JP3276422B2 - Method for producing aluminum support for lithographic printing plate - Google Patents

Method for producing aluminum support for lithographic printing plate

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JP3276422B2
JP3276422B2 JP29052792A JP29052792A JP3276422B2 JP 3276422 B2 JP3276422 B2 JP 3276422B2 JP 29052792 A JP29052792 A JP 29052792A JP 29052792 A JP29052792 A JP 29052792A JP 3276422 B2 JP3276422 B2 JP 3276422B2
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    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/04Graining or abrasion by mechanical means

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関するものであり、特にブラシ
グレイニング工程に特徴を有する平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, and more particularly to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate characterized by a brush graining step.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷法とは、水と油が本質的に混じ
り合わないことを利用した印刷方式であって、これに使
用される平版印刷版の印刷版面には水を受容して油性イ
ンキを反撥する領域(以下、この領域を「非画像部」と
いう。)と、水を反撥して油性インキを受容する領域
(以下、この領域を「画像部」という。)が形成され
る。平版印刷版に使用されるアルミニウム支持体は、そ
の表面が非画像部を担うように使用されるため、親水
性、保水性が優れていること、更にはその上に設けられ
る感光層との密着性が優れていること等といった相反す
る種々の性能が要求される。支持体の親水性が低い場
合、印刷時非画像部にインキが付着するようになり、い
わゆる地汚れが発生する。支持体の保水性が低い場合、
印刷時湿し水を多くしないとシャドー部のつまりが発生
する。したがって、いわゆる水幅が狭くなる。
2. Description of the Related Art A lithographic printing method is a printing method that utilizes the fact that water and oil are not essentially mixed. The lithographic printing plate used in the lithographic printing plate receives water and is oily. A region that repels ink (hereinafter, this region is referred to as a “non-image portion”) and a region that repels water and receives oil-based ink (hereinafter, this region is referred to as “image portion”) are formed. The aluminum support used in the lithographic printing plate has excellent hydrophilicity and water retention because its surface is used to carry the non-image area, and furthermore, close contact with the photosensitive layer provided thereon Various contradictory performances such as excellent performance are required. When the hydrophilicity of the support is low, the ink adheres to the non-image area at the time of printing, and so-called background stain occurs. If the water retention of the support is low,
Unless the dampening solution is increased during printing, the clogging of the shadow portion occurs. Therefore, the so-called water width becomes narrow.

【0003】これらの性能の良好なアルミニウム支持体
を得るためには、アルミニウム板の表面を砂目立てして
微細な凹凸を付与するのが通例である。この砂目立てに
は、ボールグレイニング、ブラシグレイニング、ワイヤ
ーグレイニング、ブラストグレイニングなどの機械的粗
面化方法、塩酸及び/又は硝酸を含む電解液中でアルミ
ニウム板を電解エッチングする電解粗面化方法および米
国特許第4,476,006 号明細書に記載されている機械的粗
面化方法と電解粗面化方法を組み合わせた複合粗面化方
法などが知られている。これらの砂目立て方法の中で
は、平版印刷版用支持体としての性能に優れ、かつまた
大量生産性に優れるという点からブラシグレイニングに
よる砂目立て方法およびブラシグレイニングと電解粗面
化方法とを組み合わせた砂目立て方法が有利であるが、
ブラシグレイニング工程で使用されるブラシは複数本の
ブラシを使用する場合であっても毛の材質、毛径(直
径)、毛の断面形状などは、ある決まった一種類のもの
を使用するのが通例であった。
In order to obtain an aluminum support having good performance, it is customary to grain the surface of an aluminum plate to give fine irregularities. Examples of the graining include mechanical graining methods such as ball graining, brush graining, wire graining, and blast graining, and electrolytic roughening in which an aluminum plate is electrolytically etched in an electrolytic solution containing hydrochloric acid and / or nitric acid. And a composite surface roughening method combining a mechanical surface roughening method and an electrolytic surface roughening method described in US Pat. No. 4,476,006. Among these graining methods, the graining method by brush graining and the brush graining and electrolytic graining method are excellent in terms of excellent performance as a lithographic printing plate support and excellent mass productivity. The combined graining method is advantageous,
The brush used in the brush graining process, even if multiple brushes are used, use a certain type of hair material, hair diameter (diameter), and hair cross-sectional shape. Was customary.

【0004】しかし乍ら、一種類のブラシを使用するブ
ラシグレイニングにより砂目立てしたアルミニウム支持
体又はこのようなブラシグレイニングと電解粗面化方法
とを組み合わせたマルチグレニング方法により砂目立て
したアルミニウム支持体は、依然として親水性、保水
性、密着性が十分でない。すなわち、親水性を好ましい
程度に向上させるには、粗面の凹凸をある程度浅く滑ら
かにする必要があるが、そうすると支持体の保水量が低
下するし感光層との密着も悪くなる。逆に粗面の凹凸を
深くすると、保水性すなわち水幅は広くなり、さらに感
光層との密着性は向上するが、地汚れが発生する。近
年、平版印刷業界は、高速化と自動化が急速に進んでお
り、さらに熟練作業者が不足している現状において、非
熟練者にも印刷し易くかつ今以上の高品質で安定した平
版印刷版、すなわち水幅が広くかつ汚れにくい平版印刷
版が待ち望まれていた。
However, aluminum supports grained by brush graining using one type of brush or aluminum grained by a multi-graining method combining such brush graining and electrolytic graining methods. The support still has insufficient hydrophilicity, water retention and adhesion. That is, in order to improve the hydrophilicity to a desirable extent, it is necessary to make the roughness of the rough surface shallow and smooth to some extent, but this will reduce the water retention of the support and deteriorate the adhesion to the photosensitive layer. Conversely, when the roughness of the rough surface is deepened, the water retention, that is, the water width is increased, and the adhesion to the photosensitive layer is further improved, but background contamination occurs. In recent years, in the lithographic printing industry, high speed and automation are rapidly progressing, and in the current situation where skilled workers are in short supply, lithographic printing plates that are easy to print even for unskilled people and have higher quality and stable than now That is, a lithographic printing plate having a wide water width and less stains has been long-awaited.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、保水性が高いため湿し水を少なくしてもシャドー
部がつぶれることなく、汚れが発生しにくく、さらに感
光層との密着性がよい感光性平版印刷版用支持体を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a high water retention property so that even if the dampening water is reduced, the shadow portion is not crushed, the stain is hardly generated, and the adhesion to the photosensitive layer is improved. An object of the present invention is to provide a support for a photosensitive lithographic printing plate.

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、アルミニウム板の表
面を毛径が異なる少なくとも2種類のブラシを用いて、
粗面化する新規な機械的粗面化方法により、上記の目的
が達成されることを見い出し本発明をなすに至ったもの
である。本発明は、アルミニウム板の表面を、互いに毛
径の異なる少なくとも2種類のブラシで粗面化するブラ
シグレイニング工程を含むことを特徴とする平版印刷版
用アルミニウム支持体の製造方法である。但し前記ブラ
シが円盤ブラシである場合を除く。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, the surface of an aluminum plate has been formed using at least two types of brushes having different hair diameters.
The present inventors have found that the above object can be achieved by a novel mechanical surface roughening method for roughening, and have accomplished the present invention. The present invention is a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, comprising a brush graining step of roughening the surface of an aluminum plate with at least two types of brushes having different hair diameters. However, the bra
Except when the disc is a disc brush.

【0006】以下に本発明の平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法について詳しく述べる。本発明に使用
されるアルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニ
ウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板又はアル
ミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチック
フィルムの中から選ばれる。該アルミニウム合金に含ま
れる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシ
ウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなど
がある。合金中の異元素の含有量は10重量%以下であ
る。本発明に好適なアルミニウムは、純アルミニウムで
あるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が
困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよ
い。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、
その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用
の素材のもの、例えば JIS A 1050 、JIS A 1100、JIS
A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することが出来る。
本発明に用いられるアルミニウム板の厚みは、およそ0.
1mm〜0.6mm程度である。
Hereinafter, the method for producing the aluminum support for a lithographic printing plate of the present invention will be described in detail. The aluminum plate used in the present invention is selected from a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, or a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by weight or less. Aluminum suitable for the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. Thus, the aluminum plate applied to the present invention is:
The composition is not specified, and those of conventionally known and publicly used materials, for example, JIS A 1050, JIS A 1100, JIS
A3103, JIS A3005, etc. can be used as appropriate.
The thickness of the aluminum plate used in the present invention is approximately 0.
It is about 1 mm to 0.6 mm.

【0007】まず、アルミニウム板をブラシグレイニン
グするに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去する
ための脱脂処理、例えば界面活性剤、有機溶剤またはア
ルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行なわれる。但
し、脱脂処理は省略してもよい。引き続いて、毛径が異
なる少なくとも2種類のブラシを用いて、研磨スラリー
液をアルミニウム板表面に供給しながら、ブラシグレイ
ニングを行う。該ブラシグレイニングにおいて初めに用
いるブラシを第1ブラシと呼び最終に用いるブラシを第
2ブラシと呼ぶ。該グレイン時、図1に示すように、ア
ルミニウム板1をはさんでロール状ブラシ2及び4と、
それぞれ二本の支持ロール5、6及び7、8を配置す
る。二本の支持ロール5、6及び7、8は互の外面の最
短距離がロール状ブラシ2及び4の外径よりそれぞれ小
なるように配置され、アルミニウム板1がロール状ブラ
シ2及び4により加圧され、2本の支持ロール5、6及
び7、8の間に押し入れられる様な状態でアルミニウム
板を一定速度で搬送し且つ研磨フラリー液3をアルミニ
ウム板上に供給してロール状ブラシを回転させることに
より表面を研磨することが好ましい。
First, prior to brush graining an aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment for removing rolling oil on the surface, for example, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed. However, the degreasing treatment may be omitted. Subsequently, brush graining is performed using at least two types of brushes having different bristle diameters while supplying the polishing slurry liquid to the aluminum plate surface. The brush used first in the brush graining is called a first brush, and the brush used last is called a second brush. At the time of the grain, as shown in FIG. 1, roll brushes 2 and 4 sandwiching the aluminum plate 1,
Two support rolls 5, 6 and 7, 8 are arranged respectively. The two support rolls 5, 6 and 7, 8 are arranged such that the shortest distance between their outer surfaces is smaller than the outer diameter of each of the brushes 2 and 4, and the aluminum plate 1 is applied by the brushes 2 and 4. The aluminum plate is conveyed at a constant speed while being pressed and pushed between the two support rolls 5, 6, 7 and 8, and the polishing brush 3 is supplied onto the aluminum plate to rotate the roll brush. It is preferable that the surface be polished.

【0008】本発明に用いられるブラシは、ロール状の
台部にナイロン、ポリプロピレン、動物毛、あるいは、
スチールワイヤ等のブラシ材を均一な毛長及び植毛分布
をもって植え込んだもの、台部に小穴を開けブラシ毛束
を植込んだもの、又、チャンネルロール型のものなどが
好ましく用いられる。その中でも好ましい材料はナイロ
ンであり、好ましい植毛後の毛長は10〜200mmであ
る。なおブラシロールに植え込む際の植毛密度は1cm2
当り30〜1000本が好ましく、さらに好ましくは5
0〜300本である。該ブラシの好ましい毛径は第1ブ
ラシが0.57mm以上1.20mm以下、さらに好ましくは0.
64mm以上1.00mm以下であり、第2ブラシが0.10mm
以上0.34mm以下さらに好ましくは0.20mm以上0.30mm
以下である。前者が0.57mm未満では印刷時に湿し水を
少なくした時のシャドー部のつぶれを防ぐのに充分な保
水性が得られない。後者の毛径0.34mm以下の細いブラ
シの役割は毛径0.57mm以上の太いブラシにより形成し
た砂目の鋭利な凸部をなめらかにし、地汚れの発生を防
止することである。毛径が0.34mmより大きい場合は十
分な汚れ防止効果が得られない。
[0008] The brush used in the present invention has a roll-shaped base portion made of nylon, polypropylene, animal hair, or
A brush material such as a steel wire implanted with a uniform bristle length and a flocking distribution, a brush hair bundle implanted with a small hole in the base, and a channel roll type are preferably used. Among them, a preferable material is nylon, and a preferable hair length after flocking is 10 to 200 mm. The density of flocking when implanting into brush rolls is 1 cm 2
It is preferably 30 to 1000 pieces, more preferably 5 pieces per piece.
The number is 0 to 300. The preferred brush diameter of the brush is 0.57 mm to 1.20 mm, more preferably 0.5 mm for the first brush.
64mm or more and 1.00mm or less, the second brush is 0.10mm
Not less than 0.34 mm, more preferably not less than 0.20 mm and 0.30 mm
It is as follows. If the former is less than 0.57 mm, water retention sufficient to prevent the shadow portion from being crushed when the dampening solution is reduced during printing cannot be obtained. The role of the latter, a thin brush having a bristle diameter of 0.34 mm or less, is to smooth the sharp convex portion of the grain formed by a thick brush having a bristle diameter of 0.57 mm or more, and to prevent the occurrence of background dirt. If the bristle diameter is larger than 0.34 mm, a sufficient stain preventing effect cannot be obtained.

【0009】なお、本発明において用いられる第1ブラ
シの数は1本以上何本でもよいが、好ましくは1本以上
10本以下であり、さらに好ましくは1本以上6本以下
である。第2ブラシの数は1本以上何本でもよいが好ま
しくは1本以上3本以下でありさらに好ましくは1本又
は2本である。なお該支持体の各処理工程を連続で行う
一貫製造システムにおいては、できるだけ各処理工程を
短時間で行うことが必要とされるが、ブラシグレインに
要する時間を短かくするほど上記ブラシ、特に第1ブラ
シの本数を多くすることが望ましい。次にブラシロール
の回転は好ましくは200rpm から2000rpm で任意
に選ばれる。支持ロールはゴムあるいは金属面を有し真
直度のよく保たれたものが用いられる。ブラシロールの
回転方向は図1に示すようにアルミニウム板の搬送方向
に順転に行うのが好ましいがブラシロールが多数本の場
合は一部のブラシロールを逆転としてもよい。
The number of the first brushes used in the present invention may be one or more, but is preferably one or more and ten or less, and more preferably one or more and six or less. The number of the second brushes may be one or more, but is preferably one or more and three or less, and more preferably one or two. In an integrated manufacturing system in which each processing step of the support is performed continuously, it is necessary to perform each processing step in a short time as much as possible. It is desirable to increase the number of brushes. The rotation of the brush roll is then arbitrarily selected, preferably between 200 rpm and 2000 rpm. A support roll having a rubber or metal surface and having a good straightness is used. As shown in FIG. 1, it is preferable that the rotation direction of the brush roll is performed in the forward direction in the transport direction of the aluminum plate. However, when the number of brush rolls is large, some of the brush rolls may be reversed.

【0010】本発明の特徴は、上記太いブラシで粗面化
した後、細いブラシで処理することにより、親水性、保
水性及び密着性のすべてをかねそなえた支持体が得られ
ることである。よって、本発明の効果は、湿し水が少な
い場合のシャドー部のつぶれがないため水幅が広く、地
汚れが発生しにくく、さらに感光層との密着劣化がない
ことである。しかも本発明においては、そのメカニズム
は明確ではないが印刷時のドットゲインの減少効果も見
られた。本発明に用いられる研磨スラリー液は、珪砂、
アルミナ粉、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の平均
粒径15〜35μの研磨剤を、好ましくは10重量%か
ら70重量%の範囲で水に分散させたものが好ましい。
なお、本発明の方法により得られる支持体の中心線平均
粗さ(Ra)は0.5〜1.0μ(触針10μR)となる様に
処理されることが好ましい。
A feature of the present invention is that a support having both hydrophilicity, water retention and adhesion can be obtained by roughening with the above-mentioned thick brush and treating with a fine brush. Therefore, the effect of the present invention is that the shadow portion is not crushed when the amount of dampening water is small, so that the water width is wide, the background is hardly stained, and the adhesion to the photosensitive layer is not deteriorated. Moreover, in the present invention, although the mechanism is not clear, the effect of reducing the dot gain at the time of printing was also observed. The polishing slurry liquid used in the present invention is silica sand,
It is preferable that an abrasive having an average particle size of 15 to 35 μ such as alumina powder, volcanic ash, carborundum, and sand is dispersed in water in a range of preferably 10 to 70% by weight.
The support obtained by the method of the present invention is preferably treated so that the center line average roughness (Ra) becomes 0.5 to 1.0 µ (10 µR of stylus).

【0011】このようにアルミニウム板をブラシグレイ
ニングした後、次いで、アルミニウム板の表面を化学的
にエッチングしておくことが好ましい。この化学的エッ
チング処理は、ブラシグレイニング処理されたアルミニ
ウム板の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑など
を取り除く作用を有し、その後に施される電気化学的な
粗面化をより均一に、しかも効果的に達成させることが
できる。かかる化学的エッチング方法の詳細は、米国特
許第3,834,998 号明細書に記されている。より具体的に
説明すると、アルミニウムを溶解し得る溶液、より具体
的には酸または塩基の水溶液へ浸漬する方法である。上
記の酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝
酸、塩酸などが含まれ、上記の塩基としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、第三燐酸ナトリウム、第三
燐酸カリウム、アルミン酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウムなどが含まれる。これらの内でも
特に後者の塩基の水溶液を使用する方がエッチング速度
が早いので好ましい。化学的エッチングは、これ等の酸
またはアルカリの0.05〜40重量%水溶液を用い40
℃〜100℃の液温において5〜300秒処理するのが
一般的である。上記化学的エッチングを、塩基の水溶液
を用いて行なった場合には、一般にアルミニウムの表面
にスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝
酸、硫酸、クロム酸またはこれらの内の2以上の酸を含
む混酸で処理する、所謂デスマット処理を施すことが好
ましい。
After brush-graining the aluminum plate as described above, it is preferable that the surface of the aluminum plate is chemically etched. This chemical etching treatment has a function of removing abrasives, aluminum debris, and the like that have cut into the surface of the aluminum plate that has been subjected to the brush graining treatment, and makes the subsequent electrochemical roughening more uniform. Moreover, it can be achieved effectively. Details of such a chemical etching method are described in U.S. Pat. No. 3,834,998. More specifically, it is a method of immersing in a solution capable of dissolving aluminum, more specifically, in an aqueous solution of an acid or a base. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium tertiary phosphate, potassium tertiary phosphate, and aluminate. Sodium silicate, sodium metasilicate, sodium carbonate and the like. Among these, it is particularly preferable to use the latter aqueous solution of a base since the etching rate is high. Chemical etching is performed using a 0.05 to 40% by weight aqueous solution of these acids or alkalis.
Generally, the treatment is performed at a liquid temperature of 100C to 100C for 5 to 300 seconds. When the chemical etching is performed using an aqueous solution of a base, a smut is generally formed on the surface of aluminum. In this case, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or two or more of these acids are used. It is preferable to perform a so-called desmut treatment, which is a treatment with a mixed acid containing an acid.

【0012】引き続き所望により、アルミニウム表面を
電気化学的に粗面化処理する。電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報
に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用
することが出来る。塩酸、または硝酸の濃度は0.01〜
3重量%の範囲で使用することが好ましく、0.05〜2.
5重量%であれば更に好ましい。また、この電解液には
必要に応じて硝酸塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン
類、アルデヒド類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ
酸アルミニウム塩等の腐食抑制剤(または安定化剤)、
砂目の均一化剤などを加えることが出来る。また電解液
中には、適当量(1〜10g/l)のアルミニウムイオ
ンを含んでいてもよい。電解液の温度は通常10〜60
℃で処理される。この際に使用される交流電流は、正負
の極性が交互に交換されたものであれば、矩形波、台形
波、正弦波いずれのものも用いることができ、通常の商
用交流の単相及び三相交流電流を用いることができる。
また電流密度は、5〜100A/dm2 で、10〜300
秒間処理することが望ましい。このように粗面化された
アルミニウム板は、必要に応じて10〜50%の熱硫酸
(40〜60℃)や希薄なアルカリ(水酸化ナトリウム
等)により表面に付着したスマットが除去されるのが好
ましい。アルカリで除去した場合は、引き続いて洗浄の
ため酸(硝酸または硫酸)に浸漬して中和する。
Subsequently, if desired, the aluminum surface is electrochemically roughened. As an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used. Hydrochloric acid or nitric acid concentration is 0.01 ~
It is preferably used in the range of 3% by weight, and is preferably 0.05 to 2.
More preferably, it is 5% by weight. In addition, if necessary, a corrosion inhibitor (or stabilizer) such as nitrate, chloride, monoamines, diamines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, and aluminum oxalate may be added to the electrolyte.
A graining agent and the like can be added. The electrolyte may contain an appropriate amount (1 to 10 g / l) of aluminum ions. The temperature of the electrolyte is usually 10 to 60
Processed at ° C. As the alternating current used at this time, any of a rectangular wave, a trapezoidal wave, and a sine wave can be used as long as the positive and negative polarities are alternately exchanged. Phase alternating current can be used.
The current density is 5 to 100 A / dm 2 and 10 to 300 A / dm 2 .
It is desirable to process for seconds. The smut adhered to the surface of the aluminum plate thus roughened can be removed with 10 to 50% hot sulfuric acid (40 to 60 ° C.) or dilute alkali (such as sodium hydroxide) as necessary. Is preferred. When removed with an alkali, it is subsequently neutralized by immersion in an acid (nitric acid or sulfuric acid) for cleaning.

【0013】さらに所望により表面の保水性や耐摩耗性
を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム
板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸
化皮膜を形成するものならばいかなるものでも使用する
ことができ、一般には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あ
るいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃
度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の
処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特
定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量
%溶液、液温は5〜70℃、電流密度1〜60A/d
m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲
にあれば適当である。硫酸法は通常直流電流で処理が行
われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度
は5〜30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5
〜250秒間電解処理される。この電解液には、アルミ
ニウムイオンが含まれている方が好ましい。さらにこの
ときの電流密度は1〜20A/dm2 が好ましい。リン酸
法の場合には、5〜50%の濃度、30〜60℃の温度
で、10〜300秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で
処理される。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適
であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲であ
る。陽極酸化皮膜が1.0g/m2より少ないと耐刷性が不
十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易く
なって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる
「傷汚れ」が生じ易くなる。
Further, if desired, anodizing treatment is performed to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 1 to 60 A / d.
It is appropriate that m 2 , voltage is 1 to 100 V, and electrolysis time is 10 seconds to 5 minutes. In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current, but an alternating current can also be used. The concentration of sulfuric acid is used at 5-30%, and 5% at a temperature range of 20-60 ° C.
Electrolyzed for ~ 250 seconds. This electrolyte preferably contains aluminum ions. Further, the current density at this time is preferably 1 to 20 A / dm 2 . In the case of the phosphoric acid method, the treatment is performed at a concentration of 5 to 50%, a temperature of 30 to 60 ° C., and a current density of 1 to 15 A / dm 2 for 10 to 300 seconds. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. If the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and the ink adheres to the scratched area during printing. "Scratch dirt" easily occurs.

【0014】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第2,714,066 号、
第3,181,461 号、第3,280,734 号および第3,902,734 号
に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例え
ばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法に於い
ては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理さ
れるかまたは電解処理される。他に、特公昭36−22
063号公報に開示されている弗化ジルコン酸カリウム
および米国特許第3,276,868 号、第4,153,461 号および
第4,689,272 号に開示されているようなポリビニルホス
ホン酸で処理する方法などが用いられる。また、砂目立
て処理及び陽極酸化後、封孔処理を施したものも好まし
い。かかる封孔処理は熱水及び無機塩または有機塩を含
む熱水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴などによって行わ
れる。
After the anodic oxidation treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as required. U.S. Pat.No. 2,714,066 as the hydrophilization treatment used in the present invention,
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated in an aqueous solution of sodium silicate. In addition, Japanese Patent Publication No. 36-22
For example, a method of treating with potassium fluoride zirconate disclosed in JP-A-663 and polyvinylphosphonic acid as disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 is used. Further, after graining treatment and anodic oxidation, sealing treatment is also preferable. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like.

【0015】アルミニウム板は、感光層を塗設する前に
必要に応じて有機下塗層が設けられる。この有機下塗層
に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−ア
ミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン
酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフ
チルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホ
ン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン
酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニ
ルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリ
セロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフ
ェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキル
ホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホ
スフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸
類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロ
キシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、
二種以上混合して用いてもよい。
The aluminum plate is provided with an organic undercoat layer if necessary before coating the photosensitive layer. Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, and organic acids such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent. Phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine and the like The hydroxy Although selected from such as hydrochloric acid salt of an amine having a group,
You may mix and use 2 or more types.

【0016】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の
溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター
塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいず
れの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液
の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重
量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25
〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましく
は2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、
pH1〜12の範囲で使用することもできる。また、感光
性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加
することもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2
〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと十分
な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大き
くても同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. An aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and thereafter, washed with water or the like and dried to form an organic undercoat layer. Is the way. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25%.
To 50 ° C., and the immersion time is 0.1 seconds to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this is adjusted with basic substances such as ammonia, triethylamine and potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid.
It can be used in a pH range of 1 to 12. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. The coating amount of the organic undercoat layer after drying is 2
-200 mg / m 2 is suitable, preferably 5-100 mg
/ M 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0017】本発明により得られた支持体を用いた感光
性平版印刷版(PS版)の支持体の裏面には重ねた場合
の感光層の傷付きを防ぐための有機高分子化合物からな
る被覆層(以後この被覆層をバックコート層と称す。)
が必要に応じて設けられる。このバックコート層の主成
分としては、ガラス転移点20℃以上の、飽和共重合ポ
リエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂および塩化ビニリデン共重合樹脂の群から選ばれ
る少なくとも一種の樹脂が用いられる。飽和共重合ポリ
エステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニ
ットからなる。本発明に用いられるポリエステルのジカ
ルボン酸ユニットとしてはフタル酸、テレフタル酸、イ
ソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタ
ル酸などの芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライ
ン酸、コハク酸、蓚酸、スベリン酸、セバチン酸、マロ
ン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などの飽和
脂肪族ジカルボン酸などが挙げられる。
On the back side of the support of a photosensitive lithographic printing plate (PS plate) using the support obtained according to the present invention, a coating comprising an organic polymer compound for preventing the photosensitive layer from being damaged when it is overlaid. Layer (hereinafter, this coating layer is referred to as a back coat layer)
Is provided as needed. As a main component of the back coat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin, and a vinylidene chloride copolymerized resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used. The saturated copolymerized polyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit. Examples of the dicarboxylic acid unit of the polyester used in the present invention include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, and tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid, and suberic acid And saturated aliphatic dicarboxylic acids such as sebacic acid, malonic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

【0018】バックコート層には更に、着色のための染
料や顔料、アルミニウム支持体との密着性向上のための
シランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ
樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸およびカチオン性ポ
リマー等、更には滑り剤として通常用いられるワック
ス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサ
ンよりなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサ
ン、ポリエチレン粉末等が適宜加えられる。バックコー
ト層の厚さは基本的には合紙がなくとも感光層を傷付け
にくい厚みがあれば良く、0.01〜8μmの範囲が好ま
しい。厚さ0.01μm以下ではPS版を重ねて取り扱っ
た場合の感光層の擦れ傷を防ぐことができない。厚さが
8μmを越えると印刷中、印刷版周辺で用いられる薬品
によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、印圧
が変化して印刷特性を劣化させることがある。バックコ
ート層をアルミニウム支持体の裏面に被覆するには種々
の方法が適用できる。例えば適当な溶媒に溶液にして、
または乳化分散液にして塗布、乾燥する方法、例えば予
めフィルム状に成形したものを接着剤や熱でアルミニウ
ム支持体に貼り合わせる方法および溶融押し出し機で溶
融皮膜を形成し、支持体に貼り合わせる方法等が挙げら
れるが、上記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは
溶液にして塗布、乾燥する方法である。ここで使用され
る溶媒としては、特開昭62−251739号公報に記
載されているような有機溶剤が単独あるいは混合して用
いられる。
The back coat layer further includes a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving adhesion to an aluminum support, a diazo resin composed of a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid and a cation. A suitable polymer such as a wax, a higher fatty acid, a higher fatty acid amide, a silicone compound composed of dimethylsiloxane, a modified dimethylsiloxane, a polyethylene powder and the like, which are usually used as a slipping agent, are added as appropriate. The thickness of the back coat layer is basically sufficient as long as it does not damage the photosensitive layer even without interleaf paper, and is preferably in the range of 0.01 to 8 μm. If the thickness is less than 0.01 μm, scratches on the photosensitive layer cannot be prevented when the PS plates are handled in a stack. If the thickness exceeds 8 μm, during printing, the back coat layer swells due to chemicals used around the printing plate, causing the thickness to fluctuate, changing the printing pressure and deteriorating printing characteristics. Various methods can be applied to coat the back coat layer on the back surface of the aluminum support. For example, a solution in a suitable solvent,
Or a method of applying and drying an emulsified dispersion liquid, for example, a method of bonding a pre-formed film to an aluminum support with an adhesive or heat and a method of forming a molten film with a melt extruder and bonding the support to the support. Among them, the most preferable method for securing the above-mentioned coating amount is a method of coating and drying the solution. As the solvent used here, an organic solvent described in JP-A-62-251739 may be used alone or as a mixture.

【0019】このようにして得られた親水性表面を有す
るアルミニウム板上に、公知の感光性組成物よりなる感
光層を設けて、感光性平版印刷版を得る。感光性組成物
としては、o−キノンジアジド化合物を主成分とするポ
ジ型のもの、ジアゾニウム塩、アルカリ可溶性ジアゾニ
ウム塩、不飽和二重結合含有モノマーを主成分とする光
重合性化合物および桂皮酸やジメチルマレイミド基を含
む光架橋性化合物などを感光物とするネガ型のものが用
いられる。また特公昭37−17172号、同38−6
961号、特開昭56−107246号、同60−25
4142号、特公昭59−36259号、同59−25
217号、特開昭56−146145号、同62−19
4257号、同57−147656号、同58−100
862号、同57−161863号等に記載の電子写真
感光層も使用することができる。上記感光物のうち不飽
和二重結合含有モノマーを主成分とする光重合性化合物
としては例えば米国特許第2,760,863 号、同第3,060,02
3 号明細書および特開昭59−53836号公報に記載
の2個またはそれ以上の末端エチレン基を有する付加重
合性不飽和化合物と光重合開始剤よりなる組成物が使用
できる。またジメチルマレイミド基を含む光架橋性化合
物を含むネガ型感光物としては例えば特開昭52−98
8号、欧州特許0410654号、特開平3−2888
53号および特開平4−25845号各公報に記載の感
光物をあげることができる。
A photosensitive lithographic printing plate is obtained by providing a photosensitive layer of a known photosensitive composition on the thus obtained aluminum plate having a hydrophilic surface. As the photosensitive composition, o-quinonediazide compound as a main component, a positive type, diazonium salt, alkali-soluble diazonium salt, a photopolymerizable compound containing an unsaturated double bond-containing monomer as a main component, and cinnamic acid and dimethyl Negative type photosensitizers such as photocrosslinkable compounds containing a maleimide group are used. Japanese Patent Publication No. 37-17172, 38-6
No. 961, JP-A-56-107246, and JP-A-60-25
No. 4142, JP-B-59-36259, and 59-25
No. 217, JP-A-56-146145, JP-A-62-19
No. 4257, No. 57-147656, No. 58-100
Also, the electrophotographic photosensitive layer described in JP-A Nos. 862 and 57-161863 and the like can be used. Examples of the photopolymerizable compound having the unsaturated double bond-containing monomer as a main component in the above photosensitive material include, for example, U.S. Pat. Nos. 2,760,863 and 3,060,02
A composition comprising an addition-polymerizable unsaturated compound having two or more terminal ethylene groups and a photopolymerization initiator described in JP-A-59-53836 and JP-A-59-53836 can be used. Examples of negative photosensitive materials containing a photocrosslinkable compound containing a dimethylmaleimide group include, for example, JP-A-52-9852
8, EP 0410654, JP-A-3-2888
No. 53 and JP-A-4-25845.

【0020】このうちポジ型の感光性組成物として用い
られるo−ナフトキノンジアジド化合物としては、特公
昭43−28403号公報に記載されている1,2−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸とピロガロール・アセトン
樹脂とのエステルが好ましい。その他の好適なオルトキ
ノンジアジド化合物としては例えば、米国特許第3,046,
120 号および同第3,188,210 号明細書に記載されている
1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸とフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあり、特開
平2−96163号公報、特開平2−96165号公報
および特開平2−96761号公報に記載されている
1,2−ジアゾナフトキノン−1−スルホン酸とフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その
他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合物としては、
数多くの特許等で公知のものが挙げられる。例えば、特
開昭47−5303号、同48−63802号、同48
−63803号、同48−96575号、同49−38
701号、同48−13854号、特公昭37−180
15号、同41−11222号、同45−9610号、
同49−17481号公報、米国特許第2,797,213 号、
同第3,453,400 号、同第3,544,323 号、同第3,573,917
号、同第3,674,495 号、同第3,785,825 号、英国特許第
1,227,602 号、同第1,251,345 号、同第1,267,005 号、
同1,329,888 号、同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,
890 号などの各明細書中に記載されているものを挙げる
ことができる。
Among these, the o-naphthoquinonediazide compound used as the positive photosensitive composition includes a 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid and a pyrogallol-acetone resin described in JP-B-43-28403. Esters are preferred. Other suitable orthoquinonediazide compounds include, for example, U.S. Pat.
JP-A-2-96163 and JP-A-2-96165 include esters of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid and a phenol-formaldehyde resin described in JP-A Nos. 120 and 3,188,210. There is an ester of 1,2-diazonaphthoquinone-1-sulfonic acid and a phenol-formaldehyde resin described in the official gazette and JP-A-2-96661. Other useful o-naphthoquinonediazide compounds include
Examples include those known in numerous patents and the like. For example, JP-A Nos. 47-5303, 48-63802, 48
-63803, 48-96575, 49-38
Nos. 701, 48-13854, and JP-B-37-180
No. 15, No. 41-11222, No. 45-9610,
No. 49-17481, U.S. Pat.No. 2,797,213,
No. 3,453,400, No. 3,544,323, No. 3,573,917
No. 3,674,495, No. 3,785,825, UK Patent No.
Nos. 1,227,602, 1,251,345, 1,267,005,
1,329,888, 1,330,932, German Patent 854,
Examples thereof include those described in each specification such as No. 890.

【0021】特に好ましい、o−ナフトキノンジアジド
化合物は、分子量1,000以下のポリヒドロキシ化合
物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸との反応に
より得られる化合物である。このような化合物の具体例
は、特開昭51−139402号、同58−15094
8号、同58−203434号、同59−165053
号、同60−121445号、同60−134235
号、同60−163043号、同61−118744
号、同62−10645号、同62−10646号、同
62−153950号、同62−178562号、同6
4−76047号、米国特許第3,102,809 号、同第3,12
6,281 号、同第3,130,047 号、同第3,148,983 号、同第
3,184,310 号、同第3,188,210 号、同第4,639,406 号な
どの各公報または明細書に記載されているものを挙げる
ことができる。これらのo−ナフトキノンジアシド化合
物を合成する際に、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシ
ル基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸ク
ロリドを0.2〜1.2当量反応させることが好ましく、0.
3〜1.0当量反応させることが更に好ましい。1,2−
シアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、1,
2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドまた
は、1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロ
リドを用いることができる。また、得られるo−ナフト
キノンジアジド化合物は、1,2−ジアゾナフトキノン
スルホン酸エステル基の位置および導入量の種々異なる
ものの混合物となるが、ヒドロキシル基の全てが1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル化された化合
物が、この混合物中に占める割合(完全にエステル化さ
れた化合物の含有率)は5モル%以上であることが好ま
しく、更に好ましくは20〜99モル%である。感光性
組成物中に占めるこれらのポジ型に作用する感光性化合
物(上記のような組合せを含む)の量は10〜50重量
%で適当であり、より好ましくは15〜40重量%であ
る。
A particularly preferred o-naphthoquinonediazide compound is a compound obtained by reacting a polyhydroxy compound having a molecular weight of 1,000 or less with 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid. Specific examples of such compounds are described in JP-A-51-139402 and JP-A-58-15094.
No. 8, No. 58-203434, No. 59-165053
No., No. 60-112445, No. 60-134235
No., No. 60-163443, No. 61-118744
Nos. 62-10645, 62-10646, 62-153950, 62-178562, and 6
4-76047, U.S. Patent Nos. 3,102,809 and 3,12
No. 6,281, No. 3,130,047, No. 3,148,983, No.
Nos. 3,184,310, 3,188,210, and 4,639,406, and other publications or specifications. When synthesizing these o-naphthoquinone diacid compounds, it is preferable to react 0.2 to 1.2 equivalents of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride with respect to the hydroxyl group of the polyhydroxy compound,
More preferably, the reaction is carried out at 3 to 1.0 equivalent. 1,2-
Cyazonaphthoquinone sulfonic acid chloride includes 1,
2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride can be used. The obtained o-naphthoquinonediazide compound is a mixture of various compounds having different positions and introduced amounts of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester groups.
The proportion of the diazonaphthoquinone sulfonic acid esterified compound in the mixture (content of the completely esterified compound) is preferably 5 mol% or more, more preferably 20 to 99 mol%. is there. The amount of these positive-acting photosensitive compounds (including the combinations described above) in the photosensitive composition is suitably from 10 to 50% by weight, more preferably from 15 to 40% by weight.

【0022】o−キノンジアジド化合物は単独でも感光
層を構成することができるが、アルカリ水に可溶な樹脂
を結合剤(バインダー)として併用することが好まし
い。この様なアルカリ水に可溶な樹脂としては、ノボラ
ック型の樹脂があり、例えばフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、o−、m−およびp−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(o−、m−、p−、m/
p−およびo/m−混合のいずれでもよい)混合ホルム
アルデヒド樹脂などが挙げられる。また、フェノール変
性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲ
ン化ヒドロキシスチレン、特開昭51−34711号公
報に開示されているようなフェノール性水酸基を含有す
るアクリル系樹脂も用いることができる。その他の好適
なバインダーとして以下(1)〜(13)に示すモノマ
ーをその構成単位とする通常1万〜20万の分子量を持
つ共重合体を挙げることができる。 (1)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−
およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−およびp−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、(3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マ
レイン酸、メタコン酸などの不飽和カルボン酸、
Although the o-quinonediazide compound alone can form the photosensitive layer, it is preferable to use a resin soluble in alkaline water as a binder. Such resins soluble in alkaline water include novolak resins, such as phenol formaldehyde resins, o-, m- and p-cresol formaldehyde resins, m / p-mixed cresol formaldehyde resins, phenol / cresol ( o-, m-, p-, m /
Any of p- and o / m-mixtures) may be used. Further, a phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, and an acrylic resin containing a phenolic hydroxyl group as disclosed in JP-A-51-34711 can also be used. Other suitable binders include copolymers having the following (1) to (13) monomers as structural units and usually having a molecular weight of 10,000 to 200,000. (1) Acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, for example, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4
-Hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-
And p-hydroxystyrene, o-, m- and p-
Hydroxyphenyl acrylate or methacrylate, (2) acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxyl group, for example, 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride , Unsaturated carboxylic acids such as metaconic acid,

【0023】(4)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アク
リル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの(置
換)アクリル酸エステル、(5)メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸−2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒド
ロキシブチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなどの(置換)メタクリ
ル酸エステル、(6)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、
(4) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, acrylic acid-2 (Substituted) acrylates such as -chloroethyl, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, (5) methyl methacrylate,
Ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, (Substituted) methacrylates such as glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate; (6) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N- Hexylacrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide, N
-Hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N
Acrylamides such as -phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide Or methacrylamide,

【0024】(7)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、(8)ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、(9)スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、(1
0)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピ
ルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケ
トン類、(11)エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレンなどのオレフィン類、(1
2)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリルなど、(13)N−(o−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノス
ルホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミ
ノスルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホ
ニル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリル
アミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリ
レート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
p−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3
−アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートな
どのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミ
ノスルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。
(7) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether; (8) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; (9) styrenes such as styrene, methyl styrene and chloromethyl styrene; 1
0) vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone; (11) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene;
2) N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazole,
(13) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.) Acrylamides such as [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacryl Methacrylamides such as amide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and o Aminosulfonylphenyl acrylate, m- aminosulfonylphenyl acrylate,
p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3
-Aminosulfonylphenylnaphthyl) unsaturated sulfonamides such as acrylates such as acrylate, o-aminosulfonylphenylmethacrylate, m
Unsaturated sulfonamides such as methacrylic esters such as -aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate and 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate;

【0025】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は0
〜10 meq/g、より好ましくは0.2〜5.0meq/gで
ある。上記共重合体の好ましい分子量は1万〜10万で
ある。また、上記共重合体には必要に応じて、ポリビニ
ルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂
およびエポキシ樹脂を添加してもよい。このようなアル
カリ可溶性の高分子化合物は1種類あるいは2種類以上
組み合わせることができ、全感光性組成物の80重量%
以下の添加量で用いられる。更に、米国特許第4,123,27
9 号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
合物を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好
ましい。本発明における感光性組成物中には、感度を高
めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を
添加することが好ましい。
Further, a monomer copolymerizable with the above monomer may be copolymerized. In addition, a copolymer obtained by copolymerization of the above-mentioned monomers, for example, modified with glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate or the like is also included, but is not limited thereto. The copolymer preferably contains the unsaturated carboxylic acid listed in (3), and the copolymer preferably has an acid value of 0.
10 to 10 meq / g, more preferably 0.2 to 5.0 meq / g. The preferred molecular weight of the copolymer is 10,000 to 100,000. If necessary, a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, and an epoxy resin may be added to the copolymer. Such alkali-soluble polymer compounds can be used alone or in combination of two or more, and 80% by weight of the total photosensitive composition.
The following addition amount is used. Further, U.S. Pat.
As described in the specification of JP-A No. 9, the combined use of a condensate of a phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent and a formaldehyde, such as a t-butylphenol formaldehyde resin and an octylphenol formaldehyde resin, is difficult to obtain. It is preferable in order to improve the oil sensitivity. It is preferable to add a cyclic acid anhydride, a phenol, or an organic acid to the photosensitive composition of the present invention in order to increase sensitivity.

【0026】環状酸無水物としては米国特許第4,115,12
8 号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−
エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール
類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノー
ル、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,
4′,4″−トリヒドロキシ−トリフェニルメタン、
4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,
3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙
げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88
942号、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸
類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、
ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン
酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフ
ィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,
4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、
1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、フェノール
類および有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.
05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5
重量%である。
As the cyclic acid anhydride, US Pat. No. 4,115,12
No. 8, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-
Endoxy-Δ 4 -tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone,
4 ', 4 "-trihydroxy-triphenylmethane,
4,4 ', 3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5
3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like. Further, as the organic acids, JP-A-60-88
942, JP-A-2-96755, and the like, and include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, and carboxylic acids. acid,
Dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,
4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid,
Examples thereof include 1,4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The proportion of the cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the photosensitive composition is 0.
It is preferably from 0.5 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight.
% By weight.

【0027】また、本発明における感光性組成物中に
は、現像条件に対する処理の安定性(いわゆる現像ラチ
チュード)を広げるため、特開昭62−251740号
公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開
昭59−121044号公報、特開平4−13149号
公報に記載されているような両性界面活性剤を添加する
ことができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテ
ート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリ
セリド、ポリオキシエチレンゾルビタンモノオレート、
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げ
られる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
アモーゲンK、第一工業(株)製)およびアルキルイミ
ダゾリン系(例えば、商品名レボン15、三洋化成
(株)製)などが挙げられる。上記非イオン界面活性剤
および両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.
1〜5重量%である。
The photosensitive composition of the present invention contains a nonionic interface as described in JP-A-62-251740 in order to increase the stability of processing under development conditions (so-called development latitude). An activator and an amphoteric surfactant such as those described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of nonionic surfactants include
Sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate,
And polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and alkylimidazoline type (for example, trade name Levon 15, manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.). The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight.
1 to 5% by weight.

【0028】本発明における感光性組成物中には、露光
後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤
としての染料や顔料を加えることができる。焼き出し剤
としては、露光によって酸を放出する化合物(光酸放出
剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙
げることができる。具体的には、特開昭50−3620
9号、同53−8128号の各公報に記載されているo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと
塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223
号、同54−74728号、同60−3626号、同6
1−143748号、同61−151644号および同
63−58440号の各公報に記載されているトリハロ
メチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げること
ができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキ
サゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どち
らも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
In the photosensitive composition of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, JP-A-50-3620
Nos. 9 and 53-8128.
A combination of a naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye;
Nos. 54-74728, 60-3626, 6
Combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 1-143748, 61-151644 and 63-58440 can be exemplified. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0029】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、
オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエ
ント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイ
オレット(CI42535)、エチルバイオレット、ロ
ーダミンB(CI145170B)、マラカイトグリー
ン(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS,
Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No.
The dyes described in JP 93247 A are particularly preferred.

【0030】感光性組成物は、上記各成分を溶解する溶
媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に塗布される。
ここで使用される溶媒としては、特開昭62−2517
39号公報に記載されているような有機溶剤が単独ある
いは混合して用いられる。感光性組成物は、2〜50重
量%の固形分濃度で溶解、分散され、支持体上に塗布・
乾燥される。支持体上に塗設される感光性組成物の層
(感光層)の塗布量は用途により異なるが、一般的に
は、乾燥後の重量にして0.3〜4.0g/m2が好ましい。
塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は
小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくな
るにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、例
えば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い
(高耐刷の)印刷版が得られる。感光性組成物中には、
塗布面質を向上するための界面活性剤、例えば、特開昭
62−170950号公報に記載されているようなフッ
素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加
量は、全感光性組成物の0.001〜1.0重量%であり、
更に好ましくは0.005〜0.5重量%である。
The photosensitive composition is dissolved in a solvent capable of dissolving the above-mentioned components and applied on an aluminum plate as a support.
The solvent used herein is described in JP-A-62-2517.
An organic solvent as described in JP-A-39 is used alone or as a mixture. The photosensitive composition is dissolved and dispersed at a solid content concentration of 2 to 50% by weight, and coated on a support.
Dried. The amount of the photosensitive composition layer (photosensitive layer) applied on the support varies depending on the application, but is generally preferably from 0.3 to 4.0 g / m 2 in terms of the weight after drying. .
As the amount of coating decreases, the amount of exposure for obtaining an image may be small, but the film strength is reduced. As the coating amount increases, the exposure amount is required, but the photosensitive film becomes strong. For example, when used as a printing plate, a printing plate having a high printable number (high printing durability) can be obtained. In the photosensitive composition,
A surfactant for improving the coating surface quality, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added. A preferable addition amount is 0.001 to 1.0% by weight of the whole photosensitive composition,
More preferably, it is 0.005 to 0.5% by weight.

【0031】次にネガ型のPS版の感光性組成物として
は、感光性ジアゾ化合物を含む感光層、光重合性感光
層、光架橋性感光層などを有するものが挙げられるが、
このうち感光性ジアゾ化合物からなる光硬化性感光性複
写材料について例を挙げて詳しく説明する。感光性ジア
ゾ化合物としては、芳香族ジアゾニウム塩と反応性カル
ボニル基含有有機縮合剤、特にホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒドなどのアルデヒド類またはアセタール類と
を酸性媒体中で縮合したジアゾ樹脂が好適に用いられ
る。その最も代表的なものにP−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドとの縮合物がある。これらのジア
ゾ樹脂の合成法は、例えば、米国特許第2,678,498 号、
同第3,050,502 号、同第3,311,605 号および同第3,277,
074 号の明細書に記載されている。更に、感光性ジアゾ
化合物としては、特公昭49−48,001号公報記載の
芳香族ジアゾニウム塩とジアゾニウム基を含まない置換
芳香族化合物との共縮合ジアゾ化合物が好適に用いら
れ、中でもカルボキシル基や水酸基のようなアルカリ可
溶基で置換された芳香族化合物との共縮合ジアゾ化合物
が好ましい。更には、特開平4−18559号公報、特
開平4−190361号および特開平4−172353
号公報記載のアルカリ可溶性基を持つ反応性カルボニル
化合物で芳香族ジアゾニウム塩を縮合した感光性ジアゾ
化合物も好適に用いられる。これらのジアゾニウム塩の
対アニオンとして塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸
などの鉱酸または塩化亜鉛との複塩などの無機アニオン
を用いたジアゾ樹脂があるが、実質的に水不溶性で有機
溶剤可溶性のジアゾ樹脂の方が特に好ましい。かかる好
ましいジアゾ樹脂は特公昭47−1167号、米国特許
第3,300,309号公報に詳しく記載されている。
Next, examples of the photosensitive composition of the negative PS plate include those having a photosensitive layer containing a photosensitive diazo compound, a photopolymerizable photosensitive layer, and a photocrosslinkable photosensitive layer.
Of these, the photocurable photosensitive copying material comprising a photosensitive diazo compound will be described in detail with reference to examples. As the photosensitive diazo compound, a diazo resin obtained by condensing an aromatic diazonium salt with an organic condensing agent having a reactive carbonyl group, particularly an aldehyde such as formaldehyde or acetaldehyde or an acetal in an acidic medium is preferably used. The most typical one is a condensate of P-diazodiphenylamine and formaldehyde. The synthesis of these diazo resins is described, for example, in U.S. Pat.No. 2,678,498,
Nos. 3,050,502, 3,311,605 and 3,277,
No. 074. Further, as the photosensitive diazo compound, a co-condensed diazo compound of an aromatic diazonium salt described in JP-B-49-48001 and a substituted aromatic compound not containing a diazonium group is preferably used, and among them, a carboxyl group and A co-condensed diazo compound with an aromatic compound substituted with an alkali-soluble group such as a hydroxyl group is preferred. Further, JP-A-4-18559, JP-A-4-190361 and JP-A-4-172353.
Also, a photosensitive diazo compound obtained by condensing an aromatic diazonium salt with a reactive carbonyl compound having an alkali-soluble group described in JP-A No. 5-2,097 is preferably used. As a counter anion of these diazonium salts, there is a diazo resin using a mineral acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid and phosphoric acid or an inorganic anion such as a double salt with zinc chloride, but it is substantially water-insoluble and organic. Solvent-soluble diazo resins are particularly preferred. Such preferred diazo resins are described in detail in JP-B-47-1167 and U.S. Pat. No. 3,300,309.

【0032】更には特開昭54−98613号、同56
−121031号公報に記載されているようなテトラフ
ルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸などのハロゲン化
ルイス酸および過塩素酸、過ヨウ素酸などの過ハロゲン
酸を対アニオンとしたジアゾ樹脂が好適に用いられる。
また、特開昭58−209733号、同62−1757
31号、同63−262643号公報に記載されている
長鎖のアルキル基を有するスルホン酸を対アニオンとし
たジアゾ樹脂も好適に用いられる。感光性ジアゾ化合物
は感光層中に5〜50重量%、好ましくは8〜20重量
%の範囲で含有させられる。感光性ジアゾ化合物は、ア
ルカリ水に可溶性もしくは膨潤性の親油性高分子化合物
を結合剤(バインダー)として併用することが好まし
い。この様な親油性高分子化合物としては、先に述べた
ポジ型感光性組成物で用いたのと同様の前記(1)〜
(13)に示すモノマーをその構成単位とする通常1万
〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げることができる
が、更に以下(14)、(15)に示したモノマーを構
成単位として共重合した高分子化合物も使用できる。
(14)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルアクリルアミド、N−プロピオニルア
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)アクリル
アミド、N−アセチルアクリルアミド、N−アクリロイ
ルメタクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、
N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロ
ベンゾイル)メタクリルアミドなどの不飽和イミド、
(15)N−〔2−(アクリロイルオキシ)−エチル〕
−2,3−ジメチルマレイミド、N−〔6−(メタクリ
ロイルオキシ)−ヘキシル〕−2,3−ジメチルマレイ
ミド、ビニルシンナメートなどの側鎖に架橋性基を有す
る不飽和モノマー。
Furthermore, JP-A-54-98613 and JP-A-56-98613 describe the same.
A diazo resin having a counter anion of a halogenated Lewis acid such as tetrafluoroboric acid or hexafluorophosphoric acid and a perhalic acid such as perchloric acid or periodic acid as described in JP-A-121031 is preferably used. Can be
JP-A-58-209733 and JP-A-62-1775.
A diazo resin having a long chain alkyl group-containing sulfonic acid as a counter anion described in JP-A Nos. 31 and 63-262643 is also preferably used. The photosensitive diazo compound is contained in the photosensitive layer in an amount of 5 to 50% by weight, preferably 8 to 20% by weight. The photosensitive diazo compound is preferably used in combination with a lipophilic polymer compound soluble or swellable in alkaline water as a binder. Such lipophilic polymer compounds are the same as (1) to (3) described above in connection with the positive photosensitive composition described above.
Copolymers having a molecular weight of usually 10,000 to 200,000 having a monomer represented by (13) as a structural unit can be exemplified, and copolymers having a monomer represented by (14) or (15) below as a structural unit are further exemplified. Polymerized polymer compounds can also be used.
(14) maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylacrylamide, N-propionylacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) acrylamide, N-acetylacrylamide, N-acryloylmethacrylamide, N-acetylmethacrylamide,
Unsaturated imides such as N-propionyl methacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide,
(15) N- [2- (acryloyloxy) -ethyl]
Unsaturated monomers having a crosslinkable group in the side chain such as -2,3-dimethylmaleimide, N- [6- (methacryloyloxy) -hexyl] -2,3-dimethylmaleimide and vinyl cinnamate;

【0033】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は0
〜10 meq/g、より好ましくは0.2〜5.0meq/gで
ある。上記共重合体の好ましい分子量は1万〜10万で
ある。また、上記共重合体には必要に応じて、ポリビニ
ルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂
およびエポキシ樹脂を添加してもよい。また、ノボラッ
ク型の樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、特
開昭51−43711号公報に開示されているようなフ
ェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂も用い
ることができる。このようなアルカリ可溶性の高分子化
合物は1種類あるいは2種類以上組み合わせることがで
き、全感光性組成物の固形分中に通常40〜95重量%
の範囲で含有させられる。
Further, a monomer copolymerizable with the above-mentioned monomer may be copolymerized. In addition, a copolymer obtained by copolymerization of the above-mentioned monomers, for example, modified with glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate or the like is also included, but is not limited thereto. The copolymer preferably contains the unsaturated carboxylic acid listed in (3), and the copolymer preferably has an acid value of 0.
10 to 10 meq / g, more preferably 0.2 to 5.0 meq / g. The preferred molecular weight of the copolymer is 10,000 to 100,000. If necessary, a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, and an epoxy resin may be added to the copolymer. Novolak-type resins, phenol-modified xylene resins, polyhydroxystyrenes, polyhalogenated hydroxystyrenes, and alkali-soluble resins containing phenolic hydroxyl groups as disclosed in JP-A-51-43711 may also be used. it can. Such alkali-soluble polymer compounds can be used alone or in combination of two or more, and usually 40 to 95% by weight in the solid content of the entire photosensitive composition.
In the range of

【0034】感光性組成物中には、画像の感脂性を向上
させるための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号
公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコ
ールによるハーフエステル化物、ノボラック樹脂、p−
ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸エステルなど)が加
えられる。更には、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与する
ための可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、
ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ
ブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロ
フルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマ
ーおよびポリマーが挙げられ、この中で特にリン酸トリ
クレジルが好ましい。また、感光性組成物中には、経時
の安定性を広げるため、例えば、リン酸、亜リン酸、ク
エン酸、蓚酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナ
フタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、4−メトキシ
−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、酒
石酸などが加えられる。
In the photosensitive composition, a sensitizing agent (for example, a half ester of a styrene-maleic anhydride copolymer with an alcohol described in JP-A-55-527) for improving the lipophilicity of an image is used. Compound, novolak resin, p-
A 50% fatty acid ester of hydroxystyrene). Further, a plasticizer for imparting flexibility and abrasion resistance of the coating film is added. For example, butylphthalyl,
Polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate,
Examples include dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers and polymers of acrylic acid or methacrylic acid, and tricresyl phosphate is particularly preferred. Further, in the photosensitive composition, for example, phosphoric acid, phosphorous acid, citric acid, oxalic acid, dipicolinic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, sulfosalicylic acid, 4-methoxy- 2-Hydroxybenzophenone-5-sulfonic acid, tartaric acid and the like are added.

【0035】また、感光性組成物中には、露光後直ちに
可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての
染料や顔料などの色素を加えることができる。該色素と
しては、フリーラジカルまたは酸と反応して色調を変え
るものが好ましく用いられる。例えば、ビクトリアピュ
アブルーBOH(保土谷化学製)、オイルイエロー#1
01、オイルイエロー#103、オイルピンク#31
2、オイルレッド、オイルグリーンBG、オイルブルー
BOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以
上、オリエント化学工業(株)製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット
(CI42555)、メチルバイオレット(CI425
35)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI14
5170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)、メチレンブルー(CI52015)、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンB、ベーシッ
クフクシン、m−クレゾールパープル、オーラミン、4
−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する例として
挙げられる。
In the photosensitive composition, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, and a dye such as a dye or a pigment as an image coloring agent can be added. As the dye, those which change color by reacting with free radicals or acids are preferably used. For example, Victoria Pure Blue BOH (made by Hodogaya Chemical), Oil Yellow # 1
01, oil yellow # 103, oil pink # 31
2. Oil Red, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY,
Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI425)
35), ethyl violet, rhodamine B (CI14
5170B), malachite green (CI4200)
0), methylene blue (CI52015), brilliant blue, methyl green, erythricin B, basic fuchsin, m-cresol purple, auramine, 4
-P-diethylaminophenyliminaphthoquinone, triphenylmethane series represented by cyano-p-diethylaminophenylacetanilide, diphenylmethane series, oxazine series, xanthene series, iminonaphthoquinone series, azomethine series or anthraquinone series dyes are colorless to colorless or An example of changing to a different colored tone is given.

【0036】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素および、例えば、トリフェニルアミ
ン、ジフェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,
3−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミ
ノジフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノ
ジフェニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,
p′,p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリ
フェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級ま
たは第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好
ましくはトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色
素であり、更に好ましくはトリフェニルメタン系色素で
あり、特にビクトリアピュアブルーBOHである。上記
色素は、感光製組成物中に通常約0.5〜10重量%、よ
り好ましくは約1〜5重量%含有される。
On the other hand, examples of the color changing agent that changes from colorless to colored include leuco dyes and, for example, triphenylamine, diphenylamine, o-chloroaniline, 1,2,2,
3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p,
p ', p "-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p', p" -triamino-o-methyltriphenylmethane, p, p'-bis -Dimethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethane, p, p ', p "
Primary or secondary arylamine dyes represented by -triaminotriphenylmethane. Particularly preferred are triphenylmethane-based and diphenylmethane-based dyes, more preferred are triphenylmethane-based dyes, and particularly Victoria Pure Blue BOH. The dye is usually contained in the photosensitive composition in an amount of about 0.5 to 10% by weight, more preferably about 1 to 5% by weight.

【0037】感光性組成物中には、現像性を高めるため
に環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類および高級
アルコールを添加することができる。感光性組成物は、
上記各成分を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニ
ウム板上に塗布される。ここで使用される溶媒として
は、特開昭62−251739号公報に記載されている
ような有機溶剤が単独あるいは混合して用いられる。感
光性組成物は、2〜50重量%の固形分濃度で溶解、分
散され、支持体上に塗布・乾燥される。支持体上に塗設
される感光性組成物の層(感光層)の塗布量は用途によ
り異なるが、一般的には、乾燥後の重量にして0.3〜4.
0g/m2が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像
を得るための露光量は小さくて済むが、膜強度は低下す
る。塗布量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが
感光膜は強くなり、例えば、印刷版として用いた場合、
印刷可能枚数の高い(高耐刷の)印刷版が得られる。感
光性組成物中には、先に示したポジ型感光性組成物と同
様に、塗布面質を向上するための界面活性剤を添加する
ことができる。感光性平版印刷版の製造に当たっては裏
面のバックコート層と表面の感光性組成物層のどちらが
先に支持体上に塗布されても良く、また両者が同時に塗
布されても良い。
In the photosensitive composition, cyclic acid anhydrides, phenols, organic acids and higher alcohols can be added in order to enhance developability. The photosensitive composition is
The above components are dissolved in a solvent that dissolves the components and applied on an aluminum plate as a support. As the solvent used here, an organic solvent described in JP-A-62-251739 may be used alone or as a mixture. The photosensitive composition is dissolved and dispersed at a solid content concentration of 2 to 50% by weight, coated on a support and dried. The coating amount of the layer of the photosensitive composition (photosensitive layer) applied on the support varies depending on the application, but is generally 0.3 to 0.4 in terms of the weight after drying.
0 g / m 2 is preferred. As the amount of coating decreases, the amount of exposure for obtaining an image may be small, but the film strength is reduced. As the coating amount increases, the exposure amount is required, but the photosensitive film becomes stronger, for example, when used as a printing plate,
A printing plate with a high printable number (high printing durability) can be obtained. A surfactant for improving the coated surface quality can be added to the photosensitive composition as in the case of the positive photosensitive composition described above. In the production of a photosensitive lithographic printing plate, either the back coat layer on the back surface or the photosensitive composition layer on the front surface may be coated on the support first, or both may be coated simultaneously.

【0038】上記のようにして設けられた感光層の表面
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層が設け
られる。具体的には、特開昭50−125805号、特
公昭57−6582号、同61−28986号の各公報
に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭
62−62337号公報に記載されているような固体粉
末を熱融着させる方法などが挙げられる。本発明に用い
られるマット層の平均径は100μm以下が好ましく、
これよりも平均径が大きくなるとPS版を重ねて保存す
る場合、感光層とバックコート層との接触面積が増大
し、滑り性が低下、感光層およびバックコート層双方の
表面に擦れ傷を生じ易い。マット層の平均高さは10μ
m以下が好ましく、より好ましくは2〜8μmである。
この範囲より平均高さが高いと細線が付き難く、ハイラ
イトドットも点減りし、調子再現上好ましくない。平均
高さが2μm以下では真空密着性が不十分で焼きボケを
生じる。マット層の塗布量は5〜200mg/m2が好まし
く、更に好ましくは20〜150mg/m2である。塗布量
がこの範囲よりも大きいと感光層とバックコート層との
接触面積が増大し擦れ傷の原因となり、これよりも小さ
いと真空密着性が不十分となる。
On the surface of the photosensitive layer provided as described above, a mat layer is provided in order to shorten the evacuation time in the close contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent printing blur. Specifically, a method of providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582 and JP-B-61-28986 is described in JP-B-62-62337. And a method of thermally fusing such a solid powder. The average diameter of the mat layer used in the present invention is preferably 100 μm or less,
If the average diameter is larger than this, when the PS plates are stored in layers, the contact area between the photosensitive layer and the back coat layer increases, the slipperiness is reduced, and the surfaces of both the photosensitive layer and the back coat layer are scratched. easy. The average height of the mat layer is 10μ
m or less, more preferably 2 to 8 μm.
If the average height is higher than this range, it is difficult to form a fine line, and highlight dots are reduced, which is not preferable in tone reproduction. If the average height is 2 μm or less, the vacuum adhesion is insufficient and burning is caused. The coating amount of the mat layer is preferably from 5 to 200 mg / m 2, more preferably from 20~150mg / m 2. If the coating amount is larger than this range, the contact area between the photosensitive layer and the back coat layer increases, causing abrasion, and if smaller than this, the vacuum adhesion becomes insufficient.

【0039】かくして得られたPS版は透明原画を通し
てカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、タングステンランプなどを光源とする
活性光線により露光された後、現像処理される。かかる
PS版の現像液および補充液としては従来より知られて
いるアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナト
リウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウ
ムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられ
る。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
The PS plate thus obtained is passed through a transparent original image using a carbon arc lamp, a mercury lamp, a metal halide lamp,
After being exposed by an actinic ray using a xenon lamp, a tungsten lamp or the like as a light source, it is developed. As the developer and replenisher for the PS plate, conventionally known aqueous alkali solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium And inorganic alkali agents such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0040】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特にポジ型PS版用現像液として好ましいのはケイ酸
ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液であ
る。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2
アルカリ金属酸化物M2O の比率(一般に〔SiO2〕/〔M2
O 〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可
能とされるためであり、例えば、特開昭54−6200
4号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比
が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)
であって、SiO2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリ
ウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載さ
れているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即
ち〔SiO2〕/〔M2O 〕が1.0〜1.5)であって、SiO2
濃度が1〜4重量%であり、かつその中に存在する全ア
ルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%
のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液が好適に用いられる。
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, a silicate aqueous solution such as sodium silicate or potassium silicate is particularly preferable as a developer for a positive PS plate. The reason is that the ratio of silicon oxide SiO 2 as a component of silicate to alkali metal oxide M 2 O (generally [SiO 2 ] / [M 2
O]] and the concentration can be adjusted. For example, JP-A-54-6200
No. 4, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 4 (Kokai) No. 4, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5).
And an aqueous solution of sodium silicate having a content of SiO 2 of 1 to 4% by weight, or [SiO 2 ] / [M] of 0.5 as described in JP-B-57-7427. 0.75 (i.e., [SiO 2] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5) a total alkali concentration of SiO 2 is from 1 to 4% by weight, and present therein At least 20% based on gram atoms of metal
An aqueous solution of an alkali metal silicate containing potassium is preferably used.

【0041】更に、自動現像機を用いて、該PS版を現
像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液
(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像
タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処
理することができることが知られている。本発明におい
てもこの補充方式が好ましく適用される。例えば、特開
昭54−62004号公報に開示されているような現像
液のSiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/
〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜
4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しかも
ポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連続的または
断続的にSiO2/Na2Oのモル比が0.5〜1.5(即ち〔Si
O2〕/〔Na2O〕が0.5〜1.5)のケイ酸ナトリウム水溶
液(補充液)を現像液に加える方法、更には、特公昭5
7−7427号公報に開示されている、〔SiO2〕/
〔M〕が0.5〜0.75(即ち、〔SiO2〕/〔M2O 〕が1.
0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4重量%である
アルカリ金属ケイ酸塩の現像液を用い、補充液として用
いるアルカリ金属ケイ酸塩の〔SiO2〕/〔M〕が0.25
〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O 〕が0.5〜1.5)であ
り、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその中に
存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少な
くとも20%のカリウムを含有していることからなる現
像方法が好適に用いられる。
Further, when the PS plate is developed using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is added to the developing solution, whereby the developing solution in the developing tank for a long time is added. It is known that a large number of PS plates can be processed without replacing the PS plates. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O in the developer is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] /
[Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and the content of SiO 2 is 1 to
An aqueous solution of 4% by weight of sodium silicate is used, and the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O is continuously or intermittently 0.5 to 1.5 depending on the throughput of the positive photosensitive lithographic printing plate. (Ie [Si
A method of adding an aqueous solution of sodium silicate (replenisher) in which O 2 ] / [Na 2 O] is 0.5 to 1.5) to the developer;
[SiO 2 ] /
[M] is 0.5 to 0.75 (that is, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.
0 to 1.5), wherein an alkali metal silicate developer having a SiO 2 concentration of 1 to 4% by weight is used, and [SiO 2 ] / [M Is 0.25
00.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 0.5-1.5), and both the developer and the replenisher are grams of total alkali metal present therein. A development method comprising at least 20% potassium based on atoms is preferably used.

【0042】このような補充液としてアルカリ金属ケイ
酸塩を用いる場合、そのモル比〔SiO2〕/〔M2O 〕を小
さくすることにより、補充液は高活性となり、補充量は
削減できるので、ランニングコストや廃液量が低減し好
ましい。しかしながら、高活性化にともないPS版の支
持体アルミニウムが溶解し、現像液中に不溶物を生じる
ことが知られている。このような、活性度の高い現像液
としては、SiO2/M2Oのモル比が0.7〜1.5であって、S
iO2の濃度が1.0〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩
の水溶液からなり、また、補充液がSiO2/M2O のモル比
が0.3〜1.0であって、SiO2の濃度が0.5〜4.0重量%
のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液であるような系が好適
に用いられる。ポジおよびネガ型PS版の現像に用いら
れる現像液および補充液には、現像性の促進や抑制、現
像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める
目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加で
きる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチ
オン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられ
る。
When an alkali metal silicate is used as such a replenisher, the replenisher becomes highly active by reducing the molar ratio [SiO 2 ] / [M 2 O], and the replenishment amount can be reduced. This is preferable because the running cost and the amount of waste liquid are reduced. However, it is known that the aluminum of the support of the PS plate dissolves with the activation, and insolubles are generated in the developer. Such as the highly active developer, the molar ratio of SiO 2 / M 2 O is a 0.7 to 1.5, S
Concentration of iO 2 is an aqueous solution of 1.0 to 4.0 wt% of an alkali metal silicate, also replenisher a molar ratio of SiO 2 / M 2 O is 0.3 to 1.0 , the concentration of SiO 2 is 0.5-4.0 wt%
A system which is an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The developer and replenisher used for the development of the positive and negative PS plates may have various surface active properties as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue, and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Agents and organic solvents can be added. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

【0043】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, and glycerin fatty acid partial esters. , Sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
Nonionic surfactants such as N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, straight-chain alkylbenzenesulfonates, branched-chain alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxy Ethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil, sulfate salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfates salts,

【0044】ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル硫酸エチレン塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスチレン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などの
カチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノ
カルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられ
る。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンと
あるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに
読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含
される。
Polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates ethylene salts, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphorus Acid ester salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salts, partially saponified styrene / maleic anhydride copolymer, partially saponified olefin / maleic anhydride copolymer, naphthalene styrene formalin condensate Surfactants, such as anionic surfactants, cationic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylenepolyamine derivatives Carboxy betaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, such amino acid esters, amphoteric surfactants such as imidazolines. Among the surfactants mentioned above, the term "polyoxyethylene" can be read as a polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, or polyoxybutylene, and these surfactants are also included.

【0045】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に0.001〜10重量%、
より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加される。
Further preferred surfactants are fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfonate, anionic type such as perfluoroalkyl phosphate, amphoteric type such as perfluoroalkyl betaine,
Cationic and perfluoroalkylamine oxides such as perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylethylene oxide adducts, oligomers containing perfluoroalkyl and hydrophilic groups,
Non-ionic forms such as oligomers containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups, and urethanes containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups. The above-mentioned surfactants can be used alone or in combination of two or more, and 0.001 to 10% by weight in a developer.
More preferably, it is added in the range of 0.01 to 5% by weight.

【0046】好ましい有機溶剤としては、水に対する溶
解度が約10重量%以下のものが適しており、好ましく
は5重量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェ
ニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニ
ル−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノー
ル、4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1
−ブタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジ
ルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコー
ル、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベ
ンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサ
ノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシ
クロヘキサノールおよび4−メチルシクロヘキサノー
ル、N−フェニルエタノールアミンおよびN−フェニル
ジエタノールアミンなどが挙げることができる。有機溶
剤の含有量は使用液の総重量に対して0.1〜5重量%で
ある。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係が
あり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増
加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少な
く、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解
せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなる
からである。
Suitable organic solvents are those having a solubility in water of about 10% by weight or less, and preferably those having a solubility in water of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1
-Butanol, 2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4 -Methylcyclohexanol, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine and the like. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount used of the surfactant, and it is preferable to increase the amount of the surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because when the amount of the surfactant is small and the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore, it is impossible to expect good developing property.

【0047】PS版の現像に用いられる現像液および補
充液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷
版の汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウ
ム塩化合物を含むネガ型PS版を現像する際に有効であ
る。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハ
イドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシ
ン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フ
ェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化
合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤として
は、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素
酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚
れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これ
らの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、0.0
5〜5重量%の範囲で含有される。
A reducing agent can be further added to the developer and replenisher used for the development of the PS plate. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative PS plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include phenolic compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, methol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin; and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferred inorganic reducing agents include sodium salts, potassium salts, and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, bisulfite, diphosphite, thiosulfate and dithionite. Salts and the like can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the stain prevention effect. These reducing agents are preferably added to the developing solution at the time of use at a concentration of 0.0.
It is contained in the range of 5 to 5% by weight.

【0048】現像液および補充液には更に有機カルボン
酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭
素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸および芳香族カル
ボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例として
は、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリル
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸な
どがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン
酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪
酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カ
ルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラ
セン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具
体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、
o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o
−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、
1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2
−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−
ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナ
フトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香族カ
ルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウ
ム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。
本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別
な制限はないが、0.1重量%より低いと効果が十分でな
く、また10重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計
れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げ
ることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像
液に対して0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.
5〜4重量%である。
An organic carboxylic acid can be further added to the developer and the replenisher. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enantiic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain or branched fatty acids may be used. The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, or the like. Specifically, o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid,
o-hydroxybenzoic acid, p-hydroxybenzoic acid, o
-Aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid,
2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid,
1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2
-Naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-
There are naphthoic acid and 2-naphthoic acid, and hydroxynaphthoic acid is particularly effective. The above aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt in order to enhance water solubility.
The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if the content is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient, and if it is 10% by weight or more, the effect cannot be further improved. In addition, dissolution may be hindered when another additive is used in combination. Therefore, the preferred amount is 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the amount of the developing solution used.
5 to 4% by weight.

【0049】現像液および補充液には、更に必要に応じ
て、消泡剤、硬水軟化剤および特公平1−57895号
公報記載の有機ホウ素化合物等の従来より知られている
化合物も含有させることができる。硬水軟化剤としては
例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム
塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢
酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミ
ントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシク
ロヘキサンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およ
びそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウ
ム塩、アミノトリ(メチレンホスホン塩)、エチレンジ
アミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリ
アミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテ
トラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)およ
び1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を
挙げることができる。
The developing solution and the replenisher may further contain, if necessary, a conventionally known compound such as an antifoaming agent, a water softener and an organic boron compound described in Japanese Patent Publication No. 1-57895. Can be. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonate), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.

【0050】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に対して0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量で
は所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲よ
り多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。現像液および補充液の残余の成分は水であるが、更
に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤を含有さ
せることができる。現像液および補充液は使用時よりも
水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水
で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。こ
の場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度
が適当である。
The optimum value of such a water softener varies depending on the chelating power thereof, the hardness of the hard water used and the amount of the hard water. 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight
It is in the range of 0.5% by weight. If the added amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved, and if the added amount is larger than this range, an adverse effect on an image portion such as color omission appears. The remaining component of the developer and replenisher is water, but may optionally contain various additives known in the art. It is advantageous from the viewpoint of transportation that the developing solution and the replenishing solution are concentrated solutions having a smaller water content than when used, and are diluted with water when used. The degree of concentration in this case is suitably such that each component does not cause separation or precipitation.

【0051】このようにして現像処理されたPS版は水
洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガム
や澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発
明のPS版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせ
て用いることができる。近年、製版・印刷業界では製版
作業の合理化および標準化のため、PS版用の自動現像
機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現
像部と後処理部からなり、PS版を搬送する装置と、各
処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みのPS
版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液
をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロールなどによってPS版を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。
The PS plate thus developed is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the PS plate of the present invention. In recent years, in the plate making and printing industries, automatic developing machines for PS plates have been widely used in order to streamline and standardize plate making operations. The automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a PS plate, each processing solution tank and a spray device, and the exposed PS.
While the plate is being conveyed horizontally, each processing solution pumped up by a pump is sprayed from a spray nozzle for development processing. Recently, a method has been known in which a PS plate is immersed and transported in a processing liquid tank filled with a processing liquid by a submerged guide roll or the like for processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like.

【0052】実施例1 厚さ0.24mmのJIS A 1050アルミニウム板を、平均粒径
約21μのパミストンと水の懸濁液をアルミニウム表面
に供給しながら、以下に示す回転ナイロンブラシによ
り、ブラシグレイニング処理した。第1ブラシは毛長1
00mm、毛径0.95mm、植毛密度70本/cm2 であり、
第2ブラシは毛長80mm、毛径0.295mm、植毛密度6
70本/cm2 であった。ブラシロールの回転はいずれも
250rpmであった。ブラシグレイニングにひき続きよ
く水洗した後、10%水酸化ナトリウムに60℃で25
秒間浸漬してエッチングし、さらに流水で水洗後20%
硝酸で中和洗浄、水洗した。これらを、VA =12.7V
の条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、1%硝酸
水、溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電
解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したとこ
ろ、0.79μ(Ra 表示)であった。引き続いて、1%
水酸化ナトリウム水溶液に40℃、30秒間浸漬後、3
0%の硫酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマ
ット処理した後、20%硫酸水溶液中、電流密度2A/
dm2 において1.6g/m2の酸化皮膜重量になるように直
流で陽極酸化し、基板を作製した。
Example 1 A JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was brush-grayed by a rotating nylon brush shown below while supplying a suspension of water with pumistone having an average particle size of about 21 μm to the aluminum surface. Was processed. The first brush has a hair length of 1.
00mm, hair diameter 0.95mm, flock density 70 / cm 2 ,
The second brush has a bristle length of 80 mm, a bristle diameter of 0.295 mm, and a flock density of 6
The number was 70 lines / cm 2 . The rotation of each of the brush rolls was 250 rpm. After brush brushing and washing well with water, 25% in 10% sodium hydroxide at 60 ° C.
Etch for 2 seconds, then rinse with running water and then 20%
Washed neutralized with nitric acid and washed with water. V A = 12.7V
The electrolytic surface roughening treatment was carried out in a 1% aqueous nitric acid solution using a sinusoidal alternating current under the conditions of (1) and ( 2) at an anode charge of 160 coulomb / dm 2 . The surface roughness was measured and found to be 0.79 μm ( Ra display). Subsequently, 1%
After dipping in sodium hydroxide aqueous solution at 40 ° C for 30 seconds, 3
After immersion in a 0% sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 60 ° C. for 40 seconds, a current density of 2 A /
The substrate was prepared by anodizing with direct current so that the weight of the oxide film was 1.6 g / m 2 at dm 2 .

【0053】このように処理された基板の表面に下記組
成の下塗り液を塗布し80℃、30秒間乾燥した。乾燥
後の被覆量は30mg/m2であった。 下塗り液 アミノエチルホスホン酸 0.10g フェニルホスホン酸 0.15g β−アラニン 0.10g メタノール 40g 純 水 60g このようにして基板を作製した。次にこの基板上に次の
感光液を塗布し、110℃で1分間乾燥してポジ型感光
性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は1.7g/m2であ
った。
An undercoat liquid having the following composition was applied to the surface of the substrate thus treated, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 30 mg / m 2 . Undercoat solution Aminoethylphosphonic acid 0.10 g Phenylphosphonic acid 0.15 g β-alanine 0.10 g Methanol 40 g Pure water 60 g A substrate was thus prepared. Next, the following photosensitive liquid was applied on this substrate, and dried at 110 ° C. for 1 minute to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. The coating amount after drying was 1.7 g / m 2 .

【0054】 〔感光液〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ, パラ比;6対4、重量平均分子量3,000 、数平均分子量 1,100 、未反応のクレゾールを0.7%含有) 1.1g m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量 平均分子量1,700 、数平均分子量600 、未反応のクレゾ ールを1%含有) 0.3g ポリ〔N−(P−アミノスルホニルフェニル)アクリルア ミド−コ−ノルマルブチルアクリレート−コ−ジエチレ ングリコールモノメチルエーテルメタクリレート〕(特 願平3−311241号に記載されているもので、各モノマー のモル比は順に40:40:20、重量平均分子量40,000、 数平均分子量20,000) 0.2g[Photosensitive solution] Esterified product of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709) 0.45 g Cresol-formaldehyde novolak resin (meta-para ratio; 6: 4, weight average molecular weight 3,000, number average molecular weight 1,100, containing 0.7% of unreacted cresol) 1.1 g m-cresol-formaldehyde novolak resin (weight average molecular weight) 1,700, number average molecular weight 600, containing 1% of unreacted cresol) 0.3 g poly [N- (P-aminosulfonylphenyl) acrylamide-co-normal butyl acrylate-co-diethylene glycol monomethyl ether methacrylate] (It is described in Japanese Patent Application No. 3-311241, and the molar ratio of each monomer is 40:40:20, weight average molecular weight 40,000, number average molecular weight 20,000) 0.2 g

【0055】 P−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 (米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの) 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸 クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.1g 安息香酸 0.02g 4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミ ノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−S− トリアジン 0.01g 4−〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニル〕 −2,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン 0.02g 2−トリクロロメチル−5−(4−ヒドロキシスチリル)− 1,3,4−オキサジアゾール 0.01g ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレ ンスルホン酸にした染料 0.02gP-N-octylphenol-formaldehyde resin (described in US Pat. No. 4,123,279) 0.02 g naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride 0.01 g tetrahydrophthalic anhydride 1 g Benzoic acid 0.02 g 4- [p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine 0.01 g 4- [PN- (P -Hydroxybenzoyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine 0.02 g 2-trichloromethyl-5- (4-hydroxystyryl) -1,3,4-oxadiazole 0.01 g Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalenesulfonic acid 0.02 g

【0056】 モディパーF−200(日本油脂(株)製フッ素系界面活性剤、 30重量%のメチルエチルケトンとメチルイソブチルケトン 混合溶剤溶液) 0.06g メガファックF177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤、20重量%のメチルイソブチル ケトン溶液) 0.02g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 10gModiper F-200 (fluorinated surfactant manufactured by NOF Corporation, 30% by weight mixed solvent solution of methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone) 0.06 g Megafac F177 (fluorinated manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Surfactant, 20% by weight methyl isobutyl ketone solution) 0.02 g methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 10 g

【0057】この様にして塗布された感光層の上に特公
昭61−28986号公報実施例1に記載の方法にもと
ずいて、(メチルメタクリレート/エチルアクリレート
/アクリル酸ソーダ=68/20/12)の共重合体水
溶液を静電スプレーすることによりマット層を設けた。
このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ポジテイブフィルムを通して1mの距離から
3kwのメタルハライドランプにより、50秒間露光を行
なったのち、現像液としてSiO2/Na2Oのモル比が1.74
の珪酸ナトリウムの5.26%水溶液(pH=12.7)を、
リンス液として富士写真フィルム(株)製FR−3
(1:7)を仕込んだ富士写真フィルム(株)製自動現
像機スタブロン900Dに通して処理した。この平版印
刷版を1日放置後、印刷評価した。印刷機はハイデルベ
ルグ社製KOR−Dを、湿し水は富士写真フィルム
(株)製EU−3(1:100)を、インキは東洋イン
キ(株)製マークファイブニュー墨を用いた。
Based on the method described in Example 1 of JP-B-61-28986, the photosensitive layer coated in this manner was treated with (methyl methacrylate / ethyl acrylate / sodium acrylate = 68/20 / A mat layer was formed by electrostatic spraying of the aqueous copolymer solution of 12).
The photosensitive lithographic printing plate thus produced is exposed through a transparent positive film through a transparent positive film for 50 seconds from a distance of 1 m using a 3 kw metal halide lamp, and then SiO 2 / Na 2 is used as a developing solution. O molar ratio is 1.74
A 5.26% aqueous solution of sodium silicate (pH = 12.7)
As a rinse liquid, FR-3 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
(1: 7) and processed through an automatic processor Stabilon 900D manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. After leaving this lithographic printing plate for one day, printing evaluation was performed. The printing machine used was KOR-D manufactured by Heidelberg, the dampening solution used was EU-3 (1: 100) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and the ink used was Mark Five New Black manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.

【0058】印刷機上で湿し水をしぼって非画像部のイ
ンキの汚れ方を目視で観察して、A……優 B……良
C……やや不良 D……不良で評価した。 シャドー部のつまりに関しては、湿し水をしぼった時
0%の網点が開いているかどうかで判断した。なおつま
りの程度は以下の表示で示す。 A……完全に開いている B……ほぼ開いている
C……ややつまっている D……つぶれている なお汚れ、シャドー部のつまり共、好ましい印刷物が得
られるのはB以上のレベルである。その結果、本発明の
製造方法により作られた支持体を使用した平版印刷版は
地汚れが発生しにくくかつ、湿し水を少なくしてもシャ
ドー部のつまりが発生しなかった。なお10万枚印刷し
ても良好な印刷物が得られた。結果をまとめて表1に示
す。 実施例2〜6 毛径の太い第1ブラシ3種類(毛径0.95mm、0.
72mmおよび0.57mm)と細い第2ブラシ2種類
(毛径0.295mmおよび0.21mm)をそれぞれ
表1に示す組合せでブラシグレイニングに用いた。第1
ブラシはいずれも毛長100mm、植毛密度はそれぞ
れ、70、120および200本/cm、第2ブラシ
はいずれも毛長80mm、植毛密度はそれぞれ、670
および1000本/cmであった。その他は実施例1
と同様に処理した。結果を表1に示す。 比較例1〜5 毛径の異ならないブラシを用いてブラシグレイニングを
行った他は、実施例1と同様に処理した。ブラシの組合
せ及び結果を表1に示す。
A fountain solution is squeezed on a printing machine to visually observe how the ink in the non-image area is stained. A: excellent B: good
C: Somewhat poor D: Bad. Regarding the clogging of the shadow area, 8
It was determined whether 0% of the halftone dots were open. The degree of clogging is indicated by the following display. A: Fully open B: Almost open
C: Slightly clogged D: Crushed Note that both dirt and shadow areas, that is, favorable printed matter are obtained at B or higher. As a result, the lithographic printing plate using the support produced by the production method of the present invention was less likely to cause background soiling, and did not cause shadow blockage even when the amount of fountain solution was reduced. Good printed matter was obtained even after printing 100,000 sheets. The results are summarized in Table 1. Examples 2 to 6 Three types of first brushes having a thick hair diameter (hair diameter 0.95 mm, 0.
72 mm and 0.57 mm) and two types of thin second brushes (hair diameters of 0.295 mm and 0.21 mm) were used for brush graining in combinations shown in Table 1, respectively. First
Each of the brushes has a bristle length of 100 mm and a flocking density of 70, 120 and 200 / cm 2 , respectively. The second brush has a bristle length of 80 mm and a flocking density of 670, respectively.
And 1000 lines / cm 2 . Others are Example 1.
The same treatment was performed. Table 1 shows the results. Comparative Examples 1 to 5 Processing was performed in the same manner as in Example 1 except that brush graining was performed using brushes having different hair diameters. Table 1 shows the combinations of the brushes and the results.

【0059】[0059]

【表1】 表 1 ────────────────────────────────── ブラシの組合わせ 表面粗さ 地汚 シャド ────────────────── ー部の 第1ブラシ 第2ブラシ Ra(μ) れ性 つまり ────────────────── 毛径(mm) 0.95 0.72 0.57 0.295 0.21 ────────────────────────────────── 実施例1 * * 0.79 B A 2 * * 0.78 B A 3 * * 0.74 B A 4 * * 0.71 B A 5 * * 0.69 A A 6 * * 0.63 A A ────────────────────────────────── 比較例1 * 0.82 D A 2 * 0.76 C A 3 * 0.70 C A 4 * 0.43 A C 5 * 0.35 A D ────────────────────────────────── *印:使用したブラシを示す。[Table 1] Table 1 ブ ラ シ Combinations of brushes Surface roughness Ground pollution Shad The first brush of the 部 part The second brush Ra (μ) ── Hair diameter (mm) 0.95 0.72 0.57 0.295 0.21 実 施 Example 1 * * 0.79 BA 2 * * 0.78 BA 3 * * 0.74 BA 4 * * 0.71 BA 5 * * 0.69 A A 6 * * 0.63 A A ──────────────── ────────────────── Comparative Example 1 * 0.82 DA 2 * 0.76 CA 3 * 0.70 CA 4 * 0.43 AC 5 * 0.35 AD ───────────────────────────── *: Indicates the brush used.

【0060】尚、表1において、表面粗さRa について
は、表面粗さ計サーフコム300B(東京精密(株);
触針10μR)にて測定した値である。 実施例7〜9、比較例6、7 第1ブラシ又は第2ブラシの本数を2本以上としてブラ
シグレイニングを行った。その他は実施例1と同様に処
理した。ブラシの組合せ及び結果を表2に示す。
In Table 1, for the surface roughness Ra, a surface roughness meter Surfcom 300B (Tokyo Seimitsu Co., Ltd .;
It is a value measured with a stylus (10 μR). Examples 7 to 9 and Comparative Examples 6 and 7 Brush graining was performed using two or more first brushes or second brushes. Others were processed similarly to Example 1. Table 2 shows the combinations of the brushes and the results.

【0061】[0061]

【表2】 表1及び表2に示すように本発明の実施例1〜で示さ
れる支持体を用いた平版印刷版は比較例1〜のものと
比べて地汚れしにくく、シャドー部のつまりが発生せ
ず、良好な性能を示した。
[Table 2] As shown in Tables 1 and 2, the lithographic printing plates using the supports shown in Examples 1 to 9 of the present invention were less susceptible to background soiling than those of Comparative Examples 1 to 7 , and clogging of the shadow portion was generated. No good performance was exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の方法の一具体例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a specific example of the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・アルミニウム板、 2・・・第1ブラシロール、 3・・・研磨スラリー液供給装置、 4・・・第2ブラシロール、 5、6、7、8・・・支持ロール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Aluminum plate, 2 ... 1st brush roll, 3 ... Polishing slurry liquid supply device 4 ... 2nd brush roll, 5, 6, 7, 8 ... Support roll

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−85079(JP,A) 特開 昭48−33911(JP,A) 特開 昭62−27192(JP,A) 特開 昭53−123204(JP,A) 米国特許2637929(US,A)Continuation of the front page (56) References JP-A-5-85079 (JP, A) JP-A-48-33911 (JP, A) JP-A-62-27192 (JP, A) U.S. Pat. No. 2,637,929 (US, A)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 平均粒径が15〜35μmの研磨剤を
含む研磨スラリー液をアルミニウム板の表面に供給しな
がら、それぞれの植毛密度が30〜1000本/cm 2
であり、毛径が0.57mm以上の第一ブラシと毛径が
0.34mm以下の第二ブラシを含む少なくとも2種類
のブラシを用い、かつブラシグレイニング工程の最終の
ブラシとして第二ブラシを用いて、200〜2000r
pmのブラシ回転速度でアルミニウム支持体の中心線平
均粗さ(Ra)が0.5〜1.0μmとなる様に粗面化す
るブラシグレイニング工程を含む、保水性及び親水性が
向上した平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
(但し前記ブラシが円盤ブラシである場合を除く)。
1. While supplying a polishing slurry solution containing an abrasive having an average particle size of 15 to 35 μm to the surface of an aluminum plate, each of the flocking densities is 30 to 1000 fibers / cm 2.
And the first brush having a hair diameter of 0.57 mm or more and a hair diameter of
At least two types including the second brush of 0.34 mm or less
Brush and the final step of the brush graining process
Using the second brush as the brush, 200-2000r
center line flat of aluminum support at brush rotation speed of pm
Roughen the surface so that the average roughness (Ra) is 0.5 to 1.0 μm.
Water retention and hydrophilicity including brush graining process
An improved method of producing an aluminum support for a lithographic printing plate (except when said brush is a disk brush).
【請求項2】 該ブラシグレイニング工程の後に、電
解粗面化する工程及び陽極酸化する工程を含むことを特
徴とする請求項1に記載の平版印刷版用アルミニウム支
持体の製造方法。
2. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1, further comprising a step of electrolytic surface roughening and a step of anodizing after said brush graining step.
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