JP3235206B2 - Diamond cutting tool and manufacturing method thereof - Google Patents

Diamond cutting tool and manufacturing method thereof

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JP3235206B2
JP3235206B2 JP23734892A JP23734892A JP3235206B2 JP 3235206 B2 JP3235206 B2 JP 3235206B2 JP 23734892 A JP23734892 A JP 23734892A JP 23734892 A JP23734892 A JP 23734892A JP 3235206 B2 JP3235206 B2 JP 3235206B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ダイヤモンド切削工具
に関し、特に気相合成により形成されるダイヤモンドを
刃先に用い、耐摩耗性、耐熱性および耐欠損性に優れた
切削工具ならびにその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a diamond cutting tool, and more particularly to a cutting tool using diamond formed by vapor phase synthesis for its cutting edge and having excellent wear resistance, heat resistance and chipping resistance, and a method for producing the same. .

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイヤモンドは硬度および熱伝導率が高
いため、難削材の切削加工用工具材料として特に有用で
ある。
2. Description of the Related Art Diamond is particularly useful as a tool material for cutting difficult-to-cut materials because of its high hardness and thermal conductivity.

【0003】工具材料として使用されるダイヤモンド
は、単結晶のものと多結晶のものに分けられる。単結晶
ダイヤモンドは、その物理的特性において優れた材料で
あるが、非常に高価であるうえに、工具材料として所望
する形状に加工することは容易でなく、しかも劈開する
という欠点を有している。
[0003] Diamond used as a tool material is classified into a single crystal type and a polycrystalline type. Single crystal diamond is a material excellent in its physical properties, but is very expensive and has a drawback that it is not easy to process it into a desired shape as a tool material and that it is cleaved. .

【0004】一方、工具材料としての多結晶ダイヤモン
ドは、2種類に大別することができる。その1つは、微
細なダイヤモンド粉末をCoなどの鉄族金属をダイヤモ
ンドが安定な超高圧、高温下で焼結することにより得ら
れる焼結ダイヤモンドである。このような焼結技術は、
たとえば、特公昭52−12126号公報に記載されて
いる。
On the other hand, polycrystalline diamond as a tool material can be roughly classified into two types. One of them is a sintered diamond obtained by sintering a fine diamond powder with iron group metal such as Co under ultra-high pressure and high temperature in which diamond is stable. Such sintering technology is
For example, it is described in Japanese Patent Publication No. 52-12126.

【0005】市販されている焼結ダイヤモンドのうち、
特に粒径が数10μm以下の粒径のものは、上記の単結
晶ダイヤモンドに見られるような劈開現象が生じること
なく、優れた耐摩耗性を有することが知られている。
[0005] Among the commercially available sintered diamonds,
In particular, those having a particle size of several tens of μm or less are known to have excellent wear resistance without causing a cleavage phenomenon as seen in the above-mentioned single crystal diamond.

【0006】しかしながら、焼結ダイヤモンドは、数%
〜数10%の結合材を含有するため、焼結体を構成する
ダイヤモンド粒子が切削時に脱落して、ダイヤモンドの
刃先が欠けることがあった。この脱落現象は、工具刃先
のくさび角が小さくなるほど顕著になるので、焼結ダイ
ヤモンド製の鋭利な刃先を長持ちさせることは困難であ
った。
[0006] However, sintered diamond is a few percent.
Since the binder contains about 10% to several tens of percent, the diamond particles constituting the sintered body fall off during cutting, and the cutting edge of the diamond may be chipped. Since the drop-off phenomenon becomes more remarkable as the wedge angle of the tool edge becomes smaller, it has been difficult to extend the life of a sharp edge made of sintered diamond.

【0007】さらに、焼結ダイヤモンドは結合材を含む
ため、単結晶よりも耐熱性に劣り、切削時の摩耗が進行
しやすかった。
Furthermore, since sintered diamond contains a binder, it has lower heat resistance than a single crystal, and wear during cutting is apt to progress.

【0008】これに対し、もう1つの切削工具用多結晶
ダイヤモンドである気相合成ダイヤモンドは、緻密で、
しかも、ダイヤモンドのみからなるため、結晶ダイヤモ
ンドに比べて耐熱性および耐摩耗性がより優れ、しかも
欠損が生じにくいものである。このような気相合成ダイ
ヤモンドは一般に、メタン等の炭化水素と水素を主成分
とする原料ガスを低圧下で分解・励起させる化学蒸着
(CVD)によって作製されている。
On the other hand, vapor-phase synthetic diamond, which is another polycrystalline diamond for cutting tools, is dense,
In addition, since it is composed of diamond alone, it has better heat resistance and wear resistance than crystalline diamond, and hardly generates defects. Such a vapor-phase synthetic diamond is generally produced by chemical vapor deposition (CVD) in which a raw material gas mainly composed of a hydrocarbon such as methane and hydrogen is decomposed and excited under a low pressure.

【0009】気相合成ダイヤモンドを用いた切削工具と
して、たとえば、工具基体上に直接ダイヤモンドを被覆
したダイヤモンドコーティング工具が開発されている。
しかし、ダイヤモンドコーティング工具の場合、工具基
体とダイヤモンド薄膜の密着性が重要であり、たとえ
ば、超硬合金上にダイヤモンド薄膜を形成した工具で
は、切削加工中にダイヤモンド薄膜が剥離するという傾
向があった。
As a cutting tool using vapor-phase synthetic diamond, for example, a diamond coating tool in which diamond is directly coated on a tool substrate has been developed.
However, in the case of a diamond-coated tool, the adhesion between the tool substrate and the diamond thin film is important. For example, in a tool in which a diamond thin film is formed on a cemented carbide, the diamond thin film tends to peel during cutting. .

【0010】また、気相合成ダイヤモンドを工具基体に
直接ろう付けするダイヤモンド切削工具の開発も行なわ
れている。たとえば、特開平1−153228号公報お
よび特開平1−210201号公報は、超硬合金からな
る工具基体に気相合成ダイヤモンドをコーティングした
基材ごと直接ろう付けし、切削工具として供する技術を
開示している。しかし、このような工具では、すくい面
側の基材の研磨工程がなければ工具として使用できず、
また、硬質被削材に対しては、耐摩耗性、耐欠損性がな
お十分でないという問題があった。
[0010] Development of a diamond cutting tool for directly brazing vapor-phase synthetic diamond to a tool base has also been carried out. For example, JP-A-1-153228 and JP-A-1-210201 disclose a technique in which a tool substrate made of a cemented carbide is directly brazed together with a substrate coated with a vapor-phase synthetic diamond to serve as a cutting tool. ing. However, such a tool cannot be used as a tool without the step of polishing the base material on the rake face,
Further, there is a problem that the wear resistance and fracture resistance are still insufficient for hard work materials.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このように、通常の気
相合成ダイヤモンドにおいて、気相合成直後のダイヤモ
ンド表面は粗く、成長するに従い粒径は大きくなり、ダ
イヤモンド特有の六面体構造ないし八面体構造を持つ。
ところで、これを刃先のすくい面にしたいならば研磨仕
上げをする必要があった。そこで、仕上げ加工を容易に
するため、基材上に気相合成されるダイヤモンドは、
(100)面および/または(110)面が基板面に平
行に配向するように形成されることが多かった。
As described above, in a normal vapor-phase synthetic diamond, the diamond surface immediately after the vapor-phase synthesis is rough, and the grain size increases as the diamond grows, so that the diamond has a hexahedral or octahedral structure peculiar to diamond. Have.
By the way, if it is desired to make this a rake face of the cutting edge, it is necessary to perform a polishing finish. Therefore, in order to facilitate the finishing process, diamond synthesized on the base material by vapor phase is
In many cases, the (100) plane and / or the (110) plane are formed so as to be oriented parallel to the substrate plane.

【0012】したがって、多くの場合、刃先のすくい面
は(100)面または(110)面により構成されてい
た。
Therefore, in many cases, the rake face of the cutting edge is constituted by the (100) plane or the (110) plane.

【0013】しかし、このような(100)面および
(110)面は、上述したような研磨仕上げの点からは
好ましいが、ダイヤモンドの粒径が大きく、切削工具と
しては、耐摩耗性、耐欠損性の点からは最適と言えるも
のではなかった。
However, such (100) and (110) planes are preferable from the viewpoint of the above-mentioned polishing finish, but the diamond grain size is large, and as a cutting tool, wear resistance and chipping resistance are obtained. It was not optimal in terms of gender.

【0014】この発明の目的は、従来よりも耐摩耗性と
耐欠損性に優れたダイヤモンド切削工具を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a diamond cutting tool having more excellent wear resistance and chipping resistance than conventional ones.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】第1の発明に従うダイヤ
モンド切削工具は、気相合成されたダイヤモンド素材で
刃先を構成する切削工具において、刃先のすくい面を構
成する主要なダイヤモンド結晶面が(311)面である
ことを特徴とする。
A diamond cutting tool according to a first aspect of the present invention is a cutting tool having a cutting edge made of a diamond material synthesized in a vapor phase, wherein a main diamond crystal face forming a rake face of the cutting edge is (311). ) Surface.

【0016】第1の発明に従う刃先において、すくい面
から少なくとも20μmの深さまでは、(311)面が
主要面としてすくい面になるべく平行に配向しているこ
とが好ましい。
In the cutting edge according to the first aspect of the present invention, it is preferable that the (311) plane is oriented as parallel as possible as a rake surface as a main surface at a depth of at least 20 μm from the rake surface.

【0017】すくい面およびその付近(たとえば、すく
い面から20μmの深さまで)において、(311)面
以外の結晶面の混入は、できる限り抑えることが好まし
く、たとえば、X線回折による(311)面の強度を1
00としたとき、(111)面、(220)面、(40
0)面および(331)面の強度は、それぞれ80以下
が好ましく、より好ましくは、それぞれ10以下が良
い。
In the rake face and its vicinity (for example, up to a depth of 20 μm from the rake face), it is preferable to suppress the inclusion of crystal planes other than the (311) plane as much as possible. Strength of 1
00, (111) plane, (220) plane, (40) plane
The strengths of the (0) plane and the (331) plane are each preferably 80 or less, and more preferably 10 or less.

【0018】また、第1の発明に従う刃先において、
(311)面の配向性の指標として、すくい面からX線
を入射して得られる(311)面のロッキングカーブの
FWHM値(Full Width at Half
Maximum Intensity)が20°以内で
あることがより好ましい。また、(220)面のロッキ
ングカーブのFWHM値は、20°以上であることが好
ましい。
Further, in the cutting edge according to the first invention,
As an index of the orientation of the (311) plane, the FWHM value (Full Width at Half) of the rocking curve of the (311) plane obtained by incidence of X-rays from the rake face.
Maximum Intensity is more preferably within 20 °. The FWHM value of the rocking curve of the (220) plane is preferably 20 ° or more.

【0019】さらに、第1の発明において、すくい面の
面粗さRmax は、0.5μm以下であることが望まし
い。
Further, in the first aspect, it is preferable that the rake face has a surface roughness R max of 0.5 μm or less.

【0020】また、第1の発明に従うダイヤモンド切削
工具を製造するための方法を提供することができる。
Further, it is possible to provide a method for manufacturing the diamond cutting tool according to the first invention.

【0021】第2の発明の製造方法は、ダイヤモンドを
堆積させるべき鏡面仕上げされた面を有する基材を準備
する工程と、上記面に対して略平行に(311)面が配
向するよう気相合成により上記面上にダイヤモンドを堆
積させる工程と、ダイヤモンドが堆積されている基材を
分離または除去して刃先としてのダイヤモンド材を得る
工程と、ダイヤモンド材で基材に接触していた面側を刃
先のすくい面としてダイヤモンド材を工具基体にろう付
けする工程とを備える。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of preparing a base material having a mirror-finished surface on which diamond is to be deposited, and a step of preparing a base material having a (311) plane oriented substantially parallel to the above-mentioned surface. A step of depositing diamond on the surface by synthesis, a step of separating or removing a substrate on which diamond is deposited to obtain a diamond material as a cutting edge, and a step of contacting the diamond material with the substrate side. Brazing a diamond material to the tool base as a rake face of the cutting edge.

【0022】第3の発明の製造方法は、ダイヤモンドを
堆積させるべき表面仕上げされた面を有する基材を準備
する工程と、上記面に対して略平行に(311)面が配
向するよう気相合成により上記面上にダイヤモンドを堆
積させる工程と、ダイヤモンドが堆積されている基材を
分離または除去して刃先としてのダイヤモンド材を得る
工程と、ダイヤモンド材について結晶成長の終了面側を
刃先のすくい面側としてダイヤモンド材を工具基体にろ
う付けする工程とを備え、さらに、ダイヤモンド堆積工
程、または、ろう付け工程の後に、気相合成されたダイ
ヤモンドの結晶成長の成長終了面側を鏡面研磨加工する
工程とを備える。
A manufacturing method according to a third aspect of the present invention includes a step of preparing a base material having a surface-finished surface on which diamond is to be deposited, and a step of preparing a base material having a (311) plane oriented substantially parallel to the surface. A step of depositing diamond on the surface by synthesis, a step of separating or removing a base material on which diamond is deposited to obtain a diamond material as a cutting edge, and a rake of the cutting edge on the diamond material at the end face of crystal growth. And a step of brazing the diamond material to the tool base as the surface side, and further, after the diamond deposition step or the brazing step, the growth end surface side of the crystal growth of the vapor-phase synthesized diamond is mirror-polished. And a step.

【0023】第4の発明の製造方法は、ダイヤモンドを
堆積させるべき表面仕上げされた面を有する基材を準備
する工程と、上記面に対して略平行に(311)面が配
向するよう気相合成により上記面上にダイヤモンドを堆
積させる工程と、ダイヤモンド堆積工程により、ダイヤ
モンドを堆積させた基材を上記刃先のすくい面を構成す
る主要なダイヤモンド結晶面が(311)面となるよう
工具基体にろう付けする工程とを備え、さらに、ダイヤ
モンド堆積工程またはろう付け工程の後に、気相合成さ
れたダイヤモンドの結晶成長の終了面側を鏡面研磨加工
する工程とを備える。
A manufacturing method according to a fourth aspect of the present invention comprises a step of preparing a substrate having a surface having a surface to which diamond is to be deposited, and a step of preparing a substrate so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the plane. A step of depositing diamond on the surface by synthesis, and a step of depositing the diamond-deposited base material on the tool base such that the main diamond crystal plane constituting the rake face of the cutting edge is the (311) plane by the diamond deposition step. Further comprising, after the diamond deposition step or the brazing step, a step of mirror-polishing the end face side of the crystal growth of the vapor-phase synthesized diamond.

【0024】第5の発明の製造方法は、ダイヤモンドを
堆積させるべき表面仕上げされた面を有する基材を準備
する工程と、上記面に対して略平行に(311)面が配
向するよう気相合成により上記面上にダイヤモンドを堆
積させる工程と、ダイヤモンド堆積工程によりダイヤモ
ンドを堆積させた基材のダイヤモンドの結晶成長の終了
面側を工具基体にろう付けする工程と、上記刃先のすく
い面を構成する主要なダイヤモンド結晶面が(311)
面となるよう、基材を分離または除去する工程とを備え
る。
The manufacturing method according to a fifth aspect of the present invention includes a step of preparing a substrate having a surface-finished surface on which diamond is to be deposited, and a step of preparing a substrate so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the surface. A step of depositing diamond on the surface by synthesis, a step of brazing the end face of the diamond crystal growth of the base material on which the diamond is deposited in the diamond deposition step to a tool base, and forming a rake face of the cutting edge. The main diamond crystal plane is (311)
Separating or removing the substrate so as to form a surface.

【0025】第1〜第5の発明において、気相合成によ
るダイヤモンドの形成には、種々の気相合成法が適用で
きる。たとえば、熱フィラメントやプラズマ放電を利用
して原料ガスを分解・励起させるCVD法や、燃焼炎を
用いたCVD法が有効である。
In the first to fifth inventions, various vapor phase synthesis methods can be applied to the formation of diamond by vapor phase synthesis. For example, a CVD method in which a raw material gas is decomposed and excited using a hot filament or plasma discharge, or a CVD method using a combustion flame is effective.

【0026】また、原料ガスとしては、たとえば、メタ
ン、エタン、プロパンなどの炭化水素類、メタノール、
エタノールなどのアルコール類またはエステル類などの
有機炭素化合物と水素とを主成分として混合したガスを
用いることができる。なお、これ以外に、アルゴンなど
の不活性ガスや酸素、一酸化炭素、水などが、ダイヤモ
ンドの合成反応やその特性を阻害しない範囲で原料中に
含有されていてもよい。
Examples of the raw material gas include hydrocarbons such as methane, ethane, and propane; methanol;
A gas in which an organic carbon compound such as alcohols or esters such as ethanol and hydrogen are mixed as main components can be used. In addition, an inert gas such as argon, oxygen, carbon monoxide, water, and the like may be contained in the raw material as long as the synthesis reaction of diamond and its characteristics are not impaired.

【0027】第2〜第5の発明において、(311)面
は、上述したCVDにおいて、通常はカーボン濃度を下
げること(たとえば水素ガスに対して)により形成させ
ることができる。
In the second to fifth aspects of the present invention, the (311) plane can be usually formed by lowering the carbon concentration (for hydrogen gas, for example) in the above-mentioned CVD.

【0028】気相合成のための基材には、たとえば、S
iおよびMo等が好ましく用いられる。このような基材
は、機械加工または化学的処理による溶解・分離等によ
って、ダイヤモンドから分離・除去することができる。
The base material for the vapor phase synthesis is, for example, S
i and Mo are preferably used. Such a base material can be separated and removed from diamond by melting or separating by mechanical processing or chemical treatment.

【0029】第2の発明の方法において、基材を分離ま
たは除去した後、残ったダイヤモンドは、そのまま次の
工程に供されてもよいし、たとえば切断等によって適当
な大きさまで加工されてもよい。
In the method of the second invention, after separating or removing the base material, the remaining diamond may be subjected to the next step as it is, or may be processed to an appropriate size by, for example, cutting or the like. .

【0030】第2の発明に従う方法において、ダイヤモ
ンドが形成されるべき基材の表面は、面粗さRmax が1
μm以下、好ましくは、0.2μm以下となるよう鏡面
仕上げされていることがより好ましい。
[0030] In the method according to the second invention, the surface of the substrate to the diamond is formed, a surface roughness R max is 1
It is more preferable that the mirror finish is performed so as to be not more than μm, preferably not more than 0.2 μm.

【0031】第2の発明の方法においては、気相合成
後、基材を分離または除去して得られたダイヤモンド材
は、工具基体にろう付けされる。ろう付けにあたり、基
材と接触していたダイヤモンド面側、すなわち結晶成長
開始面側が、刃先のすくい面側とされる。したがって、
この面側と対向する面側、すなわち結晶成長の終了面側
が、通常、ろう付け面とされる。
In the method of the second invention, the diamond material obtained by separating or removing the substrate after the vapor phase synthesis is brazed to the tool base. In brazing, the diamond surface side that has been in contact with the base material, that is, the crystal growth start surface side is set as the rake face side of the cutting edge. Therefore,
The surface side opposite to this surface side, that is, the end surface side of the crystal growth, is usually a brazing surface.

【0032】このろう付けされるべき面には、周期律表
の第IVA族、第IVB族、第VA族、第VB族、第V
IA族、第VIB族、第VIIA族および第VIIB族
に含まれる金属ならびにこれらの化合物のいずれかから
なるメタライズ層が、ろう付けに先立って形成されるこ
とが好ましい。ろう付けは、このメタライズ層を介して
効果的に行なうことができる。
The surfaces to be brazed include groups IVA, IVB, VA, VB, VV of the periodic table.
It is preferable that a metallized layer composed of any of the metals included in Group IA, Group VIB, Group VIIA, and Group VIIB and any of these compounds be formed prior to brazing. Brazing can be effectively performed through this metallized layer.

【0033】第3の発明の方法においては、刃先として
のダイヤモンド材は、ダイヤモンドについて結晶成長の
終了面側をすくい面側として工具基体にろう付けされ
る。したがって、気相合成において基材と接触していた
ダイヤモンド面側、すなわち結晶成長開始面側がろう付
けされるべき面とされる。このろう付けされるべき面に
は、上述したようなメタライズ層がろう付けに先立って
形成されてもよい。ろう付けは、このメタライズ層を介
して効果的に行なうことができる。
[0033] In the method of the third invention, the diamond material as the cutting edge is brazed to the tool base with the end face of the crystal growth of the diamond being the rake face. Therefore, the side of the diamond surface that has been in contact with the substrate in the vapor phase synthesis, that is, the side of the crystal growth starting surface, is the surface to be brazed. A metallized layer as described above may be formed on the surface to be brazed prior to brazing. Brazing can be effectively performed through this metallized layer.

【0034】第3の発明に従う方法において、鏡面研磨
加工により得られるすくい面の面粗さは、たとえば、R
max 0.2μm以下とすることが望ましい。また、鏡面
加工後得られるすくい面およびその付近(たとえばすく
い面から20μmの深さまで)における(311)面以
外の結晶面の混入は、できる限り抑えることが好まし
く、たとえば、X線回折による(311)面の強度を1
00とした場合、(111)面、(220)面、(40
0)面および(331)面の強度はそれぞれ90以下が
好ましく、より好ましくは、それぞれ50以下が良い。
In the method according to the third aspect of the present invention, the rake face obtained by mirror polishing has a surface roughness of, for example, R
It is desirable that max be 0.2 μm or less. In addition, it is preferable to suppress the incorporation of crystal planes other than the (311) plane in the rake face obtained after mirror polishing and in the vicinity thereof (for example, from the rake face to a depth of 20 μm) as much as possible. ) Surface strength 1
00, (111) plane, (220) plane, (40) plane
The strengths of the (0) plane and the (331) plane are each preferably 90 or less, more preferably 50 or less.

【0035】第4の発明に従う方法においては、基板上
にダイヤモンドを堆積させた後、基材を分離または除去
することなく、基材付きで刃先を形成する方法である。
ダイヤモンドを堆積させた基材は、工具基体にろう付け
される。ろう付けにあたり、基材上に堆積させたダイヤ
モンドは、結晶成長の終了面側が、刃先のすくい面側と
される。このろう付けされるべき基材の面は、上述した
ようなメタライズ層がろう付けに先立って形成されても
よい。ろう付けは、このメタライズ層を介して効果的に
行なうことができる。また、第4の発明に従う方法にお
いて、鏡面研磨加工により得られるすくい面の面粗さ
は、第3の発明に従う方法において、鏡面研磨加工によ
り得られるすくい面の面粗さと同様であることが好まし
い。
In a method according to a fourth aspect of the present invention, a method of forming a cutting edge with a substrate without depositing or removing the substrate after depositing diamond on the substrate.
The diamond-deposited substrate is brazed to a tool substrate. In brazing, the diamond deposited on the substrate has the rake face of the cutting edge on the side where crystal growth ends. The surface of the substrate to be brazed may have a metallized layer as described above formed prior to brazing. Brazing can be effectively performed through this metallized layer. In the method according to the fourth invention, the surface roughness of the rake face obtained by mirror polishing is preferably the same as the surface roughness of the rake face obtained by mirror polishing in the method according to the third invention. .

【0036】第5の発明に従う方法においては、ダイヤ
モンドの結晶成長の終了面側を工具基体にろう付けした
後、基材を分離または除去し、ダイヤモンドの結晶成長
開始面側を刃先のすくい面として露出させる。このよう
な基材は、機械加工または化学的処理による溶解・分離
等によって、ダイヤモンドから分離・除去することがで
きる。
In the method according to the fifth aspect of the invention, after the end face of the diamond crystal growth is brazed to the tool base, the base material is separated or removed, and the diamond crystal growth start face is used as the rake face of the cutting edge. Expose. Such a base material can be separated and removed from diamond by melting or separating by mechanical processing or chemical treatment.

【0037】この鏡面研磨加工工程は、気相合成により
ダイヤモンド堆積工程の後に行なってもよいし、ダイヤ
モンド材について結晶成長の終了面側を刃先のすくい面
側として、ダイヤモンド材を工具基体にろう付けする工
程の後に行なってもよい。
This mirror polishing step may be performed after the diamond deposition step by vapor phase synthesis, or the diamond material is brazed to the tool base with the end face of crystal growth of the diamond material being the rake face of the cutting edge. May be performed after the step of

【0038】なお、第2〜第5の発明において、基材上
に気相合成により堆積させるダイヤモンドの厚みは、た
とえば20〜3000μmが好ましい。
In the second to fifth inventions, the thickness of diamond deposited on the substrate by vapor phase synthesis is preferably, for example, 20 to 3000 μm.

【0039】なお、本明細書で、「鏡面研磨加工」とい
うときは、通常のダイヤモンド砥粒を用いた研磨処理の
他、たとえば、イオンミリングや、放電加工等の広い意
味における表面粗度を低下させる概念を意味する。
In this specification, the term "mirror polishing" refers to not only a polishing process using ordinary diamond abrasive grains but also a reduction in surface roughness in a broad sense such as ion milling and electric discharge machining. Means the concept to let.

【0040】[0040]

【発明の作用効果】第1の発明に従う工具では、刃先の
すくい面が(311)面で占められている。ダイヤモン
ドの自形面としては、(111)面、(110)面、
(100)面があり、この組合せによる面構造を持つ。
したがってよく知られているのは、六面体構造ないし八
面体構造である。
In the tool according to the first invention, the rake face of the cutting edge is occupied by the (311) plane. (111) plane, (110) plane,
There is a (100) plane, which has a plane structure based on this combination.
Thus, well-known are hexahedral or octahedral structures.

【0041】このため、これらの面が出ると、粒径が大
きくなり、工具としては、耐衝撃性が劣り、劈開しやす
くなる。これに対し、(311)面は、自形面として現
われないため、結晶内部が微細な構造となる。したがっ
て、すくい面は従来に比べてより欠損しにくい。このよ
うな工具は、従来よりも欠損性と耐摩耗性により優れた
ものである。
For this reason, when these surfaces come out, the grain size becomes large, and the impact resistance of the tool is inferior, and the tool is easily cleaved. On the other hand, since the (311) plane does not appear as a self-shaped plane, the inside of the crystal has a fine structure. Therefore, the rake face is less likely to be chipped than in the past. Such a tool is more excellent in chipping and abrasion resistance than before.

【0042】第2の発明に従う方法では、まず、鏡面仕
上げされた基材面上に気相合成によりダイヤモンドを堆
積させる。したがって、ダイヤモンド合成後、基材を分
離または除去して得られたダイヤモンド材において、基
材と接触していた面は、鏡面となっている。この面は、
研磨仕上げを行なう必要がないか、必要があっても簡単
な研磨仕上げで十分である。
In the method according to the second invention, first, diamond is deposited on the mirror-finished substrate surface by vapor phase synthesis. Therefore, in the diamond material obtained by separating or removing the base material after the synthesis of the diamond, the surface in contact with the base material is a mirror surface. This aspect
It is not necessary to perform polishing, or if necessary, simple polishing is sufficient.

【0043】さらに、基材面と略平行に(311)面が
配向するよう気相合成を行なうので、ダイヤモンド材に
おいて基材と接触していた面は、ほとんど(311)面
で占められている。したがって、基材と接触していた面
がすくい面となるようダイヤモンド材を工具基体にろう
付けすれば、容易に従来よりも耐摩耗性と、耐欠損性に
優れた工具を得ることができる。
Furthermore, since the vapor phase synthesis is performed so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the base material plane, the surface of the diamond material which has been in contact with the base material is almost occupied by the (311) plane. . Therefore, if the diamond material is brazed to the tool base such that the surface that has been in contact with the base material becomes a rake face, it is possible to easily obtain a tool having better wear resistance and chipping resistance than the conventional case.

【0044】第3の発明に従う方法においては、基材上
に(311)面が配向したダイヤモンド層を堆積させ
る。
In the method according to the third invention, a diamond layer having a (311) plane oriented is deposited on a substrate.

【0045】従来の気相合成におけるダイヤモンドにつ
いて結晶成長の終了面がほとんど(111)面で占めら
れる場合は、この結晶成長の終了面は粗く、すくい面に
しようとするならば、研磨仕上げを行なう必要があり、
このような研磨は(111)面の高い硬度のため非常に
困難である。しかも、成長終了面におけるダイヤモンド
結晶の粒径は、比較的大きく、これをすくい面にすると
(111)面の高い硬度のために工具使用に際して欠損
が生じやすい。
When the end face of crystal growth of diamond in conventional vapor phase synthesis is almost occupied by the (111) plane, the end face of crystal growth is rough, and if a rake face is to be obtained, polishing is performed. Need
Such polishing is very difficult due to the high hardness of the (111) plane. In addition, the grain size of the diamond crystal on the growth termination surface is relatively large, and if the diamond crystal is formed as a rake surface, chipping is likely to occur when using a tool due to the high hardness of the (111) plane.

【0046】これに対し、基材上に堆積させた(31
1)面が配向したダイヤモンド層は、硬度が低いため、
容易に鏡面研磨加工を施すことができる。しかも、基材
の面に対して略平行に(311)面が配向するように気
相合成によりダイヤモンド層を堆積させた場合、ダイヤ
モンドについて結晶成長の終了面は、微細な粒径の組織
を有しており、しかも、(311)面は、自形面でない
ため欠損が生じにくく、耐摩耗性に優れる。したがっ
て、ダイヤモンド材について、結晶成長の終了面側がす
くい面となるようダイヤモンド材を工具基体にろう付け
すれば、容易に従来よりも耐摩耗性と耐欠損性に優れた
工具を得ることができる。
On the other hand, (31)
1) The diamond layer whose plane is oriented has low hardness,
Mirror polishing can be easily performed. In addition, when a diamond layer is deposited by vapor phase synthesis so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the surface of the base material, the end face of crystal growth of diamond has a structure with a fine grain size. In addition, since the (311) plane is not a self-shaped surface, it is unlikely to be damaged and has excellent wear resistance. Therefore, if the diamond material is brazed to the tool base such that the ending surface of the crystal growth becomes a rake face, a tool having more excellent wear resistance and chipping resistance than the conventional one can be easily obtained.

【0047】第4の発明に従って製造されるダイヤモン
ド切削工具は、第3の発明に従って製造されるダイヤモ
ンド切削工具と、刃先として用いるダイヤモンド材が、
基材を介在して工具基体のろう付けされている点が異な
っているだけで、第3の発明と同様の効果を奏する。
The diamond cutting tool manufactured according to the fourth aspect of the present invention includes a diamond cutting tool manufactured according to the third aspect of the invention and a diamond material used as a cutting edge.
The effect similar to that of the third aspect of the invention is exerted only with the difference that the tool base is brazed via the base.

【0048】第5の発明と第2の発明とは、ダイヤモン
ドを堆積させた基材を工具基体にろを付けした後、ダイ
ヤモンドと基材を分離または除去している点が異なって
いるだけで、第5の発明に従って製造されるダイヤモン
ド切削工具は、第2の発明に従って製造されるダイヤモ
ンド切削工具と同様の効果を奏する。
The fifth invention and the second invention are different from the fifth invention only in that the base material on which diamond is deposited is filtered on the tool base and then the diamond and the base material are separated or removed. The diamond cutting tool manufactured according to the fifth invention has the same effect as the diamond cutting tool manufactured according to the second invention.

【0049】以上第2〜第5の発明に従えば、平坦で、
かつ(311)面で実質的に構成されるすくい面を備え
たダイヤモンド切削工具を提供することができる。この
ような工具は、従来よりも耐摩耗性と耐欠損性により優
れたものである。
According to the second to fifth aspects of the present invention,
In addition, it is possible to provide a diamond cutting tool having a rake face substantially constituted by the (311) plane. Such a tool is more excellent in wear resistance and fracture resistance than in the past.

【0050】[0050]

【実施例】【Example】

実施例1 Rmax 0.2μm以下となるよう鏡面仕上げしたSi基
材を準備した。
Example 1 An Si substrate mirror-finished so as to have an R max of 0.2 μm or less was prepared.

【0051】フィラメントに直径0.5mm、長さ10
0mmのタングステンを用いた公知の熱フィラメントC
VD法により以下の条件で、Si鏡面上に厚さ250μ
mの多結晶ダイヤモンドを堆積させた。
The filament has a diameter of 0.5 mm and a length of 10
Known hot filament C using 0 mm tungsten
Under the following conditions by the VD method, a thickness of 250 μm
m of polycrystalline diamond were deposited.

【0052】原料ガス(流量):CH4 /H2 =1%、
総流量1000cc/min ガス圧力:30Torr フィラメント温度:2200℃ フィラメント−基板間距離:5mm 基板温度:700℃ 次に、Si基材上の多結晶ダイヤモンドを工具に必要な
大きさおよび形状にレーザで切断した後、フッ硝酸でS
i基材を溶解除去してダイヤモンドの刃先を得た。
Source gas (flow rate): CH 4 / H 2 = 1%,
Total flow rate: 1000 cc / min Gas pressure: 30 Torr Filament temperature: 2200 ° C. Filament-substrate distance: 5 mm Substrate temperature: 700 ° C. Next, the polycrystalline diamond on the Si base material is cut into the size and shape required for the tool by laser. After that, S
The i-base was dissolved and removed to obtain a diamond cutting edge.

【0053】このようにして得られたダイヤモンドの刃
先について、Si基材側であったダイヤモンド面からX
線を入射するX線回折を行なったところ、(311)面
に対する(220)および(400)面のピーク強度比
I(220)/I(311)およびI(400)/I
(311)はそれぞれ0.1、0.02であり、(31
1)面について配向性が得られたことがわかった。
With respect to the cutting edge of the diamond obtained in this manner, X was determined from the diamond surface on the Si substrate side.
When X-ray diffraction was performed with incident X-rays, the peak intensity ratios of the (220) and (400) planes to the (311) plane were I (220) / I (311) and I (400) / I
(311) is 0.1 and 0.02, respectively, and (31)
1) It was found that orientation was obtained for the plane.

【0054】また、得られた刃先において、基材と接触
していた面からX線を入射して、この面と平行な面の
(311)面のロッキングカーブにおけるFWHM値を
求めた。その結果、FWHM値(°)は8°であった。
また、(220)面のロッキングカーブにおけるFWH
M値(°)は25°であった。
Further, at the obtained cutting edge, X-rays were incident from the surface in contact with the base material, and the FWHM value of the rocking curve of the (311) plane parallel to this plane was determined. As a result, the FWHM value (°) was 8 °.
Also, the FWH in the rocking curve of the (220) plane
The M value (°) was 25 °.

【0055】得られたダイヤモンドの刃先において、結
晶成長の終了面Seに厚さ1μmでTi、厚さ2μmで
Niを順次積層して後、このメタライズ層が形成された
面を接合面として、超硬合金(SPG422)の台金に
銀ろうを用いて上記刃先を真空ろう付けした。刃先すく
い面のRmax は0.2μmであった。
On the resulting diamond cutting edge, Ti and Ni having a thickness of 1 μm and 2 μm are sequentially laminated on the crystal growth ending surface Se, and the surface on which the metallized layer is formed is used as a bonding surface. The cutting edge was vacuum brazed using silver brazing to a hard metal (SPG422) base metal. R max of the cutting edge rake face was 0.2 [mu] m.

【0056】ろう付けによって得られた工具について、
その主要部を図1に示す。超合金からなる台金1の所定
の領域に、ろう付け層3およびメタライズ層4を介して
ダイヤモンドの刃先2が固定されている。刃先2におけ
るすくい面5は、(311)面で占められている。ま
た、刃先2の端面には逃げ面6が形成されている。
For the tool obtained by brazing,
The main part is shown in FIG. A diamond cutting edge 2 is fixed to a predetermined region of a base metal 1 made of a superalloy via a brazing layer 3 and a metallized layer 4. The rake face 5 of the cutting edge 2 is occupied by the (311) plane. A flank 6 is formed on the end face of the cutting edge 2.

【0057】実施例2 Si基材について面粗さRmax 0.2μm以下となるよ
う鏡面研磨加工を施した。
Example 2 A Si substrate was mirror-polished so as to have a surface roughness R max of 0.2 μm or less.

【0058】公知のマイクロ波プラズマCVD法により
以下の条件で、Si鏡面上に厚さ300μmの多結晶ダ
イヤモンドを形成させた。
A polycrystalline diamond having a thickness of 300 μm was formed on a mirror surface of Si under the following conditions by a known microwave plasma CVD method.

【0059】原料ガス(流量):C2 2 /H2 =0.
2%、総流量600cc/min ガス圧力:40Torr マイクロ波出力:450W(2.45GHz) 基板温度:650℃ 次に、Si基材上の多結晶ダイヤモンドを工具に必要な
大きさおよび形状にレーザで切断した後、フッ硝酸でS
i基材を溶解除去してダイヤモンドの刃先を得た。
Source gas (flow rate): C 2 H 2 / H 2 = 0.
2%, total flow rate 600 cc / min Gas pressure: 40 Torr Microwave output: 450 W (2.45 GHz) Substrate temperature: 650 ° C. Next, the polycrystalline diamond on the Si substrate is laser-sized to the size and shape required for the tool. After cutting, S
The i-base was dissolved and removed to obtain a diamond cutting edge.

【0060】得られたダイヤモンドの刃先についてX線
回折を行なった。その結果、I(220)/I(31
1)は0.6であり、I(400)/I(311)は
0.08であった。また、(311)面のロッキングカ
ーブのFWHM値は、10°であった。さらに、(22
0)面のロッキングカーブのFWHM値は21°であっ
た。
X-ray diffraction was performed on the cutting edge of the obtained diamond. As a result, I (220) / I (31
1) was 0.6 and I (400) / I (311) was 0.08. The FWHM value of the rocking curve of the (311) plane was 10 °. Furthermore, (22
The FWHM value of the rocking curve of the 0) plane was 21 °.

【0061】次に、得られた刃先において結晶成長の終
了面に実施例1と同様にしてメタライズ層を形成した
後、超硬合金(SPG422)の台金に銀ろうを用いて
ろう付け接合を行なった。ろう付けの後、ダイヤモンド
の刃先において基材に接触していた面を軽く鏡面仕上げ
してすくい面とした。すくい面のRmax は0.1μmで
あった。
Next, after a metallized layer was formed on the obtained cutting edge on the surface where crystal growth was completed in the same manner as in Example 1, brazing was performed by using silver brazing on a cemented carbide (SPG422) base metal. Done. After brazing, the surface of the diamond cutting edge that was in contact with the substrate was slightly mirror-finished to a rake surface. R max of the rake face was 0.1 μm.

【0062】実施例3 Rmax 0.2μm以下となるよう鏡面仕上げしたSi基
材を用い、実施例1と同様のタングステンフィラメント
を用いた熱フィラメントCVDにより以下の条件で、S
i鏡面上に厚さ250μmの多結晶ダイヤモンドを形成
させた。
Example 3 Using a Si substrate mirror-finished so as to have R max of 0.2 μm or less, hot filament CVD using the same tungsten filament as in Example 1 was carried out under the following conditions.
A polycrystalline diamond having a thickness of 250 μm was formed on the i-mirror surface.

【0063】原料ガス(流量):CH4 /H2 =1%、
CO2 /CH4 =0.5% 総流量600cc/min ガス圧力:60Torr フィラメント温度:2150℃ フィラメント−基板間距離:7mm 基板温度:750℃ ダイヤモンド形成の後のX線回折の結果、I(220)
/I(311)は0.8であり、最初のダイヤモンド形
成においては基材面平行に(311)面が強く配向して
いる。
Source gas (flow rate): CH 4 / H 2 = 1%
CO 2 / CH 4 = 0.5% Total flow rate 600 cc / min Gas pressure: 60 Torr Filament temperature: 2150 ° C. Filament-substrate distance: 7 mm Substrate temperature: 750 ° C. As a result of X-ray diffraction after diamond formation, I (220) )
/ I (311) is 0.8, and in the first diamond formation, the (311) plane is strongly oriented parallel to the substrate surface.

【0064】Si基材上のダイヤモンドを鏡面研磨加工
して、Rmax <0.1μm以下とし、その後、工具に必
要な大きさおよび形状にレーザで切断加工した後、フッ
硝酸でシリコン基材を融解除去してダイヤモンドの刃先
を得た。
The diamond on the Si substrate is mirror-polished to make R max <0.1 μm or less, then cut into a size and shape required for the tool by a laser, and then the silicon substrate is etched with hydrofluoric nitric acid. After melting and removal, a diamond cutting edge was obtained.

【0065】得られたダイヤモンドの刃先において、基
材に接触していた面Ssに厚さ1μmでTi、厚さ2μ
mでNiを順次積層した後、このメタライズ層が形成さ
れた面を接合面として、超硬合金(SPG422)の台
金に銀ろうを用いて上記刃先を真空ろう付けした。
In the obtained diamond cutting edge, a Ti having a thickness of 1 μm and a thickness of 2 μm
After sequentially laminating Ni with m, the cutting edge was vacuum brazed using silver brazing to a base metal of cemented carbide (SPG422) using the surface on which the metallized layer was formed as a bonding surface.

【0066】刃先のすくい面のRmax は、0.2μmで
あった。このようにして得られたダイヤモンド切削工具
の主要部を図2に示す。
[0066] R max of the rake face of the cutting edge was 0.2 [mu] m. FIG. 2 shows the main part of the diamond cutting tool thus obtained.

【0067】刃先12のすくい面15は、平坦にされて
いるとともに、その大部分が(311)面で構成されて
いる。
The rake face 15 of the cutting edge 12 is made flat, and most of it is constituted by the (311) face.

【0068】なお、実施例3では、ダイヤモンド堆積工
程後にダイヤモンドの結晶成長終了面側を鏡面研磨加工
した例を示したが、このような鏡面研磨加工工程は、ダ
イヤモンドの刃先を超硬合金(SPG422)の台金に
ろう付けした後に行なってもよい。また、ダイヤモンド
堆積工程後にダイヤモンドの結晶成長終了面側を鏡面研
磨加工し、さらに、ダイヤモンドの刃先を超硬合金(S
PG422)の台金にろう付けした後、ダイヤモンドの
結晶成長終了面側を鏡面研磨加工してもよい。
In the third embodiment, an example in which the diamond crystal growth ending surface side is mirror-polished after the diamond deposition step has been described. In such a mirror-polishing step, the diamond cutting edge is formed of a cemented carbide (SPG422). ) May be performed after brazing to the base metal. After the diamond deposition step, the side of the diamond crystal growth end surface is mirror-polished, and the cutting edge of the diamond is cemented carbide (S
After brazing to the base metal of PG422), the diamond crystal growth end surface side may be mirror-polished.

【0069】実施例4 実施例3と同一条件でSi基材の鏡面上に厚さ300μ
mの多結晶ダイヤモンドを形成させた。次に、Si基材
上の多結晶ダイヤモンドを工具に必要な大きさおよび形
状にレーザで切断した。次に、ダイヤモンドが形成され
たSi基材のダイヤモンドを形成した面に相対向する面
に、実施例1と同様にして、メタライズ層を形成した
後、超硬合金(SPG422)の台金に銀ろうを用いて
ろう付け接合を行なった。
Example 4 Under the same conditions as in Example 3, a 300 μm thick
m of polycrystalline diamond was formed. Next, the polycrystalline diamond on the Si substrate was cut into a size and shape required for the tool by a laser. Next, a metallized layer is formed on the surface of the Si substrate on which the diamond is formed, on the surface opposite to the surface on which the diamond is formed, in the same manner as in Example 1, and then the silver of the base metal of the cemented carbide (SPG422) is formed. Brazing was performed using a braze.

【0070】台金にダイヤモンドが形成されたSi基材
をろう付けした後、Si基材上のダイヤモンドを鏡面研
磨加工して、Rmax ≦0.2μm以下とした。このよう
にして得られたダイヤモンド切削工具の主要部を図3に
示す。超硬合金(SPG422)からなる台金21の所
定領域に、ろう付け層23およびメタライズ層24を介
してSi基材27がろう付けされる。Si基材27上の
ダイヤモンド材の刃先22のすくい面25は、平坦にさ
れているとともに、その大部分が(311)面で構成さ
れている。なお、実施例4では、ダイヤモンドが形成さ
れたSi基材27を、台金21にろう付けするろう付け
工程後にダイヤモンドの結晶成長終了面側を鏡面研磨加
工した例を示したが、このような鏡面研磨加工工程は、
Si基材27上にダイヤモンドを堆積するダイヤモンド
堆積工程後に行なってもよい。また、ダイヤモンド堆積
工程後にダイヤモンドの結晶成長終了面側を鏡面研磨加
工し、さらに、ろう付け工程後に、ダイヤモンドの結晶
成長終了面側を鏡面研磨加工してもよい。
After brazing the Si substrate on which the diamond was formed to the base metal, the diamond on the Si substrate was mirror-polished to make R max ≦ 0.2 μm or less. FIG. 3 shows a main part of the diamond cutting tool thus obtained. The Si base material 27 is brazed to a predetermined region of the base metal 21 made of cemented carbide (SPG422) via the brazing layer 23 and the metallized layer 24. The rake face 25 of the diamond cutting edge 22 on the Si base material 27 is flattened, and most of the rake face 25 is constituted by the (311) face. In the fourth embodiment, an example is shown in which, after the brazing step of brazing the Si base material 27 on which the diamond is formed to the base metal 21, the crystal growth end surface side of the diamond is mirror-polished. The mirror polishing process is
This may be performed after the diamond deposition step of depositing diamond on the Si base material 27. After the diamond deposition step, the diamond crystal growth end surface may be mirror-polished, and after the brazing step, the diamond crystal growth end surface may be mirror-polished.

【0071】実施例5 図4を参照して、実施例1と同一条件で、Si基材の鏡
面上に厚さ300μmの多結晶ダイヤモンドを形成させ
た。次に、Si基材上の多結晶ダイヤモンドを工具に必
要な大きさおよび形状にレーザで切断した。次に、Si
基材37を分離または除去することなく、ダイヤモンド
の結晶成長の終了面Seに厚さ1μmでTiを、厚さ2
μmでNiを順次積層した後、このメタライズ層34が
形成された面を接合面として、超硬合金(SPG42
2)の台金31に銀ろうを用いて真空ろう付けした(図
4(a)を参照)。次に、フッ硝酸でSi基材37を溶
解除去して、ダイヤモンド切削工具を作製した。Si基
材37を溶解除去したダイヤモンドの刃先32におい
て、Si基材37に接触していた面Ssを軽く鏡面仕上
げしてすくい面35とした。すくい面35のRmax
0.1μmであった。なお、実施例5の工具の主要部を
図4(b)に示す。図4(b)を参照して、超合金から
なる台金31の所定の領域に、ろう付け層33およびメ
タライズ層34を介してダイヤモンドの刃先32が固定
されている。刃先32におけるすくい面35は、(31
1)面で占められている。また、刃先32の端面には逃
げ面36が形成されている。
Example 5 Referring to FIG. 4, polycrystalline diamond having a thickness of 300 μm was formed on a mirror surface of a Si base under the same conditions as in Example 1. Next, the polycrystalline diamond on the Si substrate was cut into a size and shape required for the tool by a laser. Next, Si
Without separating or removing the base material 37, Ti having a thickness of 1 μm and a thickness of 2
After sequentially laminating Ni with a thickness of μm, a cemented carbide (SPG42)
The base metal 31 of 2) was vacuum brazed using a silver braze (see FIG. 4A). Next, the Si substrate 37 was dissolved and removed with hydrofluoric acid to produce a diamond cutting tool. In the diamond cutting edge 32 from which the Si substrate 37 was dissolved and removed, the surface Ss that was in contact with the Si substrate 37 was lightly mirror-polished to form a rake surface 35. R max of the rake face 35 was 0.1 μm. FIG. 4B shows a main part of the tool according to the fifth embodiment. Referring to FIG. 4B, a diamond cutting edge 32 is fixed to a predetermined region of a base metal 31 made of a superalloy via a brazing layer 33 and a metallized layer. The rake face 35 of the cutting edge 32 is (31
1) It is occupied by the face. A flank 36 is formed on the end face of the cutting edge 32.

【0072】比較例 実施例1に用いたと同様の装置を用いて熱フィラメント
CVD法により以下の条件で、Si鏡面上に厚さ200
μmの多結晶ダイヤモンドを形成させた。
Comparative Example Using a device similar to that used in Example 1, a hot filament CVD method was used to form a film having a thickness of 200
A μm polycrystalline diamond was formed.

【0073】原料ガス(流量):CH4 /H2 =3%、
総流量1000cc/min ガス圧力:80Torr フィラメント温度:2150℃ フィラメント−基板間距離:6mm 基板温度:920℃ 次に、Si基材上の多結晶ダイヤモンドを工具に必要な
大きさおよび形状にレーザで切断した後、フッ硝酸でS
i基材を溶解除去してダイヤモンドの刃先を得た。
Source gas (flow rate): CH 4 / H 2 = 3%,
Total flow rate 1000 cc / min Gas pressure: 80 Torr Filament temperature: 2150 ° C. Filament-substrate distance: 6 mm Substrate temperature: 920 ° C. Next, the polycrystalline diamond on the Si base material is cut by laser into a size and shape required for a tool. After that, S
The i-base was dissolved and removed to obtain a diamond cutting edge.

【0074】得られたダイヤモンドの刃先についてX線
回折を行なったところ、ピーク強度比I(220)/I
(311)が20であり、(220)面が強く配向して
いることがわかった。また、(220)面のロッキング
カーブによるとFWHM値は10°であった。他のピー
ク強度比I(111)/I(311)は5であり、ピー
ク強度比I(331)〜I(311)は6であり、まだ
(400)面は観察されなかった。
X-ray diffraction was performed on the obtained diamond cutting edge, and the peak intensity ratio I (220) / I
(311) was 20, indicating that the (220) plane was strongly oriented. Further, according to the rocking curve of the (220) plane, the FWHM value was 10 °. Other peak intensity ratios I (111) / I (311) were 5, peak intensity ratios I (331) to I (311) were 6, and the (400) plane was not observed yet.

【0075】このようにして得られた刃先を実施例1と
同様にして超硬合金の台金にろう付けした。
The cutting edge thus obtained was brazed to a cemented carbide base in the same manner as in Example 1.

【0076】実施例1〜実施例5および比較例において
製作したダイヤモンド切削工具の性能を評価するため
に、次に示す切削条件で切削試験(旋削)を実施した。
In order to evaluate the performance of the diamond cutting tools manufactured in Examples 1 to 5 and Comparative Example, a cutting test (turning) was performed under the following cutting conditions.

【0077】被削材:A390 切削速度:800m/min 送り:0.12mm/rev 切込み:0.5mm 約30分間の連続切削試験の結果、各サンプルの最大逃
げ面摩耗幅(VB max:μm)は、実施例1サンプル:
48μm、実施例2サンプル:78μm、実施例3サン
プル:45μm、実施例4サンプル:45μm、およ
び、実施例5サンプル:48μmであり、本発明に従う
実施例では良好な特性が示された。
Work material: A390 Cutting speed: 800 m / min Feed: 0.12 mm / rev Depth of cut: 0.5 mm As a result of a continuous cutting test for about 30 minutes, the maximum flank wear width of each sample (V B max : μm) ) Is the sample of Example 1:
48 μm, Example 2 sample: 78 μm, Example 3 sample: 45 μm, Example 4 sample: 45 μm, and Example 5 sample: 48 μm. The examples according to the present invention showed good characteristics.

【0078】一方、比較例では、1分間の連続切削試験
を行なったところで100μm以上の大きな欠損が生じ
た。
On the other hand, in the comparative example, when a continuous cutting test was performed for one minute, a large defect of 100 μm or more occurred.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1において作製されたダイヤモンド切削
工具の概略を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a diamond cutting tool manufactured in Example 1.

【図2】実施例3において作製されたダイヤモンド切削
工具の概略を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a diamond cutting tool manufactured in Example 3.

【図3】実施例4において作製されたダイヤモンド切削
工具の概略を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating a diamond cutting tool manufactured in Example 4.

【図4】実施例5の製造工程を概略的に示す図である。FIG. 4 is a drawing schematically showing a manufacturing process of Example 5.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11,21,31 台金 2、12,22,32 刃先 3、13,23,33 ろう付け層 4、14,24,34 メタライズ層 5、15,25,35 すくい面 6、16,26,36 逃げ面 37 Si基材 Se 結晶成長の終了面 Ss 基材に接触していた面 1, 11, 21, 31 Base metal 2, 12, 22, 32 Cutting edge 3, 13, 23, 33 Brazing layer 4, 14, 24, 34 Metallized layer 5, 15, 25, 35 Rake face 6, 16, 26 , 36 flank 37 Si base Se end of crystal growth Ss surface in contact with base

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤森 直治 兵庫県伊丹市昆陽北一丁目1番1号 住 友電気工業株式会社 伊丹製作所内 (56)参考文献 特開 昭62−107068(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C30B 29/04 B23B 27/20 B23P 15/28 C23C 16/26 - 16/27 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Naoji Fujimori 1-1-1, Koyokita, Itami-shi, Itami-shi, Hyogo Itami Works, Sumitomo Electric Industries, Ltd. (56) References JP-A-62-107068 (JP, A (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C30B 29/04 B23B 27/20 B23P 15/28 C23C 16/26-16/27

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 気相合成されたダイヤモンド素材で刃先
を構成するダイヤモンド切削工具において、 前記刃先のすくい面を構成する主要なダイヤモンド結晶
面が(311)面であることを特徴とする、ダイヤモン
ド切削工具。
1. A diamond cutting tool comprising a cutting edge made of a diamond material synthesized in a vapor phase, wherein a main diamond crystal surface forming a rake face of the cutting edge is a (311) plane. tool.
【請求項2】 気相合成されたダイヤモンド素材で刃先
を構成するダイヤモンド切削工具の製造方法であって、 ダイヤモンドを堆積させるべき表面仕上げされた面を有
する基材を準備する工程と、 前記面に対して略平行に(311)面が配向するよう気
相合成により前記面上にダイヤモンドを堆積させる工程
と、 ダイヤモンドが堆積されている前記基材を分離または除
去して前記刃先としてのダイヤモンド材を得る工程と、 前記ダイヤモンド材で前記基材に接触していた面側を前
記刃先のすくい面として前記ダイヤモンド材を工具基体
にろう付けする工程とを備える、ダイヤモンド切削工具
の製造方法。
2. A method for producing a diamond cutting tool comprising a cutting edge made of a diamond material synthesized in a vapor phase, comprising: preparing a base material having a surface-finished surface on which diamond is to be deposited; Depositing diamond on the surface by vapor phase synthesis so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the surface; separating or removing the base material on which diamond is deposited to remove diamond material as the cutting edge; A method for manufacturing a diamond cutting tool, comprising: a step of obtaining; and a step of brazing the diamond material to a tool base using a surface of the diamond material that has been in contact with the base material as a rake face of the cutting edge.
【請求項3】 気相合成されたダイヤモンド素材で刃先
を構成するダイヤモンド切削工具の製造方法であって、 ダイヤモンドを堆積させるべき表面仕上げされた面を有
する基材を準備する工程と、 前記面に対して略平行に(311)面が配向するよう気
相合成により前記面上にダイヤモンドを堆積させる工程
と、 ダイヤモンドが堆積されている前記基材を分離または除
去して前記刃先としてのダイヤモンド材を得る工程と、 前記ダイヤモンド材について結晶成長の終了面側を刃先
のすくい面側として前記ダイヤモンド材を工具基体にろ
う付けする工程とを備え、 さらに、前記ダイヤモンド堆積工程または前記ろう付け
工程の後に、気相合成されたダイヤモンドの結晶成長終
了面側を鏡面研磨加工する工程とを備える、ダイヤモン
ド切削工具の製造方法。
3. A method for producing a diamond cutting tool comprising a cutting edge made of a diamond material synthesized in a gas phase, comprising: preparing a base material having a surface-finished surface on which diamond is to be deposited; Depositing diamond on the surface by vapor phase synthesis so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the surface; separating or removing the base material on which diamond is deposited to remove diamond material as the cutting edge; And a step of brazing the diamond material to a tool base with the end face of crystal growth of the diamond material being a rake face of a cutting edge, further comprising, after the diamond deposition step or the brazing step, Mirror polishing the crystal growth end surface side of diamond synthesized by vapor phase. Manufacturing method.
【請求項4】 気相合成されたダイヤモンド素材で刃先
を構成するダイヤモンド切削工具の製造方法であって、 ダイヤモンドを堆積させるべき表面仕上げされた面を有
する基材を準備する工程と、 前記面に対して略平行に(311)面が配向するよう気
相合成により前記面上にダイヤモンドを堆積させる工程
と、 前記ダイヤモンド堆積工程により、ダイヤモンドを堆積
させた基材を前記刃先のすくい面を構成する主要なダイ
ヤモンド結晶面が(311)面となるよう工具基体にろ
う付けする工程とを備え、 さらに、前記ダイヤモンド堆積工程または前記ろう付け
工程の後に、気相合成されたダイヤモンドの結晶成長終
了面側を鏡面研磨加工する工程とを備える、ダイヤモン
ド切削工具の製造方法。
4. A method for producing a diamond cutting tool comprising a cutting edge made of a diamond material synthesized in a gas phase, comprising: preparing a base material having a surface-finished surface on which diamond is to be deposited; A step of depositing diamond on the surface by vapor phase synthesis so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the surface, and forming the rake face of the cutting edge by using the diamond-deposited substrate by the diamond deposition step. A step of brazing the tool base such that a main diamond crystal plane is a (311) plane, further comprising, after the diamond deposition step or the brazing step, a crystal growth end surface side of diamond synthesized by vapor phase synthesis. And a step of mirror-polishing the diamond cutting tool.
【請求項5】 気相合成されたダイヤモンド素材で刃先
を構成するダイヤモンド切削工具の製造方法であって、 ダイヤモンドを堆積させるべき表面仕上げされた面を有
する基材を準備する工程と、 前記面に対して略平行に(311)面が配向するよう気
相合成により前記面上にダイヤモンドを堆積させる工程
と、 前記ダイヤモンド堆積工程によりダイヤモンドを堆積さ
せた基材のダイヤモンドの結晶成長の終了面側を工具基
体にろう付けする工程と、 前記刃先のすくい面を構成する主要なダイヤモンド結晶
面が(311)面となるよう、前記基材を分離または除
去する工程とを備える、ダイヤモンド切削工具の製造方
法。
5. A method for manufacturing a diamond cutting tool comprising a cutting edge made of a diamond material synthesized in a vapor phase, comprising: preparing a base material having a surface-finished surface on which diamond is to be deposited; A step of depositing diamond on the surface by vapor phase synthesis so that the (311) plane is oriented substantially parallel to the surface, and a step of terminating the diamond crystal growth end surface of the base material on which diamond is deposited in the diamond deposition step. A method for producing a diamond cutting tool, comprising: a step of brazing to a tool base; and a step of separating or removing the base so that a main diamond crystal plane constituting a rake face of the cutting edge is a (311) plane. .
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