JP3286160B2 - Gas purifier using catalyst - Google Patents

Gas purifier using catalyst

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JP3286160B2
JP3286160B2 JP10902696A JP10902696A JP3286160B2 JP 3286160 B2 JP3286160 B2 JP 3286160B2 JP 10902696 A JP10902696 A JP 10902696A JP 10902696 A JP10902696 A JP 10902696A JP 3286160 B2 JP3286160 B2 JP 3286160B2
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憲三 島川
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の有害成分や
悪臭成分を含む有害ガスを加熱したのち触媒に通すこと
により有害ガスを浄化するガス浄化装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas purifying apparatus for purifying a harmful gas by heating a harmful gas containing various harmful components and malodorous components and then passing it through a catalyst.

【0002】[0002]

【従来の技術】病院等での殺菌処理に使用される酸化エ
チレンガス、あるいは燃焼装置や有機溶剤の乾燥装置等
から排出される一酸化炭素や炭化水素等のように、有害
成分や悪臭成分を含む有害ガスは、大気中に放出する前
にこれらの有害成分や悪臭成分を取り除く浄化を行う必
要がある。このような有害ガスを浄化する方法として、
酸化触媒を通す方法がある。酸化触媒を用いれば、直接
燃焼させる場合に比べて低温(200〜400℃)で酸
化エチレンガス、一酸化炭素、炭化水素等の酸化反応を
促進して無害な二酸化炭素や水蒸気に変えることができ
る。
2. Description of the Related Art Harmful components and odorous components such as ethylene oxide gas used for sterilization treatment in hospitals, or carbon monoxide and hydrocarbons discharged from a combustion device or a drying device for organic solvents are used. It is necessary to purify the contained harmful gases to remove these harmful components and odorous components before releasing them to the atmosphere. As a method of purifying such harmful gas,
There is a method of passing through an oxidation catalyst. If an oxidation catalyst is used, the oxidation reaction of ethylene oxide gas, carbon monoxide, hydrocarbons, etc. can be promoted at lower temperatures (200 to 400 ° C.) than in the case of direct combustion, and can be changed to harmless carbon dioxide or water vapor. .

【0003】この種の触媒を用いたガス浄化装置の従来
例を図1に示す。図中、1は浄化室の壁、2はヒータ、
3は酸化触媒、4は送風ファンである。送風ファン4に
よって吸入された有害ガスはヒータ2で所定の温度(2
00〜400℃)まで加熱された後、酸化触媒3を通っ
て浄化され、排出される。
FIG. 1 shows a conventional example of a gas purifier using a catalyst of this kind. In the figure, 1 is a wall of the purification chamber, 2 is a heater,
Reference numeral 3 denotes an oxidation catalyst, and 4 denotes a blower fan. The harmful gas sucked by the blower fan 4 is heated by the heater 2 at a predetermined temperature (2
After being heated to the temperature of about 0.00 to 400 ° C.), it is purified through the oxidation catalyst 3 and discharged.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のようなガス浄化
装置に導入される有害ガスの濃度が高い場合や酸素濃度
が低い場合は、空気(または酸素)を混合して有害ガス
を完全に浄化できる酸素量を確保する必要がある。ま
た、触媒はガスの通過に対して抵抗を有するので、ファ
ン等によって押し込まれた有害ガスが触媒を通過する前
に装置外に漏れ出て、浄化効率を低下させてしまうおそ
れがある。
When the concentration of the harmful gas introduced into the above gas purifier is high or the oxygen concentration is low, the harmful gas is completely purified by mixing air (or oxygen). It is necessary to secure enough oxygen. Further, since the catalyst has resistance to the passage of the gas, the harmful gas pushed by the fan or the like may leak out of the device before passing through the catalyst, and may lower the purification efficiency.

【0005】さらに、触媒を通過したガスは常温に比べ
るとかなり高く、そのまま排気することができない場合
がある。このような場合は、例えば常温の空気と混合す
ることにより、ある程度冷却してから排気する必要があ
る。また、ヒータで加熱されたガスが充満している浄化
室の壁は高温になるので、これを露出できない場合はグ
ラスウール等の断熱材で囲む必要がある。これらの理由
から、浄化装置全体が大きくなりやすい。
Further, the gas that has passed through the catalyst is considerably higher than normal temperature, and may not be able to be exhausted as it is. In such a case, it is necessary to exhaust the air after cooling to some extent, for example, by mixing with air at room temperature. In addition, since the temperature of the wall of the purification chamber filled with the gas heated by the heater becomes high, if the wall cannot be exposed, it is necessary to surround the wall with a heat insulating material such as glass wool. For these reasons, the entire purification device tends to be large.

【0006】さらに、白金等の貴金属を用いた酸化触媒
は一般に高価であり、使用できる酸化触媒の大きさには
コスト面から自ずと制限がある。装置の小形化の要請か
らも酸化触媒の大きさが制限される。このため、単位時
間当たりに浄化できるガス量に制限がある。したがっ
て、有害ガスの発生量が変動するような場合、処理能力
を越える量の有害ガスが一時的であっても酸化触媒に供
給されると、未浄化の有害ガスが混ざって排出されるお
それがある。
Further, an oxidation catalyst using a noble metal such as platinum is generally expensive, and the size of an oxidation catalyst that can be used is naturally limited in terms of cost. The demand for downsizing of the apparatus also limits the size of the oxidation catalyst. For this reason, the amount of gas that can be purified per unit time is limited. Therefore, when the amount of generated harmful gas fluctuates, even if the amount of harmful gas exceeding the processing capacity is temporarily supplied to the oxidation catalyst, there is a possibility that unpurified harmful gas is mixed and discharged. is there.

【0007】本発明は上記のような従来の課題を解決し
て、小型で高性能のガス浄化装置を提供することを目的
とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a compact and high-performance gas purifying apparatus.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるガス浄化装置の第1の構成は、有害ガ
スの導入路と、この導入路に連通し送風手段を有する第
1の室と、この第1の室に連通し加熱手段(ヒータ)及
び触媒を有する第2の室と、この第2の室の周囲の一部
または全部を囲み前記第1の室に連通する第3の室と、
第1、第2及び第3の室の外側を囲み外気取入口と出口
とを有する第4の室とを備え、前記導入路から導入され
た有害ガスが前記送風手段によって前記ヒータに送ら
れ、前記ヒータで加熱された後に前記触媒を通過して排
出されると共に、第4の室の外気取入口から入った空気
が第1、第2及び第3の室の外側を流れるように構成さ
れており、第1及び第3の室が第4の室に対して負圧に
なっていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a first configuration of a gas purifying apparatus according to the present invention comprises a first passage having a harmful gas introduction passage and a blower communicating with the harmful gas introduction passage. A second chamber having a heating means (heater) and a catalyst in communication with the first chamber and a third chamber surrounding part or all of the periphery of the second chamber and communicating with the first chamber; Room and
A fourth chamber surrounding the first, second and third chambers and having an outside air inlet and an outlet, wherein the harmful gas introduced from the introduction path is sent to the heater by the blowing means, After being heated by the heater, the catalyst is discharged through the catalyst, and the air entering from the outside air intake of the fourth chamber flows outside the first, second, and third chambers. And the first and third chambers are under negative pressure with respect to the fourth chamber.
It is characterized by becoming .

【0009】このような構造によれば、加熱手段によっ
て高温になる第2の室の周囲に第3及び第4の室が位置
し、この第4の室に外気取入口から入った新鮮な空気が
第1、第2及び第3の室の外側を流れることにより、こ
の空気流が高温の室と浄化装置の外壁との断熱効果を提
供する。また、第3の室は、第2の室と第4の室との緩
衝室となる。したがって、浄化装置全体としては小型で
ありながら、外壁面があまり熱くならない。
According to this structure, the third and fourth chambers are located around the second chamber, which is heated to a high temperature by the heating means, and fresh air entering the fourth chamber from the outside air inlet is provided. Flows outside the first, second and third chambers, this air flow provides an insulating effect between the hot chamber and the outer wall of the purification device. Further, the third chamber is a buffer chamber between the second chamber and the fourth chamber. Therefore, the outer wall surface does not become too hot, although the purifier is small as a whole.

【0010】そして、第1及び第3の室が第4の室に対
して負圧になっていることにより、第2の室と第3の
室、そして第4の室とのシールを行わなくても、有害ガ
スが第1及び第3の室から第4の室に漏出することを防
ぐことができる。したがって、例えば、第2の室の内部
に設置するヒータの取り付け構造や引き出し線の接続構
造を簡素化することができる。
Since the first and third chambers have a negative pressure with respect to the fourth chamber, the second chamber, the third chamber, and the fourth chamber are not sealed. Even so, it is possible to prevent the harmful gas from leaking from the first and third chambers to the fourth chamber. Therefore, for example, the mounting structure of the heater installed inside the second chamber and the connection structure of the lead wires can be simplified.

【0011】第4の室に外気取入口から入った空気が直
接または第3の室を経由して第1の室に入り、導入され
た有害ガスと混ざりながら第2の室に送られることによ
り、導入される有害ガスの濃度が高い場合や酸素濃度が
低い場合であっても、有害ガスを完全に浄化できる酸素
量が確保される。また、触媒を通過する前に第2の室か
ら第3の室に漏れ出た有害ガスが第1の室に還流される
ことにより、未浄化のガスが装置外へ漏れ出るのを防
ぎ、浄化効率を高く維持することができる。
The air entering the fourth chamber from the outside air inlet enters the first chamber directly or via the third chamber, and is sent to the second chamber while being mixed with the introduced harmful gas. Even when the concentration of the harmful gas to be introduced is high or the oxygen concentration is low, the amount of oxygen that can completely purify the harmful gas is ensured. In addition, the harmful gas leaked from the second chamber to the third chamber before passing through the catalyst is returned to the first chamber, thereby preventing unpurified gas from leaking out of the apparatus, and purifying the gas. Efficiency can be kept high.

【0012】第4の室に外気取入口から入った空気は、
上記のように断熱用、そして有害ガスとの混合用に用い
られる他に、浄化後の高温ガスの希釈用としても用いる
ことができる。つまり、第4の室の外気取入口から入り
第1、第2及び第3の室の外側を流れた空気と、触媒を
通過したガスとが混ざり合って前記出口から排出される
ように構成されていることが好ましい。このように、浄
化された高温のガスが新鮮な空気と混合されることによ
って希釈され、効果的に冷却される。この場合、第4の
室の出口部付近に第2の送風手段が設けられ、この送風
手段が前記外気取入口から入る空気と、前記触媒を通過
したガスとを吸引して混合した後、前記出口から排出す
るように構成されていることが好ましい。そして、第2
の送風手段としてシロッコファンを用いることにより、
比較的小さな出口を通して所定の排気管に排気する構造
をとりやすい。これによって、例えば室内に排気するの
ではなく、排気管を通して室外に排出することが可能に
なる。
The air entering the fourth chamber from the outside air inlet is:
In addition to being used for heat insulation and mixing with harmful gases as described above, it can also be used for diluting purified hot gas. That is, the air that enters from the outside air inlet of the fourth chamber and flows outside the first, second, and third chambers and the gas that has passed through the catalyst are mixed and discharged from the outlet. Is preferred. In this way, the purified hot gas is diluted by being mixed with fresh air and effectively cooled. In this case, a second air blowing means is provided near the outlet of the fourth chamber, and the air blowing means sucks and mixes the air entering from the outside air inlet and the gas passing through the catalyst, and then mixes the air. Preferably, it is configured to discharge from the outlet. And the second
By using a sirocco fan as the air blowing means,
It is easy to adopt a structure for exhausting gas to a predetermined exhaust pipe through a relatively small outlet. Thus, for example, instead of exhausting the air into the room, the air can be exhausted outside through the exhaust pipe.

【0013】また、本発明によるガス浄化装置の第2の
構成は、ガスの入口と出口とを有する可変容積の容器
と、その容器の出口に接続された流量を制限する流量弁
または一定流量でガスを送出するための駆動装置を有す
る流量制御装置とが有害ガスの導入路に接続されている
ことを特徴とする。可変容積の容器として、例えばプラ
スチック(ビニール)袋を用いることができる
[0013] A second aspect of the gas purifying apparatus according to the present invention comprises a variable volume container having an inlet and an outlet for gas, and a flow valve connected to the outlet of the container for restricting a flow rate.
Or has a drive to deliver gas at a constant flow rate
And a flow control device connected to the harmful gas introduction path. For example, a plastic (vinyl) bag can be used as the variable volume container .

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図2に、本発明の実施形態に係る
ガス浄化装置の概略構成を示す。この装置は、病院等で
の殺菌処理に使用される酸化エチレンガス(以下、「有
害ガス」という)を浄化するためのものであり、装置本
体11、ガス溜め容器12、エアポンプ13、ガス導入
管14、排気管15等からなる。
FIG. 2 shows a schematic configuration of a gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention. This device is for purifying ethylene oxide gas (hereinafter, referred to as "harmful gas") used for sterilization treatment in hospitals and the like, and includes a device main body 11, a gas reservoir container 12, an air pump 13, a gas introduction pipe. 14, an exhaust pipe 15 and the like.

【0015】装置本体11は例えば300×300×5
00mmの直方体形状を有し、一方の端面が外気取入口
11aになっており、反対側の端面は閉じられている。
外気取入口11a近くの側面(図2では上面)にガス導
入管14が接続され、閉じられた端面近くの側面に排気
管15が接続されている。なお、16は、内部に収納さ
れるヒータに電流を供給するための絶縁コードである。
The apparatus body 11 is, for example, 300 × 300 × 5
It has a rectangular parallelepiped shape of 00 mm, one end face is the outside air intake 11a, and the other end face is closed.
A gas introduction pipe 14 is connected to a side surface (upper surface in FIG. 2) near the outside air intake 11a, and an exhaust pipe 15 is connected to a side surface near a closed end surface. Reference numeral 16 denotes an insulating cord for supplying a current to a heater housed therein.

【0016】ガス導入管14の途中に挿入されたガス溜
め容器12及びエアポンプ13は、殺菌装置等から断続
的に排出される有害ガスを一旦溜めて、一定量ずつ浄化
装置本体11に供給するためのものである。したがっ
て、ガス溜め容器12は、断続的に供給される有害ガス
の量に応じて容積が変化するものが好ましい。簡単なも
のとして、プラスチック袋(ビニール袋)を用いること
ができる。ベローズのような構造の容器を用いてもよ
い。また、流量制御装置としてのエアポンプ13は、ほ
ぼ一定の流量が得られればよく、正確な流量制御を行う
必要はない。したがって、ファンで代用することもでき
る。あるいは、単なる流量制御弁でもよく、この場合、
有害ガスを装置本体11に送り込む駆動力は装置本体1
1に内蔵された吸引手段が担うことになる。
The gas reservoir 12 and the air pump 13 inserted in the middle of the gas introduction pipe 14 temporarily store the harmful gas discharged intermittently from the sterilizer or the like, and supply the harmful gas to the purifier main body 11 by a fixed amount. belongs to. Therefore, it is preferable that the volume of the gas reservoir container 12 changes in accordance with the amount of the harmful gas supplied intermittently. As a simple matter, a plastic bag (plastic bag) can be used. A container having a structure like a bellows may be used. The air pump 13 as the flow control device only needs to obtain a substantially constant flow rate, and does not need to perform accurate flow control. Therefore, a fan can be used instead. Alternatively, it may be a simple flow control valve, in which case,
The driving force for sending the harmful gas into the apparatus body 11 is the apparatus body 1
The suction means built in 1 will take charge.

【0017】図3に、装置本体11を側面からみた内部
構造を示す。また、図4に装置本体11を上面からみた
内部構造を示す。ガス導入管14から装置本体11に導
入された有害ガスは、まず送風手段であるファン17を
有する第1の室18に入り、ファン17によって第2の
室19へ送り込まれる。第2の室19には加熱手段であ
るヒータ20と酸化触媒21とが設けられている。第2
の室19へ送り込まれた有害ガスは、ヒータ20で20
0〜400℃程度の温度まで加熱された後、酸化触媒2
1を通って浄化される。
FIG. 3 shows the internal structure of the apparatus main body 11 as viewed from the side. FIG. 4 shows an internal structure of the apparatus main body 11 as viewed from above. The harmful gas introduced into the apparatus main body 11 from the gas introduction pipe 14 first enters a first chamber 18 having a fan 17 which is a blowing means, and is sent into a second chamber 19 by the fan 17. The second chamber 19 is provided with a heater 20 as a heating means and an oxidation catalyst 21. Second
The harmful gas sent to the chamber 19 of the
After being heated to a temperature of about 0 to 400 ° C., the oxidation catalyst 2
Purified through one.

【0018】ヒータ20の両端部は絶縁端子で第2の室
19の上壁に固定され、絶縁コード16によって装置本
体11の外部に引き出されている。そして、第2の室1
9の上壁を囲むと共に第1の室18に連通する第3の室
22が設けられている。酸化触媒21は、例えば、カル
シウムアルミネートを主原料とした担体に白金、パラジ
ウム等の貴金属を担持させたブロック状のものが用いら
れ、これが第2の室19の出口、つまり第4の室23と
の連通口に配置されている。
Both ends of the heater 20 are fixed to the upper wall of the second chamber 19 by insulating terminals, and are drawn out of the apparatus main body 11 by the insulating cord 16. And the second room 1
A third chamber 22 surrounding the upper wall 9 and communicating with the first chamber 18 is provided. The oxidation catalyst 21 is, for example, a block-shaped catalyst in which a noble metal such as platinum or palladium is supported on a carrier mainly composed of calcium aluminate, and this is used as an outlet of the second chamber 19, that is, a fourth chamber 23. It is arranged at the communication port with.

【0019】第4の室23は、第1、第2および第3の
室18,19,22の外壁と装置本体11の外壁とによ
って形成された空間である。第1、第2および第3の室
18,19,22を形成する箱体は4本の支柱24によ
って装置本体11の底面に支持されている。なお、図3
では、これらの支柱は省略されている。第4の室23に
は、第2の送風手段であるシロッコファン25が設けら
れ、酸化触媒21を通って浄化されたガスはこのシロッ
コファン25によって吸引されて、出口である排気管1
5から排出される。
The fourth chamber 23 is a space formed by the outer walls of the first, second and third chambers 18, 19, 22 and the outer wall of the apparatus main body 11. The box forming the first, second and third chambers 18, 19, 22 is supported on the bottom surface of the apparatus main body 11 by four columns 24. Note that FIG.
In these, these struts are omitted. The fourth chamber 23 is provided with a sirocco fan 25 as a second blowing means, and the gas purified through the oxidation catalyst 21 is sucked by the sirocco fan 25 and the exhaust pipe 1 serving as an outlet is provided.
Exhausted from 5

【0020】第4の室23の反対側(外気取入口11a
側)にはエアフィルタ26が設けられ、シロッコファン
25によって吸引された空気がエアフィルタ26を通っ
て第4の室23に導入される。導入された空気は、第
1、第2及び第3の室18,19,22の外側を流れて
シロッコファン25に達する。一方、酸化触媒21を通
って浄化されたガスもシロッコファン25によって吸引
されて第4の室23に導入される。この際、酸化触媒2
1を通った高温のガスは、外気取入口11aから導入さ
れた空気と混合して希釈されることにより温度を下げら
れるので、シロッコファン25や排気管15の高温劣化
が回避される。また、排気の安全性が確保される。
The opposite side of the fourth chamber 23 (the outside air inlet 11a)
An air filter 26 is provided on the side), and the air sucked by the sirocco fan 25 is introduced into the fourth chamber 23 through the air filter 26. The introduced air flows outside the first, second and third chambers 18, 19, 22 and reaches the sirocco fan 25. On the other hand, the gas purified through the oxidation catalyst 21 is also sucked by the sirocco fan 25 and introduced into the fourth chamber 23. At this time, the oxidation catalyst 2
The temperature of the high-temperature gas that has passed through 1 is reduced by being mixed with and diluted with the air introduced from the outside air inlet 11a, so that high-temperature deterioration of the sirocco fan 25 and the exhaust pipe 15 is avoided. Also, safety of the exhaust gas is ensured.

【0021】上記のような構成において、第3の室22
は、ヒータ20の加熱によって高温になる第2の室19
と第4の室23との緩衝室となる。さらに、第3の室2
2と連通する第1の室に設けられたファン17の静圧効
率は第4の室23に設けられたシロッコファン25の静
圧効率に比べて大きく設定される。つまり、第1および
第3の室18,22が第4の室23に対して負圧になる
ように、二つのファンの静圧効率が設定される。したが
って、例えば、ヒータ20の取り付け部および引き出線
固定部がシールされていない場合であっても、有害ガス
が第1及び第3の室18,22から第4の室23に漏出
することを防ぐことができる。
In the above configuration, the third chamber 22
Is heated in the second chamber 19 which is heated by the heater 20.
And a fourth chamber 23. Furthermore, the third room 2
The static pressure efficiency of the fan 17 provided in the first chamber communicating with the second chamber 2 is set larger than the static pressure efficiency of the sirocco fan 25 provided in the fourth chamber 23. That is, the static pressure efficiencies of the two fans are set such that the first and third chambers 18 and 22 have a negative pressure with respect to the fourth chamber 23. Therefore, for example, even when the attachment portion of the heater 20 and the lead wire fixing portion are not sealed, it is possible to prevent the harmful gas from leaking from the first and third chambers 18 and 22 to the fourth chamber 23. Can be prevented.

【0022】また、外気取入口11aから第4の室23
に導入された空気が、第1、第2及び第3の室18,1
9,22の外側を流れることにより、この空気流が高温
の室と浄化装置の外壁との断熱効果を提供する。したが
って、浄化装置本体11は小形でありながら外壁面があ
まり熱くならない。
The fourth chamber 23 is connected to the outside air inlet 11a.
The air introduced into the first, second and third chambers 18, 1
By flowing outside 9, 22, this air flow provides an insulating effect between the hot chamber and the outer wall of the purifier. Therefore, although the purifying device main body 11 is small, the outer wall surface does not become very hot.

【0023】さらに、第1の室18と第4の室との隔壁
に連通孔27が設けられており、第4の室23に導入さ
れた空気の一部がこの連通孔27を通って第1の室18
に導入される。これによって、濃度の高い有害ガスの場
合(又は酸素濃度が低い場合)であっても、有害ガスを
完全に浄化できる酸素量が確保される。但し、この連通
孔27は、必ずしも積極的に設ける必要は無く、第1の
室18と第4の室との隔壁構造に形成された隙間で代用
することもできる。また、第4の室23に導入された空
気の一部が第1の室18に直接導入されるのではなく、
第3の室22を経由して第1の室18に導入されるよう
に構成してもよい。
Further, a communication hole 27 is provided in a partition wall between the first chamber 18 and the fourth chamber, and a part of the air introduced into the fourth chamber 23 passes through the communication hole 27 and passes through the communication hole 27. Room 1 18
Will be introduced. As a result, even in the case of a harmful gas having a high concentration (or a case of a low oxygen concentration), an oxygen amount capable of completely purifying the harmful gas is secured. However, the communication hole 27 does not necessarily need to be provided positively, and may be replaced by a gap formed in the partition structure between the first chamber 18 and the fourth chamber. Further, a part of the air introduced into the fourth chamber 23 is not directly introduced into the first chamber 18,
It may be configured to be introduced into the first chamber 18 via the third chamber 22.

【0024】なお、上記の実施形態では第3の室18
を、第2の室19の上部だけを囲むように設けたが、第
2の室の側面をも囲むように、さらには底面をも囲むよ
うに第3の室を設けてもよい。また、装置本体11の外
気取入口11aと反対側の端面を閉じて、側面に小さな
排出口(排気管15)を設けたが、本発明はこのような
構成に限るわけではない。例えば、該端面の全部または
一部を排気口として、シロッコファン25の代わりに軸
流ファンを設けてもよい。
In the above embodiment, the third chamber 18
Is provided so as to surround only the upper portion of the second chamber 19, but a third chamber may be provided so as to also surround the side surface of the second chamber 19 and also surround the bottom surface. Further, the end face of the apparatus main body 11 opposite to the outside air inlet 11a is closed and a small exhaust port (exhaust pipe 15) is provided on the side face. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, an axial fan may be provided instead of the sirocco fan 25 with all or a part of the end face serving as an exhaust port.

【0025】本発明を実施するに際して、その他、種々
の変更を上記実施形態の具体的な構成に加えることがで
きる。また、本発明は、酸化エチレンガスの浄化装置の
他にも、各種燃焼装置や有機溶剤の乾燥装置から排出さ
れる有害ガスの浄化装置等に広く適用することができ
る。
In practicing the present invention, various other changes can be made to the specific configuration of the above embodiment. In addition, the present invention can be widely applied to, for example, an apparatus for purifying harmful gases discharged from various combustion apparatuses and an organic solvent drying apparatus, in addition to an ethylene oxide gas purifying apparatus.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、本発明によるガス浄化装
置は、装置本体内を複数の室に分け、導入される有害ガ
スと新鮮な空気との流れ及び混合を適切に制御すること
により、高い断熱効果と浄化率が得られ、装置を小型化
することができる。導入した空気を断熱用、及び有害ガ
スとの混合用に用いた後、さらに浄化後の高温ガスの希
釈用に用いることにより、一層安全で効率的な浄化装置
となる。
As described above, the gas purifying apparatus according to the present invention divides the inside of the apparatus body into a plurality of chambers, and appropriately controls the flow and mixing of the introduced harmful gas and fresh air. A high heat insulation effect and a high purification rate can be obtained, and the size of the device can be reduced. By using the introduced air for heat insulation and mixing with the harmful gas, and further for diluting the purified high-temperature gas, a more safe and efficient purification device can be obtained.

【0027】また、有害ガスの導入路に可変容積の容器
をバッファとして設け、その容器の出口に流量制御装置
を設けたことにより、断続的に排出される有害ガスを一
旦溜めて、少しずつ(一定量ずつ)浄化装置本体に供給
することができるので、一時的に触媒の処理能力を越え
る量の有害ガスが発生する場合であっても、触媒の単位
時間当たりの処理能力を越える有害ガスが触媒に供給さ
れることを防いで、有害ガスを確実に浄化することがで
きる。
Further, by providing a variable-volume container as a buffer in the introduction path of the harmful gas and providing a flow control device at the outlet of the container, the harmful gas discharged intermittently is once stored and gradually ( (A fixed amount at a time) can be supplied to the purification device main body, so even if the amount of harmful gas exceeding the processing capacity of the catalyst is generated temporarily, the harmful gas exceeding the processing capacity per unit time of the catalyst By preventing supply to the catalyst, harmful gases can be reliably purified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のガス浄化装置の概略構成を示す図FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional gas purification device.

【図2】本発明の実施形態に係るガス浄化装置の全体を
示す外観図
FIG. 2 is an external view showing the entire gas purification device according to the embodiment of the present invention.

【図3】図2のガス浄化装置の本体内部を示す側面図FIG. 3 is a side view showing the inside of the main body of the gas purification device of FIG. 2;

【図4】図2のガス浄化装置の本体内部を示す上面図FIG. 4 is a top view showing the inside of the main body of the gas purification device of FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 装置本体 11a 外気取入口 12 ガス溜め容器 13 エアポンプ 14 ガス導入管 15 排気管 16 ヒータ引出線 17,25 ファン 18 第1の室 19 第2の室 20 ヒータ 21 酸化触媒 22 第3の室 23 第4の室 24 支柱 26 エアフィルタ 27 連通孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Main body 11a Outside air intake 12 Gas reservoir 13 Air pump 14 Gas introduction pipe 15 Exhaust pipe 16 Heater lead wire 17, 25 Fan 18 First chamber 19 Second chamber 20 Heater 21 Oxidation catalyst 22 Third chamber 23 Third 4 room 24 prop 26 air filter 27 communication hole

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 有害ガスを加熱して触媒に通すことによ
り有害ガスを浄化するガス浄化装置であって、 有害ガスの導入路と、この導入路に連通し送風手段を有
する第1の室と、この第1の室に連通し加熱手段及び触
媒を有する第2の室と、この第2の室の周囲の一部また
は全部を囲み前記第1の室に連通する第3の室と、第
1、第2及び第3の室の外側を囲み外気取入口と出口と
を有する第4の室とを備え、 前記導入路から導入された有害ガスが前記送風手段によ
って前記ヒータに送られ、前記ヒータで加熱された後に
前記触媒を通過して排出されると共に、第4の室の外気
取入口から入った空気が第1、第2及び第3の室の外側
を流れるように構成されており、第1及び第3の室が第
4の室に対して負圧になっている触媒を用いたガス浄化
装置。
1. A gas purifying apparatus for purifying a harmful gas by heating the harmful gas and passing the harmful gas through a catalyst, comprising: a harmful gas introduction path; and a first chamber communicating with the harmful gas and having a blowing means. A second chamber communicating with the first chamber and having a heating means and a catalyst; a third chamber surrounding part or all of the periphery of the second chamber and communicating with the first chamber; A fourth chamber surrounding the outside of the first, second and third chambers and having an outside air inlet and an outlet, wherein the harmful gas introduced from the introduction path is sent to the heater by the blowing means, while it is discharged through said catalyst after being heated by the heater, and the air entering from the outside air inlet of the fourth chamber is configured to flow outside of the first, second and third chamber , The first and third chambers are
A gas purifying apparatus using a catalyst which has a negative pressure with respect to chamber 4 .
【請求項2】 第4の室に外気取入口から入った空気が
直接また第3の室を経由して第1の室に入り、導入され
た有害ガスと混ざりながら第2の室に送られる請求項1
記載の触媒を用いたガス浄化装置。
2. The air entering the fourth chamber from the outside air inlet.
Directly into the first chamber via the third chamber,
The waste gas is sent to the second chamber while being mixed with the harmful gas.
A gas purification device using the catalyst described in the above .
【請求項3】 前記触媒を通過する前に第2の室から第
3の室に漏れ出た有害ガスが第1の室に還流される請求
項1記載の触媒を用いたガス浄化装置。
3. The method according to claim 1, wherein the second chamber is removed from the second chamber before passing through the catalyst.
The harmful gas leaked to the third chamber is returned to the first chamber.
Item 2. A gas purifier using the catalyst according to Item 1 .
【請求項4】 第4の室の外気取入口から入り第1、第
2及び第3の室の外側を流れた空気と、前記触媒を通過
したガスとが混ざり合って前記出口から排出されるよう
に構成されている請求項1から3のいずれか1項記載の
触媒を用いたガス浄化装置。
4. The first and the fourth chambers enter through an outside air inlet of a fourth chamber.
Air flowing outside the second and third chambers and passing through the catalyst
Mixed with the exhaust gas and discharged from the outlet
The gas purifying apparatus using the catalyst according to any one of claims 1 to 3, wherein the gas purifying apparatus comprises:
【請求項5】 第4の室の前記出口部付近に第2の送風
手段が設けられ、この送風手段が前記外気取入口から入
った空気と、前記触媒を通過したガスとを吸引して混合
した後、前記出口から排出するように構成されている請
求項4記載の触媒を用いたガス浄化装置。
5. A second blower near the outlet of the fourth chamber.
Means is provided, and the air blowing means enters through the outside air intake.
Air and gas passing through the catalyst are sucked and mixed
After exiting the outlet, the
A gas purification device using the catalyst according to claim 4 .
【請求項6】 第2の送風手段がシロッコファンである
請求項5記載の触媒を用いたガス浄化装置。
6. A gas purifying apparatus using a catalyst according to claim 5 , wherein the second blowing means is a sirocco fan .
【請求項7】 有害ガスを加熱して触媒に通すことによ
り有害ガスを浄化するガス浄化装置であって、ガスの入
口と出口とを有する可変容積の容器と、その容 器の出口
に接続された流量を制限する流量弁とが有害ガスの導入
路に接続され、有害ガスが前記可変容積の容器と流量弁
とを通って加熱手段及び触媒に導入されるように構成さ
れている触媒を用いたガス浄化装置。
7. A method for heating a harmful gas and passing it through a catalyst.
Gas purifier that purifies harmful gases.
A container of variable volume having a mouth and an outlet, the outlet of the container
A flow valve that restricts the flow rate connected to the
Harmful gas is connected to the variable volume container and the flow valve
Through the heating means and the catalyst.
Gas purifier using a known catalyst.
【請求項8】 有害ガスを加熱して触媒に通すことによ
り有害ガスを浄化するガス浄化装置であって、ガスの入
口と出口とを有する可変容積の容器と、その容器の出口
に接続された一定流量でガスを送出するための駆動装置
を有する流量制御装置とが有害ガスの導入路に接続さ
れ、有害ガスが前記可変容積の容器と流量制御装置とを
通って加熱手段及び触媒に導入されるように構成されて
いる触媒を用いたガス浄化装置。
8. A gas purifying apparatus for purifying a harmful gas by heating the harmful gas and passing it through a catalyst, wherein the vessel has a variable volume container having an inlet and an outlet for the gas, and is connected to an outlet of the container. Drive unit for delivering gas at a constant flow rate
And a catalyst configured to be connected to the introduction path of the harmful gas, and the harmful gas is introduced into the heating means and the catalyst through the variable volume container and the flow control device. Gas purification device.
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