JP3334146B2 - Optical head device - Google Patents

Optical head device

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JP3334146B2
JP3334146B2 JP29971191A JP29971191A JP3334146B2 JP 3334146 B2 JP3334146 B2 JP 3334146B2 JP 29971191 A JP29971191 A JP 29971191A JP 29971191 A JP29971191 A JP 29971191A JP 3334146 B2 JP3334146 B2 JP 3334146B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体に対して光
ビームを照射しながら信号を読み取るような光学ヘッド
装置に関し、特に、高密度情報の再生が行える光学ヘッ
ド装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical head device for reading a signal while irradiating an optical recording medium with a light beam, and more particularly to an optical head device capable of reproducing high-density information.

【0002】[0002]

【産業上の利用分野】光記録媒体は、いわゆるコンパク
トディスク等のような再生専用媒体と、光磁気ディスク
等のような信号の記録が可能な媒体とに大別できるが、
これらいずれの光記録媒体においても、記録密度をさら
に高めることが望まれている。これは、記録される信号
としてディジタル・ビデオ信号を考慮する場合にディジ
タル・オーディオ信号の数倍から十数倍ものデータ量を
必要とすることや、ディジタル・オーディオ信号を記録
する場合でもディスク等の媒体の寸法をより小さくして
プレーヤ等の製品をさらに小型化したい等の要求がある
からである。また、一般のデータディスクとしても、よ
り大きな記録容量が望まれている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Optical recording media can be broadly classified into read-only media such as so-called compact discs and media capable of recording signals such as magneto-optical discs.
In any of these optical recording media, it is desired to further increase the recording density. This is because when a digital video signal is considered as a signal to be recorded, the data amount is several times to ten and several times that of a digital audio signal. This is because there is a demand to further reduce the size of the medium to further reduce the size of products such as players. Also, a larger recording capacity is desired for general data disks.

【0003】ところで、光記録媒体への情報の記録密度
は、再生信号のS/Nによって決められている。従来の
一般的な光学的な記録再生においては、図18に示すよ
うに、光記録媒体に対するレーザ光等の読み出し光ビー
ムの光照射領域であるビームスポットSPの領域の全て
を再生信号領域としている。このため、再生可能な記録
密度は、読み出し光のビーム・スポットの径DSPにより
定まる。
[0003] The recording density of information on an optical recording medium is determined by the S / N of a reproduced signal. In conventional general optical recording / reproducing, as shown in FIG. 18, the entire area of a beam spot SP which is a light irradiation area of a reading light beam such as a laser beam on an optical recording medium is set as a reproduction signal area. . Therefore, reproducible recording density is determined by the diameter D SP of the beam spot of the reading light.

【0004】例えば、図18のAに示すように、読み出
しレーザ光のビーム・スポットSPの径DSPが記録ピッ
トRPのピッチqよりも小さければ、スポットSP内に
2個の記録ピットが入ることはなく、再生出力波形は図
18のBに示すようになり、再生信号は読み取り可能で
ある。ところが、図18のCに示すように、高密度で記
録ピットSPが形成されており、ビーム・スポットSP
内の径DSPが記録ピットRPのピッチqよりも大きくな
ると、スポットSP内に2個以上のピットが同時に入り
込むようになり、再生出力波形は図18のDに示すよう
に略々一定となり、その2個の記録ピットを分離して再
生することができず再生不能となる。
For example, as shown in FIG. 18A, if the diameter D SP of the beam spot SP of the read laser beam is smaller than the pitch q of the recording pit RP, two recording pits are included in the spot SP. However, the reproduced output waveform is as shown in FIG. 18B, and the reproduced signal is readable. However, as shown in FIG. 18C, recording pits SP are formed at a high density, and beam spots SP are formed.
When the inner diameter D SP becomes larger than the pitch q of the recording pit RP, two or more pits enter the spot SP at the same time, and the reproduction output waveform becomes substantially constant as shown in FIG. The two recording pits cannot be reproduced separately and cannot be reproduced.

【0005】スポット径DSPは、レーザ光の波長λと、
対物レンズの開口数NAに依存しており、このスポット
径DSPによって、読み出し光ビームの走査方向(記録ト
ラック方向)に沿ったピットの密度(いわゆる線密度)
や、読み出し光ビームの走査方向に直交する方向の隣接
トラック間隔(いわゆるトラックピッチ)に応じたトラ
ック密度が定められる。すなわち、これらの線密度やト
ラック密度の物理光学的限界は、いずれも読み出し光の
光源の波長λ及び対物レンズの開口数NAによって決ま
り、例えば信号再生時の空間周波数については、一般に
2NA/λが読み取り限界とされている。このことか
ら、光記録媒体において高密度化を実現するためには、
先ず再生光学系の光源(例えば半導体レーザ)の波長λ
を短くし、対物レンズの開口数NAを大きくすることが
必要とされている。
[0005] The spot diameter DSP is determined by the wavelength λ of the laser beam and
The pit density (so-called linear density) along the scanning direction (recording track direction) of the read light beam is determined by the spot diameter D SP depending on the numerical aperture NA of the objective lens.
Also, the track density is determined according to the adjacent track interval (so-called track pitch) in the direction orthogonal to the scanning direction of the read light beam. That is, the physical and optical limits of the linear density and the track density are determined by the wavelength λ of the light source of the reading light and the numerical aperture NA of the objective lens. For example, the spatial frequency at the time of signal reproduction is generally 2NA / λ. The reading limit is set. From this, in order to realize high density in the optical recording medium,
First, the wavelength λ of the light source (for example, a semiconductor laser) of the reproducing optical system
And the numerical aperture NA of the objective lens needs to be increased.

【0006】ところで、本件出願人は、読み取り光ビー
ムのスポット径を変更しなくても、読み取り可能な線記
録密度及びトラック密度を高くできるようにした光記録
媒体及びその再生方法を先に提案している。このような
高密度情報の再生が可能な光記録媒体としては、信号の
記録が可能な光磁気記録媒体と、少なくとも再生が可能
な反射率変化型光記録媒体とが挙げられる。
The applicant of the present application has previously proposed an optical recording medium capable of increasing the readable linear recording density and the track density without changing the spot diameter of the reading light beam, and a reproducing method thereof. ing. Optical recording media capable of reproducing such high-density information include magneto-optical recording media capable of recording signals and optical recording media of variable reflectivity capable of at least reproducing.

【0007】上記光磁気記録媒体は、例えばポリカーボ
ネート等から成る透明基板あるいは光透過性基体の一主
面に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し優れた磁気光
学効果を有する磁性層(例えば希土類−遷移金属合金薄
膜)を、誘電体層や表面保護層等と共に積層して構成さ
れたものであり、上記透明基板側からレーザ光等を照射
して信号の記録、再生が行われる。この光磁気記録媒体
に対する信号記録は、レーザ光照射等によって上記磁性
層を局部的に例えばキュリー点近傍の温度にまで加熱
し、この部分の保磁力を消滅させて外部から印加される
記録磁界の向きに磁化することにより行う、いわゆる熱
磁気記録である。また光磁気記録媒体からの信号再生
は、上記磁性層の磁化の向きによりレーザ光等の直線偏
光の偏光面が回転する磁気光学効果(いわゆる磁気カー
効果、ファラディ効果)を利用して行われる。
The magneto-optical recording medium has a magnetic layer having an easy axis of magnetization perpendicular to the film surface and having an excellent magneto-optical effect on one main surface of a transparent substrate made of, for example, polycarbonate or the like. For example, a rare earth-transition metal alloy thin film is laminated with a dielectric layer, a surface protection layer, and the like, and a signal is recorded and reproduced by irradiating a laser beam or the like from the transparent substrate side. In signal recording on the magneto-optical recording medium, the magnetic layer is locally heated to a temperature near the Curie point, for example, by irradiating a laser beam or the like, and the coercive force in this portion is eliminated to reduce the recording magnetic field applied from the outside. This is a so-called thermomagnetic recording performed by magnetizing in the direction. Reproduction of a signal from the magneto-optical recording medium is performed by using a magneto-optical effect (a so-called magnetic Kerr effect or Faraday effect) in which a plane of polarization of linearly polarized light such as laser light is rotated depending on the direction of magnetization of the magnetic layer.

【0008】上記反射率変化型光記録媒体は、位相ピッ
トが形成された透明基板上に、温度によって反射率が変
化する材料が形成されて成り、信号再生時には、該記録
媒体に読み出し光を照射し、読み出し光の走査スポット
内で反射率を部分的に変化させながら位相ピットを読み
取るものである。
The above-mentioned optical recording medium of variable reflectivity comprises a transparent substrate on which phase pits are formed and a material whose reflectivity changes with temperature is formed. When reproducing a signal, the recording medium is irradiated with read light. Then, the phase pits are read while the reflectance is partially changed within the scanning spot of the reading light.

【0009】以下、上記記録可能な光磁気記録媒体にお
ける高密度再生、あるいはいわゆる超高解像度再生につ
いて、さらに説明する。本件出願人は、先に例えば特開
平1−143041号公報、特開平1−143042号
公報等において、情報ビット(磁区)を再生時に拡大、
縮小あるいは消滅させることにより再生分解能を向上さ
せるような光磁気記録媒体の信号再生方法を提案してい
る。この技術は、記録磁性層を再生層、中間層、記録層
から成る交換結合多層膜とし、再生時において再生光ビ
ームで加熱された再生層の磁区を温度の高い部分で拡
大、縮小あるいは消去することにより、再生時の情報ビ
ット間の干渉を減少させ、光の回折限界以下の周期の信
号を再生可能とするものである。また、特願平1−22
9395号の明細書及び図面においては、光磁気記録媒
体の記録層を磁気的に結合される再生層と記録保持層と
を含む多層膜で構成し、予め再生層の磁化の向きを揃え
て消去状態としておくとともに、再生時にはレーザ光の
照射によって再生層を所定の温度以上に昇温し、この昇
温された状態でのみ記録保持層に書き込まれた磁気信号
を再生層に転写しながら読み取るようにすることによ
り、クロストークを解消して線記録密度、トラック密度
の向上を図る技術を提案している。これらの高密度再生
技術をまとめると、消去型と浮き出し型とに大別でき、
それぞれの概要を図19及び図20に示す。
Hereinafter, high-density reproduction or so-called ultra-high-resolution reproduction on the recordable magneto-optical recording medium will be further described. The present applicant previously disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-143041 and 1-143042, for example, that information bits (magnetic domains) were enlarged during reproduction.
A signal reproducing method for a magneto-optical recording medium has been proposed in which the reproducing resolution is improved by reducing or eliminating the signal. In this technique, the recording magnetic layer is an exchange-coupled multilayer film including a reproducing layer, an intermediate layer, and a recording layer, and a magnetic domain of the reproducing layer heated by a reproducing light beam is enlarged, reduced, or erased at a high temperature portion during reproduction. Thus, interference between information bits at the time of reproduction is reduced, and a signal having a period equal to or less than the diffraction limit of light can be reproduced. Also, Japanese Patent Application No. 1-22
In the specification and drawings of No. 9395, the recording layer of the magneto-optical recording medium is constituted by a multilayer film including a reproducing layer and a recording holding layer which are magnetically coupled, and the magnetization direction of the reproducing layer is previously aligned to erase. At the time of reproduction, the reproducing layer is heated to a predetermined temperature or higher by laser beam irradiation during reproduction, and only when the temperature is raised, the magnetic signal written in the recording holding layer is read while being transferred to the reproducing layer. Thus, a technique for eliminating crosstalk and improving linear recording density and track density has been proposed. These high-density reproduction technologies can be broadly classified into erasure type and emboss type.
The outline of each is shown in FIGS.

【0010】先ず図19のA、B、Cを参照しながら消
去型の高密度再生技術について説明する。この消去型の
場合には、図19のBに示すように、常温にて情報記録
ピットRPが表れている状態の記録媒体にレーザ光LB
を照射して加熱することで、照射レーザ光LBのビーム
・スポットSP内に記録消去領域ERを形成し、ビーム
・スポットSP内の残りの領域RD内の記録ピットRP
を読み取ることにより、線密度を高めた再生を行ってい
る。これは、ビーム・スポットSP内の記録ピットRP
を読み取る際に、記録消去領域ERをマスクとすること
で読み取り領域(再生領域)RDの幅dを狭くし、レー
ザ光の走査方向(トラック方向)に沿った密度(いわゆ
る線記録密度)を高めた再生を可能とするものである。
First, an erasing-type high-density reproducing technique will be described with reference to FIGS. In the case of this erasing type, as shown in FIG. 19B, the laser beam LB is applied to the recording medium in which the information recording pits RP appear at room temperature.
Is irradiated and heated to form a recording / erasing area ER in the beam spot SP of the irradiation laser beam LB, and a recording pit RP in the remaining area RD in the beam spot SP.
By reading the data, reproduction with an increased linear density is performed. This is the recording pit RP in the beam spot SP
When reading is performed, the width d of the reading area (reproduction area) RD is reduced by using the recording / erasing area ER as a mask, and the density (so-called linear recording density) along the scanning direction (track direction) of the laser beam is increased. That is, it enables reproduction.

【0011】この消去型高密度再生のための記録媒体
は、光磁気記録用アモルファス稀土類(Gd,Tb)−
鉄属(Fe,Co)フェリ磁性膜から成る交換結合磁性
多層膜構造を有し、図19のAに示す例では、ポリカー
ボネート等の透明基板60の一主面(図中下面)に、第
1の磁性膜である再生層61、第2の磁性膜である切断
層(中間層)62、及び第3の磁性膜である記録保持層
63を順次積層した構造を有している。第1の磁性膜
(再生層)61は、例えばGdFeCoでキュリー温度
C1>400°Cのものが用いられ、第2の磁性膜(切
断層、中間層)62は、例えばTbFeCoAlでキュ
リー温度TC2=120°Cのものが用いられ、第3の磁
性膜(記録保持層63は、例えばTbFeCoでキュリ
ー温度TC3=300°Cのものが用いられる。なお、図
19のC中の各磁性膜61、62、63内の矢印は各磁
区の磁化の向きを示している。また、Hreadは再生磁界
の向きを示している。
The recording medium for the erasure-type high-density reproduction is an amorphous rare earth element (Gd, Tb) for magneto-optical recording.
It has an exchange-coupled magnetic multilayer structure composed of an iron group (Fe, Co) ferrimagnetic film. In the example shown in FIG. 19A, a first surface (a lower surface in the figure) of a transparent substrate 60 made of polycarbonate or the like is provided with a first surface. The magnetic recording layer 61 has a structure in which a reproducing layer 61 as a magnetic film, a cutting layer (intermediate layer) 62 as a second magnetic film, and a recording holding layer 63 as a third magnetic film are sequentially laminated. The first magnetic film (reproducing layer) 61 is made of, for example, GdFeCo and has a Curie temperature T C1 > 400 ° C. The second magnetic film (cutting layer, intermediate layer) 62 is made of, for example, TbFeCoAl and has a Curie temperature T C1 . A third magnetic film (for example, TbFeCo and a Curie temperature T C3 = 300 ° C.) is used as the third magnetic film. Arrows in the films 61, 62, and 63 indicate the directions of magnetization of the respective magnetic domains, and H read indicates the direction of the reproducing magnetic field.

【0012】再生時の動作を簡単に説明すると、所定温
度TOPより下の常温では記録媒体の各層63、62、6
1が静磁結合あるいは交換結合の状態で磁気的に結合し
ており、記録保持層63の記録磁区が切断層62を介し
て再生層61に転写されている。この記録媒体に対して
レーザ光LBを照射して媒体温度を高めると、レーザ光
の走査に伴って媒体の温度変化は遅延されて表れ、上記
所定温度TOP以上となる領域(記録消去領域ER)はビ
ーム・スポットSPよりもレーザ走査方向の後方側にや
やずれて表れる。この所定温度TOP以上では記録保持層
63と再生層61との磁気的結合が消滅し、再生層61
の磁区が再生磁界Hreadの向きに揃えられることによ
り、媒体表面上では記録ピットが消去された状態とな
る。そして、走査スポットSPの領域の内、上記所定温
度TOP以上となる領域ERとの重なり領域を除く領域R
Dが実質的な再生領域となる。すなわち、レーザ光のビ
ーム・スポットSPは上記所定温度TOP以上となる領域
ERにより一部がマスクされ、マスクされない小さい領
域が再生領域(読み取り領域)RDとなって、高密度再
生を実現している。
[0012] Briefly explaining the operation in reproduction, the recording medium at normal temperature below the predetermined temperature T OP layers 63,62,6
1 is magnetically coupled in a state of magnetostatic coupling or exchange coupling, and the recording magnetic domain of the recording holding layer 63 is transferred to the reproducing layer 61 via the cutting layer 62. When the recording medium is irradiated with the laser beam LB to increase the medium temperature, a change in the temperature of the medium is delayed with the scanning of the laser beam, and appears in an area where the temperature becomes equal to or higher than the predetermined temperature TOP (recording / erasing area ER). ) Appear slightly behind the beam spot SP in the laser scanning direction. This is at a predetermined temperature T OP or magnetic coupling disappears between recording holding layer 63 and the reproducing layer 61, the reproducing layer 61
Are aligned in the direction of the reproducing magnetic field H read , so that the recording pits are erased on the medium surface. Then, in the region of the scanning spot SP, the region R excluding the region overlapping with the region ER having the predetermined temperature TOP or higher.
D is a substantial reproduction area. That is, the beam spot SP of the laser beam is partially masked by the region ER where the temperature is equal to or higher than the predetermined temperature TOP, and a small unmasked region becomes a reproduction region (reading region) RD, thereby realizing high-density reproduction. I have.

【0013】こうして、レーザ光ビームの走査スポット
SPがマスク領域(記録消去領域ER)によりマスクさ
れない小さい再生領域(読み取り領域RD)からの反射
光の例えばカー回転角を検出することによりピットの再
生が行われるので、ビーム・スポットSPの径を小さく
したことに等しくなり、線記録密度及びトラック密度を
上げることができる。
In this way, the pits are reproduced by detecting, for example, the Kerr rotation angle of the reflected light from the small reproduction area (reading area RD) where the scanning spot SP of the laser beam is not masked by the mask area (recording / erasing area ER). This is equivalent to reducing the diameter of the beam spot SP, and the linear recording density and the track density can be increased.

【0014】次に、図20のBに示す浮き出し型の高密
度再生技術では、常温で情報記録ピットRPが消えてい
る状態(初期化状態)の記録媒体にレーザ光を照射して
加熱することにより、照射レーザ光のビーム・スポット
SP内に記録浮き出し領域である信号検出領域DTを形
成し、この信号検出領域DT内の記録ピットRPのみを
読み取るようにすることで再生線密度を高めている。
Next, in the raised high-density reproducing technique shown in FIG. 20B, a recording medium in which the information recording pits RP have disappeared (initialized state) at normal temperature is irradiated with a laser beam and heated. As a result, a signal detection area DT, which is a recording embossed area, is formed in the beam spot SP of the irradiation laser light, and only the recording pits RP in the signal detection area DT are read to increase the reproduction linear density. .

【0015】この浮き出し高密度再生のための記録媒体
は、静磁結合あるいは磁気的交換結合の磁性多層膜構造
を有するものであり、図20のAの例では、ポリカーボ
ネート等の透明基板70の一主面(図中下面)に、第1
の磁性膜である再生層71、第2の磁性膜である再生補
助層72、第3の磁性膜である中間層73、第4の磁性
膜である記録保持層74を順次積層した構造を有してい
る。第1の磁性膜(再生層71は、例えばGdFeCo
でキュリー温度TC1>300°Cのもの、第2の磁性膜
(再生補助層)72は、例えばTbFeCoAlでキュ
リー温度TC2≒120°Cのもの、第3の磁性膜(中間
層)73は、例えばGdFeCoでキュリー温度TC3
250°Cのもの、第4の磁性膜(記録保持層)74
は、例えばTbFeCoでキュリー温度TC4≒250°
Cのものがそれぞれ用いられる。ここで初期化磁界Hin
の大きさは、再生層の磁化を反転させる磁界Hcpより大
きく(Hin>Hcp)、また、記録保持層の磁化を反転さ
せる磁界Hcrより充分小さく(Hin≪Hcp)選定されて
いる。なお、図20のC中の各磁性膜71、72、7
3、74内の矢印は各磁区の磁化の向きを示し、Hin
初期化磁界の向きを、またHreadは再生磁界の向きをそ
れぞれ示している。
This recording medium for high-density reproduction has a magnetic multilayer structure of magnetostatic coupling or magnetic exchange coupling. In the example of FIG. The first surface (the lower surface in the figure)
In this structure, a reproducing layer 71 as a magnetic film, a reproducing auxiliary layer 72 as a second magnetic film, an intermediate layer 73 as a third magnetic film, and a recording holding layer 74 as a fourth magnetic film are sequentially laminated. are doing. The first magnetic film (the reproducing layer 71 is made of, for example, GdFeCo
In those Curie temperature T C1> 300 ° C, the second magnetic layer (reproduction auxiliary layer) 72 is, for example those of the Curie temperature T C2 ≒ 120 ° C at TbFeCoAl, third magnetic layer (intermediate layer) 73 For example, the Curie temperature T C3 G of GdFeCo
250 ° C., fourth magnetic film (recording holding layer) 74
Is a Curie temperature T C4 T250 ° for example with TbFeCo.
C is used. Here in the initialization magnetic field H in
Is larger than the magnetic field H cp for reversing the magnetization of the reproducing layer (H in > H cp ) and sufficiently smaller than the magnetic field H cr for reversing the magnetization of the recording holding layer (H in ≪H cp ). ing. Each magnetic film 71, 72, 7 in C of FIG.
Arrows in 3,74 indicates the magnetization orientation of the magnetic domains, H in the orientation of the initializing magnetic field, also H read is respectively the direction of the reproducing magnetic field.

【0016】記録保持層74は、初期化磁界Hin、再生
磁界Hread、また再生温度等に影響されずに記録ピット
を保持している層であって、室温、再生温度において充
分な保磁力がある。
The recording holding layer 74, the initializing magnetic field H in, a layer holding recording pits reproducing magnetic field H read, also without being affected by the regeneration temperature and the like, at room temperature, sufficient coercivity regeneration temperature There is.

【0017】中間層73の垂直異方性は再生補助層7
2、記録保持層74に比べ小さい。このため、再生層7
1と、記録層74との間に磁壁を作る際、磁壁が安定に
この中間層73に存在する。そのため、再生層71、再
生補助層72は、安定に消去状態(初期化状態)を維持
する。
The vertical anisotropy of the intermediate layer 73 is
2. Smaller than the record holding layer 74. Therefore, the reproduction layer 7
When a magnetic domain wall is formed between the magnetic layer 1 and the recording layer 74, the magnetic domain wall is stably present in the intermediate layer 73. Therefore, the reproduction layer 71 and the reproduction auxiliary layer 72 stably maintain the erased state (initialized state).

【0018】再生補助層72は、室温での再生層71の
保持力を大きくする働きをしており、このため、初期化
磁界によって揃えられた再生層71、再生補助層72の
磁化は、磁壁が存在しても安定に存在する。また、再生
補助層72は、再生時には、再生温度T近傍で保磁力
が急激に小さくなり、このため、中間層73に閉じこめ
られていた磁壁が再生補助層72にまで拡がって最終的
に再生層71を反転させ、磁壁を消滅させる。この過程
により、再生層71にピットが現れるようになる。
The auxiliary reproduction layer 72 functions to increase the coercive force of the reproduction layer 71 at room temperature. Therefore, the magnetizations of the reproduction layer 71 and the auxiliary reproduction layer 72 aligned by the initialization magnetic field are controlled by the domain wall. Exists stably even if exists. In addition, during reproduction, the coercive force of the auxiliary reproduction layer 72 rapidly decreases near the reproduction temperature T S , so that the domain wall confined in the intermediate layer 73 spreads to the auxiliary reproduction layer 72, and finally the auxiliary reproduction layer 72 is reproduced. The layer 71 is inverted, and the domain wall disappears. Through this process, pits appear on the reproducing layer 71.

【0019】再生層71は室温でも磁化反転磁界Hcp
小さく、その磁化は容易に反転する。このため、再生層
71は、初期化磁界Hinにより、その全面の磁化が同方
向に揃う。揃った磁化は、再生補助層72に支えられて
記録保持層74との間に磁壁がある場合でも安定な状態
が保たれる。そして、上述のように、再生時には、記録
保持層74との間の磁壁が消滅することにより、記録ピ
ットが現れる。
The reproducing layer 71 has a small magnetization reversal magnetic field Hcp even at room temperature, and its magnetization is easily reversed. Therefore, the reproduction layer 71, the initialization magnetic field H in, the magnetization of the entire surface is aligned in the same direction. The uniform magnetization is supported by the reproduction auxiliary layer 72 and a stable state is maintained even when there is a domain wall with the recording holding layer 74. Then, as described above, at the time of reproduction, a recording pit appears due to disappearance of the domain wall with the recording holding layer 74.

【0020】再生時の動作を簡単に説明すると、先ず再
生前に初期化磁界Hinにより再生層71及び再生補助層
72の磁化の向きを一方向(図20では上方向)に揃え
る。このとき、中間層73に磁壁(図20では横向きの
矢印で示す)が安定に存在し、再生層71、再生補助層
72は、安定に初期化状態を維持する。
[0020] Briefly explaining the operation in reproduction, first align the direction of magnetization of the reproducing layer 71 and the auxiliary reproducing layer 72 by an initialization magnetic field H in before playback in one direction (in FIG. 20 upward). At this time, a domain wall (indicated by a horizontal arrow in FIG. 20) is stably present in the intermediate layer 73, and the reproduction layer 71 and the reproduction auxiliary layer 72 stably maintain the initialized state.

【0021】次に、逆方向の再生磁界Hreadを印加しな
がらレーザ光LBを照射する。この再生磁界Hreadとし
ては、レーザ光照射による昇温後の再生温度TRPにおい
て、再生層71、再生補助層72を反転させ、中間層7
3の磁壁を消滅させる磁界以上の磁界が必要である。ま
た、再生層71、再生補助層72が、その磁界方向を反
転してしまわない程度の大きさとされる。
Next, a laser beam LB is irradiated while applying a reproducing magnetic field H read in the reverse direction. As the reproducing magnetic field H read , the reproducing layer 71 and the auxiliary reproducing layer 72 are inverted at the reproducing temperature T RP after the temperature rise by the laser beam irradiation, and the intermediate layer 7
A magnetic field more than the magnetic field that eliminates the domain wall 3 is required. In addition, the reproducing layer 71 and the auxiliary reproducing layer 72 have such a size that the magnetic field direction is not reversed.

【0022】レーザ光LBの走査に伴って媒体の温度変
化は遅延されて表れるから、所定の再生温度TRP以上と
なる領域(記録浮き出し領域)はビーム・スポットSP
よりも走査方向の後方側にややずれて表れる。この所定
再生温度TRP以上では、再生補助層72の保磁力が低下
し、再生磁界Hreadが印加されることによって磁壁がな
くなり、記録保持層74の情報が再生層71に転写され
る。これによって、レーザ光LBのビーム・スポットS
P内で上記再生温度TRPに達する前の領域がマスクさ
れ、このスポットSP内の残部が記録浮き出し領域であ
る信号検出領域(再生領域)DTとなる。この信号検出
領域DTからの反射光の偏向面の例えばカー回転角を検
出することにより、高密度再生が可能となる。
Since the temperature change of the medium is delayed with the scanning of the laser beam LB, the area (recording embossed area) above the predetermined reproducing temperature T RP is equal to the beam spot SP.
Appears slightly rearward in the scanning direction. At a temperature equal to or higher than the predetermined reproduction temperature T RP , the coercive force of the reproduction auxiliary layer 72 decreases, and the magnetic field H read is applied, thereby eliminating the magnetic domain wall, and the information in the recording and holding layer 74 is transferred to the reproduction layer 71. Thereby, the beam spot S of the laser beam LB
The area within P before the reproduction temperature T RP is reached is masked, and the remainder in the spot SP becomes a signal detection area (reproduction area) DT which is a recording emboss area. By detecting, for example, the Kerr rotation angle of the deflection surface of the light reflected from the signal detection area DT, high-density reproduction can be performed.

【0023】すなわち、レーザ光LBのビーム・スポッ
トSPの内部領域において、上記再生温度TRPに達する
前の領域は、記録ピットが現れないマスク領域であり、
残りの信号検出領域(再生領域)DTは、スポット径よ
り小さいので、前述と同様に線記録密度及びトラック密
度を高くすることができる。
That is, in the inner area of the beam spot SP of the laser beam LB, the area before reaching the reproduction temperature T RP is a mask area where no recording pits appear,
Since the remaining signal detection area (reproduction area) DT is smaller than the spot diameter, the linear recording density and the track density can be increased as described above.

【0024】さらに、これらの消去型と浮き出し型とを
混合した技術として、図21に示すような高密度再生技
術も考えられている。この図21においては、常温で情
報記録ピットRPが消えている状態(初期化状態)の記
録媒体にレーザ光を照射して加熱することで、照射レー
ザ光のビーム・スポットSPに対してレーザ光走査方向
の後方側にややずれた位置に記録浮き出し領域FLを形
成すると共に、この記録浮き出し領域FL内にさらに高
温の記録消去領域ERを形成している。そしてビーム・
スポットSP内で、記録浮き出し領域FL内の記録消去
領域ERでマスクされた以外の部分(信号検出領域)D
T内の記録ピットRPのみを読み取るようにする。この
信号検出領域DTのレーザ光走査方向に沿った幅dが狭
くなることから、高い線密度で再生できる。これは、例
えば、レーザ照射によって生ずる媒体温度分布により、
ビーム・スポットSP内で初期化状態を維持する部分
と、記録保持層の磁化が表面の再生層に転写される記録
浮き出し領域FLと、外部印加磁界の向きに磁化が揃え
られて消去される記録消去領域ERとを生じさせること
により実現できる。
Further, as a technique combining these erasing type and raised type, a high-density reproducing technique as shown in FIG. 21 has also been considered. In FIG. 21, the recording medium in a state where the information recording pits RP have disappeared at room temperature (initialized state) is irradiated with laser light and heated, so that the laser beam is applied to the beam spot SP of the irradiated laser light. A recording relief area FL is formed at a position slightly shifted to the rear side in the scanning direction, and a higher-temperature recording / erasing area ER is formed in the recording relief area FL. And the beam
In the spot SP, a part (signal detection area) D other than the part masked by the recording erasure area ER in the recording emboss area FL
Only the recording pit RP in T is read. Since the width d of the signal detection region DT along the scanning direction of the laser beam is reduced, the signal can be reproduced at a high linear density. This is, for example, due to the medium temperature distribution caused by laser irradiation,
A portion where the initialization state is maintained in the beam spot SP, a recording relief region FL where the magnetization of the recording holding layer is transferred to the reproducing layer on the surface, and a recording where the magnetization is aligned in the direction of the externally applied magnetic field and erased. This can be realized by generating the erasing area ER.

【0025】また、本件出願人は、特願平3−4181
10号の明細書及び図面において、少なくとも再生層、
中間層、記録保持層を有する光磁気記録媒体を用い、再
生層にレーザ光を照射すると共に再生磁界を印加し、こ
のレーザ照射により生ずる温度分布を利用して、初期化
状態を維持する部分、記録保持層の情報が転写される部
分、再生磁界方向に磁化の向きが揃えられる部分をレン
ズ視野内に生ぜしめることにより、レンズ視野内を光学
的にマスクしたのと等価な状態とし、線記録密度及びト
ラック密度を高め、また、再生パワーが変動しても記録
保持層の情報が転写される領域が縮小あるいは拡大する
ことがなく、再生時の周波数特性も良好なものとした光
磁気記録媒体における信号再生方法を提案している。
The applicant of the present application has filed Japanese Patent Application No. Hei 3-4181.
In the specification and the drawings of No. 10, at least a reproducing layer,
Using a magneto-optical recording medium having an intermediate layer and a recording holding layer, irradiating the reproducing layer with laser light and applying a reproducing magnetic field, and utilizing the temperature distribution generated by the laser irradiation to maintain an initialized state; By creating a part in the lens field of view where information is transferred to the recording holding layer and a part where the direction of magnetization is aligned with the direction of the reproducing magnetic field, a state equivalent to optically masking the lens field is obtained, and line recording is performed. A magneto-optical recording medium having an increased density and track density, and a reduced or enlarged area of the recording holding layer to which information is transferred even when the reproducing power fluctuates, and having good frequency characteristics during reproduction. Has proposed a signal reproduction method.

【0026】また、高密度再生が可能な他の種類の光記
録媒体として、位相ピットが形成された透明基板上に温
度によって反射率が変化する材料が形成され、信号再生
時には、読み出し光の走査スポット内で反射率を部分的
に変化させながら位相ピットを読み取るような反射率変
化型光記録媒体も知られている。この反射率変化型の光
記録媒体に関する技術としては、本件出願人が先に特願
平2−94452号の明細書及び図面において光ディス
クの信号再生方法を提案しており、また、特願平2−2
91773号の明細書及び図面において光ディスクを提
案している。すなわち、前者においては、信号に応じて
位相ピットが形成されるとともに温度によって反射率が
変化する光ディスクに対して読み出し光を照射し、読み
出し光の走査スポット内で反射率を部分的に変化させな
がら位相ピットを読み取ることを特徴とする光ディスク
の信号再生方法を提案しており、後者においては、位相
ピットが形成された透明基板上に、相変化によって反射
率が変化する材料層が形成されてなり、読み出し光が照
射されたときに、上記材料層が、読み出し光の走査スポ
ット内で部分的に相変化するとともに、読み出し後には
初期状態に戻ることを特徴とする、いわゆる相変化型の
光ディスクを提案している。
As another type of optical recording medium capable of high-density reproduction, a material whose reflectance changes with temperature is formed on a transparent substrate on which phase pits are formed. There is also known a reflectance changing type optical recording medium which reads a phase pit while partially changing the reflectance in a spot. As a technique relating to the optical recording medium of the reflectance change type, the present applicant has previously proposed a signal reproducing method for an optical disk in the specification and drawings of Japanese Patent Application No. 2-94452. -2
An optical disk is proposed in the specification and drawings of 91773. That is, in the former, readout light is applied to an optical disc in which phase pits are formed in accordance with a signal and reflectivity changes according to temperature, and the reflectivity is partially changed within a scan spot of the readout light. We have proposed a signal reproduction method for optical disks characterized by reading phase pits. In the latter method, a material layer whose reflectivity changes due to a phase change is formed on a transparent substrate on which phase pits are formed. A so-called phase-change type optical disc, characterized in that when irradiated with readout light, the material layer partially changes phase within a scan spot of the readout light and returns to an initial state after reading. is suggesting.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの高
密度再生技術において、トラック方向すなわちレーザ光
走査方向に沿った密度、いわゆる線記録密度を高めるこ
とができることは明らかであるが、レーザ走査方向に直
交する方向の密度、いわゆるトラック密度については、
さらなる改良が望まれている。
By the way, in these high-density reproducing techniques, it is apparent that the density along the track direction, that is, the laser beam scanning direction, that is, the so-called linear recording density can be increased. For the density in the orthogonal direction, the so-called track density,
Further improvements are desired.

【0028】例えば、上述した浮き出しタイプと消去タ
イプとを混合した光磁気記録媒体の例を示す上記図21
においては、信号検出領域DT(いわゆるウィンドウ
部)の寸法がトラック幅方向に拡がる傾向があり、隣接
トラックの記録ピットRPaをも検出してしまうことか
ら、クロストークが生じ、このクロストークを抑えるた
めにトラックピッチpに制限が生じている。すなわち、
クロストークによる制限のため、トラックピッチpをあ
る程度広げてトラック密度を下げることが必要とされて
いる。これは、上述した各種タイプの光磁気記録媒体の
みならず、上記反射率変化型の光記録媒体にも同様にい
えることである。
For example, FIG. 21 shows an example of a magneto-optical recording medium in which the above-mentioned raised type and erase type are mixed.
In the case of, the size of the signal detection area DT (so-called window portion) tends to expand in the track width direction, and the recording pits RPa of the adjacent track are also detected, so that crosstalk occurs, and this crosstalk is suppressed. Has a limitation on the track pitch p. That is,
Due to the limitation due to crosstalk, it is necessary to increase the track pitch p to some extent to lower the track density. This applies to not only the above-described various types of magneto-optical recording media but also the above-mentioned reflectance-change type optical recording media.

【0029】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、簡単な構成で上記クロストークを軽減で
き、いわゆるトラック密度(レーザ光走査方向に直交す
る方向の記録密度)をさらに高め得るような光学ヘッド
装置の提供を目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and the crosstalk can be reduced with a simple structure, and the so-called track density (recording density in a direction perpendicular to the laser beam scanning direction) is further increased. It is an object of the present invention to provide such an optical head device.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本発明に係る光学ヘッド
装置によれば、少なくとも磁気的に結合されている再生
層と記録保持層とを有してなる多層膜を記録層とし、上
記記録保持層に信号が磁気記録され、上記再生層の磁化
の向きが揃えられた状態の光磁気媒体に対して、上記再
生層に光ビームを照射することにより当該再生層を加熱
して上記記録保持層に磁気的に記録されている信号を上
記再生層に転写しながら磁気光学効果により光学信号に
変換して読み取る光学ヘッド装置において、上記読み出
し光ビームの出射光路中に、通過するレーザ光が中央部
と周辺部とで1/2波長の奇数倍の位相差を有するよう
に形成され、上記読み出し光ビームが照射される記録媒
体上で該読み出し光ビームの走査方向と直交する方向に
より鋭い温度分布を持たせる光学素子を配してなること
により、上述した課題を解決する。
According to the optical head device of the present invention, the recording layer comprises a multilayer film having at least a magnetically coupled reproducing layer and a recording holding layer. A signal is magnetically recorded on the layer, and the reproducing layer is heated by irradiating the reproducing layer with a light beam to the magneto-optical medium in which the magnetization direction of the reproducing layer is aligned. In the optical head device, a signal recorded magnetically is transferred to the reproduction layer and converted into an optical signal by a magneto-optical effect to read the signal. A portion having a phase difference of an odd multiple of a half wavelength between the portion and the peripheral portion, and a sharper temperature distribution in a direction orthogonal to the scanning direction of the read light beam on a recording medium irradiated with the read light beam. By formed by arranging the optical element to have, to solve the problems described above.

【0031】また、本発明に係る光学ヘッド装置によれ
ば、信号に応じて位相ピットが形成されるとともに温度
によって反射率が変化する記録媒体に対して読み出し光
ビームを照射し、読み出し光ビームの走査スポット内で
反射率を部分的に変化させながら位相ピットを読み取る
ような光学ヘッド装置において、上記読み出し光ビーム
の出射光路中に、通過するレーザ光が中央部と周辺部と
で1/2波長の奇数倍の位相差を有するように形成さ
れ、上記読み出し光ビームが照射される記録媒体上で該
読み出し光ビームの走査方向と直交する方向により鋭い
温度分布を持たせる光学素子を配してなることにより、
上述した課題を解決する。
Further, according to the optical head device of the present invention, a readout light beam is applied to a recording medium in which phase pits are formed in response to a signal and the reflectance of which changes with temperature, and the readout light beam In an optical head device that reads a phase pit while partially changing a reflectance in a scanning spot, a passing laser beam is halved at a central portion and a peripheral portion in an emission optical path of the readout light beam. An optical element formed so as to have a phase difference of an odd multiple of the wavelength and having a sharper temperature distribution in a direction perpendicular to the scanning direction of the read light beam on the recording medium irradiated with the read light beam is disposed. By becoming
The above-mentioned problem is solved.

【0032】[0032]

【作用】上記光学素子により、レーザ光照射されて加熱
される媒体上では、レーザ光の走査方向と直交する方向
に、より鋭い温度分布が得られるため、この方向の高温
領域の幅が狭まり、隣接トラックからのクロストークを
低減できる。
With the above-mentioned optical element, a sharper temperature distribution is obtained in a direction orthogonal to the scanning direction of the laser beam on the medium irradiated with the laser beam and heated, so that the width of the high-temperature region in this direction is narrowed, Crosstalk from adjacent tracks can be reduced.

【0033】[0033]

【実施例】本発明の一実施例となる光学ヘッド装置の説
明に先立って、本発明の説明に供する光学ヘッド装置の
概略構成を図1に示す。この図1に示す光学ヘッド装置
において、読み出し光ビームの光源、例えば半導体レー
ザ11から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ1
2で平行ビームとされ、ビームスプリッタ13を介して
対物レンズ14に送られる。この対物レンズ14の直前
位置には、再生時のレーザ光走査方向と直交する方向
(いわゆるディスク径方向)により鋭い温度分布を持た
せるための光学素子として、図2に示すような遮光帯板
21が配置されている。本発明の実施例においては、こ
の光学素子として後述する図5に示すような段差を持っ
た位相板26を用いるものであるが、ここでは、本発明
の実施例とはならない図2に示す遮光帯板21を用いる
例について説明する。この遮光帯板21は、レーザ走査
方向に沿って延長される遮光帯22がガラス板や透明樹
脂板等の透明板23に形成されたものである。対物レン
ズ14から遮光帯板21を介して光記録媒体である例え
ば光磁気ディスク15に照射される。この光磁気ディス
ク15に照射されたレーザビームは、前述した光磁気記
録用磁性多層膜にて反射され、遮光帯板21、対物レン
ズ14を介してビームスプリッタ13に入射されて反射
され、集光レンズ16で集光されて、フォトダイオード
等の光検出器17に入射される。なお、光記録媒体とし
て光磁気ディスク15を用いる場合には、この光磁気デ
ィスク15のレーザ光照射位置の裏面(図中上面)側に
は、再生磁界Hreadを印加するための磁気ヘッド1
8が配設されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Prior to description of an optical head device according to an embodiment of the present invention, FIG. 1 shows a schematic configuration of an optical head device used for describing the present invention. In the optical head device shown in FIG. 1, a laser beam emitted from a light source of a readout light beam, for example, a semiconductor laser 11 is collimated by a collimator lens 1.
The beam is converted into a parallel beam by the beam splitter 2 and sent to the objective lens 14 via the beam splitter 13. In the position immediately before the objective lens 14, a light-shielding strip 21 as shown in FIG. 2 is provided as an optical element for giving a sharper temperature distribution in a direction (so-called radial direction of the disc) perpendicular to the laser beam scanning direction during reproduction. Is arranged. In the embodiment of the present invention, a phase plate 26 having a step as shown in FIG. 5 which will be described later is used as the optical element, but here, the light shielding shown in FIG. An example in which the band plate 21 is used will be described. The light-shielding band plate 21 has a light-shielding band 22 extending along the laser scanning direction formed on a transparent plate 23 such as a glass plate or a transparent resin plate. The light is radiated from the objective lens 14 to the optical recording medium, for example, a magneto-optical disk 15 via a light-shielding strip 21. The laser beam applied to the magneto-optical disk 15 is reflected by the above-described magnetic multilayer film for magneto-optical recording, is incident on the beam splitter 13 via the light-shielding strip 21 and the objective lens 14, is reflected, and is condensed. The light is condensed by a lens 16 and is incident on a photodetector 17 such as a photodiode. When the magneto-optical disk 15 is used as an optical recording medium, a magnetic head 1 for applying a reproducing magnetic field H read is provided on the back surface (upper surface in the drawing) of the magneto-optical disk 15 at the laser beam irradiation position.
8 are provided.

【0034】ここで図3は、上記光磁気ディスク15上
の図4に示すようなレーザ光スポットSPについて、レ
ーザ光走査方向と直交する方向(ディスク径方向)に沿
った中心からの距離(nm)を横軸に、光の強度を最高
強度で規格化した値を縦軸にとったものであり、上記遮
光帯板21の遮光帯22の幅wを対物レンズ14の瞳の
直径で規格化した値w* を、それぞれ0、0.1、0.
15、及び0.18としたときの光強度分布特性曲線を
示している。このときのレーザ波長λは780nm、上
記対物レンズ14の開口数NAは0.53であり、得ら
れた光強度分布は媒体の加熱による温度分布に等しくな
る。この図3から明らかなように、上記レーザ光走査方
向と直交する方向(ディスク径方向)の光強度分布ある
いは温度分布は、遮光帯22の幅w(規格化した幅
* )が大きく(広く)なるほど鋭くなっている。これ
は、スポット中心側の0次スポットの傾向であり、その
外側の1次スポットについては、光強度が増加してい
る。
FIG. 3 shows the distance (nm) from the center of the laser light spot SP on the magneto-optical disk 15 as shown in FIG. 4 in the direction (disk radial direction) orthogonal to the laser light scanning direction. ) Is plotted on the abscissa and the light intensity normalized with the highest intensity is plotted on the ordinate. The width w of the light-shielding band 22 of the light-shielding band plate 21 is normalized by the diameter of the pupil of the objective lens 14. The obtained value w * is set to 0, 0.1, 0.
15 shows light intensity distribution characteristic curves when the values are set to 15 and 0.18. At this time, the laser wavelength λ is 780 nm, the numerical aperture NA of the objective lens 14 is 0.53, and the obtained light intensity distribution is equal to the temperature distribution due to the heating of the medium. As is clear from FIG. 3, the light intensity distribution or the temperature distribution in the direction (disc radial direction) orthogonal to the laser light scanning direction is such that the width w (standardized width w * ) of the light shielding band 22 is large (wide). ) It is sharp. This is a tendency of the 0th-order spot on the spot center side, and the light intensity of the 1st-order spot outside the 0th-order spot increases.

【0035】このように、ディスク径方向(レーザ光走
査方向に直交する方向)に鋭い光強度分布、すなわち媒
体の温度分布が得られることにより、上記光磁気ディス
ク15上では、例えば図4に示すように、照射レーザ光
のビーム・スポットSPの走査方向の後方側にややずれ
て形成される高温領域の幅(レーザ光走査方向に直交す
る方向の幅)を狭くでき、隣接トラックの記録ピットR
Pからのクロストークを大幅に低減できる。ただし、上
記1次スポットの強度が増加しすぎると、1次スポット
の位置にも高温領域が形成され、かえってクロストーク
が増加する。よって、上記幅w(規格化した幅w* )を
上記1次スポットに高温領域が形成されない範囲に選ぶ
ことが必要とされる。
As described above, a sharp light intensity distribution in the disk radial direction (a direction orthogonal to the scanning direction of the laser beam), that is, the temperature distribution of the medium is obtained. In this way, the width of the high-temperature region (width in the direction orthogonal to the scanning direction of the laser beam) formed slightly behind the beam spot SP of the irradiation laser beam in the scanning direction can be reduced, and the recording pit R of the adjacent track can be reduced.
Crosstalk from P can be greatly reduced. However, if the intensity of the primary spot is excessively increased, a high-temperature region is also formed at the position of the primary spot, and the crosstalk is rather increased. Therefore, it is necessary to select the width w (normalized width w * ) in a range where a high-temperature region is not formed in the primary spot.

【0036】ここで図4に示す高密度再生技術は、前記
図21と共に説明した技術と同様であり、常温で情報記
録ピットRPが消えている状態(初期化状態)の記録媒
体にレーザ光を照射して加熱することで、照射レーザ光
のビーム・スポットSPからレーザ光走査方向後方側に
ややずれた位置に楕円形状の記録浮き出し領域FLを形
成すると共に、この記録浮き出し領域FL内にさらに高
温の記録消去領域ERを形成し、ビーム・スポットSP
内で、記録浮き出し領域FL内の記録消去領域ERでマ
スクされた以外の部分(信号検出領域)DT内の記録ピ
ットRPのみを読み取るものである。
The high-density reproducing technique shown in FIG. 4 is the same as the technique described with reference to FIG. 21. Laser light is applied to a recording medium in which the information recording pits RP have disappeared (initialized state) at room temperature. By irradiating and heating, an elliptical recording embossed area FL is formed at a position slightly deviated from the beam spot SP of the irradiated laser light in the backward direction in the laser beam scanning direction. Forming the recording / erasing area ER of the beam spot SP
Among them, only the recording pits RP in the portion (signal detection region) DT other than the portion masked by the recording erasure region ER in the recording emboss region FL are read.

【0037】このとき、上記高温の記録浮き出し領域F
Lは、上述したようにディスク径方向の温度分布が鋭く
(シャープに)なっていることから、該ディスク径方向
の幅が前記図12の場合に比べて狭くなり、隣接トラッ
クからのクロストークを改善できる。これによって、隣
接トラック間のピッチ(いわゆるトラックピッチ)pを
より狭く(高密度に)してトラック密度を高めることが
でき、記録密度の向上が図れる。
At this time, the high-temperature recording floating area F
L has a sharper (sharp) temperature distribution in the radial direction of the disk as described above, so that the width in the radial direction of the disk is narrower than in the case of FIG. Can be improved. As a result, the pitch between adjacent tracks (so-called track pitch) p can be made narrower (higher density) to increase the track density, and the recording density can be improved.

【0038】上記図4の高密度再生技術は、前述した消
去型と浮き出し型の混合タイプであり、例えば、レーザ
照射によって生ずる媒体温度分布により、ビーム・スポ
ットSP内で初期化状態を維持する低温部分と、記録保
持層の磁化が表面の再生層に転写される高温の記録浮き
出し領域FLと、さらに高温となって外部印加磁界の向
きに磁化が揃えられて消去される記録消去領域ERとが
形成されるような媒体を用いることにより実現できる。
The high-density reproducing technique shown in FIG. 4 is a mixed type of the erasing type and the embossing type described above. For example, a low temperature for maintaining an initialized state in the beam spot SP by a medium temperature distribution generated by laser irradiation. And a high-temperature recording floating region FL where the magnetization of the recording holding layer is transferred to the reproducing layer on the surface, and a recording / erasing region ER where the temperature is further increased and the magnetization is aligned in the direction of the externally applied magnetic field to erase. It can be realized by using a medium as formed.

【0039】なお、図4では、記録ピットRPのディス
ク径方向の幅をh、トラック方向に沿った最短記録周期
(最高線密度の逆数)をqとし、この最短記録周期qで
記録された具体例を示しているが、記録データ内容に応
じてピット記録周期が変化することは勿論である。
In FIG. 4, the width of the recording pit RP in the radial direction of the disk is h, and the shortest recording cycle (reciprocal of the maximum linear density) along the track direction is q, and the recording is performed at the shortest recording cycle q. Although an example is shown, it goes without saying that the pit recording cycle changes according to the contents of the recording data.

【0040】次に、本発明の一実施例となる光学ヘッド
装置について説明する。本実施例においては、ディスク
上で、上記再生時のレーザ光走査方向と直交する方向
(いわゆるディスク径方向)に、より鋭い温度分布を持
たせるための光学素子としては、上記遮光帯板21を用
いずに、例えば図5に示すような段差を持った位相板2
6を用いている。
Next, an optical head device according to an embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the above-mentioned light-shielding band plate 21 is used as an optical element for giving a sharper temperature distribution on the disk in a direction orthogonal to the laser beam scanning direction during reproduction (so-called disk radial direction). Without using, for example, a phase plate 2 having a step as shown in FIG.
6 is used.

【0041】この図5に示す段差を持った位相板26
は、中央部分にレーザ光走査方向に沿って形成された帯
状部分27とそれ以外の部分28との厚みが異なってお
り、これらの各部分27、28を介して通過するレーザ
光が、例えば1/2波長(λ/2)分の位相差を持つよ
うな光学素子である。このときの位相差はλ/2(ある
いはλ/2の奇数倍)が好ましいが、任意の値に設定し
てもよい。ただし、nλ(nは整数)では位相差が実質
的になくなるため、これを除外する。
The phase plate 26 having the step shown in FIG.
The thickness of a band-like portion 27 formed in the center portion along the laser beam scanning direction and the thickness of the other portion 28 are different, and the laser beam passing through these portions 27 and 28 is, for example, 1 mm. An optical element having a phase difference of / 2 wavelength (λ / 2). The phase difference at this time is preferably λ / 2 (or an odd multiple of λ / 2), but may be set to any value. However, since nλ (n is an integer) substantially eliminates the phase difference, this is excluded.

【0042】図6は、位相差がλ/2の段差を持った位
相板26を介して媒体(光磁気ディスク15)上に照射
されたレーザ光スポットについて、レーザ光走査方向と
直交する方向(ディスク径方向)に沿ったスポット中心
からの距離(nm)に対する光強度(最高強度で規格化
した値)を示し、上記帯状部分27の幅wの対物レンズ
14の瞳の直径で規格化した値w* が、それぞれ0、
0.1、0.15、及び0.18のときの光強度分布特
性曲線を示している。なおレーザ波長λは780nm、
上記対物レンズ14の開口数NAは0.53であり、得
られた光強度分布は媒体の加熱による温度分布に等しく
なる。
FIG. 6 shows a laser beam spot irradiated on a medium (magneto-optical disk 15) via a phase plate 26 having a step having a phase difference of λ / 2 in a direction perpendicular to the laser beam scanning direction ( The value indicates the light intensity (value standardized by the maximum intensity) with respect to the distance (nm) from the spot center along the disk radial direction, and is the value standardized by the diameter of the pupil of the objective lens 14 having the width w of the band-shaped portion 27. w * is 0,
The light intensity distribution characteristic curves at 0.1, 0.15, and 0.18 are shown. The laser wavelength λ is 780 nm,
The numerical aperture NA of the objective lens 14 is 0.53, and the obtained light intensity distribution is equal to the temperature distribution due to the heating of the medium.

【0043】この図6から明らかなように、上記レーザ
光走査方向と直交する方向(ディスク径方向)の光強度
分布あるいは温度分布は、帯状部分27の幅W(規格化
した幅w)が広くなるほどスポット中心側の0次スポ
ット幅が狭く分布曲線が鋭くなっており、外側の1次ス
ポットの光強度が増加している。
As is clear from FIG. 6, the light intensity distribution or the temperature distribution in the direction (disc radial direction) orthogonal to the laser beam scanning direction is such that the width W (standardized width w * ) of the strip 27 is equal to the width. As the width increases, the zero-order spot width on the center side of the spot becomes narrower and the distribution curve becomes sharper, and the light intensity of the outer primary spot increases.

【0044】この場合も、上記図4と共に説明したよう
に、照射レーザ光のビーム・スポットSPの走査方向の
後方側にややずれて形成される浮き出し領域FLのレー
ザ光走査方向に直交する方向の幅を狭くでき、隣接トラ
ックからのクロストークを大幅に低減できる。ただし、
この段差を持つ位相板26で位相差をλ/2とした場合
には特に、幅wが広くなると上記1次スポットの強度が
増加し、1次スポットの位置にも浮き出し領域FLが形
成され、かえってクロストークが増加することから、上
記幅w(規格化した幅w* )を上記1次スポットに浮き
出し領域が形成されない範囲に選ぶことが必要とされ
る。
Also in this case, as described with reference to FIG. 4, the embossed area FL formed slightly behind the beam spot SP of the irradiation laser beam in the scanning direction is perpendicular to the laser beam scanning direction. The width can be reduced, and crosstalk from adjacent tracks can be significantly reduced. However,
Particularly, when the phase difference is set to λ / 2 by the phase plate 26 having the step, when the width w is widened, the intensity of the primary spot increases, and the raised area FL is formed at the position of the primary spot, On the contrary, since the crosstalk increases, it is necessary to select the width w (normalized width w * ) in a range in which no raised area is formed in the primary spot.

【0045】また、このように通過レーザ光の位相が部
分的に異なる位相板としては、例えば図7や図8に示す
ようなものも使用できる。
As the phase plate in which the phase of the passing laser light is partially different, for example, those shown in FIGS. 7 and 8 can be used.

【0046】図7に示す位相板31は、レーザ走査方向
に沿って形成された帯状部分32とそれ以外の部分33
とから成り、帯状部分32はいわゆるPLZT等の透明
圧電材料(透明電歪素子)で形成され、両面に透明電極
34、35が被着形成されている。これらの透明電極3
4、35に電圧源36からの駆動電圧を印加することに
より、帯状部分32の厚みや位相差が変化し、部分33
との間の通過レーザ光の位相差が変化する。これによっ
て、上記レーザ走査方向に直交する方向の光強度分布
(温度分布)特性曲線のシャープさを可変制御でき、隣
接トラックからのクロストーク改善量を可変制御でき
る。
The phase plate 31 shown in FIG. 7 has a band-shaped portion 32 formed along the laser scanning direction and another portion 33.
The band portion 32 is formed of a transparent piezoelectric material (transparent electrostrictive element) such as so-called PLZT, and transparent electrodes 34 and 35 are formed on both surfaces. These transparent electrodes 3
By applying the driving voltage from the voltage source 36 to the portions 4 and 35, the thickness and the phase difference of the belt-shaped portion 32 change, and
, The phase difference of the passing laser light changes. As a result, the sharpness of the light intensity distribution (temperature distribution) characteristic curve in the direction orthogonal to the laser scanning direction can be variably controlled, and the amount of improvement in crosstalk from an adjacent track can be variably controlled.

【0047】図8に示す位相板41は、いわゆるPLZ
T等の透明圧電板(電歪素子)43の中央位置にレーザ
走査方向に沿って表面、裏面に帯状の透明電極44、4
5を被着形成して構成されており、これらの透明電極4
4、45に電圧源36からの駆動電圧を印加することに
より、電極44、45間の部分42の厚みや位相差を可
変制御するようにしている。
The phase plate 41 shown in FIG.
At the center of a transparent piezoelectric plate (electrostrictive element) 43 such as T, a band-shaped transparent electrode 44, 4
5 is formed by attaching these transparent electrodes 4.
By applying a driving voltage from the voltage source 36 to the electrodes 4 and 45, the thickness and the phase difference of the portion 42 between the electrodes 44 and 45 are variably controlled.

【0048】以上説明した具体例では、いずれもレーザ
光走査方向に沿って帯状部分を形成しているが、図9に
示すように、上記対物レンズ14の瞳の中央位置に対応
する略々円形の部分51に、上述したような遮光部や段
差部、あるいは圧電素子部を設けるようにしてもよい。
この場合には、レーザ走査方向に直交する方向(ディス
ク径方向)のみならず、レーザ走査方向の光強度分布
(温度分布)もより鋭くなり、クロストーク低減が図れ
るのみならず線密度のさらなる向上が図れる。
In each of the specific examples described above, a band-like portion is formed along the laser beam scanning direction. However, as shown in FIG. 9, a substantially circular portion corresponding to the center position of the pupil of the objective lens 14 is formed. The portion 51 may be provided with the above-described light shielding portion, step portion, or piezoelectric element portion.
In this case, the light intensity distribution (temperature distribution) not only in the direction perpendicular to the laser scanning direction (disc diameter direction) but also in the laser scanning direction becomes sharper, so that not only crosstalk can be reduced but also the linear density can be further improved. Can be achieved.

【0049】以上説明した本発明の実施例において、光
記録媒体には光磁気ディスク15を用いているが、この
他、前述した反射率変化型の光ディスク等の光記録媒体
も使用可能である。この場合の光学ヘッドについての構
成は、上記図1に示す光磁気ディスク15の代わりに、
相変化型等の反射率変化型光ディスクが用いられる点が
異なるのみで、他の構成は上記図1と同様であり、また
具体的構成及び作用は上記図1乃至図9と共に説明した
通りである。そこで、反射率変化型の光記録媒体につい
て、以下詳細に説明する。
In the embodiment of the present invention described above, the magneto-optical disk 15 is used as the optical recording medium. However, an optical recording medium such as the above-mentioned reflectance-change type optical disk can also be used. The configuration of the optical head in this case is different from the magneto-optical disk 15 shown in FIG.
The other configuration is the same as that of FIG. 1 described above, except that a phase-change-type or other reflectance-change optical disk is used, and the specific configuration and operation are as described with reference to FIGS. . Thus, the optical recording medium of the reflectance change type will be described in detail below.

【0050】この反射率変化型の光記録媒体に関する技
術としては、本件出願人が先に特願平2−94452号
の明細書及び図面において光ディスクの信号再生方法を
提案しており、また、特願平2−291773号の明細
書及び図面において光ディスクを提案している。すなわ
ち、前者においては、信号に応じて位相ピットが形成さ
れるとともに温度によって反射率が変化する光ディスク
に対して読み出し光を照射し、読み出し光の走査スポッ
ト内で反射率を部分的に変化させながら位相ピットを読
み取ることを特徴とする光ディスクの信号再生方法を提
案しており、後者においては、位相ピットが形成された
透明基板上に、相変化によって反射率が変化する材料層
が形成されてなり、読み出し光が照射されたときに、上
記材料層が、読み出し光の走査スポット内で部分的に相
変化するとともに、読み出し後には初期状態に戻ること
を特徴とする、いわゆる相変化型の光ディスクを提案し
ている。
As a technique relating to the optical recording medium of the reflectance change type, the present applicant has previously proposed a signal reproducing method of an optical disc in the specification and drawings of Japanese Patent Application No. 2-94452. An optical disk is proposed in the specification and drawings of Japanese Patent Application No. 2-291773. That is, in the former, readout light is applied to an optical disc in which phase pits are formed in accordance with a signal and reflectivity changes according to temperature, and the reflectivity is partially changed within a scan spot of the readout light. We have proposed a signal reproduction method for optical disks characterized by reading phase pits. In the latter method, a material layer whose reflectivity changes due to a phase change is formed on a transparent substrate on which phase pits are formed. A so-called phase-change type optical disc, characterized in that when irradiated with readout light, the material layer partially changes phase within a scan spot of the readout light and returns to an initial state after reading. is suggesting.

【0051】ここで、上記材料層として、溶融後結晶化
し得る相変化材料層を用い、読み出し光が照射されたと
きに、この相変化材料層が読み出し光の走査スポット内
で部分的に溶融結晶化領域で液相化して反射率が変化す
ると共に、読み出し後には結晶状態に戻るようにするこ
とが好ましい。
Here, a phase change material layer which can be crystallized after melting is used as the material layer, and when the reading light is irradiated, this phase change material layer partially melts in the scanning spot of the reading light. It is preferable that the liquid phase be converted into a liquid phase in the oxidized region to change the reflectance and return to a crystalline state after reading.

【0052】この反射率変化型の光記録媒体、特に相変
化型の光ディスクについて説明する。この相変化型の光
ディスクは、図10に要部の概略断面図を示すように、
位相ピット101が形成された透明基板102上(図中
では下面側)に、第1の誘電体層103を介して相変化
材料層104が形成され、この材料層104の上(図中
の下面側、以下同様)に第2の誘電体層105が形成さ
れ、その上に反射膜106が形成されてなっている。こ
れら第1の誘電体層103及び第2の誘電体層105に
よって光学特性、例えば反射率等の設定がなされる。さ
らに必要に応じて、反射膜106の上に保護膜(図示せ
ず)が被着形成されることも多い。
The optical recording medium of the reflectance change type, in particular, the phase change type optical disk will be described. As shown in FIG. 10, a schematic sectional view of a main part of this phase-change type
A phase change material layer 104 is formed on a transparent substrate 102 on which the phase pits 101 are formed (the lower surface side in the drawing) via a first dielectric layer 103, and the phase change material layer 104 is formed on the material layer 104 (the lower surface in the drawing). Side, the same applies hereinafter), a second dielectric layer 105 is formed, and a reflective film 106 is formed thereon. The first dielectric layer 103 and the second dielectric layer 105 set optical characteristics such as reflectance. Further, a protective film (not shown) is often formed on the reflective film 106 as needed.

【0053】この他、この相変化型の光ディスクの構造
としては、例えば図11に示すように、ピット101が
形成された透明基板102上に直接的に相変化材料層1
04のみを密着形成したものを用いてもよく、また、図
12に示すように、位相ピット101が形成された透明
基板102上に、第1の誘電体層103、相変化材料層
104、及び第2の誘電体層105を順次形成したもの
を用いてもよい。
In addition, as a structure of this phase change type optical disk, for example, as shown in FIG. 11, a phase change material layer 1 is directly formed on a transparent substrate 102 on which pits 101 are formed.
12, a first dielectric layer 103, a phase change material layer 104, and a first dielectric layer 103 may be formed on a transparent substrate 102 on which phase pits 101 are formed, as shown in FIG. A structure in which the second dielectric layer 105 is sequentially formed may be used.

【0054】ここで、上記透明基板102としては、ガ
ラス基板、ポリカーボネートやメタクリレート等の合成
樹脂基板等を用いることができ、また、基板上にフォト
ポリマを被着形成してスタンパによって位相ピット10
1を形成する等の種々の構成を採ることができる。
Here, as the transparent substrate 102, a glass substrate, a synthetic resin substrate such as polycarbonate or methacrylate, or the like can be used. A photopolymer is formed on the substrate, and the phase pits 10 are formed by a stamper.
Various configurations such as forming 1 can be adopted.

【0055】上記相変化材料層104に使用可能な材料
としては、読み出し光の走査スポット内で部分的に相変
化し、読み出し後には初期状態に戻り、相変化によって
反射率が変化するものが挙げられる。具体的には、Sb
2 Se3 、Sb2 Te3 等のカルコゲナイト、すなわち
カルコゲン化合物が用いられ、また、他のカルコゲナイ
トあるいは単体のカルコゲンとして、Se、Teの各単
体、さらにこれらのカルコゲナイト、すなわちBiT
e、BiSe、In−Se、In−Sb−Te、In−
SbSe、In−Se−Tl、Ge−Te−Sb、Ge
−Te等のカルコゲナイト系材料等が用いられる。この
ようなカルコゲン、カルコゲナイトによって相変化材料
相104を構成するときは、その熱伝動率、比熱等の特
性を、半導体レーザ光による読み出し光によって良好な
温度分布を形成する上で望ましい特性とすることがで
き、後述するような溶融結晶化領域での溶融状態の形成
を良好に行うことができ、S/NあるいはC/Nの高い
超高解像度の再生を行うことができる。
As a material that can be used for the phase change material layer 104, a material in which the phase changes partially within the scanning spot of the reading light, returns to the initial state after reading, and the reflectance changes due to the phase change. Can be Specifically, Sb
Chalcogenite, such as 2 Se 3 and Sb 2 Te 3 , that is, a chalcogen compound is used. As another chalcogenite or a single chalcogen, each of Se and Te alone, and these chalcogenites, that is, BiT
e, BiSe, In-Se, In-Sb-Te, In-
SbSe, In-Se-Tl, Ge-Te-Sb, Ge
A chalcogenite-based material such as -Te is used. When the phase change material phase 104 is composed of such chalcogen and chalcogenite, its properties such as thermal conductivity and specific heat should be set as desirable properties for forming a good temperature distribution by reading light with a semiconductor laser beam. As a result, it is possible to favorably form a molten state in a melt crystallization region as described later, and to perform ultra-high-resolution reproduction with high S / N or C / N.

【0056】また上記第1の誘電体層103及び第2の
誘電体層105としては、例えばSi3 4 、SiO、
SiO2 、AlN、Al2 3 、ZnS、MgF2 等を
用いることができる。さらに、上記反射膜106として
は、Al、Cu、Ag、Au等を用いることができ、こ
れらの元素に少量の添加物が添加されたものであっても
よい。
The first dielectric layer 103 and the second dielectric layer 105 are made of, for example, Si 3 N 4 , SiO,
SiO 2 , AlN, Al 2 O 3 , ZnS, MgF 2 or the like can be used. Further, Al, Cu, Ag, Au, or the like can be used as the reflection film 106, and a material obtained by adding a small amount of an additive to these elements may be used.

【0057】以下、相変化型の光ディスクの具体例とし
て、位相ピットが形成された透明基板上に、溶融後結晶
化し得る相変化材料層が形成されてなり、読み出し光が
照射されたときに、上記相変化材料層が読み出し光の走
査スポット内で部分的に溶融結晶化領域で液相化して反
射率が変化すると共に、読み出し後には結晶状態に戻る
ようなものであって、上記図10の構成の光ディスクに
ついて説明する。
Hereinafter, as a specific example of a phase-change type optical disk, a phase-change material layer which can be crystallized after melting is formed on a transparent substrate on which phase pits are formed. The phase change material layer is partially liquid-phased in the melt-crystallized region in the scanning spot of the readout light, changes the reflectance, and returns to the crystalline state after the readout. An optical disk having the above configuration will be described.

【0058】図10の透明基板102としては、いわゆ
るガラス2P基板を使用し、この基板102の一主面に
形成される位相ピット101は、トラックピッチ1.6
μm、ピット深さ約1200Å、ピット幅0.5μmの
設定条件で形成した。そして、このピット101を有す
る透明基板102の一主面にAlNよりなる第1の誘電
体層103を被着形成し、これの上(図では下面側、以
下同様)に相変化材料層104としてSb2 Se3 を被
着形成した。さらに、これの上にAlNによる第2の誘
電体層105を被着形成し、さらにこれの上にAl反射
膜106を被着形成した。
As a transparent substrate 102 in FIG. 10, a so-called glass 2P substrate is used, and phase pits 101 formed on one main surface of the substrate 102 have a track pitch of 1.6.
The pit was formed under the following conditions: pit, pit depth: about 1200 °, pit width: 0.5 μm. Then, a first dielectric layer 103 made of AlN is formed on one main surface of the transparent substrate 102 having the pits 101, and a phase change material layer 104 is formed on the first dielectric layer 103 (on the lower side in the figure, the same applies hereinafter). Sb 2 Se 3 was deposited. Further, a second dielectric layer 105 of AlN was formed thereon, and an Al reflective film 106 was formed thereon.

【0059】このような構成の光ディスクにおいて、信
号が記録されていない部分すなわち位相ピット101が
存在しない鏡面部分を用いて、先ず以下の操作を行っ
た。
The following operation was first performed on the optical disk having such a configuration, using a portion where no signal was recorded, that is, a mirror portion where the phase pit 101 did not exist.

【0060】すなわち、最初に上記光ディスクの1点に
フォーカスさせるように例えば780nmのレーザ光を
照射して、徐冷して初期化(結晶化)する。次に、同一
点にレーザパワーPを、0<P≦10mWの範囲で固定
してレーザパルス光を照射した。この場合、パルス幅t
は、260nsec ≦t≦2.6μsec とした。その結
果、パルス光照射前と、照射後の冷却(常温)後とで、
両固相状態での反射率が変化すれば、材料層が結晶から
非晶質に変化したことになる。そして、この操作で、最
初と最後で反射率変化がなかった場合でも、パルス光の
照射中に、戻り光量が一旦変化したとすれば、それは結
晶状態の膜が一旦液相化されて再び結晶化されたことを
意味する。このように一旦液相状態になって後、温度低
下によって再び結晶化状態になり得る溶融化状態の領域
を、溶融結晶化領域と称する。
That is, first, a laser beam of, for example, 780 nm is irradiated so as to focus on one point of the optical disk, and the optical disk is gradually cooled and initialized (crystallized). Next, the same point was irradiated with laser pulse light while fixing the laser power P in the range of 0 <P ≦ 10 mW. In this case, the pulse width t
Was set to 260 nsec ≦ t ≦ 2.6 μsec. As a result, before irradiation with pulsed light and after cooling (normal temperature) after irradiation,
If the reflectance in both solid state changes, it means that the material layer has changed from crystalline to amorphous. In this operation, even if the reflectance does not change at the beginning and end, if the amount of return light changes once during the irradiation of the pulsed light, it means that the film in the crystalline state is once liquidized and crystallized again. Means that A region in a molten state in which a liquid state can be once brought into a crystallized state after a temperature drop as described above is referred to as a molten crystallization region.

【0061】図13は、上述のように相変化材料層10
4としてSb2 Se3 を用いた場合において、横軸に照
射レーザ光パルス幅を、縦軸にレーザ光パワーをそれぞ
れとり、これらの各値と相変化材料層104の相状態を
示したものである。同図中、曲線aより下方の斜線を付
して示した領域R1 は、相変化材料層104が溶融化し
ない初期状態を保持したままである場合の領域である。
同図において曲線aより上方においてはレーザ光スポッ
ト照射によって液相すなわち溶融状態になるが、特に曲
線aとbとの間の領域R2 は、レーザ光スポットが排除
されて(常温程度にまで)冷却されることによって固相
化されたときに結晶化状態に戻る溶融結晶化領域であ
り、これに対して曲線bより上方の交差斜線で示す領域
3 は、レーザ光スポットを排除して冷却されて固相化
されたときに非晶質すなわちアモルファス状態になる溶
融非晶質化領域である。
FIG. 13 shows the phase change material layer 10 as described above.
In the case where Sb 2 Se 3 is used as 4, the horizontal axis represents the irradiation laser beam pulse width and the vertical axis represents the laser beam power, and these values and the phase state of the phase change material layer 104 are shown. is there. In the figure, a region R 1 shown by hatching below the curve a, the phase change material layer 104 is a region where it remains holding the initial state in which no melting of.
Becomes a liquid phase i.e. melted by the laser beam spot irradiation in above the curve a in the figure, in particular a region R 2 between the curves a and b, the laser beam spot is eliminated (to about room temperature) A melt crystallization region which returns to a crystallized state when cooled to a solid phase by being cooled, whereas a region R 3 shown by a cross-hatched line above the curve b excludes laser light spots and cools. This is a molten amorphous region which becomes amorphous when it is solidified.

【0062】本実施例の上記具体例においては、図13
における溶融結晶化領域R2 での液相状態が再生時に生
じ得るように、その再生時の読み出し光の照射による加
熱状態から常温までの冷却過程において、その融点MP
から固相化に至るに要する時間Δtが結晶化に要する時
間t1 より大となるように、再生光パワー、光ディスク
の構成、材料、各膜厚等の選定がなされる。
In the above specific example of this embodiment, FIG.
So that the liquid state in the melt crystallized region R 2 may occur at the time of reproduction in, in the course of cooling from a heated state by the irradiation of the reproduction of the reading light to a normal temperature, the melting point MP
The reproduction light power, the configuration of the optical disc, the material, the thickness of each film, and the like are selected such that the time Δt required to perform the solidification from the time Δt is longer than the time t 1 required for crystallization.

【0063】上記具体例において、初期化状態の反射率
すなわち結晶化状態の反射率よりも、溶融状態での反射
率が高くなるように各層の厚さ等を設定している。次
に、上述のような相変化型光ディスクの他の具体例とし
て、相変化材料層104にSb2 Te3 を用いた場合に
おいて、上記図13と同様にその相変化状態を測定した
結果を図14に示す。この図14において、上記図13
と対応する部分には同一符号を付して説明を省略する。
この場合も、結晶化状態すなわち初期化状態における反
射率よりも溶融状態の反射率を高めるように、各層の厚
み等を選定している。
In the above example, the thickness of each layer is set so that the reflectance in the molten state is higher than the reflectance in the initialized state, that is, the reflectance in the crystallized state. Next, as another specific example of the above-described phase-change optical disk, when Sb 2 Te 3 is used for the phase-change material layer 104, the results of measuring the phase-change state in the same manner as in FIG. 13 are shown. 14. In FIG. 14, FIG.
The same reference numerals are given to portions corresponding to and the description will be omitted.
Also in this case, the thickness and the like of each layer are selected so that the reflectance in the molten state is higher than the reflectance in the crystallized state, that is, the initialized state.

【0064】なお、Sb2 Se3 、Sb2 Te3 等のカ
ルコゲナイトあるいはカルコゲンにおいて、非晶質状態
の反射率と、溶融状態の反射率は殆ど同程度の値を示
す。そして、本発明の実施例に用いられる光ディスク
は、その再生に当たって該光ディスクに対する走査スポ
ット内における温度分布を利用して超高解像度をもって
再生する。
In the case of chalcogenite or chalcogen such as Sb 2 Se 3 and Sb 2 Te 3 , the reflectance in the amorphous state and the reflectance in the molten state show almost the same value. Then, the optical disk used in the embodiment of the present invention reproduces at an ultra-high resolution by utilizing a temperature distribution in a scanning spot on the optical disk upon reproduction.

【0065】ここで、本発明の実施例による上記相変化
型光ディスクにレーザ光ビームを照射した場合を、図1
5を参照しながら説明する。
FIG. 1 shows a case where the above-mentioned phase-change optical disk according to the embodiment of the present invention is irradiated with a laser beam.
This will be described with reference to FIG.

【0066】図15において、横軸はスポットの走査方
法Xに関する位置を示したもので、今光ディスクにレー
ザが照射されて形成されたビーム・スポットSPの光強
度分布は、同図中破線aのようになる。これに対して相
変化型材料層104における温度分布は、ビーム・スポ
ットSPの走査速度に対応してビーム走査方向Xの後方
側にやや遅れて表れ、同図中実線bのようになる。
In FIG. 15, the abscissa indicates the position related to the spot scanning method X. The light intensity distribution of the beam spot SP formed by irradiating the laser beam on the optical disk is indicated by a broken line a in FIG. Become like On the other hand, the temperature distribution in the phase-change material layer 104 appears slightly behind on the rear side in the beam scanning direction X corresponding to the scanning speed of the beam spot SP, as shown by a solid line b in FIG.

【0067】ここで、レーザ光ビームが図中の矢印X方
向に走査されているとき、媒体の光ディスクは、ビーム
・スポットSPに対して、走査方向の先端側から次第に
温度が上昇し、遂には相変化型材料層104の融点MP
以上の温度となる。この段階で、相変化型材料層104
は初期の結晶状態から溶融状態になり、この溶融状態へ
の移行によって、例えば反射率が上昇する。この場合、
ビーム・スポットSP内で図中斜線を付して示した領域
X の反射率が高くなる。すなわち、ビーム・スポット
SP内で、位相ピット101の読み出しが可能な領域P
X と、結晶化状態を保持して読み出しが殆ど不可能な領
域PZ とが存在する。従って、図示のように同一スポッ
トSP内に例えば2つの位相ピット101が存在してい
る場合においても、反射率が大なる領域PX に存在する
1つの位相ピット101に関してのみその読み出しを行
うことができ、他の位相ピットに関しては、これが反射
率が極めて低い領域PZ にあってこれの読み出しがなさ
れない。このように、同一スポットSP内に複数の位相
ピット101が存在しても、単一の位相ピット101に
関してのみその読み出しを行うことができる。
Here, when the laser light beam is being scanned in the direction of arrow X in the figure, the temperature of the optical disk of the medium gradually rises from the leading end in the scanning direction with respect to the beam spot SP, and finally, Melting point MP of phase change material layer 104
The above temperature is reached. At this stage, the phase change material layer 104
Changes from the initial crystalline state to the molten state, and the transition to the molten state increases, for example, the reflectance. in this case,
Reflectivity region P X which are denoted by the hatched beam spot in the SP becomes higher. That is, in the beam spot SP, the area P where the phase pit 101 can be read out
And X, read and retain the crystalline state exists and almost impossible region P Z. Accordingly, in the case where the phase pit 101 for example, two in the same spot within the SP as shown is also present, it is read out miso for one phase pit 101 present in the region P X where reflectivity is larger can, for other phase pit, which is not done this read in the very low region P Z reflectance. As described above, even if a plurality of phase pits 101 exist in the same spot SP, it is possible to read out only a single phase pit 101.

【0068】従って、上記読み出し光ビームの波長を
λ、対物レンズの開口数をNAとするとき、上記読み出
し光ビームの走査方向に直交する方向の記録信号の最短
の位相ピット間隔(いわゆるトラックピッチ)をスポッ
ト径の1/2以下としても良好な読み出しが行えること
が明らかであり、超高解像度をもって信号の読み出しを
行うことができ、記録密度、特にトラック密度の向上が
図れ、媒体記録容量を増大させることができる。
Accordingly, when the wavelength of the reading light beam is λ and the numerical aperture of the objective lens is NA, the shortest phase pit interval (so-called track pitch) of the recording signal in the direction orthogonal to the scanning direction of the reading light beam. It is clear that good reading can be performed even if the spot diameter is 以下 or less of the spot diameter, the signal can be read with ultra-high resolution, the recording density, especially the track density can be improved, and the medium recording capacity can be increased. Can be done.

【0069】さらに、本発明のように、レーザ光源から
の光ビームの光路中に、上記図5、図7、図8あるいは
図9に示すような光学素子を配置して、レーザ光ビーム
の走査方向Xと直交する方向により鋭い温度分布を持た
せることにより、上記図15のAに示す反射率が大なる
領域Pの同方向の幅をより狭くでき、隣接トラックか
らのクロストークを大幅に低減できるわけである。
Further, as in the present invention, the optical element as shown in FIG. 5, FIG. 7, FIG. 8 or FIG. 9 is arranged in the optical path of the light beam from the laser light source to scan the laser light beam. By providing a sharper temperature distribution in the direction orthogonal to the direction X , the width of the area PX in which the reflectivity is increased as shown in FIG. 15A in the same direction can be further reduced, and the crosstalk from the adjacent track is greatly reduced. This can be reduced.

【0070】ところで、上述した例においては、相変化
材料層104が溶融状態のときに反射率が高く結晶状態
で低い膜厚等の諸条件を設定した場合であるが、各層の
構成、厚さ、相変化材料の構成、厚さ等の諸条件の選定
によって溶融状態においての反射率を低くし結晶状態に
おける反射率を高める構成とすることもでき、この場合
は、図15で示したレーザ光スポットSP内の高温領域
X 内に1つの位相ピット101が存在するようにし、
この領域PX にある1つの位相ピット101からのみそ
の読み出しを行う構成とすることができる。また、レー
ザ光照射により温度が上昇して、例えば上記溶融非晶質
化領域R3 に達すること等により、常温にまで冷却され
た状態では上記結晶化状態等の初期状態に戻らないよう
な不可逆的な相変化を生ずる場合であっても、何らかの
手段で初期化する操作を行えばよく、本発明の要旨から
逸脱するものではない。例えば、再生のためのレーザス
ポットの後に長円系のスポットを照射し、相変化材料層
104を上記溶融結晶化領域R2 にまで加熱したり、融
点MP以下で結晶化温度以上の温度に加熱してやれば、
相変化材料層104は非晶質(アモルファス)状態から
結晶状態に復帰し、いわゆる初期化される。
In the above-described example, various conditions such as a high reflectivity when the phase change material layer 104 is in a molten state and a low film thickness in a crystalline state are set. By selecting various conditions such as the configuration and thickness of the phase change material, the reflectance in the molten state can be reduced and the reflectance in the crystalline state can be increased. In this case, the laser light shown in FIG. One phase pit 101 exists in the high temperature region P X in the spot SP,
It may be configured to read out miso from one phase pits 101 in the region P X. Also, the temperature rises by a laser beam irradiation, for example, such as by reaching the fused amorphous region R 3, such as in a state of being cooled to room temperature does not return to the initial state such as the crystalline state reversible Even when a significant phase change occurs, an operation of initializing may be performed by any means, and does not depart from the gist of the present invention. For example, heating a laser spot of elliptical system irradiated after spot, or heat the phase change material layer 104 to above melt crystallization region R 2, the crystallization temperature or higher at a temperature lower than the melting point MP for the reproduction If you do
The phase change material layer 104 returns from an amorphous state to a crystalline state, and is initialized.

【0071】なお、上述した実施例においては、媒体の
相変化により反射率を変化させているが、反射率変化は
いかなる現象を利用したものであってもよく、例えば、
図16に示す本発明のさらに他の実施例のように、干渉
フィルタにおける水分吸着による分光特性の変化を利用
して、温度によって反射率を変化させてもよい。
In the above embodiment, the reflectivity is changed by the phase change of the medium. However, the change in the reflectivity may use any phenomenon.
As in still another embodiment of the present invention shown in FIG. 16, the reflectance may be changed depending on the temperature by using the change in the spectral characteristic due to the adsorption of moisture in the interference filter.

【0072】すなわち、この図16において、位相ピッ
ト131が形成された透明基板132上に、屈折率の大
きく異なる材料を、それぞれ厚さが再生光の波長λの1
/4となるように繰り返し成膜することにより干渉フィ
ルタが形成されてなるものである。本例では、屈折率の
大きく異なる材料として、MgF層133(屈折率1.
38)と、ZnS層134(屈折率2.35)を採用し
た。勿論、これに限らず屈折率の差が大きくなる材料の
組合せであれば如何なるものであってもよく、例えば、
屈折率の小さなSiO(屈折率1.5)等が挙げられ、
また屈折率の大きな材料としてはTiO2 (屈折率2.
73)やCeO2 (屈折率2.35)等が挙げられる。
That is, in FIG. 16, on the transparent substrate 132 on which the phase pits 131 are formed, materials having greatly different refractive indices are placed on the transparent substrate 132, each having a thickness of one wavelength λ of the reproduction light.
The interference filter is formed by repeatedly forming a film so that the ratio becomes / 4. In this example, as a material having a significantly different refractive index, the MgF layer 133 (refractive index 1.
38) and a ZnS layer 134 (refractive index: 2.35). Of course, the present invention is not limited to this, and any combination of materials having a large difference in refractive index may be used.
SiO having a small refractive index (refractive index 1.5) and the like,
TiO 2 (refractive index 2.
73) and CeO 2 (refractive index: 2.35).

【0073】上述のMgF層133やZnS層134は
蒸着形成されるが、これらを蒸着形成する際に、到達真
空度を例えば10-4 Torr 程度と通常よりも低く設定す
ると、膜構造がいわゆるポーラスなものとなり、そこに
水分が残留する。そして、この水分が残留した膜からな
る干渉フィルタにおいては、室温と水の沸点近くまで温
度を上げた時とで、例えば図17に示すように、反射率
分光特性が大きく異なる。すなわち、室温では図中曲線
iで示すように波長λR を変曲点とする特性を示すのに
対して、沸点近くにまで温度を上げると、図中曲線iiで
示すように波長λH を変曲点とする特性になり、温度が
下がると再び曲線iで示す特性に戻るというように、急
峻な波長シフトが観察される。この現象は、水分が気化
することにより屈折率が大きく変わり、この影響で分光
特性が変化することによるものと考えられている。
The above-mentioned MgF layer 133 and ZnS layer 134 are formed by vapor deposition. When these layers are formed by vapor deposition, if the ultimate vacuum is set lower than usual, for example, about 10 −4 Torr, the film structure becomes so-called porous. And moisture remains there. Then, in the interference filter made of the film in which the moisture remains, the reflectance spectral characteristics are greatly different between room temperature and when the temperature is raised to near the boiling point of water, as shown in FIG. 17, for example. That is, at room temperature, the characteristic that the wavelength λ R is an inflection point as shown by the curve i in the figure, whereas when the temperature is raised to near the boiling point, the wavelength λ H is increased as shown by the curve ii in the figure. A sharp wavelength shift is observed such that the characteristic becomes an inflection point, and returns to the characteristic shown by the curve i when the temperature decreases. This phenomenon is considered to be due to the fact that the refractive index changes significantly due to the vaporization of water, and the spectral characteristics change due to this effect.

【0074】従って、再生光の光源の波長をこれら変曲
点λR 、λH の中間の波長λ0 に選べば、室温時と加熱
時でダイナミックに反射率が変化することになる。
Therefore, if the wavelength of the light source of the reproduction light is selected to be the intermediate wavelength λ 0 between the inflection points λ R and λ H , the reflectance changes dynamically between room temperature and heating.

【0075】本具体例では、この反射率変化を利用して
高密度再生を行う。高密度再生が可能となる原理は、前
述した図15とともに説明した通りで、この場合には水
分が気化して波長シフトが起こった領域が高反射率領域
に相当し、温度が上昇していない部分がマスクされた形
となる。本例では温度が下がると反射率特性が元の状態
に戻るので、特別な消去操作は必要ない。
In this specific example, high-density reproduction is performed utilizing this change in reflectance. The principle that enables high-density reproduction is as described with reference to FIG. 15 described above. In this case, a region in which water has vaporized and a wavelength shift has occurred corresponds to a high reflectance region, and the temperature has not risen. The part has a masked shape. In this example, since the reflectance characteristic returns to the original state when the temperature decreases, no special erasing operation is required.

【0076】なお、本発明は上記実施例のみに限定され
るものではなく、例えば、上記位相板等の光学素子の位
置は、レーザ光源から光磁気ディスク等の媒体までの間
のどの位置でもよく、例えば対物レンズの直前(レーザ
光源側)に配置するようにしてもよい。また、例えば、
上記光記録媒体としては、ディスク状のみならず、カー
ド状、シート状等の媒体にも本発明を適用することがで
きる。
The present invention is not limited to only the above-described embodiment. For example, the position of the optical element such as the phase plate may be any position between the laser light source and a medium such as a magneto-optical disk. For example, it may be arranged immediately before the objective lens (on the side of the laser light source). Also, for example,
The present invention can be applied to not only a disk-shaped medium but also a card-shaped or sheet-shaped medium as the optical recording medium.

【0077】[0077]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る光学ヘッド装置によれば、レーザ光の照射によ
り光磁気記録媒体あるいは反射率変化型光記録媒体上に
生じる温度分布を利用して、レーザ光のスポット内の信
号検出領域のみから信号を読み取る際に、レーザ光の出
射光路中に、上記読み出し光ビームの出射光路中に、通
過するレーザ光が中央部と周辺部とで1/2波長の奇数
倍の位相差を有するように形成され、上記読み出し光ビ
ームが照射される記録媒体上で該読み出し光ビームの走
査方向と直交する方向により鋭い温度分布を持たせる光
学素子を配置しているため、レーザ光スポット内の信号
検出領域のレーザ光走査方向に直交する方向の幅を狭く
して隣接トラックからのクロストークを低減でき、トラ
ック密度を高めることができる。
As is apparent from the above description, according to the optical head device of the present invention, the temperature distribution generated on the magneto-optical recording medium or the reflectance-change type optical recording medium by the irradiation of the laser beam is utilized. When reading a signal only from the signal detection area in the spot of the laser light, the laser light passing therethrough in the emission optical path of the laser light, The optical system is formed so as to have a phase difference of an odd multiple of で wavelength and has a sharper temperature distribution in a direction perpendicular to the scanning direction of the read light beam on the recording medium irradiated with the read light beam. Since the elements are arranged, the width of the signal detection area in the laser beam spot in the direction orthogonal to the laser beam scanning direction can be reduced to reduce crosstalk from an adjacent track and increase the track density. Door can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の説明に供する光学ヘッド装置の概略構
成を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an optical head device used for describing the present invention.

【図2】遮光帯板の概略正面図である。FIG. 2 is a schematic front view of a light-shielding strip.

【図3】媒体上のレーザ光のスポットのレーザ光走査方
向に直交する方向に沿った光強度分布を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a light intensity distribution of a spot of a laser beam on a medium along a direction orthogonal to a laser beam scanning direction.

【図4】光磁気記録媒体上のレーザ光のスポットを概略
的に示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a spot of a laser beam on a magneto-optical recording medium.

【図5】本発明の実施例となる光学ヘッド装置に用いら
れる段差を有する位相板を示し、Aは正面図、Bは側面
図である。
5A and 5B show a phase plate having a step used in the optical head device according to the embodiment of the present invention, wherein A is a front view and B is a side view.

【図6】媒体上のレーザ光のスポットのレーザ光走査方
向に直交する方向に沿った光強度分布を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a light intensity distribution of a spot of a laser beam on a medium along a direction orthogonal to a laser beam scanning direction.

【図7】本発明の実施例となる光学ヘッド装置に用いら
れる透明圧電材料を用いた位相板を示し、Aは正面図、
Bは側面図である。
FIG. 7 shows a phase plate using a transparent piezoelectric material used in an optical head device according to an embodiment of the present invention, where A is a front view,
B is a side view.

【図8】本発明の実施例となる光学ヘッド装置に用いら
れる透明圧電材料を用いた位相板の他の例を示し、Aは
正面図、Bは側面図である。
FIG. 8 shows another example of a phase plate using a transparent piezoelectric material used in an optical head device according to an embodiment of the present invention, wherein A is a front view and B is a side view.

【図9】レーザ光照射時に鋭い温度分布を得るための光
学素子の他の例を示す正面図である。
FIG. 9 is a front view showing another example of an optical element for obtaining a sharp temperature distribution during laser beam irradiation.

【図10】本発明に係る光学ヘッドに対して使用可能な
光記録媒体の他の例となる相変化型光ディスクの一例の
要部を示す概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a main part of an example of a phase-change optical disc as another example of an optical recording medium usable for the optical head according to the present invention.

【図11】上記相変化型光ディスクの他の例の要部を示
す概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a main part of another example of the phase change optical disk.

【図12】上記相変化型光ディスクのさらに他の例の要
部を示す概略断面図である。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing a main part of still another example of the phase change optical disc.

【図13】上記相変化型光ディスクの説明に供する相変
化状態を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a phase change state for explaining the phase change type optical disc.

【図14】上記相変化型光ディスクの説明に供する他の
相変化状態を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing another phase change state for explaining the phase change type optical disc.

【図15】上記相変化型光ディスクの説明に供する読み
出し光スポットと温度分布との関係を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a relationship between a read light spot and a temperature distribution for explaining the phase change optical disk.

【図16】干渉フィルタを用いた反射率変化型の光ディ
スクの要部を示す概略断面図である。
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing a main part of a reflectivity change type optical disk using an interference filter.

【図17】干渉フィルタにおける温度による反射率分光
特性の変化の様子を示す特性図である。
FIG. 17 is a characteristic diagram showing how the spectral reflectance characteristics of the interference filter change with temperature.

【図18】レーザビームのスポット径と、再生可能な記
録ピットの記録密度との関係を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing the relationship between the spot diameter of a laser beam and the recording density of reproducible recording pits.

【図19】消去タイプの光磁気記録媒体、その再生方法
及び媒体の実質的な再生領域を説明するための図であ
る。
FIG. 19 is a diagram for explaining an erasing type magneto-optical recording medium, a reproducing method thereof, and a substantial reproducing area of the medium.

【図20】浮き出しタイプの光磁気記録媒体、その再生
方法及び媒体の実質的な再生領域を説明するための図で
ある。
FIG. 20 is a diagram for explaining a floating type magneto-optical recording medium, a reproducing method thereof, and a substantial reproducing area of the medium.

【図21】光磁気記録媒体上のレーザ光のスポットを概
略的に示す平面図である。
FIG. 21 is a plan view schematically showing a spot of a laser beam on a magneto-optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 レーザ光源、 12 コリメータレンズ、 13
ビームスプリッタ、14 対物レンズ、 15 光磁
気ディスク、 16 集光レンズ、 17光検出器、
18 磁気ヘッド、 21 遮光帯板、 22 遮光
帯、 26段差を持つ位相板
11 laser light source, 12 collimator lens, 13
Beam splitter, 14 objective lens, 15 magneto-optical disk, 16 condenser lens, 17 photodetector,
18 magnetic head, 21 light-shielding band, 22 light-shielding band, phase plate having 26 steps

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 梅岡 信幸 (56)参考文献 実開 平2−132325(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 11/105 G11B 7/12 - 7/22 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page Examiner Nobuyuki Umeoka (56) References Hikaru 2-132325 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 11/105 G11B 7 / 12-7/22

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも磁気的に結合されている再生
層と記録保持層とを有してなる多層膜を記録層とし、上
記記録保持層に信号が磁気記録され、上記再生層の磁化
の向きが揃えられた状態の光磁気媒体に対して、上記再
生層に光ビームを照射することにより当該再生層を加熱
して上記記録保持層に磁気的に記録されている信号を上
記再生層に転写しながら磁気光学効果により光学信号に
変換して読み取る光学ヘッド装置において、 上記読み出し光ビームの出射光路中に、通過するレーザ
光が中央部と周辺部とで1/2波長の奇数倍の位相差を
有するように形成され、上記読み出し光ビームが照射さ
れる記録媒体上で該読み出し光ビームの走査方向と直交
する方向により鋭い温度分布を持たせる光学素子を配し
てなる光学ヘッド装置。
1. A recording medium comprising: a multilayer film having at least a reproducing layer and a recording holding layer which are magnetically coupled to each other; a signal is magnetically recorded in the recording holding layer; The reproducing layer is heated by irradiating the reproducing layer with a light beam to the magneto-optical medium in which the signals are aligned, and the signal magnetically recorded on the recording holding layer is transferred to the reproducing layer. In the optical head device, the laser beam is converted into an optical signal by the magneto-optical effect and read, and the laser beam passing through the output optical path of the read light beam is an odd multiple of 1/2 wavelength at the central portion and the peripheral portion. The readout light beam is formed so as to have a phase difference.
An optical head device provided with an optical element having a sharper temperature distribution in a direction perpendicular to the scanning direction of the read light beam on a recording medium to be read.
【請求項2】 上記光学素子は、中央部が周囲部に対し
て厚みが異なる段差部を有することを特徴とする請求項
1記載の光学ヘッド装置。
2. The optical head device according to claim 1, wherein the optical element has a step portion whose central portion has a thickness different from that of a peripheral portion.
【請求項3】 信号に応じて位相ピットが形成されると
ともに温度によって反射率が変化する記録媒体に対して
読み出し光ビームを照射し、読み出し光ビームの走査ス
ポット内で反射率を部分的に変化させながら位相ピット
を読み取るような光学ヘッド装置において、 上記読み出し光ビームの出射光路中に、通過するレーザ
光が中央部と周辺部とで1/2波長の奇数倍の位相差を
有するように形成され、上記読み出し光ビームが照射さ
れる記録媒体上で該読み出し光ビームの走査方向と直交
する方向により鋭い温度分布を持たせる光学素子を配し
てなる光学ヘッド装置。
3. A recording medium in which a phase pit is formed in accordance with a signal and the reflectance of which changes with temperature is irradiated with a reading light beam, and the reflectance changes partially within a scanning spot of the reading light beam. In an optical head device that reads a phase pit while causing the laser beam to pass through, the laser beam passing through the optical path of the read light beam has a phase difference of an odd multiple of 波長 wavelength between the central portion and the peripheral portion. Formed and irradiated with the read light beam
An optical head device provided with an optical element having a sharper temperature distribution in a direction perpendicular to the scanning direction of the read light beam on a recording medium to be read.
【請求項4】 上記光学素子は、中央部が周囲部に対し
て厚みが異なる段差部を有することを特徴とする請求項
3記載の光学ヘッド装置。
4. The optical head device according to claim 3, wherein the optical element has a step portion whose center portion has a thickness different from that of a peripheral portion.
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