JP3324571B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP3324571B2
JP3324571B2 JP18273099A JP18273099A JP3324571B2 JP 3324571 B2 JP3324571 B2 JP 3324571B2 JP 18273099 A JP18273099 A JP 18273099A JP 18273099 A JP18273099 A JP 18273099A JP 3324571 B2 JP3324571 B2 JP 3324571B2
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    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に半導体素子とリードフレームとTABテープと
を組み合わせ樹脂封止を行い外部端子を設けたボールグ
リッドアレイ型半導体装置(以下BGA型半導体装置と
いう)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a ball grid array type semiconductor device (hereinafter referred to as "BGA type semiconductor device") in which a semiconductor element, a lead frame and a TAB tape are combined and sealed with a resin to provide external terminals. ).

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体素子の高集積化、小型化、
それにともなう狭ピッチ化が進められており、それを搭
載する半導体パッケージについても小型化、狭ピッチ化
が進められている。
2. Description of the Related Art In recent years, high integration and miniaturization of semiconductor devices,
Along with this, the pitch has been reduced, and the semiconductor package on which it is mounted has also been reduced in size and pitch.

【0003】半導体パッケージとして、QFPタイプの
パッケージが現在主流であるが、それよりも小型化が可
能なボールグリッドアレイ(BGA)パッケージが市場
に流れ始めている。そして、ボールグリッドアレイ(B
GA)パッケージを用いた半導体装置を、BGA型半導
体装置という。
As a semiconductor package, a QFP type package is currently mainstream, but a ball grid array (BGA) package which can be made smaller than that is beginning to flow on the market. Then, the ball grid array (B
A semiconductor device using a GA) package is called a BGA type semiconductor device.

【0004】BGA型半導体装置において、半導体素子
とリードフレームとを組み合わせ樹脂封止を行い外部端
子を設けたモールドBGA型半導体装置(以下モールド
BGAという)がある。
[0004] As a BGA type semiconductor device, there is a molded BGA type semiconductor device (hereinafter referred to as a molded BGA) in which a semiconductor element and a lead frame are combined, resin-sealed, and external terminals are provided.

【0005】従来のモールドBGA(従来例1)は、図
5のモールドBGAの構造の概略断面図で説明される。
図5に示すように、このモールドBGAは、リードフレ
ーム2が用いられ、半導体素子1がリードフレーム2の
リード3上に絶縁フィルム21を介して搭載され、半導
体素子1のボンディングパッド(図示せず)とリードフ
レーム2のリード3とが金属細線であるボンディングワ
イヤ22で接続され、半導体素子1とボンディングワイ
ヤ22と外部端子の搭載部(ランド)を除いたリードフ
レーム2とを覆うように封止樹脂7で封止され、リード
フレーム2のリード3の搭載部(ランド)に格子状に設
けられた外部端子である半田ボール8とを有する。
A conventional mold BGA (conventional example 1) will be described with reference to a schematic sectional view of the structure of the mold BGA in FIG.
As shown in FIG. 5, this mold BGA uses a lead frame 2, a semiconductor element 1 is mounted on a lead 3 of the lead frame 2 via an insulating film 21, and a bonding pad (not shown) of the semiconductor element 1 is provided. ) And the lead 3 of the lead frame 2 are connected by a bonding wire 22 which is a thin metal wire, and sealed so as to cover the semiconductor element 1, the bonding wire 22 and the lead frame 2 excluding the mounting portion (land) of the external terminal. It has a solder ball 8 which is an external terminal provided in a lattice on a mounting portion (land) of the lead 3 of the lead frame 2 and sealed with a resin 7.

【0006】そして、従来のモールドBGAでLOC構
造のもの(従来例2)が有り、図6のLOC構造のモー
ルドBGAの構造の概略断面図で説明される。図6に示
すように、このモールドBGAは、リードフレーム2が
用いられ、半導体素子1上に絶縁テープ23を介してリ
ードフレーム2のリード3が接着され、半導体素子1の
ボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2の
リード3とが金属細線であるボンディングワイヤ22で
接続され、半導体素子1とボンディングワイヤ22と外
部端子の搭載部(ランド)を除いたリードフレーム2と
を覆うように封止樹脂7で封止され、リードフレーム2
のリード3の搭載部(ランド)に格子状に設けられた外
部端子である半田ボール8とを有する。
There is a conventional mold BGA having a LOC structure (conventional example 2), which will be described with reference to a schematic sectional view of the structure of a mold BGA having a LOC structure in FIG. As shown in FIG. 6, a lead frame 2 is used in the mold BGA. The leads 3 of the lead frame 2 are adhered on the semiconductor element 1 via an insulating tape 23, and bonding pads (not shown) of the semiconductor element 1 are formed. ) And the lead 3 of the lead frame 2 are connected by a bonding wire 22 which is a thin metal wire, and sealed so as to cover the semiconductor element 1, the bonding wire 22 and the lead frame 2 excluding the mounting portion (land) of the external terminal. Lead frame 2 sealed with resin 7
And solder balls 8 as external terminals provided in a grid on the mounting portion (land) of the lead 3.

【0007】また、BGA型半導体装置において、半導
体素子とTABテープとを組み合わせ樹脂封止を行い外
部端子を設けたテープBGA型半導体装置(以下テープ
BGAという)がある。
In addition, there is a tape BGA type semiconductor device (hereinafter referred to as a tape BGA) in which a semiconductor element and a TAB tape are combined and sealed with resin to provide external terminals.

【0008】従来のテープBGA(従来例3)は、図7
のテープBGAの構造の概略断面図で説明される。図7
に示すように、このテープBGAは、TABテープ4が
用いられ、TABテープ4にはTABテープ4の反りを
防止する金属の補強板(スティフナ)24が接着されて
おり、半導体素子1が半導体素子1のボンディングパッ
ド(図示せず)でTABテープ4のTAB配線6の一端
にILB接続され、半導体素子1のTAB配線6との接
続面(表面)とTAB配線6の半導体素子1との接続部
とを覆うように封止樹脂25で封止され、TABテープ
4の搭載部(ランド)に格子状に設けられた外部端子で
ある半田ボール8とを有する。
FIG. 7 shows a conventional tape BGA (conventional example 3).
A schematic sectional view of the structure of the tape BGA of FIG. FIG.
As shown in FIG. 2, a TAB tape 4 is used for the tape BGA, and a metal reinforcing plate (stiffener) 24 for preventing warpage of the TAB tape 4 is adhered to the TAB tape 4. 1 is connected to one end of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4 by a bonding pad (not shown), and the connection surface (front surface) of the semiconductor element 1 with the TAB wiring 6 and the connection part of the TAB wiring 6 with the semiconductor element 1 And a solder ball 8 which is an external terminal provided in a grid on the mounting portion (land) of the TAB tape 4 so as to cover the solder ball 8.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のモール
ドBGA(従来例1,2共に)は、リードフレーム2の
リード3の引き回しで配線するため、半導体素子1の集
積度が高まり多ピン化(外部端子数が増加する)して
も、モールドBGAの外部端子数を増加させることに限
界が有り対応が困難になってくるという問題が有る。
In the above-described conventional mold BGA (both conventional examples 1 and 2), wiring is performed by leading the leads 3 of the lead frame 2, so that the degree of integration of the semiconductor element 1 is increased and the number of pins is increased. Even if the number of external terminals increases), there is a limit in increasing the number of external terminals of the mold BGA, and there is a problem that it is difficult to cope with the increase.

【0010】何故ならば、モールドBGAの外部端子数
を増加させるためには、リードフレーム2のリード3数
を増加させなければならない。そのためにはリードフレ
ーム2の板厚を薄くしなければならないが、リードフレ
ーム2の板厚は0.125mm〜0.100mmが限界
である。この限界はエッチングリードフレーム、スタン
ピング(プレス)リードフレームに関わらず存在し、こ
れ以上リードフレーム2の板厚を薄くすると、リードフ
レーム2のリード3が変形してしまい強度的に使用でき
なくなる。そしてリードフレーム2の板厚によりリード
3の引き回しによるリード3数が決まってしまい、リー
ド3数つまり外部端子数を増加させることに限界が有
る。例えば、上記リードフレーム2の板厚の場合、リー
ドフレーム2のリード3の外部端子の搭載部であるラン
ドのピッチ(間隔)が0.8mmの場合(狭い場合)で
は、リードフレーム2のリード3の引き回しはランド−
ランド間2本通しが限界である。そしてこの場合、例え
ば大きさ7mm×11mm(横×縦)のモールドBGA
の最大外部端子数は60である。
This is because the number of leads 3 of the lead frame 2 must be increased in order to increase the number of external terminals of the mold BGA. For this purpose, the thickness of the lead frame 2 must be reduced, but the thickness of the lead frame 2 is limited to 0.125 mm to 0.100 mm. This limit exists regardless of the etching lead frame and the stamping (press) lead frame. If the thickness of the lead frame 2 is further reduced, the leads 3 of the lead frame 2 are deformed and cannot be used in terms of strength. Then, the number of leads 3 is determined by the lead 3 depending on the thickness of the lead frame 2, and there is a limit to increasing the number of leads 3, that is, the number of external terminals. For example, in the case of the plate thickness of the lead frame 2, when the pitch (interval) of the land, which is the mounting portion of the external terminal of the lead 3 of the lead frame 2, is 0.8 mm (when it is narrow), the lead 3 of the lead frame 2 is not formed. Landing of the land-
The limit is two wires between lands. In this case, for example, a mold BGA having a size of 7 mm × 11 mm (width × length) is used.
Are 60 maximum external terminals.

【0011】また上述した従来のモールドBGA(従来
例1,2共に)は、半導体素子1のボンディングパッド
とリードフレーム2のリード3とがボンディングワイヤ
22で接続されており、接続されたボンディングワイヤ
22の高さはばらつきを生じる。例えば、ボンディング
ワイヤ22がφ30μmの金線の場合±50μmのばら
つきを生じる。そのため、ボンディングワイヤ22の高
さが高くなるとボンディングワイヤ22が封止樹脂7
(つまりパッケージ)表面に露出してしまうという問題
が生じる。特に従来例2のLOC構造のモールドBGA
ではリードフレーム3上部の封止樹脂7の厚さが薄く、
この問題が生じ易い。
In the above-described conventional mold BGA (both conventional examples 1 and 2), the bonding pads of the semiconductor element 1 and the leads 3 of the lead frame 2 are connected by bonding wires 22. Varies in height. For example, when the bonding wire 22 is a φ30 μm gold wire, a variation of ± 50 μm occurs. Therefore, when the height of the bonding wire 22 increases, the bonding wire 22
There is a problem that it is exposed on the surface of the package (that is, the package). Particularly, the mold BGA having the LOC structure of the conventional example 2
Then, the thickness of the sealing resin 7 above the lead frame 3 is thin,
This problem is likely to occur.

【0012】そしてまた、半導体素子1のボンディング
パッドとリードフレーム2のリード3とがボンディング
ワイヤ22で接続されているため、半導体素子1のボン
ディングパッドとリードフレーム2のリード3とを交差
して接続することは出来ないという課題が有る。何故な
らば、半導体素子1のボンディングパッドとリードフレ
ーム2のリード3とをボンディングワイヤ22で交差し
て接続すると、交差したボンディングワイヤ22がショ
ートしてしまうからである。または、接続時ショートし
ていなくても、接続後封止樹脂7で封止した時、封止金
型内で注入された封止樹脂7により交差したボンディン
グワイヤ22が変形しショートしてしまうからである。
例えば、ボンディングワイヤ22がφ30μmの金線の
場合、交差したボンディングワイヤ22の距離が30μ
m以下だとショートしてしまう。
Further, since the bonding pads of the semiconductor element 1 and the leads 3 of the lead frame 2 are connected by the bonding wires 22, the bonding pads of the semiconductor element 1 and the leads 3 of the lead frame 2 are crossed and connected. There is a problem that cannot be done. This is because, when the bonding pads of the semiconductor element 1 and the leads 3 of the lead frame 2 are connected to each other with the bonding wires 22 intersecting, the intersecting bonding wires 22 are short-circuited. Alternatively, even if there is no short circuit at the time of connection, the bonding wire 22 crossed by the sealing resin 7 injected into the sealing mold is deformed and short-circuited when sealing with the sealing resin 7 after connection. It is.
For example, when the bonding wire 22 is a φ30 μm gold wire, the distance between the intersecting bonding wires 22 is 30 μm.
If it is less than m, it will be short-circuited.

【0013】一方、上述した従来のテープBGA(従来
例3)は、半導体素子1のTAB配線6との接続面(表
面)とTAB配線6の半導体素子1との接続部とを覆う
ようにしか封止樹脂24で封止されておらず、半導体素
子1の裏面等は封止樹脂24で封止されて(覆われて)
いない。そのためモールドBGAやQFP等のトランス
ファ成形を行い、半導体素子1の全面(つまりパッケー
ジ全体)を封止樹脂7で封止されて(覆われて)いるパ
ッケージと比べ耐湿性などの信頼性が劣るという問題が
有る。
On the other hand, the above-described conventional tape BGA (conventional example 3) only covers the connection surface (surface) of the semiconductor element 1 with the TAB wiring 6 and the connection portion of the TAB wiring 6 with the semiconductor element 1. The back surface and the like of the semiconductor element 1 are not sealed with the sealing resin 24 and are sealed (covered) with the sealing resin 24.
Not in. Therefore, transfer molding such as a mold BGA or QFP is performed, and the reliability such as moisture resistance is lower than that of a package in which the entire surface of the semiconductor element 1 (that is, the entire package) is sealed (covered) with the sealing resin 7. There is a problem.

【0014】従って、本発明の目的は、半導体素子の高
集積化による多ピン化に対応でき(多外部端子化)、か
つボンディングワイヤ(半導体素子のボンディングパッ
ドとリードフレームのリードとの接続部材)が封止樹脂
(パッケージ)表面に露出することを防止できるモール
ドBGAを提供することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to cope with the increase in the number of pins due to the high integration of the semiconductor element (multiple external terminals) and the bonding wire (the connecting member between the bonding pad of the semiconductor element and the lead of the lead frame). Is to provide a mold BGA that can prevent the resin from being exposed to the surface of the sealing resin (package).

【0015】本発明の他の目的は、半導体素子のボンデ
ィングパッドとリードフレームのリードとを交差して接
続することが出来るモールドBGAを提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、TABテープを用いて
も半導体素子の全面を封止樹脂で封止した(覆った)、
信頼性が良いモールドBGAを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a mold BGA which can connect a bonding pad of a semiconductor element and a lead of a lead frame crossing each other. Still another object of the present invention is to seal (cover) the entire surface of the semiconductor element with a sealing resin even using a TAB tape.
An object of the present invention is to provide a highly reliable mold BGA.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、リード
フレームのリード上にTABテープを介して半導体素子
が搭載され、前記TABテープのTAB配線の一端側が
前記半導体素子のボンディングパッドに接続され他端側
が前記リードに接続され、前記半導体素子の全体、前記
TABテープの全体および前記リードを封止樹脂により
封止し、前記リードのランド部に接続された外部端子が
前記封止樹脂より突出している半導体装置にある。 本発
明の他の特徴は、リードフレームのリード間に半導体素
子が設けられ、TABテープのTAB配線の一端側が前
記半導体素子のボンディングパッドに接続され他端側が
前記リードに接続され、前記半導体素子の全体、前記T
ABテープのランド部を除く該TABテープの全体およ
び前記リードを封止樹脂により封止し、前記TABテー
プのランド部に接続された外部端子が前記封止樹脂より
突出している半導体装置にある。 本発明の別の特徴は、
リードフレームのリード上にTABテープを介して半導
体素子が搭載され、前記TABテープのTAB配線の一
端側が前記半導体素子のボンディングパッドに接続され
他端側が前記リードの前記半導体素子側の箇所に接続さ
れ、電気特性試験用パッドを有する試験用TABテープ
が前記リードの前記半導体素子側とは反対側の箇所に接
続され、前記半導体素子の全体、前記TABテープの全
体および前記リードを封止樹脂により封止し、前記リー
ドのランド部に接続された外部端子が前記封止樹脂より
突出し、前記試験用TABテープが前記封止樹脂よりも
突出して前記電気特性試験用パッドが前記封止樹脂の外
側に位置している半導体装置にある。 あるいは本発明の
別の特徴は、リードフレームのリード間に半導体素子が
設けられ、前記リードフレームと前記半導体素子との間
に第1のTAB配線を有する第1のTABテープおよび
第2のTAB配線を有する第2のTABテープが設けら
れ、前記第1のTAB配線の一端側が前記半導体素子の
ボンディングパッドに接続され、前記第2のTAB配線
の一端側が前記リードに接続され、前記第1および第2
のTAB配線の他端側どうしが接続され、前記半導体素
子の全体、前記 第1のTABテープの全体、前記第2の
TABテープのランド部を除く該第2のTABテープの
全体および前記リードを封止樹脂により封止し、前記第
2のTABテープのランド部に接続された外部端子が前
記封止樹脂より突出している半導体装置にある。 この場
合、前記第2のTABテープの第2のTAB配線は単層
構造であることができる。 あるいは、前記第2のTAB
テープの第2のTAB配線は多層構造であることができ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION A feature of the present invention is that a lead is provided.
Semiconductor device via TAB tape on frame lead
Is mounted, and one end of the TAB wiring of the TAB tape is
The other end connected to the bonding pad of the semiconductor element
Is connected to the lead, the whole of the semiconductor element, the
The entire TAB tape and the leads are sealed with a sealing resin.
External terminals connected to the land portions of the leads are sealed.
The semiconductor device protrudes from the sealing resin. Departure
Another feature of the light source is the semiconductor element between the leads of the leadframe.
Is provided, and one end of the TAB wiring of the TAB tape is in front.
The other end is connected to the bonding pad of the semiconductor element.
Connected to the lead, the entirety of the semiconductor element, the T
The entire TAB tape excluding the AB tape land
And the leads are sealed with a sealing resin, and the TAB
External terminals connected to the lands of the
In a protruding semiconductor device. Another feature of the invention is that
Semi-conductive on the lead of the lead frame via TAB tape
Body element is mounted, and one of the TAB wires of the TAB tape is mounted.
An end side is connected to a bonding pad of the semiconductor element.
The other end is connected to the semiconductor element side of the lead.
Test TAB tape with electrical property test pads
Is connected to the opposite side of the lead from the semiconductor element side.
And the entirety of the semiconductor element and the entirety of the TAB tape.
The body and the leads are sealed with a sealing resin.
External terminals connected to the land of the
Projecting, the test TAB tape is larger than the sealing resin.
The electrical property test pad protrudes from the outside of the sealing resin.
Side of the semiconductor device. Or of the present invention
Another feature is that the semiconductor element is placed between the leads of the lead frame.
Provided between the lead frame and the semiconductor element.
A first TAB tape having a first TAB wiring
A second TAB tape having a second TAB wiring is provided.
And one end of the first TAB wiring is connected to the semiconductor element.
A second TAB wiring connected to a bonding pad;
Is connected to the lead, and the first and second
Are connected to each other at the other end of the TAB wiring of
Child, the first TAB tape, the second
Of the second TAB tape except for the land portion of the TAB tape
The whole and the leads are sealed with a sealing resin, and the
External terminal connected to the land of TAB tape No. 2
The semiconductor device protrudes from the sealing resin. This place
If the second TAB wiring of the second TAB tape is a single layer
Structure can be. Alternatively, the second TAB
The second TAB wiring on the tape can be a multilayer structure
You.

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【0019】[0019]

【0020】また、前記外部端子が半田ボールである。Further, the external terminals are solder balls.

【0021】また、ランド部はリードあるいはTAB配
線の一部である。
The lands are provided with leads or TABs.
Part of a line.

【0022】[0022]

【0023】この様な本発明によれば、配線の引き回し
が、リードフレームのリードにより行われているのでは
なく、パターン化された金属配線(TAB配線)で行わ
れているので、配線幅を狭くでき、半導体装置(モール
ドBGA)の最大外部端子数を増加させることが出来
る。
According to the present invention, the wiring is not conducted by the lead of the lead frame but by the patterned metal wiring (TAB wiring). It can be narrowed, and the maximum number of external terminals of the semiconductor device (mold BGA) can be increased.

【0024】また、半導体素子のボンディングパッドと
リードフレームのリードとの接続部材としてボンディン
グワイヤでなくTABテープを用いているので、接続部
材の高さのばらつきは殆どない。
Also, since a TAB tape is used instead of a bonding wire as a connecting member between the bonding pad of the semiconductor element and the lead of the lead frame, there is almost no variation in the height of the connecting member.

【0025】また、TABテープの金属配線(TAB配
線)が多層でも良くかつ交差するようにしても良いの
で、半導体素子のボンディングパッドとリードフレーム
のリードとを交差して接続することが出来る。
Also, since the metal wiring (TAB wiring) of the TAB tape may be multi-layered and may cross, the bonding pads of the semiconductor element and the leads of the lead frame can be crossed and connected.

【0026】また、TABテープを用いても半導体素子
の全面(つまりパッケージ全体)を封止樹脂で封止し覆
っている。
Further, even if a TAB tape is used, the entire surface of the semiconductor element (ie, the entire package) is sealed and covered with a sealing resin.

【0027】さらにまた、電気特性試験を行う時、電気
特性試験装置のICソケットのコンタクトピンが半導体
装置(モールドBGA)のパッケージ外部にはみ出して
いるTABテープの電気特性試験用パッド部に接触し電
気特性試験が行われ、半導体装置(モールドBGA)の
外部端子である半田ボールには接触しない。
Further, when conducting the electrical characteristic test, the contact pins of the IC socket of the electrical characteristic test device come into contact with the electrical characteristic test pad portion of the TAB tape which protrudes outside the package of the semiconductor device (mold BGA), and A characteristic test is performed, and no contact is made with a solder ball that is an external terminal of the semiconductor device (mold BGA).

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1
の実施形態の構造を示す概略断面図である。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows the first embodiment of the present invention.
It is an outline sectional view showing the structure of an embodiment.

【0029】図1に示すように、本実施形態のモールド
BGAは、リードフレーム2が用いられ、そしてボンデ
ィングワイヤの替わりに、絶縁物であるTABベースフ
ィルム5上にパターン化されたTAB配線6が接着され
たTABテープ4が用いられている。TABテープ4
は、例えばポリイミドであるTABベースフィルム5上
にパターン化された銅配線であるTAB配線6が接着さ
れたものである。半導体素子1が半導体素子1のボンデ
ィングパッド(図示せず)でTABテープ4のTAB配
線6の一端にILB接続され、ILB接続されたTAB
テープ4のTAB配線6の他端がリードフレーム2のリ
ード3上でOLB接続され、TABテープ4のTABベ
ースフィルム5がTAB配線6と半導体素子1の間に介
在している。半導体素子1とTABテープ4と外部端子
の搭載部(ランド)を除いたリードフレーム2とを覆う
ように、封止金型(図示せず)を用いトランスファ成形
法により封止樹脂7で封止され、リードフレーム2のリ
ード3の搭載部(ランド)に格子状に設けられた外部端
子である半田ボール8とを有する。
As shown in FIG. 1, the mold BGA of this embodiment uses a lead frame 2 and a TAB wiring 6 patterned on a TAB base film 5 which is an insulator instead of a bonding wire. The bonded TAB tape 4 is used. TAB tape 4
Is formed by bonding a TAB wiring 6 which is a patterned copper wiring on a TAB base film 5 which is a polyimide, for example. The semiconductor element 1 is ILB-connected to one end of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4 by a bonding pad (not shown) of the semiconductor element 1, and the TAB connected to the ILB is connected.
The other end of the TAB wiring 6 of the tape 4 is OLB connected on the lead 3 of the lead frame 2, and the TAB base film 5 of the TAB tape 4 is interposed between the TAB wiring 6 and the semiconductor element 1. A semiconductor device 1, a TAB tape 4, and a lead frame 2 excluding mounting portions (lands) of external terminals are covered with a sealing resin 7 by a transfer molding method using a sealing mold (not shown). And a solder ball 8 which is an external terminal provided in a grid on the mounting portion (land) of the lead 3 of the lead frame 2.

【0030】ここで、このモールドBGAは、配線の引
き回しが、リードフレーム2のリード3により行われて
いるのではなく、パターン化されたTAB配線6で行わ
れている。そのため配線幅を狭くでき、リードフレーム
2のリード3の搭載部(ランド)に設けられた外部端子
数を多く(増加)することができる。例えば、配線幅は
100μm(リード3の場合)から35μm(TAB配
線6の場合)に狭くできる。そして例えば大きさ7mm
×11mmの本実施形態のモールドBGAの最大外部端
子数は90になる。
Here, in the mold BGA, the wiring is not conducted by the leads 3 of the lead frame 2 but by the patterned TAB wiring 6. Therefore, the wiring width can be reduced, and the number of external terminals provided on the mounting portion (land) of the lead 3 of the lead frame 2 can be increased (increased). For example, the wiring width can be reduced from 100 μm (for the lead 3) to 35 μm (for the TAB wiring 6). And, for example, a size of 7 mm
The maximum number of external terminals of the molded BGA of this embodiment of × 11 mm is 90.

【0031】また、半導体素子1のボンディングパッド
とリードフレーム2のリード3との接続部材としてTA
Bテープ4を用いているので、接続部材の高さのばらつ
きは殆どない。TABテープ4の高さ(厚さ)のばらつ
きは、例えば±10μmである。
A connecting member between the bonding pad of the semiconductor element 1 and the lead 3 of the lead frame 2 is a TA.
Since the B tape 4 is used, there is almost no variation in the height of the connecting members. The variation in the height (thickness) of the TAB tape 4 is, for example, ± 10 μm.

【0032】そしてまた、TABテープ4を用いても半
導体素子1の全面(つまりパッケージ全体)を封止樹脂
7で封止し覆っている。
Further, even when the TAB tape 4 is used, the entire surface of the semiconductor element 1 (that is, the entire package) is sealed and covered with the sealing resin 7.

【0033】図2は本発明の第2の実施形態の構造を示
す概略断面図である。図2に示すように、本実施形態の
モールドBGAは、図1に示す第1の実施形態が半導体
装置1のボンディングパッドに一端がILB接続された
TABテープ4のTAB配線6の他端がリードフレーム
2のリード3の上面でOLB接続され、樹脂封止後外部
端子である半田ボール8がリードフレーム2のリード3
の下面の搭載部(ランド)に格子状に設けられているの
に対し、半導体装置1のボンディングパッドに一端がI
LB接続されたTABテープ4のTAB配線6の他端が
リードフレーム2のリード3の下面でOLB接続され、
樹脂封止後外部端子である半田ボール8がTABテープ
4のTAB配線6の下面の搭載部(ランド)に格子状に
設けられているものである。ここで、TABテープ4の
TAB配線6の下面に設けられた搭載部(ランド)は銅
配線であるTAB配線6の一部であり、大きさは例えば
φ0.3mmである。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the mold BGA of this embodiment is different from the first embodiment shown in FIG. 1 in that the other end of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4 is connected to the bonding pad of the semiconductor device 1 at one end by ILB. OLB connection is performed on the upper surface of the lead 3 of the frame 2, and the solder ball 8, which is an external terminal after resin sealing, is
The semiconductor device 1 has one end connected to the bonding pad of the semiconductor device 1 in a grid pattern on the mounting portion (land) on the lower surface of the semiconductor device 1.
The other end of the TAB wire 6 of the LB-connected TAB tape 4 is OLB-connected to the lower surface of the lead 3 of the lead frame 2,
Solder balls 8 which are external terminals after resin sealing are provided in a grid on a mounting portion (land) on the lower surface of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4. Here, the mounting portion (land) provided on the lower surface of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4 is a part of the TAB wiring 6 which is a copper wiring, and has a size of, for example, φ0.3 mm.

【0034】ここで、このモールドBGAは、配線の引
き回しが、リードフレーム2のリード3により行われて
いるのではなく、パターン化されたTAB配線6で行わ
れているので、配線幅を狭くできる。そして外部端子で
ある半田ボール8がTABテープ4のTAB配線6の搭
載部(ランド)に格子状に設けられているので、設けら
れた外部端子数を多く(増加)することができる。例え
ば、大きさ7mm×11mmの本実施形態のモールドB
GAの最大外部端子数は120になる。
Here, in the mold BGA, the wiring routing is not performed by the leads 3 of the lead frame 2 but by the patterned TAB wiring 6, so that the wiring width can be reduced. . Since the solder balls 8 as the external terminals are provided in a grid on the mounting portion (land) of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4, the number of external terminals provided can be increased (increased). For example, a mold B of this embodiment having a size of 7 mm × 11 mm
The maximum number of external terminals of the GA is 120.

【0035】また、半導体素子1のボンディングパッド
とリードフレーム2のリード3との接続部材としてTA
Bテープ4を用いているので、接続部材の高さのばらつ
きは殆どない。
A connecting member between the bonding pad of the semiconductor element 1 and the lead 3 of the lead frame 2 is a TA.
Since the B tape 4 is used, there is almost no variation in the height of the connecting members.

【0036】そしてまた、TABテープ4を用いても半
導体素子1の全面(つまりパッケージ全体)を封止樹脂
7で封止し覆っている。
Further, even when the TAB tape 4 is used, the entire surface of the semiconductor element 1 (that is, the entire package) is covered with the sealing resin 7.

【0037】図3(a)および図3(b)は本発明の第
3の実施形態の構造を示す概略断面図および概略下面図
である。図3(a)および図3(b)に示すように、本
実施形態のモールドBGAは、図1に示す第1の実施形
態が絶縁物であるTABベースフィルム5上にパターン
化されたTAB配線6が接着された(1種類の)TAB
テープ4が用いられ、半導体素子1が半導体素子1のボ
ンディングパッド(図示せず)でTABテープ4のTA
B配線6の一端にILB接続され、ILB接続されたT
ABテープ4のTAB配線6の他端がリードフレーム2
のリード3上でOLB接続され、TABテープ4のTA
Bベースフィルム5がTAB配線6と半導体素子1の間
に介在し、半導体素子1とTABテープ4と外部端子の
搭載部(ランド)を除いたリードフレーム2とを覆うよ
うに、封止金型(図示せず)を用いトランスファ成形法
により封止樹脂7で封止されているのに対し、第1の実
施形態と同様な半導体素子1とリードフレーム2とを接
続させる絶縁物であるTABベースフィルム5a上にパ
ターン化されたTAB配線6aが接着されたTABテー
プ4aと絶縁物であるTABベースフィルム5b上にパ
ターン化され外周部に電気特性試験用パッド部9が設け
られたTAB配線6bが接着されたTABテープ4bの
2種類のTABテープ4が用いられているものである。
FIGS. 3A and 3B are a schematic sectional view and a schematic bottom view showing the structure of the third embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 3A and 3B, the mold BGA of the present embodiment has a TAB wiring patterned on a TAB base film 5 which is an insulator of the first embodiment shown in FIG. (One kind) TAB with 6 bonded
The tape 4 is used, and the semiconductor element 1 is connected to the bonding pad (not shown) of the semiconductor element 1 by the TAB tape 4.
ILB is connected to one end of the B wiring 6, and T
The other end of the TAB wiring 6 of the AB tape 4 is the lead frame 2
OLB connection on lead 3 of TAB tape 4
A sealing die is provided so that the B base film 5 is interposed between the TAB wiring 6 and the semiconductor element 1, and covers the semiconductor element 1, the TAB tape 4, and the lead frame 2 excluding the mounting portion (land) of the external terminal. (Not shown), which is sealed with a sealing resin 7 by a transfer molding method, whereas a TAB base which is an insulator for connecting the semiconductor element 1 and the lead frame 2 similar to the first embodiment. A TAB tape 4a having a TAB wiring 6a patterned on a film 5a adhered thereto and a TAB wiring 6b patterned on a TAB base film 5b which is an insulator and provided with a pad portion 9 for an electrical property test on an outer peripheral portion. Two types of TAB tapes 4 are used, ie, a bonded TAB tape 4b.

【0038】ここで、TABテープ4bのTAB配線6
bに設けられた電気特性試験用パッド部9は銅配線であ
るTAB配線6bの一部であり、TABベースフィルム
5b上に設けられ、大きさは例えばφ0.35mm、パ
ッドピッチ(p)は0.5mmである。なお、電気特性
試験用パッド部9の配列は図3(b)に示すような千鳥
配列でも、単列配列(図示せず)でも良い。
Here, the TAB wiring 6 of the TAB tape 4b
b is a part of the TAB wiring 6b which is a copper wiring, is provided on the TAB base film 5b, and has a size of, for example, φ0.35 mm and a pad pitch (p) of 0. 0.5 mm. Note that the arrangement of the electrical characteristic test pad sections 9 may be a staggered arrangement as shown in FIG. 3B or a single-row arrangement (not shown).

【0039】そして第1の実施形態と同様に半導体素子
1が半導体素子1のボンディングパッドでTABテープ
4aのTAB配線6aの一端にILB接続され、ILB
接続されたTABテープ4aのTAB配線6aの他端が
リードフレーム2のリード3上の内側でOLB接続さ
れ、TABテープ4aのTABベースフィルム5aがT
AB配線6aと半導体素子1の間に介在すると共に、T
ABテープ4bのTAB配線6bの外周部に設けられた
電気特性試験用パッド部9がリードフレーム2のリード
3上から外部にはみ出すようにTABテープ4bのTA
B配線6bの一端がリードフレーム2のリード3上の外
側でOLB接続される。そして半導体素子1とTABテ
ープ4aとTAB配線6bの外周部に設けられた電気特
性試験用パッド部9を除いたTABテープ4bと外部端
子の搭載部(ランド)を除いたリードフレーム2とを覆
うように、封止金型を用いトランスファ成形法により封
止樹脂7で封止される。そしてリードフレーム2のリー
ド3の搭載部(ランド)に外部端子である半田ボール8
が格子状に設けられているものである。
Then, as in the first embodiment, the semiconductor element 1 is ILB-connected to one end of the TAB wiring 6a of the TAB tape 4a by the bonding pad of the semiconductor element 1, and ILB is connected.
The other end of the TAB wiring 6a of the connected TAB tape 4a is OLB connected inside the lead 3 of the lead frame 2 and the TAB base film 5a of the TAB tape 4a is
Between the AB wiring 6a and the semiconductor element 1;
The TAB of the TAB tape 4b is arranged such that the electrical property test pad 9 provided on the outer periphery of the TAB wiring 6b of the AB tape 4b protrudes from the lead 3 of the lead frame 2 to the outside.
One end of the B wiring 6 b is OLB connected outside the lead 3 of the lead frame 2. Then, the semiconductor element 1, the TAB tape 4a, and the TAB tape 4b provided on the outer peripheral portion of the TAB wiring 6b except for the electrical property test pad 9 and the lead frame 2 excluding the mounting portion (land) of the external terminal are covered. As described above, the semiconductor device is sealed with the sealing resin 7 by the transfer molding method using a sealing mold. Then, solder balls 8 as external terminals are provided on the mounting portions (lands) of the leads 3 of the lead frame 2.
Are provided in a lattice shape.

【0040】ここで、このモールドBGAは、パッケー
ジ完成後電気特性試験を行う時、電気特性試験装置のI
Cソケットのコンタクトピン(図示せず)がパッケージ
外部にはみ出しているTABテープ4bの電気特性試験
用パッド部9に接触し電気特性試験が行われる。そし
て、電気特性試験終了後、パッケージ外部にはみ出して
いるTABテープ4bの電気特性試験用パッド部9は切
断金型(図示せず)により全て切断される。なお、従来
例のモールドBGAやテープBGAおよび第1、第2の
実施形態のモールドBGAでは、電気特性試験装置のI
Cソケットのコンタクトピンがパッケージの外部端子で
ある半田ボール8に接触する。
Here, this mold BGA is used by an electric characteristic tester I
A contact pin (not shown) of the C socket comes into contact with the electrical property test pad 9 of the TAB tape 4b protruding outside the package, and an electrical property test is performed. After completion of the electrical property test, the electrical property test pad portion 9 of the TAB tape 4b protruding outside the package is completely cut by a cutting die (not shown). In the conventional mold BGA and tape BGA and the mold BGA of the first and second embodiments, the I
The contact pins of the C socket make contact with the solder balls 8 which are external terminals of the package.

【0041】また、本実施形態ではTABテープ4とし
て、半導体素子1とリードフレーム2とを接続させるT
ABテープ4aと、電気特性試験用パッド部9が設けら
れたTABテープ4bの2種類が用いられているが、本
発明はこれに限定されず、TABテープ4が、半導体素
子1とリードフレーム2とを接続させるTAB配線6a
が形成され、TAB配線6aが外周方向に延長されてい
て電気特性試験用パッド部9が設けられているもの(一
体化されているもの)でも良い。この場合、TABテー
プ4のTAB配線6aのリードフレーム2のリード3上
でのOLB接続は一回行えば良い。
In this embodiment, the TAB tape 4 is used to connect the semiconductor element 1 to the lead frame 2.
An AB tape 4a and a TAB tape 4b provided with an electrical property test pad 9 are used. However, the present invention is not limited to this. The TAB tape 4 is composed of the semiconductor element 1 and the lead frame 2. Wiring 6a that connects
May be formed, the TAB wiring 6a may be extended in the outer peripheral direction, and the electrical characteristic test pad 9 may be provided (integrated). In this case, the OLB connection of the TAB wiring 6a of the TAB tape 4 on the lead 3 of the lead frame 2 may be performed only once.

【0042】図4(a)および図4(b)は本発明の第
4の実施形態の構造を示す概略断面図および概略下面図
であり、図4(c)は図4(a)の本発明の第4の実施
形態の一部(TAB配線)の構造の詳細を示す概略断面
図である。図4(a)および図4(b)に示すように、
本実施形態のモールドBGAは、図2に示す第2の実施
形態が絶縁物であるTABベースフィルム5上にパター
ン化されたTAB配線6が接着された(一体物の)TA
Bテープ4が用いられ、半導体装置1のボンディングパ
ッドに一端がILB接続されたTABテープ4のTAB
配線6の他端がリードフレーム2のリード3の下面でO
LB接続され、樹脂封止後外部端子である半田ボール8
がTABテープ4のTAB配線6の下面の搭載部(ラン
ド)に格子状に設けられているのに対し、半導体装置1
のボンディングパッド10にILB接続される、絶縁物
であるTABベースフィルム5c上にパターン化され他
のTABテープ4dとの接合部であるTAB配線接合部
11cを有するTAB配線6cが接着されたTABテー
プ4cと、外部端子である半田ボール8が設けられリー
ドフレーム2のリード3にOLB接続される、絶縁物で
あるTABベースフィルム5d上にパターン化され下面
に設けられた外部端子の搭載部(ランド)12と他のT
ABテープ4cとの接合部であるTAB配線接合部11
dとを有するTAB配線6dが接着されたTABテープ
4dの分割した2種類のTABテープ4が用いられてい
るものである。
FIGS. 4 (a) and 4 (b) are a schematic sectional view and a schematic bottom view showing the structure of the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 4 (c) is the book of FIG. 4 (a). It is a schematic sectional view showing the detail of the structure of a part (TAB wiring) of a 4th embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 4A and 4B,
In the mold BGA of this embodiment, the TAB wiring 6 patterned on a TAB base film 5 which is an insulator in the second embodiment shown in FIG.
B tape 4 is used, and one end of the TAB tape 4 is connected to the bonding pad of the semiconductor device 1 by ILB.
The other end of the wiring 6 is connected to the lower surface of the lead 3 of the lead frame 2 by O.
LB connection, solder ball 8 which is an external terminal after resin sealing
Are provided in a grid on the mounting portion (land) on the lower surface of the TAB wiring 6 of the TAB tape 4, whereas the semiconductor device 1
TAB tape which is patterned on a TAB base film 5c which is an insulator and has a TAB wiring joint 11c which is a joint with another TAB tape 4d and which is bonded to the bonding pad 10 by ILB to the bonding pad 10 4c, a solder ball 8 as an external terminal is provided, and the OLB connection to the lead 3 of the lead frame 2 is made on a TAB base film 5d as an insulator. ) 12 and other T
TAB wiring joint 11 which is a joint with AB tape 4c
In this example, two types of TAB tapes 4 are used, which are divided from a TAB tape 4d to which a TAB wiring 6d having a d is attached.

【0043】ここで、TABテープ4cのTAB配線6
cのTAB配線接合部11cは銅配線であるTAB配線
6cの一部であり、TABテープ4dのTAB配線6d
のTAB配線接合部11dも銅配線であるTAB配線6
dの一部である。そして接合箇所の大きさは□50μm
程度である。
Here, the TAB wiring 6 of the TAB tape 4c
The TAB wiring junction 11c of c is a part of the TAB wiring 6c which is a copper wiring, and the TAB wiring 6d of the TAB tape 4d.
TAB wiring 6 is also a copper wiring.
part of d. And the size of the joint is □ 50μm
It is about.

【0044】さらにここで、TABテープ4dは図4
(a)に示すようにTAB配線6dが一層でも良いし、
図4(c)に示すようにTAB配線6dが多層(ここで
は2層)でも良い。この場合、2層のTAB配線6dの
間に絶縁物であるTAB層間フィルム13が設けられて
いて、上下のTAB配線6dをTAB層間フィルム13
に設けたスルーホール14を介して接続している。そし
てこの場合、上部のTAB配線6dにTAB配線接合部
11dを有し、下部のTAB配線6dに外部端子の搭載
部(ランド)12を有している。そしてさらに、上下の
TAB配線6dはTAB層間フィルム13を介して、
(上方から見て)交差するようにしても良いそしてま
ず、TABテープ4cのTAB配線6cのTAB配線接
合部11cとTABテープ4dのTAB配線6dのTA
B配線接合部11dとを重ね合わせ、OLB技術で接合
しておく。
Further, the TAB tape 4d is shown in FIG.
As shown in (a), one or more TAB wirings 6d may be provided.
As shown in FIG. 4C, the TAB wiring 6d may be a multilayer (here, two layers). In this case, the TAB interlayer film 13 which is an insulator is provided between the two layers of the TAB wiring 6d, and the upper and lower TAB wirings 6d are connected to the TAB interlayer film 13d.
Are connected via a through-hole 14 provided at the end. In this case, the upper TAB wiring 6d has a TAB wiring joint 11d, and the lower TAB wiring 6d has a mounting portion (land) 12 for an external terminal. Further, the upper and lower TAB wirings 6 d are interposed via the TAB interlayer film 13.
It may be crossed (as viewed from above). First, the TAB wiring joint 11c of the TAB wiring 6c of the TAB tape 4c and the TA of the TAB wiring 6d of the TAB tape 4d.
The B wiring bonding portion 11d is overlapped and bonded by OLB technology.

【0045】そして半導体素子1が半導体素子1のボン
ディングパッド10でTABテープ4cのTAB配線6
cの一端にILB接続され、ILB接続されたTABテ
ープ4cに接合されたTABテープ4dのTAB配線6
dの他端がリードフレーム2のリード3の下面でOLB
接続され、TABテープ4cのTABベースフィルム5
cがTAB配線6cと半導体素子1の間に介在する。そ
して半導体素子1と外部端子の搭載部(ランド)12を
除いた接合されたTABテープ4cおよびTABテープ
4dとリードフレーム2とを覆うように、封止金型を用
いトランスファ成形法により封止樹脂7で封止される。
そしてTABテープ4dのTAB配線6dの搭載部(ラ
ンド)12に外部端子である半田ボール8が搭載されて
いるものである。
The semiconductor element 1 is connected to the bonding pad 10 of the semiconductor element 1 by the TAB wiring 6 of the TAB tape 4c.
TAB wiring 6 of a TAB tape 4d that is connected to one end of the TAB tape 4c by ILB connection to one end of the TAB tape 4c connected to the ILB connection
The other end of “d” is OLB at the lower surface of the lead 3 of the lead frame 2.
Connected, TAB base film 5 of TAB tape 4c
c is interposed between the TAB wiring 6c and the semiconductor element 1. Then, a sealing resin is formed by a transfer molding method using a sealing mold so as to cover the joined TAB tape 4c and TAB tape 4d except for the mounting portion (land) 12 of the external terminal and the external terminal and the lead frame 2. Sealed at 7.
A solder ball 8 as an external terminal is mounted on a mounting portion (land) 12 of the TAB wiring 6d of the TAB tape 4d.

【0046】ここで、このモールドBGAは、TABテ
ープ4dのTAB配線6dが一層でも多層でも良くかつ
交差するようにしても良いので、半導体素子1のボンデ
ィングパッド10とリードフレーム2のリード3とを交
差して接続することが出来る。そしてこのことにより、
同一外部端子数、端子位置の同一外形パッケージの多品
種の半導体装置を、同一のリードフレーム2を用い各品
種(各半導体素子1)対応をTABテープ4cおよびT
ABテープ4dで行うことで出来る。
Here, in this mold BGA, the TAB wiring 6d of the TAB tape 4d may be a single layer or a multi-layer and may intersect. Therefore, the bonding pads 10 of the semiconductor element 1 and the leads 3 of the lead frame 2 are connected. Can be crossed and connected. And by this,
The TAB tapes 4c and T correspond to various types (each semiconductor element 1) using the same lead frame 2 for multiple types of semiconductor devices of the same external package having the same number of external terminals and terminal positions.
This can be performed with the AB tape 4d.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、配
線の引き回しが、リードフレームのリードにより行われ
ているのではなく、パターン化されたTAB配線で行わ
れているので、配線幅を狭くでき、モールドBGAの最
大外部端子数を増加させることが出来、半導体素子の高
集積化による多ピン化に対応できる(多外部端子化)と
いう効果が得られる。具体的には、例えば大きさ7mm
×11mmのモールドBGAの最大外部端子数は、従来
60であるものが第1の実施形態で90、第2の実施形
態で120に増加する。
As described above, according to the present invention, since the wiring is not routed by the lead of the lead frame but by the patterned TAB wiring, the wiring width is reduced. Can be reduced, the maximum number of external terminals of the mold BGA can be increased, and the effect of increasing the number of pins due to the higher integration of semiconductor elements (multiple external terminals) can be obtained. Specifically, for example, a size of 7 mm
The maximum number of external terminals of the molded BGA of 11 mm increases from 90 in the related art to 90 in the first embodiment and to 120 in the second embodiment.

【0048】また、半導体素子のボンディングパッドと
リードフレームのリードとの接続部材としてボンディン
グワイヤでなくTABテープを用いているので、接続部
材の高さのばらつきは殆どなく、モールドBGAの接続
部材が封止樹脂(パッケージ)表面に露出することを防
止できるという効果も得られる。具体的には、従来のボ
ンディングワイヤの高さのばらつきは例えば±50μm
であり、本実施形態のTABテープの高さ(厚さ)のば
らつきは例えば±10μmである。
Further, since a TAB tape is used instead of a bonding wire as a connecting member between the bonding pad of the semiconductor element and the lead of the lead frame, there is almost no variation in the height of the connecting member, and the connecting member of the molded BGA is sealed. The effect that exposure to the surface of the resin (package) can be prevented can also be obtained. Specifically, the variation in the height of the conventional bonding wire is, for example, ± 50 μm.
The variation in the height (thickness) of the TAB tape of the present embodiment is, for example, ± 10 μm.

【0049】また、TABテープのTAB配線が一層で
も多層でも良くかつ交差するようにしても良いので、半
導体素子のボンディングパッドとリードフレームのリー
ドとを交差して接続することが出来る。そしてこのこと
により、同一外部端子数、端子位置の同一外形パッケー
ジの多品種のモールドBGAを、同一のリードフレーム
を用い各品種(各半導体素子)対応をTABテープで行
うことで出来るという効果も得られる。(第4の実施形
態) また、TABテープを用いても半導体素子の全面(つま
りパッケージ全体)を封止樹脂で封止し覆っているの
で、モールドBGAの信頼性が良いという効果も得られ
る。
Further, since the TAB wiring of the TAB tape may be a single layer or a multi-layer and may be crossed, the bonding pads of the semiconductor element and the leads of the lead frame can be crossed and connected. As a result, there is also obtained an effect that a variety of molded BGAs of the same external package having the same number of external terminals and the same terminal positions can be made to correspond to each type (each semiconductor element) using the same lead frame with a TAB tape. Can be (Fourth Embodiment) In addition, even if a TAB tape is used, the entire surface of the semiconductor element (that is, the entire package) is sealed and covered with a sealing resin, so that the effect of improving the reliability of the mold BGA can be obtained.

【0050】さらにまた、電気特性試験を行う時、電気
特性試験装置のICソケットのコンタクトピンがモール
ドBGAのパッケージ外部にはみ出しているTABテー
プの電気特性試験用パッド部に接触し電気特性試験が行
われ、モールドBGAの外部端子である半田ボールには
接触しないので、従来例のモールドBGAやテープBG
A等のようにコンタクトピンが半田ボールに接触し、半
田ボールが傷付き、変形することによる、実装基板への
実装時の不具合(半田ボールのショート等)を防止でき
るいう効果も得られる。(第3の実施形態)
Further, when conducting the electric characteristic test, the contact pin of the IC socket of the electric characteristic test device comes into contact with the electric characteristic test pad portion of the TAB tape protruding outside the package of the molded BGA, and the electric characteristic test is performed. Since it does not come into contact with the solder balls which are the external terminals of the mold BGA, the conventional mold BGA or tape BG
An effect is also obtained in that a problem (such as short-circuiting of the solder ball) at the time of mounting on the mounting board due to the contact pin contacting the solder ball as in A or the like and the solder ball being damaged or deformed can be prevented. (Third embodiment)

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の構造を示す概略断面
図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a structure according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態の構造を示す概略断面
図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a structure of a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施形態の構造を示す概略断面
図および概略下面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view and a schematic bottom view showing a structure of a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施形態の構造を示す概略断面
図および概略下面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view and a schematic bottom view showing the structure of a fourth embodiment of the present invention.

【図5】従来技術を説明する概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating a conventional technique.

【図6】他の従来技術を説明する概略断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view illustrating another conventional technique.

【図7】さらに他の従来技術を説明する概略断面図であ
る。
FIG. 7 is a schematic sectional view illustrating still another conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体素子 2 リードフレーム 3 リード 4,4a,4b,4c,4d TABテープ 5,5a,5b,5c,5d TABベースフィルム 6,6a,6b,6c,6d TAB配線 7,25 封止樹脂 8 半田ボール 9 電気特性試験用パッド部 10 ボンディングパッド 11c,11d TAB配線接合部 12 搭載部(ランド) 13 TAB層間フィルム 14 スルーホール 21 絶縁フィルム 22 ボンディングワイヤ 23 絶縁テープ 24 補強板(スティフナ) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 Lead frame 3 Lead 4, 4a, 4b, 4c, 4d TAB tape 5, 5a, 5b, 5c, 5d TAB base film 6, 6a, 6b, 6c, 6d TAB wiring 7, 25 Sealing resin 8 Solder Ball 9 Pad part for electrical property test 10 Bonding pad 11c, 11d TAB wiring joint part 12 Mounting part (land) 13 TAB interlayer film 14 Through hole 21 Insulating film 22 Bonding wire 23 Insulating tape 24 Reinforcing plate (Stiffener)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 リードフレームのリード上にTABテー
プを介して半導体素子が搭載され、前記TABテープの
TAB配線の一端側が前記半導体素子のボンディングパ
ッドに接続され他端側が前記リードに接続され、前記半
導体素子の全体、前記TABテープの全体および前記リ
ードを封止樹脂により封止し、前記リードのランド部に
接続された外部端子が前記封止樹脂より突出している
とを特徴とする半導体装置。
1. A TAB tape on a lead of a lead frame.
The semiconductor element is mounted via the tape and the TAB tape
One end of the TAB wiring is a bonding path of the semiconductor element.
And the other end is connected to the lead,
The entirety of the conductor element, the entirety of the TAB tape, and the
The lead is sealed with a sealing resin, and
A semiconductor device, wherein a connected external terminal protrudes from the sealing resin .
【請求項2】 リードフレームのリード間に半導体素子
が設けられ、TABテープのTAB配線の一端側が前記
半導体素子のボンディングパッドに接続され他端側が前
記リードに接続され、前記半導体素子の全体、前記TA
Bテープのランド部を除く該TABテープの全体および
前記リードを封止樹脂により封止し、前記TABテープ
のランド部に接続された外部端子が前記封止樹脂より突
出していることを特徴とする半導体装置。
2. A semiconductor device between leads of a lead frame.
Is provided, and one end of the TAB wiring of the TAB tape is
Connected to the bonding pad of the semiconductor element and the other end is forward
And the entirety of the semiconductor element, the TA
The entire TAB tape except for the land of the B tape, and
The lead is sealed with a sealing resin, and the TAB tape is
External terminals connected to the land portions of the
A semiconductor device, which is provided.
【請求項3】 リードフレームのリード上にTABテー
プを介して半導体素子が搭載され、前記TABテープの
TAB配線の一端側が前記半導体素子のボンディングパ
ッドに接続され他端側が前記リードの前記半導体素子側
の箇所に接続され、電気特性試験用パッドを有する試験
用TABテープが前記リードの前記半導体素子側とは反
対側の箇所に接続され、前記半導体素子の全体、前記T
ABテープの全体および前記リードを封止樹脂により封
止し、前記リードのランド部に接続された外部端子が前
記封止樹脂より突出し、前記試験用TABテープが前記
封止樹脂よりも突出して前記電気特性試験用パッドが前
記封止樹脂の外側に位置していることを特徴とする半導
体装置。
3. A TAB tape on a lead of a lead frame.
The semiconductor element is mounted via the tape and the TAB tape
One end of the TAB wiring is a bonding path of the semiconductor element.
And the other end side is the semiconductor element side of the lead.
Test with electrical property test pads connected to
TAB tape is opposite to the semiconductor element side of the lead.
Connected to the opposite side, the entirety of the semiconductor element, the T
Seal the entire AB tape and the leads with a sealing resin
And the external terminal connected to the land of the lead is
The test TAB tape projects from the sealing resin
The electrical property test pad protrudes beyond the sealing resin and is
A semiconductor device, which is located outside the sealing resin .
【請求項4】 リードフレームのリード間に半導体素子
が設けられ、前記リードフレームと前記半導体素子との
間に第1のTAB配線を有する第1のTABテープおよ
び第2のTAB配線を有する第2のTABテープが設け
られ、前記第1のTAB配線の一端側が前記半導体素子
のボンディングパッドに接続され、前記第2のTAB配
線の一端側が前記リードに接続され、前記第1および第
2のTAB配線の他端側どうしが接続され、前記半導体
素子の全体、前記第1のTABテープの全体、前記第2
のTABテープのランド部を除く該第2のTABテープ
の全体および前記リードを封止樹脂により封止し、前記
第2のTABテープのランド部に接続された外部端子が
前記封止樹脂より突出していることを特徴とする半導体
装置。
4. A semiconductor device between leads of a lead frame.
Is provided, and the lead frame and the semiconductor element
A first TAB tape having a first TAB wiring therebetween;
And a second TAB tape having a second TAB wiring is provided.
And one end of the first TAB wiring is the semiconductor element.
Of the second TAB line.
One end of a wire is connected to the lead, and the first and
2 are connected to each other at the other end of the TAB wiring,
The entire element, the entire first TAB tape, the second
The second TAB tape excluding the land of the TAB tape
And the leads are sealed with a sealing resin.
The external terminal connected to the land of the second TAB tape is
A semiconductor device protruding from the sealing resin .
【請求項5】 前記第2のTABテープの第2のTAB
配線は単層構造であることを特徴とする請求項4記載の
半導体装置。
5. A second TAB of the second TAB tape
The semiconductor device according to claim 4, wherein the wiring has a single-layer structure .
【請求項6】 前記第2のTABテープの第2のTAB
配線は多層構造であることを特徴とする請求項4記載の
半導体装置。
6. The second TAB of the second TAB tape
The semiconductor device according to claim 4, wherein the wiring has a multilayer structure .
【請求項7】 前記外部端子は半田ボールであることを
特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の
導体装置。
7. The method according to claim 7, wherein said external terminals are solder balls.
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 6, characterized in that:
【請求項8】 前記ランド部は前記リードあるいは前記
TAB配線の一部であることを特徴とする請求項1乃至
請求項6のいずれかに記載の半導体装置。
8. The land portion may be the lead or the land.
4. A part of a TAB wiring, wherein:
The semiconductor device according to claim 6 .
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