JP3352487B2 - Memory with redundant memory cells - Google Patents

Memory with redundant memory cells

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JP3352487B2
JP3352487B2 JP05528493A JP5528493A JP3352487B2 JP 3352487 B2 JP3352487 B2 JP 3352487B2 JP 05528493 A JP05528493 A JP 05528493A JP 5528493 A JP5528493 A JP 5528493A JP 3352487 B2 JP3352487 B2 JP 3352487B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、メモリセルグループの
うちの不良メモリセルグループを、予め準備された冗長
メモリセルグループに置き換え救済する冗長メモリセル
選択回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a redundant memory cell selection circuit for replacing a defective memory cell group in a memory cell group with a redundant memory cell group prepared in advance.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、半導体メモリ装置の大容量化に伴
い、メモリセルグループの高集積化、高密度化が進んで
いる。このために、製造工程上でメモリセルグループが
不良となることがある。これらの不良メモリセルグルー
プを冗長メモリセル選択回路により、予め用意した冗長
メモリセルグループに置き換えることでデバイスを良品
として救済することが行われている。これはデバイスの
歩留まりを向上させる上で必須の技術となっている。こ
のため、製造工程上での不良メモリセルグループを効率
的に救済できる数の冗長メモリセルグループを準備した
冗長メモリセル選択回路を設計することが、デバイスの
歩留まりを向上させる上で重要なポイントとなる。
2. Description of the Related Art Recently, as the capacity of semiconductor memory devices has increased, the integration and density of memory cell groups have been increasing. For this reason, the memory cell group may be defective in the manufacturing process. By replacing these defective memory cell groups with redundant memory cell groups prepared in advance by a redundant memory cell selection circuit, the device is remedied as a non-defective product. This is an indispensable technology for improving the device yield. Therefore, it is important to design a redundant memory cell selection circuit that has a number of redundant memory cell groups that can efficiently remedy a defective memory cell group in a manufacturing process, in order to improve device yield. Become.

【0003】以下、従来例に係る冗長メモリセル選択回
路について図17及び図18を参照しながら説明する。
Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a conventional example will be described with reference to FIGS. 17 and 18. FIG.

【0004】図17は従来例に係る冗長メモリセル選択
回路を示し、図18は図17における選択用ヒューズ回
路ブロックFB100を示しており、選択用ヒューズ回
路ブロックFB101〜FB115は選択用ヒューズ回
路ブロックFB100と同様のものである。
FIG. 17 shows a redundant memory cell selection circuit according to a conventional example. FIG. 18 shows a selection fuse circuit block FB100 in FIG. 17, and selection fuse circuit blocks FB101 to FB115 are selected. Is similar to

【0005】図17及び図18において、MCB0〜M
CB7はメモリセルブロック、FB100〜FB115
は選択用ヒューズ回路ブロック、RWL00,RWL0
1,RWL10,RWL11,…,RWL70,RWL
71は冗長ワード線グループ、A0〜A8,/A0〜/
A8はアドレス信号、SPE0,SPE1,R00,R
01,R10,R11,…,R70,R71,/RA,
N01は信号、F00〜F11はヒューズ、VCCは電
源電圧、VSSは接地電圧、QN00〜QN14はNチ
ャネル型MOSトランジスタ、QP00はPチャネル型
MOSトランジスタである。
In FIG. 17 and FIG.
CB7 is a memory cell block, FB100 to FB115
Is a fuse circuit block for selection, RWL00, RWL0
1, RWL10, RWL11,..., RWL70, RWL
71 is a redundant word line group, A0 to A8, / A0 to //
A8 is an address signal, SPE0, SPE1, R00, R
01, R10, R11, ..., R70, R71, / RA,
N01 is a signal, F00 to F11 are fuses, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN00 to QN14 are N-channel MOS transistors, and QP00 is a P-channel MOS transistor.

【0006】従来例では、冗長メモリセル選択回路は、
格子状に構成されたワード線とビット線との交点に形成
された複数のメモリセルグループのうちの不良メモリセ
ルグループを、冗長ワード線グループに接続され予め準
備された冗長メモリセルグループに置き換え救済するも
のである。
In a conventional example, a redundant memory cell selection circuit
Replacement of a defective memory cell group among a plurality of memory cell groups formed at intersections of word lines and bit lines formed in a lattice pattern with a redundant memory cell group connected to a redundant word line group and prepared in advance. Is what you do.

【0007】冗長メモリセル選択回路は、アドレス信号
A6〜A8の信号の論理電圧でそれぞれ選択される8個
のメモリセルブロックMCB0〜MCB7を有してい
る。
[0007] The redundant memory cell selection circuit has eight memory cell blocks MCB0 to MCB7 which are respectively selected by logic voltages of address signals A6 to A8.

【0008】それぞれのメモリセルブロックに対して2
つの冗長ワード線グループが準備されている。例えば、
メモリセルブロックMCB2に対してはRWL20,R
WL21の2つの冗長ワード線グループが設けられてい
る。つまり、全体として16個の冗長ワード線グループ
が準備されている。
For each memory cell block, 2
One redundant word line group is prepared. For example,
RWL20, RWL for the memory cell block MCB2
Two redundant word line groups of WL21 are provided. That is, a total of 16 redundant word line groups are prepared.

【0009】これらの冗長ワード線グループを選択する
ため、16個の冗長ワード線グループにそれぞれ応じて
16個の選択用ヒューズ回路ブロックFB100〜FB
115が設けられている。例えば、メモリセルブロック
MCB2のRWL20,RWL21の2つの冗長ワード
線グループを使用したい場合には、選択用ヒューズ回路
ブロックFB104,FB105において不良メモリセ
ルグループのアドレスに対応するヒューズをそれぞれ切
断することによって、通常ワード線グループが冗長ワー
ド線グループにそれぞれ置き換えられこれらの冗長ワー
ド線グループが使用される。
In order to select these redundant word line groups, sixteen selection fuse circuit blocks FB100 to FB are selected according to the sixteen redundant word line groups, respectively.
115 are provided. For example, when it is desired to use two redundant word line groups RWL20 and RWL21 of the memory cell block MCB2, the fuses corresponding to the addresses of the defective memory cell groups are cut off in the selection fuse circuit blocks FB104 and FB105, respectively. Normal word line groups are respectively replaced with redundant word line groups, and these redundant word line groups are used.

【0010】以下、従来例に係る冗長メモリセル選択回
路の詳細な回路動作について図18を参照しながら説明
する。図18は選択用ヒューズ回路ブロックFB100
を示しており、選択用ヒューズ回路ブロックFB101
〜FB115は選択用ヒューズ回路ブロックFB100
と同様のものである。
Hereinafter, the detailed circuit operation of the conventional redundant memory cell selection circuit will be described with reference to FIG. FIG. 18 shows a selection fuse circuit block FB100.
And the selection fuse circuit block FB101
To FB115 are selection fuse circuit blocks FB100
Is similar to

【0011】まず、信号/RAが論理電圧“Low(以
下Lと記す)”となり、Pチャネル型MOSトランジス
タQP00がオンし、信号N01が論理電圧“High
(以下Hと記す)”となる。このあと、信号/RAが論
理電圧“H”となり、次に、はじめはすべて論理電圧
“L”であるアドレス信号A0〜A5,/A0〜/A5
が選択された不良メモリセルグループのアドレスに変化
する。ここで、アドレス信号/A0〜/A5はアドレス
信号A0〜A5の逆の論理電圧信号である。
First, the signal / RA becomes a logic voltage "Low" (hereinafter referred to as L), the P-channel MOS transistor QP00 is turned on, and the signal N01 becomes the logic voltage "High".
(Hereinafter referred to as H). After that, the signal / RA becomes the logic voltage "H", and then the address signals A0 to A5, / A0 to / A5, which are all initially at the logic voltage "L".
Changes to the address of the selected defective memory cell group. Here, the address signals / A0 to / A5 are logic voltage signals that are the reverse of the address signals A0 to A5.

【0012】そして、アドレス信号A0〜A5,/A0
〜/A5がNチャネル型MOSトランジスタQN00〜
QN11のゲートにそれぞれ入力され、12個のNチャ
ネル型MOSトランジスタN00〜QN11のうちの半
分の6つがオンする。
The address signals A0 to A5, / A0
~ / A5 are N-channel MOS transistors QN00 to QN00
The signals are input to the gates of QN11, respectively, and six half of the twelve N-channel MOS transistors N00 to QN11 are turned on.

【0013】このとき、ヒューズF00〜F11のうち
の、選択された不良メモリセルグループのアドレスに対
応する6本のヒューズが切断されており、且つ、メモリ
セルブロックMCB0のメモリセルブロック選択アドレ
スが選択されていると、信号N01は論理電圧“H”と
なり、信号R00は論理電圧“L”となる。そして、信
号SPE0が論理電圧“H”となり、メモリセルブロッ
クMCB0のメモリセルブロック選択アドレスに対応す
るアドレス信号と上記信号SPE0との論理積信号によ
り冗長ワード線グループRWL00が選択される。
At this time, among the fuses F00 to F11, six fuses corresponding to the address of the selected defective memory cell group are cut, and the memory cell block selection address of the memory cell block MCB0 is selected. In this case, the signal N01 becomes the logic voltage "H" and the signal R00 becomes the logic voltage "L". Then, the signal SPE0 becomes the logic voltage “H”, and the redundant word line group RWL00 is selected by the AND signal of the address signal corresponding to the memory cell block selection address of the memory cell block MCB0 and the signal SPE0.

【0014】以上のように、従来例に係る冗長メモリセ
ル選択回路では、8つのメモリセルブロックのそれぞれ
に2つの冗長ワード線グループが準備されているため、
2×8=16個の選択用ヒューズ回路ブロックが必要で
ある。そして、1個の選択用ヒューズ回路ブロックに対
して12本のヒューズが必要であり、総ヒューズ本数は
12×16=192本となる。
As described above, in the redundant memory cell selection circuit according to the conventional example, since two redundant word line groups are prepared for each of the eight memory cell blocks,
2 × 8 = 16 selection fuse circuit blocks are required. Then, twelve fuses are required for one selection fuse circuit block, and the total number of fuses is 12 × 16 = 192.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】ところが、以上のよう
な従来例に係る冗長メモリセル選択回路においては、メ
モリセルブロックのそれぞれに対して必要な冗長ワード
線グループと選択用ヒューズ回路ブロックとを準備する
ため、多くの冗長ワード線グループと選択用ヒューズ回
路ブロックとが必要とされるのでレイアウト上大きな面
積を必要とし、デバイス全体の面積が拡大し、1デバイ
ス当たりのコストが増大するという問題がある。また、
冗長ワード線グループの数即ち冗長メモリセルグループ
の数が多くなることにより冗長メモリセルグループ自身
が不良である確率が高くなり、不良メモリセルグループ
を冗長メモリセルグループに置き換えることによりデバ
イスを良品として救済する冗長メモリセルグループによ
る救済率が低下するという問題がある。
However, in the above-described conventional redundant memory cell selecting circuit, a redundant word line group and a selecting fuse circuit block required for each memory cell block are prepared. Therefore, since many redundant word line groups and fuse circuit blocks for selection are required, a large area is required in the layout, and the area of the entire device is increased, and the cost per device is increased. . Also,
By increasing the number of redundant word line groups, that is, the number of redundant memory cell groups, the probability that the redundant memory cell group itself is defective increases, and the defective memory cell group is replaced with the redundant memory cell group to rescue the device as a non-defective product. There is a problem that the remedy rate by the redundant memory cell group is reduced.

【0016】本発明は、上記に鑑みなされたものであっ
て、チップ面積の増大を抑制し、安価で高歩留まりの冗
長メモリセル選択回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above, and has as its object to provide an inexpensive and high-yield redundant memory cell selection circuit that suppresses an increase in chip area.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1の発明は、それぞれが所定の単位数のメモ
リセルを有するメモリセルグループと、冗長メモリセル
グループとを切り替え得るように構成されたメモリであ
って、それぞれが複数のメモリセルグループ及び複数の
冗長メモリセルグループを有する複数のメモリセルブロ
ックと、複数のヒューズ回路ブロックを有する冗長メモ
リセル選択回路とを備え、上記複数のヒューズ回路ブロ
ックの各々は、上記メモリセルグループのうち何れか1
つのメモリセルグループが属するメモリセルブロックの
アドレスを示すメモリセルブロック選択アドレスと、該
メモリセルグループのメモリセルブロック内アドレスを
示すメモリセルグループ選択アドレスとをヒューズの断
接によって記憶し、上記冗長メモリセル選択回路は、ア
クセスされる上記メモリセルグループを示すアドレス信
号によって、上記ヒューズ回路ブロックの何れか1つが
記憶する上記メモリセルブロック選択アドレス及び上記
メモリセルグループ選択アドレスが選択されるとブロッ
ク内選択信号を生成し、かつ、上記アドレス信号におけ
る上記アクセスされるメモリセルグループが属するメモ
リセルブロックを示すセルブロック指定アドレス信号
と、上記ブロック内選択信号とに基づいて、冗長メモリ
セルグループのいずれかが選択されるように構成された
ことを特徴とする。
Means for Solving the Problems To achieve the above object,
Therefore, according to the first aspect of the present invention, each of the memos has a predetermined number of units.
Memory cell group having recell and redundant memory cell
Memory that can be switched between groups
Therefore, each has a plurality of memory cell groups and a plurality of
Multiple memory cell blocks having redundant memory cell groups
And a redundant memory having a plurality of fuse circuit blocks.
A recell selection circuit;
Each of the blocks is connected to any one of the memory cell groups.
Of memory cell block to which one memory cell group belongs
A memory cell block selection address indicating an address;
Address in the memory cell block of the memory cell group
Fuse with the selected memory cell group selection address.
The redundant memory cell selection circuit
Address signal indicating the memory cell group to be accessed.
Depending on the signal, one of the fuse circuit blocks
The memory cell block selection address to be stored and
When the memory cell group selection address is selected, the block
Generate the internal selection signal and generate the
To which the memory cell group to be accessed belongs
Cell block designation address signal indicating recell block
And a redundant memory based on the selection signal in the block.
One of the cell groups was configured to be selected
It is characterized by the following.

【0018】また、請求項2の発明は、請求項1のメモ
リであって、上記ヒューズ回路ブロックは、複数、か
つ、上記冗長メモリセルグループの総数よりも少ない数
だけ設けられたことを特徴とする。
Further, the invention of claim 2 is based on the memo of claim 1.
And the fuse circuit block includes a plurality of fuse circuit blocks.
One less than the total number of redundant memory cell groups
Is provided.

【0019】また、請求項3の発明は、請求項1または
請求項2のメモリであって、上記ヒューズ回路ブロック
は、それぞれ、上記各メモリセルブロック内における何
れか1つの上記冗長メモリセルグループの組と対応させ
て設けられたことを特徴とする。
Further, the invention of claim 3 is the invention of claim 1 or
3. The memory of claim 2, wherein said fuse circuit block
Is what is in each of the above memory cell blocks.
Corresponding to one of the redundant memory cell group sets.
It is characterized by being provided.

【0020】また、請求項4の発明は、請求項1または
請求項2のメモリであって、上記ヒューズ回路ブロック
のうちの少なくとも何れか1つは、上記各メモリセルブ
ロック内における何れか1つの上記冗長メモリセルグル
ープを選択するためのヒューズをさらに備えることを特
徴とする。
Further, the invention of claim 4 is the invention of claim 1 or
3. The memory of claim 2, wherein said fuse circuit block
Is at least one of the memory cell blocks.
Any one of the above redundant memory cells within a lock
Feature additional fuses to select
Sign.

【0021】また、請求項5の発明は、請求項1または
請求項2のメモリであって、さらに、ヒューズの断接に
よる設定に応じて、上記セルブロック指定アドレス信号
を変換するアドレス変換回路を備え、切り替えられる上
記メモリセルグループが属するメモリセルブロックとは
異なるメモリセルブロックに属する上記冗長メモリセル
グループが選択され得るように構成されていることを特
徴とする。
[0021] The invention of claim 5 is based on claim 1 or
3. The memory of claim 2, further comprising: connecting and disconnecting a fuse.
The cell block designation address signal
With an address translation circuit that translates
What is the memory cell block to which the memory cell group belongs?
The above redundant memory cells belonging to different memory cell blocks
Note that groups are configured to be selectable.
Sign.

【0022】また、請求項6の発明は、請求項5のメモ
リであって、上記アドレス変換回路は、ヒューズの断接
によって、変換の前後におけるアドレスの各ビットの値
の変化の有無を設定することにより、アドレス信号を変
換す るように構成されていることを特徴とする。
[0022] Further , the invention of claim 6 is based on the memo of claim 5.
Wherein the address conversion circuit is configured to disconnect and connect a fuse.
The value of each bit of the address before and after the conversion
Address signal is changed by setting the presence or absence of
Characterized in that it is configured to conversion to so that.

【0023】また、請求項7の発明は、請求項1または
請求項2のメモリであって、さらに、上記メモリセルブ
ロックと実質的に同一の構成を有する冗長メモリセルブ
ロックと、上記メモリセルブロックと上記冗長メモリセ
ルブロックとを切り替えるメモリセルブロック選択回路
を備えたことを特徴とする。
[0023] The invention of claim 7 is based on claim 1 or
3. The memory of claim 2, further comprising:
Redundant memory cell block having substantially the same configuration as lock
Lock, the memory cell block and the redundant memory cell.
Memory block selection circuit for switching between memory blocks
It is characterized by having.

【0024】また、請求項8の発明は、請求項7のメモ
リであって、ヒューズの断接によって、上記メモリセル
ブロック選択回路により切り替えられる上記メモリセル
ブロックにおけるビット線およびワード線の電位を同電
位に設定し得るように構成されたことを特徴とする。
The invention according to claim 8 is based on the memo of claim 7.
And the connection of the fuse causes the memory cell
The memory cell switched by the block selection circuit
Equivalent potential of bit line and word line in block
It is characterized in that it is configured to be able to set the position.

【0025】また、請求項9の発明は、それぞれ所定の
単位数のメモリセルを有するメモリセルグループと、冗
長メモリセルグループとを切り替え得るように構成され
たメモリであって、それぞれが複数のメモリセルグルー
プ、および複数の冗長メモリセルグループを備えた複数
のメモリセルブロックと、ヒューズの断接による設定に
応じて、上記複数の冗長メモリセルグループのうちの何
れかを選択するように構成されたヒューズ回路ブロック
とを備え、上記ヒューズ回路ブロックが、上記設定をキ
ャンセルするためのヒューズと、上記キャンセルがなさ
れたときに、所定のレベルの信号を出力する論理回路を
さらに備えることを特徴とする。
[0025] Further , the invention of claim 9 provides the following.
A memory cell group having a unit number of memory cells,
It is configured to be able to switch between long memory cell groups.
Memory, each having a plurality of memory cell groups.
And multiple with multiple redundant memory cell groups
Memory cell block and fuse setting
Depending on the number of the redundant memory cell groups,
Fuse circuit block configured to select one
And the fuse circuit block locks the setting.
Fuse for canceling and the above cancellation was not made
Logic circuit that outputs a signal of a predetermined level when
It is further characterized by being provided.

【0026】また、請求項10の発明は、それぞれが複
数のメモリセルグループと冗長メモリセルグループとを
有する複 数のメモリーセルブロックと、ヒューズ回路ブ
ロックとを備え、前記ヒューズ回路ブロックは、前記複
数のメモリセルグループのうち、一のメモリセルグルー
プのメモリセルブロック内アドレスを示すメモリセルグ
ループ選択アドレスと、前記一のメモリセルグループが
属するメモリセルブロックのアドレスを示すメモリセル
ブロック選択アドレスとを記憶し、かつ前記ヒューズ回
路ブロックの総数は、前記冗長メモリーセルグループの
総数よりも少ないことを特徴とする。
Further, the invention of claim 10 is a
Number of memory cell groups and redundant memory cell groups
And memory cell blocks of multiple having a fuse circuit Bed
And the fuse circuit block includes a lock.
Of memory cell groups, one memory cell group
Memory cell group indicating the address in the memory cell block
The loop selection address and the one memory cell group are
Memory cell indicating the address of the memory cell block to which it belongs
Block selection address, and the fuse circuit
The total number of path blocks is
It is characterized in that it is smaller than the total number.

【0027】[0027]

【作用】請求項1または請求項2の発明によれば、ヒュ
ーズ回路ブロックが、セルブロック指定アドレス信号
と、セルグループ指定アドレス信号とに基づいて、冗長
メモリセルグループの選択を示すブロック内選択信号を
出力するので、あらかじめ各冗長メモリセルグループと
ヒューズ回路ブロックとを1:1に対応づけることな
く、何れの冗長メモリセルグループも選択することがで
きる。それゆえ、冗長メモリセルグループの総数よりも
少ない数のヒューズ回路ブロックを設けるだけで、複数
のメモリセルブロックに渡る冗長メモリセルグループを
選択したり、1つのメモリセルブロック内の複数の冗長
メモリセルグループを選択したりすることができる。し
たがって、冗長メモリセルグループによる不良メモリセ
ルグループの救済率を低下させることなく、大きなレイ
アウト面積を必要とするヒューズ回路ブロックの総面積
を小さくすることができるので、デバイス全体の面積を
小さくすることができる。
According to the first or second aspect of the present invention, the fuel tank is provided.
Circuit block is a cell block designating address signal.
And the cell group designation address signal,
A select signal in a block indicating the selection of a memory cell group
Output, so that each redundant memory cell group
Do not make the fuse circuit block correspond 1: 1.
In addition, any of the redundant memory cell groups can be selected.
Wear. Therefore, it is larger than the total number of redundant memory cell groups.
By providing a small number of fuse circuit blocks, multiple
Redundant memory cell groups across memory cell blocks
Select multiple redundancy in one memory cell block
For example, a memory cell group can be selected. I
Therefore, the defective memory cell due to the redundant memory cell group is
Large lay without reducing the group's rescue rate
Total area of fuse circuit block that requires out area
Can be reduced, thus reducing the area of the entire device.
Can be smaller.

【0028】請求項3の発明によれば、ヒューズ回路ブ
ロックに対応する冗長メモリセルグループであれば、何
れのメモリセルブロックに属する冗長メモリセルグルー
プも選択することができるとともに、上記のような対応
づけによって回路構成の簡素化を図ることができる。そ
れゆえ、冗長メモリセルグループの選択の自由度、すな
わち不良メモリセルグループの救済率の低下を小さく抑
えつつ、回路規模の低減を図ることができる。
According to the third aspect of the present invention, the fuse circuit block
What is the redundancy memory cell group corresponding to the lock
Redundant memory cell group belonging to the same memory cell block.
You can also select the
With this arrangement, the circuit configuration can be simplified. So
Therefore, the degree of freedom in selecting a redundant memory cell group,
That is, the reduction in the repair rate of the defective memory cell group is suppressed to a small extent.
In addition, the circuit scale can be reduced.

【0029】請求項4の発明によれば、上記のような少
なくとも1つのヒューズ回路ブロックによって、メモリ
セルブロック内における複数の冗長メモリセルグループ
のうちの何れかを選択することができるので、大幅な回
路規模の増大を招くことなく、冗長メモリセルグループ
の選択の自由度を高めて、不良メモリセルグループの救
済率を向上させることができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the small
Memory is provided by at least one fuse circuit block.
Multiple redundant memory cell groups in a cell block
You can select any of
Redundant memory cell groups without increasing the circuit scale
The degree of freedom in selecting memory cells to save defective memory cell groups.
Savings rate can be improved.

【0030】請求項5の発明によれば、ヒューズ回路ブ
ロックは、1つのメモリセルブロックのメモリセルグル
ープをそのメモリセルブロック以外の他のメモリセルブ
ロックのいずれかに属する冗長メモリセルグループに置
き換えることが可能である。これにより、冗長メモリセ
ルグループによる救済の自由度を低下させることなく全
体の冗長メモリセルグループ数とヒューズ回路ブロック
数とを少なくすることができるため、デバイス全体の面
積を小さくすることができる。また、冗長メモリセルグ
ループによる救済率を向上させることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the fuse circuit block
The lock is a memory cell group of one memory cell block.
Memory cell block other than that memory cell block.
Placed in the redundant memory cell group belonging to one of the locks.
It is possible to exchange. This allows redundant memory cells
Without reducing the freedom of relief
Number of redundant memory cell groups and fuse circuit block
The number of devices and the overall surface area of the device.
The product can be reduced. In addition, redundant memory cells
The remedy rate by the loop can be improved.

【0031】請求項6の発明によれば、アドレスの1ビ
ットあたり1本のヒューズを設けるだけでアドレス変換
を行うことができる。すなわち、例えば変換後のアドレ
スの各ビットの値が“0”か“1”かを設定する場合に
は各ビットあたり2本のヒューズを設ける必要があるの
に対して、その1/2の本数のヒューズでアドレス変換
を行うことができるので、回路規模の大幅な増加を招く
ことなく、一層、不良メモリセルグループの救済率を向
上させることができる。
According to the sixth aspect of the present invention, one address
Address conversion by providing only one fuse per unit
It can be performed. That is, for example, the converted address
To set whether the value of each bit of the source is “0” or “1”
Requires two fuses for each bit
Address conversion with half the number of fuses
Can greatly increase the circuit size.
Without increasing the repair rate of defective memory cell groups.
Can be up.

【0032】請求項7の発明によれば、不良率の低いメ
モリセルブロックを選択的に用いることができるので、
救済率を大幅に高めつつ、前記のようにヒューズ回路ブ
ロックの数を少なく抑え得ることによる回路規模の低減
効果を得ることができる。
According to the seventh aspect of the present invention, a memory having a low defect rate is provided.
Since the molycell block can be used selectively,
While greatly increasing the rescue rate, the fuse circuit
Reduced circuit size by keeping the number of locks low
The effect can be obtained.

【0033】請求項8の発明によれば、冗長メモリセル
選択回路は、第2のメモリセルブロックに置き換えられ
る第1のメモリセルブロックのビット線とワード線とを
同電位にすることができる。これにより、製造工程上で
メモリセルブロックのビット 線とワード線とが短絡する
不良が発生した場合には、このような不良が生じたメモ
リセルブロックをメモリセルブロックごと置き換えるこ
とができると共に、上記不良が生じたメモリセルブロッ
ク内のビット線とワード線との電位を同じにすることに
より電源電流異常を救済することができる。
According to the eighth aspect of the present invention, a redundant memory cell
The selection circuit is replaced with a second memory cell block.
The bit line and the word line of the first memory cell block
The same potential can be set. As a result, in the manufacturing process
Bit line and word line of memory cell block are short-circuited
If a defect occurs, make a note of the
Replace a recell block with every memory cell block
And the memory cell block in which
To make the potential of the bit line and word line in the
Power supply current abnormality can be relieved more.

【0034】請求項9の発明によれば、ヒューズ回路ブ
ロックに記憶させたメモリセルグループ選択アドレスを
キャンセル可能である。これにより、不良メモリセルグ
ループと置き換えられた冗長メモリセルグループが不良
である場合に、ヒューズ回路ブロックが記憶している上
記不良メモリセルグループに対応するメモリセルグルー
プ選択アドレスがキャンセルされ、他のヒューズ回路ブ
ロックに新たに上記不良メモリセルグループのメモリセ
ルグループ選択アドレスが記憶されることにより、上記
不良メモリセルグループを他の冗長メモリセルグループ
に置き換えることが可能である。従って、冗長メモリセ
ルグループによる救済率を大幅に向上させることができ
るとともに、上記のようにキャンセルされた回路の出力
が所定のレベルに設定されるので、他の回路への影響を
確実に防止することができる。
According to the ninth aspect of the present invention, the fuse circuit block is provided.
The memory cell group selection address stored in the lock is
Cancellation is possible. As a result, the defective memory cell
Defective redundant memory cell group replaced with loop
Is stored in the fuse circuit block.
Memory cell group corresponding to the defective memory cell group
Selection address is canceled and another fuse circuit block is
Lock the memory cell of the defective memory cell group
By storing the group selection address,
Replace a defective memory cell group with another redundant memory cell group
Can be replaced by Therefore, the redundant memory cell
Can significantly improve the rescue rate of
And the output of the circuit canceled as described above.
Is set to a predetermined level,
It can be reliably prevented.

【0035】請求項10の発明によれば、前記請求項1
について説明したのと同様に、冗長メモリセルグループ
による不良メモリセルグループの救済率を低下させるこ
となく、大きなレイアウト面積を必要とするヒューズ回
路ブロックの総面積を小さくすることができるので、デ
バイス全体の面積を小さくすることができる。
According to the tenth aspect, the first aspect is provided.
As described above, the redundant memory cell group
To reduce the repair rate of defective memory cell groups due to
Fuses that require a large layout area
Since the total area of road blocks can be reduced,
The area of the entire vise can be reduced.

【0036】[0036]

【実施例】(第1の実施例) 以下、本発明の第1の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図1及び図2を参照しながら説明する。
Embodiment (First Embodiment) Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0037】図1は上記第1の実施例に係る冗長メモリ
セル選択回路を示し、図2は図1における選択用ヒュー
ズ回路ブロックFB00を示しており、選択用ヒューズ
回路ブロックFB01〜FB07は選択用ヒューズ回路
ブロックFB00と同様のものである。
FIG. 1 shows a redundant memory cell selection circuit according to the first embodiment, and FIG. 2 shows a selection fuse circuit block FB00 in FIG. 1. Selection fuse circuit blocks FB01 to FB07 are used for selection. This is similar to the fuse circuit block FB00.

【0038】図1及び図2において、MCB0〜MCB
7はメモリセルブロック、FB00〜FB07は選択用
ヒューズ回路ブロック、RWL00,RWL01,RW
L10,RWL11,…,RWL70,RWL71は冗
長ワード線グループ、A0〜A8,/A0〜/A8はア
ドレス信号、SPE0,SPE1,R00,R01,R
10,R11,…,R30,R31,/RA、N01は
信号、F00〜F17はヒューズ、VCCは電源電圧、
VSSは接地電圧、QN00〜QN17はNチャネル型
MOSトランジスタ、QP00はPチャネル型MOSト
ランジスタである。
In FIGS. 1 and 2, MCB0 to MCB
7 is a memory cell block, FB00 to FB07 are fuse circuit blocks for selection, RWL00, RWL01, RW
L10, RWL11,..., RWL70, RWL71 are redundant word line groups, A0 to A8, / A0 to / A8 are address signals, SPE0, SPE1, R00, R01, R
, R30, R31, / RA, N01 is a signal, F00 to F17 are fuses, VCC is a power supply voltage,
VSS is a ground voltage, QN00 to QN17 are N-channel MOS transistors, and QP00 is a P-channel MOS transistor.

【0039】第1の実施例では、冗長メモリセル選択回
路は、従来例と同様に、格子状に構成されたワード線と
ビット線との交点に形成された複数のメモリセルグルー
プのうちの不良メモリセルグループを、冗長ワード線グ
ループに接続され予め準備された冗長メモリセルグルー
プに置き換え救済するものである。
In the first embodiment, the redundant memory cell selection circuit, as in the prior art, has a defective memory cell group among a plurality of memory cell groups formed at intersections of word lines and bit lines formed in a grid. The memory cell group is replaced with a redundant memory cell group which is connected to the redundant word line group and prepared in advance, and is relieved.

【0040】冗長メモリセル選択回路は、アドレス信号
A6〜A8の論理電圧で選択される8つのメモリセルブ
ロックMCB0〜MCB7(以下、メモリセルブロック
を総称する場合にはMCBと記す)を備えている。メモ
リセルブロックMCB0〜MCB7に対して冗長ワード
線グループRWL00〜RWL71(以下、冗長ワード
線グループを総称する場合にはRWLと記す)が準備さ
れており、1つのメモリセルブロックは2つの冗長ワー
ド線グループを有している。例えば、メモリセルブロッ
クMCB2に対しては2つの冗長ワード線グループRW
L20,RWL21が設けられている。つまり、全体と
しては16個の冗長ワード線グループRWLが準備され
ている。そして、16個の冗長ワード線グループRWL
を選択するために8つの選択用ヒューズ回路ブロックF
B00〜FB07が設けられている。例えば、メモリセ
ルブロックMCB2の第1組の冗長ワード線グループR
WL20と第2組の冗長ワード線グループRWL21と
を使用したい場合には、選択用ヒューズ回路ブロックF
B00,FB01において、不良メモリセルグループの
アドレスに対応するヒューズがそれぞれ切断される。こ
れによって、通常のワード線グループが冗長ワード線グ
ループにそれぞれ置き換えられこれらの冗長ワード線グ
ループが使用される。
The redundant memory cell selection circuit includes eight memory cell blocks MCB0 to MCB7 (hereinafter, referred to as MCB when memory cell blocks are collectively referred to) selected by logic voltages of address signals A6 to A8. . For memory cell blocks MCB0 to MCB7, redundant word line groups RWL00 to RWL71 (hereinafter referred to as RWL when collectively referring to redundant word line groups) are prepared, and one memory cell block includes two redundant word lines. Have a group. For example, for the memory cell block MCB2, two redundant word line groups RW
L20 and RWL21 are provided. That is, as a whole, 16 redundant word line groups RWL are prepared. Then, 16 redundant word line groups RWL
Selection fuse circuit block F for selecting
B00 to FB07 are provided. For example, the first set of redundant word line groups R of the memory cell block MCB2
If it is desired to use WL20 and the second redundant word line group RWL21, select fuse circuit block F
In B00 and FB01, the fuses corresponding to the addresses of the defective memory cell group are cut, respectively. Thus, the normal word line groups are replaced with the redundant word line groups, respectively, and these redundant word line groups are used.

【0041】メモリセルブロックMCBいずれかが有す
る第1組の冗長ワード線グループRWL00,RWL1
0,RWL20,…,RWL60またはRWL70を使
用する場合、選択用ヒューズ回路ブロックFB00,F
B02,FB04,FB06のうちのいずれかが使用さ
れる。メモリセルブロックMCBのいずれかが有する第
2組の冗長ワード線グループRWL01,RWL11,
RWL21,…,RWL61またはRWL71を使用す
る場合、選択用ヒューズ回路ブロックFB01,FB0
3,FB05,FB07のいずれかが使用される。
A first set of redundant word line groups RWL00, RWL1 included in one of the memory cell blocks MCB
0, RWL20,..., RWL60 or RWL70, the selection fuse circuit blocks FB00, FB00
One of B02, FB04, and FB06 is used. The second set of redundant word line groups RWL01, RWL11,
When using RWL21,..., RWL61 or RWL71, selecting fuse circuit blocks FB01, FB0
3, FB05 or FB07 is used.

【0042】8つの第1組の冗長ワード線グループに対
して4つの選択用ヒューズ回路ブロックが準備されてい
ると共に、8つの第2組の冗長ワード線グループに対し
て4つの選択用ヒューズ回路ブロックが準備されてい
る。
Four selection fuse circuit blocks are prepared for eight first set of redundant word line groups, and four selection fuse circuit blocks are set for eight second set of redundant word line groups. Is prepared.

【0043】通常、不良メモリセルグループは一箇所
(1つのメモリセルブロック)で複数のワード線グルー
プに発生することが多い。すべてのメモリセルブロック
MCBのそれぞれで複数のワード線グループが不良とな
ることは少ない。ワード線グループの不良数はデバイス
全体で高々8つである。このため、従来例のように、8
つの第1組の冗長ワード線グループに対して8つの選択
用ヒューズ回路ブロックを準備し、8つの第2組の冗長
ワード線グループに対して8つの選択用ヒューズ回路ブ
ロックを準備する、即ち、合計16個の選択用ヒューズ
回路ブロックを準備する必要はなく、8つの選択用ヒュ
ーズ回路ブロックを準備するだけで冗長メモリセルグル
ープによる救済が可能となる。
Usually, a defective memory cell group often occurs in a plurality of word line groups at one place (one memory cell block). It is unlikely that a plurality of word line groups become defective in each of all the memory cell blocks MCB. The number of defects in the word line group is at most eight in the entire device. For this reason, as in the conventional example, 8
Eight selection fuse circuit blocks are prepared for one first set of redundant word line groups, and eight selection fuse circuit blocks are prepared for eight second set of redundant word line groups, that is, There is no need to prepare 16 selection fuse circuit blocks, and the relief by the redundant memory cell group can be achieved only by preparing 8 selection fuse circuit blocks.

【0044】このように、各メモリセルブロックに準備
される冗長ワード線グループは2つであり従来例と同じ
であるが、全体で使用できる冗長ワード線グループを1
6個ではなく8つと制限している。これによって、デバ
イスにおける冗長メモリセルグループによる救済率が低
下することなく、選択用ヒューズ回路ブロックの個数を
少なくしている。
As described above, the number of redundant word line groups prepared for each memory cell block is two, which is the same as that of the conventional example, but one redundant word line group that can be used as a whole is one.
It is limited to eight instead of six. As a result, the number of selection fuse circuit blocks is reduced without lowering the rescue rate of the redundant memory cell group in the device.

【0045】以下、第1実施例に係る冗長メモリセル選
択回路の詳細な回路動作について図2を参照しながら説
明する。図2は選択用ヒューズ回路ブロックFB00を
示しており、選択用ヒューズ回路ブロックFB01〜F
B07は選択用ヒューズ回路ブロックFB00と同様の
ものである。
Hereinafter, a detailed circuit operation of the redundant memory cell selection circuit according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a selection fuse circuit block FB00, and the selection fuse circuit blocks FB01 to FB01.
B07 is similar to the selection fuse circuit block FB00.

【0046】図2において、まず、信号/RAが論理電
圧“L”となり、Pチャネル型MOSトランジスタQP
00がオンし、信号N01が論理電圧“H”となる。こ
のあと、信号/RAが論理電圧“H”となり、次に、は
じめはすべて論理電圧“L”であるアドレス信号A0〜
A8,/A0〜/A8が、選択された不良メモリセルグ
ループのアドレスに変化する。ここで、アドレス信号/
A0〜/A8はアドレス信号A0〜A8の逆の論理電圧
信号である。
In FIG. 2, first, signal / RA attains logic voltage "L", and P-channel MOS transistor QP
00 turns on, and the signal N01 becomes the logic voltage “H”. Thereafter, the signal / RA becomes the logic voltage "H", and then the address signals A0 to A0, which are all initially at the logic voltage "L".
A8, / A0 to / A8 change to the address of the selected defective memory cell group. Here, the address signal /
A0 / A8 are logic voltage signals that are the reverse of the address signals A0-A8.

【0047】アドレス信号A0〜A8,/A0〜/A8
がNチャネル型MOSトランジスタQN00〜QN17
のゲートにそれぞれ入力され、18個のNチャネル型M
OSトランジスタのうちの半分の9つがオンする。
Address signals A0 to A8, / A0 to / A8
Are N-channel MOS transistors QN00 to QN17
, And 18 N-channel type M
Nine of the half of the OS transistors are turned on.

【0048】このとき、ヒューズF00〜F11のうち
の、選択された不良メモリセルグループのアドレスに対
応する6本のヒューズが切断されており、且つ、ヒュー
ズF12〜F17のうちの、メモリセルブロック選択ア
ドレスに対応する3本のフューズが切断されていると、
信号N01は論理電圧“H”となり、信号R00は論理
電圧“L”となる。そして、信号SPE0が論理電圧
“H”となり、この信号SPE0とメモリセルブロック
選択アドレスに対応するアドレス信号との論理積信号に
より上記メモリセルブロック選択アドレスと対応するメ
モリセルブロックの第1組の冗長ワード線グループが選
択される。
At this time, of the fuses F00 to F11, the six fuses corresponding to the address of the selected defective memory cell group are cut, and the memory cell block selection of the fuses F12 to F17 is performed. If the three fuses corresponding to the address are cut,
The signal N01 becomes the logic voltage "H", and the signal R00 becomes the logic voltage "L". Then, the signal SPE0 becomes a logic voltage "H", and a logical product signal of the signal SPE0 and an address signal corresponding to the memory cell block selection address generates a first set of redundancy of the memory cell block corresponding to the memory cell block selection address. A word line group is selected.

【0049】第1の実施例と従来例との違いは、選択用
ヒューズ回路ブロックにメモリセルブロック選択アドレ
スに対応するフューズが追加されていることである。
The difference between the first embodiment and the conventional example is that a fuse corresponding to a memory cell block selection address is added to a selection fuse circuit block.

【0050】以上のように、第1の実施例に係る冗長メ
モリセル選択回路では、8つのメモリセルブロックのそ
れぞれに2つの冗長ワード線グループが準備されてい
る。この2つの冗長ワード線グループのそれぞれに4個
の選択用ヒューズ回路ブロックが準備されている。すな
わち、2×4=8つの選択用ヒューズ回路ブロックが設
けられている。1つの選択用ヒューズ回路ブロックにお
いて18本のヒューズが必要であり、総ヒューズ本数は
18×8=144本である。これは、従来例の192本
に対して75%に減少している。
As described above, in the redundant memory cell selection circuit according to the first embodiment, two redundant word line groups are prepared for each of the eight memory cell blocks. Four selection fuse circuit blocks are prepared for each of the two redundant word line groups. That is, 2 × 4 = 8 selection fuse circuit blocks are provided. One fuse circuit block for selection requires 18 fuses, and the total number of fuses is 18 × 8 = 144. This is reduced to 75% of the 192 lines in the conventional example.

【0051】第1の実施例の冗長メモリセル選択回路の
特徴は、冗長ワード線グループを少なく即ち冗長メモリ
セルグループを少なくすることがないということであ
る。従って、冗長メモリセルグループによる救済率をほ
とんど低下させることなく、準備された冗長メモリセル
グループの個数よりも少ない個数の選択用ヒューズ回路
ブロックですべての冗長メモリセルグループのいずれか
を選択することが可能となる。これによって、選択用ヒ
ューズ回路ブロックの総面積を小さくできる。
A feature of the redundant memory cell selection circuit of the first embodiment is that the number of redundant word line groups is not reduced, that is, the number of redundant memory cell groups is not reduced. Therefore, it is possible to select any one of all the redundant memory cell groups with a smaller number of selection fuse circuit blocks than the number of prepared redundant memory cell groups without substantially lowering the remedy rate by the redundant memory cell groups. It becomes possible. Thus, the total area of the selection fuse circuit block can be reduced.

【0052】(第2の実施例) 以下、本発明の第2の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図3及び図4を参照しながら説明する。
(Second Embodiment) Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0053】図3は上記第2の実施例に係る冗長メモリ
セル選択回路を示し、図4は図3における選択用ヒュー
ズ回路ブロックFB11を示しており、選択用ヒューズ
回路ブロックFB13,FB15,FB17は選択用ヒ
ューズ回路ブロックFB11と同様のものである。
FIG. 3 shows the redundant memory cell selection circuit according to the second embodiment, and FIG. 4 shows the selection fuse circuit block FB11 in FIG. 3, and the selection fuse circuit blocks FB13, FB15, FB17 are This is similar to the selection fuse circuit block FB11.

【0054】図3及び図4において、MCB0〜MCB
7はメモリセルブロック、FB00,FB02,FB0
4,FB06,FB11,FB13,FB15,FB1
7は選択用ヒューズ回路ブロック、RWL00,RWL
01,RWL10,RWL11,…,RWL70,RW
L71は冗長ワード線グループ、A0〜A8,/A0〜
/A8はアドレス信号、SPE0,SPE1,R00,
R01,R10,R11,R20,R21,R30,R
31,R40,R50,R60,R70,AALL,/
RA,N01,N02,N20,N21,N22は信
号、F00〜F17,F20はヒューズ、VCCは電源
電圧、VSSは接地電圧、QN00〜QN17,QN2
0はNチャネル型MOSトランジスタ、QP00,QP
20はPチャネル型MOSトランジスタである。
In FIGS. 3 and 4, MCB0 to MCB
7 is a memory cell block, FB00, FB02, FB0
4, FB06, FB11, FB13, FB15, FB1
7 is a fuse circuit block for selection, RWL00, RWL
01, RWL10, RWL11,..., RWL70, RW
L71 is a redundant word line group, A0 to A8, / A0 to
/ A8 is an address signal, SPE0, SPE1, R00,
R01, R10, R11, R20, R21, R30, R
31, R40, R50, R60, R70, AALL, /
RA, N01, N02, N20, N21, N22 are signals, F00 to F17, F20 are fuses, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN00 to QN17, QN2.
0 is an N-channel MOS transistor, QP00, QP
Reference numeral 20 denotes a P-channel MOS transistor.

【0055】選択用ヒューズ回路ブロックFB00,F
B02,FB04,FB06は、図2に示す第1の実施
例に係る冗長メモリセル選択回路の選択用ヒューズ回路
ブロックと同様のものである。
Selection fuse circuit blocks FB00, F
B02, FB04, and FB06 are the same as the fuse circuit blocks for selection of the redundant memory cell selection circuit according to the first embodiment shown in FIG.

【0056】第2の実施例では、従来例と同様に、冗長
メモリセル選択回路は、格子状に構成されたワード線と
ビット線との交点に形成された複数のメモリセルグルー
プのうちの不良メモリセルグループを、冗長ワード線グ
ループと接続され予め準備された冗長メモリセルグルー
プに置き換え救済するものである。
In the second embodiment, as in the prior art, the redundant memory cell selection circuit is provided with a defective memory cell among a plurality of memory cell groups formed at intersections of word lines and bit lines arranged in a grid. The memory cell group is replaced with a redundant memory cell group connected to the redundant word line group and prepared in advance, and is relieved.

【0057】冗長メモリセル選択回路は、アドレス信号
A6〜A8の論理電圧で選択される8つのメモリセルブ
ロックMCB0〜MCB7を備えている。それぞれのメ
モリセルブロックに対して2つの冗長ワード線グループ
が準備されている。例えば、メモリセルブロックMCB
2に対しては2つの冗長ワード線グループRWL20,
RWL21が設けられている。つまり、全体としては1
6個の冗長ワード線グループRWLが準備されている。
そして、16個の冗長ワード線グループRWLを選択す
るために8つの選択用ヒューズ回路ブロックFB00,
FB02,FB04,FB06,FB11,FB13,
FB15,FB17が設けられている。例えば、メモリ
セルブロックMCB2の2つの冗長ワード線グループR
WL20,RWL21を使用したい場合、選択用ヒュー
ズ回路ブロックFB00,FB11において、不良メモ
リセルグループのアドレスと対応するヒューズがそれぞ
れ切断されることによって、通常のワード線グループが
冗長ワード線グループにそれぞれ置き換えられこれらの
冗長ワード線グループが使用される。メモリセルブロッ
クMCBのいずれかが有する第1組の冗長ワード線グル
ープRWL00,RWL10,RWL20,…,RWL
60またRWL70を使用する場合、選択用ヒューズ回
路ブロックFB00,FB02,FB04,FB06,
FB11,FB13,FB15及びFB17のうちのい
ずれかが使用される。メモリセルブロックMCBのいず
れかが有する第2組の冗長ワード線グループRWL0
1,RWL11,RWL21,…,RWL61またはR
WL71を使用する場合、選択用ヒューズ回路ブロック
FB11,FB13,FB15及びFB17のうちのい
ずれかが使用される。1つの第1組の冗長ワード線グル
ープの選択には8つの選択用ヒューズ回路ブロックのす
べてが使用できる。1つの第2組の冗長ワード線グルー
プの選択には8つの選択用ヒューズ回路ブロックのうち
の特定の4つが使用できる。
The redundant memory cell selection circuit includes eight memory cell blocks MCB0 to MCB7 selected by the logic voltages of the address signals A6 to A8. Two redundant word line groups are prepared for each memory cell block. For example, the memory cell block MCB
2, two redundant word line groups RWL20,
An RWL 21 is provided. That is, 1 as a whole
Six redundant word line groups RWL are prepared.
Then, in order to select 16 redundant word line groups RWL, eight selection fuse circuit blocks FB00, FB00,
FB02, FB04, FB06, FB11, FB13,
FB15 and FB17 are provided. For example, two redundant word line groups R of the memory cell block MCB2
When it is desired to use WL20 and RWL21, the fuses corresponding to the addresses of the defective memory cell groups are cut off in the selection fuse circuit blocks FB00 and FB11, whereby the normal word line groups are respectively replaced with the redundant word line groups. These redundant word line groups are used. A first set of redundant word line groups RWL00, RWL10, RWL20,..., RWL of any of the memory cell blocks MCB
60 or RWL 70, the selection fuse circuit blocks FB00, FB02, FB04, FB06,
One of FB11, FB13, FB15 and FB17 is used. Second set of redundant word line groups RWL0 included in any of memory cell blocks MCB
1, RWL11, RWL21,..., RWL61 or R
When the WL71 is used, one of the selection fuse circuit blocks FB11, FB13, FB15, and FB17 is used. All eight fuse circuit blocks for selection can be used to select one first set of redundant word line groups. To select one second set of redundant word line groups, specific four of the eight fuse circuit blocks for selection can be used.

【0058】第1の実施例でも述べたように、通常、不
良メモリセルグループは一箇所で複数のワード線グルー
プに発生することが多い。すべてのメモリセルブロック
MCBのそれぞれで複数のワード線グループが不良とな
ることは少ない。このため、冗長ワード線グループRW
Lの総数よりも選択用ヒューズ回路ブロックの総数が少
なくても冗長メモリセルグループによる救済率が低下す
ることはない。
As described in the first embodiment, usually, a defective memory cell group often occurs in a plurality of word line groups at one place. It is unlikely that a plurality of word line groups become defective in each of all the memory cell blocks MCB. Therefore, redundant word line group RW
Even if the total number of selection fuse circuit blocks is smaller than the total number of L, the repair rate by the redundant memory cell group does not decrease.

【0059】また、第2の実施例においては、第1の実
施例と比べると第1組の冗長ワード線グループのそれぞ
れの選択に8つの選択用ヒューズ回路ブロックのすべて
が使用できる。
Further, in the second embodiment, compared with the first embodiment, all eight fuse circuit blocks for selection can be used for selecting each of the first set of redundant word line groups.

【0060】以下、第2の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路の詳細な回路動作について図4を参照しながら
説明する。図4は選択用ヒューズ回路ブロックFB11
を示しており、選択用ヒューズ回路ブロックFB13,
FB15,FB17は選択用ヒューズ回路ブロックFB
11と同様のものである。
Hereinafter, a detailed circuit operation of the redundant memory cell selection circuit according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows a selection fuse circuit block FB11.
And the fuse circuit block for selection FB13,
FB15 and FB17 are selection fuse circuit blocks FB
It is similar to 11.

【0061】図4において、まず、信号/RAが論理電
圧“L”となり、Pチャネル型MOSトランジスタQP
00がオンし、信号N01が論理電圧“H”となる。こ
のあと、信号/RAが論理電圧“H”となり、次に、は
じめはすべて論理電圧“L”であるアドレス信号A0〜
A8,/A0〜/A8が、選択された不良メモリセルグ
ループのアドレスに変化する。ここで、アドレス信号/
A0〜/A8はアドレス信号A0〜A8の逆の論理電圧
信号である。
In FIG. 4, first, signal / RA attains logic voltage "L", and P-channel MOS transistor QP
00 turns on, and the signal N01 becomes the logic voltage “H”. Thereafter, the signal / RA becomes the logic voltage "H", and then the address signals A0 to A0, which are all initially at the logic voltage "L".
A8, / A0 to / A8 change to the address of the selected defective memory cell group. Here, the address signal /
A0 / A8 are logic voltage signals that are the reverse of the address signals A0-A8.

【0062】アドレス信号A0〜A8,/A0〜/A8
がNチャネル型MOSトランジスタQN00〜QN17
のゲートにそれぞれ入力され、18個のNチャネル型M
OSトランジスタQN00〜QN17のうちの半分の9
個がオンする。
Address signals A0 to A8, / A0 to / A8
Are N-channel MOS transistors QN00 to QN17
, And 18 N-channel type M
9 of the half of the OS transistors QN00 to QN17
Turns on.

【0063】このとき、ヒューズF00〜F11のうち
の、選択された不良メモリセルグループのアドレスに対
応する6本のヒューズが切断されており、且つ、ヒュー
ズF12〜F17のうちの、メモリセルブロック選択ア
ドレスに対応する3本のフューズが切断されていると、
信号N01は論理電圧“H”となり、信号N02は論理
電圧“L”となる。
At this time, among the fuses F00 to F11, the six fuses corresponding to the address of the selected defective memory cell group are cut, and the memory cell block selection among the fuses F12 to F17 is selected. If the three fuses corresponding to the address are cut,
The signal N01 becomes the logic voltage "H", and the signal N02 becomes the logic voltage "L".

【0064】また、第1組及び第2組の冗長ワード線グ
ループのうちのいずれを選択するかを決定する回路は、
まず、信号/RAが論理電圧“L”となり、Pチャネル
型MOSトランジスタQP20がオンし、信号N20が
論理電圧“H”となる。このあと、信号/RAが論理電
圧“H”となり、次に、はじめは論理電圧“L”である
信号AALLが論理電圧“H”となる。これによって、
Nチャネル型MOSトランジスタQN20がオンする。
The circuit for determining which of the first and second redundant word line groups is to be selected is:
First, the signal / RA becomes the logic voltage "L", the P-channel MOS transistor QP20 turns on, and the signal N20 becomes the logic voltage "H". Thereafter, the signal / RA becomes the logic voltage "H", and then the signal AALL which is initially the logic voltage "L" becomes the logic voltage "H". by this,
N-channel MOS transistor QN20 turns on.

【0065】このとき、ヒューズF20が切断されてい
なければ、信号N20が論理電圧“L”となる。これに
より、信号N21が論理電圧“H”となり、信号N22
が論理電圧“L”となり、信号R01は論理電圧“L”
となる一方、信号R40は論理電圧“H”となる。よっ
て、信号SPE0が論理電圧“H”となり、この信号S
PE0とメモリセルブロック選択アドレスに対応するア
ドレス信号との論理積信号により、上記メモリセルブロ
ック選択アドレスと対応するメモリセルブロックの第1
組の冗長ワード線グループが選択される。
At this time, if the fuse F20 is not blown, the signal N20 becomes the logic voltage "L". As a result, the signal N21 becomes the logic voltage “H”, and the signal N22
Becomes the logic voltage “L”, and the signal R01 becomes the logic voltage “L”.
On the other hand, the signal R40 becomes the logic voltage “H”. Therefore, the signal SPE0 becomes the logic voltage “H”, and this signal SPE0
A logical product signal of PE0 and an address signal corresponding to the memory cell block selection address generates the first memory cell block corresponding to the memory cell block selection address.
A set of redundant word line groups is selected.

【0066】また、ヒューズF20が切断されていれ
ば、信号N20が論理電圧“H”のままで、信号N21
が論理電圧“L”となり、信号N22が論理電圧“H”
となる。これにより、信号R01は論理電圧“H”とな
る一方、信号R40は論理電圧“L”となり、信号SP
E1が論理電圧“H”となる。この信号SPE1とメモ
リセルブロック選択アドレスに対応するアドレス信号と
の論理積信号により、上記メモリセルブロック選択アド
レスと対応するメモリセルブロックの第2組の冗長ワー
ド線グループが選択される。
If the fuse F20 has been blown, the signal N20 remains at the logic voltage "H" and the signal N21
Becomes the logic voltage “L”, and the signal N22 becomes the logic voltage “H”.
Becomes As a result, the signal R01 goes to the logic voltage "H", while the signal R40 goes to the logic voltage "L", and the signal SP
E1 becomes the logic voltage “H”. The AND signal of this signal SPE1 and the address signal corresponding to the memory cell block selection address selects the second set of redundant word line groups of the memory cell block corresponding to the memory cell block selection address.

【0067】以上のように、第2の実施例に係る冗長メ
モリセル選択回路では、8つのメモリセルブロックMC
Bのそれぞれに2つの冗長ワード線グループが準備され
ている。冗長メモリセル選択回路は、第1組の冗長ワー
ド線グループのみを選択できる4つの選択用ヒューズ回
路ブロックと、第1組及び第2組のどちらの冗長ワード
線グループも選択できる4つの選択用ヒューズ回路ブロ
ックとを備えている。第1組の冗長ワード線グループの
みを選択できる1つの選択用ヒューズ回路ブロックに対
しては18本のヒューズが必要である。第1組及び第2
組のどちらの冗長ワード線グループも選択できる1つの
選択用ヒューズ回路ブロックに対しては19本のヒュー
ズが必要である。このため、冗長メモリセル選択回路の
総ヒューズ本数は18×4+19×4=148本であ
る。従来例の192本に対して77%に減少している。
As described above, in the redundant memory cell selection circuit according to the second embodiment, eight memory cell blocks MC
Two redundant word line groups are prepared for each of B. The redundant memory cell selecting circuit includes four selecting fuse circuit blocks capable of selecting only the first set of redundant word line groups and four selecting fuses capable of selecting any of the first set and the second set of redundant word line groups. And a circuit block. Eighteen fuses are required for one selection fuse circuit block from which only the first set of redundant word line groups can be selected. First set and second
19 fuses are required for one selecting fuse circuit block that can select either redundant word line group of the set. Therefore, the total number of fuses in the redundant memory cell selection circuit is 18 × 4 + 19 × 4 = 148. This is reduced to 77% of the 192 lines in the conventional example.

【0068】ここで、各メモリセルブロックにおいて、
1番目に使用する冗長ワード線グループは第1組の冗長
ワード線グループからでなければならないとすると、第
1組及び第2組のどちらの冗長ワード線グループも選択
できる選択用ヒューズ回路ブロックの個数は、第1組の
冗長ワード線グループのみしか選択できない選択用ヒュ
ーズ回路ブロックの個数以下で良いことになる。
Here, in each memory cell block,
Assuming that the first redundant word line group to be used must be from the first set of redundant word line groups, the number of selection fuse circuit blocks that can select either the first set or the second set of redundant word line groups Can be less than or equal to the number of selection fuse circuit blocks that can select only the first set of redundant word line groups.

【0069】例えば、選択用ヒューズ回路ブロックの総
数を24個、1つのメモリセルブロック中の冗長メモリ
セルグループの総数を4つとする。この中から第3組の
冗長メモリセルグループが選択される場合、第1組及び
第2組の冗長メモリセルグループは既に選択され使用さ
れているため、1つのメモリセルブロック中の第1組か
ら第3組までのどの冗長メモリセルグループも選択でき
る選択用ヒューズ回路ブロックの個数は、1つのメモリ
セルブロック中の第1組から第2組までのどの冗長メモ
リセルグループも選択できる選択用ヒューズ回路ブロッ
クの個数の半分以下で充分である。
For example, the total number of selection fuse circuit blocks is 24, and the total number of redundant memory cell groups in one memory cell block is 4. When the third set of redundant memory cell groups is selected from among them, the first set and the second set of redundant memory cell groups have already been selected and used, so that the first set in one memory cell block is The number of selection fuse circuit blocks that can select any of the redundant memory cell groups up to the third set is the number of selection fuse circuits that can select any of the first to second redundant memory cell groups in one memory cell block. Less than half the number of blocks is sufficient.

【0070】このように考えると、1つのメモリセルブ
ロック中の第1組から第3組までのどの冗長メモリセル
グループも選択できる選択用ヒューズ回路ブロックの個
数は、24×(4−3+1)/4=12個以下で充分で
ある。
Considering this, the number of selection fuse circuit blocks that can select any of the first to third redundant memory cell groups in one memory cell block is 24 × (4-3 + 1) / 4 = 12 or less is sufficient.

【0071】これを一般的にいえば、選択用ヒューズ回
路ブロックの総数をL(Lは自然数)、1つのメモリセ
ルブロック中の冗長メモリセルグループの総数をM(M
は自然数)とすると、1つのメモリセルブロックの第1
組から第N組(Nは2からMまでの自然数)までのどの
冗長メモリセルグループも選択できる選択用ヒューズ回
路ブロックの個数は、L×(M−N+1)/M以下で充
分である。
Generally speaking, the total number of selection fuse circuit blocks is L (L is a natural number), and the total number of redundant memory cell groups in one memory cell block is M (M
Is a natural number).
The number of selection fuse circuit blocks that can select any of the redundant memory cell groups from the set to the N-th set (N is a natural number from 2 to M) is not more than L × (M−N + 1) / M.

【0072】第2の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、第1の実施例と同様に冗長メモリセルグル
ープの個数を少なくすることなく、つまり、冗長メモリ
セルグループによる救済率をほとんど低下させることな
く、準備された冗長メモリセルグループの個数よりも少
ない個数の選択用ヒューズ回路ブロックですべての冗長
メモリセルグループのいずれかを選択することができる
ということである。従って、選択用ヒューズ回路ブロッ
クの総面積を小さくできる。さらに、第1の実施例に比
べて第1組の冗長ワード線グループの選択には8つの選
択用ヒューズ回路ブロックのすべてを使用できるように
することによって冗長メモリセルグループによる救済の
自由度が高められている。
The feature of the redundant memory cell selection circuit according to the second embodiment is that the number of redundant memory cell groups is not reduced as in the first embodiment. This means that any one of the redundant memory cell groups can be selected by a smaller number of selection fuse circuit blocks than the number of prepared redundant memory cell groups without lowering. Therefore, the total area of the selection fuse circuit block can be reduced. Further, compared to the first embodiment, the first redundant word line group can be selected by using all of the eight fuse circuit blocks for selection, thereby increasing the degree of freedom of relief by the redundant memory cell group. Have been.

【0073】(第3の実施例) 以下、本発明の第3の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図5,図6及び図7を参照しながら説明す
る。
(Third Embodiment) A redundant memory cell selection circuit according to a third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0074】図5は上記第3の実施例に係る冗長メモリ
セル選択回路を示し、図6は図5における選択用ヒュー
ズ回路ブロックFB20を示しており、選択用ヒューズ
回路ブロックFB21〜FB27は選択用ヒューズ回路
ブロックFB20と同様のものであり、図7は図5にお
けるアドレス変換回路ブロックATC61を示してお
り、アドレス変換回路ブロックATC71,ATC81
はアドレス変換回路ブロックATC61と同様のもので
ある。
FIG. 5 shows a redundant memory cell selection circuit according to the third embodiment. FIG. 6 shows a selection fuse circuit block FB20 in FIG. 5, and selection fuse circuit blocks FB21 to FB27 are used for selection. FIG. 7 shows an address conversion circuit block ATC61 in FIG. 5, which is the same as the fuse circuit block FB20, and the address conversion circuit blocks ATC71 and ATC81.
Are similar to those of the address conversion circuit block ATC61.

【0075】図5,図6及び図7において、MCB0〜
MCB7はメモリセルブロック、FB20〜FB27は
選択用ヒューズ回路ブロック、RWL00,RWL1
0,…,RWL70は冗長ワード線グループ、ATC6
1,ATC71,ATC81はアドレス変換回路ブロッ
ク、A0〜A8,/A0〜/A8はアドレス信号、A6
R,A7R,A8R,/A6R,/A7R,/A8Rは
内部変換アドレス信号、SPE0,R00〜R07,I
NVA60〜INVA67,INVA70〜INVA7
7,INVA80〜INVA87,INVA6A,IN
VA7A,INVA8A,/RA,AALL,N01,
N21〜N23,N30は信号、F00〜F20はヒュ
ーズ、VCCは電源電圧、VSSは接地電圧、QN,Q
N00〜QN20はNチャネル型MOSトランジスタ、
QP,QP00〜QP03はPチャネル型MOSトラン
ジスタである。
In FIG. 5, FIG. 6 and FIG.
MCB7 is a memory cell block, FB20 to FB27 are fuse circuit blocks for selection, RWL00, RWL1
0,..., RWL70 are redundant word line groups, ATC6
1, ATC71 and ATC81 are address conversion circuit blocks, A0 to A8, / A0 to / A8 are address signals, A6
R, A7R, A8R, / A6R, / A7R, / A8R are internal conversion address signals, SPE0, R00 to R07, I
NVA60 to INVA67, INVA70 to INVA7
7, INVA80-INVA87, INVA6A, IN
VA7A, INVA8A, / RA, AALL, N01,
N21 to N23 and N30 are signals, F00 to F20 are fuses, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN and Q
N00 to QN20 are N-channel MOS transistors,
QP and QP00 to QP03 are P-channel MOS transistors.

【0076】第3の実施例では、冗長メモリセル選択回
路は、従来例と同様に、格子状に構成されたワード線と
ビット線との交点に形成された複数のメモリセルグルー
プのうちの不良メモリセルグループを、冗長ワード線グ
ループと接続され予め準備された冗長メモリセルグルー
プに置き換え救済するものである。
In the third embodiment, the redundant memory cell selection circuit, as in the prior art, has a defective memory cell among a plurality of memory cell groups formed at intersections of word lines and bit lines arranged in a grid. The memory cell group is replaced with a redundant memory cell group connected to the redundant word line group and prepared in advance, and is relieved.

【0077】冗長メモリセル選択回路は、アドレス信号
A6〜A8の論理電圧で選択されるメモリセルブロック
MCB0〜MCB7を備えている。メモリセルブロック
MCB0〜MCB7のそれぞれは、通常のメモリセルグ
ループと、冗長ワード線グループと接続された冗長メモ
リセルグループとを有している。メモリセルブロックM
CB0〜MCB7に対して冗長ワード線グループRWL
00〜RWL70がそれぞれ設けられている。よって、
冗長ワード線グループRWLは全部で8つ設けられてい
る。冗長ワード線グループRWL00〜RWL70のそ
れぞれは、いずれのメモリセルブロック内のいずれの不
良メモリセルグループとも置き換えることが可能であ
る。例えば、メモリセルブロックMCB0内の不良メモ
リセルグループをメモリセルブロックMCB5における
冗長ワード線グループRWL50と接続された冗長メモ
リセルグループに置き換えたい場合には、例えば、図6
の選択用ヒューズ回路ブロックFB20で、メモリセル
ブロックMCB0内の不良メモリセルグループのアドレ
スが選択されるように18本のヒューズF00〜F17
のうちの半分の9本が切断される。メモリセルブロック
MCB0のメモリセルブロック選択アドレスではアドレ
ス信号A6が“0”、A7が“0”、A8が“0”であ
る。MCB5の選択アドレスではアドレス信号A6が
“1”、A7が“0”、A8が“1”である。メモリセ
ルブロックの選択をMCB0からMCB5に切り換える
ために、メモリセルブロックMCB0及びMCB5にそ
れぞれ対応する選択アドレス信号A6〜A8のうちで互
いに異なる(論理電圧が逆である)アドレス信号である
A6とA8とにそれぞれ対応するヒューズF18とヒュ
ーズF20とが切断される。
The redundant memory cell selection circuit includes memory cell blocks MCB0 to MCB7 selected by logic voltages of address signals A6 to A8. Each of memory cell blocks MCB0 to MCB7 has a normal memory cell group and a redundant memory cell group connected to a redundant word line group. Memory cell block M
Redundant word line group RWL for CB0-MCB7
00 to RWL 70 are provided. Therefore,
A total of eight redundant word line groups RWL are provided. Each of redundant word line groups RWL00 to RWL70 can be replaced with any defective memory cell group in any memory cell block. For example, when it is desired to replace a defective memory cell group in the memory cell block MCB0 with a redundant memory cell group connected to the redundant word line group RWL50 in the memory cell block MCB5, for example, FIG.
18 fuses F00 to F17 so that the address of the defective memory cell group in the memory cell block MCB0 is selected by the selection fuse circuit block FB20.
9 of the half are cut. In the memory cell block selection address of the memory cell block MCB0, the address signal A6 is "0", A7 is "0", and A8 is "0". In the selected address of the MCB 5, the address signal A6 is "1", A7 is "0", and A8 is "1". In order to switch the selection of the memory cell block from MCB0 to MCB5, A6 and A8 which are mutually different (logical voltages are opposite) address signals A6 to A8 among selection address signals A6 to A8 respectively corresponding to memory cell blocks MCB0 and MCB5. And the corresponding fuses F18 and F20 are cut.

【0078】以下、第3の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路の回路動作について説明する。図6は選択用ヒ
ューズ回路ブロックFB20を示しており、選択用ヒュ
ーズ回路ブロックFB21〜FB27は選択用ヒューズ
回路ブロックFB20と同様のものである。
Hereinafter, the circuit operation of the redundant memory cell selection circuit according to the third embodiment will be described. FIG. 6 shows a selection fuse circuit block FB20, and the selection fuse circuit blocks FB21 to FB27 are the same as the selection fuse circuit block FB20.

【0079】図6において、まず、信号/RAが論理電
圧“L”とされると、Pチャネル型MOSトランジスタ
QP00〜QP03がオンし、信号N01、N21〜N
23が論理電圧“H”となる。このあと、信号/RAが
論理電圧“H”となり、次に、アドレス信号A0〜A
8,/A0〜/A8のうちの選択されたアドレス信号
が、例えばデバイスが有するアドレスバッファから出力
される。ここで、アドレス信号/A0〜/A8はアドレ
ス信号A0〜A8の逆の論理電圧信号である。
In FIG. 6, when signal / RA is set to logic voltage "L", P-channel MOS transistors QP00 to QP03 are turned on, and signals N01, N21 to NP are turned on.
23 becomes the logic voltage “H”. Thereafter, signal / RA attains logic voltage "H", and then address signals A0-A
An address signal selected from 8, / A0 to / A8 is output from, for example, an address buffer included in the device. Here, the address signals / A0 to / A8 are logic voltage signals that are the reverse of the address signals A0 to A8.

【0080】アドレス信号A0〜A8,/A0〜/A8
がNチャネル型MOSトランジスタQN00〜QN17
のゲートにそれぞれ入力され、18個のNチャネル型M
OSトランジスタQN00〜QN17のうちの半分の9
つだけがオンする。
Address signals A0 to A8, / A0 to / A8
Are N-channel MOS transistors QN00 to QN17
, And 18 N-channel type M
9 of the half of the OS transistors QN00 to QN17
Only one turns on.

【0081】このとき、選択されたアドレスに対応する
ヒューズが9本とも切断されている場合には、信号N0
1は論理電圧“H”となり、信号R00は論理電圧
“L”の状態に保持される。
At this time, if all nine fuses corresponding to the selected address are blown, the signal N0
1 becomes the logic voltage "H", and the signal R00 is maintained at the state of the logic voltage "L".

【0082】信号AALLは、アドレス信号A0〜A
8,/A0〜/A8が決まり選択されると同時に論理電
圧“H”となる信号であり、ヒューズF18とヒューズ
F20とが切断されていると信号N21及び信号N23
は論理電圧“H”となり、信号N22は論理電圧“L”
となる。また、上記のように、信号N01は論理電圧
“H”であるため、信号INVA60及びINVA80
は論理電圧“L”となり、信号INVA70は論理電圧
“H”となる。
Signal AALL is composed of address signals A0-A
8, / A0 to / A8 are determined and selected, and at the same time become a logic voltage "H". When the fuses F18 and F20 are cut, the signals N21 and N23 are cut off.
Becomes a logic voltage "H", and the signal N22 becomes a logic voltage "L".
Becomes Further, as described above, since the signal N01 is at the logic voltage “H”, the signals INVA60 and INVA80
Becomes a logic voltage "L", and the signal INVA70 becomes a logic voltage "H".

【0083】そして、図7に示すアドレス信号A6と対
応するアドレス変換回路ブロックATC61に論理電圧
“L”である信号INVA60が入力され、内部アドレ
ス信号A6Rはアドレス信号A6の逆論理信号となり、
内部アドレス信号/A6Rはアドレス信号/A6の逆論
理信号となる。同様に、アドレス信号A7,A8にそれ
ぞれ対応するアドレス変換回路ブロックATC71,A
TC81に、論理電圧“H”である信号INVA70と
論理電圧“L”である信号INVA80とがそれぞれ入
力され、内部アドレス信号A7Rはアドレス信号A7の
同論理信号となり、内部アドレス信号/A7Rはアドレ
ス信号/A7の同論理信号となり、内部アドレス信号A
8Rはアドレス信号A8の逆論理信号となり、内部アド
レス信号/A8Rはアドレス信号/A8の逆論理信号と
なる。
Then, a signal INVA60 of a logic voltage "L" is input to an address conversion circuit block ATC61 corresponding to the address signal A6 shown in FIG. 7, and the internal address signal A6R is a reverse logic signal of the address signal A6.
The internal address signal / A6R is a logical inverse of the address signal / A6. Similarly, address conversion circuit blocks ATC71, ATC corresponding to address signals A7, A8, respectively.
The signal INVA70 of the logic voltage "H" and the signal INVA80 of the logic voltage "L" are input to TC81, respectively. The internal address signal A7R becomes the same logic signal of the address signal A7, and the internal address signal / A7R is the address signal. / A7 and the internal address signal A
8R is a logical inverse of the address signal A8, and the internal address signal / A8R is a logical inverse of the address signal / A8.

【0084】このようにして、メモリセルブロックMC
B0の不良メモリセルグループを、メモリセルブロック
MCB5の冗長ワード線グループRWL50と接続され
た冗長メモリセルグループに置き換えることが可能とな
る。
Thus, memory cell block MC
The defective memory cell group of B0 can be replaced with a redundant memory cell group connected to the redundant word line group RWL50 of the memory cell block MCB5.

【0085】以上のように、第3の実施例に係る冗長メ
モリセル選択回路では、8つの選択用ヒューズ回路ブロ
ックが準備され、1つの選択用ヒューズ回路ブロックに
対して21本のヒューズが必要で、総ヒューズ本数は2
1本×8=168本である。従来例の192本(12本
×16)に対して87.5%に減少している。
As described above, in the redundant memory cell selection circuit according to the third embodiment, eight selection fuse circuit blocks are prepared, and one fuse circuit block requires 21 fuses. , The total number of fuses is 2
1 × 8 = 168. This is reduced to 87.5% from 192 lines (12 lines × 16) in the conventional example.

【0086】第3の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、全体での冗長ワード線グループ数と選択用
ヒューズ回路ブロック数とを少なくし、デバイスの総面
積を小さくでき、また、各メモリセルブロックにおける
救済可能なメモリセルグループの個数を従来の2つから
8つに増やし、冗長メモリセルグループによる救済の自
由度を上げることができるということである。
The feature of the redundant memory cell selection circuit according to the third embodiment is that the total number of redundant word line groups and the number of selection fuse circuit blocks can be reduced, and the total area of the device can be reduced. This means that the number of rescuable memory cell groups in the memory cell block can be increased from two to eight in the related art, and the degree of freedom of the rescue by the redundant memory cell group can be increased.

【0087】(第4の実施例) 以下、本発明の第4の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図8及び図12を参照しながら説明する。
(Fourth Embodiment) Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0088】図8は上記第4の実施例に係る冗長メモリ
セル選択回路を示し、図12は図8における選択用ヒュ
ーズ回路ブロックFB30を示しており、選択用ヒュー
ズ回路ブロックFB31〜FB37は選択用ヒューズ回
路ブロック30と同様のものである。
FIG. 8 shows a redundant memory cell selection circuit according to the fourth embodiment. FIG. 12 shows a selection fuse circuit block FB30 in FIG. 8, and selection fuse circuit blocks FB31 to FB37 are used for selection. This is similar to the fuse circuit block 30.

【0089】図8及び図12において、MCB0〜MC
B7はメモリセルブロック、MCBRは冗長メモリセル
専用ブロック、FB30〜FB37は選択用ヒューズ回
路ブロック、RWL00,RWL10,…,RWL70
は冗長ワード線グループ、A0〜A8,/A0〜/A8
はアドレス信号、SPE0〜SPE7,R30〜R3
7,/RA,N01は信号、F00〜F17はヒュー
ズ、VCCは電源電圧、VSSは接地電圧、QN00〜
QN17はNチャネル型MOSトランジスタ、QP00
はPチャネル型MOSトランジスタである。
In FIGS. 8 and 12, MCB0 to MCB
B7 is a memory cell block, MCBR is a block dedicated to a redundant memory cell, FB30 to FB37 are fuse circuit blocks for selection, RWL00, RWL10,.
Denotes a redundant word line group, A0 to A8, / A0 to / A8
Is an address signal, SPE0 to SPE7, R30 to R3
7, / RA, N01 are signals, F00 to F17 are fuses, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN00 to QN00.
QN17 is an N-channel MOS transistor, QP00
Is a P-channel type MOS transistor.

【0090】第4の実施例では、冗長メモリセル選択回
路は、格子状に構成されたワード線とビット線との交点
に形成された複数のメモリセルグループのうちの不良メ
モリセルグループを、予め準備された冗長メモリセル専
用ブロックMCBR内の冗長メモリセルグループに置き
換え救済するものである。
In the fourth embodiment, the redundant memory cell selection circuit preliminarily identifies a defective memory cell group among a plurality of memory cell groups formed at the intersections of word lines and bit lines arranged in a grid. This is replaced with a redundant memory cell group in the prepared redundant memory cell dedicated block MCBR and relieved.

【0091】冗長メモリセル選択回路は、アドレス信号
A6〜A8の論理電圧で選択される8つのメモリセルブ
ロックMCB0〜MCB7と冗長メモリセル専用ブロッ
クMCBRとを備えている。
The redundant memory cell selection circuit includes eight memory cell blocks MCB0 to MCB7 selected by the logic voltages of the address signals A6 to A8, and a redundant memory cell dedicated block MCBR.

【0092】ここで、例えば、メモリセルブロックMC
B3の不良メモリセルグループを冗長ワード線グループ
RWL00に置き換えたい場合には、選択用ヒューズ回
路ブロックにおいて、メモリセルブロックMCB3の不
良メモリセルグループのアドレスが選択されるように1
8本のヒューズF00〜F17のうちの半分の9本が切
断される。
Here, for example, the memory cell block MC
When it is desired to replace the defective memory cell group of B3 with the redundant word line group RWL00, 1 is selected so that the address of the defective memory cell group of the memory cell block MCB3 is selected in the selecting fuse circuit block.
Nine of half of the eight fuses F00 to F17 are cut.

【0093】以下、第4の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路の回路動作について説明する。図12は選択用
ヒューズ回路ブロックFB30を示しており、選択用ヒ
ューズ回路ブロックFB31〜FB37は選択用ヒュー
ズ回路ブロック30と同様のものである。
Hereinafter, the circuit operation of the redundant memory cell selection circuit according to the fourth embodiment will be described. FIG. 12 shows a selection fuse circuit block FB30, and the selection fuse circuit blocks FB31 to FB37 are the same as the selection fuse circuit block 30.

【0094】図12において、まず、信号/RAが論理
電圧“L”となり、Pチャネル型MOSトランジスタQ
P00がオンし、信号N01が論理電圧“H”となる。
この後、信号/RAが論理電圧“H”となり、次に、ア
ドレス信号A0〜A8,/A0〜/A8が選択されたア
ドレスを出力する。ここで、アドレス信号/A0〜/A
8はアドレス信号A0〜A8の逆の論理電圧信号であ
る。
In FIG. 12, first, signal / RA attains logic voltage "L", and P-channel MOS transistor Q
P00 turns on, and the signal N01 becomes the logic voltage “H”.
Thereafter, the signal / RA becomes the logic voltage "H", and the address signals A0 to A8 and / A0 to / A8 output the selected address. Here, address signals / A0 to / A
Numeral 8 is a logic voltage signal which is the reverse of the address signals A0 to A8.

【0095】アドレス信号A0〜A8,/A0〜/A8
がNチャネル型MOSトランジスタQN00〜QN17
のゲートにそれぞれ入力され、18個のNチャネル型M
OSトランジスタQN00〜QN17のうちの半分の9
つがオンする。
Address signals A0 to A8, / A0 to / A8
Are N-channel MOS transistors QN00 to QN17
, And 18 N-channel type M
9 of the half of the OS transistors QN00 to QN17
One turns on.

【0096】このとき、選択されたアドレスに対応する
ヒューズが9本とも切断されている場合には、信号N0
1は論理電圧“H”となり、信号R30は論理電圧
“L”の状態に保持される。
At this time, if all nine fuses corresponding to the selected address are blown, the signal N0
1 becomes the logic voltage "H", and the signal R30 is held at the state of the logic voltage "L".

【0097】このようにして、メモリセルブロックMC
B3の不良メモリセルグループを、冗長メモリセル専用
ブロックMCBRの冗長ワード線グループRWL00に
接続された冗長メモリセルグループに置き換えることが
可能となる。
Thus, memory cell block MC
The defective memory cell group of B3 can be replaced with a redundant memory cell group connected to the redundant word line group RWL00 of the redundant memory cell dedicated block MCBR.

【0098】以上のように、第4の実施例に係る冗長メ
モリセル選択回路では、8つの選択用ヒューズ回路ブロ
ックが準備され、1つの選択用ヒューズ回路ブロックに
対して18本のヒューズが必要で、総ヒューズ本数は1
8×8=144本である。従来例の192本に対して7
5%に減少される。
As described above, in the redundant memory cell selection circuit according to the fourth embodiment, eight selection fuse circuit blocks are prepared, and one selection fuse circuit block requires 18 fuses. , The total number of fuses is 1
8 × 8 = 144. 7 compared to 192 in the conventional example
Reduced to 5%.

【0099】第4の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、第3の実施例と同様に、全体での冗長ワー
ド線グループ数と選択用ヒューズ回路ブロック数とが少
なくなるためデバイスの総面積を小さくでき、また、各
メモリセルブロックにおける救済可能なメモリセルグル
ープを従来の2つから8つに増やし、冗長メモリセルグ
ループによる救済の自由度を上げることができるという
ことである。
The feature of the redundant memory cell selection circuit according to the fourth embodiment is that, similarly to the third embodiment, the number of redundant word line groups and the number of selection fuse circuit blocks are reduced as a whole. This means that the total area can be reduced, and the number of memory cell groups that can be rescued in each memory cell block can be increased from two to eight, thereby increasing the degree of freedom of rescue by the redundant memory cell groups.

【0100】(第5の実施例) 以下、本発明の第5の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図9,図13及び図14を参照しながら説
明する。
Fifth Embodiment Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9, 13 and 14.

【0101】図9は上記第5の実施例に係る冗長メモリ
セル選択回路を示し、図13は図9における選択用ヒュ
ーズ回路ブロックFB40を示し、図14は図9におけ
るアドレス変換回路ブロックATC66を示しており、
アドレス変換回路ブロックATC76,86はアドレス
変換回路ブロックATC66と同様のものである。
FIG. 9 shows a redundant memory cell selection circuit according to the fifth embodiment, FIG. 13 shows a selection fuse circuit block FB40 in FIG. 9, and FIG. 14 shows an address conversion circuit block ATC66 in FIG. And
The address conversion circuit blocks ATC76 and 86 are similar to the address conversion circuit block ATC66.

【0102】MCB0〜MCB8はメモリセルブロッ
ク、FB40は選択用ヒューズ回路ブロック、A0〜A
8、/A0〜/A8はアドレス信号、A6R,A7R,
A8R,/A6R,/A7R,/A8Rは内部変換アド
レス信号、AR,/AR,/RA,N01は信号、F0
0〜F05はヒューズ、VCCは電源電圧、VSSは接
地電圧、QN00〜QN05はNチャネル型MOSトラ
ンジスタ、QP00はPチャネル型MOSトランジス
タ、ATC66,ATC76,ATC86はアドレス変
換回路ブロックである。
MCB0 to MCB8 are memory cell blocks, FB40 is a fuse circuit block for selection, and A0 to A
8, / A0 to / A8 are address signals, A6R, A7R,
A8R, / A6R, / A7R, / A8R are internal conversion address signals, AR, / AR, / RA, N01 are signals, F0
0 to F05 are fuses, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN00 to QN05 are N-channel MOS transistors, QP00 is a P-channel MOS transistor, and ATC66, ATC76 and ATC86 are address conversion circuit blocks.

【0103】第5の実施例では、冗長メモリセル選択回
路は,MCB0〜MCB8の9つのメモリセルブロック
を備え、この9つのメモリセルブロックのうちの1つを
予備のメモリセルブロックとし、不良のない8つのメモ
リセルブロックを選択して使用するものである。
In the fifth embodiment, the redundant memory cell selection circuit includes nine memory cell blocks MCB0 to MCB8, and one of the nine memory cell blocks is used as a spare memory cell block, and a defective memory cell block is provided. Eight memory cell blocks are selected and used.

【0104】メモリセルブロックMCBはアドレス信号
A6〜A8の論理電圧で選択されるように構成されてい
る。
The memory cell block MCB is configured to be selected by the logic voltages of the address signals A6 to A8.

【0105】例えば、メモリセルブロックMCB3に不
良がある場合、選択用ヒューズ回路ブロックFB40内
のヒューズF01,F03,F04が切断される。
For example, when there is a defect in the memory cell block MCB3, the fuses F01, F03, and F04 in the selecting fuse circuit block FB40 are cut.

【0106】以下、第5の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路の回路動作について説明する。
Hereinafter, the circuit operation of the redundant memory cell selection circuit according to the fifth embodiment will be described.

【0107】図13は選択用ヒューズ回路ブロックFB
40を示しており、図13において、まず、信号/RA
が論理電圧“L”となり、Pチャネル型MOSトランジ
スタQP00がオンし、信号N01が論理電圧“H”と
なる。このあと、信号/RAが論理電圧“H”となり、
次に、アドレス信号A6〜A8,/A6〜/A8が、選
択されたメモリセルブロック選択アドレスを出力する。
ここで、アドレス信号/A6〜/A8はアドレス信号A
6〜A8の逆の論理電圧信号である。
FIG. 13 shows a fuse circuit block FB for selection.
In FIG. 13, first, the signal / RA
Becomes the logic voltage "L", the P-channel MOS transistor QP00 turns on, and the signal N01 becomes the logic voltage "H". Thereafter, the signal / RA becomes the logic voltage "H",
Next, the address signals A6 to A8 and / A6 to / A8 output the selected memory cell block selection address.
Here, the address signals / A6 to / A8 are the address signals A
6 is a reverse logic voltage signal of A8.

【0108】メモリセルブロックMCB3に対応するメ
モリセルブロック選択アドレスが選択されると、信号N
01は論理電圧“H”となり、信号ARは論理電圧
“H”の状態に保持される。
When a memory cell block selection address corresponding to memory cell block MCB3 is selected, signal N
01 becomes the logic voltage “H”, and the signal AR is held at the state of the logic voltage “H”.

【0109】このようにして、メモリセルブロックMC
B3の代わりにメモリセルブロックMCB8が選択され
メモリセルブロックの置き換えが可能となる。
Thus, memory cell block MC
The memory cell block MCB8 is selected instead of B3, and the memory cell block can be replaced.

【0110】第5の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、不良のあるメモリセルブロックをメモリセ
ルブロックごと置き換えることができるということであ
る。
A feature of the redundant memory cell selection circuit according to the fifth embodiment is that a defective memory cell block can be replaced for each memory cell block.

【0111】(第6の実施例) 以下、本発明の第6の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図10,図13及び図14を参照しながら
説明する。
(Sixth Embodiment) Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10, 13, and 14. FIG.

【0112】図10は上記第6の実施例に係る冗長メモ
リセル選択回路を示し、図13は図10における選択用
ヒューズ回路ブロックFB40を示し、図14は図10
におけるアドレス変換回路ブロックATC66を示して
おり、アドレス変換回路ブロックATC76,ATC8
6はアドレス変換回路ブロックATC66と同様のもの
である。ここでは、図10における選択用ヒューズ回路
ブロックFB100〜FB107は図18に示す従来例
に係る冗長メモリセル選択回路の選択用ヒューズ回路ブ
ロックと同様のものである。
FIG. 10 shows a redundant memory cell selection circuit according to the sixth embodiment, FIG. 13 shows the selection fuse circuit block FB40 in FIG. 10, and FIG.
Shows an address conversion circuit block ATC66, and address conversion circuit blocks ATC76 and ATC8.
6 is the same as the address conversion circuit block ATC66. Here, the selection fuse circuit blocks FB100 to FB107 in FIG. 10 are the same as the selection fuse circuit blocks of the redundant memory cell selection circuit according to the conventional example shown in FIG.

【0113】図10,図13及び図14において、MC
B0〜MCB8はメモリセルブロック、FB100〜F
B107,FB40は選択用ヒューズ回路ブロック、R
WL00〜RWL08は冗長ワード線グループ、A0〜
A8,/A0〜/A8はアドレス信号、A6R,A7
R,A8R,/A6R,/A7R,/A8Rは内部変換
アドレス信号、AR,/AR,/RA,N01は信号、
F00〜F05はヒューズ、VCCは電源電圧、VSS
は接地電圧、QN00〜QN05はNチャネル型MOS
トランジスタ、QP00はPチャネル型MOSトランジ
スタ、ATC66,ATC76,ATC86はアドレス
変換回路ブロックである。
In FIG. 10, FIG. 13 and FIG.
B0 to MCB8 are memory cell blocks, FB100 to FB
B107 and FB40 are fuse circuit blocks for selection.
WL00 to RWL08 are redundant word line groups;
A8, / A0 to / A8 are address signals, A6R, A7
R, A8R, / A6R, / A7R, / A8R are internal conversion address signals, AR, / AR, / RA, N01 are signals,
F00 to F05 are fuses, VCC is power supply voltage, VSS
Is ground voltage, QN00 to QN05 are N-channel MOS
The transistor QP00 is a P-channel MOS transistor, and ATC66, ATC76 and ATC86 are address conversion circuit blocks.

【0114】第6の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路は、第5の実施例における各メモリセルブロックに冗
長ワード線グループを設けたものであり、MCB0〜M
CB8の9つのメモリセルブロックを備え、この9つの
メモリセルブロックMCB0〜MCB8のうちの1つを
予備のメモリセルブロックとし、不良の少ない8つのメ
モリセルブロックを選択して使用し、また、各メモリセ
ルブロック内の不良メモリセルグループは冗長ワード線
グループに接続された冗長メモリセルグループと置き換
えるものである。メモリセルブロックの選択方法は第5
の実施例と同様である。また、各メモリセルブロック内
の不良メモリセルグループの置き換えは従来例と同様で
ある。
The redundant memory cell selection circuit according to the sixth embodiment is different from the fifth embodiment in that a redundant word line group is provided in each memory cell block.
It has nine memory cell blocks CB8, one of the nine memory cell blocks MCB0 to MCB8 is used as a spare memory cell block, and eight memory cell blocks with few defects are selected and used. A defective memory cell group in a memory cell block replaces a redundant memory cell group connected to a redundant word line group. The method of selecting the memory cell block is the fifth.
This is the same as the embodiment of the present invention. The replacement of the defective memory cell group in each memory cell block is the same as in the conventional example.

【0115】第6の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、不良のあるメモリセルブロックをメモリセ
ルブロックごと置き換えると共に、各メモリセルブロッ
ク内において不良メモリセルグループを冗長メモリセル
グループに置き換えることができるということである。
The features of the redundant memory cell selection circuit according to the sixth embodiment are that a defective memory cell block is replaced for each memory cell block, and a defective memory cell group is replaced with a redundant memory cell group in each memory cell block. That you can do it.

【0116】なお、第6の実施例においては、選択用ヒ
ューズ回路ブロックとして従来例と同様のものが用いら
れているが、選択用ヒューズ回路ブロックとして第1の
実施例と同様のものが用いられることにより、さらに、
選択用ヒューズ回路ブロックの個数を減じることがで
き、デバイスの面積を小さくすることができる。 (第7の実施例) 以下、本発明の第7の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図11,図12,図13及び図14を参照
しながら説明する。
In the sixth embodiment, the same fuse circuit block for selection as in the prior art is used. However, the same fuse circuit block for selection as in the first embodiment is used. By doing so,
The number of selection fuse circuit blocks can be reduced, and the device area can be reduced. Seventh Embodiment Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11, FIG. 12, FIG. 13 and FIG.

【0117】図11は上記第7の実施例に係る冗長メモ
リセル選択回路を示し、図12は図11における選択用
ヒューズ回路ブロックFB30を示しており、選択用ヒ
ューズ回路ブロックFB31〜B37は選択用ヒューズ
回路ブロックFB30と同様のものであり、図13は図
11における選択用ヒューズ回路ブロックFB40を示
し、図14は図11におけるアドレス変換回路ブロック
ATC66を示しており、アドレス変換回路ブロックA
TC76,ATC86はアドレス変換回路ブロックAT
C66と同様のものである。
FIG. 11 shows a redundant memory cell selection circuit according to the seventh embodiment. FIG. 12 shows a selection fuse circuit block FB30 in FIG. 11, and selection fuse circuit blocks FB31 to FB37 are used for selection. FIG. 13 shows the selecting fuse circuit block FB40 in FIG. 11, FIG. 14 shows the address conversion circuit block ATC66 in FIG. 11, and FIG. 13 shows the address conversion circuit block A.
TC76 and ATC86 are address conversion circuit blocks AT
It is similar to C66.

【0118】図11,図12,図13及び図14におい
て、MCB0〜MCB8はメモリセルブロック、FB3
0〜FB37,FB40は選択用ヒューズ回路ブロッ
ク、A0〜A8,/A0〜/A8はアドレス信号、A6
R,A7R,A8R,/A6R,/A7R,/A8Rは
内部変換アドレス信号、SPEX,R30〜R37,A
R,/AR,ARX,/RA,N01は信号、F00〜
F17はヒューズ、VCCは電源電圧、VSSは接地電
圧、QN00〜QN17はNチャネル型MOSトランジ
スタ、QP00はPチャネル型MOSトランジスタ、A
TC66,ATC76,ATC86はアドレス変換回路
ブロックである。
In FIGS. 11, 12, 13 and 14, MCB0 to MCB8 are memory cell blocks, FB3
0 to FB37 and FB40 are selection fuse circuit blocks, A0 to A8, / A0 to / A8 are address signals, A6
R, A7R, A8R, / A6R, / A7R, / A8R are internal conversion address signals, SPEX, R30 to R37, A
R, / AR, ARX, / RA, N01 are signals, F00 to F00
F17 is a fuse, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN00 to QN17 are N-channel MOS transistors, QP00 is a P-channel MOS transistor, A
TC66, ATC76 and ATC86 are address conversion circuit blocks.

【0119】第7の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路は、第5の実施例において選択されないメモリセルブ
ロックのメモリセルグループを冗長メモリセルグループ
として使用するものである。
The redundant memory cell selection circuit according to the seventh embodiment uses a memory cell group of a memory cell block not selected in the fifth embodiment as a redundant memory cell group.

【0120】冗長メモリセル選択回路は、MCB0〜M
CB8の9つのメモリセルブロックを備え、この9つの
MCB0〜MCB8のうちの1つを予備のメモリセルブ
ロックとし、8つのメモリセルブロックを選択して使用
し、また、選択される8つのメモリセルブロック内の不
良メモリセルグループに対しては上記予備のメモリセル
ブロックのメモリセルグループを冗長メモリセルグルー
プとして使用する。メモリセルブロックの選択方法は第
5の実施例と同様である。また、各メモリセルブロック
内の不良メモリセルグループの置き換えについては、選
択用ヒューズ回路ブロックFB30〜FB37に記憶さ
れたアドレスが選択されるとアドレス変換回路ブロック
ATC66〜ATC86が動作しないようにして実現さ
れている。
The redundant memory cell selection circuit has MCB0 to MCB
CB8 is provided as nine memory cell blocks, one of the nine MCB0 to MCB8 is used as a spare memory cell block, and eight memory cell blocks are selectively used. For the defective memory cell group in the block, the memory cell group of the spare memory cell block is used as a redundant memory cell group. The method of selecting a memory cell block is the same as that of the fifth embodiment. The replacement of the defective memory cell group in each memory cell block is realized such that the address conversion circuit blocks ATC66 to ATC86 do not operate when an address stored in the selection fuse circuit blocks FB30 to FB37 is selected. ing.

【0121】第7の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、不良のあるメモリセルブロックをメモリセ
ルブロックごと置き換えると共に、各メモリセルブロッ
ク内の不良メモリセルグループを予備のメモリセルブロ
ック内のメモリセルグループに置き換えることができる
ということである。
The feature of the redundant memory cell selection circuit according to the seventh embodiment is that a defective memory cell block is replaced for each memory cell block and a defective memory cell group in each memory cell block is replaced in a spare memory cell block. Can be replaced with a memory cell group of

【0122】(第8の実施例) 以下、本発明の第8の実施例に係る冗長メモリセル選択
回路について図15を参照しながら説明する。
(Eighth Embodiment) Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0123】図15は上記第8の実施例に係る冗長メモ
リセル選択回路の各メモリセルブロックを示しており、
上記第8の実施例に係る冗長メモリセル選択回路は図9
に示す第5の実施例に係る冗長メモリセル選択回路と同
様のものである。
FIG. 15 shows each memory cell block of the redundant memory cell selection circuit according to the eighth embodiment.
The redundant memory cell selection circuit according to the eighth embodiment is shown in FIG.
Is the same as the redundant memory cell selection circuit according to the fifth embodiment shown in FIG.

【0124】図15において、V11はビット線プリチ
ャージ電源、F110はヒューズ、BEはビット線イコ
ライズ及びプリチャージ回路、MCはメモリセル、SA
はセンスアンプ回路、Cはメモリセルキャパシタ、Q
N,QNMはNチャネル型MOSトランジスタ、QPは
Pチャネル型MOSトランジスタ、VBP,SBP,V
CP,SAP,SANは信号、WL1,WL2,…,W
L255,WL256はワード線、BL1,BL2,
…,BL512,/BL1,/BL2,…,/BL51
2はビット線である。
In FIG. 15, V11 is a bit line precharge power supply, F110 is a fuse, BE is a bit line equalizing and precharge circuit, MC is a memory cell, SA
Is a sense amplifier circuit, C is a memory cell capacitor, Q
N and QNM are N-channel MOS transistors, QP is a P-channel MOS transistor, VBP, SBP, V
CP, SAP, and SAN are signals, WL1, WL2,.
L255, WL256 are word lines, BL1, BL2,
..., BL512, / BL1, / BL2, ..., / BL51
2 is a bit line.

【0125】第8の実施例では、冗長メモリセル選択回
路は、ヒューズF110を切断することによってビット
線のプリチャージ電源ノード信号VBPの伝送線をビッ
ト線プリチャージ電源V11と切り離すことができるも
のである。
In the eighth embodiment, the redundant memory cell selection circuit is capable of disconnecting the bit line precharge power supply node signal VBP transmission line from the bit line precharge power supply V11 by cutting the fuse F110. is there.

【0126】また、デバイスが待機状態のときには、ビ
ット線イコライズ及びプリチャージ信号SBPは論理電
圧“H”であり、ビット線BL1〜BL512,/BL
1〜/BL512はビット線のプリチャージ電源ノード
信号VBPの伝送線とそれぞれ接続されている一方、ワ
ード線WL1〜WL256は接地電圧VSSとそれぞれ
接続されている。
When the device is in the standby state, the bit line equalize and precharge signal SBP is at the logic voltage "H", and the bit lines BL1 to BL512, / BL
1 to / BL512 are respectively connected to the transmission lines of the precharge power supply node signal VBP of the bit lines, while the word lines WL1 to WL256 are respectively connected to the ground voltage VSS.

【0127】第8の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、製造工程上でメモリセルブロックのビット
線とワード線とが短絡する不良が発生した場合には、こ
のような不良が生じたメモリセルブロックを使用しない
と共に、ヒューズF110を切断しビット線のプリチャ
ージ電源ノード信号VBPの伝送線とビット線プリチャ
ージ電源V11とを切り離すことによって、ビット線と
ワード線との電位を同一にすることにより電源電流不良
から救済することができるということである。
The feature of the redundant memory cell selection circuit according to the eighth embodiment is that such a defect occurs when a short circuit occurs between a bit line and a word line of a memory cell block in a manufacturing process. By not using the memory cell block and cutting the fuse F110 to separate the bit line precharge power supply node signal VBP transmission line from the bit line precharge power supply V11, the potentials of the bit line and the word line are equalized. By doing so, it is possible to recover from a power supply current defect.

【0128】(第9の実施例)以下、本発明の第9の実
施例に係る冗長メモリセル選択回路について図16を参
照しながら説明する。
Ninth Embodiment Hereinafter, a redundant memory cell selection circuit according to a ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0129】図16は上記第9の実施例に係る冗長メモ
リセル選択回路の各選択用ヒューズ回路ブロックを示し
ており、当該選択用ヒューズ回路ブロックは1度記憶し
たアドレスをキャンセルする機能を有している。上記第
9の実施例に係る冗長メモリセル選択回路の全体の構成
は選択用ヒューズ回路ブロックを除き図17に示す従来
例に係る冗長メモリセル選択回路と同様である。
FIG. 16 shows each selection fuse circuit block of the redundant memory cell selection circuit according to the ninth embodiment. The selection fuse circuit block has a function of canceling an address stored once. ing. The overall configuration of the redundant memory cell selection circuit according to the ninth embodiment is the same as that of the conventional redundant memory cell selection circuit shown in FIG. 17 except for a fuse circuit block for selection.

【0130】図16において、A0〜A8,/A0〜/
A8はアドレス信号、F00〜F11,F120はヒュ
ーズ、/RA,N121〜N123,R00,AALL
は信号、VCCは電源電圧、VSSは接地電圧、QN0
0〜QN11,QN121はNチャネル型MOSトラン
ジスタ、QP00,QP121はPチャネル型MOSト
ランジスタである。信号AALLはアドレス信号A0〜
A8が決まると論理電圧“H”となる信号である。
In FIG. 16, A0-A8, / A0- /
A8 is an address signal, F00 to F11, F120 are fuses, / RA, N121 to N123, R00, AALL
Is a signal, VCC is a power supply voltage, VSS is a ground voltage, QN0
0 to QN11 and QN121 are N-channel MOS transistors, and QP00 and QP121 are P-channel MOS transistors. The signal AALL includes address signals A0 to A0.
When A8 is determined, the signal becomes a logic voltage "H".

【0131】第9の実施例において、冗長メモリセルグ
ループにより救済される不良メモリセルグループのアド
レスを記憶する方法としては、従来例と同様に、図16
に示す選択用ヒューズ回路ブロックの12本のヒューズ
F00〜F11のうち、選択するアドレスに対応する6
本を切断すれば良い。また、選択用ヒューズ回路ブロッ
クが1度記憶したアドレスをキャンセルするには、ヒュ
ーズF120を切断すれば良い。
In the ninth embodiment, the method of storing the address of the defective memory cell group rescued by the redundant memory cell group is the same as that of the conventional example shown in FIG.
Of the 12 fuses F00 to F11 of the selection fuse circuit block shown in FIG.
Just cut the book. In order to cancel the address once stored by the selecting fuse circuit block, the fuse F120 may be cut.

【0132】第9の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の特徴は、1度記憶したアドレスをキャンセルする機
能を有した選択用ヒューズ回路ブロックを備えることに
より、もし、不良メモリセルグループと置き換えられた
冗長メモリセルグループが不良である場合に、選択用ヒ
ューズ回路ブロックが記憶している上記不良メモリセル
グループのアドレスをキャンセルし、他の選択用ヒュー
ズ回路ブロックに新たに上記不良メモリセルグループの
アドレスが記憶されることにより、上記不良のメモリセ
ルグループを他の冗長メモリセルグループに置き換える
ことが可能であり、冗長メモリセルグループによる救済
率を大幅に向上させることができるということである。
The feature of the redundant memory cell selection circuit according to the ninth embodiment is that if a selection fuse circuit block having a function of canceling an address stored once is provided, it can be replaced with a defective memory cell group. When the redundant memory cell group is defective, the address of the defective memory cell group stored in the fuse circuit block for selection is canceled, and the address of the defective memory cell group is newly stored in another fuse circuit block for selection. Is stored, it is possible to replace the defective memory cell group with another redundant memory cell group, and the remedy rate by the redundant memory cell group can be greatly improved.

【0133】[0133]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜4、1
0の発明に係る冗長メモリセルを備えたメモリによる
と、準備された冗長メモリセルグループの個数よりも少
ない個数の選択用ヒューズ回路ブロックですべての冗長
メモリセルグループのうちのいずれかを選択することが
可能であるため、冗長メモリセルグループによる救済率
を低下させることなく、大きなレイアウト面積を必要と
する選択用ヒューズ回路ブロックの総面積を小さくする
ことができ、デバイス全体の面積を小さくすることがで
きる。
As described above, claims 1 to 4, 1
0 according to the memory provided with the redundant memory cell according to the invention.
Less than the number of prepared redundant memory cell groups.
No redundant fuse circuit blocks for all redundancy
Select one of the memory cell groups
Relief rate by redundant memory cell group
Requires large layout area without compromising
The total area of the fuse circuit block for selection
Can reduce the overall area of the device
Wear.

【0134】請求項5の発明に係る冗長メモリセル選択
回路によると、冗長メモリセルグループによる救済の自
由度を低下させることなく全体の冗長メモリセルグルー
プ数と選択用ヒューズ回路ブロック数とを少なくするこ
とができるため、デバイス全体の面積を小さくすること
ができる。また、冗長メモリセルグループによる救済
を向上させることができる。
The redundant memory cell selection according to the invention of claim 5
According to the circuit, the redundancy memory cell group
The entire redundant memory cell glue without reducing
And the number of selection fuse circuit blocks
To reduce the overall area of the device
Can be. Also, the relief rate by the redundant memory cell group
Can be improved.

【0135】請求項7〜8の発明に係る冗長メモリセル
選択回路によると、不良箇所があるメモリセルブロック
をメモリセルブロックごと置き換えることができる。
A redundant memory cell according to claim 7 or 8
According to the selection circuit, the memory cell block with the defective part
Can be replaced for each memory cell block.

【0136】請求項9の発明に係る冗長メモリセル選択
回路によると、不良メモリセルグループと置き換えられ
た冗長メモリセルグループが不良である場合に、上記不
良メモリセルグループを他の冗長メモリセルグループに
置き換えることが可能である。従って、冗長メモリセル
グループによる救済率を大幅に向上させることができ
る。
The redundant memory cell selection according to the ninth aspect of the present invention.
According to the circuit, is replaced with a defective memory cell group
If the redundant memory cell group is defective,
Good memory cell group to other redundant memory cell group
It is possible to replace it. Therefore, the redundant memory cell
The rescue rate by the group can be greatly improved
You.

【0137】以上のような結果、本発明によると、チッ
プ面積の増大を抑制し、安価で高歩留まりの冗長メモリ
セル選択回路を提供することができる。ひいては、より
安価な半導体メモリ装置を供給することができるという
大きな効果が得られる。
As a result, according to the present invention, it is possible to provide an inexpensive and high-yield redundant memory cell selection circuit that suppresses an increase in chip area. As a result, a great effect that a cheaper semiconductor memory device can be supplied can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る冗長メモリセル選
択回路を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】上記第1の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の選択用ヒューズ回路ブロックを示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of a redundant memory cell selection circuit according to the first embodiment.

【図3】本発明の第2の実施例に係る冗長メモリセル選
択回路を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】上記第2の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の選択用ヒューズ回路ブロックを示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of a redundant memory cell selection circuit according to the second embodiment.

【図5】本発明の第3の実施例に係る冗長メモリセル選
択回路を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図6】上記第3の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路の選択用ヒューズ回路ブロックを示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of a redundant memory cell selection circuit according to the third embodiment.

【図7】上記第3の実施例に係る冗長メモリセル選択回
路のアドレス変換回路ブロックを示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an address conversion circuit block of a redundant memory cell selection circuit according to the third embodiment.

【図8】本発明の第4の実施例に係る冗長メモリセル選
択回路を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第5の実施例に係る冗長メモリセル選
択回路を示すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a fifth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第6の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路を示すブロック図である。
FIG. 10 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a sixth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第7の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路を示すブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a seventh embodiment of the present invention.

【図12】上記第4及び第7の実施例に係る冗長メモリ
セル選択回路の選択用ヒューズ回路ブロックを示す回路
図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of a redundant memory cell selection circuit according to the fourth and seventh embodiments.

【図13】上記第5,第6及び第7の実施例に係る冗長
メモリセル選択回路の選択用ヒューズ回路ブロックを示
す回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of a redundant memory cell selection circuit according to the fifth, sixth, and seventh embodiments.

【図14】上記第5,第6及び第7の実施例に係る冗長
メモリセル選択回路のアドレス変換回路ブロックを示す
回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing an address conversion circuit block of a redundant memory cell selection circuit according to the fifth, sixth, and seventh embodiments.

【図15】本発明の第8の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路のメモリセルブロックを示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a memory cell block of a redundant memory cell selection circuit according to an eighth embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第9の実施例に係る冗長メモリセル
選択回路の選択用ヒューズ回路ブロックを示す回路図で
ある。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of a redundant memory cell selection circuit according to a ninth embodiment of the present invention.

【図17】従来例に係る冗長メモリセル選択回路を示す
ブロック図である。
FIG. 17 is a block diagram showing a redundant memory cell selection circuit according to a conventional example.

【図18】上記従来例に係る冗長メモリセル選択回路の
選択用ヒューズ回路ブロックを示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram showing a fuse circuit block for selection of the redundant memory cell selection circuit according to the conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MCB0〜MCB8 メモリセルブロック MCBR 冗長メモリセル専用ブロック RWL00〜RWL71 冗長ワード線グループ FB00〜FB40 選択用ヒューズ回路ブロック ATC61〜ATC86 アドレス変換回路ブロック A0〜A8,/A0〜/A8 アドレス信号 F00〜F20,F110,F120 ヒューズ QN,QNM,QN00〜QN20 Nチャネル型MO
Sトランジスタ QP,QP00〜QP03 Pチャネル型MOSトラン
ジスタ QP20,QP121 Pチャネル型MOSトランジス
MCB0 to MCB8 Memory cell block MCBR Redundant memory cell dedicated block RWL00 to RWL71 Redundant word line group FB00 to FB40 Selection fuse circuit block ATC61 to ATC86 Address conversion circuit block A0 to A8, / A0 to / A8 Address signal F00 to F20, F110 , F120 Fuses QN, QNM, QN00 to QN20 N-channel type MO
S-transistor QP, QP00-QP03 P-channel MOS transistor QP20, QP121 P-channel MOS transistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−345998(JP,A) 特開 平2−208898(JP,A) 特開 平4−152565(JP,A) 特開 平3−245400(JP,A) 特開 平2−310898(JP,A) 特開 平5−74191(JP,A) 特開 平3−104097(JP,A) 特開 平5−290598(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 29/00 603 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-345998 (JP, A) JP-A-2-208898 (JP, A) JP-A-4-152565 (JP, A) JP-A-3-352 245400 (JP, A) JP-A-2-310898 (JP, A) JP-A-5-74191 (JP, A) JP-A-3-104097 (JP, A) JP-A-5-290598 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 29/00 603

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】それぞれが所定の単位数のメモリセルを有1. Each memory cell has a predetermined number of memory cells.
するメモリセルグループと、冗長メモリセルグループとMemory cell group and redundant memory cell group
を切り替え得るように構成されたメモリであって、A memory configured to be able to switch between それぞれが複数のメモリセルグループ及び複数の冗長メEach has multiple memory cell groups and multiple redundant
モリセルグループを有する複数のメモリセルブロックMultiple memory cell blocks having a memory cell group
と、When, 複数のヒューズ回路ブロックを有する冗長メモリセル選Redundant memory cell selection having a plurality of fuse circuit blocks
択回路とを備え、And a selection circuit, 上記複数のヒューズ回路ブロックの各々は、上記メモリEach of the plurality of fuse circuit blocks is connected to the memory
セルグループのうち何れか1つのメモリセルグループがOne of the memory cell groups in the cell group is
属するメモリセルブロックのアドレスを示すメモリセルMemory cell indicating the address of the memory cell block to which it belongs
ブロック選択アドレスと、該メモリセルグループのメモBlock selection address and memo of the memory cell group
リセルブロック内アドレスを示すメモリセルグループ選Select memory cell group indicating address in recell block
択アドレスとをヒューズの断接によって記憶し、And the selected address are stored by connecting and disconnecting the fuse. 上記冗長メモリセル選択回路は、アクセスされる上記メThe redundant memory cell selection circuit is configured to access the memory to be accessed.
モリセルグループを示すアドレス信号によって、上記ヒThe address signal indicating the memory cell group causes
ューズ回路ブロックの何れか1つが記憶する上記メモリThe memory stored in any one of the fuse circuit blocks
セルブロック選択アドレス及び上記メモリセルグループCell block selection address and memory cell group
選択アドレスが選択されるとブロック内選択信号を生成Generates an in-block selection signal when the selected address is selected
し、かつ、And 上記アドレス信号における上記アクセスされるメモリセThe memory cell to be accessed in the address signal
ルグループが属するメモリセルブロックを示すセルブロCell block indicating the memory cell block to which the
ック指定アドレス信号と、上記ブロック内選択信号とにBlock designation address signal and the above-mentioned block selection signal.
基づいて、冗長メモリセルグループのいずれかが選択さOne of the redundant memory cell groups is selected based on
れるように構成されたことを特徴とするメモリ。A memory characterized by being configured to be operated.
【請求項2】請求項1のメモリであって、2. The memory of claim 1, wherein: 上記ヒューズ回路ブロックは、複数、かつ、上記冗長メThe fuse circuit block has a plurality of redundant memory blocks.
モリセルグループの総数よりも少ない数だけ設けられたLess than the total number of Morisel groups
ことを特徴とするメモリ。A memory characterized by the above.
【請求項3】請求項1または請求項2のメモリであっ3. The memory according to claim 1 or claim 2.
て、hand, 上記ヒューズ回路ブロックは、それぞれ、上記各メモリThe fuse circuit blocks are respectively connected to the respective memories.
セルブロック内におけIn cell block る何れか1つの上記冗長メモリセAny one of the redundant memory cells
ルグループの組と対応させて設けられたことを特徴とすThat is provided in correspondence with the group of
るメモリ。Memory.
【請求項4】請求項1または請求項2のメモリであっ4. The memory according to claim 1 or claim 2.
て、hand, 上記ヒューズ回路ブロックのうちの少なくとも何れか1At least one of the fuse circuit blocks
つは、上記各メモリセルブロック内における何れか1つOne is any one in each of the above memory cell blocks.
の上記冗長メモリセルグループを選択するためのヒューFor selecting the above redundant memory cell group
ズをさらに備えることを特徴とするメモリ。A memory further comprising a memory.
【請求項5】請求項1または請求項2のメモリであっ5. The memory according to claim 1 or claim 2.
て、hand, さらに、ヒューズの断接による設定に応じて、上記セルFurthermore, depending on the setting by connecting and disconnecting the fuse, the above cell
ブロック指定アドレス信号を変換するアドレス変換回路Address conversion circuit that converts block designation address signals
を備え、With 切り替えられる上記メモリセルグループが属するメモリThe memory to which the memory cell group to be switched belongs
セルブロックとは異なるメモリセルブロックに属する上Belongs to a memory cell block different from the cell block
記冗長メモリセルグループが選択され得るように構成さThe redundant memory cell group is configured to be selectable.
れていることを特徴とするメモリ。A memory characterized by being stored.
【請求項6】請求項5のメモリであって、6. The memory of claim 5, wherein: 上記アドレス変換回路は、ヒューズの断接によって、変The address conversion circuit is changed by disconnection of the fuse.
換の前後におけるアドレスの各ビットの値の変化の有無The value of each bit of the address before and after the change
を設定することにより、アドレス信号を変換するようにTo convert the address signal
構成されていることを特徴とするメモリ。A memory characterized by being configured.
【請求項7】請求項1または請求項2のメモリであっ7. The memory according to claim 1 or claim 2.
て、hand, さらに、上記メモリセルブロックと実質的に同一の構成Further, the configuration is substantially the same as that of the memory cell block.
を有する冗長メモリセルブロックと、A redundant memory cell block having 上記メモリセルブロックと上記冗長メモリセルブロックThe memory cell block and the redundant memory cell block
とを切り替えるメモリセルブロック選択回路を備えたこMemory cell block selection circuit
とを特徴とするメモリ。And a memory.
【請求項8】請求項7のメモリであって、8. The memory of claim 7, wherein: ヒューズの断接によって、上記メモリセルブロック選択Select the memory cell block by connecting / disconnecting the fuse
回路により切り替えられる上記メモリセルブロックにおThe above-mentioned memory cell block switched by the circuit
けるビット線およびワード線の電位を同電位にBit line and word line potentials 設定し得Set
るように構成されたことを特徴とするメモリ。The memory characterized by being comprised so that.
【請求項9】それぞれ所定の単位数のメモリセルを有す9. Each memory cell has a predetermined number of memory cells.
るメモリセルグループと、冗長メモリセルグループとをMemory cell groups and redundant memory cell groups
切り替え得るように構成されたメモリであって、A memory configured to be switchable, それぞれが複数のメモリセルグループ、および複数の冗Each has multiple memory cell groups and multiple redundancy
長メモリセルグループを備えた複数のメモリセルブロッMultiple memory cell blocks with long memory cell groups
クと、And ヒューズの断接による設定に応じて、上記複数の冗長メDepending on the setting by connecting and disconnecting fuses, the redundant
モリセルグループのうちの何れかを選択するように構成Configured to select one of the molycell groups
されたヒューズ回路ブロックとを備え、And a fuse circuit block, 上記ヒューズ回路ブロックが、The above fuse circuit block, 上記設定をキャンセルするためのヒューズと、A fuse to cancel the above settings, 上記キャンセルがなされたときに、所定のレベルの信号When the above cancellation is made, a signal of a predetermined level
を出力する論理回路をさらに備えることを特徴とするメCharacterized by further comprising a logic circuit for outputting
モリ。Mori.
【請求項10】それぞれが複数のメモリセルグループと10. A plurality of memory cell groups each comprising:
冗長メモリセルグループとを有する複数のメモリーセルPlurality of memory cells having redundant memory cell groups
ブロックと、Blocks and ヒューズ回路ブロックとを備え、And a fuse circuit block, 前記ヒューズ回路ブロックは、前記複数のメモリセルグThe fuse circuit block includes a plurality of memory cell groups.
ループのうち、一のメモリセルグループのメモリセルブMemory cell block of one memory cell group in the loop
ロック内アドレスを示すメモリセルグループ選択アドレMemory cell group selection address indicating address in lock
スと、前記一のメモリセルグループが属するメモリセルMemory cell to which the one memory cell group belongs.
ブロックのアドレスを示すメモリセルブロック選択アドMemory cell block select address indicating block address
レスとを記憶し、かつ前記ヒューズ回路ブロックの総数And the total number of the fuse circuit blocks.
は、前記冗長メモリーセルグループの総数よりも少ないIs less than the total number of the redundant memory cell groups.
ことを特徴とするメモリ。A memory characterized by the above.
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