JP3213754U

JP3213754U - Gas processing equipment

Info

Publication number: JP3213754U
Application number: JP2017004251U
Authority: JP
Inventors: 静雄徳浦; 吉田　隆; 吉田　　隆; 和彦堀田; 英嗣百合園
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 2017-09-15
Filing date: 2017-09-15
Publication date: 2017-11-30
Anticipated expiration: 2023-08-30

Abstract

【課題】優れた処理能力を有するガスの処理装置を提供する。【解決手段】ガスの処理装置１は、筐体１０と、処理剤１４と、バグフィルター２０とを備える。筐体１０は、前室１１と、処理室１２とを有する。前室１１には、被処理ガスが導入される。処理室１２は、前室１１の上方に配されている。処理剤１４は、処理室１２内に配されている。処理剤１４は、被処理ガスを処理する。バグフィルター２０は、前室１１と処理室１２との間に配されている。被処理ガスはバグフィルター２０を経由して前室１１から処理室１２に供給される。【選択図】図１A gas processing apparatus having an excellent processing capacity is provided. A gas processing apparatus includes a housing, a processing agent, and a bag filter. The housing 10 includes a front chamber 11 and a processing chamber 12. A gas to be treated is introduced into the front chamber 11. The processing chamber 12 is disposed above the front chamber 11. The processing agent 14 is disposed in the processing chamber 12. The processing agent 14 processes the gas to be processed. The bag filter 20 is disposed between the front chamber 11 and the processing chamber 12. The gas to be processed is supplied from the front chamber 11 to the processing chamber 12 via the bag filter 20. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、ガスの処理装置に関する。 The present invention relates to a gas processing apparatus.

近年、排気ガスによる環境負荷を低減するために、排気ガスに対する規制が厳しくなってきている。これに伴い、排気ガスの処理装置が種々提案されている。 In recent years, regulations on exhaust gas have become stricter in order to reduce the environmental load caused by exhaust gas. Accordingly, various exhaust gas treatment apparatuses have been proposed.

例えば特許文献１には、半導体製造工程等において排出される粉体を含む排気ガスの浄化装置であって、浄化剤層と、浄化剤層よりも下流側に位置する粉体補足材とが筐体内に設けられた浄化装置が記載されている。 For example, Patent Document 1 discloses an apparatus for purifying exhaust gas containing powder discharged in a semiconductor manufacturing process or the like, in which a purifier layer and a powder supplementary material located downstream of the purifier layer are enclosed. A purification device provided in the body is described.

特許文献１に記載の浄化装置では、筐体の側壁部に設けられた導入口から筐体内に排気ガスが導入される。導入された排気ガスは、浄化剤層により浄化され、その後、粉体補足材によって、ガスに含まれる粉体が補足される。浄化装置からは、浄化され、かつ粉体が取り除かれたガスが排出される。 In the purification apparatus described in Patent Document 1, exhaust gas is introduced into the housing from an inlet provided in the side wall of the housing. The introduced exhaust gas is purified by the purifier layer, and then the powder contained in the gas is supplemented by the powder supplement material. From the purification device, the gas that has been purified and from which the powder has been removed is discharged.

特開２０１３−１０３１７３号公報JP 2013-103173 A

ガスの処理装置の処理能力を向上したいという要望がある。 There is a desire to improve the processing capacity of gas processing equipment.

本発明の主な目的は、優れた処理能力を有するガスの処理装置を提供することにある。 A main object of the present invention is to provide a gas processing apparatus having an excellent processing capacity.

本発明に係るガスの処理装置は、筐体と、処理剤と、バグフィルターとを備える。筐体は、前室と、処理室とを有する。前室には、被処理ガスが導入される。処理室は、前室の上方に配されている。処理剤は、処理室内に配されている。処理剤は、被処理ガスを処理する。バグフィルターは、前室と処理室との間に配されている。被処理ガスはバグフィルターを経由して前室から処理室に供給される。 The gas processing apparatus according to the present invention includes a housing, a processing agent, and a bag filter. The housing has a front chamber and a processing chamber. A gas to be treated is introduced into the front chamber. The processing chamber is arranged above the front chamber. The processing agent is disposed in the processing chamber. A processing agent processes to-be-processed gas. The bag filter is arranged between the front chamber and the processing chamber. The gas to be processed is supplied from the front chamber to the processing chamber via the bag filter.

本発明に係るガスの処理方法では、上記ガスの処理装置を用いてガスを処理する。 In the gas processing method according to the present invention, the gas is processed using the gas processing apparatus.

本発明によれば、優れた処理能力を有するガスの処理装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the gas processing apparatus which has the outstanding processing capacity can be provided.

第１の実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a gas processing apparatus according to a first embodiment. 第２の実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the processing apparatus of the gas which concerns on 2nd Embodiment. 第３の実施形態に係るガスの処理装置の模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the processing apparatus of the gas which concerns on 3rd Embodiment.

以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。 Hereinafter, an example of the preferable form which implemented this invention is demonstrated. However, the following embodiment is merely an example. The present invention is not limited to the following embodiments.

また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。 Moreover, in each drawing referred in embodiment etc., the member which has a substantially the same function shall be referred with the same code | symbol. The drawings referred to in the embodiments and the like are schematically described. A ratio of dimensions of an object drawn in a drawing may be different from a ratio of dimensions of an actual object. The dimensional ratio of the object may be different between the drawings. The specific dimensional ratio of the object should be determined in consideration of the following description.

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係るガスの処理装置１の模式的断面図である。この処理装置１は、例えば、人体や環境等に有毒な成分を含むガスを処理し、無害化するための装置である。処理装置１で処理される被処理ガスの種類は特に限定されない。処理装置１は、例えば、粉体を含むガス、温度が低下したときに粉体が発生するガス等も好適に処理することができる。処理装置１は、例えば、アルミニウム膜等のドライエッチング装置から排出される、三塩化ホウ素などのハロゲン化合物を含むガスの処理にも好適に用いられる。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a gas processing apparatus 1 according to the first embodiment. This processing apparatus 1 is an apparatus for processing and detoxifying a gas containing a component that is toxic to the human body, the environment, or the like. The kind of the to-be-processed gas processed with the processing apparatus 1 is not specifically limited. The processing apparatus 1 can suitably process, for example, a gas containing powder, a gas that generates powder when the temperature drops, and the like. The processing apparatus 1 is also preferably used for processing a gas containing a halogen compound such as boron trichloride discharged from a dry etching apparatus such as an aluminum film.

処理装置１は、筐体１０を備えている。筐体１０は、前室１１と、処理室１２とを有する。処理室１２は、筐体１０に設けられている。前室１１には、導入管１３が接続されている。この導入管１３を経由して前室１１に被処理ガスが導入される。 The processing device 1 includes a housing 10. The housing 10 includes a front chamber 11 and a processing chamber 12. The processing chamber 12 is provided in the housing 10. An introduction pipe 13 is connected to the front chamber 11. A gas to be treated is introduced into the front chamber 11 via the introduction pipe 13.

処理室１２は、前室１１の上方に配されている。処理室１２には、処理剤１４が配されている。処理室１２において被処理ガスが処理剤１４と接触することにより被処理ガスが処理される。処理済みのガスは、処理室１２に接続された排出管１５を経由して処理装置１から排出される。このように、処理装置１では、前室１１が上流側に配されており、処理室１２が下流側に配されている。 The processing chamber 12 is disposed above the front chamber 11. A processing agent 14 is disposed in the processing chamber 12. The gas to be processed is processed when the gas to be processed contacts the processing agent 14 in the processing chamber 12. The treated gas is exhausted from the processing apparatus 1 via a discharge pipe 15 connected to the processing chamber 12. Thus, in the processing apparatus 1, the front chamber 11 is disposed on the upstream side, and the processing chamber 12 is disposed on the downstream side.

処理剤１４は、被処理ガスの種類等に応じて適宜選択することができる。処理剤１４は、例えば、被処理ガス中に含まれる、濃度を低減させようとする物質を吸着する吸着剤であってもよいし、濃度を低減させようとする物質と反応する反応剤、濃度を低減させようとする物質を反応させる触媒等であってもよい。処理剤１４は、吸着剤、反応剤及び触媒のうちの少なくとも２つを含んでいてもよい。処理剤１４は、被処理ガスの種類に応じて適宜選択することができる。吸着剤の具体例としては、例えば、ゼオライト、活性炭、活性白土、酸化鉄、水酸化カルシウム活性炭、添着活性炭（酸化銅及び酸化亜鉛の少なくとも一方が担持された活性炭）等が挙げられる。反応剤の具体例としては、例えば、酸化鉄、酸化マンガン等が挙げられる。好ましく用いられる酸化鉄の具体例としては、例えば、酸化鉄（ＩＩ）（ＦｅＯ）、酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ_２Ｏ_３）等が挙げられる。好ましく用いられる酸化マンガンの具体例としては、例えば、一酸化マンガン（ＭｎＯ）、二酸化マンガン（ＭｎＯ_２）、四酸化三マンガン（Ｍｎ_３Ｏ_４）、七酸化二マンガン（Ｍｎ_２Ｏ_７）等が挙げられる。触媒の具体例として、例えば、白金、パラジウム等が挙げられる。 The treatment agent 14 can be appropriately selected according to the type of gas to be treated. The treatment agent 14 may be, for example, an adsorbent that adsorbs a substance to be reduced in concentration, which is contained in the gas to be processed, or a reactant that reacts with a substance to be reduced in concentration, or a concentration. The catalyst etc. which make the substance which is going to reduce may react. The treatment agent 14 may include at least two of an adsorbent, a reactant, and a catalyst. The treatment agent 14 can be appropriately selected according to the type of gas to be treated. Specific examples of the adsorbent include zeolite, activated carbon, activated clay, iron oxide, calcium hydroxide activated carbon, impregnated activated carbon (activated carbon supporting at least one of copper oxide and zinc oxide), and the like. Specific examples of the reactant include iron oxide and manganese oxide. Specific examples of the iron oxide preferably used include iron oxide (II) (FeO), iron oxide (III) (Fe ₂ O ₃ ), and the like. Specific examples of manganese oxide preferably used include manganese monoxide (MnO), manganese dioxide (MnO ₂ ), trimanganese tetroxide (Mn ₃ O ₄ ), dimanganese heptaoxide (Mn ₂ O ₇ ), and the like. Can be mentioned. Specific examples of the catalyst include platinum and palladium.

前室１１と処理室１２との間には、バグフィルター２０が配されている。具体的には、前室１１と処理室１２とは、隔壁２１によって隔離されている。隔壁２１には、貫通孔２１ａが設けられている。この貫通孔２１ａを覆うようにバグフィルター２０が取り付けられている。本実施形態では、隔壁２１に複数の貫通孔２１ａが設けられており、各貫通孔２１ａに対してバグフィルター２０が取り付けられている。 A bag filter 20 is disposed between the front chamber 11 and the processing chamber 12. Specifically, the front chamber 11 and the processing chamber 12 are separated by a partition wall 21. The partition wall 21 is provided with a through hole 21a. A bag filter 20 is attached so as to cover the through hole 21a. In the present embodiment, the partition wall 21 is provided with a plurality of through holes 21a, and the bag filter 20 is attached to each through hole 21a.

バグフィルター２０は、複数の貫通孔を有するシート材により構成されている。バグフィルター２０は、例えば、織布又は不織布により構成されていてもよい。バグフィルター２０に設けられた貫通孔よりも大きな粉体はバグフィルター２０により集塵される。貫通孔の大きさは、被処理ガスに含まれる、または被処理ガスにおいて発生する粉体の粒子径等に応じて適宜設定することができる。貫通孔の大きさは、例えば、１０μｍ〜１００μｍ程度とすることができ。２０μｍ〜５０μｍであることがより好ましい。 The bag filter 20 is made of a sheet material having a plurality of through holes. The bag filter 20 may be made of, for example, a woven fabric or a non-woven fabric. Powder larger than the through hole provided in the bag filter 20 is collected by the bag filter 20. The size of the through hole can be appropriately set according to the particle diameter of the powder contained in the gas to be processed or generated in the gas to be processed. The size of the through hole can be, for example, about 10 μm to 100 μm. More preferably, the thickness is 20 μm to 50 μm.

バグフィルター２０は、例えば樹脂シートにより構成することができる。具体的には、バグフィルター２０は、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体、ポリビニリデンフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン又はクロロトリフルオエチレン・エチレン共重合体等からなるシートにより構成されていることが好ましい。 The bag filter 20 can be made of, for example, a resin sheet. Specifically, the bag filter 20 includes, for example, polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene / ethylene copolymer, poly It is preferable that the sheet is composed of a sheet made of vinylidene fluoride, polychlorotrifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer or the like.

バグフィルター２０を構成している樹脂シートの厚みは、例えば、０．１ｍｍ〜１０ｍｍ程度であることが好ましく、０．５ｍｍ〜２ｍｍであることがより好ましい。 The thickness of the resin sheet constituting the bag filter 20 is preferably, for example, about 0.1 mm to 10 mm, and more preferably 0.5 mm to 2 mm.

導入管１３から前室１１に被処理ガスが流入すると、被処理ガスの流れによって前室において気流が発生する。本発明者らは、鋭意研究の結果、前室と処理室との間にバグフィルターが配されていない場合は、前室において発生する気流の影響で、処理室に被処理ガスが均一に供給されないことを見出した。すなわち、本発明者らは、鋭意研究の結果、前室と処理室との間にバグフィルターを配さない場合は、処理室に、被処理ガスが供給されにくい部分が生じることを見出した。処理室に被処理ガスが供給されにくい部分が生じると、処理剤の利用効率が低下する。このため、被処理ガスの処理能力が低下する。 When the gas to be processed flows from the introduction pipe 13 into the front chamber 11, an air flow is generated in the front chamber due to the flow of the gas to be processed. As a result of diligent research, the present inventors have uniformly supplied the gas to be processed to the processing chamber under the influence of the air flow generated in the front chamber when no bag filter is arranged between the front chamber and the processing chamber. Found that not. That is, as a result of intensive studies, the present inventors have found that when a bag filter is not provided between the front chamber and the processing chamber, a portion in which the gas to be processed is difficult to be supplied is generated in the processing chamber. When a portion where it is difficult to supply the gas to be processed is generated in the processing chamber, the use efficiency of the processing agent is lowered. For this reason, the processing capacity of the gas to be processed is reduced.

ここで、処理装置１では、前室１１と処理室１２との間にバグフィルター２０が配されている。このバグフィルター２０により気流が緩和される。このため、処理室１２に高い均一性で被処理ガスが供給される。よって、処理剤１４の利用効率が高い。従って、被処理ガスの優れた処理能力を実現することができる。 Here, in the processing apparatus 1, a bag filter 20 is disposed between the front chamber 11 and the processing chamber 12. This bag filter 20 reduces airflow. For this reason, the gas to be processed is supplied to the processing chamber 12 with high uniformity. Therefore, the utilization efficiency of the processing agent 14 is high. Therefore, it is possible to realize an excellent processing capacity of the gas to be processed.

バグフィルター２０による気流の緩和効果をより顕著にする観点からは、バグフィルター２０を凸状に設けることが好ましい。具体的には、バグフィルター２０が、下方に向かって延びる側壁部２０ａと、側壁部２０ａの下端部に設けられた底壁部２０ｂとを有することが好ましい。 From the viewpoint of making the airflow mitigating effect of the bag filter 20 more prominent, the bag filter 20 is preferably provided in a convex shape. Specifically, it is preferable that the bag filter 20 has a side wall portion 20a extending downward and a bottom wall portion 20b provided at a lower end portion of the side wall portion 20a.

バグフィルター２０による気流の緩和効果をより顕著にする観点からは、処理室１２に、処理剤１４が充填された処理層１２ｂと、処理層１２ｂよりも前室１１側に位置する中空層１２ａとを設けることが好ましい。 From the viewpoint of making the airflow mitigating effect of the bag filter 20 more prominent, the treatment layer 12 is filled with the treatment agent 14 in the treatment chamber 12, and the hollow layer 12a is located closer to the front chamber 11 than the treatment layer 12b. Is preferably provided.

ところで、処理装置１の使用に伴ってバグフィルター２０が目詰まりする虞がある。ここで、処理装置１では、バグフィルター２０が可撓性を有するシート材により構成されている。バグフィルター２０は、筐体１０に振動や揺動が加わった際に変形可能な厚みに設けられている。このため、筐体１０に振動や揺動が加わった際に、バグフィルター２０が変形する。例えば、バグフィルター２０が振動したり、揺動したりする。このバグフィルター２０の変形により、バグフィルター２０に詰まっていた粉体が振り落とされる。その結果、バグフィルター２０の目詰まりが解消され得る。従って、処理装置１では、バグフィルター２０の目詰まりが生じやすく、被処理ガスを好適に処理し得る。 Incidentally, the bag filter 20 may be clogged with the use of the processing apparatus 1. Here, in the processing apparatus 1, the bag filter 20 is comprised with the sheet material which has flexibility. The bag filter 20 is provided with a thickness that can be deformed when vibration or swinging is applied to the housing 10. For this reason, the bag filter 20 is deformed when vibration or swinging is applied to the housing 10. For example, the bag filter 20 vibrates or swings. Due to the deformation of the bag filter 20, the powder clogged in the bag filter 20 is shaken off. As a result, the clogging of the bug filter 20 can be eliminated. Therefore, in the processing apparatus 1, the bag filter 20 is likely to be clogged, and the gas to be processed can be appropriately processed.

処理装置１では、バグフィルター２０が、凸状に設けられている。具体的には、バグフィルター２０は、下方に向かって延びる側壁部２０ａと、側壁部２０ａの下端部に設けられた底壁部２０ｂとを有する。このため、筐体１０に振動や揺動が加わった際にバグフィルター２０が変形しやすい。従って、バグフィルター２０の目詰まりがより解消されやすい。 In the processing apparatus 1, the bag filter 20 is provided in a convex shape. Specifically, the bag filter 20 has a side wall portion 20a extending downward and a bottom wall portion 20b provided at a lower end portion of the side wall portion 20a. For this reason, the bag filter 20 is easily deformed when vibration or swing is applied to the housing 10. Therefore, clogging of the bag filter 20 is more likely to be solved.

バグフィルター２０の目詰まりがさらに解消されやすくする観点からは、バグフィルター２０の高さ（Ｈ）に対するバグフィルター２０の幅（Ｗ）の比（（Ｈ）／（Ｗ））が０．５以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましい。但し、比（（Ｈ）／（Ｗ））が大きすぎると、除害装置の高さが大きくなりすぎ、転倒の危険性がある。従って、比（（Ｈ）／（Ｗ））は、１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましい。 From the viewpoint of making it easier to eliminate the clogging of the bag filter 20, the ratio ((H) / (W)) of the width (W) of the bag filter 20 to the height (H) of the bag filter 20 is 0.5 or more. It is preferable that it is 2 or more. However, if the ratio ((H) / (W)) is too large, the height of the abatement apparatus becomes too large and there is a risk of falling. Therefore, the ratio ((H) / (W)) is preferably 15 or less, and more preferably 10 or less.

以下、本発明の好ましい実施形態の他の例について説明する。以下の説明において、上記第１の実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。 Hereinafter, other examples of preferred embodiments of the present invention will be described. In the following description, members having substantially the same functions as those of the first embodiment are referred to by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

（第２の実施形態）
図２は、第２の実施形態に係るガスの処理装置１ａの模式的断面図である。第２の実施形態に係るガスの処理装置１ａでは、バグフィルター２０の底部に錘２２が取り付けられている。このため、筐体１０に振動や揺動が加わった際に、バグフィルター２０が大きく変形しやすい。よって、バグフィルター２０の目詰まりがより解消されやすい。 (Second Embodiment)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a gas processing apparatus 1a according to the second embodiment. In the gas processing apparatus 1 a according to the second embodiment, a weight 22 is attached to the bottom of the bag filter 20. For this reason, the bag filter 20 is easily deformed greatly when vibration or swinging is applied to the housing 10. Therefore, the clogging of the bug filter 20 is more easily resolved.

錘２２は、例えば、ステンレス、アルミ等により構成することができる。 The weight 22 can be made of, for example, stainless steel or aluminum.

（第３の実施形態）
図３は、第３の実施形態に係るガスの処理装置１ｂの模式的断面図である。第３の実施形態に係るガスの処理装置１ｂでは、振動／揺動機構２３が設けられている。この振動／揺動機構２３は、バグフィルター２０を振動又は揺動させる機構である。具体的には、振動／揺動機構２３は、筐体１０に取り付けられており、筐体１０を振動又は揺動させることにより、バグフィルター２０を振動又は揺動させる機構である。この振動／揺動機構２３を駆動させることにより、バグフィルター２０を振動又は揺動させることができる。例えば、バグフィルター２０の目詰まりが激しくなったときに、振動／揺動機構２３を駆動させ、通常よりも大きな振動または揺動をバグフィルター２０に加え得る。これにより、バグフィルター２０の目詰まりを解消させることができる。 (Third embodiment)
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a gas processing apparatus 1b according to the third embodiment. In the gas processing apparatus 1b according to the third embodiment, a vibration / oscillation mechanism 23 is provided. The vibration / oscillation mechanism 23 is a mechanism for vibrating or swinging the bag filter 20. Specifically, the vibration / swing mechanism 23 is a mechanism that is attached to the housing 10 and vibrates or swings the bag filter 20 by vibrating or swinging the housing 10. By driving the vibration / swing mechanism 23, the bag filter 20 can be oscillated or swayed. For example, when clogging of the bag filter 20 becomes severe, the vibration / oscillation mechanism 23 can be driven to apply vibration or oscillation larger than usual to the bag filter 20. Thereby, clogging of the bag filter 20 can be eliminated.

１、１ａ、１ｂ：処理装置
１０：筐体
１１：前室
１２：処理室
１２ａ：中空層
１２ｂ：処理層
１３：導入管
１４：処理剤
１５：排出管
２０：バグフィルター
２０ａ：側壁部
２０ｂ：底壁部
２１：隔壁
２１ａ：貫通孔
２２：錘
２３：振動／揺動機構 1, 1a, 1b: Processing apparatus 10: Housing 11: Front chamber 12: Processing chamber 12a: Hollow layer 12b: Processing layer 13: Introducing pipe 14: Processing agent 15: Discharge pipe 20: Bag filter 20a: Side wall 20b: Bottom wall portion 21: partition wall 21a: through hole 22: weight 23: vibration / swing mechanism

Claims

A housing having a front chamber into which a gas to be processed is introduced, a processing chamber disposed above the front chamber, a processing agent disposed in the processing chamber and processing the gas to be processed;
A bug filter disposed between the front chamber and the processing chamber;
With
The gas to be processed is a gas processing apparatus that is supplied from the front chamber to the processing chamber via the bag filter.

The processing chamber is
A treatment layer filled with the treatment agent;
A hollow layer provided closer to the front chamber than the treatment layer;
The gas processing apparatus according to claim 1, comprising:

The gas processing apparatus according to claim 1, wherein the bag filter is made of a flexible sheet material.

The bug filter is
A side wall portion extending downward;
A bottom wall connected to the lower end of the side wall,
The gas processing apparatus according to claim 1, comprising:

The gas processing apparatus according to claim 4, further comprising a weight attached to a bottom portion of the bag filter.

The gas processing apparatus according to claim 1, wherein the bag filter is provided with a thickness that can be deformed when vibration or swinging is applied to the casing.

The gas processing apparatus according to claim 3, further comprising a mechanism that vibrates or swings the bag filter.