JP3335320B2 - Magnetic recording media - Google Patents

Magnetic recording media

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JP3335320B2
JP3335320B2 JP09439199A JP9439199A JP3335320B2 JP 3335320 B2 JP3335320 B2 JP 3335320B2 JP 09439199 A JP09439199 A JP 09439199A JP 9439199 A JP9439199 A JP 9439199A JP 3335320 B2 JP3335320 B2 JP 3335320B2
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layer
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magnetic recording
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弘 冨安
強 渡邊
智 横田
禎一郎 梅澤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピューターの
外部記憶装置に搭載されるハードディスク等の磁気記録
媒体に関し、特に、基板と下地膜との間にシード層を設
けた高保磁力且つ低ノイズの磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium such as a hard disk mounted on an external storage device of a computer, and more particularly to a high coercive force and low noise magnetic recording medium having a seed layer provided between a substrate and a base film. It relates to a recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の磁気記録媒体としては、例えば
特開平9−259418号公報に記載されているような
磁気記録媒体が提案されている。この磁気記録媒体は、
基板上に少なくともAl1-xCox等からなるシード層、
Cr又はCr合金下地膜、Co合金磁性層をこの順に積
層してなるもので、高保磁力且つ低ノイズを達成するも
のである。この磁気記録媒体における高保磁力化は、シ
ード層が、下地膜であるCr又はCr合金の体心立方晶
(bcc)における(110)面の結晶配向性を高め、
その上にエピタキシャル成長するCo磁性層の磁化容易
軸(c軸)が面内と平行となる(100)面の結晶配向
性が向上して達成される。また、この磁気記録媒体はシ
ード層を設けたことにより下地膜の膜厚を薄くすること
ができるので、下地膜の薄膜化により、その上のCo磁
性粒子が微細化し、記録ビット間の磁化遷移領域(磁壁
幅)を小さくできるため、ノイズを低減することができ
るものである。
2. Description of the Related Art As a magnetic recording medium of this kind, for example, a magnetic recording medium described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-259418 has been proposed. This magnetic recording medium
A seed layer made of at least Al 1-x Co x on the substrate,
A Cr or Cr alloy base film and a Co alloy magnetic layer are laminated in this order to achieve high coercive force and low noise. The higher coercive force in this magnetic recording medium is achieved by increasing the crystal orientation of the (110) plane in the body-centered cubic (bcc) of Cr or Cr alloy as the underlayer,
The crystal orientation of the (100) plane in which the axis of easy magnetization (c-axis) of the Co magnetic layer epitaxially grown thereon is parallel to the in-plane direction is improved. Further, in this magnetic recording medium, the thickness of the underlayer can be reduced by providing the seed layer. Therefore, by making the underlayer thinner, the Co magnetic particles thereon become finer, and the magnetization transition between recording bits changes. Since the area (domain wall width) can be reduced, noise can be reduced.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高保磁
力を得るためにシード層の膜厚を大きくしていくと、そ
れに連れてシード層を形成する結晶粒径及び粒径分布が
大きくなるので、その上に形成される下地膜、磁性層の
結晶粒径及び粒径分布も結晶成長とともに大きくなりノ
イズ低減が図れないといった問題がある。また、ノイズ
の低減のために、磁性層の結晶粒径を非常に微細化する
と、磁化が熱的に不安定となり、記録された信号が時間
とともに減衰し、しまいには記録された信号が消滅して
しまう現象、即ち熱揺らぎと呼ばれる現象が起こるとい
う問題がある。ノイズと熱揺らぎはトレードオフの関係
にあり、磁性層の結晶粒径を微細化していくと、ノイズ
は低減するが、熱揺らぎによる信号減衰は大きくなり、
記録された信号が時間とともに減衰又は消滅し易くな
る。熱揺らぎが起こると、信号減衰(再生出力の低下)
の他に、媒体ノイズの増加や、PW50(孤立再生信号
の半値幅)の値が劣化する。後述するように、高密度記
録に望ましい媒体の微細構造としては、磁性層の結晶粒
子を微細化するとともに、粒子サイズの分散(粒径分
布)を小さくし、熱揺らぎの影響を受けやすい過度に微
細な粒子の生成を抑えることが重要になってきている。
However, as the thickness of the seed layer is increased in order to obtain a high coercive force, the crystal grain size and the grain size distribution forming the seed layer increase with the increase. There is a problem that the crystal grain size and the grain size distribution of the underlying film and the magnetic layer formed thereon also increase with the crystal growth and noise cannot be reduced. Also, if the crystal grain size of the magnetic layer is made very small to reduce noise, the magnetization becomes thermally unstable, and the recorded signal attenuates over time, eventually erasing the recorded signal. There is a problem that a phenomenon called thermal fluctuation occurs. Noise and thermal fluctuation are in a trade-off relationship. As the crystal grain size of the magnetic layer is reduced, noise is reduced, but signal attenuation due to thermal fluctuation increases.
The recorded signal tends to decay or disappear over time. When thermal fluctuations occur, signal attenuation (reduction of reproduction output)
In addition, the medium noise increases and the value of PW50 (half-value width of the isolated reproduction signal) deteriorates. As will be described later, the fine structure of the medium that is desirable for high-density recording is to make the crystal grains of the magnetic layer finer, reduce the particle size distribution (particle size distribution), and make the magnetic layer excessively susceptible to thermal fluctuations. It has become important to suppress the generation of fine particles.

【0004】本発明は上述した背景の下になされたもの
であり、高保磁力、低ノイズを達成するとともに、熱揺
らぎの影響を受けにくい磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
The present invention has been made under the above-mentioned background, and has as its object to provide a magnetic recording medium which achieves high coercive force and low noise and is hardly affected by thermal fluctuation.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、以下の構成を
有する。
The present invention has the following arrangement.

【0006】(構成1)基板上に、少なくとも下地層
と、磁性層と、がこの順序で形成されてなる磁気記録媒
体において、前記下地層は、少なくとも磁性層の結晶粒
を微細化させるシード層を有するものであって、該シー
ド層は、少なくとも2層以上からなる非磁性膜を有し、
これらの非磁性膜間に前記非磁性膜と異なる材料からな
る中間層を介在させてなることを特徴とする磁気記録媒
体。
(Structure 1) In a magnetic recording medium in which at least a base layer and a magnetic layer are formed in this order on a substrate, the base layer is a seed layer for miniaturizing at least crystal grains of the magnetic layer. Wherein the seed layer has a non-magnetic film composed of at least two layers,
A magnetic recording medium characterized in that an intermediate layer made of a material different from that of the nonmagnetic film is interposed between these nonmagnetic films.

【0007】(構成2)前記シード層と前記磁性層との
間に、磁性層の結晶配向を調節する下地膜が形成されて
いることを特徴とする構成1記載の磁気記録媒体。
(Structure 2) The magnetic recording medium according to Structure 1, wherein a base film for adjusting the crystal orientation of the magnetic layer is formed between the seed layer and the magnetic layer.

【0008】(構成3)前記各非磁性膜の膜厚が、10
0〜550Åであることを特徴とする構成1又は2記載
の磁気記録媒体。
(Structure 3) The thickness of each nonmagnetic film is 10
3. The magnetic recording medium according to Configuration 1 or 2, wherein the angle is 0 to 550 °.

【0009】(構成4)前記中間層の膜厚が、は5〜5
0Åであることを特徴とする構成1乃至3の何れか一に
記載の磁気記録媒体。
(Structure 4) The thickness of the intermediate layer is 5 to 5
The magnetic recording medium according to any one of Configurations 1 to 3, wherein the angle is 0 °.

【0010】(構成5)前記中間層は前記非磁性膜と同
じ結晶構造を有する非磁性材料からなることを特徴とす
る構成1乃至4の何れか一に記載の磁気記録媒体。
(Structure 5) The magnetic recording medium according to any one of structures 1 to 4, wherein the intermediate layer is made of a nonmagnetic material having the same crystal structure as the nonmagnetic film.

【0011】(構成6)前記中間層は前記非磁性膜の結
晶格子面間隔と合致しない材料からなることを特徴とす
る構成5に記載の磁気記録媒体。
(Structure 6) The magnetic recording medium according to Structure 5, wherein the intermediate layer is made of a material that does not match the crystal lattice spacing of the nonmagnetic film.

【0012】(構成7)前記非磁性膜は、NiAl,A
lCo,FeAl,FeTi,CoFe,CoTi,C
oHf,CoZr,NiTi,CuZn,AlMn,A
lRe,AgMg,CuSi,NiGa,CuBe,M
nV,NiZn,FeV,CrTi,CrNi,NiA
lRu,NiAlW,NiAlTa,MiAlHf,N
iAlMo,NiAlCr,NiAlZr,NiAlN
b,Al2FeMn2の群から選ばれる1つの合金を含む
材料からなり、前記中間層はCrを含む材料からなるこ
とを特徴とする構成6記載の磁気記録媒体。
(Structure 7) The non-magnetic film is made of NiAl, A
1Co, FeAl, FeTi, CoFe, CoTi, C
oHf, CoZr, NiTi, CuZn, AlMn, A
1Re, AgMg, CuSi, NiGa, CuBe, M
nV, NiZn, FeV, CrTi, CrNi, NiA
lRu, NiAlW, NiAlTa, MiAlHf, N
iAlMo, NiAlCr, NiAlZr, NiAlN
b. The magnetic recording medium according to Configuration 6, wherein the intermediate layer is made of a material containing one alloy selected from the group of Al 2 FeMn 2 , and the intermediate layer is made of a material containing Cr.

【0013】(構成8)前記中間層はCrと、Mo、
V、W、Taの群から選ばれる少なくとも1種と、から
なる材料であることを特徴とする構成7記載の磁気記録
媒体。
(Structure 8) The intermediate layer is composed of Cr, Mo,
The magnetic recording medium according to Configuration 7, wherein the magnetic recording medium is a material comprising at least one selected from the group consisting of V, W, and Ta.

【0014】(構成9)前記中間層は主としてCrとW
を含む合金であることを特徴とする構成8記載の磁気記
録媒体。
(Constitution 9) The intermediate layer is mainly composed of Cr and W
9. The magnetic recording medium according to configuration 8, wherein the magnetic recording medium is an alloy containing:

【0015】[0015]

【作用】上記構成1によれば、下地層は、少なくとも磁
性層の結晶粒を微細化させるシード層を有するものであ
って、該シード層は、少なくとも2層以上からなる非磁
性膜を有し、これらの非磁性膜間に前記非磁性膜と異な
る材料からなる中間層を介在させているので、非磁性膜
が結晶粒径の小さい初期成長膜となり、その上に形成さ
れる下地膜及び/又は磁性層の結晶粒径が小さくなるの
で、磁化遷移領域(磁壁幅)を小さく且つ均一にするこ
とができ、ノイズが低減する。また、保磁力について
は、シード層を構成する合金膜の膜厚の合計を、シード
層を合金膜の単層で構成した場合と同じ膜厚にすること
によって高保磁力が維持される。さらに、非磁性膜間に
中間層を介在させることによって、シード層上に形成さ
れる非磁性膜の粒径分布が小さくなり、下地膜及び磁性
層を形成する場合においては下地膜及び磁性層、また下
地膜を形しない場合においては磁性層、の粒径分布も小
さくなるので、熱揺らぎの影響を受けやすい過度に微細
な粒子の生成を抑えることができ、したがって、熱揺ら
ぎの影響を回避できる。詳しくは、図1に示すように、
特開平9−259418号公報に記載の従来の磁気記録
媒体(曲線B)では、熱揺らぎの影響を受けやすい過度
に微細な粒子(B1の部分)が含まれている。これに対
し、本発明の場合(曲線A)は、熱揺らぎの影響を受け
やすい過度に微細な粒子が減少している(B1→A1)の
で、熱揺らぎの影響を受けにくなっている。また、本発
明の場合(曲線A)は、粒径分布が狭くなり、平均粒径
が小さくなり(B3→A3)、粒径の大きな粒子がが減少
している(B2→A2)ので、S/N比、PW50(孤立
再生信号の半値幅)が良くなっている。
According to the above configuration 1, the underlayer has at least a seed layer for making crystal grains of the magnetic layer fine, and the seed layer has a nonmagnetic film composed of at least two layers. Since an intermediate layer made of a material different from that of the non-magnetic film is interposed between these non-magnetic films, the non-magnetic film becomes an initial growth film having a small crystal grain size, and a base film and / or Alternatively, since the crystal grain size of the magnetic layer becomes small, the magnetization transition region (domain wall width) can be made small and uniform, and noise is reduced. As for the coercive force, a high coercive force can be maintained by making the total thickness of the alloy films constituting the seed layer the same as that when the seed layer is formed of a single alloy film. Further, by interposing an intermediate layer between the non-magnetic films, the particle size distribution of the non-magnetic film formed on the seed layer is reduced, and when the under-film and the magnetic layer are formed, In the case where the underlayer is not formed, the particle size distribution of the magnetic layer is also reduced, so that the generation of excessively fine particles that are easily affected by thermal fluctuation can be suppressed, and therefore the influence of thermal fluctuation can be avoided. . Specifically, as shown in FIG.
The conventional magnetic recording medium (curve B) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-259418 contains excessively fine particles (portion B1) that are easily affected by thermal fluctuations. On the other hand, in the case of the present invention (curve A), excessively fine particles which are easily affected by the thermal fluctuation are reduced (B1 → A1), so that they are less affected by the thermal fluctuation. In the case of the present invention (curve A), the particle size distribution is narrow, the average particle size is small (B3 → A3), and the particles with large particle size are decreasing (B2 → A2). / N ratio and PW50 (half width of isolated reproduction signal) are improved.

【0016】なお、シード層を構成する非磁性膜は、2
層以上からなる。非磁性膜の数は、再生出力、重ね書き
特性等を考慮して2層以上の3層、4層、5層等とする
ことができる。但し、実用的な観点からは通常は最大3
層程度が好ましい。また、本発明のシード層は、2層以
上ある非磁性膜の間の少なくとも一つに中間層を介在さ
せる。この中間層は、非磁性膜の結晶成長を一時的に遮
断する機能を有する。非磁性膜が3層以上ある場合、各
非磁性膜の間に、それぞれ中間層を設けることが好まし
い。その場合、非磁性膜の層数をnとするとn−1層の
中間層を設けることになる。しかし、非磁性膜が3層以
上ある場合、場合によっては全ての非磁性膜の間に中間
層を設けず、非磁性膜の間の少なくとも一つに中間層を
設けることもできる。シード層の膜構成としては、後述
の実施例で示す非磁性膜−中間層―非磁性膜のほかに、
例えば、非磁性膜−中間層−非磁性膜−中間層−非磁性
膜や、非磁性膜−中間層−非磁性膜−非磁性膜−中間層
−非磁性膜という具合に非磁性膜の膜数を更に増やして
も良い。また、2以上の非磁性膜における、各非磁性膜
を構成する材料及び膜厚は同一でも異なっても良い。同
様に2以上の中間層における、各中間層を構成する材料
及び膜厚は同一でも異なっても良い。また、非磁性膜の
中間層は、中間層の下の非磁性膜の結晶成長を遮断し、
その中間層の上に形成される非磁性膜(下地層、磁性
層)が過度に微細な粒子の生成が抑えられ、平均結晶粒
径が小さく、また、粒径分布も小さく(狭く)する役割
がある。
The non-magnetic film constituting the seed layer is 2
Consists of more than layers. The number of non-magnetic films can be two or more, such as three, four, or five, in consideration of reproduction output, overwriting characteristics, and the like. However, from a practical point of view, usually up to 3
Layers are preferred. In the seed layer of the present invention, an intermediate layer is interposed in at least one of two or more nonmagnetic films. This intermediate layer has a function of temporarily blocking the crystal growth of the nonmagnetic film. When there are three or more nonmagnetic films, it is preferable to provide an intermediate layer between each nonmagnetic film. In this case, if the number of nonmagnetic films is n, n-1 intermediate layers are provided. However, when there are three or more nonmagnetic films, an intermediate layer may be provided between at least one of the nonmagnetic films without providing an intermediate layer between all the nonmagnetic films in some cases. As the film configuration of the seed layer, in addition to the non-magnetic film-intermediate layer-non-magnetic film shown in the examples described later,
For example, a non-magnetic film-intermediate layer-non-magnetic film-intermediate layer-non-magnetic film, or a non-magnetic film-intermediate layer-non-magnetic film-non-magnetic film-intermediate layer-non-magnetic film The number may be further increased. The material and the thickness of each non-magnetic film in the two or more non-magnetic films may be the same or different. Similarly, in the two or more intermediate layers, the material and the thickness of each intermediate layer may be the same or different. Further, the intermediate layer of the non-magnetic film blocks crystal growth of the non-magnetic film below the intermediate layer,
The role of the non-magnetic film (underlayer, magnetic layer) formed on the intermediate layer in which generation of excessively fine particles is suppressed, the average crystal grain size is small, and the grain size distribution is small (narrow). There is.

【0017】本発明では、上記構成2のように、磁性層
の結晶配向を調節する目的で、下地膜を、シード層と磁
性層との間に形成してもよい。ここで、下地膜は、高保
磁力が得られるような材料とすることが好ましい。下地
膜は、1層又は2層以上から構成することができる。下
地膜としては、例えば、CrMo合金、CrV合金、C
rW合金等を使用することができる。このようにCr合
金とすることで、磁性層がCo合金の場合、下地膜との
格子面間隔のマッチングが良好になるので、磁性層の磁
化容易軸が面内方向に向きやすくなる。その結果、保磁
力及び電磁変換特性が良好になる。また、下地膜がCr
の場合に比べて同じ保磁力であるならばCr合金の膜厚
を薄くすることができるので、Cr合金の膜厚の増加に
よる過度の粒子サイズの増加を抑えることができるの
で、S/N比が改善される。
In the present invention, as in the above configuration 2, an underlayer may be formed between the seed layer and the magnetic layer for the purpose of adjusting the crystal orientation of the magnetic layer. Here, it is preferable that the base film is made of a material that can obtain a high coercive force. The base film can be composed of one layer or two or more layers. As the base film, for example, CrMo alloy, CrV alloy, C
An rW alloy or the like can be used. By using a Cr alloy as described above, when the magnetic layer is a Co alloy, the lattice spacing between the magnetic layer and the underlying film is well matched, so that the easy axis of magnetization of the magnetic layer is easily oriented in the in-plane direction. As a result, coercive force and electromagnetic conversion characteristics are improved. In addition, the underlayer is made of Cr.
If the coercive force is the same as in the case of the above, the thickness of the Cr alloy can be reduced, so that an excessive increase in the particle size due to the increase in the thickness of the Cr alloy can be suppressed. Is improved.

【0018】本発明では、必要に応じて前記下地膜と磁
性層との間、好ましくは磁性層と接する位置に中間膜を
形成することもできる。この中間膜は、磁性層のC軸の
配向を良好にする目的で設けられる。この中間膜は非磁
性材料であって、その結晶系は、磁性層の結晶系に合わ
せることが望ましく、例えば、磁性層がCoPt系の場
合、六方最密充填結晶構造を持つHCP結晶構造である
ので、中間膜はHCP結晶構造をもつ、CoCr、Co
CrNb、CoCrPt、CoCrPtTa合金等が好
ましい。
In the present invention, if necessary, an intermediate film may be formed between the underlayer and the magnetic layer, preferably at a position in contact with the magnetic layer. This intermediate film is provided for the purpose of improving the C-axis orientation of the magnetic layer. This intermediate film is a non-magnetic material, and its crystal system is desirably adjusted to the crystal system of the magnetic layer. For example, when the magnetic layer is a CoPt system, it has an HCP crystal structure having a hexagonal close-packed crystal structure. Therefore, the intermediate film has an HCP crystal structure, CoCr, Co
CrNb, CoCrPt, CoCrPtTa alloy and the like are preferable.

【0019】本発明では、上記構成3のように、前記非
磁性膜の結晶粒径の微細化及び均一化と、保磁力の点か
ら、シード層を構成する各非磁性膜の膜厚は、150〜
550Å、合計膜厚で300〜1100Åにすることが
望ましい。各々の非磁性膜の膜厚が100Å未満の場
合、保磁力の低下が大きいので好ましくなく、550Å
を超える場合、非磁性膜の結晶粒径及び粒子径分布が大
きくなり、それに伴い下地膜及び/又は磁性層の結晶粒
径が大きくなるのでノイズが高くなるので好ましくな
い。なお、シード層を構成する非磁性膜の合計膜厚は、
得ようとする保磁力によって適宜調整することができ
る。
According to the present invention, as in the above configuration 3, in view of miniaturization and uniformity of the crystal grain size of the nonmagnetic film and coercive force, the thickness of each nonmagnetic film constituting the seed layer is: 150 ~
It is desirable that the thickness be 550 ° and the total film thickness is 300 to 1100 °. If the thickness of each non-magnetic film is less than 100 °, the coercive force is greatly reduced, which is not preferable.
When the ratio is more than the above, the crystal grain size and the grain size distribution of the non-magnetic film become large, and the crystal grain size of the underlayer and / or the magnetic layer becomes large with the increase. The total thickness of the non-magnetic film constituting the seed layer is:
It can be appropriately adjusted depending on the coercive force to be obtained.

【0020】本発明では、上記構成4のように、ノイズ
低減の点から、前記中間層の膜厚は、5〜50Åとする
ことが好ましい。即ち、中間層の膜厚が5Å未満の場
合、シード層を構成する非磁性膜の結晶成長を遮断する
役割が果たさなくなり、下層の非磁性膜の結晶成長をそ
のまま反映した形で、上層の非磁性膜が形成されるの
で、結晶粒径及び粒子径分布が大きくなり、ノイズが大
きくなるとともに、熱揺らぎによる影響が出やすくな
る。また、50Åを超える場合は、中間層の結晶粒径が
大きくなるので、上層の非磁性膜の結晶粒径及び粒子径
分布が大きくなり、ノイズが大きくなるので好ましくな
い。
In the present invention, the thickness of the intermediate layer is preferably 5 to 50 ° from the viewpoint of noise reduction as in the above configuration 4. That is, if the thickness of the intermediate layer is less than 5 °, the role of blocking the crystal growth of the non-magnetic film constituting the seed layer is not fulfilled, and the upper non-magnetic film reflects the crystal growth of the lower non-magnetic film as it is. Since the magnetic film is formed, the crystal grain size and the grain size distribution are increased, the noise is increased, and the influence of thermal fluctuation is likely to occur. On the other hand, if it exceeds 50 °, the crystal grain size of the intermediate layer becomes large, so that the crystal grain size and the particle size distribution of the upper non-magnetic film become large, and noise becomes large.

【0021】本発明では、上記構成5のように、前記中
間層は、非磁性膜と同じ結晶構造を有する非磁性材料か
らなることが、磁性層の結晶成長を良好にするためには
好ましい。
In the present invention, it is preferable that the intermediate layer is made of a non-magnetic material having the same crystal structure as that of the non-magnetic film in order to improve the crystal growth of the magnetic layer.

【0022】本発明では、上記構成6のように、前記中
間層は、非磁性膜の結晶格子面間隔と合致しない材料か
らなることが、上層の非磁性膜の結晶粒径を微細化する
ためには好ましい。具体的には、中間層と非磁性膜の結
晶格子面間隔の差は、0.001〜 0.011nm程
度が好ましい。
In the present invention, as in the above configuration 6, the intermediate layer may be made of a material that does not match the crystal lattice spacing of the non-magnetic film. Is preferred. Specifically, the difference between the crystal lattice plane spacings of the intermediate layer and the nonmagnetic film is preferably about 0.001 to 0.011 nm.

【0023】本発明では、上記構成7のように、前記非
磁性膜は、一般にシード層の役割(磁性層の結晶粒径を
均一にし、微細化させる)を果たすものであれば良く、
例えば、NiAl,AlCo,FeAl,FeTi,C
oFe,CoTi,CoHf,CoZr,NiTi,C
uZn,AlMn,AlRe,AgMg,CuSi,N
iGa,CuBe,MnV,NiZn,FeV,CrT
i,CrNi,NiAlRu,NiAlW,NiAlT
a,MiAlHf,NiAlMo,NiAlCr,Ni
AlZr,NiAlNb,Al2FeMn2の群から選ば
れる1つの合金などが好ましく、また、前記中間層とし
ては、Crを含む材料からなるものが良い。なかでも結
晶粒径が均一で且つ微細化になってノイズの低減効果が
高い、NiAl、CrTi、NiAlRuが好ましい。
In the present invention, as in the above configuration 7, the non-magnetic film only needs to generally fulfill the role of a seed layer (to make the crystal grain size of the magnetic layer uniform and finer).
For example, NiAl, AlCo, FeAl, FeTi, C
oFe, CoTi, CoHf, CoZr, NiTi, C
uZn, AlMn, AlRe, AgMg, CuSi, N
iGa, CuBe, MnV, NiZn, FeV, CrT
i, CrNi, NiAlRu, NiAlW, NiAlT
a, MiAlHf, NiAlMo, NiAlCr, Ni
One alloy selected from the group of AlZr, NiAlNb, and Al 2 FeMn 2 is preferable, and the intermediate layer is preferably made of a material containing Cr. Among them, NiAl, CrTi, and NiAlRu, which have a uniform crystal grain size and a high effect of reducing noise due to miniaturization, are preferable.

【0024】本発明では、構成8のように、前記中間層
はCrと、Mo、V、W、Taの群から選ばれる少なく
とも1種と、からなるCr合金であることが好ましい。
これは、上記のようなCr合金の場合、上下のシード層
のマッチングを損なうことなく、粒径の成長及び分布の
みを抑制することができるため、磁気特性のばらつきが
少ないので好ましい。このCr合金におけるMo、V、
W、Taから選ばれる少なくとも1種の含有量は、5〜
30at%が好ましい。
In the present invention, as in Configuration 8, the intermediate layer is preferably a Cr alloy composed of Cr and at least one selected from the group consisting of Mo, V, W and Ta.
This is preferable in the case of the above-described Cr alloy because only the growth and distribution of the grain size can be suppressed without impairing the matching between the upper and lower seed layers, and the magnetic characteristics are less varied. Mo, V,
The content of at least one selected from W and Ta is 5 to 5.
30 at% is preferable.

【0025】本発明では、構成9のように、前記中間層
は、主としてCrとWを含む合金であることが特に好ま
しい。これは、前記中間層としてCrW合金を用いる
と、磁気特性のばらつきが少なく生産性が安定している
からである。このCrW合金を用いる場合、Wの含有量
は、5〜30at%が好ましい。5at%未満の場合、
シード層の粒成長を抑制し、且つ粒径分布を均一化する
効果はなくなり、30at%を超える場合、上層のシー
ド層とのマッチングが悪くなり、PW特性、S/N比、
保磁力を悪化させるので好ましくない。なお、例えば、
Nbといったほかの元素を2at%程度以下含有させて
も構わない。
In the present invention, as in the ninth aspect, it is particularly preferable that the intermediate layer is an alloy mainly containing Cr and W. This is because when a CrW alloy is used as the intermediate layer, variations in magnetic characteristics are small and productivity is stable. When this CrW alloy is used, the content of W is preferably 5 to 30 at%. If less than 5at%,
The effect of suppressing the grain growth of the seed layer and making the grain size distribution uniform is lost. If it exceeds 30 at%, matching with the upper seed layer becomes poor, and PW characteristics, S / N ratio,
It is not preferable because the coercive force is deteriorated. In addition, for example,
Other elements such as Nb may be contained at about 2 at% or less.

【0026】なお、上述した本発明の磁気記録媒体にお
いて、基板の材質等には、特に制限はない。例えば、ガ
ラス基板、結晶化ガラス基板、アルミニウム合金基板、
セラミックス基板、カーボン基板、シリコン基板等を使
用することができる。
In the above-described magnetic recording medium of the present invention, the material of the substrate is not particularly limited. For example, a glass substrate, a crystallized glass substrate, an aluminum alloy substrate,
A ceramic substrate, a carbon substrate, a silicon substrate, or the like can be used.

【0027】本発明の磁気記録媒体において、磁性層は
特に制限されない。磁性層としては、例えば、Coを主
成分とするCoPt、CoCr、CoNi、CoNiC
r、CoCrTa,CoPtCr、CoNiPtやCo
NiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、
CoCrPtB、CoCrPtTaNbなどの磁性膜な
どが挙げられる。磁性層は、磁性膜を非磁性膜(例え
ば、Cr、CrMo、CrV、CrMnCなど)で分割
してノイズの低減を図った多層構成(例えば、CoCr
PtTa/CrMo/CoCrPtTaなど)としても
良い。磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)又は巨大(大
型)磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)対応の磁性層と
しては、Co系合金に、Y、Si、希土類元素、Hf、
Ge、Sn、Znから選択される不純物元素、またはこ
れらの不純物元素の酸化物を含有させたものなども含ま
れる。また磁性層としては、上記のほか、フェライト
系、鉄−希土類系や、SiO2やBNなどからなる非磁
性膜中にFe、Co、FeCo、CoNiPt等の磁性
粒子が分散された構造のグラニュラーなどであっても良
い。また、磁性層は、面内型、垂直型の何れの記録形式
であっても良い。
In the magnetic recording medium of the present invention, the magnetic layer is not particularly limited. As the magnetic layer, for example, CoPt, CoCr, CoNi, CoNiC containing Co as a main component is used.
r, CoCrTa, CoPtCr, CoNiPt or Co
NiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa,
A magnetic film of CoCrPtB, CoCrPtTaNb, or the like may be used. The magnetic layer has a multilayer structure (for example, CoCr) in which the magnetic film is divided by a non-magnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV, CrMnC, etc.) to reduce noise.
PtTa / CrMo / CoCrPtTa). As a magnetic layer corresponding to a magnetoresistive head (MR head) or a giant (large) magnetoresistive head (GMR head), Co, Y, Si, rare earth elements, Hf,
An impurity element selected from Ge, Sn, and Zn, or an element containing an oxide of these impurity elements is also included. Examples of the magnetic layer include, in addition to the above, a ferrite type, an iron-rare earth type, and a granular having a structure in which magnetic particles such as Fe, Co, FeCo, and CoNiPt are dispersed in a nonmagnetic film made of SiO 2 or BN. It may be. The magnetic layer may have any of an in-plane type and a vertical type.

【0028】磁性層上には、必要に応じて、保護層、潤
滑層を形成することができる。保護層は、磁性層を磁気
ヘッドの接触摺動による破壊から防護する目的で形成す
る。保護層は、1層又は2層以上から構成することがで
きる。保護層としては、例えば、クロム膜、酸化ケイ素
膜、カーボン膜、水素化カーボン膜、窒化カーボン膜、
水素窒素化カーボン膜、ジルコニア膜、窒化珪素膜、炭
化珪素膜等を挙げることができる。なお、保護層は、ス
パッタリング法等などの公知の成膜方法で形成すること
ができる。潤滑層は、磁気ヘッドとの接触摺動による抵
抗を低減する目的で設けられ、例えば、液体潤滑剤であ
るパーフルオロポリエーテル等が一般的に用いられる。
On the magnetic layer, a protective layer and a lubricating layer can be formed as required. The protective layer is formed for the purpose of protecting the magnetic layer from destruction due to sliding contact of the magnetic head. The protective layer can be composed of one layer or two or more layers. As the protective layer, for example, a chromium film, a silicon oxide film, a carbon film, a hydrogenated carbon film, a carbon nitride film,
Examples thereof include a hydrogen nitrided carbon film, a zirconia film, a silicon nitride film, and a silicon carbide film. Note that the protective layer can be formed by a known film formation method such as a sputtering method. The lubricating layer is provided for the purpose of reducing the resistance due to sliding contact with the magnetic head. For example, a liquid lubricant such as perfluoropolyether is generally used.

【0029】[0029]

【実施例】以下、本発明の磁気記録媒体について実施例
によりさらに説明する。実施例1 本実施例の磁気記録媒体は、図2に示す通り、ガラス基
板1上にシード層2、下地膜3、中間層4、磁性層5、
保護層6、潤滑層7を順次積層してなる磁気ディスクで
ある。前記ガラス基板1は、化学強化されたアルミノシ
リケートガラスからなり、その表面粗さはRmax=
3.2nm、Ra=0.3nmでに鏡面研磨されてい
る。前記シード層2は、2層の合金膜21と合金膜23
と、これらの合金膜の間にあって合金膜21の結晶成長
を遮断する中間層22とからなり、それぞれ、合金膜2
1は、NiAl薄膜(膜厚300Å)、中間層22は、
CrW薄膜(膜厚30Å)、合金膜23は、NiAl薄
膜(膜厚300Å)である。なお、合金膜21及び23
を構成するNiAl薄膜は、Ni:50at%、Al:
50at%の組成比で構成され、中間層22を構成する
CrW薄膜は、Cr:90at%、W:10at%の組
成比で構成されている。前記下地層膜は、CrMo薄膜
(膜厚:100Å)で、磁性層の結晶構造を良好にする
ために設けられている。このCrMo薄膜は、Cr:9
0at%、Mo:10at%の組成比で構成されてい
る。また、前記中間層4は、CoCr薄膜(膜厚:30
Å)で、磁性層のC軸の配向を良好にするために設けら
れている。なお、このCoCr薄膜は、Co:65at
%、Cr:35at%でHCP結晶構造の非磁性膜であ
る。前記磁性層5は、CoCrPtTa合金薄膜(膜
厚:240Å)で、これらCo,Cr,Pt,Taの含
有量は、Co:72.5at%、Cr:16at%、P
t:8at%、Ta:3.5at%である。前記保護層
6は、磁性層が磁気ヘッドとの接触によって劣化するこ
とを防止するためのものであり、膜厚100Åの水素化
カーボン膜からなる。潤滑層7は、パーフルオロポリエ
ーテルの液体潤滑剤からなり、この膜によって磁気ヘッ
ドとの接触を緩和している。なお、膜厚は8Åである。
EXAMPLES The magnetic recording medium of the present invention will be further described below with reference to examples. Embodiment 1 As shown in FIG. 2, the magnetic recording medium of this embodiment has a seed layer 2, a base film 3, an intermediate layer 4, a magnetic layer 5,
This is a magnetic disk in which a protective layer 6 and a lubricating layer 7 are sequentially laminated. The glass substrate 1 is made of chemically strengthened aluminosilicate glass, and has a surface roughness Rmax =
Mirror-polished to 3.2 nm, Ra = 0.3 nm. The seed layer 2 includes two alloy films 21 and 23
And an intermediate layer 22 interposed between these alloy films to block the crystal growth of the alloy film 21.
1 is a NiAl thin film (thickness 300 °), and the intermediate layer 22 is
The CrW thin film (thickness 30 °) and the alloy film 23 are NiAl thin films (thickness 300 °). The alloy films 21 and 23
Is composed of Ni: 50 at%, Al:
The CrW thin film having a composition ratio of 50 at% and constituting the intermediate layer 22 has a composition ratio of Cr: 90 at% and W: 10 at%. The underlayer film is a CrMo thin film (thickness: 100 °) and is provided to improve the crystal structure of the magnetic layer. This CrMo thin film has a Cr: 9
The composition ratio is 0 at% and Mo is 10 at%. The intermediate layer 4 is made of a CoCr thin film (thickness: 30).
Å) In order to improve the C-axis orientation of the magnetic layer. This CoCr thin film is made of Co: 65 at.
%, Cr: 35 at% is a nonmagnetic film having an HCP crystal structure. The magnetic layer 5 is a CoCrPtTa alloy thin film (film thickness: 240 °). The contents of Co, Cr, Pt, and Ta are as follows: Co: 72.5 at%, Cr: 16 at%, P:
t: 8 at% and Ta: 3.5 at%. The protective layer 6 is for preventing the magnetic layer from being deteriorated due to contact with the magnetic head, and is made of a hydrogenated carbon film having a thickness of 100 °. The lubricating layer 7 is made of a liquid lubricant of perfluoropolyether, and this film alleviates the contact with the magnetic head. The thickness is 8 °.

【0030】次に、上述の構成からなる磁気ディスクの
製造方法について説明する。まず、イオン交換によって
化学強化したガラス基板1の主表面を精密研磨によって
鏡面(Rmax=3.2nm、Ra=0.3nm)にす
る。次に、このガラス基板1の主表面上にインライン方
式のスパッタリングによって、シード層2、下地膜3、
中間層4、磁性層5、保護層6を順次成膜した。次い
で、保護層6上にパーフルオロポリエーテルからなる液
体潤滑剤をディップ処理することによって潤滑層7を形
成し磁気ディスクを得た。
Next, a method of manufacturing the magnetic disk having the above-described configuration will be described. First, the main surface of the glass substrate 1 chemically strengthened by ion exchange is mirror-finished (Rmax = 3.2 nm, Ra = 0.3 nm) by precision polishing. Next, on the main surface of the glass substrate 1, a seed layer 2, a base film 3,
An intermediate layer 4, a magnetic layer 5, and a protective layer 6 were sequentially formed. Next, a lubricating layer 7 was formed on the protective layer 6 by dipping a liquid lubricant composed of perfluoropolyether to obtain a magnetic disk.

【0031】この得られた磁気ディスクの保磁力、S/
N比、PW50(孤立再生信号の半値幅)を測定した結
果、保磁力は2800 Oeと良好で、且つ、S/N比
は29.43dB、PW50も18.78nsecと良
好であった。また、出力信号減衰は100Kfci、6
0℃で−0.05dB/decade、熱揺らぎ特性を示すK
u・v/kTも110で良好であった。ここで、熱揺ら
ぎ耐性の点では保持力の値は大きい程良い。S/N比の
値は大きい程ノイズが小さいので好ましく、例えば、
0.5dB程度違うと記録密度で約0.6Gb/inc
2の差があるといわれている。PW50(孤立再生信
号の半値幅)値は小さい程好ましく、0.6nsec程
度違うと記録密度で約0.8Gb/inch2の差があ
るといわれている。出力信号減衰は小さい程好ましい。
Ku・v/kTの値は、大きい程熱揺らぎ耐性が向上す
るので好ましい。具体的にはKu・v/kTの値は90
以上が良い。
The coercive force of the obtained magnetic disk, S /
As a result of measuring the N ratio and the PW50 (half width of the isolated reproduction signal), the coercive force was good at 2800 Oe, the S / N ratio was 29.43 dB, and the PW50 was also good at 18.78 nsec. The output signal attenuation is 100Kfci, 6
-0.05dB / decade at 0 ° C, K showing thermal fluctuation characteristics
u · v / kT was also good at 110. Here, in terms of thermal fluctuation resistance, the larger the value of the holding force, the better. The larger the value of the S / N ratio is, the smaller the noise is.
If the difference is about 0.5 dB, the recording density is about 0.6 Gb / inc.
the difference between the h 2 it is said that there is. It is said that the smaller the PW50 (half value width of the isolated reproduction signal) value is, the smaller it is. If the difference is about 0.6 nsec, it is said that there is a difference of about 0.8 Gb / inch 2 in the recording density. The smaller the output signal attenuation, the better.
The larger the value of Ku · v / kT, the better the resistance to thermal fluctuations is, so it is preferable. Specifically, the value of Ku · v / kT is 90
Above is good.

【0032】なお、上記保磁力、S/N比、PW50、
出力信号減衰特性、熱揺らぎ特性(Ku・v/kT)は
以下の測定方法により測定した。
The coercive force, S / N ratio, PW50,
Output signal attenuation characteristics and thermal fluctuation characteristics (Ku · v / kT) were measured by the following measurement methods.

【0033】保磁力の測定は、製造した磁気ディスクか
ら8mmφの試料を切り出して、膜面方向に磁場を印加
し、振動試料型磁力計により最大外部印加磁場10kO
eで測定した。
The coercive force was measured by cutting a sample of 8 mmφ from the manufactured magnetic disk, applying a magnetic field in the direction of the film surface, and applying a maximum externally applied magnetic field of 10 kO by a vibrating sample magnetometer.
e.

【0034】S/N比は、記録再生出力の測定を次のよ
うにして行い、求めた。磁気ヘッド浮上量が0.025
μmの磁気抵抗型ヘッド(以後、MRヘッドと称す)を
用いて、MRヘッドと磁気ディスクの相対速度を10m
/secとして線記録密度346kfcl(1インチあ
たり346000ビットの線記録密度)における記録再
生出力を測定した。また、キャリア周波数67.6MH
zで、測定帯域を76.3MHzとしてスペクトラムア
ナライザにより、信号記録再生時のノイズスペクトラム
を測定した。本測定に用いたMRヘッドは、書き込み/
読み取り側にそれぞれトラック幅1.2/0.9μm、
磁気ヘッドギャップ長は0.27/0.15μmであ
る。
The S / N ratio was determined by measuring the recording / reproducing output as follows. Magnetic head flying height is 0.025
The relative speed between the MR head and the magnetic disk is set to 10 m using a μm magnetoresistive head (hereinafter referred to as MR head).
The recording / reproducing output at a linear recording density of 346 kfcl (a linear recording density of 346,000 bits per inch) was measured as / sec. Also, the carrier frequency is 67.6 MH.
At z, the measurement bandwidth was 76.3 MHz, and the noise spectrum during signal recording and reproduction was measured by a spectrum analyzer. The MR head used for this measurement was written /
The track width is 1.2 / 0.9 μm on the reading side,
The magnetic head gap length is 0.27 / 0.15 μm.

【0035】PW50(孤立再生信号の半値幅)の測定
は次のようにして行った。PW50測定用のMRヘッド
を搭載した電磁変換特性測定機(GUZIK)で孤立再
生信号を抽出し、グランド(0)に対する出力信号のピ
ーク値の50%における孤立波形の幅をPW50とし
た。なお、このPW50は高記録密度のためには、小さ
ければ小さいほど良い。これは、パルス幅が狭いと同一
面積上により多くのパルス(信号)を書き込めることに
なるからである。一方、PW50が大きいと、隣り合う
パルス(信号)同士が干渉しあい、信号を読み出すとき
にエラーとなって現れる。この波形干渉がエラーレート
を悪くする。これらから、PW50は19.2nsec
以下にする必要がある。
The measurement of PW50 (half width of isolated reproduction signal) was performed as follows. An isolated reproduction signal was extracted by an electromagnetic conversion characteristic measuring instrument (GUZIK) equipped with an MR head for measuring PW50, and the width of the isolated waveform at 50% of the peak value of the output signal with respect to the ground (0) was defined as PW50. The smaller the PW50 is, the better the recording density is. This is because if the pulse width is small, more pulses (signals) can be written on the same area. On the other hand, if the PW50 is large, adjacent pulses (signals) interfere with each other and appear as an error when reading out the signal. This waveform interference degrades the error rate. From these, PW50 is 19.2 nsec.
It must be:

【0036】出力信号減衰特性の測定は次のようにして
行った。サーマルオフトラック(ヘッドサスペンション
の熱膨張によって磁気記録媒体上のトラックに対し、磁
気ヘッドがずれることにより、信号減衰が発生する現
象)の影響を受けず磁気記録媒体の熱揺らぎによる信号
減衰量のみを正確に評価するため、ライトトラック幅が
リードトラック幅に対して2倍以上のリ一ドライト素子
を有することを特徴としているMRヘッドを用意し、得
られた磁気記録媒体たる磁気ディスクと共にシステム内
のヘッド/ディスク機構部にセットする。次にそのヘッ
ド/ディスク機構部を高温環境下にさらすために温度制
御可能な環境槽に投入する。環境槽内が設定した温度に
安定したら、リードライト回路部よりライト信号をMR
ヘッドのライト素子に送り、磁気ディスクに信号を書き
込む。そして、信号を書き込んだ直後から、磁気ディス
クに書き込まれた信号をMRヘッドのリード素子から読
み出し、リードライト回路部にて増幅した後、信号評価
部にて測定する。信号評価部では一定時間間隔でリード
信号の振幅値を記録していく。信号評価部では、例え
ば、スペクトラムアナライザを用いて測定を行う。本測
定の条件は、環境槽の温度が60℃、磁気ディスクへ書
き込んだ信号の記録密度は、100KFlux/inc
hである。また、本測定に用いたヘッドは、ライトトラ
ック幅が12.0μm、リードトラック幅が2.4μ
m、ライトギャップ長が0.35μm、リードギャップ
長が0.30μm、リ一ドライト素子部分の浮上量が2
0nmのMRヘッドである。
The measurement of the output signal attenuation characteristic was performed as follows. Only the signal attenuation due to the thermal fluctuation of the magnetic recording medium is not affected by the thermal off-track (a phenomenon in which the magnetic head is shifted with respect to the track on the magnetic recording medium due to the thermal expansion of the head suspension, causing signal attenuation). For accurate evaluation, an MR head characterized in that it has a read / write element whose write track width is twice or more as large as the read track width is prepared. Set it in the head / disk mechanism. Next, the head / disk mechanism is placed in a temperature-controllable environmental bath in order to expose it to a high-temperature environment. When the temperature in the environmental chamber stabilizes to the set temperature, the read signal is sent from the read / write circuit to the MR.
The signal is sent to the write element of the head and a signal is written to the magnetic disk. Immediately after writing the signal, the signal written on the magnetic disk is read from the read element of the MR head, amplified by the read / write circuit section, and measured by the signal evaluation section. The signal evaluation unit records the amplitude value of the read signal at regular time intervals. The signal evaluation unit performs measurement using, for example, a spectrum analyzer. The conditions for this measurement were as follows: the temperature of the environmental bath was 60 ° C., and the recording density of the signal written on the magnetic disk was 100 KFlux / inc
h. The head used in this measurement had a write track width of 12.0 μm and a read track width of 2.4 μm.
m, the write gap length is 0.35 μm, the read gap length is 0.30 μm, and the flying height of the read / write element portion is 2
0 nm MR head.

【0037】また 熱揺らぎ特性の測定は次のようにし
て行った。活性化体積(v)と磁化反転最小単位の飽和
磁化(Isb)の積である活性化磁気モーメント(vIsb)
はWaiting Time法により求めたHf(熱揺らぎ場)によ
り計算した。Waiting Time法は次の様に測定する。残留
磁化曲線測定において磁場の保持時間(Waiting Time)
を順次変えてHr(t)を測定する。φ8mmに切出し
た試料をVSM(試料信号型磁力計)へセットし、十分
に大さな正磁界を試料に印加する。次に微少な負磁界H
1を印加し磁界を取去る。残留する磁化M1を測定する。
次に、正磁界を再度印加しH1より大きな磁界H2を印加
し、磁界を取去った後の残留磁化M2を測定する。同様
の操作をMiが残留磁化Mrとなるまで測定を繰返す。
得られた(Hi、Mi)をプロットし、残留磁化曲線を得
る。M=0における磁界H値をHr(レマネンス保磁
力)と定義する。次に十分に大きな正磁界を試料に印加
し、負磁界H1をWaiting Time15秒間印加したあと磁
界を取去り、残留磁化M1(15)を測定する。さらに正磁
界を試料に印加し、負磁界H2を15秒印加したあと磁
界を取去り、残留磁化M2(15)を測定する。この操作を
Mi(15)残留磁化Mrに等しくなるまで測定を繰返す。
得られた(Hi、Mi)(15)をプロットし、Waiting Time
15秒の残留磁化曲線を得る。M=0におけるH値をH
r(15)と定義する。同様の操作を保持時間(Waiting Ti
me)15秒、30秒、60秒、120秒、240秒、4
80秒(=8分)で繰り返し、各保持時間における磁場
Hr(15)、Hr(30)、Hr(60)、Hr(120)、Hr(24
0)、Hr(480)を得る。このHr(t)を時間の対数(ln
t)に対してプロットすると、Hr(t)は直線的に減少
し、この傾きdHr(t)/d(lnt)により熱揺らぎ
場Hfを求める。こうして得られたHfから次式によ
り、vIsbを計算する。 vIsb =kT/Hf ここで、kはボルツマン定数(1.38×10-16er
g/K)、Tは測定中の絶対温度(K)である。活性化
体積vは磁性層の磁化反転の最小単位の体積とされ、こ
れに飽和磁化(Isb)をかけたvIsbは磁化反転の最小単
位の磁気モーメント量である。また、v・Ku/kTの
計算には、vとKuを測定する必要かあるが、Ku=
(Hk・Isb)/2の関係があり、さらにHc0==Hk
/2と仮定して以下の式で計算する。 v・Ku=V・Hk・Isb/2=vIsb・Hk/2=vIs
b・Hc0 ここでHc0は熱揺らぎによるHc(保磁力)低下が起
る前のHc(保磁力)であり、10-9secの測定時間
で得られるHc(保磁力)である。またHkは磁化反転
の最小単位が持つ異方性磁界、vbIsbは活性化磁気モ
ーメントである。熱揺らぎによるHc(保磁力)低下が
起る前のHc(保磁力)であるHc0は実質的に測定が
できないので、シャーロックの式を使用してHcとvIs
bからHc0を計算する。シャーロックの式は、マイクロマク゛ネ
ティクスシミュレーションの結果得られたHcの測定時間依存の近似
式で以下の様に表される。 Hc/Hc0=1−{(kT/v・Ku)ln(f0・
t)^0.735} また上述のHc0=Hk/2の仮定を入れると、次式に
変形される. Hc/Hc0=1−{(kT/vIsb・Hc0)ln(f0
・t)^0.735} ここでkはボルツマン定数(1.38×10-16erg
/K)、Tは測定絶対温度、f0は振動因子(10^9
Hz)、tは測定時間(600sec)、vIsbは活性
化磁気モーメント(emu)である。上式では、Hc0
以外が既知となるため、Hc0を数値解析計算すること
により、Hc0を求めることが可能になる。なお、以下
で示す実施例及び比較例における保磁力、S/N比、P
W50、出力信号減衰特性、熱揺らぎ特性は上述の測定
方法に基づき測定した。
The measurement of the thermal fluctuation characteristics was performed as follows. Activation magnetic moment (vIsb), which is the product of the activation volume (v) and the saturation magnetization (Isb) of the minimum unit of magnetization reversal
Was calculated by Hf (thermal fluctuation field) obtained by the Waiting Time method. The Waiting Time method measures as follows. Waiting time of magnetic field in remanent magnetization curve measurement
Are sequentially changed, and Hr (t) is measured. A sample cut to φ8 mm is set on a VSM (sample signal magnetometer), and a sufficiently large positive magnetic field is applied to the sample. Next, the slight negative magnetic field H
Apply 1 to remove the magnetic field. The remaining magnetization M1 is measured.
Next, a positive magnetic field is applied again, a magnetic field H2 larger than H1 is applied, and the residual magnetization M2 after removing the magnetic field is measured. The same operation is repeated until Mi becomes the remanent magnetization Mr.
The obtained (Hi, Mi) is plotted to obtain a remanent magnetization curve. The magnetic field H value at M = 0 is defined as Hr (remanence coercive force). Next, a sufficiently large positive magnetic field is applied to the sample, a negative magnetic field H1 is applied for a waiting time of 15 seconds, the magnetic field is removed, and the residual magnetization M1 (15) is measured. Further, after applying a positive magnetic field to the sample and applying a negative magnetic field H2 for 15 seconds, the magnetic field is removed and the residual magnetization M2 (15) is measured. This operation is repeated until it becomes equal to Mi (15) residual magnetization Mr.
The obtained (Hi, Mi) (15) is plotted, and the Waiting Time
Obtain a remanence curve of 15 seconds. The H value at M = 0 is H
It is defined as r (15). Hold the same operation for the holding time (Waiting Ti
me) 15 seconds, 30 seconds, 60 seconds, 120 seconds, 240 seconds, 4
Repetition was performed for 80 seconds (= 8 minutes), and the magnetic fields Hr (15), Hr (30), Hr (60), Hr (120), Hr (24
0), Hr (480) is obtained. This Hr (t) is expressed as the logarithm of time (ln
When plotted with respect to t), Hr (t) decreases linearly, and the thermal fluctuation field Hf is obtained from the slope dHr (t) / d (lnt). From the Hf thus obtained, vIsb is calculated by the following equation. vIsb = kT / Hf where k is Boltzmann's constant (1.38 × 10 −16 er)
g / K) and T is the absolute temperature (K) during the measurement. The activation volume v is a volume of the minimum unit of the magnetization reversal of the magnetic layer, and vIsb obtained by multiplying this by the saturation magnetization (Isb) is the magnetic moment amount of the minimum unit of the magnetization reversal. In addition, for the calculation of v · Ku / kT, it is necessary to measure v and Ku.
(Hk · Isb) / 2, and Hc0 == Hk
/ 2 and is calculated by the following equation. v · Ku = V · Hk · Isb / 2 = vIsb · Hk / 2 = vIs
b · Hc0 Here, Hc0 is Hc (coercive force) before Hc (coercive force) decreases due to thermal fluctuation, and is Hc (coercive force) obtained in a measurement time of 10 −9 sec. Hk is an anisotropic magnetic field of the minimum unit of magnetization reversal, and vbIsb is an activation magnetic moment. Since Hc0, which is the Hc (coercive force) before Hc (coercive force) decrease due to thermal fluctuation, cannot be substantially measured, Hc and vIs are calculated using the Sherlock equation.
Hc0 is calculated from b. The Sherlock equation is an approximate equation that depends on the measurement time of Hc obtained as a result of the micro-magnetics simulation and is expressed as follows. Hc / Hc0 = 1 − {(kT / v · Ku) ln (f0 ·
t) {0.735} When the above-mentioned assumption of Hc0 = Hk / 2 is put, the following equation is obtained. Hc / Hc0 = 1 − {(kT / vIsb · Hc0) ln (f0
T) {0.735} where k is Boltzmann's constant (1.38 × 10 −16 erg)
/ K), T is the measured absolute temperature, f0 is the vibration factor (10 ^ 9)
Hz), t is the measurement time (600 sec), and vIsb is the activation magnetic moment (emu). In the above equation, Hc0
Since Hc0 is known, Hc0 can be obtained by numerical analysis of Hc0. Incidentally, the coercive force, S / N ratio, P
W50, output signal attenuation characteristics, and thermal fluctuation characteristics were measured based on the above-described measurement methods.

【0038】比較例1 実施例1のシード層2を、膜厚600Åの単層のNiA
l薄膜(Ni:50at%、Al:50at%)とした
こと以外は実施例1と同様にして磁気ディスクを作製し
た。この磁気ディスクの保磁力、S/N比、PW50、
出力信号減衰特性、Ku・v/kTを測定したところ、
保磁力は2800 Oe、S/N比は29.63dB、
PW50は19.4nsecとなり、PW50の値につ
いて良好な結果が得られなかった。ここで、一般に保磁
力を上げるためには、ある程度の厚さの下地層が必要に
なる。しかし、下地層の膜厚が厚くなることにより、磁
性層の結晶粒径が大きくなり、PW50、S/N比が悪
くなる。実施例1のシード層2を用いると、PW50、
S/N比を維持したままで、所望の保磁力を得ることが
可能である。また、比較例1の磁気ディスクは、エラー
レートも実施例1と比較して高い値を示した。さらに、
出力信号減衰は100Kfci、60℃の測定条件下で
−0.07dB/decade、熱揺らぎ特性を示すKu・v
/kTも100で実施例1に比べ熱揺らぎ耐性が劣化し
た。
[0038] NiA the seed layer 2 of Comparative Example 1 Example 1, a single layer having a thickness of 600Å
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thin film (Ni: 50 at%, Al: 50 at%) was used. The coercive force, S / N ratio, PW50,
When the output signal attenuation characteristics and Ku · v / kT were measured,
The coercive force is 2800 Oe, the S / N ratio is 29.63 dB,
PW50 was 19.4 nsec, and good results could not be obtained for the value of PW50. Here, in order to generally increase the coercive force, an underlayer having a certain thickness is required. However, as the thickness of the underlayer increases, the crystal grain size of the magnetic layer increases, and the PW50 and the S / N ratio deteriorate. When the seed layer 2 of the first embodiment is used, PW50,
A desired coercive force can be obtained while maintaining the S / N ratio. Further, the magnetic disk of Comparative Example 1 also exhibited a higher error rate than that of Example 1. further,
The output signal attenuation is -0.07 dB / decade under the measurement conditions of 100 Kfci and 60 ° C., and Ku · v showing the thermal fluctuation characteristic.
The value of / kT was also 100, and the thermal fluctuation resistance was lower than that of Example 1.

【0039】実施例2及び比較例2 実施例1及び比較例1における磁性層5の膜厚を、18
0Å以下としたこと以外は実施例1及び比較例1と同様
にして磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクの保
磁力、S/N比、PW50、出力信号減衰特性、Ku・
v/kTを測定したところ、以下のようになった。
Example 2 and Comparative Example 2 The thickness of the magnetic layer 5 in Example 1 and Comparative Example 1 was 18
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 and Comparative Example 1 except that the temperature was set to 0 ° or less. The coercive force, S / N ratio, PW50, output signal attenuation characteristics, Ku ·
When v / kT was measured, it was as follows.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】表1に示すように、磁性層の膜厚が薄くな
るに従い熱揺らぎの影響が顕著になり、実施例1の分割
シード層2を用いた場合(実施例2)と、比較例1の単
層シード層を用いた場合(比較例2)とでは、出力信号
減衰(-dB/decade)の差が大きくなる。図3に示すよう
に、磁性層の膜厚t(Mrは残留磁化)が厚い場合(M
rt=0.5〜0.6付近)(実施例1及び比較例1の
場合)はシード層の違いによる出力信号減衰(-dB/deca
de)の差は少ないが、磁性層の膜厚が薄くなるに従い
(Mrt=0.4〜0.3付近)、分割シード層を用い
た場合(曲線A)と、単層シード層を用いた場合(曲線
B)とでは、出力信号減衰(-dB/decade)の差が大きく
なって、熱揺らぎの影響が顕著になる。また、一般に磁
性粒子の微細化はKu・v/kTの値を小さくすること
になるが、本発明では磁性粒子の粒径分布が狭く熱揺ら
ぎの影響を受けやすい過度に微細な粒子の数が少ないの
で、磁性粒子を微細化してもKu・v/kTの値は小さ
くならず、熱揺らぎ耐性が良好である。
As shown in Table 1, as the thickness of the magnetic layer becomes thinner, the influence of the thermal fluctuation becomes remarkable. The case where the divided seed layer 2 of the first embodiment is used (Example 2) and the case of the comparative example 1 are different. The difference in the output signal attenuation (-dB / decade) is larger in the case where the single-layer seed layer is used (Comparative Example 2). As shown in FIG. 3, when the thickness t (Mr is residual magnetization) of the magnetic layer is large (M
(rt = around 0.5 to 0.6) (in the case of Example 1 and Comparative Example 1) is the output signal attenuation (-dB / deca) due to the difference in the seed layer.
Although the difference in de) is small, as the thickness of the magnetic layer becomes thinner (Mrt = approximately 0.4 to 0.3), when the divided seed layer is used (curve A) and when the single-layer seed layer is used. In the case (curve B), the difference in output signal attenuation (-dB / decade) becomes large, and the effect of thermal fluctuation becomes remarkable. In general, miniaturization of magnetic particles decreases the value of Ku · v / kT. In the present invention, however, the number of excessively fine particles that are narrow in particle size distribution of magnetic particles and easily affected by thermal fluctuations is reduced. Since it is small, the value of Ku · v / kT does not decrease even if the magnetic particles are miniaturized, and the thermal fluctuation resistance is good.

【0042】実施例3 実施例1の磁性層5を、第1磁性層51、分割層52、
第2磁性層53にし、保護層6を第1保護層61、第2
保護層62にしたこと以外は実施例1と同様にして磁気
ディスクを作製した。なお、第1磁性層51及び第2磁
性層53は、それぞれ同じ膜材料であるCoCrPtT
a合金からなり、膜厚もともに120Åである。これら
の磁性層のCo,Cr,Pt,Taの各含有量は、第1
磁性層は、Co:72.5at%、Cr:16at%、
Pt:8at%、Ta:3.5at%で、第2磁性層
は、Co:71at%、Cr:18at%、Pt:8a
t%、Ta:3at%である。また、上述の第1磁性層
51、第2磁性層53の間に介在する分割層52は、非
磁性材料からなるCrMnC薄膜(膜厚:30Å)で、
その組成比は、Cr:97.95at%、Mn:2.0
0at%、C:0.05at%である。また、第1保護
層61は、膜厚50ÅのCr膜からなり、磁性層に対し
て酸化による磁気特性の劣化を防止する化学的保護膜の
約割を果たすものである。第2保護層は、膜厚100Å
の水素化カーボン膜である。
Example 3 The magnetic layer 5 of Example 1 was replaced by a first magnetic layer 51, a divided layer 52,
The second magnetic layer 53 is formed, and the protective layer 6 is formed of the first protective layer 61 and the second protective layer 61.
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the protective layer 62 was used. The first magnetic layer 51 and the second magnetic layer 53 are made of the same film material, CoCrPtT.
It is made of alloy a and has a thickness of 120 °. The contents of Co, Cr, Pt, and Ta in these magnetic layers are the first.
The magnetic layer is composed of Co: 72.5 at%, Cr: 16 at%,
Pt: 8 at%, Ta: 3.5 at%, the second magnetic layer is composed of 71 at% of Co, 18 at% of Cr, and 8 a of Pt.
t%, Ta: 3 at%. The split layer 52 interposed between the first magnetic layer 51 and the second magnetic layer 53 is a CrMnC thin film (thickness: 30 °) made of a non-magnetic material.
The composition ratio is as follows: Cr: 97.95 at%, Mn: 2.0
0 at% and C: 0.05 at%. The first protective layer 61 is made of a Cr film having a thickness of 50 ° and plays a role of a chemical protective film for preventing the magnetic layer from deteriorating magnetic characteristics due to oxidation. The second protective layer has a thickness of 100 °
Is a hydrogenated carbon film.

【0043】この磁気ディスクの保磁力、S/N比、P
W50、出力信号減衰特性、Ku・v/kTを測定した
ところ、保磁力は2580 Oe、S/N比は30.7
dB、PW50は19.1nsecとなり良好な結果が
得られた。また、出力信号減衰は100Kfci、60
℃で−0.08dB/decade、熱揺らぎ特性を示すKu
・v/kTも90で良好であった。なお、実施例3では
磁性層を分割し磁性粒子の粒径が小さくなる分、実施例
1の磁気記録媒体と比較して熱揺らぎの影響を受けやす
くなる。
The coercive force, S / N ratio, P
When W50, output signal attenuation characteristics and Ku · v / kT were measured, the coercive force was 2580 Oe and the S / N ratio was 30.7.
The dB and PW50 were 19.1 nsec, and good results were obtained. The output signal attenuation is 100Kfci, 60
-0.08dB / decade at ℃, Ku showing thermal fluctuation characteristics
・ V / kT was also good at 90. In the third embodiment, since the magnetic layer is divided and the particle diameter of the magnetic particles is reduced, the magnetic layer is more susceptible to the thermal fluctuation than the magnetic recording medium of the first embodiment.

【0044】比較例3 実施例3のシード層を、膜厚600Åの単層のNiAl
薄膜(Ni:50at%、Al:50at%)にしたこ
と以外は実施例3と同様にして磁気ディスクを作製し
た。この磁気ディスクの保磁力、S/N比、PW50、
出力信号減衰特性、Ku・v/kTを測定したところ、
保磁力は2580 Oe、S/N比は30.6dB、P
W50は19.6nsec、出力信号減衰は−0.10
dB/decade、Ku・v/kTは80であった。
Comparative Example 3 The seed layer of Example 3 was replaced with a single layer of NiAl having a thickness of 600 °.
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 3 except that the thin film (Ni: 50 at%, Al: 50 at%) was used. The coercive force, S / N ratio, PW50,
When the output signal attenuation characteristics and Ku · v / kT were measured,
Coercivity is 2580 Oe, S / N ratio is 30.6dB, P
W50 is 19.6 nsec, output signal attenuation is -0.10
The dB / decade and Ku · v / kT were 80.

【0045】実施例4〜7、比較例4〜5 実施例1のシード層2を構成する合金膜21、23の膜
厚をそれぞれ90Å(比較例4)、100Å(実施例
4)、250Å(実施例5)、450Å(実施例6)、
550Å(実施例7)、600Å(比較例5)にしたこ
と以外は、実施例1と同様にして磁気ディスクを作製し
た。これらの磁気ディスクの保磁力、S/N比、PW5
0、出力信号減衰特性、Ku・v/kTは以下のように
なった。
Examples 4 to 7 and Comparative Examples 4 and 5 The alloy films 21 and 23 constituting the seed layer 2 of Example 1 have a thickness of 90 ° (Comparative Example 4), 100 ° (Example 4) and 250 ° (comparative example). Example 5), 450 ° (Example 6),
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the temperature was changed to 550 ° (Example 7) and 600 ° (Comparative Example 5). The coercive force, S / N ratio, PW5 of these magnetic disks
0, the output signal attenuation characteristics, and Ku · v / kT were as follows.

【0046】[0046]

【表2】 [Table 2]

【0047】表2に示すように、シード層2を構成する
合金膜21、23の膜厚は、100〜550Åの範囲と
することが、保磁力、S/N比(ノイズ)、PW50の
磁気特性の点、及び出力信号減衰特性、熱揺らぎ特性
(Ku・v/kT)の点から好ましいことがわかる。
As shown in Table 2, the thickness of the alloy films 21 and 23 constituting the seed layer 2 should be in the range of 100 to 550 °, depending on the coercive force, the S / N ratio (noise), and the magnetic property of the PW50. It can be seen that this is preferable in terms of characteristics, output signal attenuation characteristics, and thermal fluctuation characteristics (Kuv / kT).

【0048】実施例8〜10、比較例6〜7 実施例1における中間層22をCrMo(Mo:10a
t%)とし、この中間層22の膜厚を、それぞれ4Å
(比較例6)、5Å(実施例8)、15Å(実施例
9)、50Å(実施例10)、60Å(比較例7)にし
たこと以外は、実施例1と同様にして磁気ディスクを作
製した。これらの磁気ディスクの保磁力、S/N比、P
W50、出力信号減衰特性、Ku・v/kTは以下のよ
うになった。
Examples 8 to 10 and Comparative Examples 6 and 7 The intermediate layer 22 in Example 1 was made of CrMo (Mo: 10a).
t%), and the thickness of the intermediate layer 22 is 4Å
(Comparative Example 6) A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the angles were changed to 5 ° (Example 8), 15 ° (Example 9), 50 ° (Example 10), and 60 ° (Comparative Example 7). did. The coercive force, S / N ratio, P
W50, output signal attenuation characteristics, and Ku · v / kT were as follows.

【0049】[0049]

【表3】 [Table 3]

【0050】表3に示すように、中間層22の膜厚は、
5〜50Åの範囲とすることが、保磁力、S/N比、P
W50の点、及び出力信号減衰特性、熱揺らぎ特性(K
u・v/kT)の点から好ましいことがわかる。
As shown in Table 3, the thickness of the intermediate layer 22 is
The coercive force, S / N ratio, P
W50, output signal attenuation characteristics, and thermal fluctuation characteristics (K
u · v / kT).

【0051】なお、実施例1における中間層22(Cr
W(W:10at%))の場合についても同様に実験を
行ったが、5〜50Åの範囲で、保磁力、S/N比、P
W50が、良好な値となった。CrMo合金の場合と異
なる点は、膜厚が5〜50Åの範囲では、保磁力:28
20 Oe、ノイズ:29.3dB、PW50:18.
6nsecの各値が一定であったことである。これは、
CrW合金が、CrMo合金等の他のCr合金と比べ、
シード層との膜厚変化に対する結晶成長性が変化しにく
い材料だからと考えられる。つまり、各磁気特性のばら
つきが少なく生産性が安定している。
The intermediate layer 22 (Cr
W (W: 10 at%)), an experiment was conducted in the same manner, but the coercive force, S / N ratio, P
W50 was a good value. The difference from the CrMo alloy is that when the film thickness is in the range of 5 to 50 °, the coercive force: 28
20 Oe, noise: 29.3 dB, PW50: 18.
That is, each value of 6 nsec was constant. this is,
CrW alloy, compared to other Cr alloys such as CrMo alloy,
It is considered that the material is unlikely to change its crystal growth property with respect to a change in the film thickness with the seed layer. That is, the variation in each magnetic characteristic is small and the productivity is stable.

【0052】実施例11〜16 実施例のシード層2を構成する合金膜21、23の膜材
料を、NiAlRu(Ni:45at%、Al:50a
t%、Ru:5at%)(実施例11)、CrTi(C
r:80at%、Ti:20at%)(実施例12)、
CrNi(Cr:60at%、Ni:40at%)(実
施例13)、FeAl(Fe:50at%、Al:50
at%)(実施例14)、NiAlW(Ni:50at
%、Al:45at%、W:5at%)(実施例1
5)、NiAlNb(Ni:50at%、Al:45a
t%、Nd:5at%)(実施例16)にした以外は実
施例1と同様にして磁気ディスクを作製した。これらの
磁気ディスクの保磁力、S/N比、PW50、出力信号
減衰特性、Ku・v/kTは以下のようになった。
Embodiments 11 to 16 The film material of the alloy films 21 and 23 constituting the seed layer 2 of the embodiment is NiAlRu (Ni: 45 at%, Al: 50a).
t%, Ru: 5 at%) (Example 11), CrTi (C
r: 80 at%, Ti: 20 at%) (Example 12),
CrNi (Cr: 60 at%, Ni: 40 at%) (Example 13), FeAl (Fe: 50 at%, Al: 50)
at%) (Example 14), NiAlW (Ni: 50 at)
%, Al: 45 at%, W: 5 at%) (Example 1)
5), NiAlNb (Ni: 50 at%, Al: 45a)
t%, Nd: 5 at%) (Example 16) A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the magnetic disk was changed to N%. The coercive force, S / N ratio, PW50, output signal attenuation characteristics, and Ku · v / kT of these magnetic disks were as follows.

【0053】[0053]

【表4】 [Table 4]

【0054】表4に示すように、合金膜21、23の膜
材料が、NiAlRu、CrTi、CrNiである場
合、保磁力、ノイズ、PW50の磁気特性の点、及び出
力信号減衰特性、熱揺らぎ特性(Ku・v/kT)の点
から表4に示す材料のうちで特に好ましいことがわか
る。
As shown in Table 4, when the film materials of the alloy films 21 and 23 are NiAlRu, CrTi and CrNi, the coercive force, the noise, the magnetic characteristics of the PW50, the output signal attenuation characteristics, and the thermal fluctuation characteristics From the point of (Ku.v / kT), it is understood that it is particularly preferable among the materials shown in Table 4.

【0055】実施例17〜19 実施例1におけるの中間層22の膜材料を、CrMo
(Cr:90at%、Mo:10at%)(実施例1
7)、CrV(Cr:80at%、V:20at%)
(実施例18)、CrTa(Cr:95at%、Ta:
5at%)(実施例19)としたこと以外は実施例1と
同様にして磁気ディスクをそれぞれ100枚づつ作製し
た。これらの磁気ディスクの保磁力、S/N比、PW5
0、出力信号減衰特性、Ku・v/kTは以下のように
なった。
Examples 17 to 19 The film material of the intermediate layer 22 in Example 1 was changed to CrMo.
(Cr: 90 at%, Mo: 10 at%) (Example 1)
7), CrV (Cr: 80 at%, V: 20 at%)
(Example 18), CrTa (Cr: 95 at%, Ta:
5 at%) (Example 19), except that 100 magnetic disks were manufactured in the same manner as in Example 1. The coercive force, S / N ratio, PW5 of these magnetic disks
0, the output signal attenuation characteristics, and Ku · v / kT were as follows.

【0056】[0056]

【表5】 [Table 5]

【0057】表5に示すように、中間層22の膜材料が
CrWの場合、各磁気特性のばらつきが少なく生産性が
安定しており、好ましいことがわかる。これは、CrW
がCrMoなどのCr合金膜に比べシード層との格子の
マッチングがよく、このためCrWの膜厚変化による特
性の変化が少ないからである。
As shown in Table 5, when the film material of the intermediate layer 22 is CrW, it is preferable because the magnetic characteristics have little variation and the productivity is stable. This is CrW
This is because the lattice matching with the seed layer is better than that of a Cr alloy film such as CrMo, and therefore, the change in characteristics due to the change in the thickness of CrW is small.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、高
保磁力、低ノイズを達成するとともに、熱揺らぎの影響
を受けにくい磁気記録媒体が得られる。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a magnetic recording medium which achieves high coercive force and low noise and is hardly affected by thermal fluctuation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のシード層の作用を説明するための図で
ある。
FIG. 1 is a diagram for explaining the function of a seed layer of the present invention.

【図2】本発明の一実例に係る磁気ディスクを模式的に
示す図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a magnetic disk according to one embodiment of the present invention.

【図3】磁性層の膜厚と熱揺らぎの影響との関係を説明
するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the relationship between the thickness of a magnetic layer and the effect of thermal fluctuation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板1 2 シード層 3 下地膜 4 中間層 5 磁性層 6 保護層 7 潤滑層 21 非磁性膜 22 中間層 23 非磁性膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 1 2 Seed layer 3 Underlayer 4 Intermediate layer 5 Magnetic layer 6 Protective layer 7 Lubrication layer 21 Non-magnetic film 22 Intermediate layer 23 Non-magnetic film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横田 智 シンガポール共和国 638552 リンク2 ツアス#3 ホーヤ マグネティクス シンガポール プライベート リミテ ッド内 (72)発明者 梅澤 禎一郎 東京都新宿区中落合2丁目7番5号 ホ ーヤ株式会社内 審査官 蔵野 雅昭 (56)参考文献 特開 平9−259418(JP,A) 特開 平9−16941(JP,A) 特開 平10−134334(JP,A) 特開 平8−22616(JP,A) 特開 平1−199314(JP,A) 特開 平8−249640(JP,A) 特開 平11−73621(JP,A) 特開 平10−214412(JP,A) 特開 平9−212843(JP,A) 国際公開98/6093(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/73 G11B 5/66 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Satoshi Yokota Republic of Singapore 638552 Link 2 Tour # 3 Hoya Magnetics Singapore Private Limited (72) Inventor Seiichiro Umezawa 2-7-5 Nakaochiai, Shinjuku-ku, Tokyo No. Masaaki Kurano, Inspector in Hoya Co., Ltd. (56) References JP-A-9-259418 (JP, A) JP-A-9-16941 (JP, A) JP-A-10-134334 (JP, A) JP-A-8-22616 (JP, A) JP-A-1-199314 (JP, A) JP-A-8-249640 (JP, A) JP-A-11-73621 (JP, A) JP-A-10-214412 ( JP, A) JP-A-9-212843 (JP, A) WO 98/6093 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 5/73 G11B 5/66

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に、少なくとも下地層と、磁性層
と、がこの順序で形成されてなる磁気記録媒体におい
て、 前記下地層は、少なくとも磁性層の結晶粒を微細化させ
るシード層を有するものであって、該シード層は、少な
くとも2層以上からなる非磁性膜を有し、これらの非磁
性膜間に前記非磁性膜と異なる材料からなる中間層を介
在させてなることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium in which at least a base layer and a magnetic layer are formed in this order on a substrate, wherein the base layer has at least a seed layer for making crystal grains of the magnetic layer fine. Wherein the seed layer has a non-magnetic film composed of at least two or more layers, and an intermediate layer made of a material different from the non-magnetic film is interposed between these non-magnetic films. Magnetic recording medium.
【請求項2】 前記シード層と前記磁性層との間に、磁
性層の結晶配向を調節する下地膜が形成されていること
を特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein a base film for adjusting the crystal orientation of the magnetic layer is formed between the seed layer and the magnetic layer.
【請求項3】 前記各非磁性膜の膜厚が、100〜55
0Åであることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気
記録媒体。
3. The method according to claim 1, wherein each of the nonmagnetic films has a thickness of 100 to 55.
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the angle is 0 °.
【請求項4】 前記中間層の膜厚が、5〜50Åである
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一に記載の磁
気記録媒体。
4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said intermediate layer has a thickness of 5 to 50 °.
【請求項5】 前記中間層は前記非磁性膜と同じ結晶構
造を有する非磁性材料からなることを特徴とする請求項
1乃至4の何れか一に記載の磁気記録媒体。
5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the intermediate layer is made of a non-magnetic material having the same crystal structure as the non-magnetic film.
【請求項6】 前記中間層は前記非磁性膜の結晶格子面
間隔と合致しない材料からなることを特徴とする請求項
5に記載の磁気記録媒体。
6. The magnetic recording medium according to claim 5, wherein the intermediate layer is made of a material that does not match a crystal lattice spacing of the nonmagnetic film.
【請求項7】 前記非磁性膜は、NiAl,AlCo,
FeAl,FeTi,CoFe,CoTi,CoHf,
CoZr,NiTi,CuZn,AlMn,AlRe,
AgMg,CuSi,NiGa,CuBe,MnV,N
iZn,FeV,CrTi,CrNi,NiAlRu,
NiAlW,NiAlTa,MiAlHf,NiAlM
o,NiAlCr,NiAlZr,NiAlNb,Al
2FeMn2の群から選ばれる1つの合金を含む材料から
なり、前記中間層はCrを含む材料からなることを特徴
とする請求項6記載の磁気記録媒体。
7. The non-magnetic film according to claim 1, wherein the non-magnetic film is made of NiAl, AlCo,
FeAl, FeTi, CoFe, CoTi, CoHf,
CoZr, NiTi, CuZn, AlMn, AlRe,
AgMg, CuSi, NiGa, CuBe, MnV, N
iZn, FeV, CrTi, CrNi, NiAlRu,
NiAlW, NiAlTa, MiAlHf, NiAlM
o, NiAlCr, NiAlZr, NiAlNb, Al
Made of a material containing one alloy selected from the group consisting of 2 FeMn 2, wherein the intermediate layer is a magnetic recording medium according to claim 6, characterized in that a material containing Cr.
【請求項8】 前記中間層はCrと、Mo、V、W、T
aの群から選ばれる少なくとも1種と、からなる材料で
あることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体。
8. The intermediate layer comprises Cr, Mo, V, W, T
8. The magnetic recording medium according to claim 7, wherein the material comprises at least one member selected from the group consisting of: a.
【請求項9】 前記中間層は主としてCrとWを含む合
金であることを特徴とする請求項8記載の磁気記録媒
体。
9. The magnetic recording medium according to claim 8, wherein the intermediate layer is mainly composed of an alloy containing Cr and W.
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