JP3245919B2 - Coating solution for forming insulating film - Google Patents

Coating solution for forming insulating film

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JP3245919B2
JP3245919B2 JP01080092A JP1080092A JP3245919B2 JP 3245919 B2 JP3245919 B2 JP 3245919B2 JP 01080092 A JP01080092 A JP 01080092A JP 1080092 A JP1080092 A JP 1080092A JP 3245919 B2 JP3245919 B2 JP 3245919B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、絶縁被膜形成用塗布液
に関するもので、特に液晶セルにおける透明絶縁被膜形
成に関する分野に利用されるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating liquid for forming an insulating film, and more particularly to a coating liquid for forming a transparent insulating film in a liquid crystal cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】基体に絶縁性被膜を形成する方法として
は、気相成長法と塗布法が知られている。液晶セルにお
ける透明絶縁被膜については、装置が簡便で大型化に適
しているという点で塗布法が注目され、チタンアルコキ
シドやシリコンアルコキシドを含有する塗布液を用いた
方法が実用化されている。
2. Description of the Related Art As a method for forming an insulating film on a substrate, a vapor phase growth method and a coating method are known. With respect to the transparent insulating film in a liquid crystal cell, a coating method has attracted attention because the device is simple and suitable for upsizing, and a method using a coating solution containing titanium alkoxide or silicon alkoxide has been put to practical use.

【0003】そこにおいては、絶縁性を阻害するような
不純物を含まないこと、透明であること、液晶と同等の
屈折率を有すること等の条件を満足する必要がある。屈
折率を制御するにはTiO2 −SiO2 系複合酸化物の
モル比を変えることによって行うことが知られている。
そこで、TiO2 −SiO2 系複合酸化物被膜をアルコ
キシド法で形成する方法についてこれまで多くの提案が
なされてきた。
[0003] In this case, it is necessary to satisfy conditions such as not containing impurities that impair the insulating property, being transparent, and having a refractive index equivalent to that of liquid crystal. It is known that the refractive index is controlled by changing the molar ratio of the TiO 2 —SiO 2 based composite oxide.
Therefore, many proposals have been made on a method of forming a TiO 2 —SiO 2 based composite oxide film by an alkoxide method.

【0004】特開昭55−25487号公報には、M
(OR)4 (M:Ti、0〜100wt%、Si、0〜
25wt%、その他)のアルコキシド、H2 O(M(O
R)41モルに対して1.7〜4モル)、アルコ−ルお
よび酸からなる透明溶液が開示されている。水の添加量
をM(OR)4 の完全加水分解理論量よりも少なく加え
ることによって粗大な沈澱の形成を防ぎ、かつ、酸を加
えることによって微粒子を分散させて透明化している。
この溶液をスピンコ−トすることによって膜厚200〜
1000Å(400℃焼成後)、屈折率1.4〜2.4
の被膜が得られている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-25487 discloses M
(OR) 4 (M: Ti, 0-100 wt%, Si, 0
Alkoxide, H 2 O (M (O
R) 4 (1.7-4 moles per mole), a clear solution comprising an alcohol and an acid is disclosed. The addition of less than the theoretical amount of complete hydrolysis of M (OR) 4 prevents the formation of coarse precipitates, and the addition of acid disperses the fine particles to make them transparent.
By spin-coating this solution, a film thickness of 200 to
1000 ° (after baking at 400 ° C.), refractive index 1.4 to 2.4
Is obtained.

【0005】特開昭55−34258号公報には、アル
コキシシランと低級カルボン酸とアルコ−ルの混合物
を、有機酸系反応促進剤の存在下で反応させて得た反応
生成物からなるシリカ系被膜用塗布液が開示されてい
る。本反応系においては、低級カルボン酸はアルコキシ
ドの加水分解時に放出されるアルコ−ルと反応してエス
テルを生成し、有機酸系反応促進剤は反応を加速する作
用がある。この塗布液をスピンコ−トすることによっ
て、膜厚650〜4200Å(500〜700℃焼成
後)の膜が作られている。
JP-A-55-34258 discloses a silica-based reaction product obtained by reacting a mixture of an alkoxysilane, a lower carboxylic acid and an alcohol in the presence of an organic acid-based reaction accelerator. A coating solution for coating is disclosed. In this reaction system, the lower carboxylic acid reacts with the alcohol released during the hydrolysis of the alkoxide to form an ester, and the organic acid-based reaction accelerator has the effect of accelerating the reaction. By spin-coating this coating solution, a film having a thickness of 650 to 4200 ° (after baking at 500 to 700 ° C.) is formed.

【0006】特開昭57−64212号公報には、酸素
の直接結合した有機チタン化合物と有機シリコン化合物
との混合物を焼成して作られるTiO2 −SiO2 系酸
化物を組成物とする絶縁被膜が開示されている。有機チ
タン化合物として、テトラオクチレンチタネ−ト、テト
ラステアリルチタネ−ト、チタニウムオキシアセチルア
セトナ−ト、有機シリコン化合物として、ビニルトリス
(2−メトキシエトキシ)シランが例示されている。こ
れに粘性剤と溶媒を加えてペ−ストを調製し、スクリ−
ン印刷法で得られた被膜の厚みは900〜1000Å
(500℃焼成後)であった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 57-64212 discloses an insulating coating having a composition of TiO 2 —SiO 2 based oxide formed by firing a mixture of an organic titanium compound and an organic silicon compound to which oxygen is directly bonded. Is disclosed. Examples of the organic titanium compound include tetraoctylene lenitate, tetrastearyl titanate, and titanium oxyacetylacetonate, and examples of the organic silicon compound include vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane. A paste is prepared by adding a viscous agent and a solvent to the paste, and a paste is prepared.
The thickness of the film obtained by the printing method is 900-1000Å.
(After baking at 500 ° C.).

【0007】特開昭54−43241号公報には、チタ
ンアルコキシド類に水を加えて重合させ、さらにアセチ
ルアセトン等のキレ−ト化剤を用いて安定化した溶液を
塗布する被膜形成方法が開示されている。キレ−ト化剤
として、β−ジケトン類、αまたはβ−ケトン類、αま
たはβ−オキシ酸のエステル類、αまたはβ−オキシケ
トン類、αまたはβ−オキシアルデヒド類、α−アミノ
酸類、αまたはβ−アミノアルコ−ル類等が例示されて
いる。本引例の溶液にガラス板を浸漬し引き上げた後、
500℃で焼成することによって、2000ÅのTiO
2 膜が得られている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-43241 discloses a method of forming a film by adding water to a titanium alkoxide, polymerizing the solution, and applying a solution stabilized using a chelating agent such as acetylacetone. ing. As chelating agents, β-diketones, α or β-ketones, esters of α or β-oxy acids, α or β-oxyketones, α or β-oxyaldehydes, α-amino acids, α And β-amino alcohols and the like. After immersing the glass plate in the solution of this reference and lifting it up,
By firing at 500 ° C., 2000 ° TiO 2
Two films are obtained.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】塗布法において大量生
産を行う場合、塗布液は長時間大気に曝される。その間
に大気中の水分を吸収することによって溶液成分が変質
することがあり、従って塗布液のポットライフが限定さ
れるという問題点がある。アルコキシドの中でも特にチ
タンアルコキシドは水分によって変質(加水分解)され
やすく、これを安定化することが課題であった。また、
比較的安定であるシリコンアルコキシドもチタンとの共
存下においては不安定となることが本発明者らの実験に
よって判明している。
In the case of mass production in the coating method, the coating liquid is exposed to the atmosphere for a long time. During that time, the solution components may be altered by absorbing moisture in the atmosphere, and thus there is a problem that the pot life of the coating solution is limited. Among alkoxides, titanium alkoxide is particularly liable to be altered (hydrolyzed) by moisture, and stabilizing the alkoxide has been a problem. Also,
It has been found by experiments of the present inventors that silicon alkoxides, which are relatively stable, also become unstable in the presence of titanium.

【0009】大気中の水分による変質については、特開
昭55−25487号公報、特開昭55−34258号
公報、特開昭57−64212号公報のいずれも未解決
である。更に、酸は液晶セルの電極に対して腐食作用が
あるので、酸の存在は好ましくない。特開昭54−43
241号公報に開示された方法はチタンアルコキシド単
独の安定化であり、シリコンアルコキシドとの共存系に
ついては何ら記載されていない。
Regarding the alteration due to moisture in the atmosphere, none of JP-A-55-25487, JP-A-55-34258 and JP-A-57-64212 have not been solved. Furthermore, the presence of an acid is not preferred because the acid has a corrosive effect on the electrodes of the liquid crystal cell. JP-A-54-43
The method disclosed in Japanese Patent No. 241 is stabilization of a titanium alkoxide alone, and does not describe a coexistence system with a silicon alkoxide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】かかる実情に鑑み、本発
明者らは、大気中の水分に対して安定であり、かつ、腐
食性の酸を含有せず、比較的低温で良好な被膜を形成す
る塗布液について鋭意検討を重ねた結果、アルコキシ
ド、特にチタンアルコキシドとシリコンアルコキシドと
の共存系の水分に対する安定性を飛躍的に向上させる添
加剤(アセチルアセトン)を見出し、本発明を完成させ
るに至った。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, the present inventors have developed a coating film which is stable to atmospheric moisture, contains no corrosive acid, and has a relatively low temperature. As a result of intensive studies on the coating solution to be formed, the present inventors have found an additive (acetylacetone) which dramatically improves the stability of alkoxides, especially titanium alkoxides and silicon alkoxides, in coexistence with respect to moisture, and have completed the present invention. Was.

【0011】すなわち 本発明は、構造単位が一般式
(1)
That is, in the present invention, the structural unit has the general formula (1)

【化3】 および一般式(2)Embedded image And general formula (2)

【化4】 (式中、R1 〜R4 はそれぞれ同一あるいは異なって、
1 〜C8 のアルコキシ基またはアセチルアセトン残基
を表す)からなり、アセチルアセトン残基の含有量が
〔(Tiのモル数)×4+(Siのモル数)×4≧アセ
チルアセトン残基のモル数≧(Tiのモル数)×2+
(Siのモル数)×1〕であるポリメタロキサンキレ−
ト化合物のアルコ−ル溶液(C3 〜C8 のアルキル基を
有する)からなることを特徴とする絶縁被膜形成用塗布
液を提供するものである。
Embedded image (Wherein, R 1 to R 4 are the same or different,
Consist C 1 represents an alkoxy group or acetylacetone residue of -C 8), the content of acetylacetone residue [(Ti moles of) × 4 + (number of moles of Si) moles ≧ of × 4 ≧ acetylacetone residue (Mol number of Ti) × 2 +
(Mol number of Si) × 1].
A coating solution for forming an insulating film, comprising an alcohol solution (having an alkyl group of C 3 to C 8 ) of a compound.

【0012】以下、本発明について詳細に説明する。一
般に、チタンアルコキシドの加水分解安定性を向上させ
るのに知られているのは、アセチルアセトンやアセト酢
酸エチル等のキレ−ト化剤である。これは2個の酸素が
Tiに配位してキレ−トを形成するといわれている。通
常、アセチルアセトンのTi1モルに対する比率は1〜
2モルであり、市販のチタンアセチルアセトネ−ト、チ
タンオキシアセチルアセトネ−トはTi1モルに対して
2モルである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. Generally, chelating agents such as acetylacetone and ethyl acetoacetate are known to improve the hydrolysis stability of titanium alkoxide. It is said that two oxygens coordinate to Ti to form a chelate. Usually, the ratio of acetylacetone to 1 mole of Ti is 1 to
2 mol, and commercially available titanium acetylacetonate and titanium oxyacetylacetonate are 2 mol per 1 mol of Ti.

【0013】シリコンアルコキシドは加水分解され難
く、従来のゾル−ゲル法を利用した研究においては、む
しろ加水分解を促進する触媒についての研究が盛んであ
って、加水分解安定性を向上させることについてはほと
んど文献がない。従って、本発明の目的においては、シ
リコンアルコキシドの大気開放系における加水分解安定
性をも向上させる必要があった。そこで、本発明者らは
チタンアルコキシドの加水分解安定性の向上に効果のあ
るアセチルアセトンがシリコンアルコキシドに対しても
効果があることを見出した。
[0013] Silicon alkoxides are not easily hydrolyzed, and in the studies using the conventional sol-gel method, studies on catalysts that promote hydrolysis have been actively conducted. Little literature. Therefore, for the purpose of the present invention, it is necessary to improve the hydrolytic stability of silicon alkoxide in an open-to-air system. Thus, the present inventors have found that acetylacetone, which is effective for improving the hydrolysis stability of titanium alkoxide, is also effective for silicon alkoxide.

【0014】Siはd軌道電子を有せずキレ−トを形成
しにくいのであるが、アセチルアセトンによってSi−
O−C結合が保護されていることは明らかである。これ
については今後の研究によって解明されると考えられ
る。
Si has no d-orbital electrons and is difficult to form a chelate.
It is clear that the OC bond is protected. This will be elucidated by future research.

【0015】本発明によるTiおよびSiを含むポリメ
タロキサンキレ−ト化合物は、構造単位が一般式(3)
The polymetalloxane chelate compound containing Ti and Si according to the present invention has a structural unit represented by the general formula (3):

【化5】 および一般式(4)Embedded image And general formula (4)

【化6】 (式中、X1 〜X4 はそれぞれ同一あるいは異なって、
1 〜C8 のアルコキシ基を表す)からなるポリメタロ
キサン化合物とアセチルアセトンとをTi、Si、およ
びアセチルアセトン残基のモル比が下記の式を満足する
ように混合することで製造できる。
Embedded image (Wherein, X 1 to X 4 are the same or different,
(Representing an alkoxy group of C 1 to C 8 ) and acetylacetone by mixing such that the molar ratio of Ti, Si, and acetylacetone residues satisfies the following formula.

【0016】(Tiのモル数)×4+(Siのモル数)
×4≧アセチルアセトン残基のモル数≧(Tiのモル
数)×2+(Siのモル数)×1
(Mol number of Ti) × 4 + (mol number of Si)
× 4 ≧ mol number of acetylacetone residue ≧ (mol number of Ti) × 2 + (mol number of Si) × 1

【0017】このようにして得られた溶液は、そのまま
あるいは必要に応じて更に適当な濃度に調整して被膜形
成用溶液として用いることができる。
The solution thus obtained can be used as it is or after adjusting the concentration to a more appropriate one as needed.

【0018】また、TiおよびSiを含むポリメタロキ
サンキレ−ト化合物は、一般式TiYn 4-n および一
般式SiX4 (式中n=0、1または2、Yはアセチル
アセトン残基、XはC1 〜C8 のアルコキシ基を表す)
からなる有機チタン化合物およびシリコンアルコキシド
の混合溶液に、アセチルアセトンの合計量が下記の式を
満足するように、必要ならば更にアセチルアセトンを加
え、次いでTiおよびSiの合計モル数と等モル前後の
水を加えることによっても製造できる。
The polymetalloxan chelate compounds containing Ti and Si are represented by the general formula TiY n X 4-n and the general formula SiX 4 (where n = 0, 1 or 2, Y is an acetylacetone residue, X Represents a C 1 -C 8 alkoxy group)
If necessary, acetylacetone is further added to the mixed solution of the organotitanium compound and silicon alkoxide consisting of so that the total amount of acetylacetone satisfies the following formula. It can also be manufactured by adding.

【0019】(Tiのモル数)×4+(Siのモル数)
×4≧アセチルアセトン残基のモル数≧(Tiのモル
数)×2+(Siのモル数)×1
(Mol number of Ti) × 4 + (mol number of Si)
× 4 ≧ mol number of acetylacetone residue ≧ (mol number of Ti) × 2 + (mol number of Si) × 1

【0020】本発明のポリメタロキサンキレ−ト化合物
のTiとSiの比率は、Ti100モルに対してSi5
〜1000モルの範囲で、好ましくはTi100モルに
対してSi10〜500モルの範囲である。
The ratio of Ti to Si in the polymetalloxane chelate compound of the present invention is such that Si mole is
The range is from 10 mol to 1000 mol, preferably from 10 mol to 500 mol of Si per 100 mol of Ti.

【0021】C1 〜C8 のアルコキシ基におけるアルキ
ル基としてはメチル、エチル、iso−プロピル、n−
ブチル、sec−ブチル、iso−ブチル、tert−
ブチル、n−アミル、sec−アミル、tert−アミ
ル、2−エチル−ブチル基等が例示される。
Examples of the alkyl group in the C 1 -C 8 alkoxy group include methyl, ethyl, iso-propyl, n-
Butyl, sec-butyl, iso-butyl, tert-
Examples thereof include butyl, n-amyl, sec-amyl, tert-amyl, and 2-ethyl-butyl.

【0022】希釈用の溶媒は、C3 〜C8 のアルキル基
を有するアルコ−ルが使用され、特にC4 〜C6 のアル
コ−ルが好適である。
As the solvent for dilution, an alcohol having a C 3 -C 8 alkyl group is used, and a C 4 -C 6 alcohol is particularly preferred.

【0023】塗布液の被膜形成方法としては通常の塗布
方法、たとえば浸漬法、スピンコ−ト法などが使用でき
る。塗布したのち、溶媒を蒸散させ、約150℃以上に
加熱すれば透明な被膜が形成される。
As a method for forming a coating film of a coating solution, a usual coating method, for example, a dipping method, a spin coating method, or the like can be used. After coating, the solvent is evaporated and heated to about 150 ° C. or higher to form a transparent film.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明の絶縁被膜形成用塗布液は、水分
に対して安定でポットライフが長く、また、酸を含有し
ないので腐食性がないという優位性があり、工業的に極
めて有意義なものである。
The coating solution for forming an insulating film of the present invention is stable against moisture, has a long pot life, and has an advantage that it does not contain an acid and thus has no corrosiveness. Things.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例
において用いる「%」は「重量%」を意味する。また、
アセチルアセトンをACAC、n−ブチル基をBun
エチル基をEt、iso−プロピル基をPri と略記す
る。
The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Note that “%” used in Examples means “% by weight”. Also,
ACAC acetylacetone, an n- butyl group Bu n,
The ethyl Et, abbreviated an iso- propyl group and Pr i.

【0026】実施例1 Ti(OBun 4 0.681g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) Bun OH 0.746g からなる溶液に H2 O 0.058g(モル比1.6) Bun OH 2.842g からなる溶液を加え、1日放置後、 ACAC 0.800g(モル比4) を加えた。この液の固形分(TiO2 、SiO2 換算)
は5.0%である。この溶液は調製直後は黄色透明であ
ったが、1日後に黄褐色透明となり、重合が進行したこ
とを示した。この溶液を室温で30日間密封静置しても
沈澱生成やゲル化はおこらなかった。また、この溶液の
一部を内径9mmのガラスびんに入れ、底部に水を入れ
たデシケ−タ−の中に静置(湿空中開放静置)した結
果、14日間全く変化しなかった。この溶液を塗布液と
し、ガラス板を浸漬した後、15mm/分で引き上げ、
風乾後に300℃で焼成した。SEM観察によれば、膜
厚0.2μm でクラックのない平滑な被膜であった。ま
た屈折率は1.83であった。
[0026] Example 1 Ti (OBu n) 4 0.681g ( molar ratio 1) Si (OEt) 4 0.417g ( molar ratio 1) Bu n OH consisting 0.746g solution H 2 O 0.058 g ( molar ratio 1.6) Bu n OH consisting 2.842g was added and after standing for 1 day, ACAC 0.800 g (molar ratio 4) was added. Solid content of this liquid (in terms of TiO 2 and SiO 2 )
Is 5.0%. This solution was transparent yellow immediately after preparation, but became transparent yellow brown one day later, indicating that the polymerization had proceeded. Even when this solution was sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, no precipitation or gelation occurred. A part of this solution was placed in a glass bottle having an inner diameter of 9 mm, and was left still in a desiccator filled with water at the bottom (left open in wet air). As a result, no change was observed for 14 days. This solution was used as a coating solution, and after dipping a glass plate, the glass plate was pulled up at a rate of 15 mm / min.
After air drying, baking was performed at 300 ° C. According to SEM observation, it was a smooth film having a thickness of 0.2 μm and no cracks. The refractive index was 1.83.

【0027】実施例2 Ti(OBun 4 0.681g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) ACAC 0.800g(モル比4) Bun OH 0.746g からなる溶液に H2 O 0.058g(モル比1.6) Bun OH 2.842g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。この溶液を塗布液とし、ガラス板を浸漬した後、1
5mm/分で引き上げ、風乾後に300℃で焼成した。
SEM観察によれば、膜厚0.2μm でクラックのない
平滑な被膜であった。
[0027] consists of Example 2 Ti (OBu n) 4 0.681g ( molar ratio 1) Si (OEt) 4 0.417g ( molar ratio 1) ACAC 0.800 g (molar ratio 4) Bu n OH 0.746g solution H 2 O 0.058 g (molar ratio 1.6) Bu n OH consisting 2.842g solution was added and allowed to stand for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand still in wet air for 14 days. This solution was used as a coating solution, and after dipping a glass plate, 1
It was pulled up at 5 mm / min, fired at 300 ° C. after air drying.
According to SEM observation, it was a smooth film having a thickness of 0.2 μm and no cracks.

【0028】実施例3 Ti(OBun 4 0.681g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) ACAC 0.600g(モル比3) Bun OH 0.946g からなる溶液に H2 O 0.058g(モル比1.6) Bun OH 2.842g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。
[0028] Example 3 Ti (OBu n) 4 0.681g ( molar ratio 1) Si (OEt) 4 0.417g ( molar ratio 1) ACAC 0.600 g (molar ratio 3) consisting Bu n OH 0.946 g solution H 2 O 0.058 g (molar ratio 1.6) Bu n OH consisting 2.842g solution was added and allowed to stand for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand still in wet air for 14 days.

【0029】実施例4 Ti(OBun 4 0.681g(モル比1) Si(OEt)4 0.209g(モル比0.5) ACAC 0.600g(モル比3) Bun OH 1.854g からなる溶液に H2 O 0.044g(モル比1.2) Bun OH 2.156g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。
[0029] Example 4 Ti (OBu n) 4 0.681g ( molar ratio 1) Si (OEt) 4 0.209g ( molar ratio 0.5) ACAC 0.600 g (molar ratio 3) Bu n OH 1.854g consisting of a solution in H 2 O 0.044 g (molar ratio 1.2) Bu n OH consisting 2.156g solution was added and allowed to stand for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand still in wet air for 14 days.

【0030】実施例5 Ti(OBun 4 0.681g(モル比1) Si(OEt)4 0.626g(モル比1.5) ACAC 1.000g(モル比5) Bun OH 2.872g からなる溶液に H2 O 0.073g(モル比2) Bun OH 0.292g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。この溶液を塗布液とし、ガラス板を浸漬した後、1
5mm/分で引き上げ、風乾後に300℃で焼成した。
SEM観察によれば、膜厚0.2μm でクラックのない
平滑な被膜であった。また屈折率は1.71であった。
Example 5 0.681 g (molar ratio 1) Ti (OBu n ) 4 0.626 g (molar ratio 1.5) Si (OEt) 4 1.000 g ACAC (molar ratio 5) 2.872 g Bu n OH consisting of a solution in H 2 O 0.073 g (molar ratio 2) Bu n OH 0.292g consisting of a solution, and the mixture was allowed to stand for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand still in wet air for 14 days. This solution was used as a coating solution, and after dipping a glass plate, 1
It was pulled up at 5 mm / min, fired at 300 ° C. after air drying.
According to SEM observation, it was a smooth film having a thickness of 0.2 μm and no cracks. The refractive index was 1.71.

【0031】実施例6 Ti(OBun 4 0.681g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) ACAC 0.800g(モル比4) Bun OH 1.846g からなる溶液に H2 O 0.360g(モル比10) Bun OH 1.440g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。
[0031] consists of Example 6 Ti (OBu n) 4 0.681g ( molar ratio 1) Si (OEt) 4 0.417g ( molar ratio 1) ACAC 0.800 g (molar ratio 4) Bu n OH 1.846g solution H 2 O 0.360 g (molar ratio 10) Bu n OH consisting 1.440g solution was added and allowed to stand for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand open in humid air for 14 days.

【0032】実施例7 Ti(OPri 4 4.0g EBA 50.0g (ここに、EBAは2−エチル−1−ブタノ−ルの略)
をフラスコにとり、大気圧下で加熱して蒸留して溶媒を
ほとんど留出させ、残留液8.238gを得た。これに
EBA8.54gを加えて希釈してTiO2 換算で6.
67%とした。 上記希釈液 2.390g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) ACAC 0.800g(モル比4) からなる溶液に H2 O 0.360g(モル比10) EBA 1.440g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。
Example 7 Ti (OPr i ) 4 4.0 g EBA 50.0 g (where EBA is an abbreviation for 2-ethyl-1-butanol)
Was placed in a flask, heated and distilled under atmospheric pressure to distill off most of the solvent, thereby obtaining 8.238 g of a residual liquid. 6 in terms of TiO 2 was diluted by adding EBA8.54g thereto.
67%. 2.390 g of the diluent (molar ratio 1) 0.417 g of Si (OEt) 4 (molar ratio 1) 0.860 g of ACAC (molar ratio 4) 0.360 g of H 2 O (molar ratio 10) EBA 1 A solution consisting of .440 g was added and left for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand still in wet air for 14 days.

【0033】実施例8 実施例7において、EBAの代りにtert−AmOH
(tert−アミルアルコ−ル)50gを用いて同様に
蒸留し、残留液7.443gを得た。これにtert−
AmOHを8.468gを加えてTiO2 換算で6.6
7%とした。 上記希釈液 1.327g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) ACAC 0.800g(モル比4) tert−AmOH 1.200g からなる溶液に H2 O 0.360g(モル比10) tert−AmOH 1.440g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。
Example 8 In Example 7, tert-AmOH was used instead of EBA.
Distillation was carried out in the same manner using 50 g of (tert-amyl alcohol) to obtain 7.443 g of a residual liquid. This is tert-
8.468 g of AmOH was added, and 6.6 in terms of TiO 2 was added.
7%. 1.327 g (molar ratio 1) of the above-mentioned diluent 0.417 g (molar ratio 1) of Si (OEt) 4 0.800 g (molar ratio 4 ) of ACAC 0.860 g of tert-AmOH 0.360 g of H 2 O ( Molar ratio: 10) A solution consisting of 1.440 g of tert-AmOH was added and left for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand open in humid air for 14 days.

【0034】実施例9 チタンアルコキシドとしてチタンブトキシドテトラマー
を用いた。 Bun O〔Ti(OBun 2 O〕4 Bun 0.48
5g(モル比1) Si(OEt)4 0.417g(モル比1) ACAC 0.800g(モル比4) Bun OH 3.477g からなる溶液に H2 O 0.072g(モル比2) Bun OH 0.293g からなる溶液を加え、1日放置した。この溶液は、室温
で30日間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらな
く、また湿空中開放静置で14日間全く変化しなかっ
た。この溶液を塗布液とし、ガラス板を浸漬した後、1
5mm/分で引き上げ、風乾後に300℃で焼成した。
SEM観察によれば、膜厚0.2μm でクラックのない
平滑な被膜であった。
Example 9 Titanium butoxide tetramer was used as a titanium alkoxide. Bu n O [Ti (OBu n) 2 O] 4 Bu n 0.48
5 g (molar ratio 1) Si (OEt) 4 0.417g ( molar ratio 1) ACAC 0.800 g (molar ratio 4) Bu n OH consisting 3.477g solution H 2 O 0.072 g (molar ratio 2) Bu A solution consisting of 0.293 g of nOH was added and left for 1 day. This solution did not undergo precipitation or gelation even when sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, and did not change at all when allowed to stand open in humid air for 14 days. This solution was used as a coating solution, and after dipping a glass plate, 1
It was pulled up at 5 mm / min, fired at 300 ° C. after air drying.
According to SEM observation, it was a smooth film having a thickness of 0.2 μm and no cracks.

【0035】比較例1 実施例2において、ACACを0.400g(モル比
2)としたこと以外は実施例2と全く同様に溶液を調製
し、1日放置した。この溶液は、室温で30日間密封静
置しても沈澱生成やゲル化はおこらなかったが、湿空中
開放静置で7日後にゲル化した。
Comparative Example 1 A solution was prepared in exactly the same manner as in Example 2 except that the amount of ACAC was changed to 0.400 g (molar ratio 2), and the solution was allowed to stand for one day. This solution did not form a precipitate nor gelled even when it was sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, but gelled after 7 days when left open in moist air.

【0036】比較例2 実施例2において、ACACを全く加えなかったこと以
外は実施例2と全く同様に溶液を調製し、1日放置し
た。この溶液は、密封静置1日後にゲル化した。
Comparative Example 2 A solution was prepared in the same manner as in Example 2 except that no ACAC was added, and the solution was allowed to stand for one day. The solution gelled after one day in the sealed standing.

【0037】比較例3 実施例2において、Ti(OBun 4 およびACAC
を全く加えなかったこと以外は実施例2と全く同様に溶
液を調製し、1日放置した。この溶液は、室温で30日
間密封静置しても沈澱生成やゲル化はおこらなかった
が、湿空中開放静置で7日後にゲル化した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 In Example 2, Ti (OBu n ) 4 and ACAC
Was prepared in exactly the same manner as in Example 2 except that no was added, and the solution was left for one day. This solution did not form a precipitate nor gelled even when it was sealed and allowed to stand at room temperature for 30 days, but gelled after 7 days when left open in moist air.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】構造単位が一般式(1) および一般式(2) (式中、R1〜R4はそれぞれ同一あるいは異なって、C
1〜C8のアルコキシ基またはアセチルアセトン残基を表
す)からなり、アセチルアセトン残基の含有量が〔(T
iのモル数)×4+(Siのモル数)×4≧アセチルア
セトン残基のモル数≧(Tiのモル数)×2+(Siの
モル数)×1〕であるポリメタロキサンキレート化合物
のアルコール溶液(C3〜C8のアルキル基を有する)か
らなることを特徴とする絶縁被膜形成用塗布液。
(1) The structural unit has a general formula (1) And general formula (2) (Wherein R 1 to R 4 are the same or different,
1 to C 8 alkoxy group or acetylacetone residue), and the content of acetylacetone residue is [(T
(mol number of i) × 4 + (mol number of Si) × 4 ≧ mol number of acetylacetone residue ≧ (mol number of Ti) × 2 + (mol number of Si) × 1] (C 3 having an alkyl group of -C 8) insulating film-forming coating liquid, characterized by comprising.
【請求項2】(2) アルコール溶液のアルコールがCThe alcohol in the alcohol solution is C 4Four 〜C~ C 66 of
アルキル基を有するアルコールである請求項1記載の絶2. The alcohol according to claim 1, which is an alcohol having an alkyl group.
縁被膜形成用塗布液。Coating solution for forming edge coating.
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