JP3218363B2 - Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound - Google Patents

Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound

Info

Publication number
JP3218363B2
JP3218363B2 JP05930895A JP5930895A JP3218363B2 JP 3218363 B2 JP3218363 B2 JP 3218363B2 JP 05930895 A JP05930895 A JP 05930895A JP 5930895 A JP5930895 A JP 5930895A JP 3218363 B2 JP3218363 B2 JP 3218363B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cephem
group
compound
thiovinyl
pyridinio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP05930895A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH07304779A (en
Inventor
博 赤木
勝 安井
賢恵 山田
昌弘 伊藤
秀明 花木
昭夫 兵頭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Chemical Co Ltd
Taiho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
Taiho Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Chemical Co Ltd, Taiho Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Chemical Co Ltd
Priority to JP05930895A priority Critical patent/JP3218363B2/en
Publication of JPH07304779A publication Critical patent/JPH07304779A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3218363B2 publication Critical patent/JP3218363B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、新規セフェム化合物、
その製造方法及び該化合物を含む抗菌剤に関する。
The present invention relates to a novel cephem compound,
The present invention relates to a method for producing the same and an antibacterial agent containing the compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、第3世代のセファロスポリンの広
範な使用に伴い、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MR
SA)が起こす感染症が重要な問題となっている。第3
世代のセファロスポリンはグラム陰性桿菌に対する抗菌
力は強いもののグラム陽性球菌に対する抗菌力が低下し
ているため、第3世代セファロスポリンの使用に伴いβ
−ラクタム系抗生物質に耐性の黄色ブドウ球菌が増加
し、難治性感染症として深刻な問題となっている。現在
MRSAの引き起こす感染症の治療薬として有効なもの
としては、ポリペプチド系抗生物質であるバンコマイシ
ンのみであるが、バンコマイシンは湿疹、腎毒性の副作
用等があり慎重な投与が必要である。
In recent years, with the widespread use of third generation cephalosporins, methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MR)
The infection caused by SA) is an important problem. Third
Generation cephalosporins have a strong antibacterial activity against Gram-negative bacilli, but have a reduced antibacterial activity against Gram-positive cocci.
-An increase in Staphylococcus aureus resistant to lactam antibiotics has become a serious problem as intractable infections. At present, vancomycin, which is a polypeptide antibiotic, is the only effective drug for treating infectious diseases caused by MRSA, but vancomycin requires eczema, nephrotoxic side effects and the like, and requires careful administration.

【0003】従来、第4級アンモニウム塩を有するセフ
ァロスポリン系抗生物質は数多く知られている。これら
の化合物は強い抗菌活性を示すものの、水に対する溶解
性が低いために医薬としての開発が断念されている。例
えば特開昭59−130292号公報(欧州特許公開第
111281号明細書)には、セファロスポリン骨格の
3位にチオビニル−第4級アンモニウム塩を有する化合
物が記載されているが、更に新たな第4級アンモニウム
置換基を導入することについては記載されていない。ま
た上記公報に記載の化合物がMRSAに有効であるとの
開示もない。
Hitherto, many cephalosporin antibiotics having a quaternary ammonium salt have been known. Although these compounds exhibit strong antibacterial activity, their development as pharmaceuticals has been abandoned due to their low solubility in water. For example, JP-A-59-130292 (European Patent Publication No. 111281) describes a compound having a thiovinyl-quaternary ammonium salt at the 3-position of the cephalosporin skeleton. There is no mention of introducing a quaternary ammonium substituent. There is no disclosure that the compounds described in the above publications are effective for MRSA.

【0004】一般的に従来のセファロスポリン系化合物
においては、MRSAを含むグラム陽性菌に対する抗菌
活性は水溶性が高くなればその抗菌活性は低下し、水溶
性と抗菌活性は相反する関係にあり、高い水溶性と強い
抗菌活性とを兼備するセファロスポリン系化合物の開発
は非常に困難であった。而してMRSAに対して優れた
抗菌活性を発現し、しかも水に対する溶解性が高いセフ
ェム化合物の開発が要望されている。
In general, in conventional cephalosporin compounds, the antibacterial activity against Gram-positive bacteria including MRSA decreases as the water solubility increases, and the water solubility and the antibacterial activity are in a contradictory relationship. It has been very difficult to develop a cephalosporin compound having both high water solubility and strong antibacterial activity. Therefore, there is a demand for the development of cephem compounds that exhibit excellent antibacterial activity against MRSA and have high solubility in water.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、水に対する
溶解性が高く、且つ優れた抗菌力を有するセフェム化合
物、殊にMRSAを含むグラム陽性菌に対して有効且つ
安全性の高い新規なセフェム化合物を提供することにあ
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a novel cephem compound which is highly soluble in water and has excellent antibacterial activity, and is particularly effective and highly safe against Gram-positive bacteria including MRSA. It is to provide a compound.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決するために、種々のセフェム化合物を合成し、検討
した結果、セファロスポリン骨格の3位にチオビニル−
第4級アンモニウム塩を有する化合物に更に新たな第4
級アンモニウム置換基を導入したセフェム化合物が高い
水溶性を示し、且つ優れた抗菌活性、特にMRSAを含
むグラム陽性菌に対して強い抗菌活性を有することを見
い出し、ここに本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems To solve the above problems, the present inventors have synthesized and studied various cephem compounds.
Further new quaternary ammonium compounds
It has been found that a cephem compound into which a quaternary ammonium substituent has been introduced has high water solubility and has excellent antibacterial activity, in particular, strong antibacterial activity against Gram-positive bacteria including MRSA. Was.

【0007】本発明のセフェム化合物は、新規化合物で
あって、下記一般式(1)で表わされる。
[0007] The cephem compound of the present invention is a novel compound and is represented by the following general formula (1).

【0008】[0008]

【化19】 Embedded image

【0009】〔式中QはCH又はNを示す。R1 はカル
ボキシレート又はカルボキシル基を示す。R2 は水素原
子、置換基を有することのある低級アルキル基、置換基
を有することのある低級アルケニル基、置換基を有する
ことのある低級アルキニル基、置換基を有することのあ
る低級シクロアルキル基、置換基を有することのあるカ
ルボキシ低級アルキル基、置換基を有することのあるヒ
ドロキシ低級アルキル基又は置換基を有することのある
低級アルコキシ低級アルキル基を示す。Rは
[Wherein Q represents CH or N. R 1 represents a carboxylate or a carboxyl group. R 2 is a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a substituent, a lower alkenyl group which may have a substituent, a lower alkynyl group which may have a substituent, a lower cycloalkyl group which may have a substituent A carboxy lower alkyl group which may have a substituent, a hydroxy lower alkyl group which may have a substituent or a lower alkoxy lower alkyl group which may have a substituent. R is

【0010】[0010]

【化20】 Embedded image

【0011】を示す。ここでR3 は基−(CH2 )m−
Y又は基−(CH2 )m−CO−Y(基中、mは1〜5
の整数、Yは第4級アンモニウム基を示す。)を示す。
nは0又は1〜4の整数を示す。B- は陰イオンを示
す。fはR1 がカルボキシレートを示す場合には0又は
1を、R1 がカルボキシル基を示す場合には2を示す。
Cで表わされる環は低級アルキル基で置換されることの
ある窒素数4以下の5員複素環基を示す。〕 本明細書において示される基は、より具体的にはそれぞ
れ次の通りである。
FIG. Here, R 3 is a group — (CH 2 ) m—
Y or a group — (CH 2 ) m —CO—Y (wherein m is 1 to 5)
And Y represents a quaternary ammonium group. ).
n shows 0 or the integer of 1-4. B - represents an anion. f is 0 or 1 when R 1 represents a carboxylate, shows a 2 if R 1 represents a carboxyl group.
The ring represented by C represents a 5-membered heterocyclic group having 4 or less nitrogen atoms which may be substituted with a lower alkyl group. The groups shown in the present specification are more specifically as follows.

【0012】低級アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
3級ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の
アルキル基を例示できる。
Examples of the lower alkyl group include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl and hexyl.

【0013】低級アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、クロチル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル基等の
炭素数2〜6のアルケニル基を例示できる。
Examples of the lower alkenyl group include alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl, allyl, crotyl, 2-pentenyl and 2-hexenyl groups.

【0014】低級アルキニル基としては、エチニル、1
−プロピニル、2−プロピニル、2−ブチニル、1−メ
チル−2−プロピニル、2−ペンチニル、2−ヘキシニ
ル基等の炭素数2〜6のアルキニル基を例示できる。
As the lower alkynyl group, ethynyl, 1
Examples thereof include alkynyl groups having 2 to 6 carbon atoms, such as -propynyl, 2-propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-pentynyl, and 2-hexynyl.

【0015】低級シクロアルキル基としては、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル基を例示できる。
Examples of the lower cycloalkyl group include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl groups.

【0016】カルボキシ低級アルキル基としては、カル
ボキシメチル、2−カルボキシエチル、3−カルボキシ
プロピル、4−カルボキシブチル、5−カルボキシペン
チル、6−カルボキシヘキシル基等のアルキル部分の炭
素数が1〜6のカルボキシアルキル基を例示できる。
Examples of the carboxy lower alkyl group include carboxymethyl, 2-carboxyethyl, 3-carboxypropyl, 4-carboxybutyl, 5-carboxypentyl, 6-carboxyhexyl and the like. A carboxyalkyl group can be exemplified.

【0017】ヒドロキシ低級アルキル基としては、ヒド
ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペン
チル、6−ヒドロキシヘキシル基等のアルキル部分の炭
素数が1〜6のヒドロキシアルキル基を例示できる。
Examples of the hydroxy lower alkyl group include those having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl moiety such as hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, 5-hydroxypentyl and 6-hydroxyhexyl groups. A hydroxyalkyl group can be exemplified.

【0018】低級アルコキシ低級アルキル基としては、
メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、
メトキシブチル、エトキシメチル、エトキシエチル、エ
トキシプロピル、エトキシブチル基等のアルキル部分の
炭素数が1〜4のアルコキシアルキル基を例示できる。
The lower alkoxy lower alkyl group includes:
Methoxymethyl, methoxyethyl, methoxypropyl,
Examples thereof include alkoxyalkyl groups having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion, such as methoxybutyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl, ethoxypropyl, and ethoxybutyl groups.

【0019】Cで表わされる環は低級アルキル基で置換
されることのある窒素数4以下の5員複素環基であり、
具体的にはオキサゾール、チアゾール、イソキサゾー
ル、イソチアゾール、ピラゾール、イミダゾール、チア
ジアゾール、トリアゾール、オキサトリアゾール、チア
トリアゾール、テトラゾール等を例示でき、これらの複
素環の窒素原子や炭素原子上に低級アルキル基が1個置
換していてもよい。斯かる複素環はより具体的には下記
構造式で示される。
The ring represented by C is a 5-membered heterocyclic group having a nitrogen number of 4 or less which may be substituted by a lower alkyl group,
Specifically, oxazole, thiazole, isoxazole, isothiazole, pyrazole, imidazole, thiadiazole, triazole, oxatriazole, thiatriazole, tetrazole and the like can be exemplified, and a lower alkyl group on the nitrogen atom or carbon atom of these heterocycles has 1 May be substituted. Such a heterocyclic ring is more specifically represented by the following structural formula.

【0020】[0020]

【化21】 Embedded image

【0021】第4級アンモニウム基としては、窒素原子
を1又は2個、酸素原子及び硫黄原子を多くとも1個ま
で有する5乃至6員環複素環から構成される第4級アン
モニウム基も包含され、例えば一般式
The quaternary ammonium group also includes a quaternary ammonium group composed of a 5- or 6-membered heterocyclic ring having one or two nitrogen atoms and at most one oxygen atom and sulfur atom. , For example, the general formula

【0022】[0022]

【化22】 Embedded image

【0023】〔上記各式中、R11、R12及びR13は、同
一又は異なって、低級アルキル基、低級アルケニル基、
ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル
基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルカノイル低
級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル低級アルキル基、アミノ低級アルキ
ル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アル
キルアミノ低級アルキル基又はスルホ低級アルキル基を
示す。R14は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、低
級アルキル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、低級アル
コキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、低級アルキル
アミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アル
キル基、ジ低級アルキルアミノ基、カルボキシ低級アル
キル基、カルボキシ低級アルキルアミノ基、カルバモイ
ル基、N−低級アルキルカルバモイル基、ホルミルアミ
ノ基、アシルアミノ基等を示す。〕等で表わされる基を
例示できる。
[In the above formulas, R 11 , R 12 and R 13 are the same or different and each is a lower alkyl group, a lower alkenyl group,
Hydroxy lower alkyl group, carboxy lower alkyl group, carbamoyl lower alkyl group, lower alkanoyl lower alkyl group, lower alkoxy lower alkyl group, lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, amino lower alkyl group, lower alkylamino lower alkyl group, di-lower alkylamino It represents a lower alkyl group or a sulfo lower alkyl group. R 14 is a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a lower alkyl group, a carboxy group, a hydroxy group, a lower alkoxy group, a lower alkoxy lower alkyl group, a hydroxy lower alkyl group, an amino lower alkyl group, a lower alkylamino lower alkyl group, And di-lower alkylamino lower alkyl, di-lower alkylamino, carboxy lower alkyl, carboxy lower alkylamino, carbamoyl, N-lower alkylcarbamoyl, formylamino, acylamino and the like. And the like.

【0024】カルバモイル低級アルキル基としては、カ
ルバモイルメチル、2−カルバモイルエチル、3−カル
バモイルプロピル、4−カルバモイルブチル、5−カル
バモイルペンチル、6−カルバモイルヘキシル基等のア
ルキル部分の炭素数が1〜6のカルバモイルアルキル基
を例示できる。
Examples of the carbamoyl lower alkyl group include carbamoylmethyl, 2-carbamoylethyl, 3-carbamoylpropyl, 4-carbamoylbutyl, 5-carbamoylpentyl, 6-carbamoylhexyl and the like. A carbamoylalkyl group can be exemplified.

【0025】低級アルカノイル低級アルキル基として
は、ホルミルメチル、アセトニル、3−アセチルプロピ
ル、4−アセチルブチル、6−プロピオニルヘキシル、
5−イソブチリルペンチル、ヘキサノイルメチル、6−
ヘキサノイルヘキシル基等のアルカノイル部分の炭素数
が1〜6であり、且つアルキル部分の炭素数が1〜6で
あるアルカノイルアルキル基を例示できる。
Examples of the lower alkanoyl lower alkyl group include formylmethyl, acetonyl, 3-acetylpropyl, 4-acetylbutyl, 6-propionylhexyl,
5-isobutyrylpentyl, hexanoylmethyl, 6-
An alkanoylalkyl group in which the alkanoyl moiety such as a hexanoylhexyl group has 1 to 6 carbon atoms and the alkyl moiety has 1 to 6 carbon atoms can be exemplified.

【0026】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
としては、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボ
ニルエチル、メトキシカルボニルプロピル、メトキシカ
ルボニルブチル、エトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルエチル、エトキシカルボニルプロピル、エト
キシカルボニルブチル基等のアルキル部分の炭素数が1
〜6のアルコキシカルボニルアルキル基を例示できる。
Examples of the lower alkoxycarbonyl lower alkyl group include methoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, methoxycarbonylpropyl, methoxycarbonylbutyl, ethoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylpropyl, and ethoxycarbonylbutyl. Number one
To 6 alkoxycarbonylalkyl groups.

【0027】アミノ低級アルキル基としては、アミノメ
チル、2−アミノエチル、3−アミノプロピル、4−ア
ミノブチル、5−アミノペンチル、6−アミノヘキシル
基等のアルキル部分の炭素数が1〜6のアミノアルキル
基を例示できる。
Examples of the amino lower alkyl group include those having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl moiety such as aminomethyl, 2-aminoethyl, 3-aminopropyl, 4-aminobutyl, 5-aminopentyl, and 6-aminohexyl. An aminoalkyl group can be exemplified.

【0028】低級アルキルアミノ低級アルキル基として
は、メチルアミノメチル、エチルアミノメチル、プロピ
ルアミノメチル、ブチルアミノメチル、ペンチルアミノ
メチル、2−メチルアミノエチル、3−メチルアミノプ
ロピル、4−メチルアミノブチル、5−メチルアミノペ
ンチル基等のアルキルアミノ部分及びアルキル部分の炭
素数がそれぞれ1〜5のアルキルアミノアルキル基を例
示できる。
Lower alkylamino Lower alkyl groups include methylaminomethyl, ethylaminomethyl, propylaminomethyl, butylaminomethyl, pentylaminomethyl, 2-methylaminoethyl, 3-methylaminopropyl, 4-methylaminobutyl, Examples thereof include an alkylamino moiety such as a 5-methylaminopentyl group and an alkylaminoalkyl group having 1 to 5 carbon atoms in the alkyl moiety.

【0029】ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基とし
ては、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、
ジプロピルアミノメチル、ジブチルアミノメチル、2−
ジメチルアミノエチル、3−ジメチルアミノプロピル、
4−ジメチルアミノブチル、5−ジメチルアミノペンチ
ル、6−ジメチルアミノヘキシル基等のジアルキルアミ
ノ部分の炭素数が2〜8であり、アルキル部分の炭素数
が1〜6のジアルキルアミノアルキル基を例示できる。
Di-lower alkylamino Lower alkyl groups include dimethylaminomethyl, diethylaminomethyl,
Dipropylaminomethyl, dibutylaminomethyl, 2-
Dimethylaminoethyl, 3-dimethylaminopropyl,
Dialkylamino moieties such as 4-dimethylaminobutyl, 5-dimethylaminopentyl, and 6-dimethylaminohexyl groups have 2 to 8 carbon atoms, and the alkyl moieties have 1 to 6 carbon atoms. .

【0030】スルホ低級アルキル基としては、メタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブ
タンスルホン酸、ペンタンスルホン酸等のアルキル部分
の炭素数が1〜5であるスルホアルキル基を例示でき
る。
Examples of the sulfo lower alkyl group include sulfoalkyl groups having 1 to 5 carbon atoms in the alkyl portion thereof, such as methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, and pentanesulfonic acid.

【0031】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、弗素原子、沃素原子を例示できる。
Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom and an iodine atom.

【0032】低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基を例示で
きる。
Examples of the lower alkoxy group include C1-C6 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy and hexyloxy groups.

【0033】ジ低級アルキルアミノ基としては、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチ
ルアミノ基等の炭素数2〜8のジアルキルアミノ基を例
示できる。
Examples of the di-lower alkylamino group include dialkylamino groups having 2 to 8 carbon atoms such as dimethylamino, diethylamino, dipropylamino and dibutylamino groups.

【0034】カルボキシ低級アルキルアミノ基として
は、カルボキシメチルアミノ、2−カルボキシエチルア
ミノ、3−カルボキシプロピルアミノ、4−カルボキシ
ブチルアミノ、5−カルボキシペンチルアミノ、6−カ
ルボキシヘキシルアミノ基等のアルキル部分の炭素数が
1〜6のアルキルアミノ基を例示できる。
Examples of the carboxy lower alkylamino group include carboxymethylamino, 2-carboxyethylamino, 3-carboxypropylamino, 4-carboxybutylamino, 5-carboxypentylamino and 6-carboxyhexylamino groups. An alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms can be exemplified.

【0035】アシルアミノ基としては、アセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリ
ルアミノ、バレリルアミノ、ピバロイルアミノ基等のア
ルキル部分の炭素数が1〜6のアシルアミノ基を例示で
きる。
Examples of the acylamino group include acylamino groups having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl portion thereof, such as acetylamino, propionylamino, butyrylamino, isobutyrylamino, valerylamino, and pivaloylamino groups.

【0036】N−低級アルキルカルバモイル基として
は、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、ブチルカルバモイル基等のアルキル部
分の炭素数が1〜4のN−アルキルカルバモイル基を例
示できる。
Examples of the N-lower alkylcarbamoyl group include N-alkylcarbamoyl groups having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl portion thereof, such as methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, propylcarbamoyl and butylcarbamoyl.

【0037】B- で表わされる陰イオンとしては、塩
酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸、メ
タンスルホン酸、エタンスルホン酸、2−クロロエタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、p−エチ
ルスルホン酸、p−クロルスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸、ギ酸等の有機酸の酸残基が例示できる。
[0037] B - The anion represented by, hydrochloric, hydrobromic, nitric, sulfuric, inorganic acids such as perchloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, 2-chloroethane sulfonic acid, benzenesulfonic acid, Examples thereof include acid residues of organic acids such as tosylic acid, p-ethylsulfonic acid, p-chlorosulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and formic acid.

【0038】セフェムカルボキシル保護基には、セフェ
ム合成において汎用される保護エステル及び薬学的に許
容される保護エステルが包含される。セフェム合成にお
いて汎用される保護エステルとは、β−ラクタム化合物
に種々の化学的修飾を施す際に安定であり、且つ後記の
薬学的に許容される保護エステルに導く際には容易に脱
離させることができるエステルである。薬学的に許容さ
れる保護エステルとは、in vivoで容易に加水分
解され得るものであり、ヒトの血中や組織において迅速
に分解され得る非毒性のエステルである。これらエステ
ルとしては、抗生物質の分野で通常用いられている公知
のものでよく、具体的には例えば特開昭49−8138
0号公報及びエッチ.イー.フライン編セファロスポリ
ン アンド ペニシリンズ、ケミストリー アンド バ
イオロジー(1972年 アカデミックプレス発行)に
記載のものをいずれも使用できる。好ましいものとして
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ter
t−ブチル、1,1−ジメチルプロピル、1−シクロプ
ロピルメチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル等の炭素数1〜18のアルキル基、ヨードデシル、
クロルメチル、2,2−ジブロモエチル、2,2,2−
トリクロロエチル、2,2,2−トリブロモエチル等の
塩素、臭素又は沃素原子が1〜3個置換したハロゲノ低
級アルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、p−ニトロベンジル、o−メトキシベンジル、p−
メトキシベンジル、ジ(p−メトキシフェニル)メチル
等のニトロ基又はアルコキシ基が置換していてもよいフ
ェニル基が1〜3個置換したメチル基、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、n−プロピルオキシメチル、イソ
プロピルオキシメチル、n−ブトキシメチル、イソブト
キシメチル等の低級アルコキシメチル基、アセトキシメ
チル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、
n−ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、1−アセトキシエチル、
ピバロイルオキシエチル、ピバロイルオキシプロピル、
1−プロピオニロキシブチル等の低級アルキルカルボニ
ルオキシ低級アルキル基、シクロペンチルカルボニルオ
キシメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル等
の炭素数5〜7のシクロアルキルカルボニルオキシ−低
級アルキル基、ベンジルカルボニルオキシメチル等のベ
ンジルカルボニルオキシ低級アルキル基、ベンゾイルオ
キシメチル、ベンゾイルオキシエチル等のベンゾイルオ
キシ低級アルキル基、メトキシ−カルボニルオキシメチ
ル、1−エトキシ−カルボニルオキシエチル、3−メト
キシ−カルボニルオキシプロピル等の低級アルコキシカ
ルボニルオキシ低級アルキル基、ベンジルオキシメチ
ル、ベンジルオキシエチル等のベンジルオキシ低級アル
キル基等の他、2−シアノ−1,1−ジメチルエチル、
ブロモベンゾイルメチル、p−ニトロベンゾイルメチ
ル、ジメチルアミノメチル、メチルチオメチル、フェニ
ルチオメチル、スクシンイミドメチル、1,1−ジメチ
ル−2−プロペニル、1,3−ジメチル−3−ブテイ
ル、3−フタリジル、クロトノラクトン−4−イル、γ
−ブチロラクトン−4−イル、テトラヒドロピラニル、
ジメチルアミノエチル、ジメチルクロロシリル、トリク
ロロシリル、(2−オキソ−1,3−ジオキソデン−4
−イル)メチル、(5−メチル−2−オキソ−1,3−
ジオキソデン−4−イル)メチル、(5−フェニル−2
−オキソ−1,3−ジオキソデン−4−イル)メチル、
ピリジン−1−オキサイド−2−メチル、キノリン−1
−オキサイド−2−メチル基等を例示できる。
Cephem carboxyl protecting groups include protected esters commonly used in cephem synthesis and pharmaceutically acceptable protected esters. A protected ester widely used in cephem synthesis is stable when various chemical modifications are applied to a β-lactam compound, and is easily eliminated when a pharmaceutically acceptable protected ester described below is introduced. Is an ester that can be Pharmaceutically acceptable protected esters are non-toxic esters that can be readily hydrolyzed in vivo and that can be rapidly degraded in human blood and tissues. As these esters, known esters generally used in the field of antibiotics may be used, and specifically, for example, JP-A-49-8138.
No. 0 and Etch. E. Any of those described in Fline edition, Cephalosporin and Penicillins, Chemistry and Biology (issued by Academic Press in 1972) can be used. Preferred are, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, ter
t-butyl, 1,1-dimethylpropyl, 1-cyclopropylmethyl, pentyl, hexyl, decyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms such as octadecyl, iododecyl,
Chloromethyl, 2,2-dibromoethyl, 2,2,2-
A halogeno lower alkyl group in which 1 to 3 chlorine, bromine or iodine atoms are substituted, such as trichloroethyl, 2,2,2-tribromoethyl, benzyl, diphenylmethyl, trityl, p-nitrobenzyl, o-methoxybenzyl, p −
A nitro group such as methoxybenzyl or di (p-methoxyphenyl) methyl or a methyl group substituted with 1 to 3 phenyl groups which may be substituted with an alkoxy group, methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propyloxymethyl, isopropyl Oxymethyl, n-butoxymethyl, lower alkoxymethyl groups such as isobutoxymethyl, acetoxymethyl, acetoxyethyl, propionyloxyethyl,
n-butyryloxymethyl, isobutyryloxymethyl, pivaloyloxymethyl, 1-acetoxyethyl,
Pivaloyloxyethyl, pivaloyloxypropyl,
Lower alkylcarbonyloxy lower alkyl groups such as 1-propionyloxybutyl and the like; cycloalkylcarbonyloxy-lower alkyl groups having 5 to 7 carbon atoms such as cyclopentylcarbonyloxymethyl and cyclohexylcarbonyloxymethyl; benzylcarbonyl such as benzylcarbonyloxymethyl Oxy lower alkyl groups, benzoyloxy lower alkyl groups such as benzoyloxymethyl and benzoyloxyethyl, and lower alkoxycarbonyloxy lower alkyl groups such as methoxy-carbonyloxymethyl, 1-ethoxy-carbonyloxyethyl and 3-methoxy-carbonyloxypropyl Benzyloxy lower alkyl groups such as benzyloxymethyl, benzyloxyethyl and the like; 2-cyano-1,1-dimethylethyl;
Bromobenzoylmethyl, p-nitrobenzoylmethyl, dimethylaminomethyl, methylthiomethyl, phenylthiomethyl, succinimidemethyl, 1,1-dimethyl-2-propenyl, 1,3-dimethyl-3-butenyl, 3-phthalidyl, crotono Lactone-4-yl, γ
-Butyrolactone-4-yl, tetrahydropyranyl,
Dimethylaminoethyl, dimethylchlorosilyl, trichlorosilyl, (2-oxo-1,3-dioxoden-4
-Yl) methyl, (5-methyl-2-oxo-1,3-
Dioxoden-4-yl) methyl, (5-phenyl-2)
-Oxo-1,3-dioxoden-4-yl) methyl,
Pyridine-1-oxide-2-methyl, quinoline-1
-Oxide-2-methyl group and the like.

【0039】一般式(1)の化合物の非毒性塩として
は、医薬上許容される塩類、例えば塩酸塩、臭化水素酸
塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、クエン酸塩、マレイン酸
塩、乳酸塩、酒石酸塩等の有機カルボン酸、メタンスル
ホン酸、ヒドロキシメタンスルホン酸、タウリン塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機ス
ルホン酸塩、アルギニン塩、リジン塩、セリン塩、アス
パラギン酸塩、グルタミン酸塩、グリシン酸塩等のアミ
ノ酸塩、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等のア
ルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩が挙げられる。
The non-toxic salt of the compound of the formula (1) includes pharmaceutically acceptable salts such as hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide, sulfate, citrate and maleate. Organic lactates, lactates, tartrate and other organic carboxylic acids, methanesulfonic acid, hydroxymethanesulfonic acid, taurine salts, benzenesulfonate, toluenesulfonate and other organic sulfonates, arginine salts, lysine salts, serine salts, asparagine Acid salts, glutamates, glycinates and the like, alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts and lithium salts, and alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts.

【0040】Qとしては、好適にはCHが挙げられる。
1 としては、好適にはカルボキシレートが挙げられ
る。R2 としては、好適には水素原子又は低級シクロア
ルキル基が挙げられ、更に好適には水素原子が挙げられ
る。Rとしては、好適には
Q is preferably CH.
R 1 is preferably a carboxylate. R 2 is preferably a hydrogen atom or a lower cycloalkyl group, and more preferably a hydrogen atom. Preferably, R is

【0041】[0041]

【化23】 Embedded image

【0042】が挙げられ、ここでmとしては2又は3が
好ましく、Yとしては低級アルキル基、ヒドロキシ低級
アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル
低級アルキル基、低級アルカノイル低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はスルホ低級
アルキル基で置換された第4級アンモニウム基、低級ア
ルキル基で置換されたモルホリニオ基、低級アルキル基
で置換されたピペリジニオ基が挙げられる。Bとして
は、好適にはハロゲン原子、更に好適には塩素原子が挙
げられる。
Wherein m is preferably 2 or 3, and Y is a lower alkyl group, a hydroxy lower alkyl group, a carboxy lower alkyl group, a carbamoyl lower alkyl group, a lower alkanoyl lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group. Examples include a quaternary ammonium group substituted with an alkyl group or a sulfo-lower alkyl group, a morpholinio group substituted with a lower alkyl group, and a piperidinio group substituted with a lower alkyl group. B is preferably a halogen atom, more preferably a chlorine atom.

【0043】上記一般式(1)の化合物及びその非毒性
塩の中で好ましいものを以下に掲げる。
Preferred compounds among the compounds of the above formula (1) and their non-toxic salts are listed below.

【0044】7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔2−(1−(3−(4−メチルモルホリニオ)プロピ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボキシレート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−トリメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニ
オ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト塩化物又はその塩7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(2−カルバモイルメチル−ジメチル
アンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−
3−セフェム−4−カルボキシレート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−(4−メチルモルホリニオ)エチル)−4−ピリ
ジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−アセトニル−ジメチルアンモニオエチル)−4−
ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボ
キシレート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−(1−メチルピペリジニオ)エチル)−4−ピリ
ジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−カルボキシレートメチル−ジメチルアンモニオエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボキシレート又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−ヒドロキシエチル−ジメチルアンモニオエチル)
−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−エチルオキシカルボニルメチル−ジメチルアンモ
ニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セ
フェム−4−カルボキシレート塩化物又はその塩 7−〔2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2
−(1−(2−トリメチルアンモニオエチル)−4−ピ
リジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキ
シレート塩化物又はその塩 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(スルホネートエチル−ジメチルアンモニオエチル)−
4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート又はその塩。
7- [2-hydroxyimino-2- (2-
Aminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[2- (1- (3- (4-methylmorpholinio) propyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1-
(2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2-
(2-aminothiazol-4-yl) acetamide]-
3- [2- (1- (2-carbamoylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl]-
3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1-
(2- (4-methylmorpholinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazole- 4-yl) acetamide] -3- [2- (1-
(2-acetonyl-dimethylammonioethyl) -4-
Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1-
(2- (1-methylpiperidinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazole- 4-yl) acetamide] -3- [2- (1-
(2-carboxylatemethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) ) Acetamide] -3- [2- (1-
(2-hydroxyethyl-dimethylammonioethyl)
-4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-
Carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1-
(2-ethyloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-cyclopentyloxyimino-2- (2-aminothiazole) -4-yl) acetamide] -3- [2
-(1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazole-4) -Yl) acetamide] -3- [2- (1-
(Sulfonateethyl-dimethylammonioethyl)-
4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate or a salt thereof.

【0045】本発明の化合物(1)及び原料化合物にお
いては、シス異性体、トランス異性体、及びシス,トラ
ンス混合物が包含されるものとする。
The compound (1) and the starting compound of the present invention include cis isomers, trans isomers, and cis, trans mixtures.

【0046】化合物(1)については、例えばシス異性
体は下記一般式(4)で表わされる部分構造を有する幾
何異性体の一つを意味し、トランス異性体は下記式
(5)で表わされる部分構造を有する他の幾何異性体を
意味する。
In the compound (1), for example, the cis isomer means one of geometric isomers having a partial structure represented by the following formula (4), and the trans isomer is represented by the following formula (5) The other geometric isomer having a partial structure is meant.

【0047】[0047]

【化24】 Embedded image

【0048】[0048]

【化25】 Embedded image

【0049】本発明の化合物(1)及びその塩は、種々
の方法によって製造されるが、その好ましい方法を示せ
ば下記製造法Iに従い製造される。
The compound (1) and a salt thereof of the present invention can be produced by various methods, and according to the following production method I, preferred methods are shown.

【0050】[0050]

【化26】 Embedded image

【0051】〔式中R4 はセフェムカルボキシル保護基
を、R′は
Wherein R 4 is a cephem carboxyl protecting group and R ′ is

【0052】[0052]

【化27】 Embedded image

【0053】を示す。ここでR3 、n、B- 及びCは前
記に同じ。R5 はアミノ基又は保護されたアミノ基を示
す。R6 はオキシム保護基又はR2'基(R2'基は水素原
子以外のR2 基)を示す。Q、R、R1 及びR2 は前記
に同じ。〕 上記製造法−Iにおいて、一般式(1)で表わされる化
合物は、一般式(6)で表わされるアミン化合物と一般
式(7)で表わされるカルボン酸化合物又はそのカルボ
キシ基が活性化された反応性誘導体とを通常のアミド結
合生成反応させ、次いで得られる生成物から必要に応じ
て保護基を除去することにより製造できる。
Is shown. Here, R 3 , n, B and C are the same as above. R 5 represents an amino group or a protected amino group. R 6 represents an oxime protecting group or an R 2 ′ group (R 2 ′ group is an R 2 group other than a hydrogen atom). Q, R, R 1 and R 2 are the same as above. In the above Production Method-I, the compound represented by the general formula (1) is obtained by activating the amine compound represented by the general formula (6) and the carboxylic acid compound represented by the general formula (7) or the carboxy group thereof is activated. The compound can be produced by subjecting a reactive derivative to an ordinary amide bond formation reaction, and then removing a protecting group from the resulting product, if necessary.

【0054】ここでR4 で示されるカルボキシ基の保護
基としては、トリメチルシリル基等のトリ(低級)アル
キルシリル基、ベンズヒドリル基、p−メトキシベンジ
ル基、tert−ブチル基、p−ニトロベンジル基、フェナ
シル基等通常この分野に用いられる、容易に除去し得る
カルボキシ基の保護基を例示できる。
The protective group for the carboxy group represented by R 4 includes tri (lower) alkylsilyl groups such as trimethylsilyl group, benzhydryl group, p-methoxybenzyl group, tert-butyl group, p-nitrobenzyl group, Examples of a carboxy group-protecting group that can be easily removed, such as a phenacyl group, which are usually used in this field can be given.

【0055】R5 の保護されたアミノ基の保護基として
は、緩和な条件で容易に除去できる保護基を広く使用で
き、具体的にはトリメチルシリル基等のトリ(低級)ア
ルキルシリル基、ホルミル基、トリフルオロアセチル
基、アセチル基、tert−ブチルカルボニル基、メトキシ
アセチル基、ベンジルオキシカルボニル基、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル基等のアシル系保護基、ベン
ジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基等のアラルキル
基系の保護基を例示できる。
As the protecting group for the amino group protected by R 5, a protecting group which can be easily removed under mild conditions can be widely used, and specific examples thereof include tri (lower) alkylsilyl groups such as trimethylsilyl group and formyl group. Acyl-protecting groups such as trifluoroacetyl group, acetyl group, acetyl group, tert-butylcarbonyl group, methoxyacetyl group, benzyloxycarbonyl group and p-nitrobenzyloxycarbonyl group, and aralkyl groups such as benzyl group, benzhydryl group and trityl group. Examples of the protecting group of the system can be given.

【0056】R6 で示されるオキシム保護基としては、
アセチル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル基等の
緩和な条件で容易に除去し得るこの分野で一般的に使用
される保護基を例示できる。
The oxime protecting group represented by R 6 includes
Examples of protecting groups generally used in this field, such as acetyl, trityl, and tetrahydropyranyl groups, which can be easily removed under mild conditions, can be exemplified.

【0057】化合物(6)と化合物(7)又はその反応
性誘導体との反応には、通常用いられている公知のアミ
ド結合生成反応の条件が適用できる。
The reaction of the compound (6) with the compound (7) or a reactive derivative thereof can be carried out under the conditions of a commonly used known amide bond forming reaction.

【0058】化合物(7)の反応性誘導体の例として
は、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハライド、置換リ
ン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、炭酸ア
ルキル、有機カルボン酸等の酸との酸無水物及び対称酸
無水物、イミダゾール、ジメチルピラゾール等との活性
酸アミド、p−ニトロフェニルエステル、フェニルチオ
エステル、カルボキシメチルチオエステル又はN−ヒド
ロキシピペリジン、N−ヒドロキシサクシノイミド、N
−ヒドロキシフタルイミド等のN−ヒドロキシ化合物と
のエステル等の活性エステルが挙げられる。
Examples of the reactive derivative of the compound (7) include acid halides such as acid chlorides and acid bromides, substituted phosphoric acids, dialkyl phosphorous acids, sulfurous acids, thiosulfuric acids, alkyl carbonates, organic carboxylic acids and the like. Acid anhydrides with acids and symmetric acid anhydrides, active acid amides with imidazole, dimethylpyrazole and the like, p-nitrophenyl ester, phenylthioester, carboxymethylthioester or N-hydroxypiperidine, N-hydroxysuccinoimide, N-hydroxysuccinimide
Active esters such as esters with N-hydroxy compounds such as -hydroxyphthalimide.

【0059】本発明において、化合物(7)を遊離のカ
ルボン酸の状態で使用する場合には、N,N−ジエチル
カルボジイミド、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド等の縮合剤を用いることが好ましい。
In the present invention, when the compound (7) is used in the form of a free carboxylic acid, it is preferable to use a condensing agent such as N, N-diethylcarbodiimide, N, N-dicyclohexylcarbodiimide.

【0060】上記反応で用いられる溶媒は反応に関与し
なければ特に制限はなく、また反応温度は通常冷却下又
は室温付近で行なわれる。溶媒としては、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、ト
リエチルアミン等のアミン類、酢酸エチル、ギ酸エチル
等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロト
ン性極性溶媒、アセトン等やこれらの混合溶媒を例示で
きる。
The solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the reaction is usually carried out under cooling or near room temperature. As the solvent, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dichloromethane, dichloroethane, chloroform,
Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, amines such as pyridine, piperidine and triethylamine, esters such as ethyl acetate and ethyl formate, dimethylformamide, hexamethylphosphoric triamide And aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, acetone and the like, and mixed solvents thereof.

【0061】更に用いられるカルボン酸の反応性誘導体
によっては塩基性化合物存在下に行なうことが好ましい
場合もある。該塩基性化合物としては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン類、ピリ
ジン、ピコリン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.
0〕−7−ウンデセン等の有機塩基、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を
例示できる。
Depending on the reactive derivative of the carboxylic acid used, it may be preferable to carry out the reaction in the presence of a basic compound. Examples of the basic compound include trialkylamines such as triethylamine and tributylamine, pyridine, picoline, 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] -7-undecene; and inorganic bases such as sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, and potassium hydroxide.

【0062】上記反応において一般式(6)で表わされ
るアミン化合物に対する一般式(7)で表わされるカル
ボン酸化合物又はその反応性誘導体の使用量は、通常1
〜10倍モル量程度、好ましくは1〜3倍モル量程度が
よい。また一般式(6)で表わされるアミン化合物に対
する塩基性化合物の使用量は、通常1〜30倍モル量程
度、好ましくは2〜10倍モル量程度とするのがよい。
反応時間は通常1〜24時間程度、好ましくは1〜6時
間程度である。
In the above reaction, the amount of the carboxylic acid compound represented by the general formula (7) or the reactive derivative thereof to the amine compound represented by the general formula (6) is usually 1
The molar amount is about 10 to 10 times, preferably about 1 to 3 times. The amount of the basic compound to be used is usually about 1 to 30 times, preferably about 2 to 10 times the molar amount of the amine compound represented by the general formula (6).
The reaction time is generally about 1 to 24 hours, preferably about 1 to 6 hours.

【0063】上記で得られたアミド結合生成物から保護
基を除去するには、例えば保護基がトリ(低級)アルキ
ルシリル基等である場合には、水で処理することにより
行なうことができる。また、ベンズヒドリル基、トリチ
ル基、p−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、ホル
ミル基等の保護基である場合には、ギ酸、塩酸、トリフ
ルオロ酢酸、アニソール−トリフルオロ酢酸、酢酸、フ
ェノール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。反
応終了後、ダイヤイオンHP−20、HP−21、SP
−207、CHP−20P(三菱化成工業)等のハイポ
ーラスポリマー、アンバーライトXAD−2(ローム&
ハス社)等を用いたカラムグラフィーにより精製するこ
とにより一般式(1)の本発明化合物を得ることができ
る。
The protecting group can be removed from the amide bond product obtained above by, for example, treating with water when the protecting group is a tri (lower) alkylsilyl group or the like. When the protective group is a benzhydryl group, a trityl group, a p-methoxybenzyl group, a tert-butyl group, a formyl group or the like, formic acid, hydrochloric acid, trifluoroacetic acid, anisole-trifluoroacetic acid, acetic acid, phenol, cresol It can be removed by treating with a kind. After completion of the reaction, Diaion HP-20, HP-21, SP
-207, CHP-20P (Mitsubishi Chemical Industries) and other high-porous polymers, Amberlite XAD-2 (ROHM &
The compound of the present invention represented by the general formula (1) can be obtained by purification by column chromatography using, for example, Hass Corporation.

【0064】[0064]

【化28】 Embedded image

【0065】〔式中Q、R、R1 、R2 、R3 、R4
5 、R6 及びR′は前記に同じ。R7 はハロゲン原
子、低級アシルオキシ基又はスルホニルオキシ基を示
す。R8
[Wherein Q, R, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 ,
R 5 , R 6 and R ′ are the same as above. R 7 represents a halogen atom, a lower acyloxy group or a sulfonyloxy group. R 8 is

【0066】[0066]

【化29】 Embedded image

【0067】を示す。ここでC及びnは前記に同じ。X
はハロゲン原子を示す。Mは水素原子又は金属原子を示
す。〕 上記製造法−IIにおいて、一般式(1)で表わされる本
発明化合物は、一般式(8)で表わされるセファロスポ
リン化合物又はその塩類と一般式(9)で表わされるメ
ルカプト化合物を反応させ、次いで得られる一般式(1
0)の化合物に一般式(11)で表わされるハロゲン化
有機化合物を反応させ、更に得られる一般式(12)の
化合物から保護基を除去することにより、一般式(1)
の本発明化合物を得ることができる。
FIG. Here, C and n are the same as above. X
Represents a halogen atom. M represents a hydrogen atom or a metal atom. In the above Production Method-II, the compound of the present invention represented by the general formula (1) is reacted with a cephalosporin compound represented by the general formula (8) or a salt thereof and a mercapto compound represented by the general formula (9). And then the resulting general formula (1
The compound of the formula (1) is reacted with the halogenated organic compound represented by the formula (11), and the protecting group is removed from the compound of the formula (12).
Of the present invention can be obtained.

【0068】化合物(8)と化合物(9)との反応は、
通常アセトン等のケトン類、クロロホルム、ジクロロメ
タン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、アセトニトリル、メタノール、エタノール等
のアルコール類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、水、リン酸緩衝液等の有機溶媒又は親水性有
機溶媒と水との混合液中で行なわれる。該反応系内に塩
基や塩類を添加することによって反応を促進させること
もできる。これらの塩基、塩類としては、例えば水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等の無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピ
ルアミン等のトリアルキルアミンの様な有機アミンを挙
げることができる。また塩類としてはテトラブチルアン
モニウム塩の様な第4級アンモニウム塩が例示できる。
化合物(8)と化合物(9)との使用割合としては、特
に限定されるものではないが、通常化合物(8)に対し
て化合物(9)を1〜5当量、好ましくは1〜2当量用
いるのがよい。該反応は通常冷却下又は室温付近で行な
われる。
The reaction between compound (8) and compound (9)
Usually, ketones such as acetone, halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, alcohols such as acetonitrile, methanol and ethanol, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, water and phosphorus The reaction is carried out in an organic solvent such as an acid buffer or a mixture of a hydrophilic organic solvent and water. The reaction can be promoted by adding a base or a salt to the reaction system. Examples of these bases and salts include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate, and organic amines such as trialkylamine such as triethylamine and diisopropylamine. Examples of the salts include quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium salts.
The use ratio of the compound (8) and the compound (9) is not particularly limited, but is usually 1 to 5 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents of the compound (9) relative to the compound (8). Is good. The reaction is usually performed under cooling or at around room temperature.

【0069】化合物(10)と化合物(11)との反応
に使用される溶媒としては、例えばジクロロメタン、ジ
クロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン
化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等が例
示できる。化合物(10)と化合物(11)との使用割
合としては、化合物(11)の種類等により異なり一概
には言えないが、通常化合物(10)に対して化合物
(11)を1〜100当量、好ましくは5〜50当量用
いるのがよい。該反応は室温〜80℃程度、好ましくは
20〜50℃程度にて行なわれ、一般に1〜20時間程
度で終了する。
Examples of the solvent used in the reaction between the compound (10) and the compound (11) include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. Examples thereof include hydrocarbons, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, and acetonitrile. The ratio of the compound (10) to the compound (11) used depends on the type of the compound (11) and the like and cannot be unconditionally determined, but usually 1 to 100 equivalents of the compound (11) relative to the compound (10), Preferably, 5 to 50 equivalents are used. The reaction is carried out at room temperature to about 80 ° C., preferably about 20 to 50 ° C., and is generally completed in about 1 to 20 hours.

【0070】一般式(11)で表わされるハロゲン化有
機化合物としては、例えば2−ブロモ−エチルトリメチ
ルアンモニウム・ヨーダイド、3−ブロモ−プロピルト
リメチルアンモニウム・ヨーダイド、2−ブロモエチル
−ヒドロキシエチル−ジメチルアンモニウム・ヨーダイ
ド、2−ブロモエチル−カルバモイルメチル−ジメチル
アンモニウム・ヨーダイド、N−(2−ブロモエチル)
−N−メチル−モルホニウム・ヨーダイド、N−(2−
ブロモエチル)−N−カルバモイルメチル−モルホニウ
ム・ヨーダイド、N−(2−ブロモエチル)−N−メチ
ル−ピペリジニウム・ヨーダイド、1−(2−ブロモエ
チル)−1−メチル−ピペラジニウム・ヨーダイド、1
−(2−ブロモエチル)−1−カルバモイルメチル−ピ
ペラジニウム・ヨーダイド、1−(2−ブロモエチル)
−1,4−ジメチル−ピペラジニウム・ヨーダイド、1
−(2−ブロモエチル)−1−カルバモイルメチル−4
−メチル−ピペラジニウム・ヨーダイド、1−(2−ブ
ロモエチル)−4,4−ジメチル−ピペラジニウム・ヨ
ーダイド、1−(2−ブロモエチル)−1−メチル−ピ
ロリジニウム・ヨーダイド、1−(2−ブロモエチル)
−1−カルバモイルメチル−ピロリジニウム・ヨーダイ
ド等が挙げられる。
Examples of the halogenated organic compound represented by the general formula (11) include 2-bromo-ethyltrimethylammonium iodide, 3-bromo-propyltrimethylammonium iodide, and 2-bromoethyl-hydroxyethyl-dimethylammonium iodide. , 2-bromoethyl-carbamoylmethyl-dimethylammonium iodide, N- (2-bromoethyl)
-N-methyl-morphonium iodide, N- (2-
(Bromoethyl) -N-carbamoylmethyl-morphonium iodide, N- (2-bromoethyl) -N-methyl-piperidinium iodide, 1- (2-bromoethyl) -1-methyl-piperazinium iodide,
-(2-bromoethyl) -1-carbamoylmethyl-piperazinium iodide, 1- (2-bromoethyl)
-1,4-dimethyl-piperazinium iodide, 1
-(2-bromoethyl) -1-carbamoylmethyl-4
-Methyl-piperazinium iodide, 1- (2-bromoethyl) -4,4-dimethyl-piperazinium iodide, 1- (2-bromoethyl) -1-methyl-pyrrolidinium iodide, 1- (2-bromoethyl)
-1-carbamoylmethyl-pyrrolidinium iodide and the like.

【0071】斯くして得られる一般式(12)の化合物
は、製造法−Iで示した方法により保護基の除去を行な
うことができ、一般式(1)の本発明化合物が容易に製
造される。
The thus-obtained compound of the general formula (12) can be subjected to the removal of the protecting group by the method shown in Production Method-I, whereby the compound of the present invention of the general formula (1) can be easily produced. You.

【0072】[0072]

【化30】 Embedded image

【0073】〔式中Q、R3 、R4 、R5 、R6
7 、R′、B- 及びCは前記に同じ。〕 一般式(12)の化合物は、上記製造法−III によって
も製造され得る。即ち、製造法−III によれば、一般式
(8)の化合物に一般式(13)又は(14)で表わさ
れる4級化されたメルカプト化合物を反応させることに
より、一般式(12)の化合物が製造される。
[Wherein Q, R 3 , R 4 , R 5 , R 6 ,
R 7 , R ′, B and C are the same as described above. The compound of the general formula (12) can also be produced by the above-mentioned production method-III. That is, according to the production method-III, the compound of the general formula (12) is reacted with the quaternized mercapto compound of the general formula (13) or (14) to give the compound of the general formula (12) Is manufactured.

【0074】一般式(8)の化合物と一般式(13)又
は(14)の化合物との反応は、前記一般式(8)の化
合物と一般式(9)の化合物との反応と同様の反応条件
下に行ない得る。
The reaction between the compound of the general formula (8) and the compound of the general formula (13) or (14) is the same as the reaction between the compound of the general formula (8) and the compound of the general formula (9). Can be performed under conditions.

【0075】[0075]

【化31】 Embedded image

【0076】〔式中Q、R4 、R5 、R6 、R7 及び
R′は前記に同じ。R9
Wherein Q, R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R ′ are the same as above. R 9 is

【0077】[0077]

【化32】 Embedded image

【0078】を示す。ここでR10は基−(CH2 )m−
Z又は基−(CH2 )m−CO−Z(基中、mは1〜5
の整数、Zは第3級アミノ基を示す。)を示す。R11
低級アルキル基、低級アルケニル基、ヒドロキシ低級ア
ルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カルバモイル低
級アルキル基、低級アルカノイル低級アルキル基、低級
アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、低級アルキル
アミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミノ低級アル
キル基又はスルホ低級アルキル基を示す。nは0又は1
〜4の整数を示す。〕 一般式(12)の化合物は、上記製造法−IVによっても
製造され得る。
Is shown. Here, R 10 is a group — (CH 2 ) m—
Z or a group - (CH 2) in m-CO-Z (group, m is 1 to 5
And Z represents a tertiary amino group. ). R 11 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a hydroxy lower alkyl group, a carboxy lower alkyl group, a carbamoyl lower alkyl group, a lower alkanoyl lower alkyl group, a lower alkoxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, an amino lower alkyl group, It represents a lower alkylamino lower alkyl group, a di-lower alkylamino lower alkyl group or a sulfo lower alkyl group. n is 0 or 1
Shows an integer of ~ 4. The compound of the general formula (12) can also be produced by the above-mentioned production method-IV.

【0079】一般式(8)の化合物と一般式(15)又
は(16)の化合物との反応は、前記一般式(8)の化
合物と一般式(9)の化合物との反応と同様の反応条件
下にて行ない得る。また一般式(17)の化合物と一般
式(18)の化合物との反応は、前記一般式(10)の
化合物と一般式(11)の化合物との反応と同様の反応
条件下にて行ない得る。一般式(18)で表わされるハ
ロゲン化有機化合物としては、例えば低級アルキルハラ
イド、低級アルケニルハライド、ヒドロキシ低級アルキ
ルハライド、カルボキシ低級アルキルハライド、カルバ
モイル低級アルキルハライド、低級アルカノイル低級ア
ルキルハライド、低級アルコキシ低級アルキルハライ
ド、低級アルコキシカルボニル低級アルキルハライド、
アミノ低級アルキルハライド、低級アルキルアミノ低級
アルキルハライド、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル
ハライド、スルホ低級アルキルハライド等が挙げられ、
上記各種ハライドとしては、クロライド、ブロマイド、
ヨーダイド等が例示できる。
The reaction between the compound of the general formula (8) and the compound of the general formula (15) or (16) is the same as the reaction between the compound of the general formula (8) and the compound of the general formula (9). Can be performed under conditions. The reaction between the compound of the general formula (17) and the compound of the general formula (18) can be performed under the same reaction conditions as the reaction between the compound of the general formula (10) and the compound of the general formula (11). . Examples of the halogenated organic compound represented by the general formula (18) include, for example, lower alkyl halide, lower alkenyl halide, hydroxy lower alkyl halide, carboxy lower alkyl halide, carbamoyl lower alkyl halide, lower alkanoyl lower alkyl halide, lower alkoxy lower alkyl halide , Lower alkoxycarbonyl lower alkyl halide,
Amino lower alkyl halide, lower alkylamino lower alkyl halide, di-lower alkylamino lower alkyl halide, sulfo lower alkyl halide, and the like,
The various halides include chloride, bromide,
Iodide and the like can be exemplified.

【0080】一般式(9)、(13)及び(15)のピ
リジン誘導体においては、チオール基の結合位置によっ
て、互変異性平衡の状態にあり、例えば一般式(15)
のピリジン誘導体にあっては次のような関係にあり、そ
のような異性体は化合物それ自体同じ範疇に含まれる。
このような互変異性体型を含む一般式(9)、(13)
及び(15)のピリジン誘導体は便宜上一方の表現を用
いるが他方の異性体をも包含することは言うまでもな
い。
The pyridine derivatives of the general formulas (9), (13) and (15) are in a tautomeric equilibrium depending on the bonding position of the thiol group.
In the pyridine derivative of the above, the following relationship is established, and such isomers are included in the same category as the compound itself.
General formulas (9) and (13) containing such tautomeric forms
For the pyridine derivative of (15), one expression is used for convenience, but it goes without saying that the pyridine derivative also includes the other isomer.

【0081】[0081]

【化33】 Embedded image

【0082】〔式中R10及びnは前記に同じ。〕 本発明の化合物は、適当な製剤用担体を用いて通常の方
法に従い、製剤組成物とされる。ここで用いられる担体
としては、通常の薬剤に汎用される各種のもの、例えば
賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味剤、矯
臭剤、界面活性剤等を例示できる。
[Wherein R 10 and n are the same as above. The compound of the present invention is made into a pharmaceutical composition according to a usual method using a suitable pharmaceutical carrier. Examples of the carrier used here include various types commonly used for ordinary drugs, for example, excipients, binders, disintegrants, lubricants, coloring agents, flavoring agents, flavoring agents, surfactants and the like. .

【0083】本発明製剤を人を含む哺乳動物の感染症、
殊にメチシリン耐性黄色ブドウ球菌の引き起こす感染症
の治療剤として使用する際の投与単位形態としては特に
限定されず、治療目的に応じて適宜選択でき、具体的に
は注射剤、坐剤、点眼剤、軟膏剤、エアゾール剤等の非
経口剤、錠剤、被覆錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、
液剤、丸剤、懸濁剤、乳剤等の経口剤を例示できる。
The preparation of the present invention can be used for infectious diseases of mammals including humans,
In particular, the dosage unit form when used as a therapeutic agent for infectious diseases caused by methicillin-resistant Staphylococcus aureus is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose of the treatment. Specifically, injections, suppositories, eye drops Ointments, parenteral preparations such as aerosols, tablets, coated tablets, powders, granules, capsules,
Oral preparations such as liquid preparations, pills, suspensions and emulsions can be exemplified.

【0084】上記各種薬剤は、この分野で通常知られた
製剤方法により製剤化される。錠剤、散剤、顆粒剤等の
経口用固形製剤の形態に成形するに際しては、担体とし
て例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿
素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロ
ース、ケイ酸、メチルセルロース、グリセリン、アルギ
ン酸ナトリウム、アラビアゴム等の賦形剤、単シロッ
プ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリ
ドン、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチル
セルロース、エチルセルロース、水、エタノール、リン
酸カリウム等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン
酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、
ステアリン酸、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制
剤、第4級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム
等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デ
ンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケ
イ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸
末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用でき
る。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例
えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコー
ティング錠、二重錠、多層錠等とすることができる。
The above-mentioned various drugs are prepared by a preparation method generally known in this field. Tablets, powders, granules and the like for solid oral preparations such as lactose, sucrose, sodium chloride, glucose, urea, starch, calcium carbonate, kaolin, crystalline cellulose, silicic acid, methylcellulose, glycerin , Excipients such as sodium alginate, gum arabic, simple syrup, glucose solution, starch solution, gelatin solution, polyvinyl alcohol, polyvinyl ether, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, shellac, methylcellulose, ethylcellulose, water, ethanol, potassium phosphate, etc. Binder, dried starch, sodium alginate, agar powder, laminarane powder, sodium hydrogen carbonate, calcium carbonate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, sodium lauryl sulfate, steari Acid monoglyceride, starch, disintegrating agents such as lactose, sucrose,
Disintegration inhibitors such as stearic acid, cocoa butter, hydrogenated oil, etc., absorption promoters such as quaternary ammonium bases, sodium lauryl sulfate, humectants such as glycerin and starch, starch, lactose, kaolin, bentonite, colloidal silicic acid And a lubricant such as purified talc, stearate, boric acid powder, polyethylene glycol and the like. Further, the tablets can be made into tablets coated with a usual coating, if necessary, such as sugar-coated tablets, gelatin-coated tablets, enteric-coated tablets, film-coated tablets, double tablets, multilayer tablets and the like.

【0085】丸剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化
植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム
末、トラガント末、ゼラチン等の結合剤、ラミナラン、
カンテン等の崩壊剤等を使用できる。
In the case of molding into a pill form, carriers include, for example, excipients such as glucose, lactose, starch, cocoa butter, hydrogenated vegetable oil, kaolin, talc, binders such as gum arabic powder, tragacanth powder, gelatin and the like; Laminaran,
Disintegrators such as agar can be used.

【0086】カプセル剤は上記で例示した各種の担体と
混合し、硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填
して調製される。
Capsules are prepared by mixing with the various carriers described above and filling them in hard gelatin capsules, soft capsules or the like.

【0087】坐剤の形態に成形するに際しては、担体と
して例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、ラノリ
ン、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼ
ラチン、半合成グリセライド、ウィテップゾール(登録
商標ダイナマイトノーベル社)等に適当な吸収促進剤を
添加して使用できる。
In forming into suppositories, carriers such as polyethylene glycol, cocoa butter, lanolin, higher alcohols, esters of higher alcohols, gelatin, semi-synthetic glyceride, and Witepsol (registered trademark Dynamite Nobel) are used as carriers. And an appropriate absorption enhancer.

【0088】注射剤の形態に成形するに際しては、担体
として例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プ
ロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコ
ール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオ
キシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等の希釈剤、
クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム等のpH調整剤及び緩衝剤、ピロ亜硫酸ナトリウム、
エチレンジアミン四酢酸、チオグリコール酸、チオ乳酸
等の安定化剤等を使用できる。なお、この場合等張性の
溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖又はグリセ
リンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また通常の溶
解補助剤、無痛化剤、局所麻酔剤等を添加してもよい。
これらの担体を添加して、常法により皮下、筋肉内、静
脈内用注射剤を製造することができる。
In molding into an injection, diluents such as water, ethyl alcohol, macrogol, propylene glycol, ethoxylated isostearyl alcohol, polyoxylated isostearyl alcohol, and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters are used as carriers. ,
PH adjusters and buffers such as sodium citrate, sodium acetate, sodium phosphate, sodium pyrosulfite,
Stabilizers such as ethylenediaminetetraacetic acid, thioglycolic acid, and thiolactic acid can be used. In this case, a sufficient amount of salt, glucose or glycerin to prepare an isotonic solution may be included in the pharmaceutical preparation, and a usual solubilizing agent, soothing agent, local anesthetic, etc. may be added. May be.
By adding these carriers, injections for subcutaneous, intramuscular, and intravenous injections can be produced by a conventional method.

【0089】液体製剤は水性又は油性の懸濁液、溶液、
シロップ、エリキシル剤であってもよく、これらは通常
の添加剤を用いて常法に従い、調製される。
Liquid preparations can be aqueous or oily suspensions, solutions,
Syrups and elixirs may be prepared according to a conventional method using ordinary additives.

【0090】軟膏剤、例えばペースト、クリーム及びゲ
ルの形態に調製するに際しては、希釈剤として例えば白
色ワセリン、パラフィン、グリセリン、セルロース誘導
体、ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナイト
等を使用できる。
In preparing an ointment such as paste, cream and gel, diluents such as white petrolatum, paraffin, glycerin, cellulose derivatives, polyethylene glycol, silicone, bentonite and the like can be used.

【0091】上記製剤中に含有されるべき本発明化合物
の量としては、剤型、投与経路、投与計画等により異な
り一概には言えず広い範囲内から適宜選択されるが、通
常製剤中に1〜70重量%程度とするのがよい。
The amount of the compound of the present invention to be contained in the above-mentioned preparation varies depending on the dosage form, administration route, administration schedule and the like, and cannot be specified unconditionally and is appropriately selected from a wide range. The content is preferably about 70% by weight.

【0092】上記製剤の投与方法は、例えば経腸投与、
経口投与、直腸投与、口腔内投与、経皮投与等特に制限
されず、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条
件、患者の症状の程度等に応じて適宜決定される。例え
ば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセ
ル剤の場合には、経口投与される。また注射剤の場合に
は単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合
して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋肉内、
皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には
直腸内投与される。軟膏剤は、皮膚、口腔内粘膜等に塗
布される。
The above-mentioned preparations can be administered, for example, by enteral administration,
Oral administration, rectal administration, buccal administration, transdermal administration and the like are not particularly limited, and are appropriately determined according to various preparation forms, age, sex and other conditions of the patient, degree of symptoms of the patient, and the like. For example, tablets, pills, solutions, suspensions, emulsions, granules, and capsules are orally administered. In the case of an injection, it is administered alone or mixed with a normal replenisher such as glucose and amino acids, and administered intravenously.
It is administered intradermally, subcutaneously or intraperitoneally. In the case of suppositories, they are administered rectally. The ointment is applied to skin, oral mucosa, and the like.

【0093】本発明の化合物の投与量は、用法、患者の
年齢、状態、病気の種類、投与する本発明化合物の種類
等に応じて適宜選択される。一般に1日100mgから
約10g、更にはそれ以上の量が患者に投与できる。病
原菌感染症の治療には、本発明化合物の1回当りの平均
投与量として約50mg、100mg、250mg、1
000mg、2000mgの量が使用できる。
The dose of the compound of the present invention is appropriately selected according to the usage, the age and condition of the patient, the type of disease, the type of the compound of the present invention to be administered, and the like. Generally, from 100 mg to about 10 g per day, or more, can be administered to a patient. For the treatment of pathogenic bacterial infections, the average dose of the compound of the present invention is about 50 mg, 100 mg, 250 mg, 1 mg.
Amounts of 000 mg, 2000 mg can be used.

【0094】目的化合物の有用性を示すために、本発明
の代表的化合物の寒天平板希釈法により各種細菌に対す
る抗菌力試験を行ない、各種細菌に対する菌発育最小阻
止濃度(MIC値)をFMOX(フロモキセフ)と比較
して試験した結果を表1に、また臨床分離メチシリン耐
性、シプロフロキサシン高度耐性黄色ブドウ球菌に対す
るMIC−80値をVCM(バンコマイシン)、FMO
X、CPFX(シプロフロキサシン)と比較した結果を
表2に示す。尚、試験化合物は以下の通りである。
In order to show the usefulness of the target compound, an antibacterial activity test of representative compounds of the present invention against various bacteria was carried out by the agar plate dilution method, and the minimum inhibitory concentration (MIC value) against the various bacteria was determined to be FMOX (Flomoxef). MIC-80 values against clinically isolated methicillin-resistant and highly-resistant ciprofloxacin-resistant Staphylococcus aureus are shown in Table 1, and VCM (vancomycin), FMO
Table 2 shows the results of comparison with X and CPFX (ciprofloxacin). The test compounds are as follows.

【0095】試験化合物 (a):7−〔2−シクロペンチルオキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(2−トリメチルアンモニオエチル)
−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート塩化物 (b):7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−トリメチルアンモニオエチル)−4−ピリ
ジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート塩化物 (c):7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−カルバモイルメチル−ジメチルアンモニオ
エチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート塩化物 (d):7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−アセトニル−ジメチルアンモニオエチル)
−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−
カルボキシレート塩化物 (e):7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−ヒドロキシエチル−ジメチルアンモニオエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボキシレート塩化物 (f):7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−(4−メチルモルホリニオ)エチル)−4
−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カル
ボキシレート塩化物
Test compound (a): 7- [2-cyclopentyloxyimino-2-
(2-aminothiazol-4-yl) acetamide]-
3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl)
-4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-
Carboxylate chloride (b): 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2-
(1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride (c): 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazole-4) -Yl) acetamide] -3- [2-
(1- (2-carbamoylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride (d): 7- [2-hydroxyimino-2- (2-amino) Thiazol-4-yl) acetamido] -3- [2-
(1- (2-acetonyl-dimethylammonioethyl)
-4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-
Carboxylate chloride (e): 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2-
(1- (2-hydroxyethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride (f): 7- [2-hydroxyimino-2- (2-amino) Thiazol-4-yl) acetamido] -3- [2-
(1- (2- (4-methylmorpholinio) ethyl) -4
-Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride

【0096】[0096]

【表1】 [Table 1]

【0097】[0097]

【表2】 [Table 2]

【0098】[0098]

【実施例】以下に実施例を掲げる。Examples are given below.

【0099】実施例1Embodiment 1

【0100】[0100]

【化34】 Embedded image

【0101】7−[2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド]−3−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル19.7g(0.0165モル)及び1−
(2−ジメチルアミノエチル)−4−ピリドチオン3.
16g(0.017モル)を無水ジメチルホルムアミド
150mlを加えて溶解し室温で2.5時間撹拌した。
反応終了後、酢酸エチルエステル(1200ml)で抽
出し、水で3回、10%食塩水で1回洗浄を行ない、有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下有機溶媒を
留去して、目的物の7−〔2−トリチルオキシイミノ−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−〔2−(1−(2−ジメチルアミノエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩を20.3g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- (2-trifluoromethanesulfonyloxyvinyl) -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 19.7 g (0.0165 mol) and 1-
(2-dimethylaminoethyl) -4-pyridothione3.
16 g (0.017 mol) was dissolved by adding 150 ml of anhydrous dimethylformamide, and the mixture was stirred at room temperature for 2.5 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate (1200 ml), washed three times with water and once with 10% brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure. 7- [2-trityloxyimino-
2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester -20.3 g of trifluoromethanesulfonate was obtained.

【0102】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.15(6H,s)、2.69(2H,m)、
3.77(1H,ABq,J=17.1Hz)、4.1
8(1H,ABq,J=17.1Hz)、4.55(2
H,m)、5.35(1H,d,J=4.8Hz)、
5.98(1H,dd,J=4.8Hz,7.8H
z)、6.63(1H,s)、6.97(1H,s)、
7.1−7.6(42H,m)、8.09(2H,d,
J=6.9Hz)、8.75(2H,d,J=6.9H
z)、8.79(1H,s)、9.93(1H,d,J
=7.8Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.15 (6H, s), 2.69 (2H, m),
3.77 (1H, ABq, J = 17.1 Hz), 4.1
8 (1H, ABq, J = 17.1 Hz), 4.55 (2
H, m), 5.35 (1H, d, J = 4.8 Hz),
5.98 (1H, dd, J = 4.8 Hz, 7.8H
z), 6.63 (1H, s), 6.97 (1H, s),
7.1-7.6 (42H, m), 8.09 (2H, d,
J = 6.9 Hz), 8.75 (2H, d, J = 6.9H)
z), 8.79 (1H, s), 9.93 (1H, d, J
= 7.8 Hz).

【0103】実施例2Embodiment 2

【0104】[0104]

【化35】 Embedded image

【0105】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−ジメチルアミノエチ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロ
メタンスルホン酸塩20.3g(0.016モル)をア
セトニトリル100mlに溶解して沃化メチル10.3
ml(0.16モル)を加え室温で2時間撹拌した。反
応終了後、減圧下、溶媒を留去して7−〔2−トリチル
オキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−ト
リメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビ
ニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル・沃化物を22.6g得た.1 H−NMR(DMSO−d6 )δppm;3.15
(9H,s)、3.77(1H,ABq,J=17.1
Hz)、3.91(2H,m)、4.18(1H,AB
q,J=17.1Hz)、4.96(2H,m)、5.
35(1H,d,J=4.8Hz)、5.98(1H,
dd,J=4.8Hz,7.8Hz)、6.62(1
H,s)、6.97(1H,s)、7.1−7.6(4
2H,m)、8.20(2H,d,J=6.9Hz)、
8.79(1H,brs)、8.82(2H,d,J=
6.9Hz)、9.93(1H,d,J=7.8H
z)。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
4-Carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonic acid salt (20.3 g, 0.016 mol) was dissolved in acetonitrile (100 ml) and methyl iodide was added to the solution.
ml (0.16 mol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure to remove 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazole-).
22.6 g of 4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide was obtained. Was. 1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ ppm; 3.15
(9H, s), 3.77 (1H, ABq, J = 17.1)
Hz), 3.91 (2H, m), 4.18 (1H, AB
q, J = 17.1 Hz), 4.96 (2H, m), 5.
35 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.98 (1H, d, J = 4.8 Hz)
dd, J = 4.8 Hz, 7.8 Hz), 6.62 (1
H, s), 6.97 (1H, s), 7.1-7.6 (4
2H, m), 8.20 (2H, d, J = 6.9 Hz),
8.79 (1H, brs), 8.82 (2H, d, J =
6.9 Hz), 9.93 (1H, d, J = 7.8H)
z).

【0106】実施例3Embodiment 3

【0107】[0107]

【化36】 Embedded image

【0108】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−トリメチルアンモニオ
エチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物2
2.6g(0.016モル)をクロロホルム70mlに
溶解して、88%ギ酸40ml及び濃塩酸5.5mlを
加え室温で4時間撹拌した。反応終了後ギ酸層をクロロ
ホルム(70ml×3)で洗浄し、これをイソプロピル
エーテル/アセトン(200ml/600ml)中滴下
した。沈殿物を濾取して7−〔2−ヒドロキシイミノ−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕−3−〔2−(1−(2−トリメチルアンモニオエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボキシレートの粗生成物7.0gを得た。こ
の粗生成物を0.1規定塩酸130mlに溶解してハイ
ポーラスポリマー三菱ダイヤイオンHP−21カラムに
吸着して、水、次いで水/アセトニトリルで展開した。
目的物を含む分画を集め、減圧濃縮、凍結乾燥を行な
い、3.0gの7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔2−(1−(2−トリメチルアンモニオエチル)−4
−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カル
ボキシレートの塩化物を得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamide] -3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester. Iodide 2
2.6 g (0.016 mol) was dissolved in 70 ml of chloroform, 40 ml of 88% formic acid and 5.5 ml of concentrated hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. After the completion of the reaction, the formic acid layer was washed with chloroform (70 ml × 3) and added dropwise to isopropyl ether / acetone (200 ml / 600 ml). The precipitate was collected by filtration and treated with 7- [2-hydroxyimino-
Crude formation of 2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate 7.0 g of the product were obtained. This crude product was dissolved in 130 ml of 0.1 N hydrochloric acid, adsorbed on a column of a high-porous polymer Mitsubishi Diaion HP-21, and developed with water and then with water / acetonitrile.
The fractions containing the target compound were collected, concentrated under reduced pressure, and freeze-dried, and 3.0 g of 7- [2-hydroxyimino-2- (2
-Aminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4
-Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride was obtained.

【0109】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.18(9H,s)、3.59(1H,ABq,
J=17.1Hz)、3.87(1H,ABq,J=1
7.1Hz)、4.00(2H,m)、5.04(2
H,m)、5.13(1H,d,J=4.8Hz)、
5.70(1H,dd,J=4.8Hz,7.8H
z)、6.64(1H,s)、6.6−6.8(1H,
m)、7.13(2H,m)、7.42(1H,d,J
=15.3Hz)、8.12(2H,d,J=6.6H
z)、8.96(2H,d,J=6.6Hz)、9.4
5(1H,d,J=7.8Hz)、11.38(1H,
s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.18 (9H, s), 3.59 (1H, ABq,
J = 17.1 Hz), 3.87 (1H, ABq, J = 1
7.1 Hz), 4.00 (2H, m), 5.04 (2
H, m), 5.13 (1H, d, J = 4.8 Hz),
5.70 (1H, dd, J = 4.8Hz, 7.8H
z), 6.64 (1H, s), 6.6-6.8 (1H,
m), 7.13 (2H, m), 7.42 (1H, d, J
= 15.3 Hz), 8.12 (2H, d, J = 6.6H)
z), 8.96 (2H, d, J = 6.6 Hz), 9.4
5 (1H, d, J = 7.8 Hz), 11.38 (1H,
s).

【0110】実施例4Embodiment 4

【0111】[0111]

【化37】 Embedded image

【0112】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−ジメチルアミノエチ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロ
メタンスルホン酸塩3.0g(0.0024モル)をア
セトニトリル15mlに溶解して2−ヨードアセトアミ
ド1.8g(0.098モル)を加え室温で4時間撹拌
した。反応終了後、減圧下、溶媒を留去して7−〔2−
トリチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(2−カルバモイルメチル−ジメチルアンモニオエチ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物と2−
ヨードアセトアミドの混合物を4.8g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
3.0 g (0.0024 mol) of 4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate was dissolved in 15 ml of acetonitrile, 1.8 g (0.098 mol) of 2-iodoacetamide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. . After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure to give 7- [2-
Trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1-
(2-carbamoylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
4-Carboxylic acid benzhydryl ester / iodide and 2-
4.8 g of a mixture of iodoacetamide was obtained.

【0113】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.15(6H,s)、3.75(1H,ABq,
J=17.1Hz)、4.1−4.2(5H,m)、
4.97(2H,m)、5.35(1H,d,J=5.
1Hz)、5.98(1H,dd,J=5.1Hz,
8.1Hz)、6.62(1H,s)、6.95(1
H,s)、7.0−8.0(44H,m)、8.18
(2H,d,J=6.6Hz)、8.78(1H,
s)、8.86(2H,d,J=6.6Hz)、9.9
2(1H,d,J=8.1Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.15 (6H, s), 3.75 (1H, ABq,
J = 17.1 Hz), 4.1-4.2 (5H, m),
4.97 (2H, m), 5.35 (1H, d, J = 5.
1 Hz), 5.98 (1H, dd, J = 5.1 Hz,
8.1 Hz), 6.62 (1H, s), 6.95 (1
H, s), 7.0-8.0 (44H, m), 8.18
(2H, d, J = 6.6 Hz), 8.78 (1H,
s), 8.86 (2H, d, J = 6.6 Hz), 9.9
2 (1H, d, J = 8.1 Hz).

【0114】実施例5Embodiment 5

【0115】[0115]

【化38】 Embedded image

【0116】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−カルバモイルメチル−
ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビ
ニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル・沃化物4.8gをクロロホルム8mlに溶解
して、88%ギ酸6ml及び濃塩酸0.8mlを加え室
温で3.5時間撹拌した。反応終了後ギ酸層をクロロホ
ルム(8ml×3)で洗浄し、これをイソプロピルエー
テル/アセトン(50ml/100ml)中滴下した。
沈殿物を濾取して7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(2−カルバモイルメチル−ジメチル
アンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−
3−セフェム−4−カルボキシレートの粗生成物1.4
gを得た。この粗生成物を水14mlに溶解してハイポ
ーラスポリマー三菱ダイヤイオンHP−21カラムに吸
着して、水、次いで水/アセトニトリルで展開した。目
的物を含む分画を集め、減圧濃縮、凍結乾燥を行ない、
327mgの7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔2−(1−(2−カルバモイルメチル−ジメチルアン
モニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレートの塩化物を得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-carbamoylmethyl-
Dissolve 4.8 g of dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate benzhydryl ester iodide in 8 ml of chloroform and add 6 ml of 88% formic acid and 0.8 ml of concentrated hydrochloric acid. Stirred at room temperature for 3.5 hours. After completion of the reaction, the formic acid layer was washed with chloroform (8 ml × 3), and this was added dropwise to isopropyl ether / acetone (50 ml / 100 ml).
The precipitate was collected by filtration and treated with 7- [2-hydroxyimino-2-
(2-aminothiazol-4-yl) acetamide]-
3- [2- (1- (2-carbamoylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl]-
Crude product of 3-cephem-4-carboxylate 1.4
g was obtained. This crude product was dissolved in 14 ml of water, adsorbed on a column of a high-porous polymer Mitsubishi Diaion HP-21, and developed with water and then with water / acetonitrile. Collect fractions containing the target substance, concentrate under reduced pressure, freeze-dry,
327 mg of 7- [2-hydroxyimino-2- (2-
Aminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[2- (1- (2-carbamoylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-
Cephem-4-carboxylate chloride was obtained.

【0117】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.34(6H,s)、3.60(1H,ABq,
J=17.1Hz)、3.92(1H,ABq,J=1
7.1Hz)、4.21(2H,m)、4.29(2
H,s)、5.11(2H,m)、5.13(1H,
d,J=5.1Hz)、5.72(1H,dd,J=
5.1Hz,8.1Hz)、6.65(1H,s)、
6.6−6.8(1H,m)、7.12(2H,br
s)、7.40(1H,d,J=15.0Hz)、7.
72(1H,brs)、8.19(2H,d,J=6.
6Hz)、8.32(1H,brs)、8.97(2
H,d,J=6.6Hz)、9.44(1H,d,J=
8.1Hz)、11.38(1H,s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.34 (6H, s), 3.60 (1H, ABq,
J = 17.1 Hz), 3.92 (1H, ABq, J = 1
7.1 Hz), 4.21 (2H, m), 4.29 (2
H, s), 5.11 (2H, m), 5.13 (1H,
d, J = 5.1 Hz), 5.72 (1H, dd, J =
5.1Hz, 8.1Hz), 6.65 (1H, s),
6.6-6.8 (1H, m), 7.12 (2H, br
s), 7.40 (1H, d, J = 15.0 Hz), 7.
72 (1H, brs), 8.19 (2H, d, J = 6.
6Hz), 8.32 (1H, brs), 8.97 (2
H, d, J = 6.6 Hz), 9.44 (1H, d, J =
8.1 Hz), 11.38 (1 H, s).

【0118】実施例6Embodiment 6

【0119】[0119]

【化39】 Embedded image

【0120】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル15.7g(0.0132モル)及び1−
(2−モルホリノエチル)−4−ピリドチオン3.1g
(0.014モル)を無水ジメチルホルムアミド80m
lを加えて溶解し室温で2.5時間撹拌した。反応終了
後、酢酸エチルエステル(800ml)で抽出し、水で
2回、10%食塩水で2回洗浄を行ない、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下有機溶媒を留去して、
目的物の7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕
−3−〔2−(1−(2−モルホリノエチル)−4−ピ
リジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホ
ン酸塩を13.1g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- (2-trifluoromethanesulfonyloxyvinyl) -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 15.7 g (0.0132 mol) and 1-
3.1 g of (2-morpholinoethyl) -4-pyridothione
(0.014 mol) in anhydrous dimethylformamide 80m
1 was added and dissolved, followed by stirring at room temperature for 2.5 hours. After completion of the reaction, the mixture was extracted with ethyl acetate (800 ml), washed twice with water and twice with 10% brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure.
The desired 7- [2-trityloxyimino-2- (2-
Tritylaminothiazol-4-yl) acetamide]
13.1 g of -3- [2- (1- (2-morpholinoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate was obtained.

【0121】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.41(4H,m)、2.75(2H,m)、
3.48(4H,m)、3.76(1H,ABq,J=
18.0Hz)、4.16(1H,ABq,J=18.
0Hz)、4.55(2H,m)、5.35(1H,
d,J=4.8Hz)、5.97(1H,dd,J=
4.8Hz,7.8Hz)、6.63(1H,s)、
6.99(1H,s)、7.1−7.6(42H,
m)、8.07(2H,d,J=7.2Hz)、8.7
2(2H,d,J=7.2Hz)、8.77(1H,
s)、9.93(1H,d,J=7.8Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.41 (4H, m), 2.75 (2H, m),
3.48 (4H, m), 3.76 (1H, ABq, J =
18.0 Hz), 4.16 (1H, ABq, J = 18.
0 Hz), 4.55 (2H, m), 5.35 (1H,
d, J = 4.8 Hz), 5.97 (1H, dd, J =
4.8 Hz, 7.8 Hz), 6.63 (1H, s),
6.99 (1H, s), 7.1-7.6 (42H,
m), 8.07 (2H, d, J = 7.2 Hz), 8.7
2 (2H, d, J = 7.2 Hz), 8.77 (1H,
s), 9.93 (1H, d, J = 7.8 Hz).

【0122】実施例7Embodiment 7

【0123】[0123]

【化40】 Embedded image

【0124】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−モルホリノエチル)−
4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタン
スルホン酸塩2g(0.0016モル)に沃化メチル1
0ml(0.16モル)を加え室温で64時間撹拌し
た。反応終了後、減圧下、沃化メチルを留去して7−
〔2−トリチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−(4−メチルモルホリニオ)エチル)−4
−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を2.15g得
た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-morpholinoethyl)-
4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester trifluoromethanesulfonate (2 g, 0.0016 mol) and methyl iodide 1
0 ml (0.16 mol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 64 hours. After completion of the reaction, methyl iodide was distilled off under reduced pressure to give 7-
[2-Trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamide] -3- [2-
(1- (2- (4-methylmorpholinio) ethyl) -4
-Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / iodide (2.15 g) was obtained.

【0125】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.28(3H,s)、3.52(4H,m)、
3.77(1H,ABq,J=18.0Hz)、3.9
6(4H,m)、4.07(2H,m)、4.18(1
H,ABq,J=18.0Hz)、4.99(2H,
m)、5.35(1H,d,J=5.1Hz)、5.9
8(1H,dd,J=5.1Hz,8.4Hz)、6.
63(1H,s)、6.98(1H,s)、7.1−
7.6(42H,m)、8.21(2H,d,J=6.
9Hz)、8.78(1H,s)、8.87(2H,
d,J=6.9Hz)、9.94(1H,d,J=8.
4Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.28 (3H, s), 3.52 (4H, m),
3.77 (1H, ABq, J = 18.0 Hz), 3.9
6 (4H, m), 4.07 (2H, m), 4.18 (1
H, ABq, J = 18.0 Hz), 4.99 (2H,
m), 5.35 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.9
5 (1H, dd, J = 5.1 Hz, 8.4 Hz);
63 (1H, s), 6.98 (1H, s), 7.1-
7.6 (42H, m), 8.21 (2H, d, J = 6.
9Hz), 8.78 (1H, s), 8.87 (2H,
d, J = 6.9 Hz), 9.94 (1H, d, J = 8.
4 Hz).

【0126】実施例8Embodiment 8

【0127】[0127]

【化41】 Embedded image

【0128】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−(4−メチルモルホリ
ニオ)エチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃
化物2.1gをクロロホルム5mlに溶解して、88%
ギ酸3.2ml及び濃塩酸0.496mlを加え室温で
4時間撹拌した。反応終了後ギ酸層をクロロホルム(5
ml×3)で洗浄し、これをイソプロピルエーテル/ア
セトン(20ml/50ml)中滴下した。沈殿物を濾
取して7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−(4−メチルモルホリニオ)エチル)−4
−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カル
ボキシレートの粗生成物0.55gを得た。この粗生成
物を0.1規定塩酸5mlに溶解してハイポーラスポリ
マー三菱ダイヤイオンHP−21カラムに吸着して、
水、次いで水/アセトニトリルで展開した。目的物を含
む分画を集め、減圧濃縮、凍結乾燥を行ない、0.15
6gの7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−(4−メチルモルホリニオ)エチル)−4
−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カル
ボキシレートの塩化物を得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2- (4-methylmorpholinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-
Dissolve 2.1 g of cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide in 5 ml of chloroform to obtain 88%
3.2 ml of formic acid and 0.496 ml of concentrated hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, the formic acid layer was removed with chloroform (5
ml × 3), and this was added dropwise to isopropyl ether / acetone (20 ml / 50 ml). The precipitate was collected by filtration and 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2-
(1- (2- (4-methylmorpholinio) ethyl) -4
0.55 g of a crude product of -pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained. This crude product was dissolved in 5 ml of 0.1 N hydrochloric acid and adsorbed on a high-porous polymer Mitsubishi Diaion HP-21 column.
Developed with water, then water / acetonitrile. The fractions containing the target compound were collected, concentrated under reduced pressure, and lyophilized to give 0.15
6 g of 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2-
(1- (2- (4-methylmorpholinio) ethyl) -4
-Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride was obtained.

【0129】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.30(3H,s)、3.53(4H,m)、
3.61(1H,ABq,J=16.8Hz)、3.9
5(6H,m)、4.01(2H,m)、5.02(2
H,m)、5.15(1H,d,J=5.1Hz)、
5.73(1H,dd,J=5.1Hz,8.4H
z)、6.66(1H,s)、6.80(1H,m)、
7.11(2H,m)、7.41(1H,d,J=1
5.0Hz)、8.15(2H,d,J=6.9H
z)、8.91(2H,d,J=6.9Hz)、9.4
6(1H,d,J=8.4Hz)、11.32(1H,
s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.30 (3H, s), 3.53 (4H, m),
3.61 (1H, ABq, J = 16.8 Hz), 3.9
5 (6H, m), 4.01 (2H, m), 5.02 (2
H, m), 5.15 (1H, d, J = 5.1 Hz),
5.73 (1H, dd, J = 5.1 Hz, 8.4H
z), 6.66 (1H, s), 6.80 (1H, m),
7.11 (2H, m), 7.41 (1H, d, J = 1
5.0 Hz), 8.15 (2H, d, J = 6.9H)
z), 8.91 (2H, d, J = 6.9 Hz), 9.4
6 (1H, d, J = 8.4 Hz), 11.32 (1H,
s).

【0130】実施例9Embodiment 9

【0131】[0131]

【化42】 Embedded image

【0132】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル2.0g及び1−(2−ピペリジノエチ
ル)−4−ピリドチオン0.4gを無水ジメチルホルム
アミド10mlを加えて溶解し室温で4時間撹拌した。
反応終了後、酢酸エチルエステル(100ml)で抽出
し、水で2回、10%食塩水で2回洗浄を行ない、有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下有機溶媒を留
去して、次いでクロロホルム10mlに溶解し、100
mlのイソプロピルエーテルに滴下し、生じた沈殿物を
濾取後乾燥して目的物の7−〔2−トリチルオキシイミ
ノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−ピペリジノエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩を1.99g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- (2-trifluoromethanesulfonyloxyvinyl) -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 2.0 g and 1- (2-piperidinoethyl) -4 0.4 g of pyridothione was dissolved by adding 10 ml of anhydrous dimethylformamide, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture was extracted with ethyl acetate (100 ml), washed twice with water and twice with 10% saline, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Dissolve in 10 ml of chloroform and add 100
The resulting precipitate was collected by filtration, dried, and dried to obtain the desired product, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl).
1.99 g of acetamido] -3- [2- (1- (2-piperidinoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate was obtained.

【0133】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.3−1.5(6H,m)、2.3−2.4(4
H,m)、2.7(2H,m)、3.75(1H,AB
q,J=17.1Hz)、4.15(1H,ABq,J
=17.1Hz)、4.5(2H,m)、5.32(1
H,d,J=4.8Hz)、5.97(1H,dd,J
=4.8Hz,8.2Hz)、6.61(1H,s)、
6.98(1H,s)、7.0−7.6(42H,
m)、8.05(2H,d,J=6.9Hz)、8.6
8(2H,d,J=6.9Hz)、9.93(1H,
d,J=8.2Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.3-1.5 (6H, m), 2.3-2.4 (4
H, m), 2.7 (2H, m), 3.75 (1H, AB
q, J = 17.1 Hz), 4.15 (1H, ABq, J
= 17.1 Hz), 4.5 (2H, m), 5.32 (1
H, d, J = 4.8 Hz), 5.97 (1H, dd, J)
= 4.8 Hz, 8.2 Hz), 6.61 (1H, s),
6.98 (1H, s), 7.0-7.6 (42H,
m), 8.05 (2H, d, J = 6.9 Hz), 8.6
8 (2H, d, J = 6.9 Hz), 9.93 (1H,
d, J = 8.2 Hz).

【0134】実施例10Embodiment 10

【0135】[0135]

【化43】 Embedded image

【0136】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−ピペリジノエチル)−
4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタン
スルホン酸塩2gを6mlのアセトニトリルに溶解し
て、沃化メチル2.6mlを加え室温で16時間撹拌し
た。反応終了後、イソプロピルエーテル86ml中に滴
下して生じた沈殿物を濾取後乾燥して7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
(1−メチルピペリジニオ)エチル)−4−ピリジニ
オ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル・沃化物を1.93g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-piperidinoethyl)-
2-Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester trifluoromethanesulfonate (2 g) was dissolved in 6 ml of acetonitrile, 2.6 ml of methyl iodide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, a precipitate formed by dropping into 86 ml of isopropyl ether was collected by filtration, dried and dried to give 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3-. [2- (1- (2-
1.93 g of (1-methylpiperidinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / iodide was obtained.

【0137】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.5−1.6(2H,m)、1.7−1.9(4
H,m)、3.15(3H,s)、3.3−3.5(4
H,m)、3.77(1H,ABq,J=17.1H
z)、3.9−4.0(2H,m)、4.18(1H,
ABq,J=17.1Hz)、4.9−5.0(2H,
m)、5.35(1H,d,J=4.8Hz)、5.9
8(1H,dd,J=4.8Hz,8.2Hz)、6.
62(1H,s)、6.99(1H,s)、7.0−
7.6(42H,m)、8.2(2H,d,J=6.9
Hz)、8.87(2H,d,J=6.9Hz)、9.
92(1H,d,J=8.2Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.5-1.6 (2H, m), 1.7-1.9 (4
H, m), 3.15 (3H, s), 3.3-3.5 (4
H, m), 3.77 (1H, ABq, J = 17.1H
z), 3.9-4.0 (2H, m), 4.18 (1H,
ABq, J = 17.1 Hz), 4.9-5.0 (2H,
m), 5.35 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.9
5 (1H, dd, J = 4.8 Hz, 8.2 Hz);
62 (1H, s), 6.99 (1H, s), 7.0-
7.6 (42H, m), 8.2 (2H, d, J = 6.9)
Hz), 8.87 (2H, d, J = 6.9 Hz), 9.
92 (1H, d, J = 8.2 Hz).

【0138】実施例11Embodiment 11

【0139】[0139]

【化44】 Embedded image

【0140】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−(1−メチルピペリジ
ニオ)エチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃
化物1.8gをクロロホルム5.1mlに溶解して、8
8%ギ酸3.4ml及び濃塩酸0.296mlを加え室
温で3.5時間撹拌した。反応終了後ギ酸層をクロロホ
ルム(5ml×3)で洗浄し、これをイソプロピルエー
テル/アセトン(8.5ml/31ml)中滴下した。
沈殿物を濾取して7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(2−(1−メチルピペリジニオ)エ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボキシレートの粗生成物0.65gを得た。
この粗生成物を水に溶解してハイポーラスポリマー三菱
ダイヤイオンHP−21カラムに吸着して、水、次いで
水/アセトニトリルで展開した。目的物を含む分画を集
め、減圧濃縮、凍結乾燥を行ない、0.273gの7−
〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
(1−メチルピペリジニオ)エチル)−4−ピリジニ
オ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシレー
トの塩化物を得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2- (1-methylpiperidinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-
1.8 g of cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide was dissolved in 5.1 ml of chloroform.
3.4 ml of 8% formic acid and 0.296 ml of concentrated hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3.5 hours. After completion of the reaction, the formic acid layer was washed with chloroform (5 ml × 3), and this was added dropwise to isopropyl ether / acetone (8.5 ml / 31 ml).
The precipitate was collected by filtration and treated with 7- [2-hydroxyimino-2-
(2-aminothiazol-4-yl) acetamide]-
0.65 g of a crude product of 3- [2- (1- (2- (1-methylpiperidinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained.
This crude product was dissolved in water, adsorbed on a column of a high-porous polymer Mitsubishi Diaion HP-21, and developed with water and then with water / acetonitrile. The fractions containing the target compound were collected, concentrated under reduced pressure, and lyophilized to give 0.273 g of 7-
[2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
The chloride of (1-methylpiperidinio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained.

【0141】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.4−1.6(2H,m)、1.7−1.9(4
H,m)、3.19(3H,s)、3.3−3.5(4
H,m)、3.58(1H,d,J=17.1Hz)、
3.85(1H,d,J=17.1Hz)、4.0−
4.1(2H,m)、5.0−5.1(2H,m)、
5.12(1H,d,J=4.8Hz)、5.70(1
H,dd,J=4.8Hz,8.2Hz)、6.63
(1H,d,J=15.3Hz)、6.65(1H,
s)、7.15(2H,brs)、7.41(1H,
d,J=15.3Hz)、8.08(2H,d,J=
6.9Hz)、9.00(2H,d,J=6.9H
z)、9.45(1H,d,J=8.2Hz)、11.
48(1H,s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.4-1.6 (2H, m), 1.7-1.9 (4
H, m), 3.19 (3H, s), 3.3-3.5 (4
H, m), 3.58 (1H, d, J = 17.1 Hz),
3.85 (1H, d, J = 17.1 Hz), 4.0-
4.1 (2H, m), 5.0-5.1 (2H, m),
5.12 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.70 (1
H, dd, J = 4.8 Hz, 8.2 Hz), 6.63
(1H, d, J = 15.3 Hz), 6.65 (1H, d, J = 15.3 Hz)
s), 7.15 (2H, brs), 7.41 (1H,
d, J = 15.3 Hz), 8.08 (2H, d, J =
6.9 Hz), 9.00 (2H, d, J = 6.9H)
z), 9.45 (1H, d, J = 8.2 Hz), 11.
48 (1H, s).

【0142】実施例12Embodiment 12

【0143】[0143]

【化45】 Embedded image

【0144】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル3.28g及び1−(3−モルホリノプロ
ピル)−4−ピリドチオン0.73gを無水ジメチルホ
ルムアミド10mlを加えて溶解し室温で62.5時間
撹拌した。反応終了後、酢酸エチルエステル(100m
l)で抽出し、水で2回、10%食塩水で2回洗浄を行
ない、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下有
機溶媒を留去して、次いでクロロホルム15mlに溶解
し、700mlのイソプロピルエーテルに滴下し、生じ
た沈殿物を濾取後乾燥して目的物の7−〔2−トリチル
オキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(3−モ
ルホリノプロピル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
・トリフルオロメタンスルホン酸塩を2.8g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- (2-trifluoromethanesulfonyloxyvinyl) -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 3.28 g and 1- (3-morpholinopropyl)- 0.73 g of 4-pyridothione was dissolved by adding 10 ml of anhydrous dimethylformamide, and the mixture was stirred at room temperature for 62.5 hours. After completion of the reaction, ethyl acetate (100 m
1), washed twice with water and twice with 10% saline, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in 15 ml of chloroform. The resulting precipitate was collected by filtration, dried and dried to give the desired product, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazole-).
4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (3-morpholinopropyl) -4-pyridinio) thiovinyl]-
2.8 g of 3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate was obtained.

【0145】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.05(2H,m)、2.23(6H,m)、
3.43(4H,brs)、3.74(1H,d,J=
17.4Hz)、4.17(1H,d,J=17.4H
z)、4.48(2H,brs)、5.36(1H,
d,J=4.8Hz)、5.96(1H,dd,J=
4.8Hz,8.4Hz)、6.60(1H,s)、
6.96(1H,s)、7.1−7.6(42H,
m)、8.06(2H,d,J=6.0Hz)、8.7
8(3H,m)、9.95(1H,d,J=8.4H
z)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.05 (2H, m), 2.23 (6H, m),
3.43 (4H, brs), 3.74 (1H, d, J =
17.4 Hz), 4.17 (1H, d, J = 17.4H)
z), 4.48 (2H, brs), 5.36 (1H,
d, J = 4.8 Hz), 5.96 (1H, dd, J =
4.8 Hz, 8.4 Hz), 6.60 (1 H, s),
6.96 (1H, s), 7.1-7.6 (42H,
m), 8.06 (2H, d, J = 6.0 Hz), 8.7
8 (3H, m), 9.95 (1H, d, J = 8.4H
z).

【0146】実施例13Embodiment 13

【0147】[0147]

【化46】 Embedded image

【0148】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(3−モルホリノプロピル)
−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオロメタ
ンスルホン酸塩1.36gに沃化メチル15mlを加え
室温で16時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留
去して7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−(2−ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(3−(4−メチルモルホリニオ)プ
ロピル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を
1.4g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (3-morpholinopropyl)
-4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-
15 ml of methyl iodide was added to 1.36 g of carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure to give 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamide]-.
1.4 g of 3- [2- (1- (3- (4-methylmorpholinio) propyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide was obtained.

【0149】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.38(2H,m)、3.10(3H,s)、
3.40(4H,m)、3.48(2H,m)、3.7
8(1H,d,J=17.4Hz)、3.92(4H,
brs)、4.19(1H,d,J=17.4Hz)、
4.53(2H,brs)、5.37(1H,d,J=
4.8Hz)、5.98(1H,dd,J=4.8H
z,8.4Hz)、6.61(1H,s)、6.96
(1H,s)、7.1−7.6(42H,m)、8.1
8(2H,d,J=6.0Hz)、8.78(3H,
m)、9.95(1H,d,J=8.4Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.38 (2H, m), 3.10 (3H, s),
3.40 (4H, m), 3.48 (2H, m), 3.7
8 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.92 (4H,
brs), 4.19 (1H, d, J = 17.4 Hz),
4.53 (2H, brs), 5.37 (1H, d, J =
4.8 Hz), 5.98 (1H, dd, J = 4.8H)
z, 8.4 Hz), 6.61 (1H, s), 6.96
(1H, s), 7.1-7.6 (42H, m), 8.1
8 (2H, d, J = 6.0 Hz), 8.78 (3H,
m), 9.95 (1H, d, J = 8.4 Hz).

【0150】実施例14Embodiment 14

【0151】[0151]

【化47】 Embedded image

【0152】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(3−(4−メチルモルホリ
ニオ)プロピル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3
−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・
沃化物1.7gをクロロホルム3.8mlに溶解して、
88%ギ酸2.5ml及び濃塩酸0.278mlを加え
室温で3.5時間撹拌した。反応終了後ギ酸層をクロロ
ホルム(4ml×5)で洗浄し、これをイソプロピルエ
ーテル/アセトン(20ml/40ml)中滴下した。
沈殿物を濾取して7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(3−(4−メチルモルホリニオ)プ
ロピル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレートの粗生成物0.53gを得
た。この粗生成物を水に溶解してハイポーラスポリマー
三菱ダイヤイオンHP−21カラムに吸着して、水、次
いで水/アセトニトリルで展開した。目的物を含む分画
を集め、減圧濃縮、凍結乾燥を行ない、0.112gの
7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−
(3−(4−メチルモルホリニオ)プロピル)−4−ピ
リジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキ
シレートの塩化物を得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (3- (4-methylmorpholinio) propyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3
-Cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester
1.7 g of iodide was dissolved in 3.8 ml of chloroform,
2.5 ml of 88% formic acid and 0.278 ml of concentrated hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3.5 hours. After completion of the reaction, the formic acid layer was washed with chloroform (4 ml × 5), and this was added dropwise to isopropyl ether / acetone (20 ml / 40 ml).
The precipitate was collected by filtration and treated with 7- [2-hydroxyimino-2-
(2-aminothiazol-4-yl) acetamide]-
0.53 g of crude product of 3- [2- (1- (3- (4-methylmorpholinio) propyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained. This crude product was dissolved in water, adsorbed on a column of a high-porous polymer Mitsubishi Diaion HP-21, and developed with water and then with water / acetonitrile. The fractions containing the target compound were collected, concentrated under reduced pressure, and freeze-dried, and 0.112 g of 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- ( 1-
The chloride of (3- (4-methylmorpholinio) propyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained.

【0153】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.36(2H,m)、3.09(3H,s)、
3.43(4H,m)、3.58(2H,m)、3.7
5(1H,d,J=17.4Hz)、3.92(4H,
brs)、4.20(1H,d,J=17.4Hz)、
4.58(2H,brs)、5.23(1H,d,J=
4.8Hz)、5.83(1H,dd,J=4.8H
z,8.4Hz)、6.48(1H,m)、6.63
(1H,s)、7.08(2H,brs)、7.45
(1H,d,J=15.4Hz)、8.06(2H,
d,J=6.0Hz)、8.74(2H,d,J=6.
0Hz)、9.42(1H,d,J=8.4Hz)、1
1.30(1H,s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.36 (2H, m), 3.09 (3H, s),
3.43 (4H, m), 3.58 (2H, m), 3.7
5 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.92 (4H,
brs), 4.20 (1H, d, J = 17.4 Hz),
4.58 (2H, brs), 5.23 (1H, d, J =
4.8 Hz), 5.83 (1H, dd, J = 4.8H)
z, 8.4 Hz), 6.48 (1H, m), 6.63
(1H, s), 7.08 (2H, brs), 7.45
(1H, d, J = 15.4 Hz), 8.06 (2H,
d, J = 6.0 Hz), 8.74 (2H, d, J = 6.
0 Hz), 9.42 (1H, d, J = 8.4 Hz), 1
1.30 (1H, s).

【0154】実施例15Embodiment 15

【0155】[0155]

【化48】 Embedded image

【0156】7−〔2−シクロペンチルオキシイミノ−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−(2−トリフルオロメタンスルホニル
オキシビニル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル1.59g及び1−(2−ジメチルア
ミノエチル)−4−ピリドチオン0.3gを無水ジメチ
ルホルムアミド8.0mlを加えて溶解し室温で4.5
時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチルエステル(12
0ml)で抽出し、水で3回、10%食塩水で1回洗浄
を行ない、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下有機溶媒を留去した。次いでこれをクロロホルム8
mlに溶解し、80mlのジイソプロピルエーテルに滴
下して生じた沈殿物を濾取し乾燥して目的物の7−〔2
−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2
−(1−(2−ジメチルアミノエチル)−4−ピリジニ
オ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩
を1.43g得た。
7- [2-cyclopentyloxyimino-
2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- (2-trifluoromethanesulfonyloxyvinyl) -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 1.59 g and 1- (2-dimethylamino Ethyl) -4-pyridothione (0.3 g) was dissolved in anhydrous dimethylformamide (8.0 ml) and dissolved at room temperature.
Stirred for hours. After completion of the reaction, ethyl acetate (12
0 ml), washed three times with water and once with 10% saline, dried the organic layer over anhydrous magnesium sulfate, and distilled off the organic solvent under reduced pressure. Then, this was added to chloroform 8
The resulting precipitate was added dropwise to 80 ml of diisopropyl ether, and the resulting precipitate was collected by filtration and dried to give 7- [2
-Cyclopentyloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamide] -3- [2
1.43 g of-(1- (2-dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate was obtained.

【0157】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.4−1.9(8H,m)、2.15(6H,
s)、2.69(2H,m)、3.70(1H,d,J
=17.0Hz)、4.15(1H,d,J=17.0
Hz)、4.55(2H,m)、4.63(1H,
m)、5.25(1H,d,J=5.1Hz)、5.7
8(1H,dd,J=5.1Hz,8.4Hz)、6.
65(1H,s)、6.98(1H,s)、7.0−
7.6(42H,m)、8.06(2H,d,J=6.
9Hz)、8.72(2H,d,J=6.9Hz)、
9.52(1H,d,J=8.4Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.4-1.9 (8H, m), 2.15 (6H,
s), 2.69 (2H, m), 3.70 (1H, d, J
= 17.0 Hz), 4.15 (1H, d, J = 17.0)
Hz), 4.55 (2H, m), 4.63 (1H,
m), 5.25 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.7
5 (1H, dd, J = 5.1 Hz, 8.4 Hz);
65 (1H, s), 6.98 (1H, s), 7.0-
7.6 (42H, m), 8.06 (2H, d, J = 6.
9 Hz), 8.72 (2H, d, J = 6.9 Hz),
9.52 (1H, d, J = 8.4 Hz).

【0158】実施例16Embodiment 16

【0159】[0159]

【化49】 Embedded image

【0160】7−〔2−シクロペンチルオキシイミノ−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−〔2−(1−(2−ジメチルアミノエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩1.42gをアセトニトリル7.
1mlに溶解して沃化メチル0.75mlを加え室温で
1.5時間撹拌した。反応終了後、ジイソプロピルエー
テル中に滴下して生じた沈殿物を濾取、乾燥して7−
〔2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔2−(1−(2−トリメチルアンモニオエチル)−4
−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を1.52g得
た。
7- [2-cyclopentyloxyimino-
2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Acetonitrile, 1.42 g of trifluoromethanesulfonate.
After dissolving in 1 ml, 0.75 ml of methyl iodide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. After completion of the reaction, the precipitate formed by dropping in diisopropyl ether was collected by filtration, dried and dried.
[2-Cyclopentyloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamide] -3-
[2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4
-Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / iodide (1.52 g) was obtained.

【0161】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.4−1.9(8H,m)、3.16(9H,
s)、3.71(1H,d,J=17.0Hz)、3.
85−3.95(2H,m)、4.18(1H,d,J
=17.0Hz)、4.62(1H,m)、4.9−
5.0(2H,m)、5.27(1H,d,J=5.1
Hz)、5.78(1H,dd,J=5.1Hz,8.
4Hz)、6.65(1H,s)、6.97(1H,
s)、7.0−7.6(42H,m)、8.20(1
H,d,J=6.9Hz)、8.84(2H,d,J=
6.9Hz)、9.52(1H,d,J=8.4H
z)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.4-1.9 (8H, m), 3.16 (9H,
s), 3.71 (1H, d, J = 17.0 Hz);
85-3.95 (2H, m), 4.18 (1H, d, J
= 17.0 Hz), 4.62 (1H, m), 4.9-
5.0 (2H, m), 5.27 (1H, d, J = 5.1)
Hz), 5.78 (1H, dd, J = 5.1 Hz, 8.
4 Hz), 6.65 (1H, s), 6.97 (1H,
s), 7.0-7.6 (42H, m), 8.20 (1
H, d, J = 6.9 Hz), 8.84 (2H, d, J =
6.9 Hz), 9.52 (1H, d, J = 8.4H)
z).

【0162】実施例17Embodiment 17

【0163】[0163]

【化50】 Embedded image

【0164】7−〔2−シクロペンチルオキシイミノ−
2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−〔2−(1−(2−トリメチルアンモ
ニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・沃化
物1.41gをクロロホルム4.7mlに溶解して、8
8%ギ酸3.1ml及び濃塩酸0.268mlを加え室
温で3時間撹拌した。反応終了後ギ酸層をクロロホルム
(5ml×3)で洗浄し、これをジイソプロピルエーテ
ル/アセトン(7.6ml/28ml)中滴下した。沈
殿物を濾取して7−〔2−シクロペンチルオキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕−3−〔2−(1−(2−トリメチルアンモニオエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボキシレートの粗生成物0.57gを得た。
この粗生成物を水に溶解してハイポーラスポリマー三菱
ダイヤイオンHP−21カラムに吸着して、水、次いで
水/アセトニトリルで展開した。目的物を含む分画を集
め、減圧濃縮、凍結乾燥を行ない、0.42gの7−
〔2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−トリメチルアンモニオエチル)−4−ピリ
ジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レートの塩化物を得た。
7- [2-cyclopentyloxyimino-
2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydrido Dissolve 1.41 g of ester and iodide in 4.7 ml of chloroform.
3.1 ml of 8% formic acid and 0.268 ml of concentrated hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, the formic acid layer was washed with chloroform (5 ml × 3), and this was added dropwise to diisopropyl ether / acetone (7.6 ml / 28 ml). The precipitate was collected by filtration and 7- [2-cyclopentyloxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl) -4- 0.57 g of a crude product of pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained.
This crude product was dissolved in water, adsorbed on a column of a high-porous polymer Mitsubishi Diaion HP-21, and developed with water and then with water / acetonitrile. The fractions containing the desired product were collected, concentrated under reduced pressure, and lyophilized to give 0.42 g of 7-
[2-Cyclopentyloxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamide] -3- [2-
A chloride of (1- (2-trimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained.

【0165】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.4−1.9(8H,m)、3.19(9H,
s)、3.57(1H,d,J=17.0Hz)、3.
83(1H,d,J=17.0Hz)、4.0−4.1
(2H,m)、4.62(1H,m)、5.0−5.1
(2H,m)、5.11(1H,d,J=5.1H
z)、5.66(1H,dd,J=5.1Hz,8.4
Hz)、6.61(1H,d,J=15.3Hz)、
6.68(1H,s)、7.22(2H,brs)、
7.41(1H,d,J=15.3Hz)、8.09
(2H,d,J=6.9Hz)、8.95(2H,d,
J=6.9Hz)、9.48(1H,d,J=8.4H
z)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.4-1.9 (8H, m), 3.19 (9H,
s), 3.57 (1H, d, J = 17.0 Hz);
83 (1H, d, J = 17.0 Hz), 4.0-4.1
(2H, m), 4.62 (1H, m), 5.0-5.1
(2H, m), 5.11 (1H, d, J = 5.1H
z), 5.66 (1H, dd, J = 5.1 Hz, 8.4)
Hz), 6.61 (1H, d, J = 15.3 Hz),
6.68 (1H, s), 7.22 (2H, brs),
7.41 (1H, d, J = 15.3 Hz), 8.09
(2H, d, J = 6.9 Hz), 8.95 (2H, d,
J = 6.9 Hz), 9.48 (1H, d, J = 8.4H)
z).

【0166】実施例18Embodiment 18

【0167】[0167]

【化51】 Embedded image

【0168】実施例4の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ジメチルアミノエチル)−4−ピリジニオ)チオビニ
ル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩物3.0g及
びヨードアセトン885μlより7−〔2−トリチルオ
キシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−アセ
トニル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニ
オ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル・沃化物を3.51g得た。
According to the method of Example 4, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
From 7 g of dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester trifluoromethanesulfonate and 885 μl of iodoacetone, 7- [2-trityloxyimino-2- ( 2-tritylaminothiazole-4
3.51 g of -yl) acetamide] -3- [2- (1- (2-acetonyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide Obtained.

【0169】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.15(3H,s)、3.25(6H,s)、
3.77(1H,ABq,J=17.0Hz),4.0
−4.1(2H,m)、4.18(1H,ABq,J=
17.0Hz)、4.64(2H,brs)、4.9−
5.0(2H,m)、5.34(1H,d,J=5.3
Hz)、5.98(1H,dd,J=5.3Hz,8.
3Hz)、6.62(1H,s)、6.99(1H,
s)、7.0−7.6(42H,m)、8.20(2
H,d,J=6.9Hz)、8.83(2H,d,J=
6.9Hz)、9.95(1H,d,J=8.3H
z)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.15 (3H, s), 3.25 (6H, s),
3.77 (1H, ABq, J = 17.0 Hz), 4.0
-4.1 (2H, m), 4.18 (1H, ABq, J =
17.0 Hz), 4.64 (2H, brs), 4.9-
5.0 (2H, m), 5.34 (1H, d, J = 5.3)
Hz), 5.98 (1H, dd, J = 5.3 Hz, 8.
3Hz), 6.62 (1H, s), 6.99 (1H,
s), 7.0-7.6 (42H, m), 8.20 (2
H, d, J = 6.9 Hz), 8.83 (2H, d, J =
6.9 Hz), 9.95 (1H, d, J = 8.3H)
z).

【0170】実施例19Embodiment 19

【0171】[0171]

【化52】 Embedded image

【0172】実施例4の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ジメチルアミノエチル)−4−ピリジニオ)チオビニ
ル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩物2.5g及
び2−ブロモ酢酸ベンズヒドリルエステル8.32gよ
り7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔2−(1−(2−ベンズヒドリルオキシカルボニルメ
チル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)
チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル・臭化物を2.61g得た。
According to the method of Example 4, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
From 7 g of dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate and 8.32 g of 2-bromoacetic acid benzhydryl ester, 7- [2- Trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[2- (1- (2-benzhydryloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio)
2.61 g of thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / bromide were obtained.

【0173】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.31(6H,s)、3.77(1H,ABq,
J=17.0Hz),4.05−4.15(2H,
m)、4.18(1H,ABq,J=17.0Hz)、
4.84(2H,brs)、5.0−5.1(2H,
m)、5.34(1H,d,J=5.1Hz)、5.9
8(1H,dd,J=5.1Hz,8.3Hz)、6.
62(1H,s)、6.90(1H,s)、6.99
(1H,s)、7.0−7.6(52H,m)、8.2
0(2H,d,J=6.6Hz)、8.90(2H,
d,J=6.6Hz)、9.95(1H,d,J=8.
3Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.31 (6H, s), 3.77 (1H, ABq,
J = 17.0 Hz), 4.05-4.15 (2H,
m), 4.18 (1H, ABq, J = 17.0 Hz),
4.84 (2H, brs), 5.0-5.1 (2H,
m), 5.34 (1H, d, J = 5.1 Hz), 5.9
8 (1H, dd, J = 5.1 Hz, 8.3 Hz);
62 (1H, s), 6.90 (1H, s), 6.99
(1H, s), 7.0-7.6 (52H, m), 8.2
0 (2H, d, J = 6.6 Hz), 8.90 (2H, d, J = 6.6 Hz)
d, J = 6.6 Hz), 9.95 (1H, d, J = 8.
3 Hz).

【0174】実施例20Embodiment 20

【0175】[0175]

【化53】 Embedded image

【0176】実施例4の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ジメチルアミノエチル)−4−ピリジニオ)チオビニ
ル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩物3.0g及
び2−ヨードエタノール19gより7−〔2−トリチル
オキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−ヒ
ドロキシエチル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピ
リジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル・沃化物を3.21g得た。
According to the method of Example 4, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
From 7 g of dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester trifluoromethanesulfonate and 19 g of 2-iodoethanol, 7- [2-trityloxyimino-2] was obtained. -(2-tritylaminothiazole-
4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-hydroxyethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / iodide .21 g were obtained.

【0177】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.18(6H,s)、3.5−3.6(2H,
m)、3.74(1H,ABq,J=17.0Hz),
3.8−3.9(2H,m)、3.9−4.0(2H,
m)、4.18(1H,ABq,J=17.0Hz)、
4.9−5.0(2H,m)、5.37(1H,d,J
=5.1Hz)、5.98(1H,dd,J=5.1H
z,8.3Hz)、6.62(1H,s)、6.99
(1H,s)、7.0−7.6(42H,m)、8.1
9(2H,d,J=6.9Hz)、8.82(2H,
d,J=6.9Hz)、9.95(1H,d,J=8.
3Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.18 (6H, s), 3.5-3.6 (2H,
m), 3.74 (1H, ABq, J = 17.0 Hz),
3.8-3.9 (2H, m), 3.9-4.0 (2H,
m), 4.18 (1H, ABq, J = 17.0 Hz),
4.9-5.0 (2H, m), 5.37 (1H, d, J
= 5.1 Hz), 5.98 (1H, dd, J = 5.1H)
z, 8.3 Hz), 6.62 (1H, s), 6.99
(1H, s), 7.0-7.6 (42H, m), 8.1
9 (2H, d, J = 6.9 Hz), 8.82 (2H,
d, J = 6.9 Hz), 9.95 (1H, d, J = 8.
3 Hz).

【0178】実施例21Embodiment 21

【0179】[0179]

【化54】 Embedded image

【0180】実施例4の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ジメチルアミノエチル)−4−ピリジニオ)チオビニ
ル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩物2.5g及
び2−ブロモ酢酸エチルエステル3.0mlより7−
〔2−トリチルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−
(1−(2−エチルオキシカルボニルメチル−ジメチル
アンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
・臭化物を2.5g得た。
According to the method of Example 4, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
From dimethylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonic acid salt (2.5 g) and 2-bromoacetic acid ethyl ester (3.0 ml), 7-
[2-Trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamide] -3- [2-
(1- (2-ethyloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl]-
2.5 g of 3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / bromide was obtained.

【0181】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.22(3H,t,J=7.2Hz)、3.30
(6H,s)、3.77(1H,ABq,J=17.0
Hz),4.05−4.15(2H,m)、4.18
(1H,ABq,J=17.0Hz)、4.19(2
H,q,J=7.2Hz)、4.56(2H,br
s)、5.0−5.1(2H,m)、5.37(1H,
d,J=4.8Hz)、5.98(1H,dd,J=
4.8Hz,8.1Hz)、6.62(1H,s)、
6.98(1H,s)、7.0−7.6(42H,
m)、8.20(2H,d,J=7.0Hz)、8.9
0(2H,d,J=7.0Hz)、9.95(1H,
d,J=8.1Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.22 (3H, t, J = 7.2 Hz), 3.30
(6H, s), 3.77 (1H, ABq, J = 17.0)
Hz), 4.05-4.15 (2H, m), 4.18
(1H, ABq, J = 17.0 Hz), 4.19 (2
H, q, J = 7.2 Hz), 4.56 (2H, br)
s) 5.0-5.1 (2H, m), 5.37 (1H,
d, J = 4.8 Hz), 5.98 (1H, dd, J =
4.8 Hz, 8.1 Hz), 6.62 (1H, s),
6.98 (1H, s), 7.0-7.6 (42H,
m), 8.20 (2H, d, J = 7.0 Hz), 8.9
0 (2H, d, J = 7.0 Hz), 9.95 (1H,
d, J = 8.1 Hz).

【0182】実施例22Embodiment 22

【0183】[0183]

【化55】 Embedded image

【0184】実施例3の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
アセトニル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリジ
ニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル・沃化物3.5gより7−〔2−
ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−アセト
ニルージメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)
チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート・
塩化物を535mg得た。
According to the method of Example 3, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
From 3.5 g of acetonyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide, 7- [2-
Hydroxyimino-2- (2-aminothiazole-4-
Yl) acetamide] -3- [2- (1- (2-acetonyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio)
Thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate.
535 mg of chloride were obtained.

【0185】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.15(3H,s)、3.28(6H,s)、
3.56(1H,ABq,J=17.0Hz),3.7
9(1H,ABq,J=17.0Hz),4.1−4.
2(2H,m)、4.84(2H,brs)、5.0−
5.1(2H,m)、5.13(1H,d,J=5.3
Hz)、5.69(1H,dd,J=5.3Hz,8.
3Hz)、6.53(1H,d,J=15.3Hz)、
6.62(1H,s)、7.13(2H,brs)、
7.41(1H,d,J=15.3Hz)、8.05
(2H,d,J=6.9Hz)、8.91(2H,d,
J=6.9Hz)、9.43(1H,d,J=8.3H
z)、11.5(1H,s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.15 (3H, s), 3.28 (6H, s),
3.56 (1H, ABq, J = 17.0 Hz), 3.7
9 (1H, ABq, J = 17.0 Hz), 4.1-4.
2 (2H, m), 4.84 (2H, brs), 5.0-
5.1 (2H, m), 5.13 (1H, d, J = 5.3)
Hz), 5.69 (1H, dd, J = 5.3 Hz, 8.
3Hz), 6.53 (1H, d, J = 15.3 Hz),
6.62 (1H, s), 7.13 (2H, brs),
7.41 (1H, d, J = 15.3 Hz), 8.05
(2H, d, J = 6.9 Hz), 8.91 (2H, d,
J = 6.9 Hz), 9.43 (1H, d, J = 8.3H)
z), 11.5 (1H, s).

【0186】実施例23Embodiment 23

【0187】[0187]

【化56】 Embedded image

【0188】実施例3の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ベンズヒドリルオキシカルボニルメチルージメチルアン
モニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・臭
化物2.41gより7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−
3−〔2−(1−(2−カルボキシレートメチル−ジメ
チルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニ
ル〕−3−セフェム−4−カルボキシレートを289m
g得た。
According to the method of Example 3, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
Benzhydryloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-
From 2.41 g of cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / bromide, 7- [2-hydroxyimino-2-
(2-aminothiazol-4-yl) acetamide]-
289 m of 3- [2- (1- (2-carboxylatemethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate
g was obtained.

【0189】1H−NMR(D2 O)δppm;3.1
8(6H,s)、3.54(1H,ABq,J=17.
0Hz),3.71(2H,brs)、3.75(1
H,ABq,J=17.0Hz),4.08−4.18
(2H,m)、4.8−4.9(2H,m)、5.06
(1H,d,J=5.1Hz)、5.65(1H,d,
J=5.1Hz)、6.54(1H,d,J=15.3
Hz)、6.64(1H,s)、7.39(1H,d,
J=15.3Hz)、7.94(2H,d,J=6.9
Hz)、8.68(2H,d,J=6.9Hz)。
1 H-NMR (D 2 O) δ ppm; 3.1
8 (6H, s), 3.54 (1H, ABq, J = 17.
0 Hz), 3.71 (2H, brs), 3.75 (1
H, ABq, J = 17.0 Hz), 4.08-4.18.
(2H, m), 4.8-4.9 (2H, m), 5.06
(1H, d, J = 5.1 Hz), 5.65 (1H, d,
J = 5.1 Hz), 6.54 (1H, d, J = 15.3)
Hz), 6.64 (1H, s), 7.39 (1H, d,
J = 15.3 Hz), 7.94 (2H, d, J = 6.9)
Hz), 8.68 (2H, d, J = 6.9 Hz).

【0190】実施例24Embodiment 24

【0191】[0191]

【化57】 Embedded image

【0192】実施例3の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ヒドロキシエチル−ジメチルアンモニオエチル)−4−
ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル・沃化物3.2gより7−
〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
ヒドロキシエチル−ジメチルアンモニオエチル)−4−
ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボ
キシレート・塩化物を160mg得た。
According to the method of Example 3, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
Hydroxyethyl-dimethylammonioethyl) -4-
Pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / iodide 3.2 g to 7-
[2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-
Hydroxyethyl-dimethylammonioethyl) -4-
160 mg of pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate.chloride was obtained.

【0193】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.21(6H,s)、3.55(2H,br
s)、3.64(1H,ABq,J=17.0Hz),
3.85(2H,brs)、4.08(1H,ABq,
J=17.0Hz),4.0−4.1(2H,m)、
5.0−5.1(2H,m)、5.19(1H,d,J
=5.1Hz)、5.80(1H,dd,J=5.1H
z,8.3Hz)、6.65(1H,s)、7.02
(1H,d,J=15.3Hz)、7.13(2H,b
rs)、7.34(1H,d,J=15.3Hz)、
8.18(2H,d,J=6.9Hz)、9.00(2
H,d,J=6.9Hz)、9.48(1H,d,J=
8.3Hz)、11.35(1H,s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.21 (6H, s), 3.55 (2H, br)
s), 3.64 (1H, ABq, J = 17.0 Hz),
3.85 (2H, brs), 4.08 (1H, ABq,
J = 17.0 Hz), 4.0-4.1 (2H, m),
5.0-5.1 (2H, m), 5.19 (1H, d, J
= 5.1 Hz), 5.80 (1H, dd, J = 5.1H)
z, 8.3 Hz), 6.65 (1H, s), 7.02
(1H, d, J = 15.3 Hz), 7.13 (2H, b
rs), 7.34 (1H, d, J = 15.3 Hz),
8.18 (2H, d, J = 6.9 Hz), 9.00 (2
H, d, J = 6.9 Hz), 9.48 (1H, d, J =
8.3 Hz), 11.35 (1 H, s).

【0194】実施例25Embodiment 25

【0195】[0195]

【化58】 Embedded image

【0196】実施例3の方法に準じ、7−〔2−トリチ
ルオキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−
エチルオキシカルボニルメチル−ジメチルアンモニオエ
チル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・臭化物2.
49gより7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2
−(1−(2−エチルオキシカルボニルメチル−ジメチ
ルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕
−3−セフェム−4−カルボキシレート・塩化物を32
0mg得た。
According to the method of Example 3, 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2- (2-
1. Ethyloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / bromide
From 49 g, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2
-(1- (2-Ethyloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl]
-3-Cephem-4-carboxylate chloride
0 mg was obtained.

【0197】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;1.23(3H,t,J=7.2Hz)、3.29
(6H,s)、3.67(1H,ABq,J=17.0
Hz),4.08(1H,ABq,J=17.0H
z),4.18(2H,q,J=7.2Hz),4.1
−4.2(2H,m)、4.60(2H,brs)、
5.0−5.1(2H,m)、5.20(1H,d,J
=4.8Hz)、5.80(1H,dd,J=4.8H
z,8.1Hz)、6.65(1H,s)、7.02
(1H,d,J=15.0Hz)、7.12(2H,b
rs)、7.35(1H,d,J=15.0Hz)、
8.19(2H,d,J=7.0Hz)、8.95(2
H,d,J=7.0Hz)、9.48(1H,d,J=
8.1Hz)、11.32(1H,s)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 1.23 (3H, t, J = 7.2 Hz), 3.29
(6H, s), 3.67 (1H, ABq, J = 17.0)
Hz), 4.08 (1H, ABq, J = 17.0H)
z), 4.18 (2H, q, J = 7.2 Hz), 4.1
-4.2 (2H, m), 4.60 (2H, brs),
5.0-5.1 (2H, m), 5.20 (1H, d, J
= 4.8 Hz), 5.80 (1H, dd, J = 4.8H)
z, 8.1 Hz), 6.65 (1H, s), 7.02
(1H, d, J = 15.0 Hz), 7.12 (2H, b
rs), 7.35 (1H, d, J = 15.0 Hz),
8.19 (2H, d, J = 7.0 Hz), 8.95 (2
H, d, J = 7.0 Hz), 9.48 (1H, d, J =
8.1 Hz), 11.32 (1H, s).

【0198】実施例26Embodiment 26

【0199】[0199]

【化59】 Embedded image

【0200】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(2−トリフルオロメタンスルホニルオキ
シビニル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル2.5g及び1−(2−スルホエチル−メ
チルアミノエチル)−4−ピリドチオン0.75gを無
水ジメチルホルムアミド11mlを加えて溶解し室温で
6時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチルエステルを加
え、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄を行ない、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下有機溶媒を留去
し、次いで塩化メチレン15mlに溶解し、150ml
のイソプロピルエーテルに滴下した。生じた沈殿物を濾
取後、減圧下乾燥して、目的の7−〔2−トリチルオキ
シイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−スルホ
エチル−メチルアミノエチル)−4−ピリジニオ)チオ
ビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル・トリフルオロメタンスルホン酸塩を1.4
g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- (2-trifluoromethanesulfonyloxyvinyl) -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 2.5 g and 1- (2-sulfoethyl-methylamino) 0.75 g of ethyl) -4-pyridothione was dissolved by adding 11 ml of anhydrous dimethylformamide, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. After completion of the reaction, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated saline, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate.
Was added dropwise to isopropyl ether. The resulting precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure to give the desired 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazole-4-).
Yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-sulfoethyl-methylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester trifluoromethanesulfonate. 4
g was obtained.

【0201】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;2.17(3H,brs)、2.4−2.5(2
H,m)、2.7−2.8(2H,m)、2.7−2.
8(2H,m)、3.76(1H,ABq,J=17.
7Hz)、4.17(1H,ABq,J=17.7H
z)、4.5−4.6(2H,m)、5.34(1H,
d,J=5.1Hz)、5.97(1H,dd,J=
5.1Hz,8.4Hz)、6.62(1H,s)、
6.98(1H,s)、7.1−7.5(42H,
m)、8.05(2H,d,J=6.9Hz)、8.7
6(1H,s)、8.78(2H,d,J=6.9H
z)、9.94(1H,d,J=8.4Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 2.17 (3H, brs), 2.4-2.5 (2
H, m), 2.7-2.8 (2H, m), 2.7-2.
8 (2H, m), 3.76 (1H, ABq, J = 17.
7Hz), 4.17 (1H, ABq, J = 17.7H)
z), 4.5-4.6 (2H, m), 5.34 (1H,
d, J = 5.1 Hz), 5.97 (1H, dd, J =
5.1Hz, 8.4Hz), 6.62 (1H, s),
6.98 (1H, s), 7.1-7.5 (42H,
m), 8.05 (2H, d, J = 6.9 Hz), 8.7
6 (1H, s), 8.78 (2H, d, J = 6.9H)
z), 9.94 (1H, d, J = 8.4 Hz).

【0202】実施例27Embodiment 27

【0203】[0203]

【化60】 Embedded image

【0204】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−スルホエチル−メチル
アミノエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・ト
リフルオロメタンスルホン酸塩0.67gを用い、実施
例10と同様にして目的物の7−〔2−トリチルオキシ
イミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−スルホエ
チル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)
チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル・沃化物を0.63g得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-sulfoethyl-methylaminoethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-
Using 0.67 g of cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / trifluoromethanesulfonate, the desired product 7- [2-trityloxyimino-2- (2-tritylaminothiazole-4) was obtained in the same manner as in Example 10. -Yl) acetamide] -3- [2- (1- (2-sulfoethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio)
0.63 g of thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester / iodide was obtained.

【0205】1H−NMR(DMSO−d6 )δpp
m;3.0−3.1(2H,m)、3.13(6H,
s)、3.7−3.8(2H,m)、3.83(1H,
ABq,J=17.4Hz)、3.8−3.9(2H,
m)、4.18(1H,ABq,J=17.4Hz)、
4.9−5.0(2H,m)、5.35(1H,d,J
=5.1Hz)、5.98(1H,dd,J=5.1H
z,8.4Hz)、6.62(1H,s)、6.98
(1H,s)、7.1−7.5(42H,m)、8.1
8(2H,d,J=7.2Hz)、8.79(1H,
s)、8.85(2H,d,J=7.2Hz)、9.9
4(1H,d,J=8.4Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δpp
m; 3.0-3.1 (2H, m), 3.13 (6H,
s) 3.7-3.8 (2H, m), 3.83 (1H,
ABq, J = 17.4 Hz), 3.8-3.9 (2H,
m), 4.18 (1H, ABq, J = 17.4 Hz),
4.9-5.0 (2H, m), 5.35 (1H, d, J
= 5.1 Hz), 5.98 (1H, dd, J = 5.1H)
z, 8.4 Hz), 6.62 (1H, s), 6.98
(1H, s), 7.1-7.5 (42H, m), 8.1
8 (2H, d, J = 7.2 Hz), 8.79 (1H,
s), 8.85 (2H, d, J = 7.2 Hz), 9.9
4 (1H, d, J = 8.4 Hz).

【0206】実施例28Embodiment 28

【0207】[0207]

【化61】 Embedded image

【0208】7−〔2−トリチルオキシイミノ−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−〔2−(1−(2−スルホエチル−ジメチ
ルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル・沃化物0.61gを用い、実施例3と同様にして7
−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2
−スルホネートエチル−ジメチルアンモニオエチル)−
4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート0.15gを得た。
7- [2-Trityloxyimino-2-
(2-Tritylaminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-sulfoethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl]
Using 0.61 g of -3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester iodide, 7
-[2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2
-Sulfonateethyl-dimethylammonioethyl)-
0.15 g of 4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate was obtained.

【0209】1H−NMR(DMSO−d6 +D2 O)
δppm;3.0−3.1(2H,m)、3.13(6
H,s)、3.54(1H,ABq,J=17.1H
z)、3.6−3.7(2H,m)、3.76(1H,
ABq,J=17.1Hz)、3.8−3.9(2H,
m)、4.85−4.95(2H,m)、5.07(1
H,d,J=4.8Hz)、5.66(1H,d,J=
4.8Hz)、6.55(1H,d,J=15.3H
z)、7.42(1H,d,J=15.3Hz)、8.
01(2H,d,J=7.1Hz)、8.73(2H,
d,J=7.1Hz)。
1 H-NMR (DMSO-d 6 + D 2 O)
δ ppm; 3.0-3.1 (2H, m), 3.13 (6
H, s), 3.54 (1H, ABq, J = 17.1H
z), 3.6-3.7 (2H, m), 3.76 (1H,
ABq, J = 17.1 Hz), 3.8-3.9 (2H,
m), 4.85-4.95 (2H, m), 5.07 (1
H, d, J = 4.8 Hz), 5.66 (1H, d, J =
4.8 Hz), 6.55 (1H, d, J = 15.3H)
z), 7.42 (1H, d, J = 15.3 Hz), 8.
01 (2H, d, J = 7.1 Hz), 8.73 (2H, d, J = 7.1 Hz)
d, J = 7.1 Hz).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 賢恵 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 伊藤 昌弘 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 花木 秀明 徳島県徳島市川内町平石夷野224−2 大鵬薬品工業株式会社内 (72)発明者 兵頭 昭夫 徳島県徳島市川内町平石夷野224−2 大鵬薬品工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−130292(JP,A) 特開 昭55−154980(JP,A) 特開 昭61−246189(JP,A) 特開 昭61−165392(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 501/00 - 501/62 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kenne Yamada 463 Kagasuno, Kawauchi-cho, Tokushima City, Tokushima Prefecture Inside the Tokushima Research Laboratory, Otsuka Chemical Co., Ltd. Inside the Tokushima Research Laboratories of Chemical Co., Ltd. Taiho Pharmaceutical Co., Ltd. (56) References JP-A-59-130292 (JP, A) JP-A-55-154980 (JP, A) JP-A-61-246189 (JP, A) JP-A-61-165392 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 501/00-501/62 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式 【化1】 〔式中QはCHを示す。R1はカルボキシレート又はカ
ルボキシル基を示す。R2は水素原子又は低級シクロア
ルキル基を示す。Rは 【化2】 を示す。ここでmは1〜5の整数、Yは第4級アンモニ
ウム基、B -は陰イオンを示す。fはR1がカルボキシレ
ートを示す場合には0又は1を、R1がカルボキシル基
を示す場合には2を示す。〕で表わされるセフェム化合
物、そのセフェムカルボキシ保護エステル及びその非毒
性塩。
1. A compound of the general formula [Wherein Q represents CH . R 1 represents a carboxylate or a carboxyl group. R 2 is a hydrogen atom or lower cycloalkyl
Represents a alkyl group . R is a group Is shown. Here , m represents an integer of 1 to 5, Y represents a quaternary ammonium group, and B represents an anion. f is 0 or 1 when R 1 represents a carboxylate, shows a 2 if R 1 represents a carboxyl group. And a cephem carboxy-protected ester thereof and a non-toxic salt thereof.
【請求項2】 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−
〔2−(1−(3−(4−メチルモルホリニオ)プロピ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボキシレート塩化物又はその塩、7−〔2−ヒ
ドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−トリメチ
ルアンモニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕
−3−セフェム−4−カルボキシレート塩化物又はその
塩、7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1
−(2−カルバモイルメチル−ジメチルアンモニオエチ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボキシレート塩化物又はその塩、7−〔2−ヒ
ドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−(4−メ
チルモルホリニオ)エチル)−4−ピリジニオ)チオビ
ニル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート塩化物又
はその塩、7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2
−(1−(2−アセトニル−ジメチルアンモニオエチ
ル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−
4−カルボキシレート塩化物又はその塩、7−〔2−ヒ
ドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−(1−メ
チルピペリジニオ)エチル)−4−ピリジニオ)チオビ
ニル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート塩化物又
はその塩、7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2
−(1−(2−カルボキシレートメチル−ジメチルアン
モニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート又はその塩、7−〔2
−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(2−ヒド
ロキシエチル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリ
ジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート塩化物又はその塩、7−〔2−ヒドロキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕−3−〔2−(1−(2−エチルオキシカルボニル
メチル−ジメチルアンモニオエチル)−4−ピリジニ
オ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト塩化物又はその塩、7−〔2−シクロペンチルオキシ
イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕−3−〔2−(1−(2−トリメチルアンモ
ニオエチル)−4−ピリジニオ)チオビニル〕−3−セ
フェム−4−カルボキシレート塩化物又はその塩及び7
−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド〕−3−〔2−(1−(ス
ルホネートエチル−ジメチルアンモニオエチル)−4−
ピリジニオ)チオビニル〕−3−セフェム−4−カルボ
キシレート又はその塩から選ばれる少なくとも1種のセ
フェム化合物。
2. 7- [2-hydroxyimino-2- (2
-Aminothiazol-4-yl) acetamido] -3-
[2- (1- (3- (4-methylmorpholinio) propyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-trimethylammonioethyl)- 4-pyridinio) thiovinyl]
-3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1
-(2-carbamoylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2- (4-methylmorpholine) Nio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamide] -3 − [2
-(1- (2-acetonyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-
4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2- (1-methylpiperididiene) Nio) ethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamide] -3 − [2
-(1- (2-carboxylatemethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-
Cephem-4-carboxylate or a salt thereof, 7- [2
-Hydroxyimino-2- (2-aminothiazole-4
-Yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-hydroxyethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [ 2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-ethyloxycarbonylmethyl-dimethylammonioethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3 -Cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof, 7- [2-cyclopentyloxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (2-trimethylammonium) Oethyl) -4-pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate chloride or a salt thereof, and 7
-[2-hydroxyimino-2- (2-aminothiazol-4-yl) acetamido] -3- [2- (1- (sulfonateethyl-dimethylammonioethyl) -4-
At least one cephem compound selected from pyridinio) thiovinyl] -3-cephem-4-carboxylate or a salt thereof.
【請求項3】 一般式 【化3】 〔式中R4はセフェムカルボキシル保護基を示す。R’
【化4】 を示す。ここでm 、Y及びB - 前記に同じ。〕で表わ
される化合物に、一般式 【化5】 〔式中R5はアミノ基又は保護されたアミノ基を示す。
6はオキシム保護基又はR2'基(R2'基は水素原子以
外のR2基)を示す。Qは前記に同じ。〕で表わされる
化合物又はその反応性誘導体を反応させ、更に必要に応
じて保護基を除去することを特徴とする一般式 【化6】 〔式中Q、R1、R2及びRは前記に同じ。〕で表わされ
るセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステ
ル及びその非毒性塩の製造方法。
3. A compound of the general formula [Wherein R 4 represents a cephem carboxyl protecting group. R '
Is the group Is shown. Here, m 1, Y and B are the same as above. And a compound represented by the general formula: [Wherein R 5 represents an amino group or a protected amino group.
R 6 represents an oxime protecting group or an R 2 ′ group (R 2 ′ group is an R 2 group other than a hydrogen atom). Q is the same as above. Or a reactive derivative thereof, and, if necessary, removing a protecting group. Wherein Q, R 1 , R 2 and R are the same as above. And a method for producing the cephem carboxy-protected ester thereof and a non-toxic salt thereof.
【請求項4】 一般式 【化7】 〔式中R4、R5及びR6は前記に同じ。R7はハロゲン原
子、低級アシルオキシ基又はスルホニルオキシ基を示
す。〕で表わされる化合物に、一般式 【化8】 〔式中m、Y及びB - 前記に同じ。〕で表わされる化
合物を反応させ、更に必要に応じて保護基を除去するこ
とを特徴とする一般式 【化9】 〔式中Q、R1、R2及びRは前記に同じ。〕で表わされ
るセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステ
ル及びその非毒性塩の製造方法。
4. A compound of the general formula Wherein R 4 , R 5 and R 6 are as defined above. R 7 represents a halogen atom, a lower acyloxy group or a sulfonyloxy group. To the compound represented by the general formula: Wherein m, Y and B are the same as above. Wherein the compound represented by the general formula (1) is further reacted with a compound represented by the general formula: Wherein Q, R 1 , R 2 and R are the same as above. And a method for producing the cephem carboxy-protected ester thereof and a non-toxic salt thereof.
【請求項5】 一般式 【化10】 〔式中R4、R5、R6及びR7は前記に同じ。〕で表わさ
れる化合物に、一般式 R8−SM 〔式中R8 【化11】 を示す。Mは水素原子又は金属原子を示す。〕で表わさ
れる化合物を反応させ、次いで一般式Y−(CH 2 m −X 〔式中Xはハロゲン原子を示す。m及びYは前記に同
じ。〕で表わされる化合物を反応させ、更に必要に応じ
て保護基を除去することを特徴とする一般式 【化12】 〔式中Q、R1、R2及びRは前記に同じ。〕で表わされ
るセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステ
ル及びその非毒性塩の製造方法。
5. A compound of the general formula Wherein R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are the same as above. To the compound represented by the general formula R 8 -SM wherein R 8 is a group Is shown . M represents a hydrogen atom or a metal atom. ] In the compound reacted represented, then the general formula Y- (CH 2) m -X [wherein X represents a halogen atom. m and Y are the same as above. Wherein the compound represented by the general formula (1) is further reacted with a compound represented by the general formula: Wherein Q, R 1 , R 2 and R are the same as above. And a method for producing the cephem carboxy-protected ester thereof and a non-toxic salt thereof.
【請求項6】 一般式 【化13】 〔式中R4、R5、R6及びR7は前記に同じ。〕で表わさ
れる化合物に、一般式 【化14】 〔式中、Zは第3級アミノ基を示す。mは前記に同
じ。〕で表わされる化合物を反応させ、次いで一般式 R11−X 〔式中R11は低級アルキル基、低級アルケニル基、ヒド
ロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、カ
ルバモイル低級アルキル基、低級アルカノイル低級アル
キル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、
低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルア
ミノ低級アルキル基又はスルホ低級アルキル基を示す。
Xはハロゲン原子を示す。〕で表わされる化合物を反応
させ、更に必要に応じて保護基を除去することを特徴と
する一般式 【化15】 〔式中Q、R1、R2及びRは前記に同じ。〕で表わされ
るセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステ
ル及びその非毒性塩の製造方法。
6. A compound of the general formula Wherein R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are the same as above. To the compound represented by the general formula: [In the formula , Z represents a tertiary amino group. m is the same as above
Same. And then reacting a compound represented by the general formula R 11 -X wherein R 11 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a hydroxy lower alkyl group, a carboxy lower alkyl group, a carbamoyl lower alkyl group, a lower alkanoyl lower alkyl group. A lower alkoxy lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl lower alkyl group, an amino lower alkyl group,
It represents a lower alkylamino lower alkyl group, a di-lower alkylamino lower alkyl group or a sulfo lower alkyl group.
X represents a halogen atom. Wherein the protecting group is removed as required. Wherein Q, R 1 , R 2 and R are the same as above. And a method for producing the cephem carboxy-protected ester thereof and a non-toxic salt thereof.
【請求項7】 一般式 【化16】 〔式中Q、R1、R2及びRは前記に同じ。〕で表わされ
るセフェム化合物、そのセフェムカルボキシ保護エステ
ル及びその非毒性塩と薬学的に許容される担体とからな
る抗菌剤。
7. A compound of the general formula Wherein Q, R 1 , R 2 and R are the same as above. An antibacterial agent comprising a cephem compound represented by the formula (I), a protected cephem carboxy ester thereof and a non-toxic salt thereof, and a pharmaceutically acceptable carrier.
【請求項8】 メチシリン耐性黄色ブドウ球菌に対して
強い抗菌活性を有する請求項記載の抗菌剤。
8. The antibacterial agent according to claim 7, which has a strong antibacterial activity against methicillin-resistant Staphylococcus aureus.
JP05930895A 1994-03-17 1995-03-17 Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound Expired - Fee Related JP3218363B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05930895A JP3218363B2 (en) 1994-03-17 1995-03-17 Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6-46737 1994-03-17
JP4673794 1994-03-17
JP05930895A JP3218363B2 (en) 1994-03-17 1995-03-17 Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07304779A JPH07304779A (en) 1995-11-21
JP3218363B2 true JP3218363B2 (en) 2001-10-15

Family

ID=26386853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05930895A Expired - Fee Related JP3218363B2 (en) 1994-03-17 1995-03-17 Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3218363B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2216259A1 (en) * 1996-09-25 1998-03-25 Eisai Chemical Co., Ltd. Production process of cephem compound
WO1998029416A1 (en) * 1996-12-25 1998-07-09 Zenyaku Kogyo Kabushiki Kaisha Cephem compounds

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07304779A (en) 1995-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001048893A (en) Phosphonocephem derivative, its production and use
US4943567A (en) Cephalosporin compound and pharmaceutical composition thereof
JPH0257074B2 (en)
JPH09110877A (en) Cephem compound, its production and antibacterial agent containing the compound
JPH0559066A (en) Thioalkylthiocephalosporin derivative
EP0700916B1 (en) Cephem compound, process for producing the same, and antibacterial containing the compound
US5635500A (en) Cephem compound and pharmaceutical composition containing the compound
JP3218363B2 (en) Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound
JPH07215876A (en) New cephalosporin antibiotic, its preparation and application
JP3243545B2 (en) Cephem compound, method for producing the same, and medicament containing the compound
JP2002542249A (en) β-lactamase inhibitory compounds
JP3837439B2 (en) New cephem compounds
EP0349340A2 (en) Novel cephem compound, method for producing the same and anti-bacterial agent
KR900003500B1 (en) Process for the preparation of 1-oxa-1-dethia-cephalosporin compounds
JPS62103092A (en) Beta-lactam derivative
JP2888638B2 (en) Cephalosporin compounds
JPH08151386A (en) Heterocyclic ethylthiocephem compound, its production and antimicrobial composition
JP2002514650A (en) Novel cephalosporin compound, production method thereof and antibacterial composition containing the same
JPH04211081A (en) Cephalosporin-base antibiotic
JPH10182656A (en) Cephem compound
JPH04338392A (en) New cephem derivative and preparation thereof
JP2002332288A (en) Cephalosporin compound, its application, and intermediate compound for the same
JPH10265488A (en) Phosphonocephem derivative
JPS62149684A (en) Antibacterial compound
JPH06145176A (en) Cephalosporin compound, its production and its intermediate compound

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees