JP3415782B2 - Wafer transfer device - Google Patents

Wafer transfer device

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JP3415782B2
JP3415782B2 JP36970998A JP36970998A JP3415782B2 JP 3415782 B2 JP3415782 B2 JP 3415782B2 JP 36970998 A JP36970998 A JP 36970998A JP 36970998 A JP36970998 A JP 36970998A JP 3415782 B2 JP3415782 B2 JP 3415782B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハを、
例えばキャリアからアライナに搬送する場合に使用する
ウエハ搬送装置に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor wafer,
For example, the present invention relates to a wafer transfer device used when transferring from a carrier to an aligner.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体ウエハを、例えばキャリア
からアライナに搬送する搬送装置として、図3に示すも
のがある。この搬送装置は、本体部7に第一水平アーム
8を回動自在に設け、その第一水平アーム8の先端部に
第二水平アーム9を回動自在に設け、さらにその第二水
平アーム9の先端部に垂直アーム10を回転自在に立設
し、その垂直アーム10にウエハWを保持する保持腕1
1を回転自在に設けて構成している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a transfer device for transferring a semiconductor wafer from a carrier to an aligner, there is one shown in FIG. In this carrying device, a first horizontal arm 8 is rotatably provided on a main body portion 7, a second horizontal arm 9 is rotatably provided on a tip end portion of the first horizontal arm 8, and further, a second horizontal arm 9 thereof is provided. A vertical arm 10 is rotatably erected at the tip of the holding arm 1 and holds the wafer W on the vertical arm 10.
1 is rotatably provided.

【0003】そして、ウエハWを例えばキャリアからア
ライナに搬送する場合は、保持腕11で垂直方向にある
ウエハWを保持した後、水平方向に90度回転させると
共に前進してアライナへ搬送する。この搬送は、第一水
平アーム8と第二水平アーム9を水平平面上を回動させ
ることによって達成するものとしている。
When the wafer W is transferred from the carrier to the aligner, for example, after holding the wafer W in the vertical direction by the holding arm 11, the wafer W is rotated 90 degrees in the horizontal direction and moved forward to be transferred to the aligner. This transfer is achieved by rotating the first horizontal arm 8 and the second horizontal arm 9 on a horizontal plane.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のウエハ搬送装置は、ウエハWを搬送するため
に、第一水平アーム8と第二水平アーム9の双方を水平
平面上で回動させるものとしているので、常時、第一水
平アーム8と第二水平アーム9の双方が、本体部7から
側方へ突出する。また、ウエハWを搬送する際、これら
第一水平アーム8と第二水平アーム9は、水平平面上を
回動するので、本体部7からウエハWの搬送方向に突出
するのみでなく、搬送方向以外へも大きく突出すること
になる。その結果、ウエハ搬送装置が占める水平方向の
空間が大きくなってしまい、スペースが無駄となるとい
った問題が発生する。
However, in the above-mentioned conventional wafer transfer apparatus, in order to transfer the wafer W, both the first horizontal arm 8 and the second horizontal arm 9 are rotated on a horizontal plane. Therefore, both the first horizontal arm 8 and the second horizontal arm 9 always project laterally from the main body portion 7. Further, when the wafer W is transferred, the first horizontal arm 8 and the second horizontal arm 9 rotate on a horizontal plane, so that the wafer W is not only projected from the main body 7 in the transfer direction but also in the transfer direction. It will also greatly project to other areas. As a result, the horizontal space occupied by the wafer transfer device becomes large, resulting in a waste of space.

【0005】そこで、本発明の目的とするところは、水
平方向に占める空間を小さくすることによってスペース
の無駄をなくすことのできるウエハ搬送装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a wafer transfer apparatus capable of eliminating the waste of space by reducing the space occupied in the horizontal direction.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の請求項1に記載のウエハ搬送装置は、装
置本体(1)に取付けられ、第一モーター(2a)によ
って昇降動自在とされた昇降ロッド(2)と、その昇降
ロッド(2)の上端部に取付けられ、第二モーター(3
a)によって垂直平面上を時計回り方向および反時計回
り方向に回動自在とされた回動アーム(3)と、その回
動アーム(3)の上端部に取付けられ、当該回動アーム
(3)に連結されたリンク機構(4a)によって、常に
垂直姿勢を維持する継ぎ手(4)と、その継ぎ手(4)
の上端部に取付けられ、回動アーム(3)の回動軸に直
角な水平軸の周りに第三モーター(5a)によって回動
自在とされ、ウエハ(W)を垂直姿勢、水平姿勢または
その間の姿勢で把持する把持アーム(5)と、および、
装置本体(1)に設けられ、第一モーター(2a)、第
二モーター(3a)および第三モーター(5a)を制御
するコントローラ(6)と、を備え、コントローラ
(6)で第一モーター(2a)と第二モーター(3a)
とを同期して回転させて、昇降ロッド(2)の昇降動と
回動アーム(3)の回動とを同期させ、継ぎ手(4)の
下端部の軸心(4b)を水平ライン(L)に沿った進退
動とし、把持アーム(5)でウエハ(W)を搬送してな
ることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a wafer transfer apparatus according to claim 1 of the present invention is mounted on an apparatus main body (1) and is moved up and down by a first motor (2a). A lifting rod (2) that is freely movable, and is attached to the upper end of the lifting rod (2), and a second motor (3
a) A rotary arm (3) which is rotatable in a clockwise direction and a counterclockwise direction on a vertical plane by a), and is attached to the upper end of the rotary arm (3). ) And a joint (4) that always maintains a vertical posture by a link mechanism (4a) connected to
Mounted on the upper end of the wafer, and is rotatable by a third motor (5a) around a horizontal axis perpendicular to the rotation axis of the rotation arm (3). Gripping arm (5) for gripping in this posture, and
A controller (6) which is provided in the device body (1) and controls the first motor (2a), the second motor (3a) and the third motor (5a), and the controller (6) controls the first motor ( 2a) and second motor (3a)
Are rotated in synchronism with each other to synchronize the ascending / descending movement of the ascending / descending rod (2) and the rotation of the rotating arm (3), and the axis (4b) of the lower end of the joint (4) is aligned with the horizontal line (L). ), And the wafer (W) is transferred by the gripping arm (5).

【0007】また、請求項2に記載のウエハ搬送装置
は、請求項1に記載の発明において、コントローラ
(6)による制御を、把持アーム(5)を前進動させる
場合には、第一モーター(2a)を正回転させるに同期
して第二モーター(3a)を正回転させて、昇降ロッド
(2)を下降させると共に、回動アーム(3)を時計回
り方向へ回動させて垂直起立姿勢とし、引き続き、第一
モーター(2a)を逆回転させるに同期して前記第二モ
ーター(3a)をそのまま正回転させて、昇降ロッド
(2)を上昇させると共に、回動アーム(3)をそのま
ま時計回り方向へ回動させて前方傾斜姿勢とし、また、
把持アーム(5)を後退動させる場合には、第一モータ
ー(2a)を正回転させるに同期して第二モーター(3
a)を逆回転させて、昇降ロッド(2)を下降させると
共に、回動アーム(3)を反時計回り方向へ回動させて
垂直起立姿勢とし、引き続き、第一モーター(2a)を
逆回転させるに同期して第二モータ(3a)をそのまま
逆回転させて、昇降ロッド(2)を上昇させると共に、
回動アーム(3)をそのまま反時計回り方向に回動させ
て後方傾斜姿勢としてなることを特徴とする。
Further, in the wafer transfer apparatus described in claim 2, in the invention described in claim 1, when the control by the controller (6) is to move the gripping arm (5) forward, the first motor ( The second motor (3a) is normally rotated in synchronization with the normal rotation of (2a) to lower the elevating rod (2), and the pivot arm (3) is pivoted in the clockwise direction so as to have a vertical standing posture. Then, in synchronization with the reverse rotation of the first motor (2a), the second motor (3a) is directly rotated as it is to raise the elevating rod (2) and the rotating arm (3) is kept as it is. Rotate clockwise to tilt forward,
When the gripping arm (5) is moved backward, the second motor (3) is synchronized with the forward rotation of the first motor (2a).
a) is reversely rotated to lower the elevating rod (2) and the rotating arm (3) is rotated counterclockwise to a vertical standing posture, and subsequently the first motor (2a) is reversely rotated. In synchronism with this, the second motor (3a) is reversely rotated as it is to raise the elevating rod (2) and
It is characterized in that the rotating arm (3) is rotated counterclockwise as it is to assume a rearward inclined posture.

【0008】なお、カッコ内の記号は図面および後述す
る発明の実施の形態に記載された対応要素または対応事
項を示す。
Symbols in parentheses indicate corresponding elements or corresponding matters described in the drawings and embodiments of the invention described later.

【0009】本発明の請求項1に記載のウエハ搬送装置
によれば、コントローラで第一モーターと第二モーター
とを同期して回転させて、昇降ロッドを昇降動させると
共に回動アームを垂直平面上を回動させ、継ぎ手の下端
部の軸心を水平ラインに沿って進退動させることによっ
て、把持アームでウエハを搬送することとしている。す
なわち、昇降ロッドを垂直方向へ昇降動させると共に回
動アームを垂直平面上を回動させることによって、把持
アームを進退動させてウエハを搬送することとしてい
る。従って、昇降ロッドは装置本体から側方(水平方
向)へ突出しない。また、回動アームも搬送方向のみに
突出するのみで、それ以外の方向へは突出しない。よっ
て、水平方向の空間を無駄にすることがない。
According to the wafer transfer apparatus of the first aspect of the present invention, the controller causes the controller to rotate the first motor and the second motor in synchronization with each other to move the lifting rod up and down and to rotate the rotating arm on a vertical plane. By rotating the upper part and moving the axis of the lower end of the joint forward and backward along the horizontal line, the wafer is transferred by the gripping arm. That is, the lifting rod is moved up and down in the vertical direction, and the rotating arm is rotated on a vertical plane to move the holding arm forward and backward to transfer the wafer. Therefore, the lifting rod does not protrude laterally (horizontally) from the main body of the apparatus. Further, the rotating arm also projects only in the carrying direction, and does not project in any other direction. Therefore, the space in the horizontal direction is not wasted.

【0010】また、請求項2に記載の発明によれば、請
求項1に記載の発明の作用効果に加えて、コントローラ
によって第一モーターと第二モーターを正回転または逆
回転させて、昇降ロッドの昇降動と回動アームの回動を
制御している。従って、継ぎ手の下端部の軸心が水平ラ
インに沿って確実に進退動し、把持アームによるウエハ
の搬送が水平ラインに平行に行われる。その結果、ウエ
ハの搬送が円滑に達成される。
According to the second aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the invention, the controller causes the controller to rotate the first motor and the second motor in the forward or reverse direction to move the lifting rod. It controls the up-and-down movement of and the rotation of the rotating arm. Therefore, the axial center of the lower end of the joint is reliably moved back and forth along the horizontal line, and the wafer is carried by the gripping arm in parallel with the horizontal line. As a result, wafer transfer is smoothly achieved.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1および図2を参照して、本発
明の実施形態に係るウエハ搬送装置について説明する。
図1はウエハ搬送装置によってウエハWを搬送する状態
を示す側面図で、図2はウエハ搬送装置の構造をより詳
細に示す部分断面側面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A wafer transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
1 is a side view showing a state where a wafer W is transferred by a wafer transfer device, and FIG. 2 is a partial cross-sectional side view showing the structure of the wafer transfer device in more detail.

【0012】本発明の実施形態に係るウエハ搬送装置
は、半導体ウエハWを例えばキャリアからアライナに搬
送する場合に使用されるものである。このウエハ搬送装
置の昇降ロッド2は、装置本体1に取付けられ、第一モ
ーター2aによって昇降動自在とされている。第一モー
ター2aが回転すると、ベルト2bおよびプーリー2c
を介してスクリューボルト2eが回転し、このスクリュ
ーボルト2eに螺合しているダイ2dが昇降動する。こ
れによってダイ2dに固定されている昇降ロッド2も昇
降動する。
The wafer transfer apparatus according to the embodiment of the present invention is used for transferring a semiconductor wafer W from, for example, a carrier to an aligner. The elevating rod 2 of this wafer transfer apparatus is attached to the apparatus main body 1 and can be moved up and down by the first motor 2a. When the first motor 2a rotates, the belt 2b and the pulley 2c
The screw bolt 2e rotates via the, and the die 2d screwed to the screw bolt 2e moves up and down. As a result, the lifting rod 2 fixed to the die 2d also moves up and down.

【0013】回動アーム3は、昇降ロッド2の上端部に
下端部が取付けられ、当該下端部に設けられた第二モー
ター3aによって垂直平面上を時計回り方向および反時
計回り方向に回動自在とされている。回動角度は、垂直
ラインから時計回り方向および反時計回り方向へそれぞ
れ60°に設定されている。継ぎ手4は、回動アーム3
の上端部に下端部が取付けられ、回動アーム3に連結さ
れた通常のリンク機構4aによって、常に垂直姿勢を維
持するように設定されている。
The lower end of the rotating arm 3 is attached to the upper end of the elevating rod 2, and the rotating arm 3 can be rotated clockwise and counterclockwise on a vertical plane by a second motor 3a provided at the lower end. It is said that. The rotation angle is set to 60 ° in the clockwise direction and the counterclockwise direction from the vertical line. The joint 4 is a rotating arm 3.
The lower end is attached to the upper end of the, and a normal link mechanism 4a connected to the rotating arm 3 is set to always maintain the vertical posture.

【0014】把持アーム5は、基端部が継ぎ手4の上端
部に取付けられ、第三モーター5aによって回動アーム
3の回動軸に直角な水平軸の周りに回動自在とされ、ウ
エハWを垂直姿勢、水平姿勢またはその間の姿勢で把持
する。把持アーム5は、略Y字形状で先端部の二個所
(二又部)と基端部の一個所でウエハWの周端を把持す
るものとしている。従って、例えばウエハWの表面を吸
着保持する搬送装置等と比較して汚れが伝染しないの
で、性能的に優れるという特性を有する。
The gripping arm 5 has a base end portion attached to the upper end portion of the joint 4, and is rotatable by a third motor 5a about a horizontal axis perpendicular to the rotation axis of the rotation arm 3. Grip in a vertical posture, a horizontal posture, or a posture in between. The gripping arm 5 has a substantially Y-shape and grips the peripheral edge of the wafer W at two points (forked portions) at the tip and one point at the base. Therefore, as compared with, for example, a transfer device that adsorbs and holds the surface of the wafer W, dirt is not transmitted, and thus it has a characteristic of excellent performance.

【0015】コントローラ6(CPU)は、装置本体1
に内蔵され、第一モーター2a、第二モーター3aおよ
び第三モーター5aを制御する。このコントローラ6で
第一モーター2aと第二モーター3aとを同期して回転
させて、昇降ロッド2の昇降動と回動アーム3の回動と
を同期させて行う。これにより、継ぎ手4の下端部の軸
心4bの進退動を図1に示すように水平ラインLに沿っ
たものとし、こうした水平方向の動きのもとに、把持ア
ーム5でウエハWを搬送する。
The controller 6 (CPU) is the main body 1 of the apparatus.
And controls the first motor 2a, the second motor 3a, and the third motor 5a. The controller 6 causes the first motor 2a and the second motor 3a to rotate in synchronization with each other so that the up-and-down movement of the up-and-down rod 2 and the rotation of the rotating arm 3 are performed in synchronization with each other. As a result, the axial center 4b of the lower end of the joint 4 is moved back and forth along the horizontal line L as shown in FIG. 1, and the wafer W is transferred by the holding arm 5 under such horizontal movement. .

【0016】上記コントローラ6による制御を、図1を
参照して、本搬送装置の動作と共に詳述する。まず、把
持アーム5でウエハWを垂直姿勢で把持した後(図1
(a)参照)、該把持アーム5を前進動させるには、第
一モーター2aを正回転させるに同期して第二モーター
3aを正回転させて、昇降ロッド2を下降させると共
に、回動アーム3を時計回り方向へ回動させる。これに
よって回動アーム3を垂直起立姿勢とする(図1
(b))。なお、この間に、コントローラ6からの信号
によって第三モーター5aを回転させて把持アーム5を
90°回転し、ウエハWを垂直姿勢から水平姿勢に変え
る。
The control by the controller 6 will be described in detail with reference to FIG. First, after the wafer W is vertically held by the holding arm 5 (see FIG.
(See (a)). In order to move the gripping arm 5 forward, the second motor 3a is normally rotated in synchronization with the normal rotation of the first motor 2a to lower the elevating rod 2 and rotate the rotating arm. Rotate 3 clockwise. As a result, the rotating arm 3 is placed in the vertical standing posture (see FIG. 1).
(B)). During this time, the third motor 5a is rotated by the signal from the controller 6 to rotate the gripping arm 5 by 90 °, and the wafer W is changed from the vertical posture to the horizontal posture.

【0017】引き続き、第一モーター2aを上記とは逆
に逆回転させるに同期して第二モーター3aをそのまま
正回転させて、昇降ロッド2を上昇させると共に、回動
アーム3をそのまま時計回り方向へ回動させて前方傾斜
姿勢とする(図1(c))。そして、コントローラ6か
らの信号によってウエハWを把持アーム5から離脱させ
てアライナに載置し、ウエハWの搬送を完了する。
Continuing on, the second motor 3a is rotated forward as it is in synchronism with the reverse rotation of the first motor 2a, and the lifting rod 2 is raised, while the rotary arm 3 is rotated clockwise. It is turned to a forward tilted posture (FIG. 1 (c)). Then, in response to a signal from the controller 6, the wafer W is detached from the gripping arm 5 and placed on the aligner, and the transfer of the wafer W is completed.

【0018】新たなウエハWを搬送するために、把持ア
ーム5を後退動させるには、図1(c)に示す姿勢か
ら、まず、第一モーター2aを正回転させるに同期して
第二モーター3aを逆回転させて、昇降ロッド2を下降
させると共に、回動アーム3を反時計回り方向へ回動さ
せる。これによって回動アーム3を垂直起立姿勢とする
(図1(b))。
In order to move the gripping arm 5 backward in order to transfer a new wafer W, from the posture shown in FIG. 1C, first, the second motor is synchronized with the forward rotation of the first motor 2a. 3a is reversely rotated to lower the elevating rod 2 and rotate the rotating arm 3 counterclockwise. As a result, the rotating arm 3 is placed in a vertical standing posture (FIG. 1 (b)).

【0019】続いて、第一モーター2aを上記とは反対
に逆回転させるに同期して第二モーター3aをそのまま
逆回転させて、昇降ロッド2を上昇させると共に、回動
アーム3をそのまま反時計回り方向に回動させて後方傾
斜姿勢とする(図1(c))。その後、所定の動作を行
って、キャリア内のウエハWを把持して前記した動作を
行う。こうした一連の動作を繰り返すことによって、ウ
エハWを連続的に搬送することとしている。
Subsequently, in synchronism with the reverse rotation of the first motor 2a, the second motor 3a is reversely rotated as it is to raise the elevating rod 2 and the rotary arm 3 is counterclockwise as it is. It is rotated in the rotating direction to take a rearwardly inclined posture (FIG. 1 (c)). After that, a predetermined operation is performed to hold the wafer W in the carrier and the above-described operation is performed. The wafer W is continuously transferred by repeating such a series of operations.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上のとおり、本発明の請求項1に記載
のウエハ搬送装置によれば、昇降ロッドを垂直方向へ昇
降動させると共に回動アームを垂直平面上を回動させる
ことによって、把持アームを進退動させてウエハを搬送
することとしている。従って、昇降ロッドは装置本体か
ら側方(水平方向)へ突出しない。また、回動アームも
搬送方向のみに突出するのみで、それ以外の方向へは突
出しない。その結果、水平方向の空間を無駄にすること
がなく、限られた室内空間を有効に活用することができ
る。
As described above, according to the wafer transfer apparatus of the first aspect of the present invention, the lifting / lowering rod is moved up and down in the vertical direction, and the rotating arm is rotated on the vertical plane. The wafer is transferred by moving the arm back and forth. Therefore, the lifting rod does not protrude laterally (horizontally) from the main body of the apparatus. Further, the rotating arm also projects only in the carrying direction, and does not project in any other direction. As a result, it is possible to effectively utilize the limited indoor space without wasting the space in the horizontal direction.

【0021】また、請求項2に記載の発明によれば、請
求項1に記載の発明の作用効果に加えて、コントローラ
によって第一モーターと第二モーターを正回転または逆
回転させて、昇降ロッドの昇降動と回動アームの回動を
制御している。従って、継ぎ手の軸心が水平ラインに沿
って確実に進退動し、把持アームによるウエハの搬送が
水平ラインに平行に行われる。その結果、ウエハの搬送
が円滑に達成される。
According to the second aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the invention, the controller causes the controller to rotate the first motor and the second motor in the forward or reverse direction so as to raise or lower the rod. It controls the up-and-down movement of and the rotation of the rotating arm. Therefore, the axis of the joint is reliably moved back and forth along the horizontal line, and the wafer is carried by the gripping arm in parallel with the horizontal line. As a result, wafer transfer is smoothly achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態に係るウエハ搬送装置の動作
を示すもので、(a)は回動アームが後方傾斜姿勢にあ
る状態を示す側面図、(b)は回動アームが垂直起立姿
勢にある状態を示す側面図、(c)は回動アームが前方
傾斜姿勢にある状態を示す側面図である。
1A and 1B show an operation of a wafer transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 1A is a side view showing a state in which a rotating arm is in a rearward inclined posture, and FIG. 1B is a vertical standing state of the rotating arm. FIG. 3C is a side view showing a state in which the rotary arm is in a posture, and FIG.

【図2】図1に示すウエハ搬送装置をより詳細に示す部
分断面側面図である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional side view showing the wafer transfer device shown in FIG. 1 in more detail.

【図3】従来例に係るウエハ搬送装置を示す斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view showing a wafer transfer device according to a conventional example.

【符号の説明】 1 装置本体 2 昇降ロッド 2a 第一モーター 2b ベルト 2c プーリー 2d ダイ 2e スクリューボルト 3 回動アーム 3a 第二モーター 4 継ぎ手 4a リンク機構 4b 軸心 5 把持アーム 5a 第三モーター 6 コントローラ 7 本体部 8 第一水平アーム 9 第二水平アーム 10 垂直アーム 11 保持腕 W ウエハ L 水平ライン[Explanation of symbols] 1 device body 2 Lifting rod 2a first motor 2b belt 2c pulley 2d die 2e screw bolt 3 rotating arm 3a Second motor 4 joints 4a link mechanism 4b axis 5 gripping arm 5a Third motor 6 controller 7 Main body 8 First horizontal arm 9 Second horizontal arm 10 Vertical arm 11 holding arm W wafer L horizontal line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B65G 49/06 - 49/07 B25J 9/00 - 11/00 B25J 18/00 - 18/06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/68 B65G 49/06-49/07 B25J 9/00-11/00 B25J 18/00-18 / 06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】装置本体に取付けられ、第一モーターによ
って昇降動自在とされた昇降ロッドと、 前記昇降ロッドの上端部に取付けられ、第二モーターに
よって垂直平面上を時計回り方向および反時計回り方向
に回動自在とされた回動アームと、 前記回動アームの上端部に取付けられ、該回動アームに
連結されたリンク機構によって、常に垂直姿勢を維持す
る継ぎ手と、 前記継ぎ手の上端部に取付けられ、前記回動アームの回
動軸に直角な水平軸の周りに第三モーターによって回動
自在とされ、ウエハーを垂直姿勢、水平姿勢またはその
間の姿勢で把持する把持アームと、および、 前記装置本体に設けられ、前記第一モーター、第二モー
ターおよび第三モーターを制御するコントローラと、を
備え、 前記コントローラで前記第一モーターと第二モーターと
を同期して回転させて、前記昇降ロッドの昇降動と回動
アームの回動とを同期させ、前記継ぎ手の下端部の軸心
を水平ラインに沿った進退動とし、前記把持アームでウ
エハーを搬送してなることを特徴とするウエハ搬送装
置。
1. An elevating rod which is attached to a main body of the apparatus and which can be moved up and down by a first motor, and a second motor which is attached to an upper end portion of the elevating rod in a clockwise direction and a counterclockwise direction on a vertical plane. And a joint that is attached to the upper end of the rotating arm and that maintains a vertical posture at all times, and an upper end of the joint. And a gripping arm that is rotatable by a third motor around a horizontal axis that is perpendicular to the rotation axis of the rotation arm and that grips the wafer in a vertical posture, a horizontal posture, or a posture therebetween, and A controller that is provided in the apparatus main body and controls the first motor, the second motor, and the third motor; By rotating the two motors in synchronism with each other, the ascending / descending movement of the ascending / descending rod and the rotation of the oscillating arm are synchronized, and the axial center of the lower end portion of the joint is moved forward / backward along a horizontal line. A wafer transfer device, which is configured to transfer a wafer by means of.
【請求項2】前記コントローラによる制御を、 把持アームを前進動させる場合には、第一モーターを正
回転させるに同期して第二モーターを正回転させて、昇
降ロッドを下降させると共に、回動アームを時計回り方
向へ回動させて垂直起立姿勢とし、 引き続き、前記第一モーターを逆回転させるに同期して
前記第二モーターをそのまま正回転させて、前記昇降ロ
ッドを上昇させると共に、前記回動アームをそのまま時
計回り方向へ回動させて前方傾斜姿勢とし、 また、前記把持アームを後退動させる場合には、前記第
一モーターを正回転させるに同期して前記第二モーター
を逆回転させて、前記昇降ロッドを下降させると共に、
前記回動アームを反時計回り方向へ回動させて垂直起立
姿勢とし、 引き続き、前記第一モーターを逆回転させるに同期して
前記第二モーターをそのまま逆回転させて、前記昇降ロ
ッドを上昇させると共に、前記回動アームをそのまま反
時計回り方向に回動させて後方傾斜姿勢としてなること
を特徴とする請求項1に記載のウエハ搬送装置。
2. The control by the controller is such that, when the gripping arm is moved forward, the second motor is normally rotated in synchronization with the normal rotation of the first motor to lower the lifting rod and rotate it. The arm is rotated clockwise to a vertical standing posture, and subsequently, the second motor is directly rotated in synchronization with the reverse rotation of the first motor to raise the elevating rod and simultaneously rotate the arm. When the moving arm is rotated in the clockwise direction as it is to be in the forward inclined posture, and when the gripping arm is moved backward, the second motor is reversely rotated in synchronization with the forward rotation of the first motor. And lowering the lifting rod,
The rotating arm is rotated counterclockwise to a vertical standing posture, and subsequently, the second motor is directly rotated in reverse in synchronization with the reverse rotation of the first motor to raise the elevating rod. At the same time, the wafer transfer device according to claim 1, wherein the rotating arm is rotated counterclockwise as it is to be in a rearward inclined posture.
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