JP3407514B2 - Liquid ejection apparatus - Google Patents

Liquid ejection apparatus

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JP3407514B2
JP3407514B2 JP32085895A JP32085895A JP3407514B2 JP 3407514 B2 JP3407514 B2 JP 3407514B2 JP 32085895 A JP32085895 A JP 32085895A JP 32085895 A JP32085895 A JP 32085895A JP 3407514 B2 JP3407514 B2 JP 3407514B2
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佳直 宮田
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セイコーエプソン株式会社
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、微少な液滴を精度よく吐出できるマイクロデバイスに関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] [Technical Field of the Invention The present invention relates to a micro device can be discharged accurately fine droplets. さらには、 Furthermore,
微少な液滴としてインクを吐出し、所望の画像を被印画物上に形成するインクジェットプリンタのヘッドに関する。 Discharging ink as small droplets, a head of an inkjet printer to form a desired image on the printed matter. 【0002】 【従来の技術】従来、例えば特開平7−176770号公報記載のようなマイクロデバイスが知られていた(従来例1)。 [0002] Conventionally, for example, a micro device, such as JP-A 7-176770 JP was known (conventional example 1). 【0003】図7(a)は、従来例1で開示されているマイクロポンプの構造を示す平面図、図7(b)は図7 [0003] FIGS. 7 (a) is a plan view showing the structure of a micro-pump disclosed in the conventional example 1, FIG. 7 (b) 7
(a)のA−A'断面図である。 Is a A-A 'sectional view of (a). 図中、201は第1基板、202はシリコンである第2基板、203はメンブレン部(以下振動板と記す)、204は第3基板、20 Figure, the first substrate 201, second substrate 202 is silicon, 203 (hereinafter referred to as the diaphragm) membrane unit, the 204 third substrate, 20
5及び206は電極、207はリード電極、208はリード電極引き出し部、209は流体注入口、210は流体吐出口である。 5 and 206 electrodes, 207 is a lead electrode, 208 is a lead electrode lead portions, 209 fluid inlet, 210 is a fluid discharge port. 【0004】流体は、流体注入口209より注入され、 [0004] Fluid is injected from the fluid inlet 209,
第2基板202及び第3基板204の間に充填される。 Filled between the second substrate 202 and the third substrate 204.
振動板203に形成された電極205と対向する電極2 Electrode 2 facing the electrode 205 formed on the vibrating plate 203
06との間の電圧を制御し、振動板203を上下に振動させることにより、流体を流体吐出口210より吐出させることができるものである。 Controlling the voltage between the 06, by vibrating the vibrating plate 203 up and down, in which the fluid can be ejected from the fluid ejection opening 210. 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近ではコスト面、機能面からより小型で安価な液体吐出装置が求められている。 [0005] [0006] However, cost more recently, more compact and less expensive liquid discharge apparatus from the functional surface is demanded. 具体的には例えばインクジェットプリンタに液体吐出装置を応用したインクジェットプリントヘッドでは、より高精細な画像を印刷するために、吐出口の配列密度を上げるという要求が非常に高い。 In Specifically inkjet printhead by applying the liquid discharging apparatus, for example an ink jet printer, to print a higher resolution image, a very high demand of increasing the arrangement density of the discharge ports. 更に、液体の吐出量に関してもより微細な液滴を精度よく吐出することで、液体の供給量の制御を容易にすることが要求されている。 Furthermore, by discharging accurately finer droplets regard discharge amount of the liquid, to facilitate the control of the supply amount of the liquid is required. 具体的には、液滴の量が一滴当たり10〜30ngといった要求が特にインクジェットヘッドのようなものに液体吐出装置を応用する場合に必要になる。 More specifically, it is necessary when the amount of the droplet is required such 10~30ng per drop is particularly applicable to a liquid ejection apparatus like the ink jet head. 微細な液滴を精度よく吐出させるためには、吐出口の口径、形状が非常に重要になる。 To eject accurately fine droplets, the diameter of the discharge port, the shape is very important. 【0006】このような背景に於いて、例えば従来例1 [0006] In such a background, for example, the conventional example 1
の場合、液体加圧室を非常に大きく取る必要があるばかりでなく、液体吐出口も微細な液滴を吐出するための充分なサイズまで小径化することは困難であるという課題を有している。 Cases, not only it is necessary to take a very large liquid pressurizing chamber, reducing the diameter of up to a size sufficient for ejecting be fine droplets a liquid discharge port has a problem that it is difficult to there. また、液体吐出口近傍の液体加圧室に関する記述はない。 Further, description of the liquid pressurizing chamber of the liquid discharge opening neighborhood is not. 【0007】また、インクジェットヘッドの微細化を目指す場合、液体加圧室の幅を狭くすることや、液体加圧室間の隔壁も薄くすることが必要である。 Further, when aiming at miniaturization of the ink jet head, and narrowing the width of the liquid pressurizing chamber, it is necessary also to thin partition walls between the liquid pressurizing chamber. それによって、液体吐出口の配列密度を上げ、微細化を実現するためである。 Thereby increasing the arrangement density of the liquid discharge port, in order to realize miniaturization. 【0008】しかしながら、液体加圧室の幅を狭くすることや、液体加圧室間の隔壁を薄くすることは、大きく2つの課題を有している。 However, and to narrow the width of the liquid pressurizing chamber, reducing the partition wall between the liquid pressurizing chamber has two problems significantly. 【0009】第1に液体加圧室間の隔壁を薄くすることで、隣接する液体加圧室の液体を加圧すると、液体にかかる圧力が隔壁に作用し、隔壁が撓む現象が現れてくる。 [0009] By the first thinning the partition wall between the liquid pressurizing chamber, when pressurized fluid adjacent the liquid pressurizing chamber acts on the pressure exerted partition wall in the liquid, it appears a phenomenon in which the partition wall is bent come. 隔壁が撓むと、本来加圧していない液体加圧室の圧力が上昇し、液体が吐出してしまうといった現象が現れる。 When the partition wall is bent, increases the pressure of the originally pressurized non liquid pressurizing chamber, a phenomenon appears such liquid resulting in discharge. これは一般的にクロストークと言われ、隔壁の高さと厚さによって顕著に現れる現象である。 It is generally said to crosstalk, a phenomenon prominent by the height and thickness of the partition wall. クロストークを押さえるためには、隔壁は一定以上の高さと厚さが必要になる。 In order to suppress crosstalk, the septum is needed above a certain height and thickness. 【0010】第2には、液体加圧室の幅を狭くすることで、インクジェットヘッド等で、インクを精度よく吐出できる吐出口(以降ノズルと記す)形状を有するノズルを使用することが困難になる点である。 [0010] The second, by narrowing the width of the liquid pressurizing chamber, in the ink-jet head or the like, the ink accurately discharge can discharge opening (referred to hereinafter nozzle) shape difficult to use a nozzle having a it becomes the point. 以下にこのような課題について説明する。 The following explains this problem. 【0011】吐出口の形状に関しては例えば、ドイツ国際特許1511397号により公表され、既知の通り、 [0011] With respect to the shape of the discharge port, for example, it is published by the German international Patent No. 1,511,397, as is known,
その断面はノズルプレートの背面に向けて拡開する形状が有効である。 Its cross-section is effective shape expanding toward the rear of the nozzle plate. また、ノズルプレートの厚さに関しては、特開平5−177834号公報のインクジェット記録ヘッドに詳細に開示されているように、機械強度を確保するために一定の厚さが必要である。 Regarding the thickness of the nozzle plate, as disclosed in detail in the ink jet recording head of JP-A-5-177834, JP-requires a certain thickness in order to ensure the mechanical strength. 具体的には、8 Specifically, 8
0μm程度以上の厚さが必要であると説明されている。 0μm about more thickness is described as being necessary. 【0012】従って、吐出口の口径を例えば直径30μ [0012] Therefore, the diameter of the discharge port, for example, a diameter of 30μ
m程度にし、ノズルプレートの厚さを80μmに設定した場合、液体加圧側の面の口径は少なくとも直径70μ To about m, if you set the thickness of the nozzle plate to 80 [mu] m, the diameter of the surface of the liquid pressure side of at least the diameter 70μ
m、望ましくは90μm程度が必要になる。 m, preferably required about 90 [mu] m. 【0013】例えば、特開平6−55733号公報記載のインクジェットヘッドでは、図8の如く、インクキャビティー104、リザーバー105、インク供給口10 [0013] For example, in the ink jet head of JP-A-6-55733 JP, as shown in FIG. 8, the ink cavity 104, the reservoir 105, the ink supply port 10
6が形成されたシリコン基板103と、シリコン基板1 A silicon substrate 103 6 is formed, the silicon substrate 1
03に接合され、ノズル102を有するノズルプレート101と、シリコン基板103に接合された振動板10 03 is bonded to a nozzle plate 101 having nozzle 102, the vibration plate 10 bonded to the silicon substrate 103
7と、振動板107に接合され、前記インクキャビティー104に対するように接合された圧電素子108から成るインクジェットヘッドが開示されている。 7, is bonded to the diaphragm 107, the ink-jet head comprising a piezoelectric element 108 that is joined to with respect to the ink cavity 104 is disclosed. 【0014】前述の如く液体加圧室(以降インクジェットヘッドの液体加圧室をインクキャビティと記す)の幅が狭くなってくることで図9(図8のインクジェットヘッドのBB'断面図)のインクジェットヘッドの断面模式図に示す如く、ノズル102のインクキャビティ10 [0014] Inkjet 9 by the width of the liquid pressurizing chamber as described above (hereinafter referred to the liquid pressurizing chamber of the ink-jet head and the ink cavity) is becomes narrower (BB 'cross-sectional view of the ink jet head of FIG. 8) as shown in schematic cross-sectional view of the head, the ink cavity 10 of the nozzle 102
4側の開口部よりもインクキャビティ104の幅が狭くなる場合が生じる。 The width of the ink cavity 104 from the opening of the 4 side is if occurs narrow. このようにノズル102とインクキャビティー104の接合部に鋭角な凹部102aができることは、インクキャビティー104内で発生あるいは流入した気泡が鋭角な凹部102aに溜まりやすくなり、インクの流れを阻害するために、精密なインク吐出が困難になる。 That the same may sharp recess 102a at the junction of the thus nozzle 102 and the ink cavity 104, because bubbles generated or flows in the ink cavity 104. tends accumulate into sharp recess 102a, to inhibit the flow of ink to, precise ink discharge becomes difficult. また、鋭角な凹部102aでインクの流れが乱れ、インクの吐出量や吐出速度が安定しないという課題を有する。 Also, disturbed flow of the ink at an acute recess 102a, ejection amount and the ejection speed of the ink has a problem that stable. 【0015】そこで本発明の液体吐出装置は、液体加圧室の幅を狭くし、高密度化に対応できるようにすると共に、液体加圧室と液体吐出口の接合部で鋭角な凹部が形成されず、高密度で安定した液体吐出装置を得ることを目的としている。 [0015] where the liquid discharge apparatus of the present invention, the width of the liquid pressurizing chamber is narrower, while to accommodate the high density, it is acute recess at the junction of the liquid pressurizing chamber and the liquid discharge port formation Sarezu, aims at obtaining a dense and stable fluid ejection device. また、ノズルとの接続部近傍のみの液体加圧室間の隔壁を薄く形成するため、クロストークの無い液体吐出装置を提供することを目的とする。 Further, since the formed thin partition walls between the liquid pressurizing chamber of only connecting the vicinity of the nozzle, and an object thereof is to provide a liquid ejecting apparatus without crosstalk. 【0016】 【課題を解決するための手段】本発明の液体吐出装置は、 液体加圧室が単結晶シリコンに複数形成された液体加圧室と、該液体加圧室に連通した吐出口と、前記液体加圧室に液体を供給する供給口と、 前記複数の液体加圧 [0016] Means for Solving the Problems A liquid discharge apparatus of the present invention includes: a liquid pressurizing chamber in which the liquid pressurizing chamber is formed with a plurality of the single crystal silicon, a discharge port communicated with the liquid pressure chamber a supply port for supplying liquid to the liquid pressurizing chamber, said plurality of liquid pressure
室毎に設けられ、該夫々の液体加圧室に圧力を発生させる圧電素子から成る加圧手段とを有する液体吐出装置 Provided for each chamber, a liquid ejection apparatus having a pressurizing means comprising a piezoelectric element for generating pressure in the liquid pressure chamber of該夫s
あって、 前記液体加圧室は吐出口が連通する部位及び供 There are, the liquid pressurizing chamber is site and subjected to the discharge port is communicated with
給口側の他の部位により構成され、吐出口が連通する部 Is constituted by other portions of the feed port side, part of the discharge port is communicated with
位の幅が他の部位の幅よりも広くかつ吐出口の液体加圧 Broad and liquid pressure of the discharge port than the position of the width the width of the other portions
室側の口径より広く形成されていると共に、前記他の部 Together it is wider than the chamber side aperture, the other parts
位の液体加圧室に対応して前記圧電素子が設けられてい The have piezoelectric elements are provided corresponding to the position of the liquid pressurizing chamber
ることを特徴とする。 And wherein the Rukoto. また、本発明の液体吐出装置は、 The liquid discharge apparatus of the present invention,
液体加圧室と、該液体加圧室に連通した吐出口と、前記 A liquid pressurizing chamber, a discharge port communicated with the liquid pressure chamber, the
液体加圧室に液体を供給する供給口と、前記複数の液体 A supply port for supplying the liquid to the liquid pressurizing chamber, said plurality of liquid
加圧室毎に設けられ、該夫々の液体加圧室に圧力を発生 It provided the pressure chamber each, generating pressure in the liquid pressure chamber of該夫s
させる圧電素子から成る加圧手段とを有する液体吐出装 Liquid discharge instrumentation and a pressure means comprising a piezoelectric element which
置であって、前記液体加圧室の前記吐出口と対向する部 A location, parts facing the discharge port of the liquid pressurizing chamber
位の幅は、前記吐出口の前記液体加圧室と対向する側の Position of width, on the side facing the liquid pressurizing chamber of the discharge port
孔径よりも大きく形成され、且つ前記液体加圧室の前記 It formed larger than the hole diameter, and the said liquid pressurizing chamber
加圧手段と対向する領域の幅は、前記吐出口の前記液体 The width of the pressurizing means facing the region, the liquid in the discharge port
加圧室と対向する側の孔径よりも小さく形成されている It is formed smaller than the hole diameter of the pressurizing chamber side opposed to
ことを特徴とする。 It is characterized in. 【0017】また、前記吐出口が複数の液体加圧室に連通されていることを特徴とする。 Further, characterized in that the discharge port is in communication with the plurality of liquid pressurizing chamber. 【0018】 【0019】また、前記圧電素子が少なくとも下電極層と、該下電極層上に形成された圧電材料と、該圧電材料上に形成された上電極層とで構成されていることを特徴とする。 [0018] Further, with the piezoelectric element are at least the lower electrode layer, a piezoelectric material formed on the lower electrode layer, that is composed of an upper electrode layer formed on the piezoelectric material and features. 【0020】また、前記液体加圧室に対して形成された圧電素子下に振動板が形成されて成ることを特徴とする。 Further, characterized in that it comprises a diaphragm is formed under the piezoelectric element formed to the liquid pressurizing chamber. 【0021】また、前記吐出口が前記液体加圧室の端部に形成された斜面部範囲内にあることを特徴とする。 Further, characterized in that in the discharge opening in the inclined surface portion ranges formed on an end portion of said liquid pressurizing chamber. 【0022】 【0023】 【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例により図面を参照して詳細に説明する。 [0022] DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, will be described in detail with reference to the drawings by the present invention through examples. 【0024】(実施例1)まず、本発明の液体吐出装置が好適に応用できる、インクキャビティーが形成されたシリコン基板を使用したインクジェットヘッドの実施例について述べる。 [0024] (Example 1) First, the liquid ejection apparatus can be suitably applied to the present invention will be described an embodiment of an ink jet head using a silicon substrate in which the ink cavity is formed. 【0025】図1(a)は、本発明の液体吐出装置をインクジェットヘッドに応用した例の平面図であって、図1(b)は、図1(a)のC−C'断面図である。 [0025] FIG. 1 (a), the liquid discharge apparatus of the present invention there is provided a plan view of an example of application to an ink jet head, FIG. 1 (b), at C-C 'sectional view of FIG. 1 (a) is there. 図中、101はノズルプレート、102はノズル、103 In the figure, 101 is a nozzle plate, 102 nozzles, 103
はシリコン基板、104はインクキャビティー、105 Silicon substrate, 104 is an ink cavity, 105
はリザーバー、106はインク供給口、107は振動板、108は圧電素子である。 The reservoir 106 is an ink supply port, 107 diaphragm, 108 is a piezoelectric element. また、109はノズル1 Moreover, 109 nozzles 1
02近傍に形成された、幅広の部位である。 02 formed near a wide region. 【0026】リザーバー105に満たされたインクは供給口106を通じて、インクキャビティー104に導入される。 [0026] The ink filled in the reservoir 105 through the supply port 106, is introduced into the ink cavity 104. 一方振動板107上に形成された圧電素子10 The piezoelectric element 10 on the other hand which is formed on the vibrating plate 107
8は、図示しない電極間に印加される電界によってインクキャビティー104側にたわみ、インクキャビティー104に圧力を発生させる。 8, bending the ink cavity 104 side by an electric field applied between an electrode (not shown), to generate pressure in the ink cavity 104. 加圧されたインクの一部はインク供給口106へと逆流するものの、ノズル102 Although part of the pressurized ink flows back into the ink supply port 106, the nozzle 102
からインク滴として吐出する。 Ejecting the ink droplets from. 【0027】ここで、微少なインク滴を精度よく吐出するためのノズル102の構造について説明する。 [0027] Here, a description is given of the structure of the nozzle 102 for discharging accurately fine ink droplets. インクジェットヘッドでは、機械的な強度の要求から、一般的にノズルプレート101の厚さは90μm程度のものが使用される。 In the ink jet head, the demand for mechanical strength, the thickness of the general nozzle plate 101 is used of about 90 [mu] m. また、ノズル102の吐出面の口径は35 Further, the diameter of the ejection surface of the nozzle 102 35
μm程度の径が適当とされている。 Size of about μm is appropriate. また、ノズル102 The nozzle 102
のインクキャビティー104側の口径は80μm程度の径が適当である。 The ink-diameter cavity 104 side is appropriate size of about 80 [mu] m. 即ち、ノズル102の断面形状は、インクキャビティー104側から、吐出面にかけて滑らかな円錐形状になっていることが望ましいのである。 That is, the cross-sectional shape of the nozzle 102 from the ink cavity 104 side, it is desirably that is a smooth conical shape toward the discharge surface. これは、ノズル中のインクの流れを滑らかにすることにより、吐出するインク滴の量を精度よく安定させることができるためである。 This can be achieved by smoothing the flow of the ink in the nozzle is because the amount of ink droplets ejected can be accurately and stably. 【0028】図2は図1(a)のD−D'方向のインクキャビティー部の拡大断面図である。 [0028] FIG. 2 is an enlarged sectional view of the ink cavity portion of the D-D 'direction in FIG. 1 (a). 図2には3キャビティー分の断面図を示してある。 The Figure 2 there is shown a cross-sectional view of a three-cavity component. ノズル102上に接合されたインクキャビティー104を有するシリコン基板103を接合してなる。 Formed by bonding a silicon substrate 103 having an ink cavity 104 which is joined to the nozzle 102. 特に、シリコン基板103とノズルプレート101の接合部のインクキャビティー10 In particular, the ink cavity 10 of the joint portion of the silicon substrate 103 and the nozzle plate 101
4の隔壁の一部が、ノズル102の接合面のノズル10 Some of 4 of the partition wall, the nozzle 10 of the bonding surface of the nozzle 102
2の径よりも広い幅広部109を形成してなる。 By forming a wide wide portion 109 than the second diameter. 【0029】ここでインクキャビティー104に圧力を発生させる機構について図2を用いて説明する。 [0029] The mechanism for generating the pressure where the ink cavity 104 will be described with reference to FIG. 【0030】まず、圧電素子108に図の上下の方向に電界を印加することで圧電素子108は図中アの矢印方向へ変形しようとする。 [0030] First, a piezoelectric by applying an electric field in the direction of the upper and lower figure piezoelectric element 108 element 108 to deform in the arrow direction A in FIG. このとき、振動板107との間に働く応力により、振動板107、圧電素子108は図中イの方向へ変形する。 At this time, the stress acting between the diaphragm 107, the diaphragm 107, the piezoelectric element 108 is deformed in the direction of Zuchui. 一般に振動板107、圧電素子108の図中イの方向への変形量を変位量と称する。 Generally the diaphragm 107 is referred to as displacement amount of deformation in the direction in the drawing of the piezoelectric element 108 b. 【0031】変位量は圧電素子108の圧電定数と圧電素子108にかかる電界強度による応力と、振動板10 The displacement amount and the stress due to the electric field intensity applied to the piezoelectric constant of the piezoelectric element 108 of the piezoelectric element 108, the vibration plate 10
7の曲げ剛性、ヤング率及び、インクキャビティー10 7 flexural rigidity, Young's modulus and the ink cavity 10
4の広さによってほぼ決定される。 Substantially determined by the size of four. 圧電素子108の圧電定数がほぼ一定であるとすると、前述の如くより低い印加電圧で圧電素子を駆動することを目指す場合、より高い電界強度を得る必要がある。 When the piezoelectric constant of the piezoelectric element 108 is assumed to be approximately constant, when aiming to drive the piezoelectric element at a low applied voltage than as described above, it is necessary to obtain a higher field strength. この場合、圧電素子1 In this case, the piezoelectric element 1
08の膜厚はより薄いことが望ましい。 08 of the film thickness, it is desirable thinner. しかしながら、 However,
圧電素子108の膜厚が薄くなると、発生する応力が減少してしまうため、一定の変位量を得るためには振動板107の曲げ剛性が小さいことが必要である。 When the thickness of the piezoelectric element 108 is reduced, since the stress generated is reduced, in order to obtain a certain amount of displacement is necessary that the flexural rigidity of the diaphragm 107 is small. 従って、 Therefore,
振動板107の厚さもより薄いことが望ましいことになる。 The thickness of the diaphragm 107 also becomes desirably thinner. しかしながら、インクキャビティー104に満たされたインクに一定以上の圧力を発生させ、ノズル102 However, to generate a pressure higher than a certain ink filled in the ink cavity 104, the nozzle 102
から必要なインクを吐出させるためには、振動板107 To eject the necessary ink from the vibration plate 107
に一定以上の剛性が必要になる。 It is necessary above a certain rigidity to. 【0032】そこで、我々はインクが満たされたインクキャビティー104内に必要な圧力を発生させ、且つ、 [0032] Therefore, it will generate the necessary pressure to the ink cavities 104 in which ink is filled, and,
一定以下の駆動電圧で圧電素子108を駆動するために必要な構造について詳細に検討した。 It was examined in detail the structure necessary to drive the piezoelectric element 108 at a constant following the driving voltage. その結果、インクキャビティー104の幅は40〜50μm程度が最も良好な結果が得られることを発見した。 As a result, the width of the ink cavity 104 is found that best results about 40~50μm is obtained. 【0033】しかしながら、前述の如くノズル102のインクキャビティー104側の口径は80μm程度が望ましいことから、ノズル102とシリコン基板103を接合した場合、ノズル102のインクキャビティー10 [0033] However, if the diameter of the ink cavity 104 of the nozzle 102 as described above joined from desirably about 80 [mu] m, the nozzle 102 and the silicon substrate 103, the ink cavity 10 of the nozzle 102
4側のノズル口がふさがれるために、微細なインクを精度よく吐出させることが困難になる。 For 4 of the nozzle outlet is blocked, it is difficult to discharge accurately minute ink. 【0034】そこで本実施例1は、図1及び図2の如く、ノズル102の近傍のみにインクキャビティー幅広部109を形成し、インクキャビティー104全体の幅を広げることなく、微細なインクを精度よく吐出させることができるようにしたものである。 [0034] The present embodiment 1, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the ink cavity wide portion 109 is formed only in the vicinity of the nozzle 102, without increasing the ink cavity 104 the entire width, the fine ink it is obtained to be able to accurately dispensed. 【0035】また、図1(b)に於いて、110は、インクキャビティー104の端部に形成された斜面部である。 Further, in FIG. 1 (b), 110 is a slope portion formed on the end portion of the ink cavity 104. この斜面部110は、例えばシリコン基板103として、(110)面方位の基板を使用し、KOH等のアルカリ溶液で異方性エッチングを行った場合、(11 The inclined surface portion 110, for example, as a silicon substrate 103, (110) using a substrate of plane orientation, when performing anisotropic etching with an alkaline solution such as KOH, (11
0)面に対して約35度の角度で出現する(111)面である。 0) appearing at an angle of about 35 degrees with respect to plane (111) plane. 図で明らかなように、斜面部110はノズルプレート101と約35度の角度で接することになる。 As evident in the figure, the slope portion 110 comes into contact at an angle of about 35 degrees with the nozzle plate 101. このようにインクキャビティー104内に狭角で囲まれた部位が存在することは、インク中に混入、あるいは発生した気泡が狭角部にたまり易くなる。 The sites thus surrounded by a narrow angle to the ink cavity 104 is present, entrained in the ink, or generated bubbles easily accumulate in the narrow angle portion. このことは、圧電素子108によって発生した圧力が減少するために、インクを正確に吐出することが困難になる。 This is because the pressure generated by the piezoelectric element 108 is decreased, it becomes difficult to accurately eject ink. 気泡は通常ノズル102から吸引等の方法によってインクキャビティー104内から排出するが、特にこのような狭角部はインクが滞留するために気泡の排出は困難である。 Bubbles are discharged from the ink cavity 104 within the method of sucking the like from the normal nozzles 102, in particular such narrow angle portion discharge of air bubbles in the ink from staying is difficult. そこで、本発明の如くノズル102を(111)面の斜面1 Therefore, the slope 1 of the nozzle 102 (111) plane as in the present invention
10に対する部位に配置することは、インクの滞留を防止し、効率よく気泡を排出するために重要である。 Placing the site for 10 prevents stagnation of the ink is important in order to efficiently discharge the bubbles. 【0036】本実施例1のように、インクジェットヘッドに於いてインクキャビティー幅広部109を形成することには更に格別の効果があるため、図2を用いて説明する。 [0036] As in the first embodiment, since the forming of the ink cavity wide portion 109 at the ink jet head further has significant effect, it will be described with reference to FIG. 【0037】図2に示されている3つの圧電素子108 [0037] the three shown in Figure 2 the piezoelectric element 108
のうち、両端の圧電素子108を駆動した場合、両端のインクキャビティー104内のインクの圧力が上昇し、 Of, when driving the piezoelectric element 108 at both ends, the ink pressure in the ink cavity 104 at both ends is increased,
中心のインクキャビティー104を構成するシリコン基板103製の隔壁が図のウの方向にたわむことになる。 The center of the ink silicon substrate 103 made of partition walls constituting the cavity 104 will be deflected in the direction of c in FIG.
これによって中心のインクキャビティー104の圧力が上昇し、中心のノズル102からインクが吐出してしまうことになる。 This increases the pressure in the ink cavity 104 of the center, the ink will be become discharged from the nozzle 102 in the center. このような現象は一般的にクロストークと呼ばれ、異常な吐出動作である。 This phenomenon is commonly referred to as crosstalk, it is an abnormal discharge operation. 【0038】このようなクロストークに対しては、隔壁の高さを低くすることと、隔壁の厚さを厚くすることが有効な手段である。 [0038] For such crosstalk, and lowering the height of the partition wall, a means is effective to increase the thickness of the partition wall. しかしながら、本実施例のようにシリコン基板103を使用する場合、シリコン基板103 However, when using a silicon substrate 103 as in this embodiment, the silicon substrate 103
の製造上の制約により、200μm程度の厚さが限界である。 By the on manufacturing constraints, is the limit thickness of about 200 [mu] m. そこで隔壁の厚さを厚くすることがクロストークを防ぐ上で重要になる。 So increasing the thickness of the partition wall is important in preventing cross-talk. 一般に、ノズル102の配列ピッチは180DPI(ドット・パー・インチ)等のピッチで固定されている。 In general, the arrangement pitch of the nozzles 102 are fixed at a pitch of such 180 DPI (dots per inch). 従って隔壁の厚さを厚くするためにはインクキャビティー104の幅を狭くすることが必要になる。 Therefore it is necessary to narrow the width of the ink cavity 104 to increase the thickness of the partition wall. 例えば、180DPIでインクキャビティー104を配列する場合、そのピッチは141μmピッチになる。 For example, when arranging the ink cavity 104 at 180 DPI, the pitch becomes 141μm pitch. しかしながら前述の如く、インクキャビティー104の幅を狭くすることはノズル102のインクキャビティー104側の口径よりも大きくなってしまう。 However As previously mentioned, narrowing the width of the ink cavity 104 becomes larger than the diameter of the ink cavity 104 of the nozzle 102. このような場合でも、ノズル102近傍のみのキャビティー104の幅を広げることで、クロストークが発生しないような充分な隔壁厚さを確保すると共に、吐出特性の良いノズル形状のノズルプレート101を使用することができるものである。 Even in such a case, by increasing the width of the cavity 104 of the nozzle 102 only in the vicinity, while ensuring a sufficient wall thickness as the crosstalk does not occur, using the nozzle plate 101 of good nozzles shapes of ejection characteristics it is those that can be. 【0039】ここで、このような液体吐出装置をインクジェットヘッドとして形成するための製造方法について図3(a)〜(f)を用いて説明する。 [0039] Here, a description will be given of a manufacturing method for forming such a liquid ejecting apparatus as an ink jet head with reference to FIG. 3 (a) ~ (f). まず、図3 First, as shown in FIG. 3
(a)のように、面方位(110)のシリコン基板10 (A), in the silicon substrate 10 of (110) plane orientation
3上にを熱酸化等の方法で酸化シリコン層112を形成する。 Over 3 to form a silicon oxide layer 112 by a method such as thermal oxidation. 次に圧電素子として、Pt下電極層108−1、 Then as a piezoelectric element, Pt lower electrode layer 108-1,
PZT圧電層108−2、Pt上電極層108−3をスパッタリング等の方法で成膜し、適宜一般的なフォトリソグラフィー等の方法でパターニングを行う。 PZT piezoelectric layer 108-2 was formed by a method such as sputtering the Pt upper electrode layer 108-3, and patterned by a suitable general photolithography or the like method. このPt This Pt
下電極層108−1及びPt上電極層108−3の電極層でサンドイッチされたPZT圧電層108−2の構造が、上下の電極間に印加された電圧によって圧電素子として機能する。 Structure of PZT piezoelectric layer 108-2 which is sandwiched between the electrode layers of the lower electrode layer 108-1 and the Pt upper electrode layer 108-3 functions as a piezoelectric element by a voltage applied between the upper and lower electrodes. 以降圧電素子の形成された面を能動面、 Active surface of the formed surface of the piezoelectric element after,
対する面を裏面と記す。 Against marks the surface and back. 【0040】次に図3(b)のように、裏面の酸化シリコン層112のパターニングを行う(第1の酸化シリコンエッチング工程)。 [0040] Then as shown in FIG. 3 (b), the patterning the back surface of the silicon oxide layer 112 (first silicon oxide etching step). 【0041】次に図3(c)の如く、インクキャビティーが部分的に広い、インクキャビティー幅広部109を形成する部位や、インク供給口106を形成する部位の酸化シリコン層112を他の酸化シリコン層112の厚さより薄くするごとく、ハーフエッチングを行う(第2 [0041] Next as shown in FIG. 3 (c), the ink cavity is partially wide portion and forming the ink cavity wide portion 109, a silicon oxide layer 112 of the portion forming the ink supply port 106 of the other as thinner than the thickness of the silicon oxide layer 112, performing half-etching (second
の酸化シリコンエッチング工程)。 Silicon oxide etching process). 【0042】次に図3(d)のように、第1の酸化シリコンエッチング工程で酸化シリコン層112の除去された部位のシリコン基板103を、KOH溶液等のエッチャントを用いて異方性エッチングを行うことで、インクキャビティー104、リザーバー105を形成する。 [0042] Then as shown in FIG. 3 (d), the silicon substrate 103 of the portion removed of the first silicon oxide etching step in the silicon oxide layer 112, an anisotropic etching using an etchant of KOH solution or the like it is carried out, the ink cavity 104, forming a reservoir 105. この時、面方位(111)の斜面部110が出現する(第1のシリコンエッチング工程)。 At this time, the inclined surface portion 110 of surface orientation (111) appears (the first silicon etching step). 【0043】次に図3(e)の如く、第2の酸化シリコンエッチング工程でハーフエッチングされた、インクキャビティー幅広部109を形成する部位や、インク供給口106を形成する部位の薄い酸化シリコン層112は除去し、その他の部位の酸化シリコン層112を残すように酸化シリコン層112のエッチングを行う(第3の酸化シリコンエッチング工程)。 [0043] Next as shown in FIG. 3 (e), the after half-etching the second silicon oxide etching step, parts and forming the ink cavity wide portion 109, a thin silicon oxide of sites to form an ink supply port 106 layer 112 is removed, etching the silicon oxide layer 112 to leave the silicon oxide layer 112 of the other portions (the third silicon oxide etching step). 【0044】次に図3(f)の如く、第3の酸化シリコンエッチング工程で除去された部位のシリコン基板10 [0044] Next, as FIG. 3 (f), the silicon substrate 10 of the third portion which is removed by a silicon oxide etching step
3をハーフエッチングすることで、インクキャビティーが部分的に広い、インクキャビティー幅広部109及びインク供給口106を形成する。 3 By half etching, the ink cavity is partially wide, to form an ink cavity wide portion 109 and the ink supply port 106. 【0045】(実施例2)実施例1では、下電極層と、 [0045] (Example 2) In Example 1, a lower electrode layer,
圧電層、上電極層を酸化シリコン層を有するシリコン基板上にスパッタリング等の方法で成膜した場合の例を説明した。 Piezoelectric layers, an example was described of a case of forming by a method such as sputtering on a silicon substrate having an upper electrode layer silicon oxide layer. 実施例2では、酸化シリコン層を形成したシリコンを両面からエッチングを行い、液体吐出装置をインクジェットヘッドのインクキャビティーとして形成する場合について説明する。 In Example 2, etching the silicon to form a silicon oxide layer from both sides, the case of forming the liquid discharge apparatus as an ink cavity of the ink jet head. 【0046】図4(a)は本発明の液体吐出装置をインクジェットヘッドに応用し、酸化シリコン層を形成したシリコンを両面からエッチングを行い、インクジェットヘッドのインクキャビティーとして形成する場合の断面図である。 [0046] FIG. 4 (a) applying a liquid discharge apparatus of the present invention to the ink-jet head, etched silicon forming the silicon oxide layer from both sides, in cross-sectional view of a case of forming the ink cavities of the ink jet head is there. また、図4(b)は図4(a)のインクキャビティーの平面図である。 4 (b) is a plan view of the ink cavity of FIG. 4 (a). 【0047】(110)面方位のシリコン基板103を前述のごとく、KOH等のエッチャントによってエッチングし、インクキャビティー104、インク供給口10 [0047] (110) plane orientation as the silicon substrate 103 of the above, is etched by an etchant such as KOH, the ink cavity 104, the ink supply port 10
6、リザーバー105を形成する。 6, to form a reservoir 105. このとき、ノズルプレート101面側の図示しない酸化シリコン層と、振動板107面側の酸化シリコン層をエッチングマスクとして、両面の酸化シリコン層のパターン形状を合わせておくことで、(110)面に垂直な(111)面で囲まれたインクキャビティー104を形成することができる。 At this time, the silicon oxide layer (not shown) of the nozzle plate 101 surface side, the silicon oxide layer of the vibrating plate 107 face side as an etching mask, by leaving the combined pattern of both surfaces of the silicon oxide layer, the (110) plane it is possible to form the ink cavity 104 surrounded by a vertical (111) surface.
その後、実施例1で述べたように、酸化シリコンのハーフエッチング技術を使用して、図4(b)の如く、インクキャビティー幅広部109を形成する。 Thereafter, as described in Example 1, using half-etching technique of silicon oxide, as FIG. 4 (b), an ink cavity wide portion 109. 次に図4 Next, FIG. 4
(a)に示したように、ノズル102を有するノズルプレート101、振動板107、圧電素子108を接着等の方法で接合し、インクジェットヘッドを得るものである。 As shown in (a), a nozzle plate 101, a diaphragm 107 having a nozzle 102, the piezoelectric element 108 bonded by a method such as adhesion, is intended to obtain an ink jet head. 【0048】(実施例3)複数のインクキャビティーが一つのノズルに連通されてなるインクジェットヘッドについて説明する。 [0048] (Example 3) For an ink jet head in which a plurality of ink cavities is in communication with the one nozzle is described. 【0049】図5は本発明の複数のインクキャビティーを一つのノズルに連通してなるインクジェットヘッドの平面図である。 [0049] FIG. 5 is a plan view of an ink jet head a plurality of ink cavities becomes communicated with the one nozzle of the present invention. 【0050】実施例1と同様に、振動板107上には圧電素子108を形成してある。 [0050] In the same manner as in Example 1, on the vibration plate 107 is formed with the piezoelectric element 108. 本実施例では一つのノズル102に対して、第1のインクキャビティー104− For one nozzle 102 in the present embodiment, the first ink cavity 104-
1と、第2のインクキャビティー104−2の二つのインクキャビティーが接続された構造である。 1, a structure in which two ink cavity of the second ink cavities 104-2 are connected. 【0051】このように、複数のインクキャビティーが一つのノズルに連通されてなるインクジェットヘッドの格別な効果について図2を用いて説明する。 [0051] Thus, will be described with reference to FIG exceptional effects of the ink jet head in which a plurality of ink cavities is in communication with the one nozzle. 実施例1で説明したように、インクが満たされたインクキャビティー104内に必要な圧力を発生させ、且つ、一定以下の駆動電圧で圧電素子108を駆動するために必要な構造は、インクキャビティー104の幅が40〜50μm程度が適当である。 As described in Example 1, the ink to generate a pressure required for the filled ink cavity 104, and, the structure necessary to drive the piezoelectric element 108 at a constant following the driving voltage, the ink cavity the width of tee 104 is suitably about 40 to 50 .mu.m. ノズル102から吐出するインクの体積(インク量)は、振動板107が図中のイの方向にたわむことによるインクキャビティー104の体積減少分(以下排除体積と記す。)によって決まる。 The volume of ink ejected from the nozzles 102 (the amount of ink) is determined by the volume decrease in the ink cavity 104 by the diaphragm 107 is deflected in the direction of b in FIG. (Hereinafter referred to as the excluded volume.). 従って、ノズル102からのインクの吐出量をある一定以上増やそうとした場合には、インクキャビティー104の長さを長くする必要がある。 Therefore, if you try to increase above a certain a certain amount of ink discharged from the nozzle 102, it is necessary to increase the length of the ink cavity 104. しかしながら、インクキャビティー104の長さを長くすることは、インクジェットヘッドの大型化をまねき、コスト増加につながってしまうことななる。 However, increasing the length of the ink cavity 104, lead to enlargement of the ink jet head, comprising a thing leads to increased costs. そこで本実施例の如く、二つあるいは、それ以上の複数のインクキャビティーを並列に形成し、一つのノズル102からインクを吐出させる構造にすることで、インクキャビティー104の長さを長くすることなく、より多くの排除体積を得ることができるものである。 So as in this embodiment, two or form a more of the plurality of ink cavities in parallel, by a structure in which ink is ejected from one nozzle 102, increasing the length of the ink cavity 104 without, in which it is possible to get more displacement volume. 【0052】(実施例4)本発明の液体吐出装置を微量な液体を精度よく搬送するマイクロポンプに応用した例について述べる。 [0052] (Example 4) The liquid ejecting apparatus of the present invention will be described an example of an application to a micro-pump for conveying accurately small amount of liquid. 【0053】図6は本発明の液体吐出装置を微量な液体を搬送するマイクロポンプに応用した例であって、10 [0053] Figure 6 is an example of the liquid discharge apparatus of the present invention is applied to a micro pump for transporting the small amount of liquid, 10
5はリザーバー、106aは液体供給口、104aは液体キャビティー、102はノズルである。 5 reservoir, 106a is a liquid supply port, 104a liquid cavity is 102 are nozzles. リザーバー1 Reservoir 1
05への液体の供給や、ノズル102からの液体の取り出しは、用途によって適宜選択できる。 Supply and of the liquid to 05, extraction of the liquid from the nozzle 102 can be appropriately selected depending on the application. また、液体キャビティー104aでの液体の加圧方法は圧電素子、静電アクチュエーター、加熱による発泡を利用するもの等が使用できる。 Also, pressurizing method of the liquid in the liquid cavity 104a is a piezoelectric element, an electrostatic actuator, such as those that use a foamed by heating can be used. 【0054】図6のように複数の液体キャビティー10 [0054] plurality of liquid cavity 10 as shown in FIG. 6
4aを、一つのノズル102に接続した構造にすることで、駆動する液体キャビティー104aの数を制御し、 4a and by a connected to one nozzle 102 structure, and controls the number of liquid cavity 104a for driving,
吐出する液体の量のダイナミックレンジを広くすることができる。 Dynamic range of the amount of liquid to be discharged can be a widely. また、各々の液体キャビティー104aでの圧力を精密に制御することで、非常に精度の高い液体搬送が可能になるものである。 Moreover, by precisely controlling the pressure at each of the liquid cavity 104a, in which it is possible to very accurate liquid transfer. 【0055】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、駆動エネルギーを低減し、滑らかな形状を有する吐出口を使用することが可能になり、更に、隣接した液体加圧室のクロストークを軽減しながら、より微細な液滴を精度よく吐出できる液体吐出装置を得ることができるものである。 [0055] According to the present invention as described in the foregoing, reducing the driving energy, it is possible to use a discharge port having a smooth shape, further, adjacent the liquid pressurizing chamber while reducing crosstalk, in which the finer droplets can be obtained accurately liquid ejecting apparatus capable of ejecting. 【0056】また、複数の液体加圧室を一つの吐出口に接続することで、より小型で制御性の高い液体吐出装置を得ることができる。 [0056] Also, by connecting a plurality of liquid pressurizing chamber to one ejection opening, it is possible to obtain a high liquid ejection apparatus controllability at smaller. 【0057】更に本発明の液体吐出装置は、インクジェットヘッドや、マイクロポンプ等の微量な液体を吐出する装置に応用でき、吐出精度を向上することが可能である。 [0057] Furthermore the liquid discharge apparatus of the present invention, and an inkjet head, can be applied to an apparatus that ejects small amount of liquid such as a micro pump, it is possible to improve the discharge accuracy.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の液体吐出装置の実施例である、インクジェットヘッドの図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のC−C'断面図である。 Is an example of a liquid discharge apparatus BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [Figure 1] The present invention, is a diagram of the ink jet head, (a) is a plan view, C-C 'cross section of (b) is (a) it is a diagram. 【図2】本発明の液体吐出装置の実施例である、インクジェットヘッドの拡大断面図である。 Figure 2 is an example of the liquid discharge apparatus of the present invention, it is an enlarged cross-sectional view of an ink jet head. 【図3】本発明の液体吐出装置の実施例である、インクジェットヘッドの製造方法を示す断面図である。 Figure 3 is an example of the liquid discharge apparatus of the present invention, it is a cross-sectional view showing a manufacturing method of the ink jet head. 【図4】本発明の液体吐出装置の実施例である、インクジェットヘッドの、シリコンのインクキャビティーを両面から形成する場合の図であり、(a)は断面図、 4 is an example of the liquid discharge apparatus of the present invention, is a diagram in the case of forming the ink jet head, the ink cavity of the silicon from both sides, (a) shows the cross section,
(b)はインクキャビティー及び、ノズルプレートの平面図である。 (B) is a plan view of an ink cavity and a nozzle plate. 【図5】本発明の液体吐出装置の実施例である、複数のインクキャビティーが一つのノズルに連通されてなるインクジェットヘッドの平面図である。 Figure 5 is an example of the liquid discharge apparatus of the present invention, it is a plan view of an inkjet head in which a plurality of ink cavities is in communication with the one nozzle. 【図6】本発明の液体吐出装置の実施例である、マイクロポンプの平面図である。 6 is an example of the liquid discharge apparatus of the present invention, it is a plan view of the micropump. 【図7】従来のマイクロポンプを示す図であり、(a) [Figure 7] is a diagram illustrating a conventional micropump, (a)
は平面図、(b)は(a)のA−A'断面図である。 Is a plan view, an A-A 'sectional view of (b) is (a). 【図8】従来のインクジェットヘッドの模式図である。 8 is a schematic view of a conventional ink jet head. 【図9】図8のインクジェットヘッドの断面図である。 It is a cross-sectional view of the ink jet head of FIG. 8; 【符号の説明】 101:ノズルプレート102:ノズル102a:鋭角な凹部103:シリコン基板104:インクキャビティー104a:液体キャビティー105:リザーバー106:インク供給口106a:液体供給口107:振動板108:圧電素子108−1:下電極層108−2:圧電層108−3:上電極層109:インクキャビティー幅広部110:インクキャビティー斜面部112:酸化シリコン層201:第1基板202:第2基板203:メンブレン部204:第3基板205、206:電極207:リード電極208:リード電極引き出し部209:流体注入口210:流体吐出口 [EXPLANATION OF SYMBOLS] 101: nozzle plate 102: nozzle 102a: sharp recess 103: silicon substrate 104: ink cavities 104a: Liquid cavity 105: reservoir 106: ink supply port 106a: the liquid supply port 107: diaphragm 108: the piezoelectric element 108-1: lower electrode layer 108-2: piezoelectric layer 108-3: an upper electrode layer 109: ink cavity wide portion 110: ink cavity inclined surface portion 112: silicon oxide layer 201: first substrate 202: second substrate 203: the membrane part 204: third substrate 205, 206: electrode 207: lead electrode 208: lead electrode lead portions 209: fluid inlet 210: fluid discharge port

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−55733(JP,A) 特開 平5−309835(JP,A) 特開 平3−297653(JP,A) 特開 平6−191028(JP,A) 特開 平7−89074(JP,A) 特開 平7−195682(JP,A) 特開 昭55−3916(JP,A) 特開 平7−137266(JP,A) 特開 平5−62964(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) B41J 2/045 B41J 2/055 B41J 2/16 B41J 2/175 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (56) reference Patent flat 6-55733 (JP, a) JP flat 5-309835 (JP, a) JP flat 3-297653 (JP, a) JP flat 6- 191028 (JP, A) Patent Rights 7-89074 (JP, A) Patent Rights 7-195682 (JP, A) JP Akira 55-3916 (JP, A) Patent Rights 7-137266 (JP, A) Patent flat 5-62964 (JP, a) (58 ) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) B41J 2/045 B41J 2/055 B41J 2/16 B41J 2/175

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 液体加圧室と、該液体加圧室に連通した吐出口と、前記液体加圧室に液体を供給する供給口と、 (57) and Patent Claims 1. A liquid pressurizing chamber, a discharge port communicated with the liquid pressure chamber, a supply port for supplying liquid to the liquid pressurizing chamber,
    前記複数の液体加圧室毎に設けられ、該夫々の液体加圧室に圧力を発生させる圧電素子から成る加圧手段とを有する液体吐出装置であって、 前記液体加圧室は吐出口が連通する部位及び供給口側の Wherein provided for each of a plurality of liquid pressurizing chamber, a liquid discharge apparatus having a pressurizing means comprising a piezoelectric element for generating pressure in the liquid pressure chamber of該夫s, the liquid pressurizing chamber is the discharge port sites communicating and the supply port side
    他の部位により構成され、吐出口が連通する部位の幅が It is constituted by other portions, the width of a portion discharge port communicating with
    他の部位の幅よりも広くかつ吐出口の液体加圧室側の口 Broad and liquid pressurizing chamber side of the mouth of the discharge port than the width of the other portions
    径より広く形成されていると共に、前記他の部位の液体 Together are formed wider than the diameter, the liquid of the other portion
    加圧室に対応して前記圧電素子が設けられていることを Said to correspond to the pressurizing chamber piezoelectric element is provided
    特徴とする液体吐出装置。 A liquid discharge apparatus characterized. 【請求項2】 前記吐出口が複数の液体加圧室に連通されていることを特徴とする請求項1記載の液体吐出装置。 Wherein said discharge port liquid ejection apparatus according to claim 1, characterized in that is in communication with the plurality of liquid pressurizing chamber. 【請求項3】 前記圧電素子が少なくとも下電極層と、 Wherein the piezoelectric element and at least the lower electrode layer,
    該下電極層上に形成された圧電材料と、該圧電材料上に形成された上電極層とで構成されていることを特徴とする請求項1記載の液体吐出装置。 A piezoelectric material formed on the lower electrode layer, a liquid ejecting apparatus according to claim 1, characterized in that it is constituted by an upper electrode layer formed on the piezoelectric material. 【請求項4】 前記液体加圧室に対して形成された圧電素子下に振動板が形成されて成ることを特徴とする請求項3記載の液体吐出装置。 4. A liquid discharge apparatus according to claim 3, characterized by comprising the vibration plate is formed under the piezoelectric element formed to the liquid pressurizing chamber. 【請求項5】 前記吐出口が前記液体加圧室の端部に形成された斜面部範囲内にあることを特徴とする請求項1 5. A method according to claim 1, characterized in that in the discharge opening in the inclined surface portion ranges formed on an end portion of said liquid pressurizing chamber
    記載の液体吐出装置。 Liquid ejecting apparatus according. 【請求項6】 液体加圧室と、該液体加圧室に連通した 6. A liquid pressurizing chamber, in communication with the liquid pressure chamber
    吐出口と、前記液体加圧室に液体を供給する供給口と、 A discharge port, a supply port for supplying liquid to the liquid pressurizing chamber,
    前記複数の液体加圧室毎に設けられ、該夫々の液体加圧 Wherein provided for each of a plurality of liquid pressurizing chamber,該夫s liquid pressure
    室に圧力を発生させる圧電素子から成る加圧手段とを有 Yes and a pressure means comprising a piezoelectric element for generating pressure in the chamber
    する液体吐出装置であって、 前記液体加圧室の前記吐出口と対向する部位の幅は、前 A liquid ejecting apparatus, the width of a portion facing the discharge port of the liquid pressurizing chamber is pre
    記吐出口の前記液体加圧室と対向する側の孔径よりも大 Larger than the liquid pressure chamber opposite to the side hole diameter of the serial discharge port
    きく形成され、且つ前記液体加圧室の前記加圧手段と対 Are listening formed, and wherein the pressing means a pair of liquid pressurizing chamber
    向する領域の幅は、前記吐出口の前記液体加圧室と対向 Width of the area to be oriented, said liquid pressurizing chamber and opposing said discharge port
    する側の孔径よりも小さく形成されていることを特徴と And characterized in that it is formed smaller than the hole diameter on the side
    する液体吐出装置。 A liquid ejection apparatus.
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