JP3365866B2 - Non-cyanide precious metal plating bath - Google Patents
Non-cyanide precious metal plating bathInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、金めっき浴や銀めっき
浴等の貴金属めっき浴に関し、更に詳細には、シアン系
化合物を使用しない非シアン性貴金属めっき浴に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a noble metal plating bath such as a gold plating bath and a silver plating bath, and more particularly to a non-cyanide noble metal plating bath that does not use a cyan compound.
【0002】[0002]
【従来の技術】金や銀めっき浴等の貴金属めっき浴には
古くからシアン系の浴が知られている。 このシアン系
の貴金属めっき浴は、析出する金属結晶の緻密さ、均一
電着性、浴管理の容易さなどの点で優れたものであり、
装飾品の他、半導体部品やプリント基板関係における貴
金属めっきにおいても広く利用されている。2. Description of the Related Art Cyan-based baths have long been known as precious metal plating baths such as gold and silver plating baths. This cyan-based noble metal plating bath is excellent in terms of the density of deposited metal crystals, uniform electrodeposition, and ease of bath management.
In addition to ornaments, it is also widely used in precious metal plating for semiconductor components and printed circuit boards.
【0003】しかしながら、これらのめっき浴は毒性の
強いシアン化物を利用するものであるため、作業環境、
環境保全、排水処理等の面には多くの問題点があった。However, since these plating baths use cyanide, which is highly toxic, the working environment,
There were many problems in terms of environmental protection and wastewater treatment.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従って、シアン系化合
物を利用することなく、析出皮膜や浴管理等の面では従
来のシアン化物系のめっき浴と同等である貴金属めっき
浴の提供が求められていた。Therefore, it is required to provide a noble metal plating bath which is equivalent to a conventional cyanide-based plating bath in terms of deposition film and bath management without using a cyanide-based compound. It was
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、シアン系
化合物を使用しない貴金属めっき浴に関し鋭意研究を行
っていたところ、アルカンスルホン酸等を利用する酸性
貴金属めっき浴に非イオン界面活性剤を加えれば、シア
ン系の貴金属と同等な貴金属皮膜が得られることを見出
し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies on a noble metal plating bath that does not use a cyanide compound, and found that a nonionic surfactant was added to an acidic noble metal plating bath that utilizes alkanesulfonic acid. It was discovered that a noble metal film equivalent to a cyan-based noble metal can be obtained by adding the above.
【0006】すなわち本発明は、下記3成分(a)〜
(c)
(a)Au+およびAg+からなる群から選ばれた貴金
属イオンの一種以上
(b)アルカンスルホン酸イオン又はアルカノールスル
ホン酸イオンの少なくても一種以上
(c)非イオン界面活性剤を含有し、こはく酸イミド又
はその誘導体及びヨウ化カリウムを含まない非シアン性
貴金属めっき浴を提供するものである。That is, the present invention relates to the following three components (a)-
(C) (a) One or more precious metal ions selected from the group consisting of Au + and Ag + (b) At least one or more alkane sulfonate ions or alkanol sulfonate ions (c) Nonionic surfactant Contains succinimide or
Provides a non-cyanic noble metal plating bath free of its derivatives and potassium iodide.
【0007】本発明の(a)成分である1価金イオンお
よび1価銀イオンは、それぞれ水溶性金塩または水溶性
銀塩を水に溶解することにより得られる。 好ましい水
溶性金塩としては、メタンスルホン酸金、エタンスルホ
ン酸金、イソプロパノールスルホン酸金、塩化金等が、
また水溶性銀塩としては、メタンスルホン酸銀、エタン
スルホン酸銀、イソプロパノールスルホン酸銀、酸化
銀、塩化銀、硝酸銀等がそれぞれ挙げられる。 この
(a)成分の浴中濃度は、0.5〜30g/lが適当で
ある。The monovalent gold ion and the monovalent silver ion as the component (a) of the present invention can be obtained by dissolving a water-soluble gold salt or a water-soluble silver salt in water. Preferred water-soluble gold salts include gold methane sulfonate, gold ethane sulfonate, gold isopropanol sulfonate, gold chloride, and the like.
Examples of the water-soluble silver salt include silver methanesulfonate, silver ethanesulfonate, silver isopropanolsulfonate, silver oxide, silver chloride, silver nitrate and the like. The concentration of the component (a) in the bath is preferably 0.5 to 30 g / l.
【0008】また、本発明の(b)成分である、アルカ
ンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸イオンは、浴
を酸性にし、浴中の金属イオンを安定に保つ作用を有す
るものである。 (b)成分調製のために使用されるア
ルカンスルホン酸およびアルカノールスルホン酸として
は、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等やイソプロ
パノールスルホン酸が好ましい。The alkane sulfonic acid or alkanol sulfonate ion, which is the component (b) of the present invention, has the action of making the bath acidic and keeping the metal ions in the bath stable. As the alkane sulfonic acid and alkanol sulfonic acid used for preparing the component (b), methane sulfonic acid, ethane sulfonic acid and the like and isopropanol sulfonic acid are preferable.
【0009】これらの酸イオンは、水溶性金塩や水溶性
銀塩がアルカンスルホン酸塩またはアルカノールスルホ
ン酸塩である場合にはそれらの塩の酸基と共通のもので
あっても異なるものであってもよく、また二種類以上を
併用してもよい。 浴中の(b)成分の濃度は約5〜3
00g/lが適当である。When the water-soluble gold salt or the water-soluble silver salt is an alkane sulfonate or an alkanol sulfonate, these acid ions may be the same as or different from the acid group of those salts. It may exist, or two or more kinds may be used in combination. The concentration of component (b) in the bath is about 5 to 3
00 g / l is suitable.
【0010】更に、本発明の(c)成分である非イオン
界面活性剤は、密着性よく緻密で平滑なめっき面を得る
ために使用されるものである。Further, the nonionic surfactant which is the component (c) of the present invention is used for obtaining a dense and smooth plated surface with good adhesion.
【0011】この(c)成分の好ましい具体例として
は、下記一般式(1)〜(4)の何れかで表される化合
物を主成分とするものが挙げられる。Specific preferred examples of the component (c) include those containing a compound represented by any one of the following general formulas (1) to (4) as a main component.
【化2】 [Chemical 2]
【0012】[式中、R1は、炭素数8〜22の脂肪族
アルコール、炭素数1〜25のアルキル基で置換された
フェノール、炭素数1〜25のアルキルで置換されたβ
−ナフトール、炭素数1〜25のアルコキシル化リン
酸、炭素数8〜22の脂肪酸でエステル化したソルビタ
ンもしくはスチレン化フェノール(そのフェノール核の
水素は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基で置
換されてもよい)からそれらの水酸基の水素原子を除い
て得られる残基または水素原子を示し、R2は炭素数8
〜18のアルキル基を、R3およびR4は水素原子または
炭素数1〜5のアルキル基を示し、Aは−CH2CH2O
−を、Bは−CH2CH(CH3)O−を示し、m1およ
びn1は0〜30の整数、m2、n2、m3およびn3は0
〜40の整数、m4およびn4は0〜20の整数をそれぞ
れ示す。 但し、m1とn1、m2とn2、m3とn3および
m4とn4がそれぞれ同時に0となることはなく、m1〜
m4およびn1〜n4は、置換基における総数を意味し、
AとBの存在位置は限定されないものとする][Wherein R 1 is an aliphatic alcohol having 8 to 22 carbon atoms, phenol substituted with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, β substituted with alkyl having 1 to 25 carbon atoms]
-Naphthol, alkoxylated phosphoric acid having 1 to 25 carbon atoms, sorbitan esterified with fatty acid having 8 to 22 carbon atoms or styrenated phenol (the hydrogen of the phenol nucleus is substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group) R 2 is a carbon atom having a carbon number of 8 or less.
To 18 alkyl groups, R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and A represents —CH 2 CH 2 O.
- a, B represents a -CH 2 CH (CH 3) O- , m 1 and n 1 is 0 to 30 integer, m 2, n 2, m 3 and n 3 0
40 integers, m 4 and n 4 is 0-20 of integer respectively. However, m 1 and n 1 , m 2 and n 2 , m 3 and n 3, and m 4 and n 4 do not become 0 at the same time, and m 1 ~
m 4 and n 1 to n 4 mean the total number of substituents,
The positions where A and B are present are not limited]
【0013】これらの非イオン界面活性剤は、いずれも
対応する脂肪族アルコール、置換フェノール、アルキル
で置換β−ナフトール、アルコキシル化リン酸、エステ
ル化したソルビタン、スチレン化フェノール、エチレン
ジアミン、モノアルキルアミン、アルキル置換されてい
ても良いジフェノールにエチレンオキサイドおよび/ま
たはプロピレンオキサイドを所定のモル数付加させるこ
とによって調製できるものであるが、また、市販品とし
ても容易に入手できるものである。These nonionic surfactants are all corresponding aliphatic alcohols, substituted phenols, alkyl-substituted β-naphthols, alkoxylated phosphoric acids, esterified sorbitans, styrenated phenols, ethylenediamines, monoalkylamines, It can be prepared by adding a predetermined number of moles of ethylene oxide and / or propylene oxide to an alkyl-substituted diphenol, but it is also easily available as a commercial product.
【0014】市販品の例としては、前記式(1)で表さ
れるものとして、プルラファックLF401(BASF
社製)等が、式(2)で表されるものとして、テトロニ
ックTR−702(旭電化工業社製)等がそれぞれ挙げ
られ、また、式(3)で表されるものはナイミーンL−
207(日本油脂社製)等、式(4)で表されるもの
は、リポノックスNC−100(ライオン社製)等がそ
れぞれ挙げられる。As an example of a commercially available product, the one represented by the above formula (1) is pull lafac LF401 (BASF
(Manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) and the like, and those represented by formula (3) are those represented by formula (2).
Examples of the compound represented by the formula (4) such as 207 (manufactured by NOF Corporation) include Liponox NC-100 (manufactured by Lion Corporation).
【0015】(c)成分である界面活性剤は、上記
(1)〜(4)の2種以上を併用しても差しつかえな
く、めっき浴における濃度が約0.1〜50g/lにな
るように用いることが望ましい。 特に好ましい濃度は
約0.5〜20g/lである。The surfactant as the component (c) may be used in combination of two or more kinds of the above (1) to (4), and the concentration in the plating bath becomes about 0.1 to 50 g / l. It is desirable to use A particularly preferred concentration is about 0.5-20 g / l.
【0016】本発明の非シアン性貴金属めっき浴は、浴
中の(a)成分と(b)成分とを所定濃度とした後、
(c)成分を添加することにより調製される。より具体
的には、アルカンスルホン酸、アルカノールスルホン酸
等で酸性とした水溶液中に、前記の水溶性金塩または水
溶性銀塩を加え、十分に溶解させて所定濃度とした後、
(c)成分である非イオン界面活性剤を添加することに
より調製される。In the non-cyanide noble metal plating bath of the present invention, after the components (a) and (b) in the bath are adjusted to a predetermined concentration,
It is prepared by adding the component (c). More specifically, in an aqueous solution acidified with alkanesulfonic acid, alkanolsulfonic acid or the like, the above water-soluble gold salt or water-soluble silver salt is added and sufficiently dissolved to a predetermined concentration,
It is prepared by adding a nonionic surfactant which is the component (c).
【0017】かくして得られる本発明の非シアン性貴金
属めっき浴を用いて貴金属めっきを行うには、例えば、
陰極電気密度が約0.01〜100A/dm2(好ましく
は約0.1〜60A/dm2)、浴温が約10〜80℃
(好ましくは約15〜70℃)程度の条件とすることが
適当である。 また、陽極としては、不溶解性電極等を
利用することができる。To perform precious metal plating using the thus obtained non-cyanide precious metal plating bath of the present invention, for example,
The cathode electric density is about 0.01 to 100 A / dm 2 (preferably about 0.1 to 60 A / dm 2 ), and the bath temperature is about 10 to 80 ° C.
It is suitable to set the conditions at about (preferably about 15 to 70 ° C.). In addition, an insoluble electrode or the like can be used as the anode.
【0018】以上の非シアン性貴金属めっき浴から得ら
れる金めっきあるいは銀めっき皮膜は、従来のシアン系
貴金属めっき浴で得られる金めっきあるいは銀めっき皮
膜と同等の緻密性を有するものであり、電気部品端子、
プリント配線基板のめっき浴の他装飾用めっき浴として
利用することができるものである。The gold plating or silver plating film obtained from the above non-cyanide noble metal plating bath has the same degree of compactness as the gold plating or silver plating film obtained by the conventional cyan-based noble metal plating bath. Parts terminals,
It can be used as a plating bath for decorative wiring as well as a plating bath for printed wiring boards.
【0019】[0019]
【実施例】以下、実施例、比較例および試験例を示し、
本発明を説明する。
実 施 例 1
下記組成により、非シアン性金めっき浴を調製した。
( 組 成 )
エタンスルホン酸金(I) 10 g/l
エタンスルホン酸(遊離酸) 100 g/l
ノニルフェノールエトキシレートの 5 g/l
エチレンオキサイド16モル付加物EXAMPLES Examples, comparative examples and test examples will be shown below.
The present invention will be described. Example 1 A non-cyanide gold plating bath was prepared with the following composition. (Composition) Gold ethanesulfonic acid (I) 10 g / l Ethanesulfonic acid (free acid) 100 g / l Nonylphenol ethoxylate 5 g / l Ethylene oxide 16 mol adduct
【0020】実 施 例 2 下記組成により、非シアン性金めっき浴を調製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸金(I) 20 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 80 g/l エチレンジアミンのエチレンオキサイド 10 g/l 48モル、プロピレンオキサイド44 モル付加物Example 2 A non-cyanide gold plating bath was prepared with the following composition. (Composition) Gold (I) methanesulfonate 20 g / l Methanesulfonic acid (free acid) 80 g / l Ethylene diamine ethylene oxide 10 g / l 48 mol, propylene oxide 44 Molar adduct
【0021】実 施 例 3
下記組成により、非シアン性銀めっき浴を調製した。
( 組 成 )
メタンスルホン酸銀(I) 19 g/l
メタンスルホン酸(遊離酸) 120 g/l
オクチルフェノールエトキシレートの 5 g/l
エチレンオキサイド10モル付加物
上記の組成のめっき浴を調製し、実施例1と同様にして
めっきを行った。Example 3 A non-cyanate silver plating bath was prepared according to the following composition. (Composition) Silver (I) methanesulfonate 19 g / l Methanesulfonic acid (free acid) 120 g / l Octylphenol ethoxylate 5 g / l Ethylene oxide 10 mol adduct A plating bath having the above composition was prepared, Plating was performed in the same manner as in Example 1.
【0022】実 施 例 4
下記組成により、非シアン性銀めっき浴を調製した。
( 組 成 )
エタンスルホン酸銀(I) 5 g/l
エタンスルホン酸(遊離酸) 200 g/l
ドデシルアミンのエチレンオキサイド 2 g/l
8モル付加物
上記組成のめっき浴を調製し、実施例1と同様にしてめ
っきを行った。Example 4 A non-cyanic silver plating bath was prepared with the following composition. (Composition) Silver (I) ethanesulfonate 5 g / l Ethanesulfonic acid (free acid) 200 g / l Ethylene oxide 2 g / l 8 mol adduct of dodecylamine A plating bath having the above composition was prepared and used in Examples. Plating was performed in the same manner as 1.
【0023】比 較 例 1
めっき浴に界面活性剤を添加しない外は実施例1と同様
にして非シアン性金めっき浴を調製した。Comparative Example 1 A non-cyanide gold plating bath was prepared in the same manner as in Example 1 except that no surfactant was added to the plating bath.
【0024】比 較 例 4
めっき浴にエタンスルホン酸を添加しない外は実施例4
と同様にして非シアン性銀めっき浴を調製した。Comparative Example 4 Example 4 except that ethanesulfonic acid was not added to the plating bath.
A non-cyanic silver plating bath was prepared in the same manner as in.
【0025】試 験 例
上記の実施例1〜4および比較例1および2のめっき浴
を使用し、下記の条件で30mm×10mmの銅板にめ
っきを行った。 得られためっき済み銅板について、そ
の結晶の緻密さを外観の目視により調べた。 この結果
を表1に示す。Test Example Using the plating baths of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 described above, a 30 mm × 10 mm copper plate was plated under the following conditions. With respect to the obtained plated copper plate, the denseness of the crystal was visually inspected. The results are shown in Table 1.
【0026】( めっき条件 ) 陰極電流密度 2 A/dm2 浴 温 50℃ 撹 拌 スターラー撹拌 膜 厚 3μm(Plating conditions) Cathode current density 2 A / dm 2 bath temperature 50 ° C. stirring stirring stirrer stirring film thickness 3 μm
【0027】( 結 果 ) (Result)
【0028】* 評価基準 ◎ : 微細結晶 ○ : やや微細結晶 × : 粗雑な析出となりほとんどめっき皮膜にならない* Evaluation criteria ◎: Fine crystals ○: Slightly fine crystal ×: Coarse deposition and almost no plating film
【0029】[0029]
【発明の効果】本発明の非シアン性貴金属めっき浴によ
り得られる貴金属被膜は、従来のシアン系貴金属皮膜と
同等の結晶の緻密性を示すものである。 そして、本発
明の非シアン系貴金属めっき浴は、人体に悪影響を及ぼ
すシアンを含まないため、作業環境、環境保全、排水処
理等の面から従来の非シアン性浴に比べ有利なものであ
る。
以 上The noble metal coating obtained by the non-cyanide noble metal plating bath of the present invention exhibits the same crystal compactness as conventional cyan-based noble metal coatings. Since the non-cyanide noble metal plating bath of the present invention does not contain cyanide, which adversely affects the human body, it is more advantageous than the conventional non-cyanide bath in terms of work environment, environmental protection, wastewater treatment and the like. that's all
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−290993(JP,A) 特開 昭52−150745(JP,A) 特開 平7−166391(JP,A) 特公 昭45−31367(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25D 3/48 C25D 3/46 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-2-290993 (JP, A) JP-A-52-150745 (JP, A) JP-A-7-166391 (JP, A) JP-B-45- 31367 (JP, B1) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C25D 3/48 C25D 3/46
Claims (2)
属イオンの一種以上 (b)アルカンスルホン酸イオン又はアルカノールスル
ホン酸イオンの少なくても一種以上 (c)非イオン界面活性剤 を含有し、こはく酸イミド又はその誘導体及びヨウ化カ
リウムを含まない非シアン性貴金属めっき浴。1. At least one of the following three components (a) to (c) (a) a precious metal ion selected from the group consisting of Au + and Ag + (b) at least an alkane sulfonate ion or an alkanol sulfonate ion. Also, a non-cyanic noble metal plating bath containing at least one (c) nonionic surfactant and containing no succinimide or its derivative and potassium iodide.
(4) 【化1】 [式中、R1は、炭素数8〜22の脂肪族アルコール、
炭素数1〜25のアルキル基で置換されたフェノール、
炭素数1〜25のアルキルで置換されたβ−ナフトー
ル、炭素数1〜25のアルコキシル化リン酸、炭素数8
〜22の脂肪酸でエステル化したソルビタンもしくはス
チレン化フェノール(そのフェノール核の水素は炭素数
1〜4のアルキル基またはフェニル基で置換されてもよ
い)からそれらの水酸基の水素原子を除いて得られる残
基または水素原子を示し、R2は炭素数8〜18のアル
キル基を、R3およびR4は水素原子または炭素数1〜
5のアルキル基を示し、Aは−CH2CH2O−を、B
は−CH2CH(CH3)O−を示し、m1およびn1
は0〜30の整数、m2、n2、m3およびn3は0〜
40の整数、m4およびn4は0〜20の整数をそれぞ
れ示す。 但し、m1とn1、m2とn2、m3とn3
およびm4とn4がそれぞれ同時に0となることはな
く、m1〜m4およびn1〜n4は、置換基における総
数を意味し、AとBの存在位置は限定されないものとす
る] から選ばれたものである請求項1記載の非シアン性貴金
属めっき浴。2. The nonionic surfactant comprises the following (1) to
(4) [Chemical formula 1] [In the formula, R 1 represents an aliphatic alcohol having 8 to 22 carbon atoms,
A phenol substituted with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms,
Β-naphthol substituted with alkyl having 1 to 25 carbons, alkoxylated phosphoric acid having 1 to 25 carbons, 8 carbons
Obtained by removing hydrogen atoms of hydroxyl groups from sorbitan or styrenated phenol esterified with ~ 22 fatty acid (the hydrogen of the phenol nucleus may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group) Represents a residue or a hydrogen atom, R 2 represents an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, and R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atom.
Indicates 5 alkyl group, A is a -CH 2 CH 2 O-, B
Represents —CH 2 CH (CH 3 ) O—, m 1 and n 1
Is an integer of 0 to 30, m 2 , n 2 , m 3 and n 3 are 0
40 integers, m 4 and n 4 are respectively an integer of 0 to 20. However, m 1 and n 1 , m 2 and n 2 , m 3 and n 3
And m 4 and n 4 are not 0 at the same time, m 1 to m 4 and n 1 to n 4 mean the total number in the substituents, and the positions where A and B are present are not limited]. The non-cyanide precious metal plating bath according to claim 1, which is selected from the group consisting of:
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