JP3434526B2 - Method for producing epoxy-containing compound, α-hydroxycarbonyl compound or alkylsilyl or arylsilyl derivative of α-hydroxycarbonyl compound - Google Patents

Method for producing epoxy-containing compound, α-hydroxycarbonyl compound or alkylsilyl or arylsilyl derivative of α-hydroxycarbonyl compound

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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はエポキシ基含有化合
物、α−ヒドロキシカルボニル化合物またはα−ヒドロ
キシカルボニル化合物のアルキルシリルもしくはアリー
ルシリル誘導体の製造方法に関し、特に遷移金属(元
素)としてコバルト、マンガンまたは鉄を含む化合物と
アセタール構造を有する化合物(本発明において、「ア
セタール化合物」ともいう。)の併存下に行う新規な反
応により、二重結合を有する化合物からエポキシ基含有
化合物、α−ヒドロキシカルボニル化合物またはα−ヒ
ドロキシカルボニル化合物のアルキルシリルもしくはア
リールシリル誘導体を得ることができる方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an epoxy group-containing compound, an α-hydroxycarbonyl compound or an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound, and particularly cobalt, manganese or iron as a transition metal (element). A compound having a double bond, an epoxy group-containing compound, an α-hydroxycarbonyl compound, or a compound having an acetal structure (also referred to as “acetal compound” in the present invention) in the presence of It relates to a method by which an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound can be obtained.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、エポキシ基含有化合物を製造する
方法として、二重結合を有する化合物を、ベンゼン、ク
ロロホルムあるいは四塩化炭素等の不活性溶媒中で、過
安息香酸、過ギ酸、過フタル酸、過プロピオン酸、過酪
酸あるいはトリフルオロ過酢酸等の有機過酸化物で酸化
する方法が知られている。特に、工業的には、過酸化物
を生じさせる物質、例えば、氷酢酸と不飽和化合物との
混合物に、強酸触媒を加えて60〜70℃に加熱しなが
ら過酸化水素を加えて過酢酸を生成させ、この過酢酸を
利用してエポキシ基含有化合物を製造する方法が行われ
ている。一方、カルボニル化合物を製造する方法として
は、エノール化合物を、過酢酸等の過酸からなる酸化剤
や遷移金属触媒の存在下に、過酸化水素等と反応させる
方法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for producing an epoxy group-containing compound, a compound having a double bond is treated with perbenzoic acid, performic acid or perphthalic acid in an inert solvent such as benzene, chloroform or carbon tetrachloride. There is known a method of oxidizing with an organic peroxide such as perpropionic acid, perbutyric acid or trifluoroperacetic acid. Particularly, industrially, a strong acid catalyst is added to a substance that produces a peroxide, for example, a mixture of glacial acetic acid and an unsaturated compound, and hydrogen peroxide is added while heating at 60 to 70 ° C. to remove peracetic acid. A method for producing an epoxy group-containing compound using this peracetic acid is used. On the other hand, as a method for producing a carbonyl compound, a method is known in which an enol compound is reacted with hydrogen peroxide or the like in the presence of an oxidizing agent composed of a peracid such as peracetic acid or a transition metal catalyst.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記方
法における反応は、過敏な反応であるため、選択的にエ
ポキシ化反応を行うことが困難であり、しかもエポキシ
基含有化合物の生成に伴って、生成したエポキシ基含有
化合物の一部が重合することがある。また、この反応
は、厳しい反応条件下で行われるため、副反応が生起し
易く、エポキシ基含有化合物を高収率で得ることができ
ない。また酸化剤として使用する過酸類は高価かつ取扱
いが危険なものであるため、工業的に高コストになると
いう問題がある。また、カルボニル化合物を製造する前
記従来の方法においても同様の問題がある。
However, since the reaction in the above method is a hypersensitive reaction, it is difficult to selectively carry out the epoxidation reaction, and moreover, it is generated with the formation of the epoxy group-containing compound. A part of the epoxy group-containing compound may polymerize. Moreover, since this reaction is carried out under severe reaction conditions, side reactions are likely to occur, and the epoxy group-containing compound cannot be obtained in high yield. Further, since the peracids used as the oxidizing agent are expensive and dangerous to handle, there is a problem that the cost becomes industrially high. Further, the above-mentioned conventional method for producing a carbonyl compound has the same problem.

【0004】また、有機過酸化物を使用しないエポキシ
基含有化合物の製造方法として、不飽和化合物に次亜ハ
ロゲン酸を使用してハロヒドリンを生成させ、次いでこ
のハロヒドリンをアルカリ処理し、エポキシ基を生成す
る方法も知られているが、この方法は、構造の複雑なオ
レフィン類には適用できない。
Further, as a method for producing an epoxy group-containing compound without using an organic peroxide, halohydrin is produced by using hypohalous acid as an unsaturated compound, and then this halohydrin is treated with an alkali to produce an epoxy group. However, this method cannot be applied to olefins having a complicated structure.

【0005】さらに、使用する触媒、溶媒、あるいは反
応の進行によって生成する副生物等のために、反応系が
酸性を呈する方法では、出発原料である二重結合を有す
る化合物によっては分解したり、また、生成するエポキ
シ基含有化合物が分解したり転化してしまうおそれがあ
り、適用の範囲が限定される、という問題があった。
Further, in the method in which the reaction system is acidic due to the catalyst used, the solvent, the by-products produced by the progress of the reaction, etc., some compounds having a double bond as a starting material may decompose or may be decomposed. Further, there is a problem in that the produced epoxy group-containing compound may be decomposed or converted, and the range of application is limited.

【0006】そこで本発明の目的は、エポキシ基含有化
合物の製造に用いられてきた従来の反応に比して温和な
反応条件で行うことができ、過酸類等の高価な酸化剤を
使用しないため工業的に低コストで行うことができる。
また、中性条件下で行うことができるため、酸性では分
解し易い二重結合性化合物を出発原料とする製造にも適
用することができ、さらに酸性状態では分解や転化のお
それがあるエポキシ基含有化合物の製造にも適用するこ
とができ、しかも良好な触媒効率で、エポキシ基含有化
合物、α−ヒドロキシカルボニル化合物またはα−ヒド
ロキシカルボニル化合物のアルキルシリルもしくはアリ
ールシリル誘導体を得ることができる新規な方法を提供
することにある。
Therefore, an object of the present invention is that the reaction can be carried out under milder reaction conditions than the conventional reactions used for the production of epoxy group-containing compounds, and expensive oxidants such as peracids are not used. It can be performed industrially at low cost.
Further, since it can be carried out under neutral conditions, it can be applied to the production using a double bond compound which is easily decomposed in an acidic state as a starting material, and further, an epoxy group which may be decomposed or converted in an acidic state. A novel method which can be applied to the production of a containing compound, and can obtain an epoxy group-containing compound, an α-hydroxycarbonyl compound or an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound with good catalytic efficiency To provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、下記一般式(II)または(II)’:
In order to solve the above problems, the present invention provides the following general formula (II) or (II) ':

【0008】[0008]

【化5】 [Chemical 5]

【0009】[式(II)中、R5 およびR6 は、同一
でも異なってもよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状の
アルキル基またはアリール基であり、置換基を有してい
てもよく、R7 およびR8 は、同一でも異なってもよ
く、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基、アリールアルキル基またはアルコキシ基であり、置
換基を有していてもよく、R5 とR6 は、相互に結合し
て環を形成していてもよく、さらに、R5 、R6 、R7
およびR8 から選ばれる少なくとも2個以上の基が相互
に結合して環を形成していてもよく、また、式(I
I)’中、R9 およびR10は、同一でも異なってもよ
く、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアルキル基または
アリール基であり、置換基を有していてもよく、R11
水素原子、アルキル基、脂環式炭化水素基、アリール基
もしくはアルコキシ基であり、置換基を有していてもよ
く、また、R9 とR11は、相互に結合して環を形成して
いてもよく、R12、R13およびR14は同一でも異なって
もよく、低級アルキル基またはアリール基である。]で
表わされる二重結合性化合物を、一般式(I):
[In the formula (II), R 5 and R 6 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or an aryl group, and may have a substituent. , R 7 and R 8 may be the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an arylalkyl group or an alkoxy group, which may have a substituent, and R 5 and R 8 6 may combine with each other to form a ring, and further, R 5 , R 6 , and R 7
At least two or more groups selected from R 8 and R 8 may be bonded to each other to form a ring.
In I) ′, R 9 and R 10, which may be the same or different, each is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or an aryl group, which may have a substituent, and R 11 is hydrogen. An atom, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group or an alkoxy group, which may have a substituent, and R 9 and R 11 are bonded to each other to form a ring. R 12 , R 13 and R 14 may be the same or different and each is a lower alkyl group or an aryl group. ] The double bond compound represented by general formula (I):

【0010】[0010]

【化6】 [Chemical 6]

【0011】[式中、R1 およびR2 は同一でも異なっ
てもよく、水素原子、水酸基、アルコキシ基、シロキシ
基、直鎖もしくは分岐状のアルキル基、脂環式炭化水素
基またはアリール基であり、置換基を有していてもよ
く、相互に結合して環を形成していてもよく、R3 およ
びR4 は同一でも異なっていてもよく、水素原子、直鎖
もしくは分岐状のアルキル基、脂環式炭化水素基、アリ
ール基、アリールアルキル基またはシリル基であり、置
換基を有していてもよく、相互に結合して環を形成して
いてもよい。]で表されるアセタール構造を有する化合
物、および遷移金属含有化合物の存在下、酸素含有ガス
と反応させる工程を含む、下記一般式(IV)で表され
エポキシ基含有化合物、下記一般式(IV)’’で表
されるα−ヒドロキシカルボニル化合物または下記一般
式(IV)’で表されるα−ヒドロキシカルボニル化合
物のアルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体の製
造方法を提供するものである。
[Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a siloxy group, a linear or branched alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group or an aryl group. And R 3 and R 4 may be the same or different, and may have a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group. It is a group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group, an arylalkyl group or a silyl group, which may have a substituent and may be bonded to each other to form a ring. ] The compound having an acetal structure represented by the formula, and a step of reacting with an oxygen-containing gas in the presence of a transition metal-containing compound , represented by the following general formula (IV)
Table in that the epoxy group-containing compound represented by the following general formula (IV) ''
Α- hydroxy carbonyl compound or the following general be
The present invention provides a method for producing an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound represented by formula (IV) ′ .

【化7】 [式(IV)中、R 5 、R 6 、R 7 およびR 8 は、前記
式(II)中のR 5 、R 6 、R 7 およびR 8 と同義であ
り、式(IV)’および式(IV)’’中、R 9
10 、R 11 、R 12 、R 13 およびR 14 は、前記式(I
I)’中のR 9 、R 10 、R 11 、R 12 、R 13 およびR 14
同義である。]
[Chemical 7] [In the formula (IV), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are as described above.
R 5 in the formula (II), R 6, R 7 and R 8 as defined der
R 9 in formula (IV) ′ and formula (IV) ″
R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each represented by the above formula (I
I) ′ in R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 ;
Are synonymous. ]

【0012】前記遷移金属含有化合物が、下記一般式
(III)または(III)’:
The transition metal-containing compound has the following general formula (III) or (III) ':

【化8】 [Chemical 8]

【0013】[式中、R15〜R17、R18〜R20、R23
25、R26〜R28ならびにR29〜R31は同一でも異なっ
てもよく、低級アルキル基、アリール基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン化アルキル基、または下記式(a)、
(b)もしくは(c): −CO2 32 (a) (ここで、R32はアルキル基またはアリール基であ
る。) −N(R33)(R34) (b) (ここで、R33およびR34は同一でも異なってもよく、
アルキル基またはアリール基であり、R33およびR34
相互に結合して環を形成していてもよく、環内に酸素原
子または窒素原子を含んでいてもよい。) −OCOR35 (c) (R35はアルキル基またはアリール基を示す。)で表わ
される基であり、また、R15〜R17、R18〜R20、R23
〜R25、R26〜R28、R29〜R31の隣合うものはそれぞ
れ相互に結合して環を形成していてもよく、環内に窒素
原子を含んでいてもよく、さらに結合して芳香環を形成
してもよく、この芳香環に置換基を有していてもよい。
また、X1 およびX2 は酸素原子または窒素原子であ
り、X1 およびX2 が酸素原子の場合、R21、R22は存
在しないものとし、X1 およびX2 が窒素原子である場
合、R21およびR22は同一でも異なってもよく、低級ア
ルキル基、アリール基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン化アルキル基であり、R21とR22はそれぞれ相互に結
合して環を形成していてもよく、環内に窒素原子を含ん
でいてもよく、さらに結合して芳香環を形成してもよ
く、この芳香環に置換基を有していてもよい。]で表さ
れる錯体であって、上記一般式中のMがコバルト、マン
ガンおよび鉄から選ばれる少なくとも一種であると、好
ましい。
[Wherein R 15 to R 17 , R 18 to R 20 , R 23 to
R 25 , R 26 to R 28 and R 29 to R 31 may be the same or different and each is a lower alkyl group, an aryl group, a lower alkoxy group, a halogenated alkyl group, or the following formula (a):
(B) or (c): —CO 2 R 32 (a) (wherein R 32 is an alkyl group or an aryl group) —N (R 33 ) (R 34 ) (b) (wherein R 33 and R 34 may be the same or different,
It is an alkyl group or an aryl group, R 33 and R 34 may be bonded to each other to form a ring, and the ring may contain an oxygen atom or a nitrogen atom. ) —OCOR 35 (c) (R 35 represents an alkyl group or an aryl group), and R 15 to R 17 , R 18 to R 20 , and R 23.
To R 25 , R 26 to R 28 , and R 29 to R 31 which are adjacent to each other may bond to each other to form a ring, and may contain a nitrogen atom in the ring; To form an aromatic ring, and the aromatic ring may have a substituent.
Further, X 1 and X 2 are oxygen atoms or nitrogen atoms, R 21 and R 22 are absent when X 1 and X 2 are oxygen atoms, and X 1 and X 2 are nitrogen atoms, R 21 and R 22 may be the same or different and each is a lower alkyl group, an aryl group, a lower alkoxy group or a halogenated alkyl group, and R 21 and R 22 may be bonded to each other to form a ring. Of course, a nitrogen atom may be contained in the ring, and the ring may be further bonded to form an aromatic ring, and the aromatic ring may have a substituent. ] It is preferable that M in the above general formula is at least one selected from cobalt, manganese, and iron.

【0014】さらに、前記工程を、ゼオライトの存在下
に行うと、好ましい。
Further, it is preferable that the above step is carried out in the presence of zeolite.

【0015】以下、本発明のエポキシ基含有化合物、α
−ヒドロキシカルボニル化合物またはα−ヒドロキシカ
ルボニル化合物のアルキルシリルもしくはアリールシリ
ル誘導体の製造方法(以下、「本発明の方法」という)
について詳細に説明する。
Hereinafter, the epoxy group-containing compound of the present invention, α
-Method for producing alkylsilyl or arylsilyl derivative of hydroxycarbonyl compound or α-hydroxycarbonyl compound (hereinafter referred to as "method of the present invention")
Will be described in detail.

【0016】本発明の方法は、二重結合性化合物を出発
原料として、その出発原料に対応してエポキシ基含有化
合物、α−ヒドロキシカルボニル化合物またはα−ヒド
ロキシカルボニル化合物のアルキルシリルもしくはアリ
ールシリル誘導体を得ることができる方法である。本発
明の方法において、二重結合性化合物とは、例えば、前
記一般式(II)で表される化合物を代表例とする各種
のオレフィン類、あるいは前記一般式(II)’で表さ
れるエノレート類等の、分子内に二重結合を含むととも
に、炭素原子および水素原子以外の原子を構成原子とす
る各種の基を有する化合物をも包含する化合物をいう。
In the method of the present invention, a double bond compound is used as a starting material, and an epoxy group-containing compound, an α-hydroxycarbonyl compound or an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound corresponding to the starting material is used. It is a method that can be obtained. In the method of the present invention, the double bond compound means, for example, various olefins represented by the compound represented by the general formula (II) as a representative example, or the enolate represented by the general formula (II) ′. A compound such as a compound including a double bond in the molecule and having various groups having atoms other than carbon atoms and hydrogen atoms as constituent atoms.

【0017】特に、本発明の方法において、出発原料で
ある二重結合性化合物として、前記一般式(II)で表
される化合物を用いると、下記一般式(IV)で表され
るエポキシ基含有化合物を得ることができる。また、出
発原料として、前記一般式(II)’で表されるエノレ
ート類を用いると、下記一般式(IV)’で表されるα
−ヒドロキシカルボニル化合物のアルキルシリルもしく
はアリールシリル誘導体または一般式(IV)’’で表
されるα−ヒドロキシカルボニル化合物を得ることがで
きる。
In particular, in the method of the present invention, when the compound represented by the above general formula (II) is used as the starting double bond compound, it contains an epoxy group represented by the following general formula (IV). The compound can be obtained. When the enolate represented by the general formula (II) ′ is used as the starting material, α represented by the following general formula (IV) ′ is used.
It is possible to obtain an alkylsilyl or arylsilyl derivative of a hydroxycarbonyl compound or an α-hydroxycarbonyl compound represented by the general formula (IV) ″.

【0018】[0018]

【化9】 [Chemical 9]

【0019】本発明の方法における出発原料である二重
結合性化合物の代表例である化合物を表す前記一般式
(II)において、R5 およびR6 は、同一でも異なっ
てもよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアルキル基
またはアリール基であり、置換基を有していてもよい。
この直鎖または分岐状のアルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル
基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、
n−ドデシル基等が挙げられる。アリール基としては、
例えば、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ク
ロロフェニル基、p−フルオロフェニル基、ナフチル基
等が挙げられる。置換基を有する場合、その置換基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
tert−ブチル基、スルホニル基、ニトロ基、N,N
−ジメチルアミノ基、シアノ基等が挙げられる。
In the general formula (II), which represents a compound that is a typical example of a double bond compound that is a starting material in the method of the present invention, R 5 and R 6 may be the same or different, and a hydrogen atom, It is a linear or branched alkyl group or aryl group, which may have a substituent.
Examples of the linear or branched alkyl group include, for example,
Methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group,
sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group,
Examples include n-dodecyl group. As an aryl group,
Examples thereof include a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-chlorophenyl group, a p-fluorophenyl group, a naphthyl group and the like. When it has a substituent, examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group,
tert-butyl group, sulfonyl group, nitro group, N, N
-A dimethylamino group, a cyano group, etc. are mentioned.

【0020】また、R7 およびR8 は、同一でも異なっ
てもよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアルキル基
もしくはアルケニル基、アリール基、アリールアルキル
基またはアルコキシ基であり、置換基を有していてもよ
い。直鎖または分岐状のアルキル基およびアリール基と
しては、例えば、前記R5 およびR6 について例示のも
のと同じものが挙げられる。また、アルケニル基として
は、例えば、1−ペンテニル基、3−メチル−1−ペン
テニル基、3−メチル−3−ヒドロキシ−1−ペンテニ
ル基等が挙げられる。アリールアルキル基としては、例
えば、ベンジル基等が挙げられ、アルコキシ基として
は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ
基、tert−ブトキシ基等が挙げられる。置換基を有
する場合、その置換基としては、例えば、メチル基、エ
チル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のア
ルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、スルホニ
ル基、水酸基、アセトキシ基、シロキシ基、トリメチル
シリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ基、フェニルジメチルシリルオキシ基等が挙げられ
る。
R 7 and R 8 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or alkenyl group, an aryl group, an arylalkyl group or an alkoxy group and has a substituent. You may have. As the linear or branched alkyl group and aryl group, for example, the same groups as those exemplified for R 5 and R 6 can be mentioned. Examples of the alkenyl group include 1-pentenyl group, 3-methyl-1-pentenyl group, 3-methyl-3-hydroxy-1-pentenyl group and the like. Examples of the arylalkyl group include a benzyl group and the like, and examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group and the like. When having a substituent, as the substituent, for example, a methyl group, an alkyl group such as an ethyl group, a methoxy group, an alkoxy group such as an ethoxy group, a halogen, a nitro group, a cyano group, a sulfonyl group, a hydroxyl group, an acetoxy group, Examples thereof include a siloxy group, a trimethylsilyloxy group, a tert-butyldimethylsilyloxy group and a phenyldimethylsilyloxy group.

【0021】また、R5 とR6 は、相互に結合して環を
形成していてもよく、さらにR5 、R6 、R7 およびR
8 から選ばれる少なくとも2個以上の基が相互に結合し
て環を形成していてもよい。例えば、R6 とR7 は相互
に結合して、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロヘプチル基、シクロオクチル基等の環を形成しても
よい。さらに、R5 とR8 は相互に結合して、例えば、
ノルボルネン環等の環を形成してもよい。
R 5 and R 6 may combine with each other to form a ring, and R 5 , R 6 , R 7 and R
At least two or more groups selected from 8 may be bonded to each other to form a ring. For example, R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group or a cyclooctyl group. Further, R 5 and R 8 are linked to each other, for example,
A ring such as a norbornene ring may be formed.

【0022】この一般式(II)で表される化合物の代
表例として、下記式(II−1)〜(II−17)で表
されるものが挙げられる。
Typical examples of the compound represented by the general formula (II) include those represented by the following formulas (II-1) to (II-17).

【0023】[0023]

【化10】 [Chemical 10]

【0024】このような化合物から得られるエポキシ基
含有化合物の例として、下記一般式(IV−1)〜(I
V−17)で表されるものが挙げられる。
As examples of the epoxy group-containing compound obtained from such a compound, the following general formulas (IV-1) to (I
And those represented by V-17).

【0025】[0025]

【化11】 [Chemical 11]

【0026】また、本発明の方法における出発原料であ
る二重結合性化合物の代表例であるエノレート類を表す
一般式(II)’において、R9 およびR10は同一でも
異なってもよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアル
キル基またはアリール基であり、置換基を有していても
よい。直鎖または分岐状のアルキル基およびアリール基
としては、前記一般式(II)におけるR7 およびR8
について例示のものと同じものが挙げられる。また、R
9 またはR10が置換基を有する場合、その置換基として
は、例えば、ニトロ基、シアノ基、N,N−ジメチルア
ミノ基等が挙げられる。
Further, in the general formula (II) 'which represents an enolate which is a typical example of the double bond compound as a starting material in the method of the present invention, R 9 and R 10 may be the same or different, and hydrogen It is an atom, a linear or branched alkyl group or aryl group, which may have a substituent. Examples of the linear or branched alkyl group and aryl group include R 7 and R 8 in the general formula (II).
The same thing as what was illustrated is mentioned about. Also, R
When 9 or R 10 has a substituent, examples of the substituent include a nitro group, a cyano group and an N, N-dimethylamino group.

【0027】R11は水素原子、アルキル基、脂環式炭化
水素基、アリール基もしくはアルコキシ基である。アル
キル基およびアリール基としては、例えば、前記一般式
(II)におけるR5 およびR6 について例示のものと
同じものが挙げられる。脂環式炭化水素基としては、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げら
れる。アルコキシ基としては、例えば、前記一般式(I
I)におけるR7 およびR8 について例示のものと同じ
ものが挙げられる。
R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group or an alkoxy group. Examples of the alkyl group and the aryl group are the same as those exemplified for R 5 and R 6 in the general formula (II). Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the alkoxy group include, for example, the above general formula (I
The same ones as exemplified for R 7 and R 8 in I) can be mentioned.

【0028】またR9 とR11は、相互に結合して環を形
成していてもよく、例えば、相互に結合して、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、もしくはノルボルニル基等の基を形成し
てもよい。
R 9 and R 11 may be bonded to each other to form a ring. For example, R 9 and R 11 are bonded to each other to form a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, or a norbornyl group. Groups such as

【0029】R12、R13およびR14は同一でも異なって
もよく、低級アルキル基またはアリール基である。低級
アルキル基としては、例えば、C1 〜C6 のアルキル基
であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、tert−ブチル基等が挙げられ
る。アリール基としては、例えば、フェニル基等が挙げ
られる。
R 12 , R 13 and R 14, which may be the same or different, are a lower alkyl group or an aryl group. The lower alkyl group is, for example, a C 1 to C 6 alkyl group, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and the like.

【0030】この一般式(II)’で表されるエノレー
ト類の代表例として、下記一般式(II−18)’〜
(II−26)’で表されるものが挙げられる。
As typical examples of the enolates represented by the general formula (II) ', the following general formula (II-18)' to
Examples include those represented by (II-26) ′.

【0031】[0031]

【化12】 [Chemical 12]

【0032】このような化合物から得られるα−ヒドロ
キシカルボニル化合物およびα−ヒドロキシカルボニル
化合物のアルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体
の例として、下記一般式(IV−18)’’〜(IV−
20)’’、(IV−22)’’および(IV−2
4)’’〜(IV−26)’’、ならびに下記一般式
(IV−21)’および(IV−23)’で表されるも
のが挙げられる。
Examples of α-hydroxycarbonyl compounds and alkylsilyl or arylsilyl derivatives of α-hydroxycarbonyl compounds obtained from such compounds are represented by the following general formulas (IV-18) '' to (IV-
20) '', (IV-22) '' and (IV-2
4) ″ to (IV-26) ″, and those represented by the following general formulas (IV-21) ′ and (IV-23) ′.

【0033】[0033]

【化13】 [Chemical 13]

【0034】特に、出発原料として前記一般式(I
I)’において、R11がアルコキシ基であるエノレート
類を使用する場合には、生成物である一般式(I
V)’’または一般式(IV)’で表される化合物は、
α−ヒドロキシエステルまたはそのアルキルシリルもし
くはアリールシリル誘導体となる。例えば、一般式(I
I−21)’〜(II−23)’で表される化合物から
一般式(IV−22)’’で表されるα−ヒドロキシエ
ステルおよび一般式(IV−21)’、(IV−2
3)’で表されるα−ヒドロキシエステルのアルキルシ
リル誘導体が得られる。
Particularly, as a starting material, the above-mentioned general formula (I
In the case of using an enolate in which R 11 is an alkoxy group in I) ′, the product of the general formula (I
V) ″ or a compound represented by the general formula (IV) ′ is
It becomes an α-hydroxy ester or its alkylsilyl or arylsilyl derivative. For example, the general formula (I
I-21) 'to (II-23)' and an α-hydroxy ester represented by the general formula (IV-22) '' and general formulas (IV-21) 'and (IV-2
An alkylsilyl derivative of α-hydroxy ester represented by 3) ′ is obtained.

【0035】本発明の方法は、前記一般式(II)で表
される化合物または前記一般式(II)’で表されるエ
ノレート類等を代表例とする二重結合性化合物を、遷移
金属含有化合物と前記一般式(I)で表されるアセター
ル化合物の存在下に、酸素含有ガスと反応させる方法で
ある。
The method of the present invention comprises a transition metal containing a double bond compound represented by the compound represented by the general formula (II) or the enolate represented by the general formula (II) '. It is a method of reacting with an oxygen-containing gas in the presence of the compound and the acetal compound represented by the general formula (I).

【0036】前記アセタール化合物を表す一般式(I)
において、R1 およびR2 は同一でも異なってもよく、
水素原子、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基、直鎖も
しくは分岐状のアルキル基、脂環式炭化水素基またはア
リール基であり、相互に結合して環を形成していてもよ
い。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、tert−プトキシ基等が挙げられ、直鎖または分
岐状のアルキル基またはアリール基としては、例えば、
前記一般式(II)におけるR5 およびR6 について例
示のものと同じもの、あるいはシアノメチル基等の置換
基を有するもの等が挙げられる。脂環式炭化水素基とし
ては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基
等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル
基、クメニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、
ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げ
られる。
General formula (I) representing the acetal compound
In, R 1 and R 2 may be the same or different,
A hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a siloxy group, a linear or branched alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group or an aryl group, which may be bonded to each other to form a ring. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, and a tert-ptoxy group, and examples of the linear or branched alkyl group or aryl group include:
Examples of R 5 and R 6 in the general formula (II) are the same as those exemplified, or those having a substituent such as a cyanomethyl group. Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group, a cumenyl group, a mesityl group, and a tolyl group. , A xylyl group,
Examples thereof include a naphthyl group, an anthryl group and a phenanthryl group.

【0037】また、R3 およびR4 は、同一でも異なっ
てもよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアルキル
基、脂環式炭化水素基、アリール基、アリールアルキル
基またはシリル基である。この直鎖もしくは分岐状のア
ルキル基、アリール基またはアリールアルキル基として
は、例えば、前記一般式(II)におけるR7 およびR
8 について例示のものと同じものが挙げられる。また、
脂環式炭化水素基としては、例えば、前記R1 およびR
2 について例示のものと同じものが挙げられる。
R 3 and R 4, which may be the same or different, are a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group, an arylalkyl group or a silyl group. Examples of the linear or branched alkyl group, aryl group or arylalkyl group include R 7 and R in the general formula (II).
The same thing as the example of 8 is mentioned. Also,
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include R 1 and R described above.
The same thing as the example of 2 is mentioned.

【0038】また、R3 とR4 は互いに結合して環を形
成していてもよく、例えば、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シ
クロノニル基等を形成してもよい。
R 3 and R 4 may combine with each other to form a ring, for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group or the like.

【0039】この一般式(I)で表されるアセタール化
合物の代表例として、アルデヒドのアセタールである下
記式(I−1)〜(I−26)で表される化合物が挙げ
られ、またケトンのアセタールである下記式(I−2
7)〜(I−28)で表される化合物、ヘミアセタール
である下記式(I−29)で表される化合物、さらにオ
ルトエステルである下記式(I−30)で表される化合
物等が挙げられる。
Typical examples of the acetal compound represented by the general formula (I) include compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-26), which are acetals of aldehydes, and ketones. The following formula (I-2
7) to (I-28), compounds represented by the following formula (I-29) which is a hemiacetal, and compounds represented by the following formula (I-30) which is an orthoester. Can be mentioned.

【0040】[0040]

【化14】 [Chemical 14]

【0041】本発明において、前記一般式(I)で表さ
れるアセタール化合物は、1種単独でも2種以上を組み
合わせても用いられる。
In the present invention, the acetal compound represented by the general formula (I) may be used alone or in combination of two or more.

【0042】この一般式(I)で表されるアセタール化
合物の使用量は、出発物質である前記一般式(II)ま
たは前記一般式(II)’で表される二重結合性化合物
1モルに対して、通常、1モル程度以上であり、好まし
くは1から100モルが一般的であり、溶媒として用い
てもよい。
The amount of the acetal compound represented by the general formula (I) used is 1 mol of the double bond compound represented by the general formula (II) or the general formula (II) 'which is a starting material. On the other hand, it is usually about 1 mol or more, preferably 1 to 100 mol, and may be used as a solvent.

【0043】また、本発明の方法においては、この一般
式(I)で表されるアセタール化合物とともに、遷移金
属含有化合物が用いられる。この遷移金属含有化合物
は、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、
Zn等の遷移金属の各種塩、酸化物、錯体等が挙げられ
る。
Further, in the method of the present invention, a transition metal-containing compound is used together with the acetal compound represented by the general formula (I). This transition metal-containing compound includes Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu,
Examples thereof include various salts, oxides, complexes and the like of transition metals such as Zn.

【0044】遷移金属の塩としては、例えば、塩化コバ
ルト、臭化コバルト等のハロゲン化物;酢酸コバルト、
炭酸コバルト、硝酸コバルト、硫酸コバルト等の有機酸
あるいは無機酸の塩;水酸化コバルト等の水酸化物等が
挙げられる。
Examples of the transition metal salt include halides such as cobalt chloride and cobalt bromide; cobalt acetate,
Examples thereof include salts of organic acids or inorganic acids such as cobalt carbonate, cobalt nitrate and cobalt sulfate; hydroxides such as cobalt hydroxide and the like.

【0045】遷移金属の酸化物としては、例えば、酸化
コバルト、酸化鉄、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化
銅、酸化亜鉛等が挙げられる。
Examples of the transition metal oxide include cobalt oxide, iron oxide, manganese oxide, nickel oxide, copper oxide, zinc oxide and the like.

【0046】遷移金属の錯体としては、代表例として、
ジケトン類のコバルト、マンガン、鉄錯体等が挙げられ
る。
Typical examples of the transition metal complex include:
Examples include diketones such as cobalt, manganese, and iron complexes.

【0047】これらの遷移金属含有化合物の中でも、特
に、前記一般式(III)または(III)’で表され
る錯体(化合物)が代表的である。さらに、一般式(I
II)または(III)’において、MはCo、Mnお
よびFeが望ましく、R15〜R17、R18〜R20、R23
25、R26〜R28ならびにR29〜R31は同一でも異なっ
てもよく、低級アルキル基、アリール基、低級アルコキ
シ基、ハロゲン化アルキル基あるいは前記式(a)で表
されるエステル基、前記式(b)で表されるアミノ基、
もしくは前記式(c)で表されるアセトキシ基(アシル
オキシ基)である。この低級アルキル基としては、例え
ば、C1 〜C6 のアルキル基であり、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert
−ブチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニ
ル基、p−メトキシフェニル基、p−クロロフェニル基
等が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、
1〜C6 のアルコキシ基であり、具体的には、メトキ
シ基、エトキシ基、プロピルオキシ基(プロポキシ
基)、フェノキシ基等が挙げられる。ハロゲン化アルキ
ル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等が挙げ
られる。
Of these transition metal-containing compounds, the complex (compound) represented by the general formula (III) or (III) 'is particularly representative. Furthermore, the general formula (I
In II) or (III) ', M is Co, Mn and Fe is preferably, R 15 ~R 17, R 18 ~R 20, R 23 ~
R 25 , R 26 to R 28 and R 29 to R 31 may be the same or different and each is a lower alkyl group, an aryl group, a lower alkoxy group, a halogenated alkyl group or an ester group represented by the above formula (a), An amino group represented by the above formula (b),
Alternatively, it is an acetoxy group (acyloxy group) represented by the above formula (c). The lower alkyl group is, for example, a C 1 -C 6 alkyl group, and specifically includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a tert group.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a p-methoxyphenyl group and a p-chlorophenyl group. As the lower alkoxy group, for example,
An alkoxy group C 1 -C 6, specifically, methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group (propoxy group), phenoxy group. Examples of the halogenated alkyl group include a trifluoromethyl group and the like.

【0048】また、前記式(a)において、R32はアル
キル基またはアリール基であり、このアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられ、アリー
ル基としてはフェニル基等が挙げられる。
In the formula (a), R 32 is an alkyl group or an aryl group. Examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group. To be

【0049】さらに、前記式(b)において、R33およ
びR34は同一でも異なってもよく、アルキル基またはア
リール基であり、このアルキル基としては、例えば、メ
チル基、エチル基等が挙げられ、アリール基としては、
例えば、フェニル基等が挙げられ、またR33およびR34
は相互に結合してピロリジン環、ピペリジン環等を形成
していてもよく、環内に酸素原子または窒素原子を含ん
でモルフォリン環等を形成してもよい。
Further, in the above formula (b), R 33 and R 34 may be the same or different and each is an alkyl group or an aryl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group and the like. , As the aryl group,
Examples thereof include a phenyl group, and R 33 and R 34
May combine with each other to form a pyrrolidine ring, a piperidine ring or the like, or may contain an oxygen atom or a nitrogen atom in the ring to form a morpholine ring or the like.

【0050】また、前記式(c)において、R35はアル
キル基またはアリール基を示し、このアルキル基または
アリール基としては、例えば、前記式(a)におけるR
32について例示のものと同じものが挙げられる。
In the formula (c), R 35 represents an alkyl group or an aryl group, and examples of the alkyl group or the aryl group include R in the formula (a).
The same thing as the example of 32 is mentioned.

【0051】また、R15〜R17、R18〜R20、R23〜R
25、R26〜R28、R29〜R31の隣合うものはそれぞれ相
互に結合して環を形成していてもよく、環内に窒素原子
を含んでいてもよく、さらに結合して芳香環を形成して
もよく、この芳香環に、メチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ
基、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子等を置換基と
して有していてもよい。
Further, R 15 to R 17 , R 18 to R 20 , R 23 to R
Adjacent ones of 25 , R 26 to R 28 , and R 29 to R 31 may be bonded to each other to form a ring, may contain a nitrogen atom in the ring, and may be further bonded to an aromatic group. A ring may be formed, and this aromatic ring has a lower alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine as a substituent. You may have.

【0052】X1 およびX2 は酸素または窒素から選ば
れる原子を示し、X1 およびX2 が酸素原子の場合、R
21、R22は存在しないものとする。X1 およびX2 が窒
素原子である場合、R21、R22は同一でも異なってもよ
く、メチル基、エチル基等の低級アルキル基、フェニル
基、ナフチル基等のアリール基である。また、R21、R
22はそれぞれ相互に結合を形成していてもよく、例え
ば、−CH2 CH2 −基、−CH2 CH2 CH2 −基等
を形成してもよい。さらにR21、R22がフェニル基(ベ
ンゼン環)の1、2−位やナフチル基(ナフタレン環)
の2、3−位となっていてもよく、この芳香環にメチル
基等の低級アルキル基やメトキシ基等の低級アルコキシ
基を有していてもよい。さらにまた、上記結合の中に酸
素や窒素等の原子が含まれていてもよく、それが、例え
ば、−CH2 CH2 CH2 N(CH3 )CH2 CH2
2 −やピリジン環の2、3−位となっていてもよい。
X 1 and X 2 represent an atom selected from oxygen and nitrogen, and when X 1 and X 2 are oxygen atoms, R
21 and R 22 do not exist. When X 1 and X 2 are nitrogen atoms, R 21 and R 22 may be the same or different and each is a lower alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, or an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group. Also, R 21 , R
22 may form a bond each other respectively, for example, -CH 2 CH 2 - group, -CH 2 CH 2 CH 2 - may form a group. Further, R 21 and R 22 are the 1- and 2-positions of the phenyl group (benzene ring) and the naphthyl group (naphthalene ring).
In the 2, 3 position, and the aromatic ring may have a lower alkyl group such as a methyl group or a lower alkoxy group such as a methoxy group. Furthermore, an atom such as oxygen or nitrogen may be contained in the above-mentioned bond, which is, for example, —CH 2 CH 2 CH 2 N (CH 3 ) CH 2 CH 2 C.
H 2 - may become a 2,3-position of or pyridine ring.

【0053】この一般式(III)または(III)’
で表されるコバルト、マンガンまたは鉄化合物の代表例
として、下記式(III−1)〜(III−19)およ
び(III−20)’〜(III−22)’で表される
化合物を挙げることができる。
This general formula (III) or (III) '
As typical examples of the cobalt, manganese, or iron compound represented by the following, compounds represented by the following formulas (III-1) to (III-19) and (III-20) 'to (III-22)' are listed. You can

【0054】[0054]

【化15】 [Chemical 15]

【0055】これらのコバルト、マンガンまたは鉄化合
物は、例えば、所望のコバルト、マンガン、鉄化合物に
対応する配位子を形成する化合物と、CoCl2 、Mn
Cl3 、FeCl3 とを用いて、脱塩法で製造すること
ができる。このようにして得られた生成物は、反応溶媒
等を除去した後、乾燥してそのまま使用してもよいし、
有機溶媒で抽出精製してもよいし、減圧下、昇華精製し
て使用してもよい。
These cobalt, manganese or iron compounds include, for example, a compound which forms a ligand corresponding to a desired cobalt, manganese or iron compound, CoCl 2 , Mn.
It can be produced by a desalting method using Cl 3 and FeCl 3 . The product thus obtained may be dried and used as it is, after removing the reaction solvent and the like,
It may be extracted and purified with an organic solvent, or may be purified by sublimation under reduced pressure before use.

【0056】本発明の方法において、遷移金属含有化合
物は、1種単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。また、これらの遷移金属含有化合物は、いずれの方
法によって得られたものでもよく、特に限定されない。
また、市販品を用いてもよい。
In the method of the present invention, the transition metal-containing compound may be used alone or in combination of two or more. Further, these transition metal-containing compounds may be obtained by any method and are not particularly limited.
Moreover, you may use a commercial item.

【0057】本発明において、遷移金属含有化合物の使
用量は、通常、出発原料である前記式(II)または前
記式(II)’で表される二重結合性化合物1モルに対
して0.005〜30モル%の割合であり、特に、エポ
キシ基含有化合物、α−ヒドロキシカルボニル化合物ま
たはα−ヒドロキシカルボニル化合物のアルキルシリル
もしくはアリールシリル誘導体の収率が高い点で、0.
1〜10モル%の割合が一般的である。
In the present invention, the amount of the transition metal-containing compound used is usually 0. 1 with respect to 1 mol of the double bond compound represented by the above formula (II) or the above formula (II) 'which is a starting material. It is a proportion of 005 to 30 mol%, and in particular, in terms of high yield of the epoxy group-containing compound, the α-hydroxycarbonyl compound or the alkylsilyl or arylsilyl derivative of the α-hydroxycarbonyl compound,
A proportion of 1 to 10 mol% is common.

【0058】本発明の方法で用いられる酸素含有ガス
は、酸素ガス(純酸素)でもよいし、酸素含有窒素ガス
(例えば空気)等の酸素含有不活性ガスでもよい。
The oxygen-containing gas used in the method of the present invention may be oxygen gas (pure oxygen) or oxygen-containing inert gas such as oxygen-containing nitrogen gas (eg air).

【0059】酸素含有ガス中の酸素の分圧は、好ましく
は0.1〜10atm程度、さらに好ましくは0.2〜
2.0atm程度である。
The partial pressure of oxygen in the oxygen-containing gas is preferably about 0.1-10 atm, more preferably 0.2-.
It is about 2.0 atm.

【0060】反応温度は、通常10〜180℃であり、
さらに30〜150℃が好ましい。
The reaction temperature is usually 10 to 180 ° C.,
Furthermore, 30-150 degreeC is preferable.

【0061】反応圧力は、溶媒が気化しない限り、常圧
で十分である。
The reaction pressure may be normal pressure as long as the solvent does not vaporize.

【0062】また、本発明の方法において、前記反応を
ゼオライトの存在下に行うと、反応速度を速くすること
ができ、またエポキシ基含有化合物、α−ヒドロキシカ
ルボニル化合物またはα−ヒドロキシカルボニル化合物
のアルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体を高収
率で得ることができる点で、好ましい。このゼオライト
の具体例として、合成ゼオライトである商品名モレキュ
ラーシーブで市販されているものが挙げられる。
In the method of the present invention, when the reaction is carried out in the presence of zeolite, the reaction rate can be increased, and the epoxy group-containing compound, α-hydroxycarbonyl compound or α-hydroxycarbonyl compound alkyl group can be used. It is preferable in that a silyl or arylsilyl derivative can be obtained in high yield. Specific examples of this zeolite include those commercially available under the trade name Molecular Sieve, which is a synthetic zeolite.

【0063】また、本発明の方法において、反応を不活
性溶媒を用いて行うこともできる。不活性溶媒を用いる
場合、例えば、ヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系溶
媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テト
ラヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン
等のエーテル系溶媒、またはジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素系溶媒が好ましい。
In the method of the present invention, the reaction can also be carried out using an inert solvent. When an inert solvent is used, for example, a hydrocarbon solvent such as hexane and benzene, an ester solvent such as ethyl acetate and butyl acetate, an ether solvent such as tetrahydrofuran and 2,5-dimethyltetrahydrofuran, or a halogenation such as dichloroethane. Hydrocarbon solvents are preferred.

【0064】以上の反応によって得られる反応混合物か
ら、目的のエポキシ基含有化合物、α−ヒドロキシカル
ボニル化合物およびα−ヒドロキシカルボニル化合物の
アルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体の回収、
精製は、公知の方法、例えば、蒸留、吸着による方法、
抽出、再結晶等の方法を組み合わせて行うことができ
る。
Recovery of the desired epoxy group-containing compound, α-hydroxycarbonyl compound and alkylsilyl or arylsilyl derivative of α-hydroxycarbonyl compound from the reaction mixture obtained by the above reaction,
Purification is a known method, for example, a method by distillation, adsorption,
It can be performed by combining methods such as extraction and recrystallization.

【0065】本発明の方法においては、出発原料の二重
結合性化合物として、前記一般式(II)で表わされる
化合物を用いると、前記一般式(IV)で表されるエポ
キシ基含有化合物を得ることができる。また出発原料の
二重結合性化合物として、前記一般式(II)’で表さ
れるエノレート類を用いると、通常、前記一般式(I
V)’で表されるα−ヒドロキシカルボニル化合物のア
ルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体が得られ
る。この一般式(IV)’で表されるα−ヒドロキシカ
ルボニル化合物のアルキルシリルもしくはアリールシリ
ル誘導体の誘導体を、1)加水分解条件下で処理、また
は、2)フッ化物イオン処理(例えば、テトラブチルア
ンモニウムフルオリドを触媒量添加)することによっ
て、前記一般式(IV)’’で表されるα−ヒドロキシ
カルボニル化合物を得ることができる。
In the method of the present invention, when the compound represented by the general formula (II) is used as the double bond compound as the starting material, the epoxy group-containing compound represented by the general formula (IV) is obtained. be able to. When the enolate represented by the general formula (II) ′ is used as the starting double bond compound, the compound represented by the general formula (I) is usually used.
An alkylsilyl or arylsilyl derivative of the α-hydroxycarbonyl compound represented by V) ′ is obtained. The derivative of the alkylsilyl or arylsilyl derivative of the α-hydroxycarbonyl compound represented by the general formula (IV) 'is treated under 1) hydrolysis conditions, or 2) treated with fluoride ion (for example, tetrabutylammonium). By adding a catalytic amount of fluoride), the α-hydroxycarbonyl compound represented by the general formula (IV) ″ can be obtained.

【0066】[0066]

【実施例】以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をより
具体的に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples of the present invention.

【0067】(実施例1〜12) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、(III−4)で表されるコバルト
化合物0.06mmol(2.0mol%)、および表
1に示すアセタール化合物5.0mlとともに、純酸素
雰囲気下、45〜75℃で、3〜10時間加熱撹拌して
反応させてエポキシ基含有化合物(IV−1)を得た。
また、得られたエポキシ基含有化合物(IV−1)の生
成量をガスクロマトグラフィーで求めた。結果を表1に
示す。
Examples 1 to 12 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and 0.06 mmol (2.0 mol%) of the cobalt compound represented by (III-4). , And 5.0 ml of the acetal compound shown in Table 1 under a pure oxygen atmosphere at 45 to 75 ° C. for 3 to 10 hours with stirring and reaction to obtain an epoxy group-containing compound (IV-1).
Moreover, the production amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 1.

【0068】[0068]

【表1】 [Table 1]

【0069】(実施例13〜16) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、(III−4)で表されるコバルト
化合物0.06mmol(2.0mol%)、および表
2に示すアセタール化合物5.0mlとともに、純酸素
雰囲気下、75℃で、3〜6時間加熱撹拌して反応させ
てエポキシ基含有化合物(IV−1)を得た。また、得
られたエポキシ基含有化合物(IV−1)の生成量をガ
スクロマトグラフィーで求めた。結果を表2に示す。
Examples 13 to 16 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and 0.06 mmol (2.0 mol%) of the cobalt compound represented by (III-4). , And 5.0 ml of the acetal compound shown in Table 2 under a pure oxygen atmosphere at 75 ° C. under heating with stirring for 3 to 6 hours to cause reaction to obtain an epoxy group-containing compound (IV-1). Moreover, the production amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 2.

【0070】[0070]

【表2】 [Table 2]

【0071】(実施例17〜23) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、(III−4)で表されるコバルト
化合物0.06mmol(2.0mol%)、および表
3に示すアセタール化合物5.0mlとともに、純酸素
雰囲気下、75℃で6時間加熱撹拌して反応させエポキ
シ基含有化合物(IV−1)を得た。得られたエポキシ
基含有化合物(IV−1)の生成量をガスクロマトグラ
フィーで求めた。結果を表3に示す。
Examples 17 to 23 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and 0.06 mmol (2.0 mol%) of the cobalt compound represented by (III-4). , And 5.0 ml of the acetal compound shown in Table 3 were reacted by heating and stirring at 75 ° C. for 6 hours in a pure oxygen atmosphere to obtain an epoxy group-containing compound (IV-1). The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 3.

【0072】[0072]

【表3】 [Table 3]

【0073】(実施例24〜27) 各例において、アセタール化合物を表4に示すものに代
えた以外は、実施例1と同様にしてエポキシ基含有化合
物(IV−1)を得た。また、得られたエポキシ基含有
化合物(IV−1)の生成量をガスクロマトグラフィー
で求めた。結果を表4に示す。
Examples 24 to 27 In each example, an epoxy group-containing compound (IV-1) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the acetal compound shown in Table 4 was replaced. Moreover, the production amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 4.

【0074】[0074]

【表4】 [Table 4]

【0075】(実施例28〜36) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、表5で表されるコバルト化合物0.
06mmol(2.0mol%)、および一般式(I−
18)で表されるアセタール化合物5.0mlととも
に、純酸素雰囲気下、75℃で6時間加熱撹拌して反応
させエポキシ基含有化合物(IV−1)を得た。得られ
たエポキシ基含有化合物(IV−1)の生成量をガスク
ロマトグラフィーで求めた。結果を表5に示す。
(Examples 28 to 36) In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and the cobalt compound 0.
06 mmol (2.0 mol%), and the general formula (I-
The compound (IV-1) containing an epoxy group was obtained by reacting with 5.0 ml of the acetal compound represented by 18) by heating and stirring at 75 ° C. for 6 hours in a pure oxygen atmosphere. The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 5.

【0076】[0076]

【表5】 [Table 5]

【0077】(実施例37〜42) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、表6に示すコバルト化合物0.06
mmol(2.0mol%)、および一般式(I−1
8)で表されるアセタール化合物5.0mlとともに、
純酸素雰囲気下、75℃で6時間加熱撹拌して反応させ
エポキシ基含有化合物(IV−1)を得た。得られたエ
ポキシ基含有化合物(IV−1)の生成量をガスクロマ
トグラフィーで求めた。結果を表6に示す。
Examples 37 to 42 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and 0.06 of the cobalt compound shown in Table 6 were used.
mmol (2.0 mol%), and the general formula (I-1
Together with 5.0 ml of the acetal compound represented by 8),
In a pure oxygen atmosphere, the mixture was heated and stirred at 75 ° C. for 6 hours to cause a reaction to obtain an epoxy group-containing compound (IV-1). The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 6.

【0078】[0078]

【表6】 [Table 6]

【0079】(実施例43〜49) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、表7に示すコバルト、マンガンまた
は鉄化合物0.06mmol(2.0mol%)、およ
び一般式(I−18)で表されるアセタール化合物5.
0mlとともに、純酸素雰囲気下、45〜75℃で3〜
12時間加熱撹拌して反応させエポキシ基含有化合物
(IV−1)を得た。得られたエポキシ基含有化合物
(IV−1)の生成量をガスクロマトグラフィーで求め
た。結果を表7に示す。
Examples 43 to 49 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1), 0.06 mmol (2.0 mol%) of the cobalt, manganese or iron compound shown in Table 7, And an acetal compound represented by the general formula (I-18).
0 ml with pure oxygen atmosphere at 45-75 ℃ 3 ~
The mixture was heated and stirred for 12 hours for reaction to obtain an epoxy group-containing compound (IV-1). The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 7.

【0080】[0080]

【表7】 [Table 7]

【0081】(実施例50、51) 各例において、表8に示すコバルト化合物を使用し、反
応時間を8時間とした以外は、実施例28と同様にして
エポキシ基含有化合物(IV−1)を得た。得られたエ
ポキシ基含有化合物(IV−1)の生成量をガスクロマ
トグラフィーで求めた。結果を表8に示す。
(Examples 50 and 51) In each example, the epoxy group-containing compound (IV-1) was prepared in the same manner as in Example 28 except that the cobalt compounds shown in Table 8 were used and the reaction time was 8 hours. Got The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 8.

【0082】[0082]

【表8】 [Table 8]

【0083】(実施例52〜58) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、一般式(III−4)で表されるコ
バルト化合物0.06mmol(2.0mol%)、お
よび表9に示すアセタール化合物5.0mlとともに、
純酸素雰囲気下、45℃で10時間加熱撹拌して反応さ
せエポキシ基含有化合物(IV−1)を得た。得られた
エポキシ基含有化合物(IV−1)の生成量をガスクロ
マトグラフィーで求めた。結果を表9に示す。
Examples 52 to 58 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and 0.06 mmol (2.0 mol of the cobalt compound represented by the general formula (III-4). %), And 5.0 ml of the acetal compound shown in Table 9,
In a pure oxygen atmosphere, the mixture was heated and stirred at 45 ° C. for 10 hours to be reacted to obtain an epoxy group-containing compound (IV-1). The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 9.

【0084】[0084]

【表9】 [Table 9]

【0085】(実施例59〜65) 各例において、一般式(II−1)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、一般式(III−4)で表されるコ
バルト化合物0.06mmol(2.0mol%)、合
成ゼオライト(日化精工(株)製、モレキュラーシーブ
ス4A)500mg、および表10に示すアセタール化
合物5.0mlとともに、純酸素雰囲気下、45℃で1
0時間加熱撹拌して反応させエポキシ基含有化合物(I
V−1)を得た。得られたエポキシ基含有化合物(IV
−1)の生成量をガスクロマトグラフィーで求めた。結
果を表10に示す。
Examples 59 to 65 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-1) and 0.06 mmol (2.0 mol of the cobalt compound represented by the general formula (III-4). %), Synthetic zeolite (manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd., Molecular Sieves 4A) 500 mg, and 5.0 ml of the acetal compound shown in Table 10 under pure oxygen atmosphere at 45 ° C.
The epoxy group-containing compound (I
V-1) was obtained. The obtained epoxy group-containing compound (IV
The amount of -1) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 10.

【0086】[0086]

【表10】 [Table 10]

【0087】(実施例66〜69) 各例において、一般式(II−6)で表されるオレフィ
ン3.2mmol、一般式(III−4)で表されるコ
バルト化合物0.06mmol(2.0mol%)、合
成ゼオライト(日化精工(株)製、モレキュラーシーブ
ス4A)500mg、および一般式(I−3)で表され
るアセタール化合物を表11に示す量とともに、純酸素
雰囲気下、45℃で20時間加熱撹拌して反応させエポ
キシ基含有化合物(IV−6)を得た。得られたエポキ
シ基含有化合物(IV−6)の生成量をガスクロマトグ
ラフィーで求めた。結果を表11に示す。
Examples 66 to 69 In each example, 3.2 mmol of the olefin represented by the general formula (II-6) and 0.06 mmol (2.0 mol of the cobalt compound represented by the general formula (III-4). %), Synthetic zeolite (manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd., Molecular Sieves 4A) 500 mg, and the acetal compound represented by the general formula (I-3) together with the amounts shown in Table 11 under pure oxygen atmosphere at 45 ° C. The mixture was heated and stirred for 20 hours for reaction to obtain an epoxy group-containing compound (IV-6). The amount of the obtained epoxy group-containing compound (IV-6) produced was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 11.

【0088】[0088]

【表11】 [Table 11]

【0089】(実施例70〜79) 各例において、表12に示すオレフィン3.2mmo
l、一般式(III−1)で表されるコバルト化合物
0.06mmol(2.0mol%)、合成ゼオライト
(日化精工(株)製、モレキュラーシーブス4A)50
0mg、および一般式(I−3)で表されるアセタール
化合物5.0ml〜20.0mlとともに、純酸素雰囲
気下、45℃で10〜20時間加熱撹拌して反応させ、
各出発原料オレフィンに対応するエポキシ基含有化合物
(IV−1)〜(IV−10)を得た。得られたエポキ
シ基含有化合物(IV−1)〜(IV−10)の生成量
をガスクロマトグラフィーで求めた。結果を表12に示
す。
Examples 70 to 79 In each example, the olefins of 3.2 mmo shown in Table 12 were used.
1, 0.06 mmol (2.0 mol%) of a cobalt compound represented by the general formula (III-1), synthetic zeolite (manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd., Molecular Sieves 4A) 50
0 mg, and 5.0 ml to 20.0 ml of the acetal compound represented by the general formula (I-3) are reacted by heating and stirring at 45 ° C. for 10 to 20 hours in a pure oxygen atmosphere,
Epoxy group-containing compounds (IV-1) to (IV-10) corresponding to each starting material olefin were obtained. The production amount of the obtained epoxy group-containing compounds (IV-1) to (IV-10) was determined by gas chromatography. The results are shown in Table 12.

【0090】[0090]

【表12】 [Table 12]

【0091】(実施例80〜86) 各例において、表13に示すオレフィン3.2mmo
l、一般式(III−1)で表されるコバルト化合物
0.06mmol(2.0mol%)、合成ゼオライト
(日化精工(株)製、モレキュラーシーブス4A)50
0mg、および一般式(I−3)で表されるアセタール
化合物20.0mlとともに、純酸素雰囲気下、45℃
で4〜20時間加熱撹拌して、各出発原料オレフィンに
対応するエポキシ基含有化合物(IV−11)〜(IV
−17)を得た。得られたエポキシ基含有化合物(IV
−11)〜(IV−17)の生成量をガスクロマトグラ
フィーで求めた。結果を表13に示す。
(Examples 80 to 86) In each example, the olefins of 3.2 mmo shown in Table 13 were used.
1, 0.06 mmol (2.0 mol%) of a cobalt compound represented by the general formula (III-1), synthetic zeolite (manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd., Molecular Sieves 4A) 50
0 mg and 20.0 ml of the acetal compound represented by the general formula (I-3) in a pure oxygen atmosphere at 45 ° C.
And stirring for 4 to 20 hours, and the epoxy group-containing compounds (IV-11) to (IV
-17) was obtained. The obtained epoxy group-containing compound (IV
The amounts of -11) to (IV-17) produced were determined by gas chromatography. The results are shown in Table 13.

【0092】[0092]

【表13】 [Table 13]

【0093】(実施例87〜95) 各例において、表14に示すエノレート3.2mmo
l、一般式(III−1)で表されるコバルト化合物
0.06mmol(2.0mol%)、合成ゼオライト
(日化精工(株)製、モレキュラーシーブス4A)50
0mg、および一般式(I−3)で表されるアセタール
化合物5.0ml〜20.0mlとともに、純酸素雰囲
気下、45℃で4〜14時間加熱撹拌して反応させた
後、テトラブチルアンモニウムフルオライドを少量加え
て、各出発原料エノレートに対応するα−ヒドロキシカ
ルボニル化合物(IV−18)’’〜(IV−2
0)’’、(IV−22)’’、(IV−24)’’〜
(IV−26)’’およびα−ヒドロキシカルボニル化
合物のアルキルシリル誘導体(IV−21)’、(IV
−23)’を得た。得られたα−ヒドロキシカルボニル
化合物およびα−ヒドロキシカルボニル化合物のアルキ
ルシリル誘導体の生成量をガスクロマトグラフィーで求
めた。結果を表14に示す。
Examples 87 to 95 In each example, the enolate of 3.2 mmo shown in Table 14 was used.
1, 0.06 mmol (2.0 mol%) of a cobalt compound represented by the general formula (III-1), synthetic zeolite (manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd., Molecular Sieves 4A) 50
0 mg and 5.0 ml to 20.0 ml of the acetal compound represented by the general formula (I-3) are reacted by heating and stirring at 45 ° C. for 4 to 14 hours in a pure oxygen atmosphere, and then reacted with tetrabutylammonium fluoride. A small amount of a ride was added to the α-hydroxycarbonyl compound (IV-18) '' to (IV-2 corresponding to each starting material enolate.
0) '', (IV-22) '', (IV-24) '' ~
(IV-26) '' and an alkylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound (IV-21) ', (IV
-23) 'was obtained. The production amounts of the obtained α-hydroxycarbonyl compound and the alkylsilyl derivative of the α-hydroxycarbonyl compound were determined by gas chromatography. The results are shown in Table 14.

【0094】[0094]

【表14】 [Table 14]

【0095】[0095]

【発明の効果】本発明の方法によれば、酸素含有ガスを
用いる温和な反応で、簡便な操作で効率よくエポキシ基
含有化合物、α−ヒドロキシカルボニル化合物またはα
−ヒドロキシカルボニル化合物のアルキルシリルもしく
はアリールシリル誘導体を製造できる。また反応で共存
させるアセタールの消費量が、生成するエポキシ化合物
に対して1〜2当量程度と少なくてすむという利点を有
している。また、過酸類等の高価な酸化剤を使用しない
ため工業的に低コストで行うことができる。さらに、中
性条件下で行うことができるため、酸性では分解し易い
二重結合性化合物を出発原料とする製造にも適用するこ
とができ、さらに酸性状態では分解や転化のおそれがあ
るエポキシ基含有化合物の製造にも適用することができ
る利点がある。
According to the method of the present invention, an epoxy group-containing compound, an α-hydroxycarbonyl compound or an α-hydroxycarbonyl compound or an α-hydroxycarbonyl compound or an α-hydroxycarbonyl compound or
-Alkylsilyl or arylsilyl derivatives of hydroxycarbonyl compounds can be prepared. Further, it has an advantage that the consumption of acetal to be coexisted in the reaction can be as small as about 1 to 2 equivalents with respect to the epoxy compound produced. Further, since an expensive oxidizing agent such as peracids is not used, it can be industrially carried out at low cost. Further, since it can be carried out under neutral conditions, it can be applied to the production using a double bond compound which is easily decomposed in an acidic state as a starting material, and an epoxy group which may be decomposed or converted in an acidic state. There is an advantage that it can be applied to the production of contained compounds.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 49/82 C07C 49/82 67/00 67/00 69/732 69/732 Z C07D 301/06 C07D 301/06 303/04 303/04 303/14 303/14 303/16 303/16 303/32 303/32 C07F 7/18 C07F 7/18 A // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 山 田 徹 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三井石油化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−169547(JP,A) 特開 平4−334342(JP,A) 特開 昭54−122218(JP,A) 米国特許2785185(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 45/37 C07C 49/17 C07C 49/713 C07C 49/82 C07C 67/00 C07C 69/732 C07D 301/06 C07D 303/04 C07D 303/14 C07D 303/16 C07D 303/32 B01J 31/28 B01J 31/32 B01J 29/00 C07F 7/18 C07B 61/00 300 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C07C 49/82 C07C 49/82 67/00 67/00 69/732 69/732 Z C07D 301/06 C07D 301/06 303/04 303/04 303/14 303/14 303/16 303/16 303/32 303/32 C07F 7/18 C07F 7/18 A // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72) Inventor Toru Yamada Sodegaura, Chiba Prefecture Mayor Ura Takuji No. 580-32 Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd. (56) Reference JP-A-4-169547 (JP, A) JP-A-4-334342 (JP, A) JP-A-54-122218 ( JP, A) US Patent 2785185 (US, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C07C 45/37 C07C 49/17 C07C 49/713 C07C 49/82 C07C 67/00 C07C 69 / 732 C07D 301/06 C07D 303/04 C07D 303/14 C07D 303/16 C07D 303/32 B01J 31/28 B01J 31/32 B01J 29/00 C07F 7/18 C07B 61/00 300 CA (STN) CAOLD (STN ) REGISTRY (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】下記一般式(II)または(II)’: 【化1】 [式(II)中、R5 およびR6 は、同一でも異なって
もよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状のアルキル基ま
たはアリール基であり、置換基を有していてもよく、R
7 およびR8 は、同一でも異なってもよく、水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアル
キル基またはアルコキシ基であり、置換基を有していて
もよく、R5 とR6 は、相互に結合して環を形成してい
てもよく、さらに、R5 、R6 、R7 およびR8 から選
ばれる少なくとも2個以上の基が相互に結合して環を形
成していてもよく、また、式(II)’中、R9 および
10は、同一でも異なってもよく、水素原子、直鎖もし
くは分岐状のアルキル基またはアリール基であり、置換
基を有していてもよく、R11は水素原子、アルキル基、
脂環式炭化水素基、アリール基もしくはアルコキシ基で
あり、置換基を有していてもよく、また、R9 とR
11は、相互に結合して環を形成していてもよく、R12
13およびR14は同一でも異なってもよく、低級アルキ
ル基またはアリール基である。]で表わされる二重結合
性化合物を、一般式(I): 【化2】 [式中、R1 およびR2 は同一でも異なってもよく、水
素原子、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基、直鎖もし
くは分岐状のアルキル基、脂環式炭化水素基またはアリ
ール基であり、置換基を有していてもよく、相互に結合
して環を形成していてもよく、R3 およびR4 は同一で
も異なっていてもよく、水素原子、直鎖もしくは分岐状
のアルキル基、脂環式炭化水素基、アリール基、アリー
ルアルキル基またはシリル基であり、置換基を有してい
てもよく、相互に結合して環を形成していてもよい。]
で表されるアセタール構造を有する化合物、および遷移
金属含有化合物の存在下、酸素含有ガスと反応させる工
程を含む、下記一般式(IV)で表されるエポキシ基含
有化合物、下記一般式(IV)’’で表されるα−ヒド
ロキシカルボニル化合物または下記一般式(IV)’で
表されるα−ヒドロキシカルボニル化合物のアルキルシ
リルもしくはアリールシリル誘導体の製造方法。【化3】 [式(IV)中、R 5 、R 6 、R 7 およびR 8 は、前記
式(II)中のR 5 、R 6 、R 7 およびR 8 と同義であ
り、式(IV)’および式(IV)’’中、R 9
10 、R 11 、R 12 、R 13 およびR 14 は、前記式(I
I)’中のR 9 、R 10 、R 11 、R 12 、R 13 およびR 14
同義である。]
1. The following general formula (II) or (II) ': [In the formula (II), R 5 and R 6 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or an aryl group, which may have a substituent, R 5
7 and R 8 may be the same or different and each is a hydrogen atom,
It is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an arylalkyl group or an alkoxy group, which may have a substituent, and R 5 and R 6 may be bonded to each other to form a ring. , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be bonded to each other to form a ring, and in the formula (II) ′, R 9 and R 10 May be the same or different and each is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or an aryl group, which may have a substituent, and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group,
An alicyclic hydrocarbon group, an aryl group or an alkoxy group, which may have a substituent, and R 9 and R
11 may combine with each other to form a ring, R 12
R 13 and R 14 may be the same or different and each is a lower alkyl group or an aryl group. ] The double bond compound represented by the following general formula (I): [Wherein R 1 and R 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a siloxy group, a linear or branched alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group or an aryl group, And R 3 and R 4 may be the same or different, and may be a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or an aliphatic group. It is a cyclic hydrocarbon group, an aryl group, an arylalkyl group or a silyl group, which may have a substituent and may be bonded to each other to form a ring. ]
Compounds having an acetal structure represented in, and the presence of a transition metal-containing compound, comprising the step of reacting with an oxygen-containing gas, an epoxy group-containing compound represented by the following general formula (IV), the following general formula (IV) And an α-hydroxycarbonyl compound represented by the following general formula (IV) ′
A method for producing an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an represented α-hydroxycarbonyl compound. [Chemical 3] [In the formula (IV), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are as described above.
R 5 in the formula (II), R 6, R 7 and R 8 as defined der
R 9 in formula (IV) ′ and formula (IV) ″
R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each represented by the above formula (I
I) ′ in R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 ;
Are synonymous. ]
【請求項2】前記遷移金属含有化合物が、下記一般式
(III)または(III)’: 【化4】 [式中、R15〜R17、R18〜R20、R23〜R25、R26
28ならびにR29〜R31は同一でも異なってもよく、低
級アルキル基、アリール基、低級アルコキシ基、ハロゲ
ン化アルキル基、または下記式(a)、(b)もしくは
(c): −CO2 32 (a) (ここで、R32はアルキル基またはアリール基であ
る。) −N(R33)(R34) (b) (ここで、R33およびR34は同一でも異なってもよく、
アルキル基またはアリール基であり、R33およびR34
相互に結合して環を形成していてもよく、環内に酸素原
子または窒素原子を含んでいてもよい。) −OCOR35 (c) (R35はアルキル基またはアリール基を示す。)で表わ
される基であり、また、R15〜R17、R18〜R20、R23
〜R25、R26〜R28、R29〜R31の隣合うものはそれぞ
れ相互に結合して環を形成していてもよく、環内に窒素
原子を含んでいてもよく、さらに結合して芳香環を形成
してもよく、この芳香環に置換基を有していてもよい。
また、X1 およびX2 は酸素原子または窒素原子であ
り、X1 およびX2 が酸素原子の場合、R21、R22は存
在しないものとし、X1 およびX2 が窒素原子である場
合、R21およびR22は同一でも異なってもよく、低級ア
ルキル基、アリール基、低級アルコキシ基またはハロゲ
ン化アルキル基であり、R21とR22はそれぞれ相互に結
合して環を形成していてもよく、環内に窒素原子を含ん
でいてもよく、さらに結合して芳香環を形成してもよ
く、この芳香環に置換基を有していてもよい。]で表さ
れる錯体であって、上記一般式中のMがコバルト、マン
ガンおよび鉄から選ばれる少なくとも一種である請求項
1に記載のエポキシ基含有化合物、α−ヒドロキシカル
ボニル化合物またはα−ヒドロキシカルボニル化合物の
アルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体の製造方
法。
2. The transition metal-containing compound is represented by the following general formula (III) or (III) ′: Wherein, R 15 ~R 17, R 18 ~R 20, R 23 ~R 25, R 26 ~
R 28 and R 29 to R 31 may be the same or different and each is a lower alkyl group, an aryl group, a lower alkoxy group, a halogenated alkyl group, or the following formula (a), (b) or (c): —CO 2 R 32 (a) (wherein R 32 is an alkyl group or an aryl group) —N (R 33 ) (R 34 ) (b) (wherein R 33 and R 34 may be the same or different) ,
It is an alkyl group or an aryl group, R 33 and R 34 may be bonded to each other to form a ring, and the ring may contain an oxygen atom or a nitrogen atom. ) —OCOR 35 (c) (R 35 represents an alkyl group or an aryl group), and R 15 to R 17 , R 18 to R 20 , and R 23.
To R 25 , R 26 to R 28 , and R 29 to R 31 which are adjacent to each other may bond to each other to form a ring, and may contain a nitrogen atom in the ring; To form an aromatic ring, and the aromatic ring may have a substituent.
Further, X 1 and X 2 are oxygen atoms or nitrogen atoms, R 21 and R 22 are absent when X 1 and X 2 are oxygen atoms, and X 1 and X 2 are nitrogen atoms, R 21 and R 22 may be the same or different and each is a lower alkyl group, an aryl group, a lower alkoxy group or a halogenated alkyl group, and R 21 and R 22 may be bonded to each other to form a ring. Of course, a nitrogen atom may be contained in the ring, and the ring may be further bonded to form an aromatic ring, and the aromatic ring may have a substituent. ] The epoxy group-containing compound, α-hydroxycarbonyl compound or α-hydroxycarbonyl according to claim 1, wherein M in the above general formula is at least one selected from cobalt, manganese and iron. A method for producing an alkylsilyl or arylsilyl derivative of a compound.
【請求項3】前記工程を、ゼオライトの存在下に行う請
求項1に記載のエポキシ基含有化合物、α−ヒドロキシ
カルボニル化合物またはα−ヒドロキシカルボニル化合
物のアルキルシリルもしくはアリールシリル誘導体の製
造方法。
3. The method for producing an epoxy group-containing compound, an α-hydroxycarbonyl compound or an alkylsilyl or arylsilyl derivative of an α-hydroxycarbonyl compound according to claim 1, wherein the step is carried out in the presence of zeolite.
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