JP3313530B2 - Stage moving mechanism - Google Patents

Stage moving mechanism

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JP3313530B2
JP3313530B2 JP1182795A JP1182795A JP3313530B2 JP 3313530 B2 JP3313530 B2 JP 3313530B2 JP 1182795 A JP1182795 A JP 1182795A JP 1182795 A JP1182795 A JP 1182795A JP 3313530 B2 JP3313530 B2 JP 3313530B2
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  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム描画装置な
どにおいて被描画材料や試料をX,Y方向に移動する場
合に用いて好適なステージ移動機構に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage moving mechanism suitable for moving a material to be drawn or a sample in X and Y directions in an electron beam drawing apparatus or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から電子ビーム描画装置などに用い
られている被描画材料などの移動機構を図1,図2に示
す。図1は移動機構の平面図、図2はそのAA断面図で
ある。図において1は例えば描画室の底部に配置された
ベースであり、ベース1上には被描画材料であるウエー
ハやマスク基板等が載せられるステージ2が設けられて
いる。ステージ2がX,Y方向に円滑に移動できるよ
う、ベース1とステージ2との間に多数のボール3が挟
まれている。
2. Description of the Related Art FIGS. 1 and 2 show a mechanism for moving a material to be drawn, which is conventionally used in an electron beam drawing apparatus or the like. FIG. 1 is a plan view of the moving mechanism, and FIG. 2 is an AA cross-sectional view thereof. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a base arranged at, for example, the bottom of a drawing chamber. On the base 1, a stage 2 on which a wafer as a material to be drawn or a mask substrate is mounted is provided. Many balls 3 are sandwiched between the base 1 and the stage 2 so that the stage 2 can move smoothly in the X and Y directions.

【0003】ここで、ベース1の表面とステージ2の底
面とはそれぞれ平面度良く加工研磨されており、また、
各ボール3はその直径の相互差が極めて少なくなるよう
に選ばれている。このような構成により、試料ステージ
2の移動に際しては、ステージ2の上下位置の変動やピ
ッチング・ローリングを極めて少なく維持することが可
能とされている。なお、ボール3の配列はリテーナ4に
より一定のボール間隔に維持されている。
Here, the surface of the base 1 and the bottom surface of the stage 2 are each machined and polished with good flatness.
Each ball 3 is selected such that the difference between the diameters is very small. With such a configuration, when the sample stage 2 is moved, it is possible to keep the fluctuation of the vertical position of the stage 2 and the pitching / rolling extremely small. The arrangement of the balls 3 is maintained at a constant ball interval by the retainer 4.

【0004】ステージ2はX方向への移動アーム5xと
Y方向の移動アーム5yに案内されてX,Y2方向に移
動可能とされている。アーム5yには2本の細長いセン
ターガイド6a,6cが固定され、ステージ2にはセン
ターガイド6a,6cの中間にそれらとほぼ平行にセン
ターガイド6bが固定されている。このセンターガイド
部分の詳細を図3に示す。図3(a)は図2におけるセ
ンターガイド部分を拡大したものであり、図3(b)
は、図3(a)の切断線CCにおける断面を右方から見
た断面図である。
The stage 2 is movable in the X and Y2 directions by being guided by a movable arm 5x in the X direction and a movable arm 5y in the Y direction. Two elongate center guides 6a and 6c are fixed to the arm 5y, and a center guide 6b is fixed to the stage 2 in the middle of the center guides 6a and 6c almost in parallel with them. FIG. 3 shows details of the center guide portion. FIG. 3A is an enlarged view of the center guide portion in FIG. 2, and FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a cross section taken along a cutting line CC in FIG.

【0005】センターガイド6aと6bとの間およびセ
ンターガイド6bと6cとの間には、円柱状のコロ7が
挾まれている(この例では、センターガイド6a,6
b,6cのコロ7との接触部にはプレートが設けられて
いる)。このコロ7の位置や姿勢を維持するためにリテ
ーナ8が設けられ、このリテーナ8はコロ7と共に移動
可能とされている。なお、アーム5xとステージ2との
間にも上記したと同様なセンターガイド,コロ,リテー
ナの構成が設けられている。すなわち、アーム5xには
2本のセンターガイドが固定され、これら2本のセンタ
ーガイドの中間に位置するセンターガイドがステージ2
側に固定されている。
[0005] A cylindrical roller 7 is sandwiched between the center guides 6a and 6b and between the center guides 6b and 6c (in this example, the center guides 6a and 6c).
Plates are provided at the contact portions of b and 6c with the rollers 7). A retainer 8 is provided to maintain the position and posture of the roller 7, and the retainer 8 is movable together with the roller 7. A center guide, rollers, and retainers similar to those described above are provided between the arm 5x and the stage 2. That is, two center guides are fixed to the arm 5x, and a center guide located between the two center guides is the stage 2
Fixed on the side.

【0006】アーム5xの一方の端部には、ローラーガ
イド11xが固定されているが、アーム5xとこのロー
ラーガイド11xとは直角に交叉するように配置され
る。ローラーガイド11xの一部にはボールネジ12x
が貫通して螺合されており、その結果、ボールネジ12
xを回転させることにより、ローラーガイド11xおよ
びローラーガイド11xに固定されたアーム5xはボー
ルネジ12xに平行に移動される。なお、アーム5xの
他端にはローラが設けられており、このローラはボール
ネジ12xと平行に配置されたガイドレール13xに沿
って移動する。
A roller guide 11x is fixed to one end of the arm 5x, and the arm 5x and the roller guide 11x are arranged so as to intersect at right angles. Ball screw 12x is part of roller guide 11x
Are screwed through, so that the ball screw 12
By rotating x, the roller guide 11x and the arm 5x fixed to the roller guide 11x are moved in parallel with the ball screw 12x. A roller is provided at the other end of the arm 5x, and the roller moves along a guide rail 13x arranged in parallel with the ball screw 12x.

【0007】同様に、アーム5yの一方の端部には、ロ
ーラーガイド11yが固定されているが、アーム5yと
このローラーガイド11yとは直角に交叉するように配
置される。ローラーガイド11yの一部にはボールネジ
12yが貫通して螺合されており、その結果、ボールネ
ジ12yを回転させることにより、ローラーガイド11
yおよびローラーガイド11yに固定されたアーム5y
はボールネジ12yに平行に移動される。なお、アーム
5yの他端にはローラが設けられており、このローラは
ボールネジ12yと平行に配置されたガイドレール13
yに沿って移動する。なお、ボールネジ12x,12
y、ガイドレール13x,13yはベース1側に固定さ
れ、ボールネジ12xはモータ14xによって回転させ
られ、ボールネジ12yはモータ14yによって回転さ
せられる。
Similarly, a roller guide 11y is fixed to one end of the arm 5y, and the arm 5y and the roller guide 11y are arranged so as to intersect at a right angle. A ball screw 12y penetrates a part of the roller guide 11y and is screwed. As a result, by rotating the ball screw 12y, the roller guide 11y is rotated.
y and the arm 5y fixed to the roller guide 11y
Is moved in parallel with the ball screw 12y. Note that a roller is provided at the other end of the arm 5y, and the roller is a guide rail 13 arranged in parallel with the ball screw 12y.
Move along y. The ball screws 12x, 12
y, the guide rails 13x, 13y are fixed to the base 1, the ball screw 12x is rotated by a motor 14x, and the ball screw 12y is rotated by a motor 14y.

【0008】上記した構成で、モータ14yを回転させ
ると、ボールネジ12yが回転し、その結果、ローラー
ガイド11yはY方向に移動する。このローラーガイド
11yの移動によりローラーガイド11yに固定された
アーム5yが移動する。従って、アーム5yに固定され
たセンターガイド6a,6cがステージ2に固定された
センターガイド6bをリテーナ8内のコロ7を介して押
すことから、ステージ2はY方向に移動する。また、モ
ータ14xを回転させると、ボールネジ12xが回転
し、その結果、ローラーガイド11xはX方向に移動す
る。
In the above-described configuration, when the motor 14y is rotated, the ball screw 12y rotates, and as a result, the roller guide 11y moves in the Y direction. The arm 5y fixed to the roller guide 11y moves by the movement of the roller guide 11y. Accordingly, the center guides 6a and 6c fixed to the arm 5y push the center guide 6b fixed to the stage 2 via the rollers 7 in the retainer 8, so that the stage 2 moves in the Y direction. When the motor 14x is rotated, the ball screw 12x rotates, and as a result, the roller guide 11x moves in the X direction.

【0009】このローラーガイド11xの移動によりロ
ーラーガイド11xに固定されたアーム5xが移動す
る。従って、ステージ2はX方向に移動する。この時、
センターガイド6bはステージ2と共に移動し、併せて
リテーナ8とコロ7もステージ2の移動の1/2の距離
アーム5y上をX方向に移動する。このステージ2の
X,Y水平方向の移動は、ステージ2とベース1との間
にボール3が多数設けられているので、円滑に行われ
る。
The arm 5x fixed to the roller guide 11x moves by the movement of the roller guide 11x. Therefore, the stage 2 moves in the X direction. At this time,
The center guide 6b moves together with the stage 2, and at the same time, the retainer 8 and the roller 7 also move in the X direction on a distance arm 5y that is a half of the movement of the stage 2. The horizontal movement of the stage 2 in the X and Y horizontal directions is performed smoothly because a large number of balls 3 are provided between the stage 2 and the base 1.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記構成で、コロ7は
リテーナ8に開けられた矩形の穴9内に単に遊嵌されて
いるだけであり、コロ7の移動に際しては、その外周が
リテーナ8と接触することになり、リテーナ8から摩耗
粉が発生してしまう。また、リテーナ8はアーム5y上
を滑りながら移動するため、アーム5yの上面とリテー
ナ8が擦れて摩耗粉が発生する。
In the above configuration, the roller 7 is merely loosely fitted in the rectangular hole 9 formed in the retainer 8, and when the roller 7 moves, its outer periphery is , And wear powder is generated from the retainer 8. In addition, since the retainer 8 moves while sliding on the arm 5y, the upper surface of the arm 5y and the retainer 8 rub against each other to generate wear powder.

【0011】これらの摩耗粉はセンターガイド6a,6
b,6cなどとコロ7との間に入り、ステージ2の移動
精度を悪化させる。また、走行抵抗も増えるので、ステ
ージのヨーイング発生の原因になり、描画装置ではパタ
ーン描画の誤差を発生させることに繋がる。更に、セン
ターガイドから下に落ちた摩耗粉は、ステージ2の上下
の位置を維持するベース上に溜まり、ステージ2の上下
方向の位置精度やピッチングも悪化させてしまう。
[0011] These wear powders are removed from the center guides 6a, 6a.
It enters between the rollers b and 6c and the rollers 7 and deteriorates the movement accuracy of the stage 2. In addition, the running resistance increases, which causes yaw of the stage, and causes an error in pattern drawing in the drawing apparatus. Further, the abrasion powder that has fallen from the center guide accumulates on the base that maintains the vertical position of the stage 2, and deteriorates the vertical position accuracy and pitching of the stage 2.

【0012】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、ステージの移動に伴う磨耗粉の発
生を極端に少なくすることができ、精密なステージの移
動を可能とする移動機構を実現するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to extremely reduce the generation of abrasion powder accompanying the movement of a stage, thereby enabling precise movement of the stage. In order to realize a moving mechanism.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明に基づくステージ
移動機構は、ステージと、直線状に移動するアームと、
アームの駆動手段と、ステージに固定されたセンターガ
イドと、ステージのセンターガイドに対向してアームに
固定されたセンターガイドと、ステージのセンターガイ
ドとアームのセンターガイドとの間に設けられた回転体
と、回転体の位置を規制するリテーナとを備えており、
アームを移動させることによりアームのセンターガイド
と回転体を介してステージのセンターガイドを押し、ス
テージを移動させるように構成したステージ移動機構に
おいて、回転体の外周がリテーナと接触せずに移動する
ように回転体をシャフトによって支持し、該シャフトの
両端をリテーナによって支持するように成すと共に、リ
テーナの両端を回転手段によって保持し、リテーナがア
ーム面と接触しないように構成したことを特徴としてい
る。
A stage moving mechanism according to the present invention comprises a stage, an arm that moves linearly,
Arm driving means, a center guide fixed to the stage, a center guide fixed to the arm opposite to the center guide of the stage, and a rotating body provided between the center guide of the stage and the center guide of the arm And a retainer that regulates the position of the rotating body,
In a stage moving mechanism configured to move the arm and push the center guide of the stage via the center guide of the arm and the rotating body to move the stage, the outer periphery of the rotating body moves without contacting the retainer.
So that the rotating body is supported by the shaft,
It is characterized in that both ends are supported by a retainer, and both ends of the retainer are held by rotating means so that the retainer does not contact the arm surface.

【0014】[0014]

【作用】本発明においては、駆動源によりアームを移動
させることにより、アームのセンターガイドと回転体を
介してステージのセンターガイドを押し、ステージを移
動させるように構成し、回転体をリテーナによって支持
し、回転体をその外周がリテーナと接触せずに移動さ
せ、更に、リテーナの両端を回転手段によって保持し、
リテーナをアーム面と接触しないように移動させる。
In the present invention, the stage is moved by pushing the center guide of the stage via the center guide of the arm and the rotating body by moving the arm by the driving source, and the rotating body is supported by the retainer. Then, the rotating body is moved without its outer periphery contacting the retainer, and furthermore, both ends of the retainer are held by rotating means,
Move the retainer out of contact with the arm surface.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図4は本発明に基づく移動機構の特徴部分
であるセンターガイド,コロ,リテーナ部分の詳細を示
しており、図4(a)は図3(a)に対応した側面図、
図4(b)は図3(b)に対応した断面図である。この
実施例において、図1,図2,図3に示した従来例と同
一ないしは類似の構成要素には同一番号を付し、その詳
細な説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 4 shows details of a center guide, a roller, and a retainer, which are characteristic parts of the moving mechanism according to the present invention. FIG. 4A is a side view corresponding to FIG.
FIG. 4B is a cross-sectional view corresponding to FIG. In this embodiment, the same or similar components as those of the conventional example shown in FIGS. 1, 2 and 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0016】図において15は図3におけるコロ7に対
応した円筒状のコロ、16は図3におけるリテーナ8に
対応したリテーナである。コロ15の中心穴にはシャフ
ト17が貫通されており、シャフト17によってコロ1
5の向きを規制し、コロ15の外周とリテーナ16との
接触を避けている。この直立したシャフト17の上下端
はリテーナ16によって支持されている。また、リテー
ナ16の水平方向の両端にはベアリング18が保持され
ており、このベアリング18はリテーナ16がアーム5
yに接触しない状態にてリテーナ16を支えて全体の姿
勢を維持する。このような構成の動作を次に説明する。
In FIG. 3, reference numeral 15 denotes a cylindrical roller corresponding to the roller 7 in FIG. 3, and reference numeral 16 denotes a retainer corresponding to the retainer 8 in FIG. A shaft 17 penetrates the center hole of the roller 15, and the shaft 1
The direction of the roller 5 is restricted to avoid contact between the outer periphery of the roller 15 and the retainer 16. The upper and lower ends of the upright shaft 17 are supported by a retainer 16. Further, bearings 18 are held at both ends of the retainer 16 in the horizontal direction.
The retainer 16 is supported in a state where it does not come into contact with y, and the whole posture is maintained. The operation of such a configuration will now be described.

【0017】図1などに示した従来例と同様に、ステー
ジ2をX方向に移動させる場合、モーター14xによっ
てボールネジ12xを回すことにより、ローラーガイド
11xとアーム5xが移動する。ステージ2は、アーム
5xが有するセンターガイドに案内されてベース1上を
水平に移動する。このとき、Y方向の移動機構(アーム
5yなど)におけるセンターガイド6a,6b,6cに
おいて、ステージ2に固定されたセンターガイド6b
は、センターガイド6a,6cに対してX方向に移動す
る。この際、コロ15はシャフト17を中心に回転し、
コロ15の外周はリテーナ16と接触せずに移動するの
で、リテーナ16から摩耗粉が発生しない。
When the stage 2 is moved in the X direction as in the conventional example shown in FIG. 1 and the like, the roller guide 11x and the arm 5x move by rotating the ball screw 12x by the motor 14x. The stage 2 moves horizontally on the base 1 while being guided by a center guide of the arm 5x. At this time, in the center guides 6a, 6b, 6c of the Y-direction moving mechanism (such as the arm 5y), the center guide 6b fixed to the stage 2 is used.
Moves in the X direction with respect to the center guides 6a and 6c. At this time, the roller 15 rotates around the shaft 17,
Since the outer periphery of the roller 15 moves without contacting the retainer 16, no abrasion powder is generated from the retainer 16.

【0018】また、リテーナ16は、両端にあるベアリ
ング18が保持しているので、ベアリング18はリテー
ナ16全体の姿勢を維持しながらアーム5y上を転がり
移動する。従って、アーム5yの上面とリテーナ16と
は接触せずに移動するので、両者から摩耗粉は発生しな
い。そのため、発塵によるステージ2の移動精度の悪化
は防止される。また、センターガイド6a〜6cから摩
耗粉の落下がないので、ステージ2の上下の位置精度や
ピッチングの悪化も防ぐことができる。更に、リテーナ
16の走行抵抗が軽減されるので、ヨーイングが少なく
なり、描画精度などが向上することになる。
Since the retainer 16 is held by bearings 18 at both ends, the bearing 18 rolls on the arm 5y while maintaining the attitude of the retainer 16 as a whole. Therefore, since the upper surface of the arm 5y and the retainer 16 move without contacting each other, no abrasion powder is generated from both. Therefore, deterioration of the movement accuracy of the stage 2 due to dust generation is prevented. Further, since there is no drop of the abrasion powder from the center guides 6a to 6c, deterioration of the vertical position accuracy and pitching of the stage 2 can be prevented. Further, since the running resistance of the retainer 16 is reduced, yawing is reduced, and drawing accuracy and the like are improved.

【0019】以上本発明の一実施例を詳述したが、本発
明はこの実施例に限定されない。例えば、主として電子
ビーム描画装置におけるステージの移動について説明し
たが、走査電子顕微鏡などの他の電子ビーム装置やイオ
ンビーム装置にも本発明を適用することができる。ま
た、センターガイドを転がるコロにシャフトを通してロ
ーラーの構成としたが、コロをベアリングに置き換える
ことも可能である。ただし、外周の円筒度がセンターガ
イドの精度に影響するため、形状が複雑になればなるほ
ど円筒度の維持が困難となる。従って、実施例に示した
ように、コロにシャフトを通す構成とすれば、外周の円
筒度の悪化が防げるので、センターガイドの精度は維持
できる。
Although one embodiment of the present invention has been described in detail, the present invention is not limited to this embodiment. For example, although the movement of the stage in the electron beam writing apparatus has been mainly described, the present invention can be applied to other electron beam apparatuses such as a scanning electron microscope and an ion beam apparatus. In addition, although the center guide is configured as a roller by passing the shaft through a rolling roller, the roller can be replaced with a bearing. However, since the cylindricity of the outer circumference affects the accuracy of the center guide, it becomes more difficult to maintain the cylindricity as the shape becomes more complicated. Therefore, as shown in the embodiment, if the configuration is such that the shaft is passed through the rollers, deterioration of the cylindricity of the outer periphery can be prevented, and the accuracy of the center guide can be maintained.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、回転
体の外周がリテーナと接触せずに移動するように構成し
たので、回転体の外周がリテーナと接触することに起因
したリテーナからの摩耗粉の発生は防止される。また、
リテーナの両端を回転手段によって保持し、リテーナ
アーム面と接触しないように構成したので、アームの上
面とリテーナとの接触に起因するアームの上面とリテー
ナの両者から摩耗粉の発生も防止される
As described above, according to the present invention, the rotation
Since the outer periphery of the body and configured to so that move without contacting the retainer, due to the fact that the outer periphery of the rotating body is in contact with the retainer
Generation of abrasion powder from the retainer is prevented. Also,
Holding the opposite ends of the retainer by rotation means, so the retainer have configured so as not to contact the <br/> arm surface, on the arm
The generation of wear powder from both the upper surface of the arm and the retainer due to the contact between the surface and the retainer is also prevented .

【0021】この結果、コロの外周とガイドとの間にゴ
ミが入ることはないので、センターガイドの予圧に変化
を与えることがなくなり、ステージの移動精度の悪化を
防止することができる。また、センターガイドから摩耗
粉の落下がないので、ステージの上下の移動精度やピッ
チングの悪化も防ぐことができる。更に、リテーナの走
行抵抗が、摩擦から転がりに軽減できるので、ステージ
のヨーイングが少なくなり、描画精度が向上することに
なる。
As a result, no dust enters between the outer periphery of the roller and the guide, so that there is no change in the preload of the center guide, and deterioration of the stage movement accuracy can be prevented. In addition, since there is no abrasion powder falling from the center guide, it is possible to prevent deterioration in vertical movement accuracy and pitching of the stage. Further, since the running resistance of the retainer can be reduced from friction to rolling, the yawing of the stage is reduced, and the drawing accuracy is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のステージ移動機構の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a conventional stage moving mechanism.

【図2】図1に示した移動機構のAA断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of the moving mechanism shown in FIG.

【図3】ステージ移動のためのセンターガイドの間に設
けられるコロとリテーナの構造を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a structure of a roller and a retainer provided between center guides for moving a stage.

【図4】本発明の一実施例であるステージ移動機構の特
徴部分の側面図とそのBB断面図である。
FIG. 4 is a side view of a characteristic portion of a stage moving mechanism according to an embodiment of the present invention and a BB cross-sectional view thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベース 2 ステージ 5x,5y アーム 6a,6b,6c センターガイド 15 コロ 16 リテーナ 17 シャフト 18 ベアリング 1 Base 2 Stage 5x, 5y Arm 6a, 6b, 6c Center Guide 15 Roller 16 Retainer 17 Shaft 18 Bearing

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23Q 5/44 F16C 29/04 G05D 3/00 H01L 21/68 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B23Q 5/44 F16C 29/04 G05D 3/00 H01L 21/68

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ステージと、直線状に移動するアーム
と、アームの駆動手段と、ステージに固定されたセンタ
ーガイドと、ステージのセンターガイドに対向してアー
ムに固定されたセンターガイドと、ステージのセンター
ガイドとアームのセンターガイドとの間に設けられた回
転体と、回転体の位置を規制するリテーナとを備えてお
り、アームを移動させることによりアームのセンターガ
イドと回転体を介してステージのセンターガイドを押
し、ステージを移動させるように構成したステージ移動
機構において、 回転体の外周がリテーナと接触せずに移動するように回
転体をシャフトによって支持し、該シャフトの両端をリ
テーナによって支持するように成すと共に、リテーナの
両端を回転手段によって保持し、リテーナがアーム面と
接触しないように構成したステージ移動機構。
1. A stage, an arm that moves linearly, a driving means of the arm, a center guide fixed to the stage, a center guide fixed to the arm opposite to the center guide of the stage, A rotating body provided between the center guide and the center guide of the arm, and a retainer for regulating the position of the rotating body are provided. By moving the arm, the stage is moved through the center guide of the arm and the rotating body. In the stage moving mechanism configured to move the stage by pushing the center guide, the rotation is performed so that the outer periphery of the rotating body moves without contacting the retainer.
The rolling element is supported by a shaft, and both ends of the shaft are
A stage moving mechanism configured to be supported by a retainer, and to retain both ends of the retainer by rotating means so that the retainer does not contact the arm surface.
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