JP3328493B2 - Substrate with thin film and method of manufacturing the same - Google Patents

Substrate with thin film and method of manufacturing the same

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JP3328493B2
JP3328493B2 JP03165096A JP3165096A JP3328493B2 JP 3328493 B2 JP3328493 B2 JP 3328493B2 JP 03165096 A JP03165096 A JP 03165096A JP 3165096 A JP3165096 A JP 3165096A JP 3328493 B2 JP3328493 B2 JP 3328493B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜付き基板およ
びその製造方法に関する。本発明によれば、光学用およ
び電子光学用などの用途に好適な所望の透過率特性を有
する着色フィルターおよび紫外線カットフィルターを提
供することが可能であり、また着色眼鏡レンズを提供す
ることも可能である。
The present invention relates to a substrate with a thin film and a method for manufacturing the same. According to the present invention, it is possible to provide a colored filter and an ultraviolet cut filter having desired transmittance characteristics suitable for applications such as optical and electro-optical applications, and it is also possible to provide a colored spectacle lens. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】写真
撮影などに使用されるカメラには、スカイライトフィル
ターと呼ばれる着色フィルターがレンズの前面に装着さ
れている。この着色フィルターは、淡いピンク色の着色
を持ったフィルターで、500nm付近にわずかな吸収を
持ち、晴天戸外でのカラー撮影において、青空の影響に
よる青緑色の発色を押さえる目的を持っている。
2. Description of the Related Art A color filter called a skylight filter is mounted on the front of a lens in a camera used for photographing or the like. This coloring filter is a filter having a pale pink coloration, has a slight absorption at around 500 nm, and has the purpose of suppressing blue-green color development due to the effect of the blue sky in color photography outside the clear sky.

【0003】この種の着色フィルターとして、 (i) セレン着色ガラス (ii) 金コロイド着色ガラス (iii) 張り合わせフィルター がある。[0003] As this kind of colored filter, there are (i) selenium colored glass (ii) gold colloid colored glass (iii) laminated filter.

【0004】上記の着色フィルターのうち、(i)のセレ
ン着色ガラス、(ii)の金コロイド着色ガラスは、マトリ
ックスとなるガラス原料と、着色成分であるセレン、金
の原料とを加熱してガラス融液とした後、このガラス融
液を急冷、再加熱処理することにより製造されている。
そして、この様にして得られたガラス塊は、スライス加
工、研削、研磨、外形加工、組立の一連の工程を経て、
スカイライトフィルター製品となる。
Among the above-mentioned colored filters, selenium-colored glass (i) and colloidal gold-colored glass (ii) are obtained by heating a glass material serving as a matrix and selenium / gold materials serving as coloring components. The glass melt is manufactured by quenching and reheating the glass melt.
And the glass lump obtained in this way goes through a series of processes of slicing, grinding, polishing, outer shape processing, assembly,
Skylight filter products.

【0005】上記(iii)の張り合わせフィルターは、2
枚のガラス板の間に有機質の着色膜を挾み込み、各々を
接着することにより製造されており、ガラス板として
は、主として市販の板ガラスが使用される。この様にし
て得られた張り合わせガラスは、外形加工、組立を経て
製品となる。
[0005] The laminating filter of the above (iii) has 2
It is manufactured by sandwiching an organic colored film between two glass plates and bonding them together, and a commercially available glass plate is mainly used as the glass plate. The laminated glass obtained in this manner becomes a product through external processing and assembly.

【0006】しかしながら、前述の3種の着色フィルタ
ーは、いくつかの問題を有している。
[0006] However, the above-mentioned three types of coloring filters have some problems.

【0007】セレン着色ガラス、金コロイドガラスの製
造方法である溶融法は、主として、 (i) マトリックスとなるガラスとして特殊な組成のガラ
スを用いる必要があるため、製造コストが高くなる。 (ii) 着色が、溶融時、再加熱処理時の条件の影響を強
く受ける。 (iii) フィルターとして使用するために、スライス、研
削、研磨の工程を経なければならない。 (iv) セレン等の有毒物を含む場合がある。 の様な問題を持っており、フィルターを容易、安価に製
造する方法とは言い難い。
The melting method, which is a method for producing selenium colored glass and colloidal gold glass, mainly requires (i) the use of a glass having a special composition as a glass serving as a matrix, and therefore, the production cost increases. (ii) Coloring is strongly affected by conditions during melting and reheating. (iii) In order to be used as a filter, it must undergo slicing, grinding and polishing steps. (iv) May contain toxic substances such as selenium. Therefore, it is difficult to say that the filter is easily and inexpensively manufactured.

【0008】また、張り合わせフィルターは、ガラスを
溶融する必要がない、スライス、研削、研磨の工程を省
けるなどのメリットを持ってはいるが、 (i) 有機系の膜、接着剤を使用するため、耐熱性、耐候
性、耐光性などの特性が劣る。 (ii) ガラスを張り合わせる工程が必要であり、精度良
くガラスを張り合わせるのが難しい。 などの問題があり、この方法もまたフィルターを容易、
安価に製造する方法とは言い難く、有機質の素材を使用
することから信頼性の面でも難がある。
[0008] In addition, although the laminating filter has advantages such as no need to melt the glass and elimination of slicing, grinding and polishing steps, (i) since an organic film and an adhesive are used, Inferior properties such as heat resistance, weather resistance and light resistance. (ii) A step of bonding glass is required, and it is difficult to bond glass with high accuracy. This method also makes the filter easier,
It is difficult to say that it is a low-cost manufacturing method, and there is also a problem in terms of reliability because an organic material is used.

【0009】一方、紫外線を遮断する紫外線カットフィ
ルターは、光学産業、電子光学産業、その他産業に至る
幅広い分野で活用されている。
On the other hand, ultraviolet cut filters that block ultraviolet light are used in a wide range of fields including the optical industry, the electro-optical industry, and other industries.

【0010】この種の紫外線カットフィルターとして、 (i) Ceイオン含有ガラス (ii) 張り合わせフィルター がある。As this type of ultraviolet cut filter, there are (i) glass containing Ce ions and (ii) a laminated filter.

【0011】上記(i)のCeイオン含有ガラスは、マト
リックスとなるガラス原料と紫外線吸収成分であるCe
の原料とを加熱してガラス融液とした後、冷却固化する
ことにより製造されている。そして、この様にして得ら
れたガラス塊は、スライス加工、研削、研磨、外径加
工、組立の一連の工程を経て、紫外線カットフィルター
製品となる。
The Ce ion-containing glass (i) is composed of a glass material serving as a matrix and Ce-absorbing component Ce.
It is manufactured by heating a raw material to form a glass melt, followed by cooling and solidification. Then, the glass lump thus obtained is subjected to a series of steps of slicing, grinding, polishing, outer diameter processing, and assembling, and becomes an ultraviolet cut filter product.

【0012】上記(ii)の張り合わせフィルターは、2枚
のガラス板の間に有機質の紫外線吸収膜を挟み込み、各
々を接着させることにより製造されており、ガラス板と
しては主として市販の板ガラスが使用される。この様に
して得られた張り合わせガラスは、外径加工、組立を経
て製品となる。
The laminated filter (ii) is manufactured by sandwiching an organic ultraviolet absorbing film between two glass plates and bonding them together, and a commercially available glass plate is mainly used as the glass plate. The laminated glass obtained in this manner is processed into an outer diameter and assembled to become a product.

【0013】しかしながら、前述の2種の紫外線カット
フィルターは、いくつかの問題を有している。
[0013] However, the above two types of ultraviolet cut filters have several problems.

【0014】Ceイオン含有ガラスの製造方法である熔
融法は、主として、 (i) マトリックスとなるガラスとして特殊な組成のガラ
スを用いる必要があるため、製造コストが高くなる。 (ii) 原料を融液とするのに、大量のエネルギーを必要
とする。 (iii) 紫外線吸収特性が、熔融時、冷却時の条件などの
影響を強く受け、安定しない。 (iv) フィルターとして使用するためには、スライス、
研削、研磨の工程を経なければならない。 (v) 鉛などの有毒物を含む場合がある。 の様な問題点を持っており、フィルターを容易、安価に
製造する方法とは言い難い。
The melting method, which is a method for producing Ce ion-containing glass, mainly involves (i) the use of a glass having a special composition as a glass serving as a matrix, which increases the production cost. (ii) A large amount of energy is required to turn the raw material into a melt. (iii) The ultraviolet absorption characteristics are not stable due to the influence of melting and cooling conditions. (iv) For use as a filter, slice,
It must go through the steps of grinding and polishing. (v) May contain toxic substances such as lead. However, it is difficult to say that it is an easy and inexpensive method of manufacturing a filter.

【0015】また、張り合わせフィルターは、ガラスを
熔融する必要がない、スライス、研削、研磨の工程を省
けるなどのメリットを持ってはいるが、 (i) 有機系の膜、接着剤を使用するため、耐熱性、耐候
性、耐光性などの特性が劣る。 (ii) ガラスを張り合わせる工程が必要であり、精度良
くガラスを張り合わせるのが難しい。 などの問題があり、この方法もまたフィルターを容易、
安価に製造する方法とは言い難く、有機質の素材を使用
することから信頼性の面でも難がある。
[0015] The laminating filter has the advantages of eliminating the need to melt the glass and omitting the slicing, grinding and polishing steps, but (i) uses an organic film and adhesive. Inferior properties such as heat resistance, weather resistance and light resistance. (ii) A step of bonding glass is required, and it is difficult to bond glass with high accuracy. This method also makes the filter easier,
It is difficult to say that it is a low-cost manufacturing method, and there is also a problem in terms of reliability because an organic material is used.

【0016】従って本発明は、従来品と同等またはそれ
以上の特性および信頼性を有する着色フィルター、紫外
線カットフィルターなどとして用いるのに好適な物品を
容易、安価に提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide easily and inexpensively articles suitable for use as colored filters, ultraviolet cut filters, and the like having properties and reliability equal to or better than conventional products.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたものであり、本発明は、超微粒子が
マトリックス中に分散している超微粒子含有薄膜を透明
基板上に設けてなり、超微粒子含有薄膜の屈折率と透明
基板の屈折率を実質的に同一にしたことを特徴とする薄
膜付き基板を要旨とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above object, and the present invention provides an ultrafine particle-containing thin film in which ultrafine particles are dispersed in a matrix, provided on a transparent substrate. The present invention provides a substrate with a thin film, wherein the refractive index of the ultrafine particle-containing thin film and the refractive index of the transparent substrate are made substantially the same.

【0018】また本発明は、透明基板上に超微粒子原料
およびマトリックス原料を含む液状組成物を塗布し、乾
燥、熱処理することを特徴とする上記薄膜付き基板の製
造方法を要旨とする。
The present invention also provides a method for producing a substrate with a thin film as described above, which comprises applying a liquid composition containing an ultrafine particle material and a matrix material on a transparent substrate, followed by drying and heat treatment.

【0019】先ず本発明の薄膜付き基板について説明す
る。本発明の薄膜付き基板は、透明基板上に超微粒子含
有薄膜を設けたものである。
First, the substrate with a thin film of the present invention will be described. The substrate with a thin film of the present invention is obtained by providing an ultrafine particle-containing thin film on a transparent substrate.

【0020】透明基板の材料としては、透明であればプ
ラスチックなどの有機質材料およびガラスなどの無機質
材料を用いることができるが、着色フィルター、紫外線
カットフィルターなどに要求される諸特性を考慮する
と、ガラス製の透明基板を用いるのが好ましい。またガ
ラスやプラスチック基材上にコート膜、例えば紫外線遮
蔽膜(ZnO超微粒子やTiO2超微粒子をバインダー
中に分散させた薄膜やCeイオン含有薄膜など)や干渉
色防止中間膜などを設けたものを透明基板として使用す
ることもできる。
As the material for the transparent substrate, organic materials such as plastics and inorganic materials such as glass can be used as long as they are transparent. It is preferable to use a transparent substrate made of aluminum. The coating film on a glass or plastic substrate, for example ultraviolet shielding film (the ZnO ultrafine particles and TiO 2 ultrafine particles such as a thin film or Ce ion-containing thin film dispersed in a binder) and that provided such interference color preventing intermediate layer Can be used as a transparent substrate.

【0021】上記透明基板上に設ける超微粒子含有薄膜
は、超微粒子と、超微粒子のバインダーとして働くマト
リックスとにより構成されている。
The ultrafine particle-containing thin film provided on the transparent substrate is composed of ultrafine particles and a matrix serving as a binder for the ultrafine particles.

【0022】超微粒子としては、金コロイド、酸化亜鉛
超微粒子、銀コロイド、酸化銅超微粒子、ニッケルコロ
イド、白金コロイドなどの金属又は金属酸化物の超微粒
子が挙げられる。超微粒子として酸化亜鉛超微粒子を用
いる場合、その比表面積(窒素ガス使用したBET法に
より測定)は、60m2/gを超えることが望ましい。
その理由は、酸化亜鉛超微粒子の比表面積が60m2
g以下であると、散乱により薄膜が半透明になり透過率
が低下するからである。
Examples of the ultrafine particles include metal or metal oxide ultrafine particles such as gold colloid, zinc oxide ultrafine particles, silver colloid, copper oxide ultrafine particles, nickel colloid, and platinum colloid. When ultrafine zinc oxide particles are used as the ultrafine particles, the specific surface area (measured by a BET method using nitrogen gas) desirably exceeds 60 m 2 / g.
The reason is that the specific surface area of the zinc oxide ultrafine particles is 60 m 2 /
This is because, when it is less than g, the thin film becomes translucent due to scattering, and the transmittance is reduced.

【0023】超微粒子として、溶性アゾ顔料(例えばc
系、2B系、6B系など)、不溶性アゾ顔料(例えばβ
−ナフトール系、モノアゾエロー系、ピラゾロン系な
ど)、フタロシアニン系顔料(たとえば銅フタロシアニ
ンブルー、ファーストスカイブルー、無金属フタロシア
ニンなど)、スレン系(例えばチオインジゴ系、アント
ラキノン系、ペリレン系、ペリノン系など)、ジオキサ
ジン系、キナクリドン系、イソインドリノン系などの有
機顔料系の超微粒子を用いることもできる。
As ultrafine particles, soluble azo pigments (for example, c
System, 2B system, 6B system, etc.), insoluble azo pigments (for example, β
Naphthol type, monoazo yellow type, pyrazolone type, etc.), phthalocyanine type pigments (eg, copper phthalocyanine blue, fast sky blue, metal-free phthalocyanine, etc.), sulene type (eg, thioindigo type, anthraquinone type, perylene type, perinone type, etc.), dioxazine Ultrafine particles based on organic pigments such as quinacridone, isoindolinone and the like can also be used.

【0024】超微粒子の平均粒径は100nm以下である
のが好ましい。その理由は、超微粒子の平均粒径が10
0nmを超えると、散乱により薄膜が半透明になり透過率
が低下し始めるからである。超微粒子の平均粒径は1nm
以上75nm以下が好ましく、1nm以上50nm以下が特に
好ましい。
The average particle size of the ultrafine particles is preferably 100 nm or less. The reason is that the average particle size of the ultrafine particles is 10
If the thickness exceeds 0 nm, the thin film becomes translucent due to scattering and the transmittance starts to decrease. Average particle size of ultrafine particles is 1nm
It is preferably from 75 nm to 75 nm, particularly preferably from 1 nm to 50 nm.

【0025】マトリックスは、少なくともSiO2と、
屈折率調整成分の酸化物及び又はフッ化物とを含むのが
好ましい。屈折率調整成分として、Sc、Ti、Y、Z
r、Nb、Mo、In、Sn、Sb、Ba、La、C
e、Hf、Ta、W、Bi、Cd、Tl、Pbなどの酸
化物又はフッ化物を挙げることができる。このほかに、
必要に応じて、Li、B、Na、Mg、Al、P、K、
Ca、Zn、Ga、Ge、As、Rb、Sr、Csなど
の酸化物又はフッ化物を添加できる。
The matrix comprises at least SiO 2 ,
It preferably contains an oxide and / or a fluoride as a refractive index adjusting component. Sc, Ti, Y, Z as refractive index adjusting components
r, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Ba, La, C
Examples thereof include oxides or fluorides such as e, Hf, Ta, W, Bi, Cd, Tl, and Pb. In addition,
If necessary, Li, B, Na, Mg, Al, P, K,
An oxide or a fluoride such as Ca, Zn, Ga, Ge, As, Rb, Sr, and Cs can be added.

【0026】基板表面に、薄膜を設けた場合、基板の屈
折率と薄膜の屈折率が一致しないと、干渉色が発生す
る。光学用途に使用しない場合には、この干渉色は特に
問題とはならないが、干渉色が生じた薄膜付き基板を、
着色フィルター、紫外線カットフィルター、眼鏡レンズ
などの光学用途に使用した場合、干渉縞による特定波長
の反射、吸収が発生し、着色やゴーストなどの悪影響を
与える。
When a thin film is provided on the surface of a substrate, an interference color occurs if the refractive index of the substrate does not match the refractive index of the thin film. When not used for optical applications, this interference color is not particularly problematic,
When used for optical applications such as coloring filters, ultraviolet cut filters, and spectacle lenses, reflection and absorption of specific wavelengths occur due to interference fringes, which adversely affect coloring and ghosting.

【0027】基板と薄膜の間の干渉色を防ぐ方法として
特開平6−191895号公報、特開平6−19259
8号公報で示される方法が既に提案されている。これら
の方法は、基板と薄膜との間に、基板と薄膜の中間の屈
折率を持つ干渉色防止中間膜を形成するというものであ
る。この方法によれば、干渉色の影響をなくすことがで
きるが、 (i) 中間膜の厚みを精度良く制御することが困難であ
る。 (ii) 塗膜の形成を2回以上行わなければならない。 などの問題を持っている。
As a method for preventing interference colors between a substrate and a thin film, JP-A-6-191895 and JP-A-6-19259.
No. 8 has already been proposed. In these methods, an interference color preventing intermediate film having a refractive index between the substrate and the thin film is formed between the substrate and the thin film. According to this method, the influence of the interference color can be eliminated, but (i) it is difficult to accurately control the thickness of the intermediate film. (ii) The coating must be formed more than once. Have such problems.

【0028】そこで本発明の薄膜付き基板においては、
基板と薄膜との間に干渉色防止中間膜を形成することな
く、超微粒子含有薄膜の屈折率と透明基板の屈折率とを
実質的に同一にすることにより、上記干渉色を防止した
ものである。
Therefore, in the substrate with a thin film of the present invention,
Without forming an interference color prevention intermediate film between the substrate and the thin film, the interference color was prevented by making the refractive index of the ultrafine particle-containing thin film and the refractive index of the transparent substrate substantially the same. is there.

【0029】ここに「超微粒子含有薄膜の屈折率と透明
基板の屈折率とを実質的に同一にする」とは、広義に
は、干渉色が発生しないように両者の屈折率を一致また
は近似させることを意味するが、より具体的には、透明
基板の一方の主表面に超微粒子含有薄膜を設ける場合、
透明基板と薄膜の屈折率の差を10%以内に、そして透
明基板の両方の主表面に超微粒子含有薄膜を設ける場
合、透明基板と薄膜の屈折率の差を5%以内にすること
を意味する。
Here, "making the refractive index of the ultrafine particle-containing thin film substantially equal to the refractive index of the transparent substrate" broadly means that the refractive indices of the two are matched or approximated so that no interference color is generated. More specifically, more specifically, when providing an ultrafine particle-containing thin film on one main surface of a transparent substrate,
When the difference between the refractive index of the transparent substrate and the thin film is within 10%, and when the ultrafine particle-containing thin film is provided on both main surfaces of the transparent substrate, the difference between the refractive index of the transparent substrate and the thin film is within 5%. I do.

【0030】基板の片面および両面に薄膜をそれぞれ設
けた場合の基板と薄膜との屈折率差を上記数値以内に限
定した理由は次のとおりである。
The reason why the difference in the refractive index between the substrate and the thin film when the thin film is provided on one side and both sides of the substrate is limited to within the above numerical values is as follows.

【0031】基板と薄膜の屈折率に大きな差があると、
干渉作用により透過率曲線に凹凸が生じ、ピークとディ
ップの差(以下ΔT)が5%を超えると目で見て着色し
ていることがはっきり判るようになる。不必要な着色を
避けるためには、ΔTが可視域で5%以内である必要が
ある。ΔTを可視域で5%以内にするためには、本発明
者らの計算によれば、基板の片面に薄膜を設けた場合、
基板と薄膜との屈折率差を10%以内にする必要がある
ことが明らかとなった。また基板の両面に薄膜を設けた
場合は、基板と薄膜との屈折率差を、片面に設けた場合
の1/2に相当する5%以内にする必要があることが明ら
かとなった。
If there is a large difference in the refractive index between the substrate and the thin film,
The interference curve causes irregularities in the transmittance curve, and when the difference between the peak and the dip (hereinafter, ΔT) exceeds 5%, it becomes clear that the coloring is visually observed. To avoid unnecessary coloring, ΔT needs to be within 5% in the visible region. In order to make ΔT within 5% in the visible region, according to calculations by the present inventors, when a thin film is provided on one side of a substrate,
It became clear that the difference in the refractive index between the substrate and the thin film had to be within 10%. In addition, when thin films were provided on both surfaces of the substrate, it was clarified that the difference in refractive index between the substrate and the thin film had to be within 5%, which was equivalent to 1/2 of that provided on one surface.

【0032】ΔTは2%以内とするのが更に好ましく、
この場合には、基板と薄膜との屈折率差を、薄膜を片面
に設けたとき5%以内、薄膜を両面に設けたとき2.5
%以内にする必要がある。
ΔT is more preferably within 2%,
In this case, the difference in the refractive index between the substrate and the thin film is within 5% when the thin film is provided on one side, and 2.5% when the thin film is provided on both sides.
It must be within%.

【0033】透明基板として屈折率1.52の白板ガラ
スを用いた場合、基板との屈折率差の数値条件を満たす
薄膜の屈折率は、薄膜を片面に設けた場合1.37〜
1.67、両面に設けた場合1.44〜1.60である
必要がある。
When a white plate glass having a refractive index of 1.52 is used as the transparent substrate, the refractive index of the thin film satisfying the numerical condition of the refractive index difference from the substrate is 1.37 to 1.5 when the thin film is provided on one side.
1.67, and 1.44 to 1.60 when provided on both sides.

【0034】一般に光学ガラスの屈折率は、可視光にお
いて1.5〜1.9の範囲に含まれる。薄膜の屈折率範
囲はSiO2と屈折率調整成分との配合比を適宜変動さ
せることにより達成できる。具体的には、SiO2を2
0〜99wt%、屈折率調整成分を80〜1wt%の範囲で
適宜変動させることにより基板の屈折率と実質的に同一
の屈折率を有する薄膜を得ることができる。塗膜性、塗
布液の安定性を考慮するとSiO2を30〜99wt%、
屈折率調整成分を70〜1wt%とするのが好ましい。
In general, the refractive index of optical glass is in the range of 1.5 to 1.9 for visible light. The refractive index range of the thin film can be achieved by appropriately varying the mixing ratio of SiO 2 and the refractive index adjusting component. More specifically, the SiO 2 2
A thin film having a refractive index substantially the same as the refractive index of the substrate can be obtained by appropriately varying the refractive index adjusting component from 0 to 99 wt% and the refractive index adjusting component from 80 to 1 wt%. Coatability, considering the stability of the coating solution the SiO 2 30~99wt%,
It is preferable that the refractive index adjusting component is 70 to 1 wt%.

【0035】本発明の薄膜付き基板において、超微粒子
含有薄膜の膜厚は、必要とされる所望の透過率特性に合
わせ、かつ超微粒子含有薄膜中の超微粒子濃度などを考
慮して調整される。超微粒子含有薄膜の膜厚は、一般的
には、0.01〜5μmの範囲である。
In the substrate with a thin film of the present invention, the thickness of the ultrafine particle-containing thin film is adjusted in accordance with the required desired transmittance characteristic and in consideration of the concentration of the ultrafine particles in the ultrafine particle-containing thin film. . The thickness of the ultrafine particle-containing thin film is generally in the range of 0.01 to 5 μm.

【0036】超微粒子含有薄膜において、超微粒子の含
有量は超微粒子の種類によって異なる。例えば金コロイ
ドの場合、その含有量は0.1〜40wt%が好ましい。
その理由は、金の含有量が0.1wt%未満であると、析
出する金コロイドの量が少なく所望の吸収を得ることが
困難になる。また、40wt%を超えるとコロイドはバイ
ンダーとして働くガラスマトリックス中に安定に取り込
まれなくなり、金コロイドが膜外に析出してしまう。金
の量は、1〜30wt%であるのが特に好ましい。
In the ultrafine particle-containing thin film, the content of the ultrafine particles differs depending on the type of the ultrafine particles. For example, in the case of gold colloid, the content is preferably 0.1 to 40% by weight.
The reason is that when the content of gold is less than 0.1 wt%, the amount of colloidal gold deposited is small, making it difficult to obtain desired absorption. On the other hand, if the content exceeds 40% by weight, the colloid is not stably taken into the glass matrix acting as a binder, and the gold colloid precipitates out of the film. It is particularly preferred that the amount of gold is from 1 to 30% by weight.

【0037】酸化亜鉛超微粒子の場合、その薄膜中の含
有量は15〜75wt%が好ましい。その理由は、酸化亜
鉛超微粒子の含有量が15wt%未満であると、酸化亜鉛
超微粒子の量が少なく所望の吸収を得ることが困難にな
る。また、75wt%を超えると酸化亜鉛超微粒子がバイ
ンダーとして働くマトリックス中に安定に取り込まれな
くなり、酸化亜鉛超微粒子が膜外に析出してしまう。ま
た、膜の透明性や、膜の硬度が悪化する。酸化亜鉛超微
粒子の量は、20〜70wt%であるのが特に好ましい。
In the case of ultrafine zinc oxide particles, the content in the thin film is preferably from 15 to 75% by weight. The reason is that when the content of the zinc oxide ultrafine particles is less than 15 wt%, the amount of the zinc oxide ultrafine particles is small and it becomes difficult to obtain desired absorption. On the other hand, if the content exceeds 75% by weight, the zinc oxide ultrafine particles cannot be stably taken into the matrix acting as a binder, and the zinc oxide ultrafine particles are deposited outside the film. Further, the transparency of the film and the hardness of the film deteriorate. The amount of the ultrafine zinc oxide particles is particularly preferably 20 to 70 wt%.

【0038】銀コロイド、酸化銅超微粒子、ニッケルコ
ロイド、白金コロイドの場合、その含有量は、金コロイ
ドの場合と同様に、0.1〜40wt%が好ましく、1〜
30wt%であるのが特に好ましい。
In the case of silver colloid, copper oxide ultrafine particles, nickel colloid, and platinum colloid, the content thereof is preferably 0.1 to 40% by weight, as in the case of gold colloid.
Particularly preferred is 30% by weight.

【0039】本発明の薄膜付き基板においては、超微粒
子含有薄膜上に、コート膜、例えば紫外線遮蔽膜(Zn
O超微粒子やTiO2超微粒子をバインダー中に分散さ
せた薄膜やCeイオン含有薄膜など)、撥水性薄膜、着
色膜などを設けることができる。
In the substrate with a thin film of the present invention, a coating film, for example, an ultraviolet shielding film (Zn)
The O ultrafine particles and TiO 2 ultrafine particles such as a thin film or Ce ion-containing thin film dispersed in a binder) can be provided water-repellent thin film, a coloring film.

【0040】以上詳説した本発明の薄膜付き基板は、こ
れを着色フィルターや紫外線カットフィルターとして用
いたときに、従来のフィルターと同等以上の特性および
信頼性を有し、かつ干渉色も発生しないという顕著な効
果を奏する。また本発明の薄膜付き基板は、干渉色の発
生しない眼鏡レンズとしても用いることができる。
The substrate with a thin film according to the present invention, which has been described in detail above, has characteristics and reliability equal to or higher than those of a conventional filter when used as a color filter or an ultraviolet cut filter, and does not generate interference colors. Has a remarkable effect. Further, the substrate with a thin film of the present invention can be used as a spectacle lens that does not generate interference colors.

【0041】本発明の薄膜付き基板は、透過率ヘーズ値
が2未満であるのが好ましい。ここに透過率ヘーズ値と
は、式 透過ヘーズ値[%]=(Td/Tt)×100 Td:散乱光透過率[%] Tt:全光線透過率[%] により求められる。透過ヘーズ値は、小さいほど透明性
が高く、大きいほど透明性が低いことを意味している。
超微粒子含有薄膜を塗布したガラス基板の透過ヘーズ値
は、2未満が好ましい。2以上あると、目で見て透明性
が悪化していることがはっきり分かるようになる。必要
な透明性を得るためには透過ヘーズ値が2未満、好まし
くは1未満である必要がある。特に好ましくは0.5未
満である。
The substrate with a thin film of the present invention preferably has a transmittance haze value of less than 2. Here, the transmittance haze value is determined by the formula: transmission haze value [%] = (Td / Tt) × 100 Td: scattered light transmittance [%] Tt: total light transmittance [%] The smaller the transmission haze value, the higher the transparency, and the larger the transmission haze value, the lower the transparency.
The transmission haze value of the glass substrate coated with the ultrafine particle-containing thin film is preferably less than 2. If it is 2 or more, it becomes clear that the transparency is deteriorated visually. In order to obtain the required transparency, the transmission haze value must be less than 2, preferably less than 1. Particularly preferably, it is less than 0.5.

【0042】次に本発明の薄膜付き基板の製造方法につ
いて説明する。本発明の薄膜付き基板の製造方法は、透
明基板上に超微粒子原料およびマトリックス原料を含む
液状組成物を塗布し、乾燥、熱処理することを特徴とす
る。
Next, a method of manufacturing a substrate with a thin film according to the present invention will be described. The method for producing a substrate with a thin film according to the present invention is characterized in that a liquid composition containing a raw material for ultrafine particles and a raw material for a matrix is applied on a transparent substrate, followed by drying and heat treatment.

【0043】基板上に薄膜を形成する方法として、真空
蒸着、イオン注入、スパッター、CVD、PVDなどの
ような真空系を必要とする方法があるが、これらの方法
は、 (i) 高価な設備を必要とする。 (ii) 真空系を使用するので取扱いが複雑であり、生産
性が劣る。 (iii) 大きな面積のものをコートすることができない。 (iV) コート可能な形状に制限がある。 などの問題を持ち、容易、安価にコートを行う上で難が
ある。
As a method of forming a thin film on a substrate, there are methods that require a vacuum system such as vacuum deposition, ion implantation, sputtering, CVD, PVD, etc. These methods include the following: (i) expensive equipment Need. (ii) Since a vacuum system is used, handling is complicated and productivity is poor. (iii) Large areas cannot be coated. (iV) There are restrictions on the shapes that can be coated. It is difficult to coat easily and inexpensively.

【0044】そこで本発明では、真空系を使用する上記
方法に比べ、特殊な装置を必要とせず、安価、簡便に基
板表面に薄膜を設けることができる湿式塗布法を採用す
るものである。
Therefore, in the present invention, as compared with the above-mentioned method using a vacuum system, a special method is not required, and a wet coating method which can provide a thin film on the substrate surface easily and inexpensively is adopted.

【0045】この湿式塗布は超微粒子原料およびマトリ
ックス原料を含む液状組成物を透明基板上に塗布するこ
とにより行なわれる。塗布の方法としては、ディッピン
グ法、スピン法、スプレー法、ロールコート法、スクリ
ーン印刷法、エアードクターコート法、ブレードコート
法、ロットコート法、ビードコート法、グラビアコート
法などの方法が用いられる。
This wet coating is performed by applying a liquid composition containing a raw material of ultrafine particles and a raw material of a matrix onto a transparent substrate. As a coating method, a dipping method, a spin method, a spray method, a roll coating method, a screen printing method, an air doctor coating method, a blade coating method, a lot coating method, a bead coating method, a gravure coating method, or the like is used.

【0046】超微粒子の一種である金コロイドの原料と
しては、テトラクロロ金酸4水和物、テトラクロロ金酸
3水和物、テトラクロロ金酸ナトリウム2水和物、シア
ン化金、シアン化カリウム金、金ジエチルアセチルアセ
トナト、金コロイド自身などを挙げることができる。
The raw materials of gold colloid, which is one kind of ultrafine particles, include tetrachloroauric acid tetrahydrate, tetrachloroauric acid trihydrate, sodium tetrachloroaurate dihydrate, gold cyanide, and potassium gold cyanide. , Gold diethylacetylacetonate, gold colloid itself, and the like.

【0047】酸化亜鉛超微粒子の原料としては、酸化亜
鉛それ自体、亜鉛の酢酸塩、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、
塩化物、アルコキシド、アセチルアセトナートなどを用
いることができる。酸化亜鉛超微粒子の原料として酸化
亜鉛粉末を用いる場合、その比表面積が60m2/gを
超える酸化亜鉛粉末を使用するのが好ましい。比表面積
が60m2/g以下の酸化亜鉛を用いると光の透過性が
悪化し、透明性が失われることがある。酸化亜鉛超微粒
子の比表面積が60m2/gを超えると、凝集力が強く
なる場合がある。この結果、分散が困難になり、酸化亜
鉛超微粒子含有薄膜の透明性が低下する。この場合、分
散状態を良化させるために、分散剤の添加が有効であ
る。分散剤としては、シランカップリング剤、チタンカ
ップリング剤、アルミニウムカップリング剤、不飽和ポ
リカルボン酸、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレ
ングリコール、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹
脂、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース
などを挙げることができる。分散剤の添加量は、酸化亜
鉛超微粒子に対して、0.1〜40wt%が好ましい。
The raw materials of the zinc oxide ultrafine particles include zinc oxide itself, zinc acetate, nitrate, carbonate, sulfate, and the like.
Chloride, alkoxide, acetylacetonate and the like can be used. When a zinc oxide powder is used as a raw material of the zinc oxide ultrafine particles, it is preferable to use a zinc oxide powder having a specific surface area exceeding 60 m 2 / g. When zinc oxide having a specific surface area of 60 m 2 / g or less is used, light transmittance is deteriorated and transparency may be lost. If the specific surface area of the zinc oxide ultrafine particles exceeds 60 m 2 / g, the cohesive strength may be increased. As a result, dispersion becomes difficult, and the transparency of the zinc oxide ultrafine particle-containing thin film decreases. In this case, it is effective to add a dispersant to improve the dispersion state. Examples of the dispersant include a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminum coupling agent, an unsaturated polycarboxylic acid, a polyvinyl alcohol resin, a polyethylene glycol, a polyvinyl butyral resin, an acrylic resin, ethyl cellulose, and hydroxypropyl cellulose. it can. The amount of the dispersant added is preferably 0.1 to 40% by weight based on the zinc oxide ultrafine particles.

【0048】銀コロイドの原料としては、銀それ自体、
銀の硝酸塩、酢酸塩などを用いることができる。
As a raw material of silver colloid, silver itself,
Silver nitrate, acetate and the like can be used.

【0049】酸化銅超微粒子の原料としては、酸化銅そ
れ自体、銅の塩化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸鉛、アルコ
キシド、アセチルアセトナートなどが挙げられる。
The raw material of the copper oxide ultrafine particles includes copper oxide itself, copper chloride, nitrate, carbonate, lead sulfate, alkoxide, acetylacetonate and the like.

【0050】ニッケルコロイドの原料としては、ニッケ
ルそれ自体、ニッケルの硝酸塩、塩化物、炭酸塩、硫酸
塩、アルコキシド、アセチルアセトナートなどが挙げら
れる。
The raw material of the nickel colloid includes nickel itself, nickel nitrate, chloride, carbonate, sulfate, alkoxide, acetylacetonate and the like.

【0051】白金コロイドの原料としては、白金それ自
体、ヘキサクロロ白金酸、ヘキサクロロ白金酸アンモニ
ウム、ヘキサクロロ白金酸カリウム、テトラクロロ白金
酸カリウム、ヘキサクロロ白金酸ナトリウムなどが挙げ
られる。
The raw materials of the platinum colloid include platinum itself, hexachloroplatinic acid, ammonium hexachloroplatinate, potassium hexachloroplatinate, potassium tetrachloroplatinate, sodium hexachloroplatinate and the like.

【0052】マトリックス原料のうちケイ素源として
は、 (i) シリコンアルコキシド(例えばシリコンメトキシ
ド、シリコンエトキシド、シリコンプロポキシド、それ
らのオリゴマーなど)またはシリコンアルコキシド誘導
体(例えば、メチルトリエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、メチルビニルジメト
キシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエ
トキシシランなど) (ii) シリコン樹脂(例えば、メチルシリコーン樹脂、
フェニルシリコーン樹脂、メチルフェニルシリコーン樹
脂など)または他のシリコーン化合物(例えば、イソシ
アネートシラン、シリコーンアセテートなど) などを挙げることができる。また上記ケイ素源(i)およ
び/または(ii)とともにSiO2微粒子を用いることも
できる。
Among the matrix raw materials, the silicon source includes: (i) silicon alkoxide (eg, silicon methoxide, silicon ethoxide, silicon propoxide, oligomers thereof) or silicon alkoxide derivative (eg, methyltriethoxysilane, γ- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane,
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane and the like) (ii) Silicon resin (for example, methyl silicone resin,
Phenyl silicone resin, methyl phenyl silicone resin, etc.) or other silicone compounds (eg, isocyanate silane, silicone acetate, etc.). Further, SiO 2 fine particles can be used together with the silicon source (i) and / or (ii).

【0053】また、屈折率調整成分の原料としては、対
応する金属の (i) アルコキシド(例えば、チタニウム−n−ブトキシ
ド、ジルコニウム−n−プロポキシド、ランタン−i−
プロポキシド、イットリウム−i−プロポキシド、ニオ
ブエトキシドなど) (ii) アルコキシド誘導体(例えば、トリ−n−ブトキ
シアセチルアセトナトジルコニム、ジイソプロポキシビ
スエチルアセテートチタニウムなど) (iii) キレート化合物(例えば、チタンテトラアセチル
アセトナト、ランタントリアセチルトナト、鉛ジアセチ
ルアセトナトなど) (iv) 他の有機金属化合物(例えば、メタクリル酸イッ
トリウム、メタクリル酸ジルコニウムなど) (v) 硝酸塩(例えば、硝酸ビスマス5水和物、硝酸ラン
タン6水和物など) (vi) 酢酸塩(例えは、酢酸イットリアム4水和物、酢
酸鉛3水和物、酢酸ジルコニルなど) (vii) 塩化物(例えば、塩化ジルコニル、塩化チタニウ
ムなど) (viii) 硫酸塩(例えば、硫酸ジルコニウム、硫酸チタ
ンなど) (ix) 酸化物(例えば、TiO2、ZrO2、CeO2
ど) (x) フッ化物(例えば、MgF2、CaF2など) (xi) 金属自身などを挙げることができる。
[0053] Further, as the refractive index adjusting Ingredients of the raw materials, the corresponding metal (i) alkoxide (e.g., titanium -n- butoxide, zirconium -n- propoxide, lanthanum -i-
(Ii) alkoxide derivatives (e.g., tri-n-butoxyacetylacetonatozirconium, diisopropoxybisethylacetate titanium, etc.) (iii) chelating compounds (e.g., propoxide, yttrium-i-propoxide, niobium ethoxide, etc.) , Titanium tetraacetylacetonate, lanthanum triacetyltonate, lead diacetylacetonate, etc.) (iv) Other organometallic compounds (eg, yttrium methacrylate, zirconium methacrylate, etc.) (v) Nitrate (eg, bismuth nitrate pentahydrate) (Vi) acetate (eg, yttrium acetate tetrahydrate, lead acetate trihydrate, zirconyl acetate, etc.) (vii) chloride (eg, zirconyl chloride, titanium chloride) (Viii) Sulfates (eg, zirconium sulfate, titanium sulfate, etc.) (ix) Oxides (for example, TiO 2 , ZrO 2 , CeO 2, etc.) (x) Fluorides (for example, MgF 2 , CaF 2, etc.) (xi) Metal itself.

【0054】またマトリックス原料として有機系のマト
リックス原料を用いることができ、例えばアクリル樹
脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、塩化ビニル樹脂、
ブチラール樹脂、スチレンブタジエン樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、フッ
素樹脂などが挙げられる。
As the matrix material, an organic matrix material can be used. For example, acrylic resin, phenol resin, alkyd resin, vinyl chloride resin,
Examples thereof include butyral resin, styrene butadiene resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, and fluororesin.

【0055】また屈折率調整成分元素のうちリン、ホウ
素の原料としては、リン酸、リン酸トリメチルなどおよ
びホウ酸、トリ−n−ブチルボラートなどを用いること
ができる。
As the raw materials for phosphorus and boron among the refractive index adjusting component elements, phosphoric acid, trimethyl phosphate and the like, boric acid, tri-n-butyl borate and the like can be used.

【0056】また、必要に応じてポリエチレングリコー
ル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ヒドロキ
シプロピルセルロース、ポリビニルピロリドンなどの有
機高分子や、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、2−エトキシエタノール、ジエタノールアミン、
モノエタノールアミンなどの有機化合物を添加すること
ができる。
If necessary, organic polymers such as polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, hydroxypropylcellulose and polyvinylpyrrolidone, formamide, N, N-dimethylformamide, 2-ethoxyethanol, diethanolamine,
Organic compounds such as monoethanolamine can be added.

【0057】溶性アゾ顔料(例えばc系、2B系、6B
系など)、不溶性アゾ顔料(例えばβ−ナフトール系、
モノアゾエロー系、ピラゾロン系など)、フタロシアニ
ン系顔料(たとえば銅フタロシアニンブルー、ファース
トスカイブルー、無金属フタロシアニンなど)、スレン
系(例えばチオインジゴ系、アントラキノン系、ペリレ
ン系、ペリノン系など)、ジオキサジン系、キナクリド
ン系、イソインドリノン系などの有機顔料系超微粒子を
用いることもできる。
Soluble azo pigments (for example, c-based, 2B-based, 6B-based)
System), insoluble azo pigments (for example, β-naphthol system,
Monoazo yellow type, pyrazolone type, etc.), phthalocyanine type pigments (eg, copper phthalocyanine blue, fast sky blue, metal-free phthalocyanine, etc.), sulene type (eg, thioindigo type, anthraquinone type, perylene type, perinone type, etc.), dioxazine type, quinacridone type Ultrafine particles of organic pigments such as isoindolinones can also be used.

【0058】原料は、調製された液状組成物(コート
液)の段階で溶解あるいは均質に分散していれば、その
種類は問わない。
The raw materials are not particularly limited as long as they are dissolved or homogeneously dispersed at the stage of the prepared liquid composition (coating solution).

【0059】なお、液状組成物を作製するのに要する分
散機として、ボールミル、サンドミル、2本ロール、3
本ロール、アトライター、バンバリーミキサー、ペイン
トシェーカー、ニーダー、ホモジナイザ、超音波分散機
などを挙げることができる。
As a dispersing machine required for producing the liquid composition, a ball mill, a sand mill, a two-roll,
Examples of the roll include an attritor, a Banbury mixer, a paint shaker, a kneader, a homogenizer, and an ultrasonic disperser.

【0060】次に、一例として、上記テトラクロロ金酸
四水和物、ケイ素のアルコキシド、ジルコニウムのアル
コキシドを用いるコート液の製造方法について述べる。
Next, as an example, a method for producing a coating solution using the above tetrachloroauric acid tetrahydrate, silicon alkoxide, and zirconium alkoxide will be described.

【0061】上記2種のアルコキシドにおいて、ジルコ
ニウムのアルコキシドは、ケイ素のアルコキシドに比べ
て、著しく加水分解速度が速いため、単に混合し加水分
解すると、ジルコニウムのアルコキシドが選択的に加水
分解され、均質なコート液を得ることはできない。
Of the above two alkoxides, the alkoxide of zirconium has a significantly higher hydrolysis rate than the alkoxide of silicon. Therefore, simply mixing and hydrolyzing the alkoxide of zirconium selectively hydrolyzes the alkoxide of zirconium to obtain a homogeneous alkoxide. No coating liquid can be obtained.

【0062】ジルコニウムのアルコキシドの選択的な加
水分解を防ぎ、均質なコート液を得る方法は3つある。
1番目の方法は、アルコキシドの加水分解速度が、アル
キル基の炭素数の影響を受け、一般的に炭素数が多くな
るほど加水分解速度が遅くなる(逆に炭素数が少なくな
れば速くなる)ことを利用する方法である。例えば、ジ
ルコニウムのアルコキシドとしてブトキシドやアミロキ
シドを、そしてケイ素のアルコキシドとしてメトキシド
やエトキシドを使用して注意深く加水分解することによ
り、均質なコート液を調製することができる。2番目の
方法は、加水分解速度の遅いケイ素のアルコキシドを予
め部分的に加水分解した後、ジルコニウムのアルコキシ
ドを反応させる方法である。この方法によれば、後続の
加水分解の前にケイ素のアルコキシドとジルコニウムの
アルコキシドが反応しているので、選択的な加水分解を
起こさず、均質なコート液を得ることができる。3番目
の方法は、加水分解速度の速いジルコニウムのアルコキ
シドをキレート化合物と反応させる方法である。この方
法によれば、ジルコニウムのアルコキシドがキレート化
(アルコキシドのアルコキシル基がキレート化合物と置
換)され、加水分解速度が遅くなるので、選択的な加水
分解を起こさず均質なコート液を得ることができる。
There are three methods for preventing the selective hydrolysis of the alkoxide of zirconium and obtaining a uniform coating solution.
The first method is that the hydrolysis rate of the alkoxide is affected by the number of carbon atoms of the alkyl group. Generally, the hydrolysis rate decreases as the number of carbon atoms increases (conversely, the hydrolysis rate increases as the number of carbon atoms decreases). It is a method of utilizing. For example, a careful coating solution can be prepared by carefully hydrolyzing butoxide or amiloxide as alkoxide of zirconium and methoxide or ethoxide as alkoxide of silicon. The second method is a method in which a silicon alkoxide having a low hydrolysis rate is partially hydrolyzed in advance, and then a zirconium alkoxide is reacted. According to this method, since the alkoxide of silicon and the alkoxide of zirconium have reacted before the subsequent hydrolysis, a uniform coating solution can be obtained without causing selective hydrolysis. The third method is a method in which an alkoxide of zirconium having a high hydrolysis rate is reacted with a chelate compound. According to this method, the alkoxide of zirconium is chelated (the alkoxyl group of the alkoxide is replaced with a chelate compound), and the hydrolysis rate is reduced, so that a uniform coating solution can be obtained without causing selective hydrolysis. .

【0063】また、上記の方法を併用すれば、特に好ま
しいので、以下に1番目の方法と2番目の方法の併用例
を説明する。
It is particularly preferable to use the above-mentioned methods together. Therefore, an example of the combination of the first method and the second method will be described below.

【0064】先ずテトラエトキシシランなどのケイ素の
アルコキシドを、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、過塩素酸な
どの酸触媒の水溶液とエタノールや酢酸ブチルなどの有
機溶媒との混合溶液に加え、撹拌してケイ素のアルコキ
シドの部分加水分解溶液を得る。
First, a silicon alkoxide such as tetraethoxysilane is added to a mixed solution of an aqueous solution of an acid catalyst such as hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid or perchloric acid and an organic solvent such as ethanol or butyl acetate, and stirred. A partial hydrolysis solution of the silicon alkoxide is obtained.

【0065】次にこの部分加水分解溶液へジルコニウム
テトラブトキシドなどのジルコニウムのアルコキシドを
添加、撹拌して、ジルコニウムのアルコキシドを、部分
加水分解したケイ素のアルコキシドと反応させる。
Next, a zirconium alkoxide such as zirconium tetrabutoxide is added to the partially hydrolyzed solution, and the mixture is stirred to react the zirconium alkoxide with the partially hydrolyzed silicon alkoxide.

【0066】次に、金コロイドの原料となるテトラクロ
ロ金酸をエタノールなどの有機溶媒に溶解した溶液を加
え撹拌する。
Next, a solution in which tetrachloroauric acid, which is a raw material of the gold colloid, is dissolved in an organic solvent such as ethanol is added and stirred.

【0067】次に、必要に応じて塩酸、硝酸、酢酸、硫
酸、過塩素酸などの酸触媒またはアンモニア、コリン、
アミノアルコールなどの塩基触媒、水とエタノールや酢
酸ブチルなどの有機溶媒とをさらに加え、撹拌する。本
発明においては、上記で得られた液体を、金コロイド含
有薄膜のコート液として用いることができる。
Then, if necessary, an acid catalyst such as hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid, perchloric acid or the like, ammonia, choline,
A base catalyst such as amino alcohol and water and an organic solvent such as ethanol and butyl acetate are further added and stirred. In the present invention, the liquid obtained above can be used as a coating liquid for a gold colloid-containing thin film.

【0068】このようにして得られたコート液を、上述
の各種塗布方法により透明基板に塗布後、乾燥、熱処理
することにより、透明基板上に金コロイド含有薄膜を有
する薄膜付き基板が得られる。
The thus obtained coating solution is applied to a transparent substrate by the above-mentioned various coating methods, followed by drying and heat treatment, whereby a substrate with a thin film having a gold colloid-containing thin film on the transparent substrate is obtained.

【0069】この熱処理は、200〜ガラス転移点+5
0℃の温度で行うのが好ましい。その理由は、以下の通
りである。
This heat treatment is performed at 200 to the glass transition point +5
It is preferably carried out at a temperature of 0 ° C. The reason is as follows.

【0070】熱処理を200℃未満で行った場合、 (i) 水分や溶媒の除去が十分になされず、それらが残存
するため、薄膜の硬度などの特性が劣ったものとなる。 (ii) ガラスマトリックスの重合が進まず、薄膜の硬度
などの特性が劣ったものとなる。 (iii) 金コロイドの原料として使用した金化合物から金
コロイドへの反応が進まず、必要な吸収を得ることがで
きない。 ことから、本発明の目的とする薄膜を作製することが困
難になる。
When the heat treatment is carried out at a temperature lower than 200 ° C., (i) the water and the solvent are not sufficiently removed, and they remain, resulting in inferior properties such as hardness of the thin film. (ii) Polymerization of the glass matrix does not proceed, and properties such as hardness of the thin film are inferior. (iii) The reaction from the gold compound used as the raw material of the gold colloid to the gold colloid does not proceed, and the necessary absorption cannot be obtained. This makes it difficult to produce a thin film intended for the present invention.

【0071】一方、ガラス転移点温度+50℃を超える
温度で熱処理を行った場合、基板の軟化が起こり、面が
狂いやすい。
On the other hand, when the heat treatment is performed at a temperature exceeding the glass transition temperature + 50 ° C., the substrate is softened, and the surface tends to be out of order.

【0072】マトリックス原料としてケイ素化合物を用
いる、上述の方法により得られた金コロイド含有薄膜付
き透明基板は、SiO2に屈折率調整部分を加えた膜組
成により、干渉色による悪影響を防ぐことができる。ま
たこの薄膜付き基板は、着色剤として金、バインダー成
分としてSiO2を主成分とするガラスマトリックスを
形成したことにより、ガラスフィルターに用いたとき、
従来の方法で製造したフィルターに比べ耐久性、信頼性
の面で優れている。また、コート法として、塗膜形成法
を使用することにより従来の方法よりも安価に製造でき
るという利点もある。
The transparent substrate with a thin film containing gold colloid obtained by the above-described method using a silicon compound as a matrix material can prevent adverse effects due to interference colors by a film composition obtained by adding a refractive index adjusting portion to SiO 2. . In addition, when the substrate with the thin film was used for a glass filter by forming a glass matrix containing gold as a coloring agent and SiO 2 as a binder component as a main component,
Superior in durability and reliability compared to filters manufactured by conventional methods. In addition, there is also an advantage that the use of a coating film forming method as a coating method enables production at a lower cost than conventional methods.

【0073】次に、他の例として、上記酸化亜鉛超微粒
子、シリコーン樹脂、ジルコニウムのキレート化合物を
用いるコート液の製造方法について述べる。
Next, as another example, a method for producing a coating liquid using the above-mentioned ultrafine zinc oxide particles, a silicone resin, and a chelate compound of zirconium will be described.

【0074】まず、分散剤を含むエタノール、酢酸ブチ
ルなどの有機溶剤へ酸化亜鉛超微粒子を加え、酸化亜鉛
超微粒子を液体に懸濁もしくは分散させる。
First, ultrafine zinc oxide particles are added to an organic solvent containing a dispersant, such as ethanol or butyl acetate, and the ultrafine zinc oxide particles are suspended or dispersed in a liquid.

【0075】次に、シリコーン樹脂を添加し、更に酸化
亜鉛を分散させる。更に、ジルコニウムのキレート化合
物を加えて、分散する。本発明においては、上記で得ら
れた液体を、酸化亜鉛超微粒子含有薄膜のコート液とし
て用いることができる。
Next, a silicone resin is added, and zinc oxide is further dispersed. Further, a zirconium chelate compound is added and dispersed. In the present invention, the liquid obtained above can be used as a coating liquid for a thin film containing ultrafine zinc oxide particles.

【0076】この様に得られたコート液を、上述の各種
塗布方法により透明基板に塗布後、乾燥、熱処理するこ
とにより、透明基板上に酸化亜鉛超微粒子含有薄膜を有
する薄膜付き基板を得られる。
The thus obtained coating solution is applied to a transparent substrate by the above-mentioned various coating methods, and then dried and heat-treated, whereby a substrate with a thin film having a zinc oxide ultrafine particle-containing thin film on the transparent substrate can be obtained. .

【0077】この熱処理は、150〜透明基板のガラス
転移点+50℃の温度で行うのが好ましい。その理由
は、以下の通りである。
This heat treatment is preferably performed at a temperature of 150 to the glass transition point of the transparent substrate + 50 ° C. The reason is as follows.

【0078】熱処理を150℃未満で行った場合、 (i) 有機溶媒や水分の除去が十分になされず、それらが
多量に残存するため、薄膜の硬度などの特性が劣ったも
のとなる。 (ii) ガラスマトリックスの重合が進まず、薄膜の硬度
などの特性が劣ったものとなる。 ことから、本発明の目的とする薄膜を作製することが困
難になる。
When the heat treatment is performed at a temperature lower than 150 ° C., (i) the organic solvent and the water are not sufficiently removed, and a large amount of them remains, resulting in inferior properties such as hardness of the thin film. (ii) Polymerization of the glass matrix does not proceed, and properties such as hardness of the thin film are inferior. This makes it difficult to produce a thin film intended for the present invention.

【0079】一方、透明基板のガラス転移点温度+50
℃を超える温度で熱処理を行った場合、基板の軟化が起
こり、面が狂いやすい。
On the other hand, the glass transition point temperature of the transparent substrate +50
When the heat treatment is performed at a temperature exceeding ℃, the substrate is softened, and the surface is likely to be out of order.

【0080】マトリックス原料としてケイ素化合物を用
いる、上述の方法により得られた酸化亜鉛超微粒子含有
薄膜付き基板は、SiO2に屈折率調整成分を加えた膜
組成により、干渉縞による悪影響を防ぐことができる。
また、この薄膜付き基板は、紫外線吸収剤として酸化亜
鉛、バインダー成分としてSiO2を主成分とするガラ
スマトリックスを形成したことにより、ガラスフィルタ
ーに用いたとき、従来の方法で製造したフィルターに比
べ耐久性、信頼性の面で優れている。またコート法とし
て、塗膜形成法を使用することにより従来の方法よりも
安価に製造できると言う利点もある。
The substrate with a thin film containing ultrafine zinc oxide particles obtained by the above-mentioned method using a silicon compound as a matrix raw material can prevent the adverse effect of interference fringes by the film composition of SiO 2 plus a refractive index adjusting component. it can.
In addition, the substrate with the thin film has a glass matrix composed mainly of zinc oxide as an ultraviolet absorber and SiO 2 as a binder component, so that when used for a glass filter, the substrate is more durable than a filter manufactured by a conventional method. Excellent in terms of reliability and reliability. In addition, there is also an advantage that by using a coating film forming method as a coating method, it can be manufactured at lower cost than a conventional method.

【0081】以上、金コロイド含有薄膜付き基板および
酸化亜鉛超微粒子含有薄膜付き基板の製造方法を具体的
に説明してきたが、銀コロイド、酸化銅超微粒子、ニッ
ケルコロイド、白金コロイドまたはその他の超微粒子を
含有する薄膜付き基板も同様の方法で製造できる。
The method for producing a substrate with a thin film containing a colloidal gold and a substrate with a thin film containing ultrafine zinc oxide particles has been specifically described above. However, silver colloid, copper oxide ultrafine particles, nickel colloid, platinum colloid or other ultrafine particles are used. Can be produced by the same method.

【0082】[0082]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明す
る。
The present invention will be further described with reference to the following examples.

【0083】[実施例1:金コロイド含有薄膜付き基板
の製造例]テトラエトキシシラン3060gとエタノー
ル2030gの混合溶液に0.15M塩酸水溶液265
gを徐々に加え、3時間撹拌した後、ジルコニウムテト
ラプロポキシド362gを加えて一晩撹拌した。この溶
液を、15wt%塩化金酸4水和物(HAuCl4・4H2
O)−イソプロパノール溶液439g、0.15M塩酸
水溶液569g、水557gおよびイソプロパノール2
2,720gの混合溶液に加えて2時間撹拌することに
より、Auコロイド薄膜コート液30kgを製造した。
このコート液から得られる薄膜の仕込み組成は、Au
3.0wt%、ZrO2 13.0wt%、SiO2 84.0
wt%で、コート液中の固形分(熱処理したと仮定して)
は、3.5wt%である。コート液は、黄色透明で均質で
あった。このコート液を、1mm厚の市販の板ガラス(通
常、白板と呼ばれる。組成系は、ソーダライムシリケー
トであり、屈折率は1.52である)に、ディッピング
法により引き上げ速度30cm/minの速度(以下“V”
と略記する)で塗布した。得られた薄膜は、無色透明で
均質であった。この薄膜付き基板を100℃で30分乾
燥した後、熱処理炉に入れ500℃まで200℃/時で
昇温し、500℃で30分間保持した。薄膜付きガラス
は、この熱処理により、無色透明から赤紫透明に変化
し、得られた薄膜は、均質であり、屈折率は1.53で
あって基板との屈折率差は0.7%であった。透過率曲
線を図1に示す。Auコロイドの吸収が530nmに現れ
ていることが明らかである。
Example 1 Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film A 0.15 M aqueous hydrochloric acid solution 265 was added to a mixed solution of 3060 g of tetraethoxysilane and 2030 g of ethanol.
g, and the mixture was stirred for 3 hours. Then, 362 g of zirconium tetrapropoxide was added, and the mixture was stirred overnight. The solution, 15 wt% chloroauric acid tetrahydrate (HAuCl 4 · 4H 2
O) -Isopropanol solution 439 g, 0.15 M aqueous hydrochloric acid solution 569 g, water 557 g and isopropanol 2
30 kg of an Au colloid thin film coating solution was produced by adding the mixed solution of 2,720 g and stirring for 2 hours.
The preparation composition of the thin film obtained from this coating solution is Au
3.0 wt%, ZrO 2 13.0 wt%, SiO 2 84.0
Solid content in coating solution in wt% (assuming heat treatment)
Is 3.5% by weight. The coating liquid was yellow transparent and homogeneous. This coating solution was applied to a 1 mm-thick commercially available plate glass (usually called a white plate. The composition system was soda lime silicate and the refractive index was 1.52) by a dipping method at a pulling rate of 30 cm / min ( Hereafter "V"
(Abbreviated as). The obtained thin film was colorless, transparent and homogeneous. After drying the substrate with the thin film at 100 ° C. for 30 minutes, it was placed in a heat treatment furnace, heated to 500 ° C. at 200 ° C./hour, and kept at 500 ° C. for 30 minutes. The glass with a thin film changes from colorless and transparent to reddish violet transparent by this heat treatment, and the obtained thin film is homogeneous, has a refractive index of 1.53, and a refractive index difference with the substrate of 0.7%. there were. The transmittance curve is shown in FIG. It is clear that the absorption of the Au colloid appears at 530 nm.

【0084】この薄膜付きガラスをカメラに組み込み撮
影テストを行ったところ、溶融法で製造されたスカイラ
イトフィルター(市販品)を使用した場合と同様の効果
が得られ、スカイライトフィルターとして使用できるこ
とが確認された。
When this glass with a thin film was incorporated into a camera and a photographing test was carried out, the same effect as in the case of using a skylight filter (commercially available) manufactured by a melting method was obtained. confirmed.

【0085】[実施例2:金コロイド含有薄膜付き基板
の製造例]この実施例では、屈折率調整成分としてチタ
ニウム(Ti)を選んだ。テトラエトキシシラン106
3gとイソプロパノール920gの混合溶液に0.15
M塩酸水溶液92gを徐々に加え、5時間撹拌した。こ
の溶液にチタニウムテトラブトキシド504gを加えて
1時間撹拌した後、メチルトリエトキシシラン1761
gを加えて一晩撹拌した。この溶液を、15wt%塩化金
酸4水和物−イソプロパノール溶液439g、0.15
M塩酸水溶液593g、水582gおよびイソプロパノ
ール24,040gの混合溶液に加えて2時間撹拌する
ことによりAuコロイド薄膜コート液30kgを製造し
た。このコート液から得られる薄膜の仕込み組成は、A
u 3.0wt%、TiO2 11.3wt%、SiO2
5.7wt%で、コート液中の固形分は、3.5wt%であ
る。コート液は、黄色透明で均質であった。このコート
液を2mm厚の市販の板ガラス(屈折率1.52)に、V
=15.5cm/secの速度で塗布した。得られた薄膜
は、無色透明で均質であった。この薄膜付き基板を10
0℃で30分乾燥した後、熱処理炉に入れ450℃まで
200℃/時で昇温し、450℃で30分間保持した。
この熱処理により得られた薄膜付きガラスは、無色透明
から赤紫透明に変化した。薄膜は均質であり、その屈折
率は1.53であって、基板との屈折率差は0.7%で
あった。
Example 2 Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, titanium (Ti) was selected as a refractive index adjusting component. Tetraethoxysilane 106
0.15 to a mixed solution of 3 g and 920 g of isopropanol
92 g of a M aqueous hydrochloric acid solution was gradually added, followed by stirring for 5 hours. 504 g of titanium tetrabutoxide was added to this solution, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, methyltriethoxysilane 1761 was added.
g was added and stirred overnight. This solution was mixed with 439 g of a 15 wt% chloroauric acid tetrahydrate-isopropanol solution, 0.15%
An aqueous solution of 593 g of M hydrochloric acid, 582 g of water and 24,040 g of isopropanol were added to the mixture, followed by stirring for 2 hours to produce 30 kg of an Au colloid thin film coating solution. The preparation composition of the thin film obtained from this coating solution is A
u 3.0 wt%, TiO 2 11.3 wt%, SiO 2 8
At 5.7 wt%, the solids content in the coating solution is 3.5 wt%. The coating liquid was yellow transparent and homogeneous. This coating solution is applied to a commercially available plate glass (refractive index: 1.52) having a thickness of 2 mm.
= 15.5 cm / sec. The obtained thin film was colorless, transparent and homogeneous. This substrate with a thin film
After drying at 0 ° C. for 30 minutes, it was placed in a heat treatment furnace, heated to 450 ° C. at 200 ° C./hour, and kept at 450 ° C. for 30 minutes.
The glass with a thin film obtained by this heat treatment changed from colorless and transparent to reddish purple and transparent. The thin film was homogeneous and had a refractive index of 1.53 and a difference in refractive index from the substrate of 0.7%.

【0086】実施例1と同様に、撮影テストを行った結
果、スカイライトフィルターとしての特性を満足してい
ることが確認された。
A photographing test was performed in the same manner as in Example 1, and it was confirmed that the characteristics as a skylight filter were satisfied.

【0087】[実施例3〜10:金コロイド含有薄膜付
き基板の製造例]Auの含有量、固形分濃度および引き
上げ速度を表1に示すように変えた以外は、実施例2と
同様にして、表1に示すような薄膜付きガラスを作製し
た。得られたガラスの撮影テストを行った結果、全てス
カイライトフィルターとしての特性を満足していること
が確認された。
Examples 3 to 10: Production Examples of Substrates with Gold Colloid-Containing Thin Film In the same manner as in Example 2 except that the Au content, the solid concentration and the pulling speed were changed as shown in Table 1. A glass with a thin film as shown in Table 1 was produced. As a result of performing a photographing test of the obtained glass, it was confirmed that all the properties as a skylight filter were satisfied.

【0088】[0088]

【表1】 [Table 1]

【0089】[実施例11:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分としてチ
タニウム(Ti)を選んだ。実施例2のメチルトリエト
キシシランの代わりに、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランを使用し、実施例2と同様に薄膜付き基
板を作製した。薄膜の仕込み組成は、Au 3.0wt
%、TiO2 11.3wt%、SiO2 85.7wt%であ
る。屈折率1.52の基板上に屈折率1.53(屈折率
差0.7%)の薄膜が形成された。
Example 11: Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, titanium (Ti) was selected as a refractive index adjusting component. A substrate with a thin film was produced in the same manner as in Example 2 except that γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used instead of methyltriethoxysilane of Example 2. The composition of the thin film was Au 3.0 wt.
%, TiO 2 11.3 wt%, and SiO 2 85.7 wt%. A thin film having a refractive index of 1.53 (a refractive index difference of 0.7%) was formed on a substrate having a refractive index of 1.52.

【0090】得られた薄膜付き基板の透過率は、図1と
同じであった。また、撮影テストの結果、スカイライト
フィルターとしての特性を満足していることが確認され
た。
The transmittance of the obtained substrate with a thin film was the same as that of FIG. Further, as a result of a photographing test, it was confirmed that the characteristics as a skylight filter were satisfied.

【0091】[実施例12:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分としてチ
タニウム(Ti)を選んだ。実施例1のジルコニウムテ
トラプロポキシドの代わりにジイソプロポキシ・ビス
(アセチルアセトナト)チタン(Ti[OCH(CH)
32[OC(CH3)CHCOCH32)を使用し、実
施例1と同様に薄膜付き基板を作製した。薄膜の仕込み
組成は、Au 3.0wt%、TiO2 11.3wt%、S
iO2 85.7wt%である。屈折率1.52の基板上に
屈折率1.52(屈折率差0%)の薄膜が形成された。
Example 12: Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, titanium (Ti) was selected as a refractive index adjusting component. Instead of zirconium tetrapropoxide of Example 1, diisopropoxy bis (acetylacetonato) titanium (Ti [OCH (CH)
3 ] 2 [OC (CH 3 ) CHCOCH 3 ] 2 ) was used to produce a substrate with a thin film in the same manner as in Example 1. The composition of the thin film was Au 3.0 wt%, TiO 2 11.3 wt%, S
iO 2 is 85.7 wt%. A thin film having a refractive index of 1.52 (a refractive index difference of 0%) was formed on a substrate having a refractive index of 1.52.

【0092】得られた薄膜付き基板の透過率は、図1と
同じであった。また、撮影テストの結果、スカイライト
フィルターとしての特性を満足していることが確認され
た。
The transmittance of the obtained substrate with a thin film was the same as that of FIG. Further, as a result of a photographing test, it was confirmed that the characteristics as a skylight filter were satisfied.

【0093】[実施例13:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分としてチ
タニウム(Ti)を選んだ。実施例2の塩化金酸4水和
物の代わりに塩化金酸ナトリウム2水和物(NaAuC
4・2H2O)を使用し、実施例2と同様に薄膜付き基
板を作製した。薄膜の仕込み組成は、Au 3.0wt
%、Na2O 0.5wt%、TiO2 11.2wt%、S
iO2 85.3wt%である。屈折率1.52の基板上に
屈折率1.52(屈折率差0%)の薄膜が形成された。
Example 13 Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, titanium (Ti) was selected as a refractive index adjusting component. Instead of chloroauric acid tetrahydrate of Example 2, sodium chloroaurate dihydrate (NaAuC
l 4 · 2H 2 O) was used to prepare a thin film-provided substrate in the same manner as in Example 2. The composition of the thin film was Au 3.0 wt.
%, Na 2 O 0.5 wt%, TiO 2 11.2 wt%, S
iO 2 is 85.3 wt%. A thin film having a refractive index of 1.52 (a refractive index difference of 0%) was formed on a substrate having a refractive index of 1.52.

【0094】得られた薄膜付き基板の透過率は、図1と
同じであった。また、撮影テストの結果、スカイライト
フィルターとしての特性を満足していることが確認され
た。
The transmittance of the obtained substrate with a thin film was the same as that of FIG. Further, as a result of a photographing test, it was confirmed that the characteristics as a skylight filter were satisfied.

【0095】[実施例14:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分としてイ
ットリウム(Y)を選んだ。実施例1のジルコニウムテ
トラプロポキシドの代わりに硝酸イットリウム6水和物
(Y(NO33・6H2O)を使用し、実施例1と同様
に薄膜付き基板を作製した。薄膜の仕込み組成は、Au
3.0wt%、Y23 18.8wt%、SiO2 78.
2wt%である。屈折率1.52の基板上に屈折率1.5
3(屈折率差0.7%)の薄膜が形成された。
Example 14: Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, yttrium (Y) was selected as a refractive index adjusting component. A substrate with a thin film was produced in the same manner as in Example 1 except that yttrium nitrate hexahydrate (Y (NO 3 ) 3 .6H 2 O) was used instead of zirconium tetrapropoxide of Example 1. The preparation composition of the thin film is Au
3.0wt%, Y 2 O 3 18.8wt %, SiO 2 78.
2 wt%. A refractive index of 1.5 on a substrate with a refractive index of 1.52
A thin film having a refractive index difference of 0.7% was formed.

【0096】得られた薄膜付き基板の透過率は、図1と
同じであった。また、撮影テストの結果、スカイライト
フィルターとしての特性を満足していることが確認され
た。
The transmittance of the obtained substrate with a thin film was the same as that of FIG. Further, as a result of a photographing test, it was confirmed that the characteristics as a skylight filter were satisfied.

【0097】[実施例15:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分としてニ
オブ(Nb)を選んだ。実施例1のジルコニウムテトラ
プロポキシドの代わりにニオブペンタブトキシド(Nb
(OC495)を使用し、実施例1と同様に薄膜付き
基板を作製した。薄膜の仕込み組成は、Au 3.0wt
%、Nb25 13.4wt%、SiO2 83.6wt%で
ある。屈折率1.52の基板上に屈折率1.53(屈折
率差0.7%)の薄膜が形成された。
Example 15: Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, niobium (Nb) was selected as a refractive index adjusting component. Instead of zirconium tetrapropoxide in Example 1, niobium pentaboxide (Nb
Using (OC 4 H 9 ) 5 ), a substrate with a thin film was produced in the same manner as in Example 1. The composition of the thin film was Au 3.0 wt.
%, Nb 2 O 5 13.4 wt%, and SiO 2 83.6 wt%. A thin film having a refractive index of 1.53 (a refractive index difference of 0.7%) was formed on a substrate having a refractive index of 1.52.

【0098】得られた薄膜付き基板の透過率曲線は、図
1と同じであり、撮影テストの結果も問題なかった。
The transmittance curve of the obtained substrate with a thin film was the same as that of FIG. 1, and there was no problem in the photographing test.

【0099】[比較例1]屈折率調整成分を使用せず、
実施例1と同様の方法でコート液を調製し、これを用い
て薄膜付き基板を作製した。薄膜の仕込み組成は、Au
3.0wt%、SiO2 97.0wt%である。屈折率
1.52の基板上に屈折率1.44(屈折率差−5.3
%)の薄膜が形成された。この薄膜付き基板の透過率曲
線を図2に示す。干渉の影響により透過率曲線に凹凸が
生じている。この薄膜付き基板を使用し撮影テストを行
ったところ、特有の着色が見られ、スカイライトフィル
ターとしての使用は不可であった。
[Comparative Example 1] Without using a refractive index adjusting component,
A coating liquid was prepared in the same manner as in Example 1, and a substrate with a thin film was prepared using the coating liquid. The preparation composition of the thin film is Au
3.0 wt% and 97.0 wt% of SiO 2 . A substrate having a refractive index of 1.52 has a refractive index of 1.44 (refractive index difference -5.3).
%). FIG. 2 shows a transmittance curve of the substrate with the thin film. Irregularities occur in the transmittance curve due to the influence of interference. When a photographing test was performed using this substrate with a thin film, a specific coloring was observed, and use as a skylight filter was impossible.

【0100】[実施例16:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]この実施例では、基板として屈折率が1.
70の眼鏡レンズ用ガラス(HOYA(株)製 LH
I)を使用し、実施例2と同様に薄膜付き基板を作製し
た。薄膜の仕込み組成は、Au 6.0wt%、SiO2
46.6wt%、TiO2 47.4wt%である。得られた
薄膜の屈折率は1.60であり、屈折率差は−0.6%
であった。薄膜付き基板の透過率曲線を図3に示す。吸
収ピーク位置は、560nmであった。得られた薄膜付き
基板の色は、赤紫色をしており、眼鏡レンズの着色の用
途に使用できることが確認された。
Example 16 Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film In this example, the substrate had a refractive index of 1.
Glasses for spectacle lenses 70 (L manufactured by HOYA Corporation)
Using I), a substrate with a thin film was prepared in the same manner as in Example 2. The preparation composition of the thin film was Au 6.0 wt%, SiO 2
46.6wt%, a TiO 2 47.4wt%. The refractive index of the obtained thin film was 1.60, and the refractive index difference was -0.6%.
Met. FIG. 3 shows the transmittance curve of the substrate with the thin film. The absorption peak position was at 560 nm. The color of the obtained substrate with a thin film was reddish purple, and it was confirmed that the substrate could be used for coloring eyeglass lenses.

【0101】[実施例17:金コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]3.5wt%メチルシリコーン樹脂−イソプ
ロパノール−n−酢酸ブチル溶液28,540gに65
wt%テトラアセチルアセトナトチタン−イソプロパノー
ル溶液1010gを加えて1時間撹拌した。その溶液に
15wt%塩化金酸4水和物−イソプロパノール溶液45
0gを加えて更に30分撹拌して、Auコロイド薄膜コ
ート液30kgを製造した。薄膜の仕込み組成は、Au
11.3wt%、TiO2 11.3wt%、SiO2
5.7wt%である。実施例1と同様にして屈折率1.5
2の基板上に屈折率1.53(屈折率差−0.7%)の
薄膜を形成することにより、薄膜付き基板を得た。
Example 17: Production Example of Substrate with Gold Colloid-Containing Thin Film A 3.5 wt% methyl silicone resin-isopropanol-n-butyl acetate solution was added to 28,540 g of 65,540 g.
1010 g of a wt% tetraacetylacetonatotitanium-isopropanol solution was added and stirred for 1 hour. A 15 wt% chloroauric acid tetrahydrate-isopropanol solution 45 was added to the solution.
0 g was added and the mixture was further stirred for 30 minutes to produce 30 kg of an Au colloid thin film coating solution. The preparation composition of the thin film is Au
11.3 wt%, TiO 2 11.3 wt%, SiO 2 8
5.7 wt%. The refractive index was 1.5 in the same manner as in Example 1.
By forming a thin film having a refractive index of 1.53 (refractive index difference -0.7%) on the substrate No. 2, a substrate with a thin film was obtained.

【0102】得られた薄膜付き基板の透過率は、図1と
同じであった。また、撮影テストの結果、スカイライト
フィルターとしての特性を満足していることが確認され
た。
The transmittance of the obtained substrate with a thin film was the same as that of FIG. Further, as a result of a photographing test, it was confirmed that the characteristics as a skylight filter were satisfied.

【0103】[実施例18:酸化亜鉛超微粒子含有薄膜
付き基板の製造例]酢酸iso−ブチル/iso−プロ
パノール混合溶媒(1:1重量比)800.0gにエト
セル7cp(分散剤、ダウ・ケミカル社の商品名)0.
47g(酸化亜鉛超微粒子に対して0.5wt%)を溶解
させた。この溶液に、窒素ガスを使用してBET法によ
り測定した比表面積65m2/gの酸化亜鉛超微粒子9
4.0gを加え、ガラスビーズを用いてペイントシェー
カー(分散機)で1時間分散した後、メチルシリコーン
樹脂220.0gを加えて、更に20時間分散した。こ
の分散液に、酢酸iso−ブチル/iso−プロパノー
ル混合溶媒(1:1重量比)を800.0g、65wt%
チタンテトラアセチルアセトネート(Ti(C5
724)・iso−プロパノール溶液を119.1g
加えて30分間分散し、ガラスビーズを取り除くことに
より、酸化亜鉛超微粒子含有薄膜コート液を作製した。
このコート液から得られる薄膜の仕込み組成は、ZnO
30.8wt%、TiO2 4.6wt%、SiO2
4.5wt%で、コート液中の固形分は15.0wt%であ
る。コート液は、乳白色をしており、沈殿、析出物は認
められなかった。このコート液を1mm厚の市販の板ガラ
ス(通常、白板と呼ばれる。組成系はソーダライムシリ
ケートであり、屈折率は1.52である。)に、ディッ
ピング法により、引き上げ速度30cm/minの速度(以
下、“V”と略記する)で塗布した。得られた薄膜は、
無色透明で均質であった。この薄膜付き基板を150℃
で30分乾燥した後、熱処理炉に入れて500℃まで2
00℃/時で昇温し、500℃で30分間保持した。こ
の熱処理により得られた薄膜は無色透明、均質であり、
その屈折率は1.53であって、基板との屈折率差は
0.7%であった。また、透過ヘーズ値は、0.2であ
った。得られた薄膜付き基板の透過率曲線を、基板のみ
の透過率と共に図4に示す。380nmより短波長域の光
がシャープにカットされていることが明らかである。
Example 18: Production Example of Substrate with Thin Film Containing Ultra Fine Zinc Oxide Ethanol 7cp (dispersant, Dow Chemical) in 800.0 g of a mixed solvent of iso-butyl acetate / iso-propanol (1: 1 weight ratio) Company product name) 0.
47 g (0.5 wt% based on the zinc oxide ultrafine particles) were dissolved. Ultrafine zinc oxide particles 9 having a specific surface area of 65 m 2 / g measured by a BET method using nitrogen gas were added to this solution.
After adding 4.0 g and dispersing for 1 hour using a glass shaker with a paint shaker (dispersing machine), 220.0 g of methyl silicone resin was added and the mixture was further dispersed for 20 hours. 800.0 g of an iso-butyl acetate / iso-propanol mixed solvent (1: 1 weight ratio) was added to this dispersion, and 65 wt%
Titanium tetraacetylacetonate (Ti (C 5 H
7 O 2) 4) · iso- propanol solution 119.1g of
In addition, the mixture was dispersed for 30 minutes, and the glass beads were removed to prepare a thin film coating solution containing zinc oxide ultrafine particles.
The composition of the thin film obtained from this coating solution is ZnO
30.8 wt%, TiO 2 4.6 wt%, SiO 2 6
At 4.5 wt%, the solids content in the coating solution is 15.0 wt%. The coating solution was milky white, and no precipitate or precipitate was observed. This coating solution was applied to a 1 mm-thick commercially available plate glass (usually called a white plate. The composition system was soda lime silicate and the refractive index was 1.52) by a dipping method at a pulling speed of 30 cm / min ( Hereinafter, abbreviated as “V”). The resulting thin film is
It was colorless, transparent and homogeneous. 150 ° C
After drying for 30 minutes in a heat treatment furnace,
The temperature was raised at 00 ° C./hour and kept at 500 ° C. for 30 minutes. The thin film obtained by this heat treatment is colorless, transparent and homogeneous,
Its refractive index was 1.53, and the difference in refractive index from the substrate was 0.7%. The transmission haze value was 0.2. FIG. 4 shows the transmittance curve of the obtained substrate with the thin film together with the transmittance of the substrate alone. It is clear that light in a wavelength range shorter than 380 nm is sharply cut.

【0104】この薄膜付きガラスをカメラに組み込み撮
影テストを行ったところ、熔融法で製造された紫外シャ
ープカットフィルター(市販品)を使用した場合と同様
に色みが変るのが改善され、紫外シャープカットフィル
ターとして使用できることが確認された。
When the glass with the thin film was incorporated into a camera and subjected to a photographing test, the color change was improved as in the case of using an ultraviolet sharp cut filter (commercially available) manufactured by a melting method. It was confirmed that it could be used as a cut filter.

【0105】[実施例19:酸化亜鉛超微粒子含有薄膜
付き基板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分と
してジルコニウム(Zr)を選んだ。酢酸n−ブチル/
iso−プロパノール混合溶媒(1:1重量比)78
1.2gにディスパーバイク(Disperbyk)−181
(分散剤、ビック・ケミー社の商品名)18.8g(酸
化亜鉛超微粒子に対して20wt%)を溶解させた。この
溶液に、窒素ガスを使用してBET法により測定した比
表面積75m2/gの酸化亜鉛超微粒子94.0gを加
え、ジルコニアビーズを用いてサンドミル(分散機)で
1時間分散した後、メチルシリコーン樹脂220.0g
を加えて、更に3時間分散した。この分散液に、酢酸n
−ブチル/iso−プロパノール混合溶媒(1:1重量
比)を800.0g、73wt%ジルコニウムアセチルア
セトネートビスエチルアセテート(Zr(OC49
(C572)(C6932)・n−ブタノール溶液
を126.9g加えて30分間分散し、ガラスビーズを
取り除くことにより、酸化亜鉛超微粒子含有薄膜コート
液を作製した。このコート液から得られる薄膜の仕込み
組成は、ZnO 30.0wt%、ZrO2 7.0wt
%、SiO263.0wt%で、コート液中の固形分は1
5.3wt%である。コート液は、乳白色をしており、沈
殿、析出物は認められなかった。コート液を2mm厚の市
販の板ガラス(屈折率1.52)に、V=30.0cm/
minで塗布した。得られた薄膜は、無色透明で均質であ
った。この薄膜付き基板を150℃で30分間乾燥した
後、熱処理炉に入れ450℃まで200℃/時で昇温
し、450℃で1時間保持した。この熱処理により得ら
れた薄膜は、無色透明、均質であり、その屈折率は1.
51であり、基板との屈折率差は−0.7%であった。
また、透過ヘーズ値は、0.2であった。
Example 19 Production Example of Substrate with Thin Film Containing Zinc Oxide Ultrafine Particles In this example, zirconium (Zr) was selected as a refractive index adjusting component. N-butyl acetate /
iso-propanol mixed solvent (1: 1 weight ratio) 78
Disperbyk (1.2g) -181
18.8 g (20 wt% based on ultrafine zinc oxide particles) was dissolved. 94.0 g of zinc oxide ultrafine particles having a specific surface area of 75 m 2 / g measured by a BET method using nitrogen gas was added to this solution, and the mixture was dispersed with a zirconia bead using a sand mill (dispersing machine) for 1 hour. 220.0 g of silicone resin
And further dispersed for 3 hours. In this dispersion, acetic acid n
800.0 g of a mixed solvent of 1-butyl / iso-propanol (1: 1 weight ratio) and 73 wt% of zirconium acetylacetonate bisethyl acetate (Zr (OC 4 H 9 ))
(C 5 H 7 O 2) (C 6 H 9 O 3) 2) · n- butanol solution was dispersed for 30 minutes by adding 126.9g of, by removing the glass beads, zinc oxide ultrafine particles-containing thin film coating liquid Produced. The preparation composition of the thin film obtained from this coating solution was 30.0 wt% of ZnO and 7.0 wt% of ZrO 2.
%, SiO 2 63.0 wt%, and the solid content in the coating solution is 1%.
5.3 wt%. The coating solution was milky white, and no precipitate or precipitate was observed. The coating solution was applied to a commercially available 2 mm-thick glass plate (refractive index: 1.52) by V = 30.0 cm /
Min applied. The obtained thin film was colorless, transparent and homogeneous. After the substrate with the thin film was dried at 150 ° C. for 30 minutes, it was placed in a heat treatment furnace, heated to 450 ° C. at 200 ° C./hour, and kept at 450 ° C. for 1 hour. The thin film obtained by this heat treatment is colorless, transparent and homogeneous, and has a refractive index of 1.
51, and the refractive index difference from the substrate was -0.7%.
The transmission haze value was 0.2.

【0106】実施例18と同様に、撮影テストを行った
結果、紫外シャープカットフィルターとしての特性を満
足していることが確認された。
A photographing test was performed in the same manner as in Example 18, and as a result, it was confirmed that the characteristics as an ultraviolet sharp cut filter were satisfied.

【0107】[実施例20:酸化亜鉛超微粒子含有薄膜
付き基板の製造例]この実施例では、屈折率調整成分と
してアンチモン(Sb)を選んだ。酢酸n−ブチル/メ
タノール混合溶媒(3:2重量比)800.0gにメチ
ルシリコーン樹脂220.0gを加え溶解させた。この
溶液に、窒素ガスを使用してBET法により測定した比
表面積が73m2/gの酸化亜鉛超微粒子94.0gを
加え、ガラスビーズを用いてサンドミル(分散機)で1
2時間分散した。この分散液に、酢酸n−ブチル/メタ
ノール混合溶媒(3:2重量比)を723.5g、30
wt%五酸化アンチモン(Sb25)メタノールゾルを6
9.6g加えて、1時間分散し、ガラスビーズを取り除
くことにより、酸化亜鉛超微粒子含有薄膜コート液を作
製した。このコート液から得られる薄膜の仕込み組成
は、ZnO 30.1wt%、Sb25 6.7wt%、S
iO2 63.2wt%で、コート液中の固形分は16.
1wt%である。コート液は、乳白色をしており、沈殿、
析出物は認められなかった。このコート液を2mm厚の市
販の板ガラス(屈折率1.52)に、V=30.0cm/
minで塗布した。得られた薄膜は、無色透明で均質であ
った。この薄膜付き基板を150℃で30分間乾燥した
後、熱処理炉に入れ450℃まで200℃/時で昇温
し、450℃で1時間保持した。この熱処理により得ら
れた薄膜は、無色透明、均質であり、その屈折率は1.
50であり、基板との屈折率差は1.3%であった。ま
た、透過ヘーズ値は、0.4であった。
Example 20: Manufacturing Example of Substrate with Thin Film Containing Ultra Fine Zinc Oxide In this example, antimony (Sb) was selected as a refractive index adjusting component. To 800.0 g of a mixed solvent of n-butyl acetate / methanol (3: 2 weight ratio), 220.0 g of a methyl silicone resin was added and dissolved. To this solution, 94.0 g of ultrafine zinc oxide particles having a specific surface area of 73 m 2 / g measured by a BET method using nitrogen gas was added, and 1 microgram was added with a sand mill (dispersion machine) using glass beads.
Dispersed for 2 hours. To this dispersion, 723.5 g of an n-butyl acetate / methanol mixed solvent (3: 2 weight ratio) was added.
wt% antimony pentoxide (Sb 2 O 5 ) methanol sol
9.6 g was added, the mixture was dispersed for 1 hour, and the glass beads were removed to prepare a zinc oxide ultrafine particle-containing thin film coating solution. The prepared composition of the thin film obtained from this coating solution was ZnO 30.1 wt%, Sb 2 O 5 6.7 wt%, Sb 2 O 5
63.2 wt% of iO 2 , and the solid content in the coating solution was 16.
1 wt%. The coating solution has a milky white color and precipitates,
No precipitate was observed. This coating solution was applied to a commercially available plate glass (refractive index: 1.52) having a thickness of 2 mm and V = 30.0 cm /
Min applied. The obtained thin film was colorless, transparent and homogeneous. After the substrate with the thin film was dried at 150 ° C. for 30 minutes, it was placed in a heat treatment furnace, heated to 450 ° C. at 200 ° C./hour, and kept at 450 ° C. for 1 hour. The thin film obtained by this heat treatment is colorless, transparent and homogeneous, and has a refractive index of 1.
The refractive index difference from the substrate was 1.3%. The transmission haze value was 0.4.

【0108】実施例18と同様に、撮影テストを行った
結果、紫外シャープカットフィルターとしての特性を満
足していることが確認された。
A photographing test was performed in the same manner as in Example 18, and as a result, it was confirmed that the characteristics as an ultraviolet sharp cut filter were satisfied.

【0109】[実施例21〜26:酸化亜鉛超微粒子含
有薄膜付き基板の製造例]屈折率調整成分を表2、表3
に示すように変えた以外は実施例19と同様にして、表
2、表3に示すような薄膜付きガラスを作製した。得ら
れたガラスの撮影テストを行った結果、全て紫外シャー
プカットフィルターとしての特性を満足していることが
確認された。
Examples 21 to 26: Production Examples of Substrates with Thin Film Containing Zinc Oxide Ultrafine Particles
In the same manner as in Example 19 except that the glass was changed as shown in Table 2, glass with a thin film as shown in Tables 2 and 3 was produced. As a result of performing a photographing test of the obtained glass, it was confirmed that all the characteristics as an ultraviolet sharp cut filter were satisfied.

【0110】[実施例27:酸化亜鉛超微粒子含有薄膜
付き基板の製造例]この実施例では、基板として屈折率
が1.70の眼鏡レンズ用ガラス(HOYA(株)LH
I)を使用し、実施例19と同様に薄膜付き基板を作製
した。薄膜の仕込み組成は、ZnO 28.1wt%、Z
rO2 45.9wt%、SiO2 26.0wt%である。
得られた薄膜の屈折率は、1.69であり、基板との屈
折率差は−0.6%であった。薄膜付き基板の透過率曲
線を図5に示す。また、透過ヘーズ値は、0.3であっ
た。得られた薄膜付き基板は、無色透明、均質であり、
眼鏡レンズの紫外線カットの用途に使用できることが確
認された。
Example 27: Production Example of Substrate with Thin Film Containing Zinc Oxide Ultrafine Particles In this example, a glass for spectacle lenses having a refractive index of 1.70 (HOYA Corporation LH) was used as the substrate.
Using I), a substrate with a thin film was produced in the same manner as in Example 19. The prepared composition of the thin film was 28.1 wt% of ZnO, Z
rO 2 45.9 wt%, SiO 2 26.0 wt%.
The refractive index of the obtained thin film was 1.69, and the difference in refractive index from the substrate was -0.6%. FIG. 5 shows the transmittance curve of the substrate with the thin film. The transmission haze value was 0.3. The resulting substrate with a thin film is colorless, transparent and homogeneous,
It was confirmed that it can be used for UV cut of eyeglass lenses.

【0111】[比較例2]屈折率調整成分を使用せず、
実施例19と同様の方法でコート液を調整し、これを用
いて薄膜付き基板を作製した。薄膜の仕込み組成は、Z
nO 32.3wt%、SiO2 67.7wt%である。
屈折率1.52の基板の上に屈折率1.44(屈折率差
−5.3%)の薄膜が基板の両面に形成された。また、
透過ヘーズ値は、0.2であった。この薄膜付き基板の
透過率曲線を図6に示す。屈折率調整成分を使用しなか
ったことにより干渉が生じており、この影響により透過
率曲線に凹凸が発生した。この薄膜付き基板を使用して
撮影テストを行ったところ、特有の着色が見られ紫外シ
ャープカットフィルターとしての使用は不可であった。
[Comparative Example 2] No refractive index adjusting component was used.
A coating solution was prepared in the same manner as in Example 19, and a substrate with a thin film was prepared using the same. The preparation composition of the thin film is Z
32.3 wt% of nO and 67.7 wt% of SiO 2 .
A thin film having a refractive index of 1.44 (refractive index difference -5.3%) was formed on both surfaces of a substrate having a refractive index of 1.52. Also,
The transmission haze value was 0.2. FIG. 6 shows the transmittance curve of the substrate with the thin film. Since no refractive index adjusting component was used, interference occurred, and the influence caused irregularities in the transmittance curve. When a photographing test was performed using this substrate with a thin film, a specific coloring was observed, and use as an ultraviolet sharp cut filter was impossible.

【0112】表2、表3に実施例18〜27および比較
例2で得られた薄膜付き基板の物性値をまとめて示し
た。
Tables 2 and 3 collectively show the physical properties of the substrates with thin films obtained in Examples 18 to 27 and Comparative Example 2.

【0113】[0113]

【表2】 [Table 2]

【0114】[0114]

【表3】 [Table 3]

【0115】[実施例28:銀コロイド含有薄膜付き基
板の製造例]テトラエトキシシラン1487gとiso
−プロパノール858gの混合溶液に0.15M硝酸水
溶液129gを徐々に加え、3時間撹拌した。この溶液
にチタニウムブトキシド706gを加えて1時間撹拌し
た後、メチルトリエトキシシラン2464gを加えて更
に1時間撹拌した。この溶液に硝酸銀118g、0.0
75M硝酸数溶液1660g、iso−プロパノール2
2.578gの混合溶液を加えて一晩撹拌することによ
り銀コロイド薄膜コート液30kgを製造した。このコー
ト液から得られる薄膜の仕込み組成は、Ag 4.8wt
%、TiO211.0wt%、SiO2 84.2wt%で、
コート液中の固形分は5.0wt%である。コート液は、
無色透明であった。このコート液を1mm厚の市販の板ガ
ラス(屈折率1.52)に、V=30.0cm/secの速
度で塗布した。得られた薄膜は、無色透明で均質であっ
た。この薄膜付き基板を室温で1時間乾燥したのち、熱
処理炉に入れ大気雰囲気下450℃まで200℃/hrで
昇温しその温度で1時間保持し、雰囲気を2%H2/9
8%N2混合ガスに置換して更に1時間保持した。この
熱処理により得られた薄膜付きガラスは、無色透明から
黄色透明に変化した。薄膜は均質であり、その屈折率は
1.51であり、基板との屈折率差は−0.7%であっ
た。透過率曲線を図7に示す。銀コロイドの吸収が40
0nmに出ていることが明らかである。
Example 28 Production Example of Substrate with Silver Colloid-Containing Thin Film 1487 g of tetraethoxysilane and iso
129 g of a 0.15 M aqueous nitric acid solution was gradually added to a mixed solution of 858 g of propanol, followed by stirring for 3 hours. After 706 g of titanium butoxide was added to this solution and stirred for 1 hour, 2464 g of methyltriethoxysilane was added and the mixture was further stirred for 1 hour. 118 g of silver nitrate, 0.0
1660 g of 75 M nitric acid solution, iso-propanol 2
By adding 2.578 g of the mixed solution and stirring overnight, 30 kg of a silver colloid thin film coating solution was produced. The composition of the thin film obtained from the coating solution was 4.8 wt% Ag.
%, TiO 2 11.0 wt%, SiO 2 84.2 wt%,
The solid content in the coating solution is 5.0% by weight. The coating solution is
It was colorless and transparent. This coating solution was applied to a commercially available 1 mm thick plate glass (refractive index: 1.52) at a speed of V = 30.0 cm / sec. The obtained thin film was colorless, transparent and homogeneous. This After drying a thin film with 1 hour of the substrate at room temperature, held for 1 hour at raised temperature in the heat treatment furnace placed 200 ° C. / hr to the bottom 450 ° C. air atmosphere, 2% atmosphere H 2/9
The gas was replaced with an 8% N 2 mixed gas and maintained for another hour. The glass with a thin film obtained by this heat treatment changed from colorless and transparent to yellow and transparent. The thin film was homogeneous, the refractive index was 1.51, and the refractive index difference from the substrate was -0.7%. The transmittance curve is shown in FIG. 40 absorption of silver colloid
It is clear that it is at 0 nm.

【0116】[実施例29〜31:酸化銅、ニッケル又
は白金含有薄膜付き基板の製造例]ドーパントをCu2
O、Ni、Ptとした以外は実施例28と同様にして薄
膜付きガラスを作製した。薄膜の仕込み組成は、ドーパ
ント4.8wt%、TiO211.0wt%、SiO2
4.2wt%である。実施例29〜31で得られた薄膜付
き基板の膜屈折率および基板との差を表4に、透過率曲
線を図8(Cu2O)、図9(Ni)および図10(P
t)に示す。
[0116] Example 29-31: copper oxide, Preparation of nickel or platinum-containing film-coated substrate] dopant Cu 2
A glass with a thin film was produced in the same manner as in Example 28 except that O, Ni, and Pt were used. The preparation composition of the thin film was 4.8 wt% of dopant, 11.0 wt% of TiO 2 , SiO 2 8
4.2 wt%. Table 4 shows the refractive index of the substrate with a thin film and the difference from the substrate obtained in Examples 29 to 31, and the transmittance curves are shown in FIG. 8 (Cu 2 O), FIG. 9 (Ni), and FIG.
t).

【0117】[0117]

【表4】 [Table 4]

【0118】[0118]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、金属又は
金属酸化物の超微粒子の吸収を持ち、干渉色の影響のな
い薄膜付き基板を提供することができる。この薄膜付き
基板を用いることにより、既存の着色フィルター、紫外
線カットフィルターと同等以上の特性および信頼性を持
ったフィルターを、既存の着色フィルター、紫外線カッ
トフィルターよりも、容易、安価に提供することができ
る。また着色した眼鏡レンズを提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a substrate with a thin film which has absorption of ultrafine particles of metal or metal oxide and is free from the influence of interference colors. By using this substrate with a thin film, it is possible to provide a filter with characteristics and reliability equal to or higher than those of existing colored filters and UV cut filters more easily and at lower cost than existing colored filters and UV cut filters. it can. Further, a colored spectacle lens can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 1 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 1.

【図2】比較例1の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 2 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Comparative Example 1.

【図3】実施例16の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 3 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 16.

【図4】実施例18の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 4 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 18.

【図5】実施例27の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 5 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 27.

【図6】比較例2の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 6 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Comparative Example 2.

【図7】実施例28の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 7 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 28.

【図8】実施例29の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 8 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 29.

【図9】実施例30の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 9 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 30.

【図10】実施例31の薄膜付き基板の透過率曲線図FIG. 10 is a transmittance curve diagram of a substrate with a thin film of Example 31.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−46302(JP,A) 特開 平7−92305(JP,A) 特開 平6−118203(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 5/20 G02B 1/10 G02C 7/10 G03B 11/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-4-46302 (JP, A) JP-A-7-92305 (JP, A) JP-A-6-118203 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 5/20 G02B 1/10 G02C 7/10 G03B 11/00

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 超微粒子である金コロイドの原料である
金化合物と、マトリックスの原料であるケイ素化合物
と、屈折率調整成分の原料とを含み、これら三原料が溶
解している液状組成物を、透明ガラス基板の一方の主表
面上に塗布し、乾燥、熱処理することにより、超微粒子
である金コロイドが、屈折率調整成分を含むSiO 2
トリックス中に分散した、基板との屈折率差が10%以
内である薄膜を、上記ガラス基板の一方の主表面に設け
ることを特徴とする薄膜付き基板の製造方法。
1. A raw material of gold colloid which is an ultrafine particle.
Gold compound and silicon compound which is the raw material of the matrix
And the raw materials for the refractive index adjusting component, and these three raw materials are dissolved.
Use the main composition on one of the transparent glass substrates
Ultra fine particles by applying on the surface, drying and heat treatment
Is a SiO 2 matrix containing a refractive index adjusting component .
The refractive index difference with the substrate dispersed in the matrix is 10% or less.
The thin film inside is provided on one main surface of the glass substrate.
A method for manufacturing a substrate with a thin film, comprising:
【請求項2】 超微粒子である金コロイドの原料である
金化合物と、マトリックスの原料であるケイ素化合物
と、屈折率調整成分の原料とを含み、これら三原料が溶
解している液状組成物を、透明ガラス基板の両方の主表
面上に塗布し、乾燥、熱処理することにより、超微粒子
である金コロイドが、屈折率調整成分を含むSiO 2
トリックス中に分散した、基板との屈折率差が5%以内
である薄膜を、上記ガラス基板の両方の主表面に設ける
ことを特徴とする薄膜付き基板の製造方法。
2. It is a raw material of a gold colloid which is an ultrafine particle.
Gold compound and silicon compound which is the raw material of the matrix
And the raw materials for the refractive index adjusting component, and these three raw materials are dissolved.
Unpack the liquid composition into the main table on both transparent glass substrates.
Ultra fine particles by applying on the surface, drying and heat treatment
Is a SiO 2 matrix containing a refractive index adjusting component .
Refractive index difference with substrate dispersed within the matrix is within 5%
Are provided on both main surfaces of the glass substrate.
A method for producing a substrate with a thin film, characterized in that:
【請求項3】 上記熱処理が、200℃以上かつ(ガラ
ス転移点+50℃)以下の温度で行われる、請求項1又
は2に記載の薄膜付き基板の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the heat treatment is performed at a temperature of 200.degree.
(Transition point + 50 ° C.) or lower.
3. The method for manufacturing a substrate with a thin film according to item 2.
【請求項4】 超微粒子の原料の金化合物として、テト
ラクロロ金酸4水和物、テトラクロロ金酸3水和物、テ
トラクロロ金酸ナトリウム2水和物、シアン化金、シア
ン化カリウム金および金ジエチルアセチルアセトナトか
ら選ばれる少なくとも1種を用いる、請求項1〜3のい
ずれかに記載の薄膜付き基板の製造方法。
4. A gold compound as a raw material for ultrafine particles,
Lachloroauric acid tetrahydrate, tetrachloroauric acid trihydrate,
Sodium trachloroaurate dihydrate, gold cyanide, shea
Potassium gold and gold diethyl acetylacetonate?
4. The method according to claim 1, wherein at least one member selected from the group consisting of:
A method for manufacturing a substrate with a thin film according to any of the above.
【請求項5】 マトリックス中の原料のケイ素化合物と
して、シリコンアルコキシド、シリコンアルコキシド誘
導体およびシリコン樹脂から選ばれる少なくとも1種を
用いる請求項1〜4のいずれかに記載の薄膜付き基板の
製造方法。
5. A raw material silicon compound in a matrix,
Silicon alkoxide, silicon alkoxide
At least one selected from a conductor and a silicone resin
The substrate with a thin film according to any one of claims 1 to 4,
Production method.
【請求項6】 屈折率調整成分の原料として、金属アル
コキシド、金属のアルコキシド誘導体および金属のキレ
ート化合物から選ばれる少なくとも1種を用いる請求項
1〜5のいずれかに記載の薄膜付き基板の製造方法。
6. A metal alloy as a raw material of the refractive index adjusting component.
Coxide, metal alkoxide derivative and metal sharp
Claims wherein at least one member selected from the group consisting of
6. The method for producing a substrate with a thin film according to any one of 1 to 5.
【請求項7】 金化合物として塩化金酸4水和物を、ケ
イ素化合物としてテ トラエトキシシランおよびメチルト
リエトキシシランを、屈折率調整成分の原料としてチタ
ニウムテトラブトキシドを用い、金化合物、ケイ素化合
物および屈折率調整成分の原料が溶解している液状組成
物を透明ガラス基板上に塗布する請求項1〜3のいずれ
かに記載の薄膜付き基板の製造方法。
7. A chloroauric acid tetrahydrate as a gold compound,
Te tiger silane and Mechiruto as Lee-containing compound
Liethoxysilane as a raw material for the refractive index adjusting component
Gold compound, silicon compound
Composition in which the substance and the raw material of the refractive index adjusting component are dissolved
4. The method according to claim 1, wherein the material is applied on a transparent glass substrate.
A method for producing a substrate with a thin film according to any of the above.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の方法を
用いて、着色フィルターを作製することを特徴とする着
色フィルターの製造方法。
8. The method according to claim 1, wherein
Using a colored filter.
Manufacturing method of color filter.
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