JP3445194B2 - Photosensitive composition - Google Patents
Photosensitive compositionInfo
- Publication number
- JP3445194B2 JP3445194B2 JP24459899A JP24459899A JP3445194B2 JP 3445194 B2 JP3445194 B2 JP 3445194B2 JP 24459899 A JP24459899 A JP 24459899A JP 24459899 A JP24459899 A JP 24459899A JP 3445194 B2 JP3445194 B2 JP 3445194B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- acrylamide
- water
- group
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は感光性組成物に関
し、特に極めて解像度の高い感光性組成物およびそれを
用いてなるカラーブラウン管に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive composition, and more particularly to a photosensitive composition having extremely high resolution and a color cathode ray tube using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】通常、例えばカラーブラウン管のブラッ
クマトリックスは、
水溶性感光性組成物をガラスパネルに全面塗布し;
フォトマスクを通して紫外線を露光して、露光部を水
に対して不溶化した後;
水スプレーによって未露光部を除去してレジストパタ
ーンを形成させ;
グラファイトなどの黒色成分分散液を塗布し;
酸化剤でレジストパターンを分解し;
水スプレーによって分解物を除去する;ことにより生
産されている。従来、該プロセスに用いられる感光性組
成物としては、例えば、(1)ポリビニルピロリドンと
水溶性アジド化合物とからなる感光性組成物(特開昭4
8−79970号公報)、(2)アクリルアミド−ジア
セトンアクリルアミド共重合体と水溶性アジド化合物か
らなる感光性組成物(特開昭50−33764号公報)
などが提案されている。2. Description of the Related Art Usually, for example, for a black matrix of a color cathode ray tube, a water-soluble photosensitive composition is applied to the entire surface of a glass panel; and after exposing the exposed portion to water by exposing it to ultraviolet rays through a photomask; It is produced by removing the unexposed part by spraying to form a resist pattern; applying a black component dispersion liquid such as graphite; decomposing the resist pattern with an oxidizing agent; removing the decomposed product with a water spray; . Conventionally, as a photosensitive composition used in the process, for example, (1) a photosensitive composition comprising polyvinylpyrrolidone and a water-soluble azide compound (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 4)
No. 8-79970), (2) a photosensitive composition comprising an acrylamide-diacetone acrylamide copolymer and a water-soluble azide compound (Japanese Patent Laid-Open No. 50-33764).
Have been proposed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記
(1)〜(2)の感光性組成物はいずれも解像性が充分
ではないため、高精細のブラウン管の製造が困難であ
り、ブラウン管の生産性を低下させる問題があった。However, since the above-mentioned photosensitive compositions (1) and (2) do not have sufficient resolution, it is difficult to produce a high-definition cathode ray tube, and the production of a cathode ray tube is difficult. There was a problem that deteriorated the sex.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な従来のカラーブラウン管のブラックマトリックス形成
用の感光性組成物の問題点を解決すべく鋭意検討した結
果、感光性組成物として水溶性重合体と、水溶性アジド
化合物と、特定の官能基を有する水溶性ビニル系単量体
とからなる組成物を用いたものが、極めて解像度が高い
ことを見出し、本発明に到達した。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made earnest studies to solve the problems of the conventional photosensitive composition for forming a black matrix of a color CRT, and as a result, as a photosensitive composition, an aqueous solution was prepared. The inventors have found that a composition using a water-soluble polymer, a water-soluble azide compound, and a water-soluble vinyl-based monomer having a specific functional group has extremely high resolution, and arrived at the present invention.
【0005】すなわち本発明は、水溶性ビニル系重合体
(A)20〜89重量%と、水溶性アジド化合物(B)
1〜30重量%と、芳香環含有水溶性単量体、複素環含
有水溶性単量体および分子量130以上のアクリル系水
溶性単量体からなる群より選ばれる1つのビニル基を有
する水溶性ビニル系単量体の1種以上(C)10〜80
質量%とからなることを特徴とする感光性組成物;並び
にそれらの組成物を用いて形成されたカラーブラウン管
である。That is, the present invention comprises 20 to 89% by weight of a water-soluble vinyl polymer (A) and a water-soluble azide compound (B).
1 to 30% by weight and one vinyl group selected from the group consisting of an aromatic ring-containing water-soluble monomer, a heterocyclic ring-containing water-soluble monomer and an acrylic water-soluble monomer having a molecular weight of 130 or more.
One or more water-soluble vinyl monomers (C) 10 to 80
%, And a color cathode ray tube formed by using the photosensitive composition.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の組成物において、水溶性
ビニル系重合体(A)としては、特に限定されないが、
例えば、N−ビニルホルムアミド(共)重合体、N−ビ
ニルアセトアミド(共)重合体、(メタ)アクリルアミ
ド(共)重合体、アルキル基の炭素数が1〜5のN−ア
ルキル(メタ)アクリルアミド、アルキル基の炭素数が
1〜5のN,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、
(メタ)アクリルアミド−ジアセトン(メタ)アクリル
アミド共重合体、ポリビニルアルコール(共)重合体、
(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリビニルピロリド
ン(共)重合体などが挙げられる。これらのうち感度お
よびパターニング性の観点から、好ましくはN−ビニル
ホルムアミド(共)重合体およびN−ビニルアセトアミ
ド(共)重合体である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the composition of the present invention, the water-soluble vinyl polymer (A) is not particularly limited,
For example, N-vinylformamide (co) polymer, N-vinylacetamide (co) polymer, (meth) acrylamide (co) polymer, N-alkyl (meth) acrylamide having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, An N, N-dialkyl (meth) acrylamide whose alkyl group has 1 to 5 carbon atoms,
(Meth) acrylamide-diacetone (meth) acrylamide copolymer, polyvinyl alcohol (co) polymer,
Examples thereof include (meth) acrylic acid (co) polymers and polyvinylpyrrolidone (co) polymers. Of these, N-vinylformamide (co) polymer and N-vinylacetamide (co) polymer are preferable from the viewpoint of sensitivity and patterning property.
【0007】(A)の重量平均分子量(測定法:GPC
法)は、通常50,000以上であり、好ましくは5
0,000〜2,000,000、さらに好ましくは2
00,000〜1,500,000である。Weight average molecular weight of (A) (Measurement method: GPC
Method) is usually 50,000 or more, preferably 5
20,000 to 2,000,000, more preferably 2
It is from 0,000 to 1,500,000.
【0008】(A)の配合割合は、感光性組成物の質量
に基づいて通常20〜89質量%、好ましくは30〜8
0質量%である。(A)が20質量%未満ではガラス面
との接着性が悪くなり、89質量%を超えると解像度が
悪くなる。The blending ratio of (A) is usually 20 to 89% by mass, preferably 30 to 8% by mass based on the mass of the photosensitive composition.
It is 0 mass%. If (A) is less than 20% by mass, the adhesion to the glass surface will be poor, and if it exceeds 89% by mass, the resolution will be poor.
【0009】本発明の組成物に用いられる水溶性アジド
化合物(B)としては、紫外線の照射によってナイトレ
ンを生成し、前記(A)と反応しうる化合物であれば特
に制限されないが、分子内にアジド基を2個有する水溶
性芳香族ビスアジド化合物が好ましい。具体例として
は、
スルホン酸基含有水溶性アジド化合物[4,4’−ジ
アジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸、4,4’
−ジアジドベンザルアセトフェノン−2−スルホン酸、
1,5−ペンタ−3−オン−1,4−ジエテニル−ビス
(アジドベンゼンスルホン酸)、2,6−ビス(4−ア
ジドベンザル−2−スルホン酸)−シクロペンタノン
等]、
カルボン酸基含有水溶性アジド化合物[4,4’−ジ
アジドスチルベン−α−カルボン酸等]等、および、上
記の塩(有機アミン塩、アルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩等)等が挙げられる。The water-soluble azide compound (B) used in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound capable of forming nitrene upon irradiation with ultraviolet rays and reacting with the above (A). Water-soluble aromatic bisazide compounds having two azide groups are preferred. As a specific example, a sulfonic acid group-containing water-soluble azide compound [4,4′-diazidostilbene-2,2′-disulfonic acid, 4,4 ′
-Diazidobenzal acetophenone-2-sulfonic acid,
1,5-pent-3-one-1,4-diethenyl-bis (azidobenzenesulfonic acid), 2,6-bis (4-azidobenzal-2-sulfonic acid) -cyclopentanone, etc.], containing carboxylic acid group Examples thereof include water-soluble azide compounds [4,4′-diazidostilbene-α-carboxylic acid and the like] and the above salts (organic amine salts, alkali metal salts, alkaline earth metal salts and the like) and the like.
【0010】(B)は単独で用いても、2種類以上の混
合物として用いてもよい。これらのうち、溶解度の観点
から好ましいものはスルホン酸(塩)基含有水溶性アジ
ド化合物であり、特に好ましいものは4,4’−ジアジ
ドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸ナトリウムであ
る。(B) may be used alone or as a mixture of two or more kinds. Among these, the sulfonic acid (salt) group-containing water-soluble azide compound is preferable from the viewpoint of solubility, and the particularly preferable one is sodium 4,4′-diazidostilbene-2,2′-disulfonate.
【0011】(B)の配合割合は、感光性組成物の質量
に基づいて通常1〜30質量%、好ましくは1〜20質
量%である。(B)が1質量%未満では感度が悪くな
り、30質量%を超えるとガラス面への接着性が悪くな
る。The blending ratio of (B) is usually 1 to 30% by mass, preferably 1 to 20% by mass, based on the mass of the photosensitive composition. If (B) is less than 1% by mass, the sensitivity will be poor, and if it exceeds 30% by mass, the adhesion to the glass surface will be poor.
【0012】本発明の組成物に用いられる水溶性ビニル
系単量体(C)としては、芳香環含有水溶性単量体、複
素環含有水溶性単量体および分子量130以上、好まし
くは分子量130〜500のアクリル系水溶性単量体か
らなる群より選ばれる1種以上の水溶性ビニル系単量体
が挙げられる。具体例としては、
芳香環含有水溶性単量体[スチレンスルホン酸もしく
はその塩(アミン塩、アルカリ金属塩など)、ビニルベ
ンジルトリメチルアンモニウムハイドロキサイドな
ど];
複素環含有水溶性単量体[ビニルイミダゾール、ビニ
ルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−(メタ)アク
リロイルモルホリン、N−((メタ)アクリロイルオキ
シ)エチルモルホリンなど];
分子量130以上(好ましくは130〜500)のア
クリル系水溶性単量体
(1)アクリルアミド系単量体[アルキル基の炭素数が
5〜10のN−アルキル(メタ)アクリルアミド〔N−
ペンチル(メタ)アクリルアミドなど〕、アルキル基の
炭素数が3〜7のN,N−ジアルキル(メタ)アクリル
アミド〔N,N−ジイソプロピル(メタ)アクリルアミ
ドなど〕、アルキル基の炭素数が1〜5のN,N,−ジ
アルキルアミノエチル(メタ)アクリルアミド〔N,
N,−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、
N,N,−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミ
ドなど〕、アルキル基の炭素数が1〜5のN,N,−ジ
アルキルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド〔N,
N,−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミ
ド、N,N,−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリ
ルアミドなど〕、アルキル基の炭素数が3〜7のN−ア
ルキルオキシメチル(メタ)アクリルアミド〔N−イソ
プロピルオキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブ
チルオキシメチル(メタ)アクリルアミドなど〕、ジア
セトン(メタ)アクリルアミドなど];
(2)アクリレート系単量体[水酸基またはアルコキシ
基含有(メタ)アクリル酸エステル、例えば2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、アルキル基の炭素数が3〜
7のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート〔2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレートなど〕、グリセ
ロールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレートなどの水酸基含有(メ
タ)アクリレート;ならびにこれらの低級アルキル(炭
素数1〜4)エーテル、例えば2−エトキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−エトキシプロピル(メタ)アク
リレート、カルビトール(メタ)アクリレートなど];
(3)スルホン酸(塩)基含有単量体[2−(メタ)ア
クリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、3−ス
ルホプロピル(メタ)アクリレート、またはそれらの塩
(アミン塩、アルカリ金属塩など)など];
(4)リン酸(塩)基含有単量体[〔2−((メタ)ア
クリロイルオキシ)エチル〕ホスフェート、またはそれ
らの塩(アミン塩、アルカリ金属塩など)など];
(5)4級アンモニウム塩基含有単量体[〔2−((メ
タ)アクリロイルオキシ)エチル〕トリメチルアンモニ
ウムクロライドなど];などが挙げられる。The water-soluble vinyl monomer (C) used in the composition of the present invention includes an aromatic ring-containing water-soluble monomer, a heterocyclic ring-containing water-soluble monomer and a molecular weight of 130 or more, preferably a molecular weight of 130. To one or more water-soluble vinyl monomers selected from the group consisting of ˜500 acrylic water-soluble monomers. Specific examples thereof include an aromatic ring-containing water-soluble monomer [styrene sulfonic acid or its salt (amine salt, alkali metal salt, etc.), vinylbenzyltrimethylammonium hydroxide, etc.]; Imidazole, vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, N- (meth) acryloylmorpholine, N-((meth) acryloyloxy) ethylmorpholine, etc.]; Acrylic water-soluble monomer having a molecular weight of 130 or more (preferably 130 to 500) (1) Acrylamide-based monomer [N-alkyl (meth) acrylamide [N- whose alkyl group has 5 to 10 carbon atoms]
Pentyl (meth) acrylamide, etc.], an alkyl group having 3 to 7 carbon atoms, N, N-dialkyl (meth) acrylamide [N, N-diisopropyl (meth) acrylamide, etc.], and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. N, N, -dialkylaminoethyl (meth) acrylamide [N,
N, -dimethylaminoethyl (meth) acrylamide,
N, N, -diethylaminoethyl (meth) acrylamide, etc.], N, N, -dialkylaminopropyl (meth) acrylamide having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms [N,
N, -dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N, -diethylaminopropyl (meth) acrylamide, etc.], N-alkyloxymethyl (meth) acrylamide having an alkyl group having 3 to 7 carbon atoms [N-isopropyloxymethyl (Meth) acrylamide, N-butyloxymethyl (meth) acrylamide, etc.], diacetone (meth) acrylamide, etc.]; (2) Acrylate-based monomer [hydroxyl or alkoxy group-containing (meth) acrylic acid ester, for example, 2-hydroxy Ethyl methacrylate, alkyl group having 3 to 3 carbon atoms
7 hydroxyalkyl (meth) acrylates [2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc.], glycerol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate and other hydroxyl group-containing (meth) acrylates; 1 to 4) ether, such as 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxypropyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, etc.]; (3) Sulfonic acid (salt) group-containing monomer [2 -(Meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 3-sulfopropyl (meth) acrylate, or salts thereof (amine salts, alkali metal salts, etc.)]; (4) Phosphoric acid (salt) group-containing unit amount Body [[2-((meth) acryloyloxy) ethyl] And salts thereof (such as amine salts and alkali metal salts)]; (5) quaternary ammonium salt group-containing monomer [[2-((meth) acryloyloxy) ethyl] trimethylammonium chloride etc.]; Can be mentioned.
【0013】(C)は単独で用いても、2種類以上の混
合物として用いてもよい。これらのうち、解像度の観点
から好ましいものは分子量130以上のアクリル系水溶
性単量体であり、特に好ましいものは分子量130以上
のアクリルアミド系単量体であり、さらに好ましいもの
はジアセトンアクリルアミドである。(C) may be used alone or as a mixture of two or more kinds. Among these, acrylic water-soluble monomers having a molecular weight of 130 or more are preferred from the viewpoint of resolution, particularly preferred are acrylamide monomers having a molecular weight of 130 or more, and more preferred are diacetone acrylamide. .
【0014】(C)の配合割合は、感光性組成物の質量
に基づいて通常10〜80質量%、好ましくは15〜6
0質量%である。(C)が10質量%未満では解像度が
悪くなり、80質量%を超えると感度が悪くなる。The blending ratio of (C) is usually 10 to 80% by mass, preferably 15 to 6 based on the mass of the photosensitive composition.
It is 0 mass%. If the content of (C) is less than 10% by mass, the resolution will be poor, and if it exceeds 80% by mass, the sensitivity will be poor.
【0015】本発明の組成物は、(C)を含有するが故
に相反則不軌特性を発現し、その結果、解像度の高い組
成物となる。相反則不軌特性とは、気体酸素の存在下で
ガラス面に光照射区域より実質的に小面積のストライプ
またはドットパターンを形成する特性である。相反則不
軌特性については、特開昭48−79970号公報、Po
ly. Eng.Sci., 17(6), 353(1977) などに詳しく述べら
れている。カラーブラウン管のブラックマトリックス形
成用に相反則不軌性を発現する感光性組成物を用いるこ
とにより、マスク面積よりも小面積のブラックマトリッ
クスを形成することができる。この様に形成されたブラ
ックマトリックス形成パネルに対して、順次緑、青、赤
の蛍光体パターンを形成すると、蛍光体パターンの面積
もマスク面積よりも実質的に小さくなる。従って、この
マスクを用いてカラーブラウン管を作成すれば、マスク
のスリットまたは細穴を通って照射される電子ビームの
大きさは、蛍光体パターンより大きくなるため、得られ
るカラーブラウン管は明るく、コントラストに優れるこ
とになる。すなわち、高精細かつ高品位のカラーブラウ
ン管を作成するためには、相反則不軌特性を発現する感
光性組成物を用いてブラックマトリックスを形成するこ
とが必須である。Since the composition of the present invention contains (C), it exhibits reciprocity law failure characteristics, resulting in a composition having high resolution. The reciprocity law failure property is a property of forming a stripe or dot pattern having a substantially smaller area than the light irradiation area on the glass surface in the presence of gaseous oxygen. Regarding the reciprocity law failure characteristic, JP-A-48-79970, Po,
ly. Eng. Sci., 17 (6), 353 (1977). By using a photosensitive composition exhibiting reciprocity law failure for forming a black matrix of a color cathode ray tube, a black matrix having an area smaller than the mask area can be formed. When green, blue, and red phosphor patterns are sequentially formed on the black matrix-formed panel thus formed, the area of the phosphor pattern also becomes substantially smaller than the mask area. Therefore, if a color cathode ray tube is created using this mask, the size of the electron beam irradiated through the slits or small holes of the mask will be larger than the phosphor pattern, so the obtained color cathode ray tube will be bright and have a high contrast. Will be excellent. That is, in order to produce a high-definition and high-quality color cathode ray tube, it is essential to form a black matrix using a photosensitive composition that exhibits reciprocity law failure characteristics.
【0016】相反則不軌特性を発現するには、前述のよ
うに気体酸素がアジド化合物の近傍に存在する必要があ
り、そのためには感光性組成物塗布膜が酸素透過性を有
している必要がある。本発明の感光性組成物は、光照射
時に(C)を重合させ、その結果感光性組成物塗布膜の
気体酸素の透過性が高められ、相反則不軌性を発現し、
その結果、解像度の高い感光性組成物となる。また、
(A)が(C)由来の繰り返し単位を有する重合体の場
合、(A)と(B)とからなる感光性組成物は相反則不
軌特性を発現するが、(C)を含有させることにより、
さらに相反則不軌特性を強め、その結果、さらに解像度
を高めることができる。In order to exhibit the reciprocity law failure characteristic, it is necessary that gaseous oxygen be present in the vicinity of the azide compound as described above, and for that purpose, the photosensitive composition coating film must have oxygen permeability. There is. The photosensitive composition of the present invention polymerizes (C) at the time of light irradiation, as a result, the permeability of gaseous oxygen of the photosensitive composition coating film is enhanced, and reciprocity law failure is exhibited.
As a result, the photosensitive composition has high resolution. Also,
When (A) is a polymer having a repeating unit derived from (C), the photosensitive composition comprising (A) and (B) exhibits reciprocity failure characteristics, but by incorporating (C) ,
Further, the reciprocity law failure characteristic is enhanced, and as a result, the resolution can be further enhanced.
【0017】また、該組成物は必要により密着向上剤
(D)を含有させることができる。(D)を含有させる
ことにより、ガラスに対する密着性を向上させることが
できる。(D)としては、シランカップリング剤、チタ
ン系カップリング剤、有機カルボン酸系化合物、有機リ
ン酸系化合物、有機リン酸エステル系化合物などが挙げ
られ、好ましくはシランカップリング剤[例えば、ビニ
ル−トリス−(β−メトキシエトキシ)シラン、N−β
−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン
など]およびチタン系カップリング剤[例えば、ジヒド
ロキシ−ビス(ラクタド)チタン、ジアルキル−ビス
(トリエタノールアミナト)チタン、オキソチタンビス
(モノアンモニウムオキサレートなど]である。(D)
を含有させる場合、その配合量は、(A)の質量に対し
て通常10質量%以下、好ましくは0.01〜5質量%
である。The composition may optionally contain an adhesion improver (D). By including (D), the adhesion to glass can be improved. Examples of (D) include silane coupling agents, titanium-based coupling agents, organic carboxylic acid-based compounds, organic phosphoric acid-based compounds, organic phosphoric acid ester-based compounds, and the like, preferably silane coupling agents [eg vinyl. -Tris- (β-methoxyethoxy) silane, N-β
-(Aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl)
-Γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxy Propylmethyldiethoxysilane and the like] and titanium-based coupling agents [for example, dihydroxy-bis (lactado) titanium, dialkyl-bis (triethanolaminato) titanium, oxotitanium bis (monoammonium oxalate, etc.) (D).
In the case of containing, the compounding amount is usually 10 mass% or less, preferably 0.01 to 5 mass% with respect to the mass of (A).
Is.
【0018】本発明の感光性組成物は、希釈剤として水
溶性の溶剤を含有させることができる。希釈剤を含有さ
せることにより、該組成物の塗布性、保存安定性、現像
特性、接着性などの調節が可能となる。該希釈剤は各成
分と相溶するものであれば特に限定されないが、例え
ば、水;メタノール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコールなどのアルコール系溶剤;メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶剤;
N−メチルピロリドン、2−ピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
系溶剤などが挙げられる。The photosensitive composition of the present invention may contain a water-soluble solvent as a diluent. By including a diluent, it becomes possible to control the coating property, storage stability, developing property, adhesiveness, etc. of the composition. The diluent is not particularly limited as long as it is compatible with each component, for example, water; alcohol solvents such as methanol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoether. Glycol ether solvent such as ethyl ether;
Examples thereof include amide solvents such as N-methylpyrrolidone, 2-pyrrolidone, dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide.
【0019】これらのうち好ましいものは感度および解
像度の観点から水およびグリコールエーテル系溶剤であ
り、特に好ましくは水である。希釈剤の配合量は、感光
性組成物の塗布条件等により任意に設定可能であるが、
(A)の質量に対して2〜100倍、好ましくは5〜7
0倍である。Among these, water and glycol ether type solvents are preferable, and water is particularly preferable from the viewpoint of sensitivity and resolution. The blending amount of the diluent can be arbitrarily set depending on the coating conditions of the photosensitive composition and the like,
2 to 100 times the mass of (A), preferably 5 to 7
It is 0 times.
【0020】また、本発明の組成物には、必要により分
子内に水酸基および/またはヨウ素原子を含有する、分
子量990以下の低分子化合物を含有させることができ
る。前記低分子化合物を含有させることにより、現像特
性、接着性などの調節が可能であり、さらに感度の向上
が可能である。分子内に水酸基を含有する低分子化合物
としては、例えば、n−ブタノール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、
1,3−ブチレングリコール、1,5−ペンタンジオー
ル、トリエタノールアミン、グリセリン、エリスリトー
ル、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ヘキシトー
ルなどが挙げられる。If necessary, the composition of the present invention may contain a low molecular weight compound having a molecular weight of 990 or less, which contains a hydroxyl group and / or an iodine atom in the molecule. By including the low molecular weight compound, the developing characteristics, the adhesiveness, etc. can be adjusted, and the sensitivity can be further improved. Examples of the low molecular weight compound having a hydroxyl group in the molecule include n-butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol,
1,3-butylene glycol, 1,5-pentanediol, triethanolamine, glycerin, erythritol, pentaerythritol, sorbitol, hexitol and the like can be mentioned.
【0021】分子内にヨウ素原子を含有する低分子化合
物としては、例えば、ヨード酢酸、3,5−ジアミノ−
2,4,6−トリヨード安息香酸、3,5−ジアミノ−
2,4,6−トリヨード安息香酸ナトリウム、3−アミ
ノ−2,4,6−トリヨード安息香酸、3−アミノ−
2,4,6−トリヨード安息香酸ナトリウム、5−アミ
ノ−2,4,6−トリヨードイソフタル酸、5−アミノ
−2,4,6−トリヨードイソフタル酸ナトリウム、5
−アミノ−2,4,6−トリヨードイソフタラミン酸、
5−アミノ−2,4,6−トリヨードイソフタラミン酸
ナトリウム、3,5−ジヨードサリチル酸、3,5−ジ
ヨードサリチル酸ナトリウム、2,3,5−トリヨード
安息香酸、2,3,5−トリヨード安息香酸ナトリウ
ム、ヨウ化テトラアルキルアンモニウム、ヨウ化ナトリ
ウム、ヨウ化カリウムなどが挙げられる。Examples of the low molecular weight compound containing an iodine atom in the molecule include iodoacetic acid and 3,5-diamino-
2,4,6-triiodobenzoic acid, 3,5-diamino-
Sodium 2,4,6-triiodobenzoate, 3-amino-2,4,6-triiodobenzoic acid, 3-amino-
Sodium 2,4,6-triiodobenzoate, 5-amino-2,4,6-triiodoisophthalic acid, sodium 5-amino-2,4,6-triiodoisophthalate, 5
-Amino-2,4,6-triiodoisophthalamic acid,
Sodium 5-amino-2,4,6-triiodoisophthalamate, 3,5-diiodosalicylic acid, sodium 3,5-diiodosalicylate, 2,3,5-triiodobenzoic acid, 2,3,5 -Sodium triiodobenzoate, tetraalkylammonium iodide, sodium iodide, potassium iodide and the like.
【0022】上記分子内に水酸基および/またはヨウ素
原子を含有する低分子化合物を含有させる場合、その配
合量は、添加効果と現像性の観点から(A)の質量に対
して1〜100質量%、好ましくは1〜50質量%であ
る。When a low-molecular compound containing a hydroxyl group and / or an iodine atom is contained in the above-mentioned molecule, the compounding amount thereof is 1 to 100% by mass based on the mass of (A) from the viewpoint of addition effect and developability. , Preferably 1 to 50% by mass.
【0023】また、本発明の組成物には、基板に対する
濡れ性を向上させるため、必要により界面活性剤を含有
させることができる。界面活性剤は各成分と相溶するな
らば特に限定されないが、例えばアニオン性界面活性
剤、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤が挙
げられる。これらのうち安定性の観点から好ましいもの
は非イオン性界面活性剤(例えば、ソルビタンエステル
エチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレ
ンオキサイド付加物など)である。界面活性剤を含有さ
せる場合、その配合量は、添加効果と現像性の観点から
(A)の質量に対して0.01〜5質量%、好ましくは
0.05〜3質量%である。Further, the composition of the present invention may contain a surfactant, if necessary, in order to improve the wettability with respect to the substrate. The surfactant is not particularly limited as long as it is compatible with each component, and examples thereof include an anionic surfactant, a nonionic surfactant, and a cationic surfactant. Among these, nonionic surfactants (eg, sorbitan ester ethylene oxide adducts, alkylphenol ethylene oxide adducts, etc.) are preferable from the viewpoint of stability. When a surfactant is contained, its content is 0.01 to 5% by mass, preferably 0.05 to 3% by mass based on the mass of (A) from the viewpoint of the effect of addition and the developability.
【0024】本発明の組成物を用いた具体例として、カ
ラーブラウン管のブラックマトリックス形成について以
下に説明する。カラーブラウン管のブラックマトリック
ス形成方法としては、例えば、
水溶性ビニル系重合体(A)、水溶性アジド化合物
(B)および水溶性ビニル系単量体(C)を含む本発明
の感光性組成物を、ガラスパネル上に通常0.1〜2μ
mの膜厚で塗布し;
ホットプレート、赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーター
などで乾燥して塗布膜を形成し;
所望のパターンを有したフォトマスクを通して超高圧
水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプなどの紫外
線を通常0.5〜50mJ/cm2の照度で露光し;
水で現像して未露光部を洗浄除去して、レジストパタ
ーンを形成し;
グラファイトなどの黒色成分分散液を塗布し;
ホットプレート、赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーター
などで乾燥し;
過酸化水素などの酸化剤でレジストパターンを酸化分
解し;
水で現像する;という一連の工程を実施する方法が例
示できる。As a specific example using the composition of the present invention, the formation of a black matrix of a color CRT will be described below. Examples of the method for forming a black matrix of a color CRT include a photosensitive composition of the present invention containing a water-soluble vinyl polymer (A), a water-soluble azide compound (B) and a water-soluble vinyl monomer (C). , Usually 0.1-2μ on glass panel
Coating with a film thickness of m; drying with a hot plate, infrared heater, far-infrared heater, etc. to form a coating film; through a photomask having a desired pattern, ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, metal halide lamp, etc. Usually exposed to an illuminance of 0.5 to 50 mJ / cm 2 ; developed with water to wash and remove the unexposed portion to form a resist pattern; apply a black component dispersion liquid such as graphite; hot plate, infrared ray An example is a method of performing a series of steps of drying with a heater, a far infrared heater or the like; oxidizing and decomposing the resist pattern with an oxidizing agent such as hydrogen peroxide; and developing with water.
【0025】また、本発明の感光性組成物は相反則不軌
特性を有するため、上記の工程の紫外線露光照度は
0.02〜1mW/cm2 の範囲内にあることが好まし
い。露光照度が0.02mW/cm2 を下回った場合、
紫外線照射によって得られるパターンが極端に小さくな
るか、もしくはパターン形成されない場合があり、露光
照度が1mW/cm2 を超えた場合、適正サイズのパタ
ーンを得るための露光時間が極めて短くなり、その結
果、パターンの膨潤、しわ寄りが発生する場合がある。Further, since the photosensitive composition of the present invention has reciprocity law failure property, the ultraviolet exposure illuminance in the above step is preferably in the range of 0.02 to 1 mW / cm 2 . When the exposure illuminance is below 0.02 mW / cm 2 ,
The pattern obtained by UV irradiation may be extremely small or the pattern may not be formed. If the exposure illuminance exceeds 1 mW / cm 2 , the exposure time for obtaining a pattern of an appropriate size will be extremely short, and as a result , Pattern swelling and wrinkling may occur.
【0026】本発明の感光性組成物は、極めて解像度が
高いため、カラーブラウン管のブラックマトリックス形
成用としてのみならず、カラーブラウン管用蛍光体レジ
スト、シャドウマスク形成用エッチングレジスト、カラ
ーブラウン管内面フィルター用レジスト、カラーフィル
ターブラックマトリックス形成用レジスト、カラーフィ
ルター顔料分散用レジスト、プリント配線板用ソルダー
レジスト、プリント配線板用エッチングレジスト、プリ
ント配線板用ドライフィルムレジスト、層間絶縁性材
料、液晶透明導電膜(ITO)パターニング用レジス
ト、感光性刷版、印刷用インキ、光硬化性コーティング
材料などにも極めて有用性が高い。Since the photosensitive composition of the present invention has extremely high resolution, it is not only used for forming a black matrix of a color cathode ray tube, but also as a phosphor resist for a color cathode ray tube, an etching resist for forming a shadow mask, a resist for an inner surface filter of a color cathode ray tube. , Color filter black matrix forming resist, color filter pigment dispersion resist, printed wiring board solder resist, printed wiring board etching resist, printed wiring board dry film resist, interlayer insulating material, liquid crystal transparent conductive film (ITO) It is also extremely useful for patterning resists, photosensitive printing plates, printing inks, photocurable coating materials, and the like.
【0027】[0027]
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下
において部は質量部、%は質量%を示す。なお、本実施
例中における「露光」とは、フォトマスクとガラス基板
の間に5.0mmの間隔を保った状態での露光、すなわ
ちギャップ露光のこととする。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto. In the following, "part" means "part by mass" and "%" means "% by mass". The “exposure” in this embodiment means exposure with a gap of 5.0 mm kept between the photomask and the glass substrate, that is, gap exposure.
【0028】実施例1
下記に示す処方により本発明の感光性組成物(1)を得
た。該組成物(1)をガラス基板の上にスピンコート法
により0.5μmの膜厚に塗布し、ホットプレート上
で、50℃×1分間乾燥し、塗布膜を形成させた。この
塗布膜を、超高圧水銀灯を用い、フォトマスクとしてシ
ャープネステストチャートNo.1〔凸版印刷(株)製〕
を用い、露光量2.5mJ/cm2の露光を行った後、
常温の水で現像し、レジストパターンを形成した。本組
成物は顕著な相反則不軌特性を示した。このパターンが
形成されたガラス基板上全面にグラファイト分散液「エ
レクトロダッグED−1530」(日本アチソン社製)
をスピンコート法により、グラファイト膜厚が0.8μ
mとなるように塗布した。さらに3%過酸化水素水と
0.5%硫酸を加えたエッチング液の中に、室温で、グ
ラファイト処理したガラス基板を30秒間浸漬し、常温
の水で現像し、目的のブラックマトリックスを形成さ
せ、ブラックマトリックスでの解像度を測定した。解像
度は12μmであった。
[感光性組成物(1)の処方]
ポリビニルホルムアミド30%水溶液[三菱化学(株)製「PNVF」:重量
平均分子量=100,000] 33部
4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム
0.7部
ジアセトンアクリルアミド 2.5部
界面活性剤[日本油脂(株)製「ノニオンLT−221」] 0.04部
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.08部
イオン交換水 150部Example 1 A photosensitive composition (1) of the present invention was obtained by the following formulation. The composition (1) was applied on a glass substrate by a spin coating method so as to have a film thickness of 0.5 μm, and dried on a hot plate at 50 ° C. for 1 minute to form a coating film. This coating film was used as a photomask in a sharpness test chart No. 1 using an ultra-high pressure mercury lamp. 1 [made by Toppan Printing Co., Ltd.]
After performing an exposure amount of 2.5 mJ / cm 2 using
It was developed with water at room temperature to form a resist pattern. The composition exhibited outstanding reciprocity failure characteristics. Graphite dispersion "Electrodag ED-1530" (manufactured by Nippon Acheson Co., Ltd.) on the entire surface of the glass substrate on which this pattern is formed.
The graphite film thickness is 0.8μ by spin coating.
It was applied so that it would be m. Further, the graphite-treated glass substrate is dipped in an etching solution containing 3% hydrogen peroxide and 0.5% sulfuric acid at room temperature for 30 seconds and developed with water at room temperature to form a target black matrix. , The resolution in the black matrix was measured. The resolution was 12 μm. [Prescription of Photosensitive Composition (1)] 30% aqueous solution of polyvinyl formamide [Mitsubishi Chemical Corporation's "PNVF": weight average molecular weight = 100,000] 33 parts 4,4'-diazidostilbene-2,2 ' -Sodium disulfonate 0.7 parts Diacetone acrylamide 2.5 parts Surfactant [NONION LT-221 manufactured by NOF CORPORATION] 0.04 parts N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltri Methoxysilane 0.08 parts Ion-exchanged water 150 parts
【0029】実施例2
下記に示す処方により本発明の感光性組成物(2)を得
た。該組成物(2)を用いて実施例1と同様の方法でガ
ラス基板上に塗布、乾燥、露光、現像、グラファイト分
散液塗布、エッチング、現像を行い、ブラックマトリッ
クスでの解像度を測定したところ、14μmであった。
また、本組成物は顕著な相反則不軌特性を示した。
[感光性組成物(2)の処方]
ポリビニルアセトアミド40%水溶液[昭和電工(株)製「GE−191LL」:
重量平均分子量=40,000] 25部
4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム
0.7部
ジアセトンアクリルアミド 2.5部
界面活性剤[日本油脂(株)製「ノニオンLT−221」] 0.04部
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.08部
イオン交換水 150部Example 2 A photosensitive composition (2) of the present invention was obtained according to the following formulation. The composition (2) was applied on a glass substrate by the same method as in Example 1, dried, exposed, developed, coated with a graphite dispersion solution, etched, and developed, and the resolution in a black matrix was measured. It was 14 μm.
Further, the composition exhibited remarkable reciprocity law failure characteristics. Polyvinyl acetamide 40% aqueous solution of [Showa Denko KK "GE-191LL": weight average molecular weight = 40,000] [Formulation of photosensitive composition (2)] 25 parts of 4,4'-diazidostilbene -2 , 2'-sodium disulfonate 0.7 parts Diacetone acrylamide 2.5 parts Surfactant [NONION LT-221 manufactured by NOF CORPORATION] 0.04 parts N-β- (aminoethyl) -γ- Aminopropyltrimethoxysilane 0.08 parts Ion-exchanged water 150 parts
【0030】比較例1
下記に示す処方により比較の感光性組成物(比1)を得
た。該組成物(比1)を用いて実施例1と同様の方法で
ガラス基板上に塗布、乾燥、露光、現像、グラファイト
分散液塗布、エッチング、現像を行い、ブラックマトリ
ックスでの解像度を測定したところ、25μmであっ
た。また、本組成物は相反則の特性を示し、相反則不軌
特性は示さなかった。
[比較の感光性組成物(1)の処方]
ポリビニルホルムアミド30%水溶液[三菱化学(株)製「PNVF」:重量
平均分子量=100,000] 33部
4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム
0.7部
界面活性剤[日本油脂(株)製「ノニオンLT−221」] 0.04部
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.08部
イオン交換水 150部Comparative Example 1 A comparative photosensitive composition (ratio 1) was obtained according to the formulation shown below. When the composition (ratio 1) was applied on a glass substrate, dried, exposed, developed, coated with a graphite dispersion solution, etched, and developed in the same manner as in Example 1, the resolution in a black matrix was measured. , 25 μm. Moreover, this composition showed the characteristic of reciprocity law, and did not show the characteristic of reciprocity law failure. [Prescription of Comparative Photosensitive Composition (1)] 30% aqueous solution of polyvinylformamide [Mitsubishi KK-made "PNVF": weight average molecular weight = 100,000] 33 parts 4,4'-diazidostilbene-2, Sodium 2'-disulfonate 0.7 part Surfactant [NONION LT-221 manufactured by NOF CORPORATION] 0.04 part N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane 0.08 Part Ion-exchanged water 150 parts
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明の感光性組成物は、下記の効果を
奏し極めて有用性が高い。
1)本発明の感光性組成物は、相反則不軌特性を発現す
るが故に高解像度である。従って、該感光性組成物をカ
ラーブラウン管のブラックマトリックス形成用に用いた
場合、コントラストに優れたブラックマトリックスを形
成するので、高精細かつ高品位なカラーブラウン管の生
産が可能である。
2)有害物質であるクロム化合物を含有しないため、廃
水中のクロムを除去する設備を備える必要がなく、環境
汚染も発生しない。The photosensitive composition of the present invention has the following effects and is extremely useful. 1) The photosensitive composition of the present invention has high resolution because it exhibits reciprocity law failure characteristics. Therefore, when the photosensitive composition is used for forming a black matrix of a color CRT, a black matrix excellent in contrast is formed, so that a high-definition and high-quality color CRT can be produced. 2) Since it does not contain chromium compounds, which are harmful substances, it is not necessary to equip equipment for removing chromium in wastewater, and environmental pollution does not occur.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C08K 5/28 C08K 5/28 5/42 5/42 C08L 29/04 C08L 29/04 A 33/02 33/02 33/26 33/26 39/02 39/02 39/06 39/06 G03F 7/027 G03F 7/027 7/033 7/033 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 - 7/42 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C08K 5/28 C08K 5/28 5/42 5/42 C08L 29/04 C08L 29/04 A 33/02 33/02 33/26 33/26 39/02 39/02 39/06 39/06 G03F 7/027 G03F 7/027 7/033 7/033 (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/ 00- 7/42
Claims (7)
重量%と、水溶性アジド化合物(B)1〜30重量%
と、芳香環含有水溶性単量体、複素環含有水溶性単量体
および分子量130以上のアクリル系水溶性単量体から
なる群より選ばれる1つのビニル基を有する水溶性ビニ
ル系単量体の1種以上(C)10〜80質量%とからな
ることを特徴とする感光性組成物。1. Water-soluble vinyl polymer (A) 20-89
% By weight, and 1 to 30% by weight of water-soluble azide compound (B)
And a vinyl group having one vinyl group selected from the group consisting of an aromatic ring-containing water-soluble monomer, a heterocyclic ring-containing water-soluble monomer, and an acrylic water-soluble monomer having a molecular weight of 130 or more.
A photosensitive composition comprising at least one (C) of 10 to 80% by mass of a vinyl monomer .
アミドである請求項1記載の組成物。2. The composition according to claim 1, wherein the monomer (C) is diacetone acrylamide.
ミド(共)重合体、N−ビニルアセトアミド(共)重合
体、(メタ)アクリルアミド(共)重合体、アルキル基
の炭素数が1〜5のN−アルキル(メタ)アクリルアミ
ド、アルキル基の炭素数が1〜5のN,N−ジアルキル
(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド−ジ
アセトン(メタ)アクリルアミド共重合体、ポリビニル
アルコール(共)重合体、(メタ)アクリル酸(共)重
合体およびポリビニルピロリドン(共)重合体からなる
群より選ばれる1種以上の重合体である請求項1または
2記載の組成物。3. The polymer (A) is an N-vinylformamide (co) polymer, an N-vinylacetamide (co) polymer, a (meth) acrylamide (co) polymer, and an alkyl group having 1 carbon atom. To N-alkyl (meth) acrylamide, N-dialkyl (meth) acrylamide having 1 to 5 carbon atoms in the alkyl group, (meth) acrylamide-diacetone (meth) acrylamide copolymer, polyvinyl alcohol (co) The composition according to claim 1 or 2, which is one or more polymers selected from the group consisting of polymers, (meth) acrylic acid (co) polymers and polyvinylpyrrolidone (co) polymers.
(塩)基含有アジド化合物およびカルボン酸(塩)基含
有アジド化合物からなる群より選ばれる1種以上のアジ
ド化合物である請求項1〜3のいずれか記載の組成物。4. The azide compound (B) is one or more azide compounds selected from the group consisting of sulfonic acid (salt) group-containing azido compounds and carboxylic acid (salt) group-containing azido compounds. The composition according to any one of 1.
0.01〜10質量%の密着向上剤(D)を含有してな
る請求項1〜4のいずれか記載の組成物。5. The composition according to claim 1, further comprising 0.01 to 10% by mass of the adhesion improver (D) with respect to the mass of the polymer (A).
ス形成用である請求項1〜5のいずれか記載の組成物。6. The composition according to claim 1, which is used for forming a black matrix of a color cathode ray tube.
たカラーブラウン管。7. A color cathode ray tube formed by using the composition according to claim 6.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24459899A JP3445194B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | Photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24459899A JP3445194B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | Photosensitive composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001066770A JP2001066770A (en) | 2001-03-16 |
JP3445194B2 true JP3445194B2 (en) | 2003-09-08 |
Family
ID=17121115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24459899A Expired - Fee Related JP3445194B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | Photosensitive composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3445194B2 (en) |
-
1999
- 1999-08-31 JP JP24459899A patent/JP3445194B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001066770A (en) | 2001-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3134255B2 (en) | Photosensitive composition and use thereof | |
JP3808999B2 (en) | Photoresist ink and printed wiring board manufacturing ink | |
JP3445194B2 (en) | Photosensitive composition | |
US6140007A (en) | Photosensitive compositions and pattern formation method | |
JP5385729B2 (en) | Photosensitive resin | |
US5424368A (en) | Photosensitive resin comprising a polymer having an azide group in the side chain | |
KR100674013B1 (en) | Developing solution for radiosensitive composition | |
US6444391B2 (en) | Photosensitive compositions and pattern formation method | |
JP3202678B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP2720238B2 (en) | Photopolymerizable composition, color filter using the same, and method for producing the same | |
JPH11327151A (en) | Photosensitive composition | |
JPH11212264A (en) | Photosensitive composition | |
JPH11271968A (en) | Photosensitive composition | |
JP3510005B2 (en) | Photosensitive composition and pattern forming method using the same | |
JPH09222727A (en) | Water-soluble photosensitive composition | |
JPH10133372A (en) | Protective film composition for color filter and color filter | |
JP2001343746A (en) | Photosensitive composition | |
JP2002182379A (en) | Photosensitive composition | |
JP3071782B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP6154398B2 (en) | Photoresist composition | |
JP2001337451A (en) | Photosensitive composition | |
EP0989461B1 (en) | Photosensitive compositions and pattern formation method | |
KR20230170903A (en) | Photosensitive resin composition, and organic EL device partition | |
JPH0632823A (en) | Production of water-soluble photosensitive polymeric compound and photosensitive resin composition | |
KR20230003181A (en) | Positive photosensitive resin composition, and barrier ribs for organic EL elements |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |