing material is a structure having an epoxy ring, an unsaturated group, silicone and the like and having little curing shrinkage, so that a processing error at the time of molding processing is reduced. .

【0017】さらに、本発明では用いる金型の構造を工
夫することにより、導波路と光ファイバをのせるための
V溝を一体で作製することができるため、導波路と光フ
ァイバとの光結合を精度よく簡便に行うことができる。
Further, by devising the structure of the mold used in the present invention, the V-groove for mounting the waveguide and the optical fiber can be integrally formed, so that the waveguide and the optical fiber are optically coupled. Can be performed accurately and easily.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明における前記課題を解決す
るための指針について簡単に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Guidelines for solving the above problems in the present invention will be briefly described.

【0019】(1) 素子を作製する導波路作製プロセ
スにおいては、おおがかりな装置を用いず、大量生産に
適した簡便な加工法を用いること、(2) 材料的にコ
ストが低く、加工が容易な高分子材料を用いること、
(3) 導波路を作製する際、光ファイバなどの他の光
部品との位置合わせを考慮した金型を用い、後工程であ
る光結合のための作業をできるだけ簡略化すること、な
どが挙げられる。
(1) In the waveguide manufacturing process for manufacturing an element, a simple processing method suitable for mass production is used without using a large-scale device, and (2) a material is low in cost and processing is difficult. Easy to use polymeric material,
(3) When manufacturing a waveguide, use a mold in consideration of alignment with other optical components such as an optical fiber, and simplify the work for optical coupling as a post process as much as possible. To be

【0020】まず、図1〜図5に本発明に応用される光
導波路の作製法の大まかな手順を示す。
First, FIGS. 1 to 5 show the light applied to the present invention.
A rough procedure of a method for manufacturing a waveguide will be shown.

【0021】(a) 基板上1にスピンコート、ディッ
ピング等の手段により高分子膜を塗布し、クラッド層2
とする(図1)。
(A) A polymer film is applied onto the substrate 1 by means such as spin coating or dipping, and the cladding layer 2 is formed.
(Fig. 1).

【0022】(b) 次に、このクラッド層2上にスピ
ンコート、ディッピング等の手段により室温で流動性を
示すモノマあるいはオリゴマー3を塗布する(図2)。
(B) Next, a monomer or oligomer 3 which exhibits fluidity at room temperature is applied onto the clad layer 2 by means such as spin coating or dipping (FIG. 2).

【0023】(c) 次に、所望の形状を有する金型4
をこの基板上に被せ、前記モノマあるいはオリゴマー3
を光照射5により硬化させて、コア部6を作り込む(図
3)。
(C) Next, a mold 4 having a desired shape
The substrate is covered with the above-mentioned monomer or oligomer 3
Is cured by light irradiation 5 to form the core portion 6 (FIG. 3).

【0024】(d) 金型を除去した後、溶媒により硬
化していない材料3を現像し洗い流す(図4)。
(D) After removing the mold, the uncured material 3 is developed by a solvent and washed away (FIG. 4).

【0025】(e) その後、再び高分子膜2をこの上
に被せ、コアクラッドからなる導波路素子7とする(図
5)。
(E) After that, the polymer film 2 is covered again to form the waveguide element 7 composed of the core cladding (FIG. 5).

【0026】前記工程(c)において、溝中に光により
硬化する材料を挿入する際、その材料の粘度が1000
0cps以上の材料では、コアとなる厚さの制御が困難
となるため、溝部に挿入する材料の粘度は1000cp
s以下が望ましい。
In the step (c), when the light-curable material is inserted into the groove, the viscosity of the material is 1000.
With a material of 0 cps or more, it is difficult to control the thickness of the core, so the viscosity of the material inserted into the groove is 1000 cp.
s or less is desirable.

【0027】前記光導波路の作製に用いる金型4の基本
構成を、図6および図7に示す。金型21の材料は、光
透過するものであれば、高分子、ガラス等、どのような
ものも用いることも可能である。図6は金型の上面から
見た一例である。図7は横から見たものである。コア部
を転写するための溝22の上面および側面は、光が通る
構造であり、それは以外の部分23は、光透過しないよ
うに通常のフォトプロセスでマスクに用いるクロム等の
材料がパターン化されている。こうした構造となってい
るため、光硬化する材料をこの金型ごしに光を照射する
と、所望の部分のみが硬化し、チャネル構造の導波路を
作製するのに必要なリッジ構造を、光照射、現像プロセ
スのみで精度よく簡便に作製することが可能となる。
The basic structure of the mold 4 used for producing the optical waveguide is shown in FIGS. 6 and 7. As the material of the mold 21, any material such as polymer and glass can be used as long as it can transmit light. FIG. 6 is an example seen from the upper surface of the mold. FIG. 7 is viewed from the side. The upper surface and side surfaces of the groove 22 for transferring the core portion have a structure through which light passes, and the other portion 23 is patterned with a material such as chrome used for a mask in a normal photo process so as not to transmit light. ing. Due to this structure, when a photo-curable material is irradiated through this mold with light, only the desired part is cured, and the ridge structure necessary for producing a channel structure waveguide is irradiated with light. In addition, it is possible to easily and accurately produce the film only by the developing process.

【0028】[0028]

【実施例】以下、具体的な例を挙げて本発明を詳細に説
明する。
The present invention will be described in detail below with reference to specific examples.

【0029】(参考例1) 本発明に応用される光導波路の作製方法について説明す
る。図8〜図12に示したのは、その作製手順である。
Reference Example 1 A method of manufacturing an optical waveguide applied to the present invention will be described. 8 to 12 show the manufacturing procedure.

【0030】まず、基板31を用意し、この上にスピン
コート法によりクラッド層をなす高分子膜32を塗布、
硬化させる(屈折率1.5)。次に、エポキシ系UVモ
ノマ(粘度1000cp、主成分下式参照)33を塗布
する(図8)。
First, a substrate 31 is prepared, and a polymer film 32 forming a clad layer is applied thereon by spin coating.
It is cured (refractive index 1.5). Next, an epoxy UV monomer (viscosity 1000 cp, see below formula of main component) 33 is applied (FIG. 8).

【0031】[0031]

【化1】 [Chemical 1]

【0032】次に、金型34を被せ、UV光35を照射
する(図9)。このモノマ33はUV光により光硬化
し、導波路のコア36(n=1.52、波長1.31μ
m)となる。ここで、金型34は、幅50μm、高さ5
0μm、長さ50mmの凹部を有するガラス性の金型で
あり、平面図(図10)で示すように凹部以外は光が透
過しない構造となっているため、UV樹脂は金型形状に
沿って硬化し、凸の形状を有するコア36ができる(図
11)。次いで、金型の遮光部によって硬化しなかった
部分を溶媒で洗い流した後、再び高分子膜32を被せ、
導波路型光学素子37を作製する(図12)。
Next, the mold 34 is covered and UV light 35 is irradiated (FIG. 9). This monomer 33 is photo-cured by UV light, and the waveguide core 36 (n = 1.52, wavelength 1.31 μm).
m). Here, the mold 34 has a width of 50 μm and a height of 5
It is a glass mold having a recess of 0 μm and a length of 50 mm. As shown in the plan view (FIG. 10), the UV resin has a structure in which light does not pass except the recess. The core 36 is cured and has a convex shape (FIG. 11). Next, after washing away the portion that has not been cured by the light-shielding portion of the mold with a solvent, the polymer film 32 is covered again,
A waveguide type optical element 37 is manufactured (FIG. 12).

【0033】LD光源(波長1.31μm)を用いて、
この導波路型光学素子37の導波路損失を測定したとこ
ろ、導波路損失は0.3dB/cmであった。
Using an LD light source (wavelength 1.31 μm),
When the waveguide loss of this waveguide type optical element 37 was measured, the waveguide loss was 0.3 dB / cm.

【0034】(参考例2)参考 例1と同様の操作で、モノマ33の主成分として下
記の不飽和基を有するモノマを用いて導波路型光学素子
を作製した(クラッド屈折率n=1.47、コア屈折率
n=1.48、コア幅7μm、高さ7μm)。
Reference Example 2 By the same operation as in Reference Example 1, a waveguide type optical element was produced using a monomer having the following unsaturated group as the main component of the monomer 33 (clad refractive index n = 1. 47, core refractive index n = 1.48, core width 7 μm, height 7 μm).

【0035】該素子の導波路損失は、0.1dB/cm
であった。
The waveguide loss of the device is 0.1 dB / cm.
Met.

【0036】[0036]

【化2】 [Chemical 2]

【0037】ただし、n、mは1以上の整数を表し、
例2の場合はn=1、m=1である。
[0037] However, n, m represents an integer of 1 or more, ginseng
For Remarks Example 2 is n = 1, m = 1.

【0038】(参考例3)参考 例1と同様の操作で、モノマ33の主成分として下
記のシロキサン結合を有するオリゴマーを用いて導波路
型光学素子(クラッド屈折率n=1.50、コア屈折率
n=1.51、コア幅7μm、高さ7μm)を作製し
た。
Reference Example 3 In the same operation as in Reference Example 1, a waveguide type optical element (clad refractive index n = 1.50, core refraction n = 1.50, using the following oligomer having a siloxane bond as the main component of the monomer 33) was used. Ratio n = 1.51, core width 7 μm, height 7 μm) were manufactured.

【0039】該素子の導波路損失は、0.1dB/c
m(波長1.3μm)、0.5dB/cm(波長1.5
5μm)であった。
The waveguide loss of the device is 0.1 dB / c.
m (wavelength 1.3 μm), 0.5 dB / cm (wavelength 1.5
5 μm).

【0040】[0040]

【化3】 [Chemical 3]

【0041】ただし、n、mは1以上の整数を表し、
考例3の場合はn=2、m=1である。
[0041] However, n, m represents an integer of 1 or more, ginseng
In the case of Consideration 3 , n = 2 and m = 1.

【0042】(実施例4)本発明方法によるV溝付き導
波路型光学素子の作製方法について説明する。図13〜
図20に示したのは、その作製手順である。
Example 4 A method of manufacturing a waveguide type optical element with a V-groove by the method of the present invention will be described. 13-
FIG. 20 shows the manufacturing procedure.

【0043】まず、基板40を用意し、この上にエポキ
シ系UVモノマ41を塗布する(図13)。次に、断面
構造が図14のような、開き60°で、高さ150μ
m、幅170μm、長さ20mmのV字形状凸部43を
有するガラス金型42を、このモノマ41上に被せ、モ
ノマ41をUV光44で光硬化させ、硬化膜45(n=
1.51、波長1.31μm)とする。モノマ41は、
金型形状に沿って硬化し、V溝(開き角60°、高さ1
50μm,長さ20mm)46が、硬化膜45の表面上
に形成される(図15)。この場合の金型42は全面光
透過するよう作製されている。
First, the substrate 40 is prepared, and the epoxy UV monomer 41 is applied onto the substrate 40 (FIG. 13). Next, the cross-sectional structure is as shown in FIG. 14 with an opening of 60 ° and a height of 150μ.
A glass mold 42 having a V-shaped convex portion 43 of m, a width of 170 μm and a length of 20 mm is placed on the monomer 41, and the monomer 41 is photo-cured by UV light 44, and a cured film 45 (n =
1.51 and wavelength 1.31 μm). Monomer 41 is
Cured along the mold shape, V groove (opening angle 60 °, height 1
50 μm, length 20 mm) 46 is formed on the surface of the cured film 45 (FIG. 15). The mold 42 in this case is manufactured so that light is transmitted through the entire surface.

【0044】次に、図16のような、細溝部48(深さ
10μm、幅10μm、長さ40mm)が形成され、該
細溝部以外はすべて光が透過できないようになっている
金型47を、用意する。この金型47の細溝部48にコ
アとなるエポキシ系UVモノマ49を挿入し、光照射に
より硬化させる(図17)。この操作によりコアリッジ
400が硬化膜45上に形成される。この際、硬化膜4
5上に形成されていたV溝46と金型47の細溝部48
を正確に合わせることにより、幅10μm、高さ10μ
mのコアリッジ400(n=1.52、波長1.31μ
m)が、V溝46の位置に合わせて作製される(図1
8)。未硬化部分は溶媒で簡単に洗い流せた。
Next, as shown in FIG. 16, a mold 47 is formed in which a narrow groove portion 48 (depth 10 μm, width 10 μm, length 40 mm) is formed, and light cannot be transmitted except in the narrow groove portion. ,prepare. An epoxy-based UV monomer 49 that serves as a core is inserted into the narrow groove portion 48 of the mold 47, and is cured by light irradiation (FIG. 17). By this operation, the core ridge 400 is formed on the cured film 45. At this time, the cured film 4
5, the V groove 46 and the narrow groove portion 48 of the mold 47
Width of 10μm and height of 10μ
m core ridge 400 (n = 1.52, wavelength 1.31μ
m) is manufactured according to the position of the V groove 46 (FIG. 1).
8). The uncured portion was easily washed off with solvent.

【0045】次に、再びエポキシ系UVモノマ41を塗
布硬化して上部クラッド層を成しV溝付導波路型光学素
子401を作製する(図19)。
Next, the epoxy UV monomer 41 is applied and cured again to form the upper clad layer, and the waveguide type optical element 401 with V-groove is manufactured (FIG. 19).

【0046】できた導波路型光学401の外観を図20
に示す。このV溝46に光ファイバを固定し、LD光源
(波長1.31μm)を用いて導波路損失を測定したと
ころ、ファイバとの接続損失は0.2dB、導波路損失
は0.3 dB/cmであった。また、細溝部48を深
さ40μm、幅40μm、長さ40mmにした場合も同
様にV溝付の導波路ができ、ファイバ接続損失0.1d
B、導波路損失0.1dB/cm(波長0.85μm)
を観測した。
FIG. 20 is an external view of the completed waveguide type optics 401.
Shown in. When an optical fiber was fixed in this V groove 46 and the waveguide loss was measured using an LD light source (wavelength 1.31 μm), the connection loss with the fiber was 0.2 dB and the waveguide loss was 0.3 dB / cm. Met. Also, when the fine groove portion 48 has a depth of 40 μm, a width of 40 μm, and a length of 40 mm, a waveguide with a V groove is similarly formed, and the fiber connection loss is 0.1 d.
B, Waveguide loss 0.1 dB / cm (wavelength 0.85 μm)
Was observed.

【0047】(実施例5)本発明方法による波長フィル
タ付導波路型光学素子の作製方法について説明する。図
21〜図28に示したのは、その作製手順である。
Example 5 A method of manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to the method of the present invention will be described. 21 to 28 show the manufacturing procedure thereof.

【0048】まず、基板50を用意し、この上にエポキ
シ系UVモノマ51を塗布する(図21)。次に、断面
構造が図22のような、凸部53(幅60μm、高さ1
00μm、長さ3mm)が形成されたガラス金型52
を、前記モノマ51上に被せ、UV光54を用いて光硬
化させ、硬化膜55(n=1.51、波長1.31μ
m)とする。モノマ51は金型形状に沿って硬化し、フ
ィルタ充填用溝(幅60μm、高さ100μm、長さ3
mm)56が硬化膜の表面上に形成される(図23)。
この場合の金型は全面光透過するよう作製されている。
First, the substrate 50 is prepared, and the epoxy UV monomer 51 is applied onto the substrate 50 (FIG. 21). Next, as shown in FIG. 22, the sectional structure is a convex portion 53 (width 60 μm, height 1
Glass mold 52 having a size of 00 μm and a length of 3 mm)
On the monomer 51 and photocured using UV light 54, and a cured film 55 (n = 1.51, wavelength 1.31 μm).
m). The monomer 51 is cured along the shape of the mold, and has a groove for filter filling (width 60 μm, height 100 μm, length 3).
mm) 56 is formed on the surface of the cured film (FIG. 23).
The mold in this case is manufactured so that the entire surface can transmit light.

【0049】次に、断面構造が図24のような、細溝部
58(深さ50μm、幅50μm、長さ20mm)、細
溝部59(深さ50μm、幅50μm、長さ20m
m)、および凸部500(幅60μm、高さ100μ
m、長さ3mm)が形成され、細溝部以外はすべて光が
透過できないように構成された金型57を用意する。こ
の金型57の細溝部58,59にコアとなるエポキシ系
UVモノマ501を挿入し、UV光照射により硬化させ
る(図25)。この操作によりコアリッジ502,50
3が硬化膜55上に形成される。この際、膜55上に形
成されていた溝56と金型57の凸部500を正確に合
わせることにより、幅50μm、高さ50μmのコアリ
ッジ502,503(n=1.52、波長1.31μ
m)が、溝56の位置に合わせて作製される(図2
6)。
Next, as shown in FIG. 24, the sectional structure is a narrow groove portion 58 (depth 50 μm, width 50 μm, length 20 mm), narrow groove portion 59 (depth 50 μm, width 50 μm, length 20 m).
m) and the convex portion 500 (width 60 μm, height 100 μ
m, length 3 mm) is formed, and a mold 57 is prepared which is configured so that light cannot be transmitted except for the narrow groove portion. The epoxy-based UV monomer 501 serving as the core is inserted into the narrow groove portions 58 and 59 of the mold 57 and cured by UV light irradiation (FIG. 25). By this operation, the core ridges 502, 50
3 is formed on the cured film 55. At this time, by accurately aligning the groove 56 formed on the film 55 and the convex portion 500 of the mold 57, the core ridges 502 and 503 (n = 1.52, wavelength 1.31 μm) having a width of 50 μm and a height of 50 μm are formed.
m) is manufactured according to the position of the groove 56 (FIG. 2).
6).

【0050】次に、溝56中に波長フィルタ504
(1.3μm用多層膜フィルタ、高さ200μm、幅5
0μm、長さ3mm)を挿入した後、再びエポキシ系U
Vモノマ51を塗布硬化して波長フィルタ付導波路型光
学素子505を作製する(図27)。
Next, the wavelength filter 504 is placed in the groove 56.
(Multi-layer filter for 1.3 μm, height 200 μm, width 5
0 μm, length 3 mm) and then epoxy type U again
The V-monomer 51 is applied and cured to produce a waveguide type optical element 505 with a wavelength filter (FIG. 27).

【0051】できた導波路型光学素子505の外観を図
28に示す。LD光源(波長1.31μm)を用いて導
波路損失を測定したところ、挿入損失は0.2dB、導
波路損失は0.3dB/cmであった。また、1.55
μm、1.30μmの2波長を伝搬したところ、ほぼ
1.3μmの光のみ観測され、1.55μmの光は遮断
され50dB以上のアイソレーションであった。
FIG. 28 shows the appearance of the completed waveguide type optical element 505. When the waveguide loss was measured using an LD light source (wavelength 1.31 μm), the insertion loss was 0.2 dB and the waveguide loss was 0.3 dB / cm. Also, 1.55
When propagating through two wavelengths of μm and 1.30 μm, only light of 1.3 μm was observed, light of 1.55 μm was blocked, and the isolation was 50 dB or more.

【0052】(実施例6)実施例5と同様に波長フィル
タを数個使って、波長0.85μm、1.3μm、1.
55μmの分離を行ったところ、それぞれのポートから
50dB以上の消光比で分離が可能であることがわかっ
た。図29に作製した導波路型光学素子の平面構成図を
示す。図中、60は、波長0.85μm、1.3μm、
1.55μmの光を入射するポート、61は波長0.8
5μmの光をカットするフィルタ、62は波長1.3μ
mの光をカットするフィルタ、63はカットされた0.
85μmの光を出射するポート、64はカットされた
1.3μmの光を出射するポート、65は1.55μm
の光の出射ポートである。
(Embodiment 6) As in Embodiment 5, several wavelength filters are used, and wavelengths of 0.85 μm, 1.3 μm, 1.
When the separation of 55 μm was performed, it was found that the separation was possible from each port with an extinction ratio of 50 dB or more. FIG. 29 shows a plane configuration diagram of the produced waveguide type optical element. In the figure, 60 is a wavelength of 0.85 μm, 1.3 μm,
Port for incident light of 1.55 μm, 61 is wavelength 0.8
Filter that cuts light of 5 μm, 62 has wavelength of 1.3 μm
m is a filter that cuts light, and 63 is a cut filter.
Port for emitting 85 μm light, 64 for emitting cut 1.3 μm light, 65 for 1.55 μm
Is a light emission port.

【0053】上記の実施例において、コア材料として3
種類に限定しているが、光硬化剤を用いて硬化する材料
であれば、どのような材料を用いても同様の効果があ
る。また、実施例4において光ファイバを挿入する溝形
状としてV溝を用いたが、光ファイバが挿入できる形状
であればV溝でなくてもかまわない。
In the above embodiment, 3 was used as the core material.
Although the type is limited, any material can be used as long as it is a material that can be cured using a photo-curing agent. Further, although the V-shaped groove is used as the groove shape for inserting the optical fiber in the fourth embodiment, it may not be the V-shaped groove as long as the shape allows the optical fiber to be inserted.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる導
波路型光学素子の作製方法によれば、簡便に高性能な光
素子ができ、光ファイバとの接続、他光素子との接続に
おいても、導波路と、他素子を固定する溝とを精度よく
順次作り込めるため、簡便に低損失で光結合できる効果
を生ずる。
As described above, according to the method of manufacturing a waveguide type optical element according to the present invention, a high performance optical element can be easily formed, and it is possible to connect an optical fiber and another optical element. However, since the waveguide and the groove for fixing another element can be sequentially formed with high precision, the effect of easily performing optical coupling with low loss is produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の導波路型光学素子作製における基本プ
ロセスを示す工程図である。
FIG. 1 is a process drawing showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of the present invention.

【図2】本発明の導波路型光学素子作製における基本プ
ロセスを示す工程図である。
FIG. 2 is a process drawing showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of the present invention.

【図3】本発明の導波路型光学素子作製における基本プ
ロセスを示す工程図である。
FIG. 3 is a process drawing showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of the present invention.

【図4】本発明の導波路型光学素子作製における基本プ
ロセスを示す工程図である。
FIG. 4 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of the present invention.

【図5】本発明の導波路型光学素子作製における基本プ
ロセスを示す工程図である。
FIG. 5 is a process drawing showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of the present invention.

【図6】本発明の導波路型光学素子作製に用いる金型の
一例を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an example of a mold used for producing the waveguide type optical element of the present invention.

【図7】図6の金型の側面図である。FIG. 7 is a side view of the mold shown in FIG.

【図8】参考例1〜3の導波路型光学素子作製における
基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 8 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of Reference Examples 1 to 3 .

【図9】参考例1〜3の導波路型光学素子作製における
基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 9 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of Reference Examples 1 to 3 .

【図10】参考例1〜3の導波路型光学素子作製におけ
る基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 10 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of Reference Examples 1 to 3 .

【図11】参考例1〜3の導波路型光学素子作製におけ
る基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 11 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of Reference Examples 1 to 3 .

【図12】参考例1〜3の導波路型光学素子作製におけ
る基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 12 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element of Reference Examples 1 to 3 .

【図13】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製における基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 13 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図14】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製における基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 14 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図15】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製における基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 15 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図16】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製に用いる金型の斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view of a mold used for manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図17】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製における基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 17 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図18】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製における基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 18 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図19】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製における基本プロセスを示す工程図である。
FIG. 19 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図20】本発明の第4の実施例のV溝付の導波路型光
学素子作製により得た素子の斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view of an element obtained by manufacturing a waveguide type optical element with a V groove according to a fourth example of the present invention.

【図21】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製における基本プロセスを示す工程図
である。
FIG. 21 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図22】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製に用いる第1の金型の斜視図であ
る。
FIG. 22 is a perspective view of a first mold used for manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図23】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製における基本プロセスを示す工程図
である。
FIG. 23 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図24】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製に用いる第2の金型の斜視図であ
る。
FIG. 24 is a perspective view of a second mold used for manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth embodiment of the present invention.

【図25】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製における基本プロセスを示す工程図
である。
FIG. 25 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図26】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製における基本プロセスを示す工程図
である。
FIG. 26 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図27】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製における基本プロセスを示す工程図
である。
FIG. 27 is a process chart showing a basic process in manufacturing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図28】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製により得た素子の斜視図である。
FIG. 28 is a perspective view of an element obtained by producing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【図29】本発明の第5の実施例の波長フィルタ付の導
波路型光学素子作製により得た素子の平面構成図であ
る。
FIG. 29 is a plan configuration diagram of an element obtained by producing a waveguide type optical element with a wavelength filter according to a fifth example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 クラッド層 3 室温で流動性を示すモノマあるいはオリゴマー 4 所望の形状を有する金型 5 光照射 6 コア部 7 導波路素子 21 金型 22 金型のコア部を転写するための溝 23 金型の溝22以外の部分 31 基板 32 クラッド層 33 エポキシ系UVモノマ 34 金型 35 UV光 36 凸の形状を有するコア 37 導波路型光学素子 40 基板 41 エポキシ系UVモノマ 42 ガラス金型 43 金型のV字形状凸部(開き角60°、高さ150
μm、幅170μm、長さ20mm) 44 UV光 45 硬化した樹脂(n=1.51、波長1.31μ
m) 46 V溝(開き角60°、高さ150μm、長さ20
mm) 47 金型 48 金型の細溝部(深さ10μm、幅10μm、長さ
40mm) 49 コアとなるエポキシ系UVモノマ 50 基板 51 エポキシ系UVモノマ 52 ガラス金型 53 凸部(幅100μm、高さ100μm、長さ3m
m) 54 UV光 55 光硬化した樹脂(n=1.51、波長1.31μ
m) 56 フィルタ充填用溝(幅60μm、高さ100μ
m、長さ3mm) 57 金型 58 金型の細溝部(深さ50μm、幅50μm、長さ
20mm) 59 金型の細溝部(深さ50μm、幅50μm、長さ
20mm) 60 波長0.85μm、1.3μm、1.55μmの
光を入射するポート 61 波長0.85μmの光をカットするフィルタ 62 波長1.3μmの光をカットするフィルタ 63 カットされた波長0.85μmの光を出射するポ
ート 64 カットされた波長1.3μmの光を出射するポー
ト 65 波長1.55μmの光の出射ポート 400 コアリッジ 401 V溝付導波路型光学素子 500 凸部(幅60μm、高さ100μm、長さ3m
m) 501 エポキシ系UVモノマ 502 コアリッジ 503 コアリッジ 504 波長フィルタ(1.3μm用多層膜フィルタ、
高さ200μm、幅50μm、長さ3mm) 505 波長フィルタ付導波路型光学素子
1 substrate 2 clad layer 3 monomer or oligomer showing fluidity at room temperature 4 mold 5 having desired shape 5 light irradiation 6 core part 7 waveguide element 21 mold 22 groove for transferring core part of mold 23 gold Portion other than groove 22 of mold 31 Substrate 32 Cladding layer 33 Epoxy UV monomer 34 Mold 35 UV light 36 Core having convex shape 37 Waveguide type optical element 40 Substrate 41 Epoxy UV monomer 42 Glass mold 43 Mold V-shaped convex part (opening angle 60 °, height 150
μm, width 170 μm, length 20 mm) 44 UV light 45 Cured resin (n = 1.51, wavelength 1.31μ
m) 46 V groove (opening angle 60 °, height 150 μm, length 20)
47) Mold 48 Fine groove of mold (depth 10 μm, width 10 μm, length 40 mm) 49 Epoxy UV monomer 50 serving as core 50 Substrate 51 Epoxy UV monomer 52 Glass mold 53 Convex part (width 100 μm, high) 100 μm long, 3 m long
m) 54 UV light 55 Photocured resin (n = 1.51, wavelength 1.31μ
m) 56 Filter filling groove (width 60μm, height 100μ
m, length 3 mm) 57 mold 58 mold fine groove (depth 50 μm, width 50 μm, length 20 mm) 59 mold fine groove (depth 50 μm, width 50 μm, length 20 mm) 60 wavelength 0.85 μm , A port for inputting light of 1.3 μm and 1.55 μm 61 A filter for cutting light of wavelength 0.85 μm 62 A filter for cutting light of wavelength 1.3 μm 63 A port for emitting light of cut wavelength 0.85 μm 64 Port 65 for Emitting Light of 1.3 μm Wavelength that is Cut Out 400 Emission Port of Light of Wavelength 1.55 μm 400 Core Ridge 401 V Waveguide Optical Element with V-groove 500 Convex Part (Width 60 μm, Height 100 μm, Length 3 m
m) 501 epoxy UV monomer 502 core ridge 503 core ridge 504 wavelength filter (multilayer film filter for 1.3 μm,
Height 200 μm, width 50 μm, length 3 mm) 505 Waveguide type optical element with wavelength filter

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−131202(JP,A) 特開 平2−70412(JP,A) 特開 平1−271710(JP,A) 特開 平7−159630(JP,A) 特開 昭63−106949(JP,A) 特開 平7−218739(JP,A) 特開 平8−136762(JP,A) 特開 平4−52606(JP,A) 特開 平7−287141(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/12 - 6/138 G02B 6/30 Continuation of front page (56) Reference JP-A-2-131202 (JP, A) JP-A-2-70412 (JP, A) JP-A 1-271710 (JP, A) JP-A-7-159630 (JP , A) JP 63-106949 (JP, A) JP 7-218739 (JP, A) JP 8-136762 (JP, A) JP 4-52606 (JP, A) JP 7-287141 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 6/12-6/138 G02B 6/30

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に高分子材料を塗布し、下部クラ
ッド材料とする工程、 このクラッド材料の上に、部分的に凸部を有する金型を
被せ、部分的に凹部を有する下部クラッド層を形成する
工程前記下部クラッド層 上に、硬化した際に該下部クラッド
よりも屈折率の高い樹脂を形成する液状の光硬化する
材料を塗布する工程前記光硬化する材料の塗布膜上に、 所望の凹形状部を有
し、該凹形状部のみが光を通しその他の部分は光を遮断
する金型をのせ、前記凹形状部に前記光硬化する材料を
封入する工程前記 金型越しに光を照射し、前記金型の凹形状部に封入
されている前記光硬化する材料のみを硬化させる工程前記金型を除去し、前記 金型の凹形状部以外に存在した
液状の光硬化する材料を溶媒で洗い流す工程を含み、前記下部クラッド層に形成された凹部の位置に
合わせて 光導波路のコアリッジを形成することを特徴と
する導波路型光学素子の作製法。
1. A step of applying a polymer material onto a substrate to form a lower clad material, and a mold having a partially convex portion on the clad material.
Overlying to form a lower cladding layer with partial depressions
Step, the lower clad in the upper to the lower clad layer, the cured
A step of applying a liquid photo-curable material that forms a resin having a higher refractive index than the layer , and forming a desired concave portion on the coating film of the photo-curable material.
However, only the concave part allows light to pass through and the other parts block light.
Place the mold for the material of the photocurable the concave portion
A step of enclosing the light irradiating the mold over, curing only the material of the photocurable enclosed in the concave portion of the mold, removing the mold, the mold of the concave a material that photocuring of existing liquid other than parts include, washing stream to step a solvent, to the position of the formed in the lower clad layer recessed portion
A method of manufacturing a waveguide type optical element, which is characterized in that a core ridge of an optical waveguide is also formed.
【請求項2】 前記下部クラッド層に形成される凹部が
光ファイバを位置合わせするV溝および/または光部品
を位置合わせする矩形溝である請求項1に記載の導波路
型光学素子の作製法。
2. The recess formed in the lower cladding layer
V-groove and / or optical component for aligning optical fiber
The waveguide according to claim 1, wherein the waveguide is a rectangular groove for aligning
Method of manufacturing mold optical element.
【請求項3】 前記液状の光硬化する材料が、エポキシ
系モノマあるいはオリゴマー、不飽和基を有するモノマ
あるいはオリゴマー、およびシロキサン結合を有するモ
ノマあるいはオリゴマーよりなる群から選択されるモノ
マまたはオリゴマーと光開始剤とを含む請求項1に記載
の導波路型光素子の作製法。
3. The liquid photocurable material is epoxy.
Monomer or oligomer, monomer having unsaturated group
Alternatively, oligomers and models having siloxane bonds
Mono selected from the group consisting of nomers or oligomers
The method for producing a waveguide type optical device according to claim 1, which comprises a polymer or an oligomer and a photoinitiator .
【請求項4】 前記下部クラッド材料が、エポキシ系U
Vモノマからなり、前記部分的に凸部を有する金型が全
面光透過する金型であり、金型越しに光を照射して前記
エポキシ系UVモノマを光硬化させ、部分的に凹部を有
する下部クラッド層を形成する請求項1または2に記載
の導波路型光学素子の製造方法
4. The epoxy-based U is used as the lower clad material.
The mold is made of V-monomer, and the mold partly has convex parts.
It is a mold that allows surface light transmission, and irradiates light through the mold to
Epoxy UV monomer is photo-cured and partially recessed
The lower clad layer for forming is formed according to claim 1 or 2.
For manufacturing a waveguide type optical element .
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