JP3312991B2 - Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size - Google Patents

Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size

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JP3312991B2
JP3312991B2 JP12134094A JP12134094A JP3312991B2 JP 3312991 B2 JP3312991 B2 JP 3312991B2 JP 12134094 A JP12134094 A JP 12134094A JP 12134094 A JP12134094 A JP 12134094A JP 3312991 B2 JP3312991 B2 JP 3312991B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ブロックゲージの寸法
を光波干渉測定により求める際に使用されるブロックゲ
ージの干渉面補正治具に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a jig for correcting an interference surface of a block gauge, which is used when determining the size of the block gauge by light wave interference measurement.

【0002】[0002]

【背景技術】ブロックゲージの寸法測定は原則として光
波干渉測定により求められることがJISB7506に規定され
ている。このJISB7506によれば、ブロックゲージの測定
面と、このブロックゲージが密着(リンギング)された
基準平面を有する基準ブロックとの双方に光を照射し、
これらのブロックゲージの測定面及び基準平面から反射
した光を利用して測定面と基準平面との間の距離をブロ
ックゲージ寸法として測定する。ここで、前記測定面及
び基準平面は、測定に際しては干渉面として作用する。
前記ブロックゲージの材質は一般的にスチール又はセラ
ミックであるが、JISB7506では、ブロックゲージと基準
ブロックとは同材質と規定されている。しかし、前記ブ
ロックゲージと基準平面との密着状態の良否は寸法測定
結果に影響を与えるため、ブロックゲージが基準平面に
確実に密着されているか否かを確認する必要がある。そ
こで、実際には、基準ブロックは、その裏面から目視に
よってブロックゲージと基準平面との密着状態が確認で
きるように合成石英等から略透明に形成されている。
BACKGROUND ART It is stipulated in JISB7506 that the dimension measurement of a block gauge is basically determined by light wave interference measurement. According to this JISB7506, both the measurement surface of the block gauge and a reference block having a reference plane to which the block gauge is closely attached (ringed) are irradiated with light,
The distance between the measurement surface and the reference plane is measured as the block gauge size using the light reflected from the measurement surface and the reference plane of these block gauges. Here, the measurement surface and the reference plane act as interference surfaces during measurement.
The material of the block gauge is generally steel or ceramic, but JISB7506 stipulates that the block gauge and the reference block are the same material. However, since the quality of the close contact between the block gauge and the reference plane affects the dimension measurement result, it is necessary to check whether the block gauge is securely adhered to the reference plane. Therefore, in practice, the reference block is made of synthetic quartz or the like so as to be substantially transparent so that the adherence between the block gauge and the reference plane can be visually confirmed from the back surface.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ブロックゲージと基準
平面との密着は作業員の手作業で行われ、この作業時に
は、作業員の体温の影響でブロックゲージ及び基準ブロ
ックは温度上昇し、その状態で両者は密着される。しか
し、ブロックゲージ及び基準ブロックの温度上昇は好ま
しくはないので、一定時間、温度慣らしによって室温
(20℃前後)に近づけた後に測定を行う。ブロックゲー
ジと基準ブロックとは材質が異なり、その線膨張係数も
相違するので、光波干渉測定を行う際には、ブロックゲ
ージ及び基準ブロックに熱応力歪みが発生し、測定面及
び基準平面の平面度が劣化してブロックゲージ寸法の精
密測定が十分に行われていないという問題点がある。
The close contact between the block gauge and the reference plane is performed manually by an operator. During this operation, the temperature of the block gauge and the reference block rises due to the influence of the worker's body temperature, and the state is increased. The two are brought into close contact. However, since the temperature rise of the block gauge and the reference block is not preferable, the measurement is performed after the temperature is brought close to room temperature (about 20 ° C.) for a certain period of time. Since the block gauge and the reference block are made of different materials and have different coefficients of linear expansion, when performing light wave interference measurement, thermal stress distortion occurs in the block gauge and the reference block, and the flatness of the measurement surface and the reference plane is measured. However, there is a problem that the precision measurement of the block gauge dimension is not sufficiently performed due to deterioration of the gauge.

【0004】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、その目的は、ブロックゲージの測定面と基準ブ
ロックの基準平面との平面度の劣化を回復してブロック
ゲージ寸法の精密測定が行えるブロックゲージ寸法の光
波干渉測定用干渉面補正治具を提供することにある。本
発明の異なる目的は、前記目的に加え、基準平面とブロ
ックゲージとの密着が外れることがないブロックゲージ
寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to accurately measure the dimensions of a block gauge by recovering the deterioration of the flatness between the measurement surface of the block gauge and the reference plane of the reference block. An object of the present invention is to provide an interference plane correction jig for light wave interference measurement having a block gauge size that can be performed. Another object of the present invention is to provide an interference surface correction jig for light wave interference measurement of a block gauge dimension in which the close contact between the reference plane and the block gauge does not come off.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、基準ブロック
とブロックゲージとを密着状態を維持しながら基準平面
内で相対移動可能にして前記目的を達成しようとするも
のである。具体的には、本発明のブロックゲージ寸法の
光波干渉測定用干渉面補正治具は、それぞれ異なる材質
から形成されたブロックゲージ及び基準ブロックを使用
し、この基準ブロックの基準平面に密着された前記ブロ
ックゲージの寸法を求めるための光波干渉測定に用いら
れる干渉面補正治具であって、前記基準ブロックを保持
する基準ブロック保持手段と、前記ブロックゲージを保
持するブロックゲージ保持手段と、これらのブロックゲ
ージ保持手段及び基準ブロック保持手段の少なくとも一
方に設けられ前記ブロックゲージと前記基準ブロックと
を密着状態を維持しながら前記基準平面内で相対移動さ
せる移動機構とを備えたことを特徴とする。
An object of the present invention is to achieve the above object by making a reference block and a block gauge relatively movable within a reference plane while maintaining a close contact state. Specifically, the interference surface correction jig for light wave interference measurement of the block gauge dimensions of the present invention uses a block gauge and a reference block formed of different materials, respectively, and is in close contact with a reference plane of the reference block. An interference surface correction jig used for light wave interference measurement for determining the size of a block gauge, a reference block holding means for holding the reference block, a block gauge holding means for holding the block gauge, and these blocks A moving mechanism is provided on at least one of the gauge holding unit and the reference block holding unit, and moves the block gauge and the reference block relatively in the reference plane while maintaining the close contact state.

【0006】ここで、前記移動機構をマイクロメータヘ
ッドとしてもよい。この場合、マイクロメータヘッドは
前記基準ブロック保持手段に設けられた構造でもよい。
この基準ブロック保持手段は、前記基準ブロックのブロ
ックゲージ押圧方向の移動を規制するストッパ機構を備
え、このストッパ機構は、ストッパブロックと、このス
トッパブロックと前記基準ブロックとの間に配置される
とともに前記マイクロメータヘッドのスピンドルの軸線
方向と直交しかつ前記基準平面と同一平面内で移動自在
とされた基準ブロック保持部材とを備えた構造でもよ
い。さらに、前記基準ブロック保持部材に前記基準ブロ
ックの側面と一致するガイドを形成してもよい。また、
前記マイクロメータヘッドのスピンドルは、直方体に形
成されたブロックゲージの短辺側面をブロックゲージ保
持手段を介して押圧する構造としてもよい。前記ブロッ
クゲージ保持手段は、先細りのテーパ部を有するととも
にこのテーパ部の先端が前記ブロックゲージの前記基準
平面の近傍を押圧する作動板を備えたものでもよい。ま
た、前記基準ブロック保持手段及び前記ブロックゲージ
保持手段の少なくとも一方は、前記基準ブロックのブロ
ックゲージ側の移動を規制する基準ブロック移動規制部
材を備えた構成でもよい。
Here, the moving mechanism may be a micrometer head. In this case, the micrometer head may have a structure provided in the reference block holding means.
The reference block holding means includes a stopper mechanism for restricting movement of the reference block in the block gauge pressing direction. The stopper mechanism is disposed between the stopper block and the stopper block and the reference block. A structure including a reference block holding member that is orthogonal to the axial direction of the spindle of the micrometer head and that is movable in the same plane as the reference plane may be used. Further, a guide may be formed on the reference block holding member so as to coincide with a side surface of the reference block. Also,
The spindle of the micrometer head may have a structure in which a short side surface of a block gauge formed in a rectangular parallelepiped is pressed via block gauge holding means. The block gauge holding means may have a tapered portion having a tapered portion, and an operating plate whose leading end presses the block gauge in the vicinity of the reference plane. Further, at least one of the reference block holding means and the block gauge holding means may be provided with a reference block movement restricting member for restricting the movement of the reference block on the block gauge side.

【0007】[0007]

【作用】ブロックゲージ寸法の光波干渉測定を行うた
め、まず、作業員が手作業によりブロックゲージを基準
ブロックの基準平面に密着させる。ブロックゲージと基
準平面との密着状態を基準ブロックの裏面から目視する
ことにより確認する。ブロックゲージと基準ブロックの
基準平面との密着作業に伴いこれらの部材に作業員の体
温が伝達するので、一定時間、温度慣らしによって室温
(20℃前後)に近づける。温度慣らしが終了して所定時
間経過したらブロック寸法の測定を行うが、その測定に
先立ち干渉面補正治具を使用する。即ち、温度慣らし等
により温度変化が生じ、ブロックゲージ及び基準ブロッ
クに熱応力歪みが発生する。この熱応力歪みに起因して
測定面及び基準平面の平面度が劣化するが、これを回復
するためにマイクロメータヘッド等から構成される移動
機構を操作する。
In order to measure the light wave interference of a block gauge, first, an operator manually brings the block gauge into close contact with the reference plane of the reference block. The close contact between the block gauge and the reference plane is confirmed by visual observation from the back surface of the reference block. Since the body temperature of the worker is transmitted to these members as the block gauge and the reference plane of the reference block are brought into close contact with each other, the temperature is brought close to room temperature (around 20 ° C.) for a certain period of time. After a lapse of a predetermined time after the end of the temperature break-in, the block size is measured. Before the measurement, an interference surface correction jig is used. That is, a temperature change occurs due to temperature break-in or the like, and thermal stress distortion occurs in the block gauge and the reference block. Although the flatness of the measurement plane and the reference plane is deteriorated due to the thermal stress distortion, a moving mechanism including a micrometer head or the like is operated to recover the deterioration.

【0008】これにより、ブロックゲージ保持手段及び
基準ブロック保持手段を介してブロックゲージと基準ブ
ロックとは前記基準平面内で密着状態が維持されながら
相対的にずれることになり、ブロックゲージ及び基準ブ
ロックに発生した熱応力歪みが開放されて適正な平面度
に補正される。ここで、移動機構によりブロックゲージ
と基準ブロックとを相対移動させる距離は、0.05〜0.1m
m である。0.1mm を越えると、両者の密着は外れて適正
なブロックゲージ寸法の測定が行えない場合がある。干
渉面補正治具によって、基準平面とブロックゲージの測
定面との平面度が補正されたら、JISB7506に従って、ブ
ロックゲージの測定面と、このブロックゲージが密着さ
れる基準平面との双方に光を照射し、これらの測定面及
び基準平面から反射した光を利用して測定面と基準平面
との間の距離をブロックゲージ寸法として測定する。
Accordingly, the block gauge and the reference block are relatively displaced via the block gauge holding means and the reference block holding means while maintaining a close contact state in the reference plane. The generated thermal stress strain is released and corrected to an appropriate flatness. Here, the distance by which the block gauge and the reference block are relatively moved by the moving mechanism is 0.05 to 0.1 m.
m. If it exceeds 0.1 mm, the contact between the two may come off, making it impossible to measure the appropriate block gauge dimensions. When the flatness between the reference plane and the measurement surface of the block gauge is corrected by the interference surface correction jig, irradiate light to both the measurement surface of the block gauge and the reference plane to which the block gauge adheres according to JISB7506. Then, the distance between the measurement surface and the reference plane is measured as a block gauge dimension using the light reflected from the measurement surface and the reference plane.

【0009】[0009]

【実施例】以下に、本発明に係るブロックゲージ寸法の
光波干渉測定用干渉面補正治具の好適な実施例を挙げ、
添付図面を参照しながら詳細に説明する。図1は一実施
例に係る干渉面補正治具を示す正面図であり、図2はそ
の平面図であり、図3は図1のIII-III 線に沿う矢視断
面図である。図1及び図2において、干渉面補正治具
は、円柱状の基準ブロック1を保持する基準ブロック保
持手段2と、前記基準ブロック1の上に配置されたブロ
ックゲージ3を保持するブロックゲージ保持手段4と、
前記基準ブロック保持手段2に設けられた移動機構とし
てのマイクロメータヘッド5を備えて構成されている。
このマイクロメータヘッド5は、目盛りが形成された本
体5A及びスピンドル5Bを備え、ブロックゲージ3を
図2中、左側に押圧する構造である。前記基準ブロック
1は、合成石英等の略透明な材料から形成されており、
その上端面は平面度の高い基準平面1Aとされている。
この基準平面1Aに前記ブロックゲージ3が密着(リン
ギング)されている。このブロックゲージ3は、スチー
ル、セラミック等、前記基準ブロック1とは異なる材質
から直方体に形成されている。このブロックゲージ3の
前記基準平面1Aと対向する面とこの面とは反対側の面
とは測定面3Aとされ、これらの測定面3Aの間の距離
がブロックゲージ寸法とされる。また、JISB7506に規定
されるブロックゲージ寸法の光波干渉測定に際しては、
前記基準平面1Aと測定面3Aとは干渉面として作用す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of an interference surface correcting jig for measuring light wave interference with a block gauge according to the present invention will be described below.
This will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view showing an interference surface correcting jig according to an embodiment, FIG. 2 is a plan view thereof, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 1 and 2, an interference surface correction jig includes a reference block holding means 2 for holding a cylindrical reference block 1, and a block gauge holding means for holding a block gauge 3 disposed on the reference block 1. 4 and
A micrometer head 5 as a moving mechanism provided in the reference block holding means 2 is provided.
The micrometer head 5 includes a main body 5A on which graduations are formed and a spindle 5B, and has a structure in which the block gauge 3 is pressed to the left in FIG. The reference block 1 is formed of a substantially transparent material such as synthetic quartz,
The upper end surface is a reference plane 1A having high flatness.
The block gauge 3 is in close contact (ringing) with the reference plane 1A. The block gauge 3 is formed in a rectangular parallelepiped from a material different from the reference block 1, such as steel or ceramic. The surface of the block gauge 3 facing the reference plane 1A and the surface opposite to this surface are defined as measurement surfaces 3A, and the distance between the measurement surfaces 3A is defined as the block gauge size. Also, when measuring the light wave interference of the block gauge dimensions specified in JISB7506,
The reference plane 1A and the measurement plane 3A function as an interference plane.

【0010】前記基準ブロック保持手段2は、平板状の
ベースブロック6と、このベースブロック6の上に設け
られるとともに前記基準ブロック1の下端面を支持する
ベースプレート基板7と、前記基準ブロック1のブロッ
クゲージ押圧方向の移動を規制するストッパ機構8と、
前記ベースブロック6の一端部に固定されるとともに前
記マイクロメータヘッド5が取り付けられたマイクロメ
ータヘッド保持ブロック9とを備えた構造である。前記
ベースプレート基板7は、その中央部に孔7Aが形成さ
れ、この孔7Aの内径は前記基準ブロック1の外径より
小さく形成されている(図3参照)。前記ストッパ機構
8は、前記ベースブロック6の他端部に固定されたスト
ッパブロック10と、このストッパブロック10と前記
基準ブロック1との間に配置された基準ブロック保持部
材11とを備え、この基準ブロック保持部材11は、前
記基準平面1Aと同一平面内において前記マイクロメー
タヘッド5のスピンドル5Bの軸線方向と直交する方向
に移動自在とされている。また、基準ブロック保持部材
11の上部には前記基準ブロック1の円周側面と一致す
る円弧状のガイド11Aが形成されている。
The reference block holding means 2 includes a flat base block 6, a base plate substrate 7 provided on the base block 6 and supporting a lower end surface of the reference block 1, and a block of the reference block 1. A stopper mechanism 8 for regulating movement in the gauge pressing direction,
A micrometer head holding block 9 fixed to one end of the base block 6 and having the micrometer head 5 attached thereto. The base plate substrate 7 has a hole 7A formed in the center thereof, and the inner diameter of the hole 7A is smaller than the outer diameter of the reference block 1 (see FIG. 3). The stopper mechanism 8 includes a stopper block 10 fixed to the other end of the base block 6, and a reference block holding member 11 disposed between the stopper block 10 and the reference block 1. The block holding member 11 is movable in a direction perpendicular to the axial direction of the spindle 5B of the micrometer head 5 in the same plane as the reference plane 1A. An arcuate guide 11A is formed on the upper part of the reference block holding member 11 so as to coincide with the circumferential side surface of the reference block 1.

【0011】前記ブロックゲージ保持手段4は、前記ブ
ロックゲージ3を押圧する略平板状の作動板12と、こ
の作動板12の両側下面にボルト13で取り付けられた
作動板ガイド14と、前記作動板12の中央部上面にボ
ルト15で取り付けられた把手16と、前記作動板12
の側部にアンビル固定板17を介して取り付けられると
ともに前記マイクロメータヘッド5のスピンドル5Bの
先端部が当接するアンビル18とを備えた構成であり、
前記スピンドル5Bの軸線に沿って進退可能とされてい
る。図3に示される通り、2枚の作動板ガイド14及び
作動板12から前記基準ブロック1を跨ぐ門型形状が形
成され、前記作動板ガイド14の下端面はベースブロッ
ク6の上面に当接され、かつ、前記作動板12の下面は
前記基準ブロック1の基準平面1Aに当接されている。
前記把手16は断熱性の材料、例えば、商品名ジュラコ
ン等から梯子状に形成されており、作業員の体温を基準
ブロック1及びブロックゲージ3に伝達しにくい構造と
されている。また、この把手16は、前記作動板12を
基準ブロック側に付勢する重りとしても機能する。ここ
で、前記作動板12、作動板ガイド14及び把手16か
ら前記基準ブロック1のブロックゲージ側の移動を規制
する、換言すれば、前記基準ブロック1の浮き上がりを
防止する基準ブロック移動規制部材19が構成されてい
る。
The block gauge holding means 4 includes a substantially flat operating plate 12 for pressing the block gauge 3, an operating plate guide 14 attached to lower surfaces on both sides of the operating plate 12 by bolts 13, A handle 16 attached by bolts 15 to the upper surface of the central part of the
And an anvil 18 that is attached to a side portion of the micrometer head 5 via an anvil fixing plate 17 and is in contact with a tip end of the spindle 5B of the micrometer head 5.
It can move forward and backward along the axis of the spindle 5B. As shown in FIG. 3, a gate-shaped shape that straddles the reference block 1 is formed from the two operation plate guides 14 and the operation plate 12, and the lower end surface of the operation plate guide 14 contacts the upper surface of the base block 6. The lower surface of the operation plate 12 is in contact with the reference plane 1A of the reference block 1.
The handle 16 is formed in a ladder shape from a heat-insulating material, for example, Duracon (trade name), and has a structure that does not easily transmit the body temperature of the worker to the reference block 1 and the block gauge 3. The handle 16 also functions as a weight for urging the operation plate 12 toward the reference block. Here, a reference block movement restricting member 19 for restricting the movement of the reference block 1 on the block gauge side from the operation plate 12, the operation plate guide 14 and the handle 16, in other words, preventing the reference block 1 from floating is provided. It is configured.

【0012】図2に示される通り、前記作動板12の中
央部には、前記基準ブロック1上の前記ブロックゲージ
3との干渉を避けるための窓部12Aが形成され、この
窓部12Aの内側には前記ブロックゲージ3の短辺方向
と略同じ幅を有するテーパ部12Bが形成されている。
このテーパ部12Bは、その幅方向が前記マイクロメー
タヘッド5のスピンドル5Bの軸線方向と直交し、か
つ、幅方向の中心がスピンドル5Bの軸線と一致する。
前記作動板12の断面構造が図4に示されている。図4
において、前記テーパ部12Bは先細り形状とされ、そ
の先端は前記ブロックゲージ3の短辺側面の前記基準平
面1Aの近傍を押圧する構造とされている。また、前記
マイクロメータヘッド5は、そのスピンドル5Bの軸線
方向が前記基準平面1Aの上に位置するように高さが調
整されている。
As shown in FIG. 2, a window 12A is formed at the center of the operation plate 12 to avoid interference with the block gauge 3 on the reference block 1. Inside the window 12A, Is formed with a tapered portion 12B having substantially the same width as the short side direction of the block gauge 3.
The width direction of the tapered portion 12B is orthogonal to the axis direction of the spindle 5B of the micrometer head 5, and the center in the width direction coincides with the axis line of the spindle 5B.
FIG. 4 shows a sectional structure of the operation plate 12. FIG.
In the above, the tapered portion 12B has a tapered shape, and the tip thereof is configured to press the short side surface of the block gauge 3 near the reference plane 1A. The height of the micrometer head 5 is adjusted so that the axial direction of the spindle 5B is located above the reference plane 1A.

【0013】次に、ブロックゲージ寸法の光波干渉測定
を行う方法を説明する。まず、作業員が手作業によりブ
ロックゲージ3の一方の測定面3Aを基準ブロック1の
基準平面1Aに密着させる。ブロックゲージ3の測定面
3Aと基準平面1Aとの密着状態を基準ブロック1の裏
面から目視することにより確認する。これらの測定面3
Aと基準平面1Aとの密着作業に伴いブロックゲージ3
及び基準ブロック1に作業員の体温が伝達するので、一
定時間、温度慣らしによって室温(20℃前後)に近づけ
る。温度慣らしが終了して所定時間経過したら、ブロッ
ク寸法の測定を行うが、その測定に先立ち干渉面補正治
具で干渉面である測定面3A及び基準平面1Aの補正を
する。
Next, a method for performing light wave interference measurement of a block gauge size will be described. First, an operator manually brings one measurement surface 3A of the block gauge 3 into close contact with the reference plane 1A of the reference block 1. The state of adhesion between the measurement surface 3A of the block gauge 3 and the reference plane 1A is confirmed by visual observation from the back surface of the reference block 1. These measurement surfaces 3
Block gauge 3 due to the close contact work between A and reference plane 1A
Since the body temperature of the worker is transmitted to the reference block 1, the temperature is brought close to room temperature (around 20 ° C.) for a certain period of time. When a predetermined time elapses after the temperature break-in, the block size is measured. Before the measurement, the measurement surface 3A and the reference plane 1A, which are interference surfaces, are corrected by an interference surface correction jig.

【0014】温度慣らし等により温度変化が生じ、ブロ
ックゲージ3及び基準ブロック1に熱応力歪みが発生す
る。この熱応力歪みに起因して測定面3A及び基準平面
1Aの平面度が劣化するが、これを回復するために干渉
面補正治具を使用する。まず、マイクロメータヘッド5
を操作してスピンドル5Bを十分に後退させておき、基
準平面1Aにブロックゲージ3が密着された状態の基準
ブロック1を基準ブロック保持手段2のベースプレート
基板7の上に配置する。その後、基準ブロック1をブロ
ックゲージ保持手段4で覆うようにし、この保持手段4
の作動板12の窓12A内にブロックゲージ3を位置さ
せる。この際、ブロックゲージ3は、その短辺側面に前
記作動板12のテーパ部12Bの先端が当接するように
配置する。
A temperature change occurs due to temperature break-in or the like, and thermal stress distortion occurs in the block gauge 3 and the reference block 1. Although the flatness of the measurement surface 3A and the reference plane 1A deteriorates due to the thermal stress distortion, an interference surface correction jig is used to recover the deterioration. First, the micrometer head 5
Is operated to retract the spindle 5B sufficiently, and the reference block 1 in a state where the block gauge 3 is in close contact with the reference plane 1A is arranged on the base plate substrate 7 of the reference block holding means 2. After that, the reference block 1 is covered with the block gauge holding means 4.
The block gauge 3 is located in the window 12A of the operation plate 12 of FIG. At this time, the block gauge 3 is arranged such that the tip of the tapered portion 12B of the operation plate 12 abuts on the short side surface thereof.

【0015】この状態で、マイクロメータヘッド5を操
作し、スピンドル5Bを前進させる。すると、スピンド
ル5Bはアンビル18に当接した後、前記作動板12を
前進させる。この作動板12の前進により、テーパ部1
2Bの先端がブロックゲージ3の短辺側面を押圧する。
ブロックゲージ3が押圧されることにより、基準ブロッ
ク1も同方向に移動しようとするが、この基準ブロック
1は、その側面が基準ブロック保持手段2のストッパ機
構8に保持されていることから、前記基準ブロック1の
ブロックゲージ押圧方向の移動が規制される。ここで、
図5に示される通り、前記基準ブロック1の中心Pがス
ピンドル5Bの軸線Lの上からずれている場合、ストッ
パ機構8の基準ブロック保持部材11を前記スピンドル
5Bの軸線方向と直交する方向に移動してガイド11A
を基準ブロック1に一致させる。
In this state, the micrometer head 5 is operated to move the spindle 5B forward. Then, after the spindle 5B contacts the anvil 18, the operating plate 12 is advanced. By the advance of the operation plate 12, the tapered portion 1
The tip of 2 </ b> B presses the short side surface of the block gauge 3.
When the block gauge 3 is pressed, the reference block 1 also attempts to move in the same direction. However, since the side surface of the reference block 1 is held by the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2, The movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction is restricted. here,
As shown in FIG. 5, when the center P of the reference block 1 is displaced from the axis L of the spindle 5B, the reference block holding member 11 of the stopper mechanism 8 is moved in a direction perpendicular to the axis of the spindle 5B. Guide 11A
To the reference block 1.

【0016】スピンドル5Bの前進により、ブロックゲ
ージ3と基準ブロック1とが前記基準平面1A内で密着
状態が維持されながら相対的にずれることになり、ブロ
ックゲージ3及び基準ブロック1に発生した熱応力歪み
が開放され、干渉面である基準平面1A及び測定面3A
の平面度が補正される。ここで、マイクロメータヘッド
5によりブロックゲージ3と基準ブロック1とを相対移
動させる距離は、0.05〜0.1mm である。0.1mm を越える
と、両者の密着状態が解除されて適正なブロックゲージ
寸法の測定が行えない場合がある。マイクロメータヘッ
ド5のスピンドル5Bの前進は本体5Aの目盛りを読み
取りながら行う。
As the spindle 5B advances, the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively displaced from each other while maintaining the close contact state in the reference plane 1A. The distortion is released, and the reference plane 1A and the measurement plane 3A which are the interference planes
Is corrected. Here, the distance by which the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively moved by the micrometer head 5 is 0.05 to 0.1 mm. If it exceeds 0.1 mm, the close contact between the two may be released and proper measurement of the block gauge dimensions may not be performed. The advance of the spindle 5B of the micrometer head 5 is performed while reading the scale of the main body 5A.

【0017】干渉面補正治具によって、基準平面1Aと
ブロックゲージ3の測定面3Aとの平面度が補正された
ら、マイクロメータヘッド5を操作してスピンドル5B
を後退させる。さらに、ブロックゲージ保持手段4を外
し、ブロックゲージ3が密着された基準ブロック1を基
準ブロック保持手段2から取り出す。基準ブロック保持
手段2から取り出されたブロックゲージ3と基準ブロッ
ク1の基準平面1Aとの密着状態を確認する。その後、
JISB7506に従って、ブロックゲージ3の測定面3Aと、
このブロックゲージ3が密着される基準平面1Aとの双
方に光を照射し、これらの測定面3A及び基準平面1A
から反射した光を利用して測定面3Aと基準平面1Aと
の間の距離をブロックゲージ寸法として測定する。
When the flatness between the reference plane 1A and the measurement surface 3A of the block gauge 3 is corrected by the interference surface correction jig, the micrometer head 5 is operated to operate the spindle 5B.
Retreat. Further, the block gauge holding means 4 is removed, and the reference block 1 on which the block gauge 3 is in close contact is taken out from the reference block holding means 2. The close contact state between the block gauge 3 taken out from the reference block holding means 2 and the reference plane 1A of the reference block 1 is confirmed. afterwards,
According to JISB7506, measurement surface 3A of block gauge 3
Light is applied to both the reference plane 1A to which the block gauge 3 is in close contact, and the measurement plane 3A and the reference plane 1A
The distance between the measurement surface 3A and the reference plane 1A is measured as the block gauge size using the light reflected from the light source.

【0018】従って、本実施例によれば、基準ブロック
1を保持する基準ブロック保持手段2と、ブロックゲー
ジ3を保持するブロックゲージ保持手段4と、前記基準
ブロック保持手段2に設けられ前記ブロックゲージ3と
前記基準ブロック1とを密着状態を維持しながら基準平
面1A内で相対移動させる移動機構5とを備えて干渉面
補正治具を構成したので、ブロックゲージ3及び基準ブ
ロック1に熱応力歪みが発生しても前記ブロックゲージ
3と前記基準ブロック1とを相対移動させて熱応力歪み
を開放し、これらの平面度の劣化を回復してブロックゲ
ージ寸法の精密測定を行える。また、本実施例では、前
記移動機構をマイクロメータヘッド5としたので、前記
ブロックゲージ3と前記基準ブロック1Aとを密着状態
で確実に相対移動できる。即ち、前記ブロックゲージ3
と前記基準ブロック1との相対移動を密着状態を維持し
ながら行うには、その移動距離を0.05〜0.1mm としなけ
ればならないが、マイクロメータヘッド5を使用すれ
ば、0.05〜0.1mm という微小な距離を確実に移動させる
ことができる。
Therefore, according to this embodiment, the reference block holding means 2 for holding the reference block 1, the block gauge holding means 4 for holding the block gauge 3, and the block gauge provided on the reference block holding means 2. 3 and the moving mechanism 5 for relatively moving the reference block 1 within the reference plane 1A while maintaining the close contact state, the interference surface correcting jig is configured. Even if a crack occurs, the block gauge 3 and the reference block 1 are relatively moved to release the thermal stress distortion, and the deterioration of the flatness can be recovered to precisely measure the block gauge dimensions. Further, in this embodiment, since the moving mechanism is the micrometer head 5, the block gauge 3 and the reference block 1A can be reliably moved in close contact with each other. That is, the block gauge 3
In order to perform relative movement between the actuator and the reference block 1 while maintaining a close contact state, the movement distance must be 0.05 to 0.1 mm. However, if the micrometer head 5 is used, a minute movement of 0.05 to 0.1 mm is required. The distance can be reliably moved.

【0019】さらに、前記マイクロメータヘッド5でブ
ロックゲージ保持手段4を介してブロックゲージ3の短
辺側面を押圧する構成としたから、熱歪み開放時に前記
ブロックゲージ3と前記基準平面1Aとの密着が外れる
ことがない。また、前記ブロックゲージ保持手段4を先
細りのテーパ部12Bを有するとともにこのテーパ部1
2Bの先端が前記ブロックゲージ3の前記基準平面1A
の近傍を押圧する作動板12を備えた構造としたから、
ブロックゲージ3と基準ブロック1とを相対移動させる
力を基準平面1Aの近傍に作用させることができ、この
点からもブロックゲージ3と基準平面1Aとの密着が外
れることを防止できる。さらに、前記マイクロメータヘ
ッド5を基準ブロック保持手段2に設け、この基準ブロ
ック保持手段2のストッパ機構8でブロックゲージ3よ
り大きな基準ブロック1のブロックゲージ押圧方向の移
動を規制する構成としたから、この点からも、ブロック
ゲージ3と基準ブロック1とを相対移動させる力を基準
平面1Aの近傍にしてブロックゲージ3と基準平面1A
との密着が外れることを防止できる。
Furthermore, since the short side surface of the block gauge 3 is pressed by the micrometer head 5 via the block gauge holding means 4, the block gauge 3 and the reference plane 1A are in close contact with each other when the thermal strain is released. Will not come off. The block gauge holding means 4 has a tapered portion 12B which is tapered.
2B is the reference plane 1A of the block gauge 3
The structure provided with the operating plate 12 that presses the vicinity of
A force for relatively moving the block gauge 3 and the reference block 1 can be applied to the vicinity of the reference plane 1A, and from this point, the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A can be prevented. Further, the micrometer head 5 is provided on the reference block holding means 2 and the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2 restricts the movement of the reference block 1 larger than the block gauge 3 in the block gauge pressing direction. Also from this point, the force for relatively moving the block gauge 3 and the reference block 1 is set near the reference plane 1A so that the block gauge 3 and the reference plane 1A are moved.
Can be prevented from coming off tightly.

【0020】また、前記ストッパ機構8を、ストッパブ
ロック10と、このストッパブロック10と前記基準ブ
ロック1との間に配置され前記マイクロメータヘッド5
のスピンドル5Bの軸線方向と直交しかつ前記基準平面
1Aと同一平面内で移動自在とされた基準ブロック保持
部材11とを備えた構造とし、この基準ブロック保持部
材11に前記基準ブロック1の周側面と一致するガイド
11Aを形成したから、前記基準ブロック1の中心Pが
スピンドル5Bの軸線Lの上からずれて配置されても、
ストッパ機構8の基準ブロック保持部材11を前記スピ
ンドル5Bの軸線方向と直交する方向に移動してガイド
11Aを基準ブロック1に一致させることにより、ブロ
ックゲージ3の長手方向中心線をスピンドル5Bの軸線
に合わせてブロックゲージ3と基準平面1Aとの密着が
外れることを防止できる。
The stopper mechanism 8 is provided with a stopper block 10 and the micrometer head 5 disposed between the stopper block 10 and the reference block 1.
And a reference block holding member 11 which is orthogonal to the axial direction of the spindle 5B and is movable in the same plane as the reference plane 1A. Is formed, the center P of the reference block 1 is displaced from above the axis L of the spindle 5B.
By moving the reference block holding member 11 of the stopper mechanism 8 in a direction orthogonal to the axis direction of the spindle 5B and aligning the guide 11A with the reference block 1, the longitudinal center line of the block gauge 3 is aligned with the axis of the spindle 5B. In addition, it is possible to prevent the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A.

【0021】さらに、前記ブロックゲージ保持手段4
は、前記基準ブロック1のブロックゲージ側の移動を規
制する基準ブロック移動規制部材19を含んで構成され
ているので、マイクロメータヘッド5を操作してブロッ
クゲージ3の側面を押圧しても、ブロックゲージ3の押
圧方向が変わることがないので、この点からも、ブロッ
クゲージ3と基準平面1Aとの密着が外れることを防止
できる。また、前記ブロックゲージ保持手段4の把手1
6を断熱部材から形成したので、作業員の体温が把手1
6を介してブロックゲージ3や基準ブロック1に伝達さ
れにくい。
Further, the block gauge holding means 4
Is configured to include the reference block movement restricting member 19 for restricting the movement of the reference block 1 on the block gauge side. Therefore, even if the micrometer head 5 is operated to press the side surface of the block gauge 3, the block Since the pressing direction of the gauge 3 does not change, the close contact between the block gauge 3 and the reference plane 1A can be prevented from this point as well. The handle 1 of the block gauge holding means 4
6 is made of a heat insulating member, so that the body temperature of the
6 to the block gauge 3 and the reference block 1.

【0022】以上、本発明について好適な実施例を挙げ
て説明したが、本発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の
改良並びに設計の変更が可能なことは勿論である。例え
ば、前記実施例では移動機構をマイクロメータヘッド5
としたが、本発明では、基準平面1Aとブロックゲージ
3とを密着状態を維持しながら相対移動できる構造であ
れば、ねじ又はボールねじ等でもよい。また、前記マイ
クロメータヘッド5を基準ブロック保持手段2に設け、
この基準ブロック保持手段2のストッパ機構8で基準ブ
ロック1のブロックゲージ押圧方向の移動を規制する構
成としたが、本発明では、ブロックゲージ3を固定し、
基準ブロック保持手段2に移動機構を設けて基準ブロッ
ク1を移動させる構成、あるいは、基準ブロック保持手
段2及びブロックゲージ保持手段4の双方に移動機構を
設け、ブロックゲージ3と基準ブロック1とを互いに対
向する方向に移動させる構成でもよい。
Although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments, and various improvements and design changes may be made without departing from the spirit of the present invention. Of course, it is possible. For example, in the above embodiment, the moving mechanism is the micrometer head 5
However, in the present invention, a screw, a ball screw, or the like may be used as long as the structure can relatively move the reference plane 1A and the block gauge 3 while maintaining the close contact state. Further, the micrometer head 5 is provided on the reference block holding means 2,
Although the movement of the reference block 1 in the block gauge pressing direction is restricted by the stopper mechanism 8 of the reference block holding means 2, in the present invention, the block gauge 3 is fixed,
A configuration in which a moving mechanism is provided in the reference block holding means 2 to move the reference block 1, or a moving mechanism is provided in both the reference block holding means 2 and the block gauge holding means 4 so that the block gauge 3 and the reference block 1 It may be configured to move in the opposite direction.

【0023】さらに、ストッパブロック10及び基準ブ
ロック保持部材11から前記ストッパ機構8を構成した
が、本発明では、ストッパブロック10のみからストッ
パ機構8を構成してもよい。前記マイクロメータヘッド
5のスピンドル5Bでブロックゲージ保持機構4を介し
て前記ブロックゲージ3の短辺側面を押圧する構成とし
たが、ブロックゲージ3の長辺側面を押圧する構成でも
よい。また、前記作動板12は、先細りのテーパ部12
Bを有するとともにこのテーパ部12Bの先端が前記ブ
ロックゲージ3の前記基準平面1Aの近傍を押圧する構
造としたが、ブロックゲージ3を押圧する部位は必ずし
もテーパ部12Bの先端であることを要しない。例え
ば、作動板12を平板から形成し、この平板の垂直端面
でブロックゲージ3を押圧する構成でもよい。
Further, the stopper mechanism 8 is constituted by the stopper block 10 and the reference block holding member 11, but in the present invention, the stopper mechanism 8 may be constituted only by the stopper block 10. Although the short side surface of the block gauge 3 is pressed by the spindle 5B of the micrometer head 5 via the block gauge holding mechanism 4, the long side surface of the block gauge 3 may be pressed. The operating plate 12 has a tapered portion 12 which is tapered.
B, and the tip of the tapered portion 12B presses the vicinity of the reference plane 1A of the block gauge 3. However, the portion that presses the block gauge 3 does not necessarily need to be the tip of the tapered portion 12B. . For example, the operating plate 12 may be formed from a flat plate, and the block gauge 3 may be pressed by the vertical end face of the flat plate.

【0024】さらに、前記実施例では、前記基準ブロッ
ク移動規制部材19は、ブロックゲージ保持手段4の構
成部材である作動板12、作動板ガイド14及び把手1
6から構成されたが、この構成に基準ブロック移動規制
部材は限定されない。例えば、基準ブロック移動規制部
材は、基準ブロック1の基準平面1Aを係止するフック
を含んで構成し、このフックは基準ブロック保持手段2
の構成部材としてベースブロック6に固定した構造とし
てもよい。また、前記ブロックゲージ保持手段4の把手
16は、必ずしも断熱性材料から形成することを要しな
い。さらに、基準ブロック1は、角柱等の円柱以外の形
状でもよい。
Further, in the above embodiment, the reference block movement restricting member 19 includes the operating plate 12, the operating plate guide 14 and the handle 1, which are constituent members of the block gauge holding means 4.
6, the reference block movement restricting member is not limited to this configuration. For example, the reference block movement restricting member is configured to include a hook that locks the reference plane 1A of the reference block 1, and the hook is a reference block holding unit 2.
May be fixed to the base block 6. Further, the handle 16 of the block gauge holding means 4 does not necessarily need to be formed from a heat insulating material. Further, the reference block 1 may have a shape other than a cylinder such as a prism.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基準ブロックを保持する基準ブロック保持手段と、ブロ
ックゲージを保持するブロックゲージ保持手段と、これ
らのブロックゲージ保持手段及び基準ブロック保持手段
の少なくとも一方に設けられ前記ブロックゲージと前記
基準ブロックとを密着状態を維持しながら基準平面内で
相対移動させる移動機構とを備えて干渉面補正治具を構
成したので、ブロックゲージ及び基準ブロックに熱応力
歪みが発生しても、前記ブロックゲージと前記基準ブロ
ックを相対移動させて熱応力歪みを開放し、これらの平
面度の劣化を回復してブロックゲージ寸法の精密測定が
行える。また、前記移動機構をマイクロメータヘッドと
すれば、前記ブロックゲージと前記基準ブロックとを密
着状態で確実に相対移動できる。さらに、前記マイクロ
メータヘッドのスピンドルでブロックゲージ保持手段を
介してブロックゲージの短辺側面を押圧する構成とすれ
ば、熱歪み開放時に前記ブロックゲージと前記基準平面
との密着が外れることがない。また、前記ブロックゲー
ジ保持手段を先細りのテーパ部を有するとともにこのテ
ーパ部の先端が前記ブロックゲージの前記基準平面の近
傍を押圧する作動板を備えた構造とすれば、ブロックゲ
ージと基準ブロックとを相対移動させる力を基準平面の
近傍に作用させることができ、ブロックゲージと基準平
面との密着が外れることを防止できる。さらに、前記マ
イクロメータヘッドを基準ブロック保持手段に設け、こ
の基準ブロック保持手段のストッパ機構でブロックゲー
ジより大きな基準ブロックのブロックゲージ押圧方向の
移動を規制する構成とすれば、この点からも、ブロック
ゲージと基準ブロックとを相対移動させる力を基準平面
の近傍にしてブロックゲージと基準平面との密着が外れ
ることを防止できる。また、前記ストッパ機構をストッ
パブロックと、このストッパブロックと前記基準ブロッ
クとの間に配置され前記マイクロメータヘッドのスピン
ドルの軸線方向と直交しかつ前記基準平面と同一平面内
で移動自在とされた基準ブロック保持部材とを備えた構
造とし、この基準ブロック保持部材に前記基準ブロック
の側面と一致するガイドを形成すれば、前記基準ブロッ
クの中心がスピンドルの軸線の上からずれて配置されて
も、基準ブロック保持部材を前記スピンドルの軸線方向
と直交する方向に移動してガイドを基準ブロックに一致
させることにより、ブロックゲージの長手方向中心線を
スピンドルの軸線に合わせてブロックゲージと基準平面
との密着が外れることを防止できる。さらに、前記ブロ
ックゲージ保持手段を、前記基準ブロックのブロックゲ
ージ側の移動を規制する基準ブロック移動規制部材を含
んで構成すれば、ブロックゲージの押圧方向が変わるこ
とがないので、この点からも、ブロックゲージと基準平
面との密着が外れることを防止できる。
As described above, according to the present invention,
A reference block holding unit for holding a reference block, a block gauge holding unit for holding a block gauge, and a block gauge provided on at least one of the block gauge holding unit and the reference block holding unit, wherein the block gauge and the reference block are brought into close contact with each other. Since the interference surface correction jig is configured with a moving mechanism that relatively moves within the reference plane while maintaining the above, even if thermal stress distortion occurs in the block gauge and the reference block, the block gauge and the reference block are Relative movement releases thermal stress strain, recovers these deteriorations in flatness, and enables precise measurement of block gauge dimensions. In addition, if the moving mechanism is a micrometer head, the block gauge and the reference block can be reliably moved in close contact with each other. Furthermore, if the short side surface of the block gauge is pressed by the spindle of the micrometer head via the block gauge holding means, the close contact between the block gauge and the reference plane does not come off when the thermal strain is released. Further, if the block gauge holding means has a tapered tapered portion and a structure in which the tip of the tapered portion is provided with an operating plate that presses the vicinity of the reference plane of the block gauge, the block gauge and the reference block are formed. The force of the relative movement can be applied to the vicinity of the reference plane, and the close contact between the block gauge and the reference plane can be prevented. Further, if the micrometer head is provided on the reference block holding means, and the stopper mechanism of the reference block holding means is configured to restrict the movement of the reference block larger than the block gauge in the block gauge pressing direction, the block is also considered from this point. By making the force for relatively moving the gauge and the reference block close to the reference plane, the close contact between the block gauge and the reference plane can be prevented. Further, the stopper mechanism is disposed between the stopper block and the stopper block and the reference block, and a reference perpendicular to the axial direction of the spindle of the micrometer head and movable in the same plane as the reference plane. If a guide is formed on the reference block holding member so as to coincide with the side surface of the reference block, even if the center of the reference block is displaced from the axis of the spindle, the reference By moving the block holding member in a direction orthogonal to the axis direction of the spindle and aligning the guide with the reference block, the center line in the longitudinal direction of the block gauge is aligned with the axis of the spindle, and the close contact between the block gauge and the reference plane is established. Detachment can be prevented. Furthermore, if the block gauge holding means is configured to include a reference block movement restricting member that restricts the movement of the reference block on the block gauge side, the pressing direction of the block gauge does not change. The contact between the block gauge and the reference plane can be prevented from coming off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る干渉面補正治具を示す
正面図である。
FIG. 1 is a front view showing an interference surface correction jig according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG. 1;

【図3】図3は図1のIII-III 線に沿う矢視断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III in FIG. 1;

【図4】作動板の縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view of an operation plate.

【図5】ブロック機構の作用を示す図2と同様の図であ
る。
FIG. 5 is a view similar to FIG. 2, showing the operation of the block mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基準ブロック 1A 基準平面 2 基準ブロック保持手段 3 ブロックゲージ 3A 測定面 4 ブロックゲージ保持手段 5 移動機構であるマイクロメータヘッド 5B スピンドル 8 ストッパ機構 10 ストッパブロック 11 基準ブロック保持部材 11A ガイド 12 作動板 12B テーパ部 19 基準ブロック移動規制部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reference block 1A Reference plane 2 Reference block holding means 3 Block gauge 3A Measurement surface 4 Block gauge holding means 5 Micrometer head as a moving mechanism 5B Spindle 8 Stopper mechanism 10 Stopper block 11 Reference block holding member 11A Guide 12 Operating plate 12B Taper Part 19 Reference block movement restricting member

フロントページの続き (72)発明者 胡 尚弥 神奈川県川崎市高津区坂戸1−20−1 株式会社ミツトヨ内 (72)発明者 稲垣 章 神奈川県川崎市高津区坂戸1−20−1 株式会社ミツトヨ内 (56)参考文献 特開 平5−93611(JP,A) 特開 平6−341809(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 9/00 - 11/30 102 G01B 3/00 - 5/30 G01B 21/00 - 21/32 Continuing from the front page (72) Inventor Hu Naoya 1-20-1 Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Prefecture Mitutoyo Co., Ltd. (56) References JP-A-5-93611 (JP, A) JP-A-6-341809 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 9/00-11 / 30 102 G01B 3/00-5/30 G01B 21/00-21/32

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 それぞれ異なる材質から形成されたブロ
ックゲージ及び基準ブロックを使用し、この基準ブロッ
クの基準平面に密着された前記ブロックゲージの寸法を
求めるための光波干渉測定に用いられる干渉面補正治具
であって、前記基準ブロックを保持する基準ブロック保
持手段と、前記ブロックゲージを保持するブロックゲー
ジ保持手段と、これらのブロックゲージ保持手段及び基
準ブロック保持手段の少なくとも一方に設けられ前記ブ
ロックゲージと前記基準ブロックとを密着状態を維持し
ながら前記基準平面内で相対移動させる移動機構とを備
えたことを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測
定用干渉面補正治具。
An interference surface correction jig used for light wave interference measurement for determining the dimensions of a block gauge which is in close contact with a reference plane of the reference block, using a block gauge and a reference block formed of different materials. A reference block holding means for holding the reference block, a block gauge holding means for holding the block gauge, and the block gauge provided on at least one of the block gauge holding means and the reference block holding means. A moving mechanism for relatively moving the reference block in the reference plane while maintaining the close contact with the reference block.
【請求項2】 請求項1記載のブロックゲージ寸法の光
波干渉測定用干渉面補正治具において、前記移動機構
は、マイクロメータヘッドであることを特徴とするブロ
ックゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具。
2. The interference surface correcting jig according to claim 1, wherein said moving mechanism is a micrometer head. Correction jig.
【請求項3】 請求項2記載のブロックゲージ寸法の光
波干渉測定用干渉面補正治具において、前記マイクロメ
ータヘッドは前記基準ブロック保持手段に設けられ、こ
の基準ブロック保持手段は、前記基準ブロックのブロッ
クゲージ押圧方向の移動を規制するストッパ機構を備え
ていることを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉
測定用干渉面補正治具。
3. The interference surface correcting jig for measuring light wave interference having a block gauge size according to claim 2, wherein the micrometer head is provided on the reference block holding means, and the reference block holding means is provided on the reference block. An interference surface correcting jig for light wave interference measurement having a block gauge dimension, comprising a stopper mechanism for restricting movement in a block gauge pressing direction.
【請求項4】 請求項3記載のブロックゲージ寸法の光
波干渉測定用干渉面補正治具において、前記ストッパ機
構は、ストッパブロックと、このストッパブロックと前
記基準ブロックとの間に配置されるとともに前記マイク
ロメータヘッドのスピンドルの軸線方向と直交しかつ前
記基準平面と同一平面内で移動自在とされた基準ブロッ
ク保持部材とを備え、この基準ブロック保持部材には前
記基準ブロックの側面と一致するガイドが形成されてい
ることを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測定
用干渉面補正治具。
4. The jig for correcting an interference surface for measuring light wave interference having a block gauge size according to claim 3, wherein the stopper mechanism is disposed between the stopper block and the stopper block and the reference block. A reference block holding member that is orthogonal to the axial direction of the spindle of the micrometer head and that is movable in the same plane as the reference plane, and a guide that matches a side surface of the reference block is provided on the reference block holding member. An interference surface correction jig for light wave interference measurement having a block gauge dimension, the jig being formed.
【請求項5】 請求項3又は4記載のブロックゲージ寸
法の光波干渉測定用干渉面補正治具において、前記ブロ
ックゲージは直方体に形成され、前記マイクロメータヘ
ッドのスピンドルは前記ブロックゲージ保持手段を介し
て前記ブロックゲージの短辺側面を押圧可能とされてい
ることを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測定
用干渉面補正治具。
5. The jig for correcting an interference surface for measuring light wave interference having a block gauge size according to claim 3 or 4, wherein the block gauge is formed in a rectangular parallelepiped, and a spindle of the micrometer head is provided via the block gauge holding means. An interference surface correcting jig for light wave interference measurement of a block gauge dimension, wherein a short side surface of the block gauge can be pressed.
【請求項6】 請求項3から5にいずれか記載のブロッ
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具におい
て、前記ブロックゲージ保持手段は、先細りのテーパ部
を有するとともにこのテーパ部の先端が前記ブロックゲ
ージの前記基準平面の近傍を押圧する作動板を備えたこ
とを特徴とするブロックゲージ寸法の光波干渉測定用干
渉面補正治具。
6. The jig according to claim 3, wherein the block gauge holding means has a tapered portion and a tip of the tapered portion. An interference surface correction jig for measuring light wave interference having a block gauge size, comprising an operation plate for pressing the block gauge in the vicinity of the reference plane.
【請求項7】 請求項1から6にいずれか記載のブロッ
クゲージ寸法の光波干渉測定用干渉面補正治具におい
て、前記基準ブロック保持手段及び前記ブロックゲージ
保持手段の少なくとも一方は、前記基準ブロックのブロ
ックゲージ側の移動を規制する基準ブロック移動規制部
材を備えたことを特徴とするブロックゲージ寸法の光波
干渉測定用干渉面補正治具。
7. The interference surface correction jig for lightwave interference measurement having a block gauge size according to claim 1, wherein at least one of the reference block holding unit and the block gauge holding unit is provided with a reference block. An interference surface correction jig for light wave interference measurement having a block gauge dimension, comprising a reference block movement restricting member for restricting movement on the block gauge side.
JP12134094A 1994-06-02 1994-06-02 Interference surface correction jig for light wave interference measurement of block gauge size Expired - Fee Related JP3312991B2 (en)

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