JP3202106B2 - Method for producing aminobutene derivative - Google Patents

Method for producing aminobutene derivative

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JP3202106B2
JP3202106B2 JP21481393A JP21481393A JP3202106B2 JP 3202106 B2 JP3202106 B2 JP 3202106B2 JP 21481393 A JP21481393 A JP 21481393A JP 21481393 A JP21481393 A JP 21481393A JP 3202106 B2 JP3202106 B2 JP 3202106B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、抗消化性潰瘍治療剤を
製造するための中間体及びヒスタミンH2 受容体拮抗作
用に基づく酸分泌抑制作用を有する抗消化性潰瘍治療剤
として有用なアミノブテン誘導体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an intermediate for producing a therapeutic agent for anti-peptic ulcer and an aminobutene useful as a therapeutic agent for anti-peptic ulcer having an acid secretion inhibitory action based on histamine H 2 receptor antagonism. The present invention relates to a method for producing a derivative.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般式(I−1)2. Description of the Related Art The general formula (I-1)

【化26】 及び一般式(I−2)Embedded image And the general formula (I-2)

【化27】 (式中、R1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、R2 は水素原子、アルコキシル基、置
換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の
芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基で
ある。)で表されるアミノブテン誘導体は、抗消化性潰
瘍治療剤を製造するための中間体として知られている
(特開昭63-2253715参照)。
Embedded image (Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 2 is a hydrogen atom, an alkoxyl group, a substituted or unsubstituted group. Is a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.) Is known as an intermediate for producing an anti-peptic ulcer therapeutic agent. (See JP-A-63-2253715).

【0003】更に、下記一般式Further, the following general formula

【化28】 (式中、R11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−2−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基、ピペリジノ
メチル基又はジメチルアミノメチル基であり、nは0,
1又は2である。)で表されるアミノブテン誘導体は、
ピリジルオキシ誘導体とも呼ばれ、ヒスタミンH2 受容
体拮抗作用に基づく酸分泌抑制作用を有する抗消化性潰
瘍治療剤及びかかる治療剤を製造するための中間体とし
て知られている(特開昭63-2253715参照)。
Embedded image (Wherein, R 11 represents a hydroxymethyl group, a tetrahydropyranyl-2-oxymethyl group, a methoxymethoxymethyl group, a formyl group, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, a piperidinomethyl A dimethylaminomethyl group, and n is 0,
1 or 2. The aminobutene derivative represented by
It is also known as a pyridyloxy derivative, and is known as an anti-peptic ulcer therapeutic agent having an acid secretion inhibitory action based on histamine H 2 receptor antagonism and an intermediate for producing such a therapeutic agent (JP-A-63-1988). 2253715).

【0004】一般式General formula

【化29】 で表されるアミノブテン誘導体は、従来、ハロゲン化合
物にフタルイミド化合物を反応させ、該ハロゲン化合物
にアミノ基を導入する、いわゆるガブリエル反応により
製造されている。
Embedded image The aminobutene derivative represented by is conventionally produced by a so-called Gabriel reaction in which a phthalimide compound is reacted with a halogen compound to introduce an amino group into the halogen compound.

【0005】別法として、上記の式(I−2)のアミノ
ブテン誘導体は、上記の反応において使用するフタルイ
ミド化合物の代わりに、アジド化合物を用いる方法(特
開平2-1219695 参照)が知られている。更に、ジオキサ
ピエン誘導体を用いる別の方法(特開平3-2093495 参
照)も知られている。
As another method, a method is known in which the above aminobutene derivative of the formula (I-2) uses an azide compound instead of the phthalimide compound used in the above reaction (see JP-A-2-1219695). . Further, another method using a dioxapiene derivative (see JP-A-3-2093495) is also known.

【0006】しかしながら、上記の方法は、上記アミノ
ブテン誘導体の製造に際し、工程数が多いこと、高価な
試薬が必要であること、副生成物が多く、アミノブテン
誘導体の収率が低いこと及びかかる副生成物から目的物
であるアミノブテン誘導体を分離することが極めて困難
である等の理由により、工業的製造方法としては、多く
の問題点を有するものである。
However, the above method requires a large number of steps, expensive reagents, many by-products, a low yield of the aminobutene derivative, and a disadvantage in the production of the aminobutene derivative. The industrial production method has many problems, for example, because it is extremely difficult to separate the target aminobutene derivative from the product.

【0007】更に、一般式(I−1)で表されるアミノ
ブテン誘導体は、従来一般式(I−2)のアミノブテン
誘導体をアシル化して得ているが、上記の如く製造が困
難な一般式(I−2)のアミノブテン誘導体を出発物質
として一般式(I−1)で表されるアミノブテン誘導体
を得ることは困難である。
Further, the aminobutene derivative represented by the general formula (I-1) is conventionally obtained by acylating the aminobutene derivative represented by the general formula (I-2). It is difficult to obtain an aminobutene derivative represented by the general formula (I-1) using the aminobutene derivative of I-2) as a starting material.

【0008】従って、ピリジルオキシ誘導体と呼ばれる
一般式(I−3)のアミノブテン誘導体は、アミン化合
物とカルボン酸化合物とを反応させることにより、製造
することができる(特開昭63-225371 、及び特開平1-19
3247参照)が、上記のピリジルオキシ誘導体を製造する
ための出発物質として使用するアミン化合物の従来の製
造方法は、製造工程数が多いこと、高価な試薬を使用す
る複雑な処理が必要であること、副生成物の生成が多
く、目的とするアミン化合物の収率が極めて低いこと等
の問題がある。
Accordingly, an aminobutene derivative of the general formula (I-3) called a pyridyloxy derivative can be produced by reacting an amine compound with a carboxylic acid compound (JP-A-63-225371 and JP-A-63-225371). 1-19 Kaihei
However, the conventional method for producing an amine compound used as a starting material for producing the above-mentioned pyridyloxy derivative requires a large number of production steps and requires complicated treatment using expensive reagents. In addition, there are problems such as that many by-products are generated and the yield of the target amine compound is extremely low.

【0009】一方、一般式(I−3)のアミノブテン誘
導体を製造するためのもう一つの出発物質であるカルボ
ン酸化合物は、活性化エステル誘導体として使用されて
おり、活性化エステル誘導体を合成するに際しては、高
価な試薬を使用しなければならない。更に、前記のアミ
ン化合物とカルボン酸化合物との縮合反応では、多量の
副生成物が生成し、一般式(I−3)の目的とするアミ
ノブテン誘導体をその副生成物から分離するため、複雑
な操作を要する。従って、上記の方法は、(I−3)の
アミノブテン誘導体の工業的製造方法としては適するも
のではない。
On the other hand, a carboxylic acid compound, which is another starting material for producing the aminobutene derivative of the general formula (I-3), is used as an activated ester derivative. Must use expensive reagents. Further, in the condensation reaction between the amine compound and the carboxylic acid compound, a large amount of by-products are generated, and the desired aminobutene derivative represented by the general formula (I-3) is separated from the by-products. Requires operation. Therefore, the above method is not suitable as an industrial production method of the aminobutene derivative (I-3).

【0010】前記アミノブテン誘導体を製造するための
中間体として使用さるアミノブテノ−ル
Aminobutenol used as an intermediate for producing the aminobutene derivative

【化30】 は、従来、(1)アミノブテノ−ルを接触還元する方法
[Andree Marszak-Flenry et al., Bull. Soc. Chim. F
rance,, 1270 (1963) ]、(2)ジヒドロオキサジン
を還元的に開環する方法[O. Wichterle et. al., Coll
ect. Czech. Chem. Commun, 15, 309 (1905)]、及び
(3)フタルイミドで保護されたアミノブテノ−ルから
脱保護によりアミノブテノ−ルを遊離させる方法(特開
平3-209349)により製造されている。
Embedded image A conventional method for (1) a method of catalytically reducing aminobutenol [Andree Marszak-Flenry et al., Bull. Soc. Chim.
rance, 6 , 1270 (1963)], (2) A method of reductively opening a dihydrooxazine [O. Wichterle et. al., Coll.
ect. Czech. Chem. Commun, 15 , 309 (1905)], and (3) a method of releasing aminobutenol by deprotection from phthalimide-protected aminobutenol (JP-A-3-209349). I have.

【0011】前記(1)の方法は、選択的にアミノブテ
ノ−ルを得るように接触還元反応を停止させることが困
難であり、また生成物の二重結合の幾何異性をコントロ
−ルすることも困難であるという欠点を有している。さ
らに、前記(2)の方法は、アミノブテノ−ルの合成の
原料であるジヒドロオキサジンを工業的に得ることは難
しいという欠点を有し、さらに前記(3)の方法は、操
作が煩雑であり、目的とするアミノブテノ−ルの単離が
非常に困難であるという欠点を有している。
In the above method (1), it is difficult to stop the catalytic reduction reaction so as to selectively obtain aminobutenol, and it is also possible to control the geometrical isomerism of the double bond of the product. It has the disadvantage of being difficult. Furthermore, the method (2) has a disadvantage that it is difficult to industrially obtain dihydrooxazine, which is a raw material for synthesizing aminobutenol, and the method (3) is complicated in operation. It has the disadvantage that it is very difficult to isolate the desired aminobutenol.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の第一
の目的は、前記の従来の方法に見られる欠点を有しない
下記一般式(I)
Accordingly, a first object of the present invention is to provide a compound of the following general formula (I) which does not have the drawbacks found in the above-mentioned conventional method.

【化31】 (式中、R1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、R2 は水素原子、アルコキシル基、置
換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の
芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基で
あり、R3 は水素原子、置換若しくは無置換のアシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホニル基又は置換ア
ルキル基である。)で表されるアミノブテン誘導体の製
造方法を提供することである。
Embedded image (Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 2 is a hydrogen atom, an alkoxyl group, a substituted or unsubstituted group. An alkyl group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 3 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted acyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfonyl group or a substituted alkyl group. The present invention provides a method for producing an aminobutene derivative represented by the formula:

【0013】本発明の第二の目的は、下記一般式(I−
1)
A second object of the present invention is to provide a compound represented by the following general formula (I-
1)

【化32】 (式中、R1 及びR2 は前記一般式(I)において定義
した基と同一である。)で表されるアミノブテン誘導体
の製造方法を提供することである。
Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 are the same as the groups defined in the general formula (I).) The present invention provides a method for producing an aminobutene derivative represented by the formula:

【0014】本発明の第三の目的は、下記一般式(I−
2)
A third object of the present invention is to provide a compound represented by the following general formula (I-
2)

【化33】 (式中、R1 は、前記一般式(I)において定義した基
と同一である。)で表されるアミノブテン誘導体の製造
方法を提供することである。
Embedded image (In the formula, R 1 is the same as the group defined in the general formula (I).) A method for producing an aminobutene derivative represented by the formula:

【0015】本発明の第四の目的は、ピリジルオキシ誘
導体と呼ばれる下記一般式(I−3)
A fourth object of the present invention is to provide a pyridyloxy derivative represented by the following general formula (I-3)

【化34】 (式中、R11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−2−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基、ピペリジノ
メチル基、又はジメチルアミノメチル基である。)で表
されるアミノブテン誘導体の製造方法を提供することで
ある。
Embedded image (Wherein, R 11 represents a hydroxymethyl group, a tetrahydropyranyl-2-oxymethyl group, a methoxymethoxymethyl group, a formyl group, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, a piperidinomethyl Or a dimethylaminomethyl group).

【0016】本発明の第五の目的は、下記一般式(I−
3a)
A fifth object of the present invention is to provide a compound represented by the following general formula (I-
3a)

【化35】 (式中、R11は前記一般式(I−3)において定義した
基と同一であり、mはn+1、ただしnは0又は1であ
る。)で表されるアミノブテン誘導体の製造方法を提供
することである。
Embedded image (Wherein, R 11 is the same as the group defined in the formula (I-3), m is n + 1, where n is 0 or 1), and a method for producing an aminobutene derivative represented by the formula: That is.

【0017】前記のアミノブテン誘導体のいずれか又は
全部は、抗消化性潰瘍治療剤を製造するための中間体と
して、あるいはヒスタミンH2受容体拮抗作用に基づく
酸分泌抑制作用を有する抗消化性潰瘍治療剤として有用
である。
Any or all of the above aminobutene derivatives may be used as an intermediate for producing an antipeptic ulcer remedy or an antipeptic ulcer treatment having an acid secretion inhibitory action based on histamine H 2 receptor antagonism. Useful as an agent.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、以下の反応を用いることにより目的とするアミノ
ブテン誘導体が容易に且つ大量に得られることを見い出
し、本発明を完成させた。すなわち、前記一般式(I)
で表されるアミノブテン誘導体を製造する本発明の第一
の目的は、一般式(II)で表されるブテン誘導体と、一
般式(II)で表されるアミド誘導体とを、下記の反応式
(A)に従って反応させることにより達成することがで
きる。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the desired aminobutene derivative can be obtained easily and in large quantities by using the following reaction, and completed the present invention. That is, the general formula (I)
A first object of the present invention for producing an aminobutene derivative represented by the following formula is a reaction between a butene derivative represented by the general formula (II) and an amide derivative represented by the general formula (II) by the following reaction formula ( It can be achieved by reacting according to A).

【化36】 (R1 ,R2 及びR3 は、それぞれ前記一般式(I)で
定義された基と同一であり、Xは水酸基、ハロゲン原
子、スルホニルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキ
シカルボニルオキシ基であるか、R1 と一体となり、環
状の亜硫酸エステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを
形成する基であり、Yはアルカリ金属原子、アルカリ土
類金属原子又は水素原子である。)
Embedded image (R 1 , R 2 and R 3 are respectively the same as the groups defined in the formula (I), and X is a hydroxyl group, a halogen atom, a sulfonyloxy group, an acyloxy group or an alkoxycarbonyloxy group; (It is a group which forms a cyclic sulfite, sulfate or carbonate together with R 1, and Y is an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or a hydrogen atom.)

【0019】一般式(I−1)で表されるアミノブテン
誘導体を製造する本発明の第二の目的は、前記反応式
(A)において、R3 が水素である一般式(III)のアミ
ド誘導体を用いるか、下記の反応式(B)に従い、一般
式(Ia)で表されるアミノブテン誘導体に対し、脱保
護を行うことにより達成することができる。
A second object of the present invention for producing the aminobutene derivative represented by the general formula (I-1) is to provide an amide derivative represented by the general formula (III) wherein R 3 is hydrogen in the reaction formula (A). Or by deprotecting the aminobutene derivative represented by the general formula (Ia) according to the following reaction formula (B).

【化37】 (式中、R1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、R2 は水素、アルコキシル基、置換若
しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香
族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基であ
り、R3aは置換若しくは無置換のアシル基、アルコキシ
カルボニル基、スルホニル基又は置換アルキル基であ
る。)
Embedded image (Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 2 is hydrogen, an alkoxyl group, a substituted or unsubstituted An alkyl group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 3a is a substituted or unsubstituted acyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfonyl group or a substituted alkyl group.)

【0020】前記一般式(I−2)で表されるアミノブ
テン誘導体を製造する本発明の第三の目的は、下記の反
応式(C)に従い、一般式(I)で表されるアミノブテ
ン誘導体に対し脱保護を行うか、下記の一般式(D)に
従い、前記一般式(I−1)で表されるアミノブテン誘
導体に対し、脱保護を行うことにより達成することがで
きる。
The third object of the present invention for producing the aminobutene derivative represented by the above general formula (I-2) is to convert the aminobutene derivative represented by the general formula (I) according to the following reaction formula (C). This can be achieved by performing deprotection on the aminobutene derivative represented by the general formula (I-1) according to the following general formula (D).

【化38】 Embedded image

【0021】一般式(I−3)で表されるアミノブテン
誘導体を製造する本発明の第四の目的は、前記の反応式
(A)に従う縮合反応を行うことにより達成することが
できる。
The fourth object of the present invention for producing the aminobutene derivative represented by the general formula (I-3) can be achieved by performing a condensation reaction according to the above-mentioned reaction formula (A).

【化39】 Embedded image

【0022】より具体的には、一般式(II)のブテン誘
導体としては、R1 が下記の基であるブテン誘導体
More specifically, the butene derivative of the general formula (II) is a butene derivative wherein R 1 is

【化40】 (式中、R11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−2−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、1、3−ジオキソラン−2−イル基、ピペリジノ
メチル基、ジメチルアミノ基であり、Xはハロゲン原
子、水酸基、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエン
スルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基で
ある。)を用い、一般式(III)で表されるアミン誘導体
としては、R2
Embedded image (Wherein, R 11 is a hydroxymethyl group, a tetrahydropyranyl-2-oxymethyl group, a methoxymethoxymethyl group, a formyl group, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, a piperidinomethyl A dimethylamino group, and X is a halogen atom, a hydroxyl group, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group or a benzenesulfonyloxy group), and the amine derivative represented by the general formula (III) Is that R 2

【化41】 (式中、nは、0,1又は2である。)であり、R3
水素原子である一般式(III)のアミド誘導体を用いるこ
とにより、下記一般式(I−3)
Embedded image (Wherein n is 0, 1 or 2), and by using an amide derivative of the general formula (III) wherein R 3 is a hydrogen atom, the following general formula (I-3)

【化42】 で表されるアミノブテン誘導体を製造することができ
る。
Embedded image Can be produced.

【0023】上記の一般式(I−3)で表されるアミノ
ブテン誘導体は、ピリジルオキシ誘導体とも呼ばれる。
The aminobutene derivative represented by the above formula (I-3) is also called a pyridyloxy derivative.

【0024】一般式(I−3a)で表されるアミノブテ
ンを製造する本発明の第五の目的は、前記一般式(I−
3)で表されるアミノブテン誘導体を酸化することによ
り達成することができる。
A fifth object of the present invention for producing the aminobutene represented by the general formula (I-3a) is to prepare the aminobutene represented by the general formula (I-3a)
It can be achieved by oxidizing the aminobutene derivative represented by 3).

【化43】 (式中、R11は、前記一般式(I−3)において定義し
た基と同一であり、mはn+1である、但し、nは0、
1又は2である。)
Embedded image (Wherein, R 11 is the same as defined in the general formula (I-3), m is n + 1, provided that n is 0,
1 or 2. )

【0025】本発明によれば、前述の通り、下記の反応
式(A)に従い、一般式(I−2)で表されるブテン誘
導体と一般式(III)で表されるアミド誘導体とを反応さ
せ、一般式(I)で表されるアミン誘導体を製造する方
法が提供される。
According to the present invention, as described above, the butene derivative represented by the general formula (I-2) is reacted with the amide derivative represented by the general formula (III) according to the following reaction formula (A). Thus, a method for producing an amine derivative represented by the general formula (I) is provided.

【化44】 (式中、R1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、Xは水酸基、ハロゲン原子、スルホニ
ルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニル
オキシ基であるか、R1 と一体となり、環状の亜硫酸エ
ステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基で
あり、Yはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又
は水素原子であり、R2 は水素原子、アルコキシル基、
置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換
の芳香族炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環基で
あり、R3 は水素原子、置換若しくは無置換のアシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホニル基又は置換ア
ルキル基である。)
Embedded image (Wherein, R 1 is a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and X is a hydroxyl group, a halogen atom, a sulfonyloxy group, an acyloxy group. Or an alkoxycarbonyloxy group or a group which forms a cyclic sulfite, sulfate or carbonate together with R 1 , Y is an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or a hydrogen atom; 2 is a hydrogen atom, an alkoxyl group,
A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and R 3 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted acyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfonyl group; Or a substituted alkyl group. )

【0026】前記一般式(II)のブテン誘導体におい
て、R1 で表される水酸基の保護基の例としては、テト
ラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、ベンジルオキ
シメチル基、エトキシエチル基、2−メトキシエチル
基、t−ブチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル
基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメ
チルシリル基、ホルミル基、アセチル基、n−プロピオ
ニル基、iso−プロピオニル基、n−ブチリル基、i
so−ブチリル基、バレリル基、iso−バレリル基、
ピバロイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、iso−ブトキ
シカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボ
ニル基、フェニルオキシカルボニル基等を挙げることが
できる。
In the butene derivative of the general formula (II), examples of the hydroxyl-protecting group represented by R 1 include tetrahydropyranyl, methoxymethyl, benzyloxymethyl, ethoxyethyl, 2-methoxy Ethyl group, t-butyl group, benzyl group, 4-methoxybenzyl group, diphenylmethyl group, triphenylmethyl group, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, formyl group, acetyl group, n-propionyl group , Iso-propionyl group, n-butyryl group, i
so-butyryl group, valeryl group, iso-valeryl group,
Pivaloyl, benzoyl, naphthoyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, iso-butoxycarbonyl, allyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, 9-fluorenylmethoxycarbonyl, phenyloxycarbonyl, etc. Can be.

【0027】一般式(II)で表されるブテン誘導体にお
いて、R1 で表される芳香族炭化水素基の例としては、
フェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、3−(テト
ラヒドロピラニル−2−オキシメチル)フェニル基、3
−(メトキシメトキシメチル)フェニル基、3−ホルミ
ルフェニル基、3−(ジエトキシメチル)フェニル基、
3−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フェニル基、
3−(ピペリジノメチル)フェニル基、3−(ジメチル
アミノメチル)フェニル基、4−(テトラヒドロピラニ
ル−2−オキシメチル)フェニル基、4−(メトキシメ
トキシメチル)フェニル基、4−ホルミルフェニル基、
4−(ジエトキシメチル)フェニル基、4−(1,3−
ジオキソラン−2−イル)フェニル基、4−(ピペリジ
ノメチル)フェニル基、4−(ジメチルアミノメチル)
フェニル基、2−(テトラヒドロピラニル−2−オキシ
メチル)フェニル基、2−(メトキシメトキシメチル)
フェニル基、2−ホルミルフェニル基、2−(ジエトキ
シメチル)フェニル基、2−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)フェニル基、2−(ピペリジノメチル)フェ
ニル基、2−(ジメチルアミノメチル)フェニル基等を
挙げることができる。
In the butene derivative represented by the general formula (II), examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 1 include:
Phenyl group, naphthyl group, anthranyl group, 3- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) phenyl group, 3
-(Methoxymethoxymethyl) phenyl group, 3-formylphenyl group, 3- (diethoxymethyl) phenyl group,
A 3- (1,3-dioxolan-2-yl) phenyl group,
3- (piperidinomethyl) phenyl group, 3- (dimethylaminomethyl) phenyl group, 4- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) phenyl group, 4- (methoxymethoxymethyl) phenyl group, 4-formylphenyl group,
4- (diethoxymethyl) phenyl group, 4- (1,3-
Dioxolan-2-yl) phenyl group, 4- (piperidinomethyl) phenyl group, 4- (dimethylaminomethyl)
Phenyl group, 2- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) phenyl group, 2- (methoxymethoxymethyl)
Phenyl group, 2-formylphenyl group, 2- (diethoxymethyl) phenyl group, 2- (1,3-dioxolane-
Examples thereof include a 2-yl) phenyl group, a 2- (piperidinomethyl) phenyl group, and a 2- (dimethylaminomethyl) phenyl group.

【0028】一般式(II)で表されるアミノブテン誘導
体において、R1 で表される複素環基の例としては、ピ
リジル基、キノリル基、iso−キノリル基、チエニル
基、フリル基、3−(テトラヒドロピラニル−2−オキ
シメチル)−2−ピリジル基、3−(メトキシメトキシ
メチル)−2−ピリジル基、3−ホルミル−2−ピリジ
ル基、3−(ジエトキシメチル)−2−ピリジル基、3
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−ピリジル
基、3−(ピペリジノメチル)−2−ピリジル基、3−
(ジメチルアミノメチル)−2−ピリジル基、4−(テ
トラヒドロピラニル−2−オキシメチル)−2−ピリジ
ル基、4−(メトキシメトキシメチル)−2−ピリジル
基、4−ホルミル−2−ピリジル基、4−(ジエトキシ
メチル)−2−ピリジル基、4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−ピリジル基、4−(ピペリジノメ
チル)−2−ピリジル基、4−(ジメチルアミノメチ
ル)−2−ピリジル基、5−(テトラヒドロピラニル−
2−オキシメチル)−2−ピリジル基、5−(メトキシ
メトキシメチル)−2−ピリジル基、5−ホルミル−2
−ピリジル基、5−(ジエトキシメチル)−2−ピリジ
ル基、5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−
ピリジル基、5−(ピペリジノメチル)−2−ピリジル
基、5−(ジメチルアミノメチル)−2−ピリジル基等
を挙げることができる。
In the aminobutene derivative represented by the general formula (II), examples of the heterocyclic group represented by R 1 include pyridyl, quinolyl, iso-quinolyl, thienyl, furyl, and 3- ( A tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) -2-pyridyl group, a 3- (methoxymethoxymethyl) -2-pyridyl group, a 3-formyl-2-pyridyl group, a 3- (diethoxymethyl) -2-pyridyl group, 3
-(1,3-dioxolan-2-yl) -2-pyridyl group, 3- (piperidinomethyl) -2-pyridyl group, 3-
(Dimethylaminomethyl) -2-pyridyl group, 4- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) -2-pyridyl group, 4- (methoxymethoxymethyl) -2-pyridyl group, 4-formyl-2-pyridyl group , 4- (diethoxymethyl) -2-pyridyl, 4- (1,3-dioxolan-2-yl) -2-pyridyl, 4- (piperidinomethyl) -2-pyridyl, 4- (dimethylaminomethyl ) -2-pyridyl group, 5- (tetrahydropyranyl-
2-oxymethyl) -2-pyridyl group, 5- (methoxymethoxymethyl) -2-pyridyl group, 5-formyl-2
-Pyridyl group, 5- (diethoxymethyl) -2-pyridyl group, 5- (1,3-dioxolan-2-yl) -2-
Examples thereof include a pyridyl group, a 5- (piperidinomethyl) -2-pyridyl group, and a 5- (dimethylaminomethyl) -2-pyridyl group.

【0029】一般式(II)で表される前記ブテン誘導体
において、Xで表されるハロゲン原子の例としては、塩
素原子、臭素原子、沃素原子などを挙げることができ
る。更に、前記一般式(II)で表されるブテン誘導体に
おいて、Xで表されるスルホニルオキシ基の例として
は、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−
トルエンスルホニルオキシ基、イミダゾスルホニルオキ
シ基等を挙げることができる。前記一般式(II)で表さ
れるブテン誘導体において、Xで表されるアシルオキシ
基の例としては、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ
基、n−プロピオニルオキシ基、iso−プロピオニル
オキシ基、n−ブチリルオキシ基、iso−ブチリルオ
キシ基、バレリルオキシ基、iso−バレリルオキシ
基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフト
イルオキシ基等が挙げられる。
In the butene derivative represented by the general formula (II), examples of the halogen atom represented by X include a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Further, in the butene derivative represented by the general formula (II), examples of the sulfonyloxy group represented by X include a methanesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a benzenesulfonyloxy group, a p-
Examples thereof include a toluenesulfonyloxy group and an imidazosulfonyloxy group. In the butene derivative represented by the general formula (II), examples of the acyloxy group represented by X include a formyloxy group, an acetyloxy group, an n-propionyloxy group, an iso-propionyloxy group, and an n-butyryloxy group. , Iso-butyryloxy group, valeryloxy group, iso-valeryloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, naphthoyloxy group and the like.

【0030】前記一般式(II)で表されるブテン誘導体
において、Xで表されるアルコキシカルボニルオキシ基
の例としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシ
カルボニルオキシ基、iso−ブトキシカルボニルオキ
シ基、アリルオキシカルボニルオキシ基、ベンジルオキ
シカルボニルオキシ基、9−フルオレニルメトキシカル
ボニルオキシ基、フェニルオキシカルボニルオキシ基等
を挙げることができる。
In the butene derivative represented by the general formula (II), examples of the alkoxycarbonyloxy group represented by X include methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, iso-butoxycarbonyloxy, allyloxy Examples thereof include a carbonyloxy group, a benzyloxycarbonyloxy group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyloxy group, and a phenyloxycarbonyloxy group.

【0031】一般式(II)のブテン誘導体の具体例とし
ては、4,7−ジヒドロ−1,3,2−ジオキサチエピ
ン−2−オキシド、4,7−ジヒドロ−1,3,2−ジ
オキサチエピン−2、2−ジオキシド、4,7−ジヒド
ロ−1,3,2−ジオキセピン−2−オキシド等を挙げ
ることができる。
Specific examples of the butene derivative represented by the general formula (II) include 4,7-dihydro-1,3,2-dioxathiepin-2-oxide and 4,7-dihydro-1,3,2-dioxathiepin-2. , 2-dioxide, 4,7-dihydro-1,3,2-dioxepin-2-oxide and the like.

【0032】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、Yで表されるアルカリ金属原子の例としては、リチ
ウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム
原子、セシウム原子等が挙げられ、Yで表されるアルカ
リ土類金属原子の例としては、マグネシウム原子、カル
シウム原子等を挙げることができる。
In the amide derivative of the general formula (III), examples of the alkali metal atom represented by Y include a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom, a cesium atom and the like. Examples of the alkaline earth metal atom include a magnesium atom and a calcium atom.

【0033】更に、前記一般式(III)のアミド誘導体に
おいて、R2 で表されるアルコキシ基の例としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、iso−ブトキ
シ基、t−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等を挙げるこ
とができる。
Further, in the amide derivative of the general formula (III), examples of the alkoxy group represented by R 2 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an iso-butoxy group, a t-butoxy group and a benzyloxy group. And the like.

【0034】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、R2で表されるアルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフル
オロメチル基、ベンジル基、フルフリルチオメチル基、
フルフリルスルフィニルメチル基、フルフリルスルホニ
ルメチル基等を挙げることができる。
In the amide derivative of the general formula (III), examples of the alkyl group represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group and a trichloromethyl group. , Trifluoromethyl group, benzyl group, furfurylthiomethyl group,
Furfurylsulfinylmethyl group, furfurylsulfonylmethyl group and the like can be mentioned.

【0035】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、R2 で表される芳香族炭化水素基の例としては、フ
ェニル基、ナフチル基、アンスリル基等を挙げることが
できる。これらの芳香族炭素基は、アルキル基、アルコ
キシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基等の置換
基を有していてもよい。
In the amide derivative of the formula (III), examples of the aromatic hydrocarbon group represented by R 2 include a phenyl group, a naphthyl group and an anthryl group. These aromatic carbon groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxyl group, a halogen atom, a nitro group, and an amino group.

【0036】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、R2で表される複素環基の例としては、ピリジル
基、キノリル基、iso−キノリル基、チエニル基、フ
リル基等を挙げることができきるられ、これらの複素環
基は、更にアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基等の置換基を有していてもよ
い。
In the amide derivative of the formula (III), examples of the heterocyclic group represented by R 2 include a pyridyl group, a quinolyl group, an iso-quinolyl group, a thienyl group, a furyl group and the like. These heterocyclic groups may further have a substituent such as an alkyl group, an alkoxyl group, a halogen atom, a nitro group, and an amino group.

【0037】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、R3 で表されるアシル基の例としては、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリ
ル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリク
ロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、フェニルア
セチル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、フロイル基、
テノイル基、ニコチイル基、iso−ニコチイル基等を
挙げることができる。
In the amide derivative of the general formula (III), examples of the acyl group represented by R 3 include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, valeryl, chloroacetyl, dichloroacetyl, Trichloroacetyl group, trifluoroacetyl group, phenylacetyl group, benzoyl group, naphthoyl group, furoyl group,
Examples thereof include a tenoyl group, a nicotiyl group, and an iso-nicotiyl group.

【0038】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、R3で表されるアルコキシカルボニル基の例として
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、i
so−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル
基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基、フェ
ニルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
In the amide derivative represented by the general formula (III), examples of the alkoxycarbonyl group represented by R 3 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and an i.
Examples thereof include a so-butoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group, and a phenyloxycarbonyl group.

【0039】前記一般式(III)のアミド誘導体におい
て、R3 で表されるスルホニル基の例としては、メタン
スルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、イミダ
ゾスルホニル基等を挙げることができる。前記一般式
(III)のアミド誘導体において、R3 で表される置換ア
ルキル基の例としては、ベンジル基、4−メトキシベン
ジル基、2,4−ジメトキシベンジル基等を挙げること
ができる。
In the amide derivative of the general formula (III), examples of the sulfonyl group represented by R 3 include methanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, imidazosulfonyl and the like. Can be mentioned. In the amide derivative of the general formula (III), examples of the substituted alkyl group represented by R 3 include a benzyl group, a 4-methoxybenzyl group, and a 2,4-dimethoxybenzyl group.

【0040】次の反応式(A)に従い、一般式(II)の
ブテン誘導体と、一般式(III)のアミド誘導体とを反応
させ、一般式(I)のアミノブテン誘導体を製造するに
際し、一般式(II)のブテン誘導体は、入手が容易な2
−ブテン−1,4−ジオ−ルから容易に製造することが
できる。
According to the following reaction formula (A), a butene derivative of the general formula (II) is reacted with an amide derivative of the general formula (III) to produce an aminobutene derivative of the general formula (I). The butene derivative (II) is easily available 2
-Can be easily prepared from butene-1,4-diol.

【化45】 Embedded image

【0041】一般式(II)ブテン誘導体において、X
は、前記のいずれかの基を表し、これは一般式(III)の
アミド誘導体と縮合反応をするものである。
In the butene derivative of the general formula (II), X
Represents one of the groups described above, which undergoes a condensation reaction with the amide derivative of the general formula (III).

【0042】一般式(II)のブテン誘導体と一般式(II
I)のアミド誘導体との反応は、両者を混合すればよく、
これにより一般式(I)のアミノブテン誘導体を得るこ
とができる。かかる反応を円滑に進めるため、塩基の存
在下反応させることが好ましい。使用することができる
塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、p−ブトキシカリウム、
ナトリウムメトキシド等のアルコキシド、水素化ナトリ
ウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金属類、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属原子類、トリエチル
アミン、ピリジン等の有機アミン類等を挙げることがで
きる。塩基の使用量は、通常前記一般式(II)で表され
るブテン誘導体に対し、0.1〜2.0当量である。
The butene derivative of the general formula (II) and the general formula (II)
The reaction with the amide derivative of I) may be performed by mixing both.
Thereby, an aminobutene derivative of the general formula (I) can be obtained. In order to promote such a reaction smoothly, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a base. Examples of a base that can be used include, for example, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, potassium p-butoxide,
Examples thereof include alkoxides such as sodium methoxide, alkali metal hydrides such as sodium hydride and lithium hydride, alkali metal atoms such as sodium and potassium, and organic amines such as triethylamine and pyridine. The amount of the base to be used is generally 0.1 to 2.0 equivalents to the butene derivative represented by the general formula (II).

【0043】上記の反応を行うにあたっては、不活性溶
媒中で行うことが望ましく、例えば、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素基、THF、ジオキサン、DME
等のエ−テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、メ
チルエチルケトン、アセトン、アセトニトリル、DM
F、ジメチルアセトアミド、DMSO等を用いることが
できる。
The above reaction is preferably carried out in an inert solvent, for example, aromatic hydrocarbon groups such as benzene and toluene, THF, dioxane, and DME.
Etc., halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane, etc., ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone, acetonitrile, DM
F, dimethylacetamide, DMSO, or the like can be used.

【0044】上記反応は、−100℃〜200℃で進行
するが、効率よく反応を行うには、0℃〜100℃で行
うことが好ましい。
The above-mentioned reaction proceeds at -100 ° C to 200 ° C, but is preferably performed at 0 ° C to 100 ° C for efficient reaction.

【0045】更に、反応を更に効率よく行うためには、
硫酸テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、クラ
ウンエ−テル類、ヘキサデシルトリブチルアンモニウム
ブロミド等の触媒を用いることができる。その使用量
は、前記一般式(II)で表されるブテン誘導体に対し、
0.001〜1当量である。
Further, in order to carry out the reaction more efficiently,
Catalysts such as tetrabutylammonium sulfate, tetrabutylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, crown ethers, and hexadecyltributylammonium bromide can be used. The amount used is based on the butene derivative represented by the general formula (II).
0.001 to 1 equivalent.

【0046】下記一般式(I−1)のアミノブテン誘導
体は、前記と同様に製造することができる。
The aminobutene derivative represented by the following general formula (I-1) can be produced in the same manner as described above.

【化46】 (式中、R1 又はR2 はそれぞれ一般式(I)で定義し
た基と同一である。)
Embedded image (In the formula, R 1 or R 2 is the same as the group defined in the general formula (I).)

【0047】具体的には、以下に示す反応式に従い、一
般式(II)のブテン誘導体と一般式(III−1)のアミド
誘導体とを反応させることにより、一般式(I−1)の
アミノブテン誘導体を製造することができる。
Specifically, by reacting a butene derivative of the general formula (II) with an amide derivative of the general formula (III-1) according to the following reaction formula, the aminobutene of the general formula (I-1) Derivatives can be produced.

【化47】 (式中、R2 は一般式(III)で定義した基と同一であ
る。)
Embedded image (In the formula, R 2 is the same as the group defined in the general formula (III).)

【0048】更に、本発明によれば、一般式(II−1)
のピリジルブテニル誘導体と一般式(III−2)のアセト
アミド誘導体とを反応させることにより、以下のように
ピリジルオキシ誘導体と呼ばれる一般式(I−2)のア
ミノブテン誘導体を製造することができる。
Further, according to the present invention, the compound represented by the general formula (II-1):
By reacting the pyridylbutenyl derivative of formula (III) with the acetamide derivative of formula (III-2), an aminobutene derivative of formula (I-2) called a pyridyloxy derivative can be produced as follows.

【化48】 (式中、R11は、ヒドロキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル−2−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基、ピペリジノ
メチル基又はジメチルアミノメチル基であり、Xは水酸
基、塩素原子、臭素原子又は沃素原子等のハロゲン原
子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−
トルエンスルホニルオキシ基又はイミダゾスルホニルオ
キシ基等の置換スルホニルオキシ基であり、nは0,1
又は2である。)
Embedded image (Wherein, R 11 is a hydroxymethyl group, a tetrahydropyranyl-2-oxymethyl group, a methoxymethoxymethyl group, a formyl group, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, X is a hydroxyl group, a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, a methanesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a benzenesulfonyloxy group, a p-
A substituted sulfonyloxy group such as a toluenesulfonyloxy group or an imidazosulfonyloxy group;
Or 2. )

【0049】前記一般式(II−1)で表されるピリジル
オキシブテニル誘導体は、例えば、4位に置換基を有す
る2−クロロピリジン誘導体と2−ブテノ−ル誘導体と
を反応させることにより、容易に製造することができ
る。
The pyridyloxybutenyl derivative represented by the general formula (II-1) can be obtained, for example, by reacting a 2-chloropyridine derivative having a substituent at the 4-position with a 2-butenol derivative. It can be easily manufactured.

【0050】前記一般式(II−2)で表されるアセトア
ミド誘導体は、フルフリルメルカプタンと2−クロロア
セトアミドとを反応させるか、2−フルフリルスルフニ
ル酢酸=p−ニトロフェノ−ルエステルとアンモニアと
を反応させることにより製造することができる。
The acetamide derivative represented by the general formula (II-2) can be obtained by reacting furfurylmercaptan with 2-chloroacetamide or by reacting 2-furfurylsulfnylacetic acid = p-nitrophenol ester with ammonia. It can be produced by reacting.

【0051】前記一般式(II−1)で表されるピリジル
オキシブテニル誘導体と前記一般式(III−2)で表され
るアセトアミド誘導体との反応は、両者を混合すればよ
いが、反応を円滑に行うためには、塩基の存在下反応さ
せることが好ましい。この反応に使用するすることがで
きる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルコキシド、水素化ナトリウム、水素化
リチウム等の水素化アルカリ金属類、ナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属原子類、トリエチルアミン、ピリ
ジン等の有機アミン類等を挙げることができる。塩基の
使用量は、通常前記一般式(II−1)で表されるピリジ
ルオキシブテニル誘導体に対し、0.1〜2.0当量で
ある。
The reaction between the pyridyloxybutenyl derivative represented by the general formula (II-1) and the acetamide derivative represented by the general formula (III-2) may be performed by mixing both. In order to carry out the reaction smoothly, the reaction is preferably performed in the presence of a base. Examples of the base that can be used in this reaction include alkoxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal hydrides such as sodium hydride and lithium hydride, and alkali metal atoms such as sodium and potassium. And organic amines such as triethylamine and pyridine. The amount of the base to be used is generally 0.1 to 2.0 equivalents to the pyridyloxybutenyl derivative represented by the general formula (II-1).

【0052】上記の反応は、不活性溶媒中で行うことが
望ましく、不活性溶媒として、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、THF、ジオキ
サン、DME等のエ−テル類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢
酸エチル、メチルエチルケトン、アセトニトリル、DM
F、ジメチルアセトアミド、DMSO等を用いることが
できる。
The above reaction is desirably carried out in an inert solvent. Examples of the inert solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as THF, dioxane and DME; Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetonitrile, DM
F, dimethylacetamide, DMSO, or the like can be used.

【0053】上記反応は−100℃〜200℃で進行す
るが、効率よく反応を行うには、0℃〜100℃で行う
ことが好ましい。
The above reaction proceeds at -100 ° C. to 200 ° C., but is preferably carried out at 0 ° C. to 100 ° C. for efficient reaction.

【0054】上記の反応を更に効率よく行うためには、
例えば硫酸テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチ
ルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウ
ム、クラウンエ−テル、ヘキサデシルトリブチルホスホ
ニウムブロミド等の触媒を用いることができる。その使
用量は、前記一般式(II−1)で表されるピリジルオキ
シブテニル誘導体に対し、0.001〜1当量である。
In order to carry out the above reaction more efficiently,
For example, catalysts such as tetrabutylammonium sulfate, tetrabutylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, crown ether, and hexadecyltributylphosphonium bromide can be used. The amount of use is 0.001 to 1 equivalent to the pyridyloxybutenyl derivative represented by the general formula (II-1).

【0055】更に本発明によれば、次の反応式に従い、
前記一般式(II−1)のピリジルオキシブテニル誘導体
と、一般式(III−3)のイミド誘導体とを反応させるこ
とにより、一般式(I−3)のアミノブテン誘導体を製
造することができる。
Further according to the present invention, according to the following reaction formula:
An aminobutene derivative of the general formula (I-3) can be produced by reacting the pyridyloxybutenyl derivative of the general formula (II-1) with an imide derivative of the general formula (III-3).

【化49】 (式中、R11及びXはそれぞれ前記に定義した基と同一
であり、R12は水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブテニル基、ペンチル基又はヘキシル基等の炭素
数1〜6のアルキル基、フェニル基又はナフチル基等の
芳香族炭化水素基、但し該基は置換基を有してもよい、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6
のアルコキシル基、フェノキシ基又はナフチルオキシ等
のアリ−ルオキシ基であり、nは0、1又は2であ
る。)
Embedded image (Wherein, R 11 and X are the same as defined above, and R 12 is a group having 1 to 6 carbon atoms such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butenyl group, a pentyl group or a hexyl group. An alkyl group, an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group or a naphthyl group, provided that the group may have a substituent,
Methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy,
1-6 carbon atoms such as pentyloxy group and hexyloxy group
And an aryloxy group such as an alkoxyl group, a phenoxy group or a naphthyloxy, wherein n is 0, 1 or 2. )

【0056】前記一般式(III−3)のイミド誘導体は、
フルフリルメルカプタンと2−クロロアセトアミドとを
反応させた後、アシル化するか、2−フルフリルスルフ
ニル酢酸=p−ニトロフェニルとアンモニアとを反応さ
せ、これにより生成した中間体をアシル化することによ
り製造することができる。
The imide derivative of the general formula (III-3) is
After the reaction of furfuryl mercaptan with 2-chloroacetamide, acylation or the reaction of 2-furfurylsulfnylacetic acid = p-nitrophenyl with ammonia to thereby acylate the intermediate thus formed. Can be manufactured.

【0057】前記一般式(II−1)のピリジルオキシブ
テニル誘導体と、前記一般式(III−3)のイミド誘導体
との反応は、両者を混合することにより、一般式(I−
3)のアミノブテン誘導体を得ることができるが、反応
を円滑に行うためには、塩基の存在下反応させることが
好ましい。
The reaction between the pyridyloxybutenyl derivative of the general formula (II-1) and the imide derivative of the general formula (III-3) can be carried out by mixing the two.
Although the aminobutene derivative of 3) can be obtained, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a base in order to smoothly carry out the reaction.

【0058】上記の反応に使用することができる塩基と
しては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
の水酸化アルカリ類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等
の炭酸アルカリ類、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルコキシド
類、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属類、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属
類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類等を
挙げることができる。塩基の使用量は、通常前記一般式
(II−1)で表されるピリジルオキシブテニル誘導体に
対し、0.1〜2.0当量である。
Examples of the base that can be used in the above reaction include alkali hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, sodium methoxide and sodium ethoxide. Alkoxides such as potassium t-butoxide; alkali metal hydrides such as sodium hydride and lithium hydride; alkali metals such as sodium and potassium; organic amines such as triethylamine and pyridine. The amount of the base to be used is generally 0.1 to 2.0 equivalents to the pyridyloxybutenyl derivative represented by the general formula (II-1).

【0059】反応を行うにあたっては不活性溶媒中で行
うことが望ましく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、THF、ジオキサン、DM
E等のエ−テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、
メチルエチルケトン、アセトン、アセトニトリル、DM
F、ジメチルアセトアミド、DMSO等を用いることが
できる。
The reaction is preferably carried out in an inert solvent, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, THF, dioxane, DM
Ethers such as E, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane, ethyl acetate;
Methyl ethyl ketone, acetone, acetonitrile, DM
F, dimethylacetamide, DMSO, or the like can be used.

【0060】上記反応は−100℃〜200℃で進行す
るが、効率よく反応を行うには、0℃〜100℃で行う
ことが好ましい。
The above reaction proceeds at -100 ° C. to 200 ° C., but is preferably performed at 0 ° C. to 100 ° C. for efficient reaction.

【0061】上記反応を更に効率よく行うためには、例
えば硫酸テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチル
アンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、
クラウンエ−テル、ヘキサデシルトリブチルホスホニウ
ムブロミド等の触媒を用いることができる。その使用量
は、前記一般式(II−1)で表されるピリジルブテニル
誘導体に対し、0.001〜1当量である。
In order to carry out the above reaction more efficiently, for example, tetrabutylammonium sulfate, tetrabutylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride,
A catalyst such as crown ether and hexadecyltributylphosphonium bromide can be used. The amount of use is 0.001 to 1 equivalent based on the pyridylbutenyl derivative represented by the general formula (II-1).

【0062】本発明によれば、前記一般式(I−1)で
表されるアミノブテン誘導体は、次の反応式(B)に従
い、一般式(Ia)で表されるアミノブテン誘導体に対
し、脱保護を行うことにより製造することができる。
According to the present invention, the aminobutene derivative represented by the general formula (I-1) is deprotected from the aminobutene derivative represented by the general formula (Ia) according to the following reaction formula (B). Can be produced.

【化50】 Embedded image

【0063】更に本発明によれば、下記の反応式(C)
に従い、前記一般式(I)で表されるアミノブテン誘導
体に対し、脱保護を行うか、あるいは下記反応式(D)
に従い、前記一般式(I−1)で表されるアミノブテン
誘導体に対し、脱保護を行うことにより、一般式(I−
2)のアミノブテン誘導体を製造することができる。
Further, according to the present invention, the following reaction formula (C)
Deprotection of the aminobutene derivative represented by the general formula (I) or the following reaction formula (D)
The aminobutene derivative represented by the general formula (I-1) is deprotected according to
The aminobutene derivative of 2) can be produced.

【化51】 Embedded image

【0064】上記反応式(B)、(C)及び(D)にお
いて、R1 、R2 又はR3 はそれぞれ前記一般式(I)
のアミノブテン誘導体において定義したものと同一であ
り、R3aは置換若しくは無置換のアシル基、アルコキシ
カルボニル基、スルホニル基又は置換アルキル基を示
す。
In the above reaction formulas (B), (C) and (D), R 1 , R 2 or R 3 are each represented by the general formula (I)
And R 3a represents a substituted or unsubstituted acyl group, alkoxycarbonyl group, sulfonyl group or substituted alkyl group.

【0065】一般式(Ia)のアミノブテン誘導体にお
いて、R3aで表されるアシル基としては、例えば、ホル
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バ
レリル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、ト
リクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、フェニ
ルアセチル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、フロイル
基、テノイル基、ニコチノイル基、iso−ニコチノイ
ル基である。
In the aminobutene derivative of the formula (Ia), examples of the acyl group represented by R 3a include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a valeryl group, a chloroacetyl group, a dichloroacetyl group and a trichloroacetyl group. Acetyl group, trifluoroacetyl group, phenylacetyl group, benzoyl group, naphthoyl group, furoyl group, tenoyl group, nicotinoyl group, and iso-nicotinoyl group.

【0066】前記一般式(Ia)のアミノブテン誘導体
において、R3aで表されるアルコキシカルボニル基とし
ては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
iso−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニル
メトキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニル基が
ある。
In the aminobutene derivative of the formula (Ia), the alkoxycarbonyl group represented by R 3a includes a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group,
There are an iso-butoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group, and a phenyloxycarbonyl group.

【0067】前記一般式(Ia)のアミノブテン誘導体
において、R3aで表されるスルホニル基としては、例え
ば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニ
ル基、ベンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル
基、イミダゾスルホニル基がある。
In the aminobutene derivative of the general formula (Ia), examples of the sulfonyl group represented by R 3a include methanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, and imidazosulfonyl. is there.

【0068】前記一般式(Ia)のアミド誘導体におい
て、R3aで表される置換アルキル基としては、例えば、
ベンジル基、4−メトキシベンジル基、2,4−ジメト
キシベンジル基がある。
In the amide derivative of the general formula (Ia), the substituted alkyl group represented by R 3a includes, for example,
There are a benzyl group, a 4-methoxybenzyl group and a 2,4-dimethoxybenzyl group.

【0069】前記反応式(B)、(C)及び(D)にお
いて、R2 CO−、R3a又はR3 のうち、少なくとも一
つがアシル基のときは、下記(1−1)、(1−2)、
(1−3)及び(1−4)のいずれかの方法により脱保
護を行うことができる。
In the above reaction formulas (B), (C) and (D), when at least one of R 2 CO—, R 3a or R 3 is an acyl group, the following (1-1), (1) -2),
Deprotection can be performed by any of the methods (1-3) and (1-4).

【0070】(1−1) 酸またはアルカリの存在下
で、反応温度−10℃〜150℃、好ましくは0℃〜1
20℃で加溶媒分解する方法。
(1-1) In the presence of an acid or an alkali, the reaction temperature is -10 ° C to 150 ° C, preferably 0 ° C to 1 ° C.
Solvolysis at 20 ° C.

【0071】この加溶媒分解に用いることができる酸と
しては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、シュウ
酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、
トリクロロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、カンファ−
スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸等の有機酸が挙げられる。
Examples of the acid that can be used for the solvolysis include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, and the like.
Trichloroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, camphor
Organic acids such as sulfonic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid are included.

【0072】上記加溶媒分解において使用される塩基と
しては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキ
シド、アンモニア水等が挙げられる。
Examples of the base used in the solvolysis include lithium hydroxide, sodium hydroxide,
Examples include potassium hydroxide, calcium oxide, barium oxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride, potassium t-butoxide, and ammonia water.

【0073】上記加溶媒分解において使用できる溶媒と
しては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジエ
トキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−
ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタ
ノ−ル等のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水等が
挙げられる。これらの溶媒は単一でも混合しても用いる
ことができる。
Solvents that can be used in the above solvolysis include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and diethoxyethane. -Tels, methanol, ethanol
Alcohol, iso-propanol, n-butanol, t-butanol and the like, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide,
Examples include dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, water and the like. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0074】(1−2) 水、メタノ−ル、エタノ−
ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル又はt−ブ
タノ−ル等のアルコ−ル中において、前記一般式(I
a)、(I)及び(I−1)のいずれかのアミノブテン
誘導体とヒドラジンとを反応温度、−10℃〜150
℃、好ましくは0℃〜120℃で反応させる方法。
(1-2) Water, methanol, ethanol
In an alcohol such as isopropanol, iso-propanol, n-butanol or t-butanol, the compound represented by the general formula (I)
a) reacting the aminobutene derivative of any of (I) and (I-1) with hydrazine at a reaction temperature of -10 ° C to 150 ° C;
C., preferably at 0 to 120.degree.

【0075】(1−3) 下記のいずれかの溶媒中にお
いて、前記一般式(Ia)、(I)及び(I−1)のい
ずれかのアミノブテン誘導体と、水素化硼素リチウム、
水素化硼素ナトリウム又は水素化アルミニウムリチウム
等の金属水素化合物とを反応させる方法。反応温度は、
−10℃〜150℃で、好ましくは0℃〜120℃であ
る。
(1-3) An aminobutene derivative of any of the above formulas (Ia), (I) and (I-1) and lithium borohydride in one of the following solvents:
A method of reacting with a metal hydride such as sodium borohydride or lithium aluminum hydride. The reaction temperature is
The temperature is from -10 ° C to 150 ° C, preferably from 0 ° C to 120 ° C.

【0076】上記の反応に使用できる溶媒としては、例
えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、テト
ラヒドロフラン、1、4−ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、iso−
プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−ル等のア
ルコ−ル、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、シメチルスルホキシド、水等が挙
げられる。これらの溶媒は単一もしくは混合しても用い
ることができる。
Solvents usable in the above reaction include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and dimethoxyethane. , Methanol, ethanol, iso-
Examples thereof include alcohols such as propanol, n-butanol, and t-butanol, acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and water. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0077】(I−4) 前記反応式(B)、(C)及
び(D)において、R2 CO−、R3a又はR3 のうち、
少なくとも一つがホルミル基のとき、脱保護は下記のい
ずれかの非プロトン性溶媒中において、第一級アミン又
は、第二級アミンのいずれかと前記一般式(Ia)、
(I)又は(I−1)のアミノブテン誘導体のいずれか
とを反応させる方法。反応温度は、−10℃〜150℃
で、好ましくは0℃〜120℃である。
(I-4) In the above reaction formulas (B), (C) and (D), among R 2 CO—, R 3a or R 3 ,
When at least one is a formyl group, the deprotection is carried out in any of the following aprotic solvents with a primary amine or a secondary amine and the above-mentioned general formula (Ia),
A method of reacting with either the aminobutene derivative (I) or (I-1). Reaction temperature is -10 ° C to 150 ° C
And preferably 0 ° C to 120 ° C.

【0078】上記反応で用いることができる第一級アミ
ンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プ
ロピルアミン、iso−プロピルアミン、ブチルアミ
ン、iso−ブチルアミン、s−ブチルアミン、t−ブ
チルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミンが
挙げられる。また第二級アミンとしては、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ピロジリン、ピペリジン、モルホリ
ン、ピペラジン等が挙げられる。
The primary amine which can be used in the above reaction includes, for example, methylamine, ethylamine, propylamine, iso-propylamine, butylamine, iso-butylamine, s-butylamine, t-butylamine, cyclohexylamine, benzyl Amines. Examples of the secondary amine include dimethylamine, diethylamine, diisopropylamine, dicyclohexylamine, pyrrolidine, piperidine, morpholine, and piperazine.

【0079】非プロトン性溶媒としては、例えば、ジク
ロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエ−
テル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これら
の溶媒は単一でも混合しても用いることができる。
Examples of the aprotic solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and dimethoxyethane.
Examples thereof include ketones such as ters, acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and the like. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0080】前記反応式(B)、(C)及び(D)にお
いて、R2 CO−、R3a又はR3 のうち、少なくとも一
つがホルミル基のときには、別法として下記のいずれか
の溶媒中において、前記一般式(Ia)、(I)又は
(I−1)のいずれかのアミノブテン誘導体と過酸化水
素等の酸化剤とを反応温度−10℃〜150℃、好まし
くは、0℃〜120℃で反応させることにより、脱保護
を行うことができる。
In the above reaction formulas (B), (C) and (D), when at least one of R 2 CO—, R 3a or R 3 is a formyl group, as an alternative method, it may be in any of the following solvents: Wherein the aminobutene derivative of any of the above general formulas (Ia), (I) or (I-1) is reacted with an oxidizing agent such as hydrogen peroxide at a reaction temperature of -10 ° C to 150 ° C, preferably 0 ° C to 120 ° C. Deprotection can be carried out by reacting at ° C.

【0081】上記反応に使用することができる溶媒とし
ては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキサン、ジエト
キシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、
iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−
ル等のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、水等が挙げられる。これらの溶媒は
単一もしくは混合して用いることができる。
Solvents that can be used in the above reaction include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, diethoxyethane and the like. Ethers, methanol, ethanol,
iso-propanol, n-butanol, t-butanol
And ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, water and the like. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0082】前記反応式(B)、(C)及び(D)にお
いて、R2 CO−、R3a又はR3 のうち、少なくとも一
つがスルホニル基のときには、下記(2−1)、(2−
2)及び(2−3)のいずれかの方法により、脱保護を
行うことができる。
In the above reaction formulas (B), (C) and (D), when at least one of R 2 CO—, R 3a or R 3 is a sulfonyl group, the following (2-1), (2-)
Deprotection can be performed by any of the methods 2) and (2-3).

【0083】(2−1) 反応温度−10℃〜150
℃、好ましくは0℃〜120℃において、酸の存在下で
加溶媒分解する方法。
(2-1) Reaction temperature -10 ° C. to 150
Solvolysis in the presence of an acid at 0 ° C, preferably 0 ° C to 120 ° C.

【0084】上記の加溶媒分解において使用することが
できる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸、臭化水
素酸、過塩素酸等の無機酸、シュウ酸、フマル酸、マレ
イン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、p
−トルエンスルホン酸、カンファ−スルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸
を挙げることができる。
Examples of the acids that can be used in the above-mentioned solvolysis include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrobromic acid and perchloric acid, oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, acetic acid, and the like. Trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, p
-Organic acids such as toluenesulfonic acid, camphor-sulfonic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid.

【0085】上記加溶媒分解において使用することがで
きる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、
エタノ−ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、
t−ブタノ−ル等のアルコ−ル、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水、酢酸等の溶媒を挙げることができる。これらの
溶媒は、単一もしくは混合して使用することができる。
Solvents that can be used in the solvolysis include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethoxyethane and the like. Ethers, methanol,
Ethanol, iso-propanol, n-butanol,
Examples thereof include alcohols such as t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, water and acetic acid. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0086】(2ー2) 溶媒中において、前記一般式
(I−a)、(I)又は(I−1)のアミノブテン誘導
体のいずれかとリチウム、ナトリウム等のアルカリ金属
原子とを反応温度−78℃〜100℃、好ましくは−7
8℃〜0℃で反応させる方法。
(2-2) In a solvent, any one of the aminobutene derivatives of the general formula (Ia), (I) or (I-1) is reacted with an alkali metal atom such as lithium or sodium at a reaction temperature of -78. ° C to 100 ° C, preferably -7
A method of reacting at 8 ° C to 0 ° C.

【0087】上記の反応に使用することができる溶媒と
しては、例えば、液体アンモニア、メタノール、エタノ
ール、iso−プロパノール、n−ブタノール、t−ブ
タノール等のアルコール、メチルアミン、エチルアミ
ン、エチレンジアミン等の低級アミンが挙げられる。
Examples of the solvent that can be used in the above reaction include liquid ammonia, alcohols such as methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol and t-butanol, and lower amines such as methylamine, ethylamine and ethylenediamine. Is mentioned.

【0088】(2ー3) 溶媒中において、前記一般式
(Ia)、(I)又は(I−1)のアミノブテン誘導体
のいずれかとナトリウムアマルガムとを反応温度−10
℃〜150℃、好ましくは0℃〜120℃で反応させる
方法。
(2-3) In a solvent, any of the aminobutene derivatives of the above general formula (Ia), (I) or (I-1) is reacted with sodium amalgam at a reaction temperature of -10.
A method in which the reaction is carried out at a temperature of from 0 to 150C, preferably from 0 to 120C.

【0089】上記の脱保護反応に使用することができる
溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、1、4−
ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、メタノ
ール、エタノール、iso−プロパノール,n−ブタノ
ール、t−ブタノール等のアルコール、水、酢酸等が挙
げられる。これらの溶媒は、単独もしくは混合して使用
することができる。
As the solvent that can be used in the above deprotection reaction, for example, tetrahydrofuran, 1,4-
Examples thereof include ethers such as dioxane and dimethoxyethane, alcohols such as methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol and t-butanol, water, and acetic acid. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0090】前記反応式(B)、(C)及び(D)にお
いて、R2 CO−、R3a又はR3 の少なくとも一つが、
アルコキシカルボニル基のときには、下記(3−1)又
は(3−2)のいずれかの方法により脱保護を行うこと
ができる。
In the above reaction formulas (B), (C) and (D), at least one of R 2 CO—, R 3a or R 3 is
In the case of an alkoxycarbonyl group, deprotection can be performed by any of the following (3-1) or (3-2).

【0091】(3−1) アルカリの存在下、反応温度
−10℃〜150℃、好ましくは0℃〜120℃で加溶
媒分解する方法。
(3-1) A method of solvolysis in the presence of an alkali at a reaction temperature of -10 ° C to 150 ° C, preferably 0 ° C to 120 ° C.

【0092】上記加溶媒分解において使用することがで
きる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシド、ア
ンモニア水等が挙げられる。
Examples of the base that can be used in the solvolysis include sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium oxide, barium oxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, and the like. Potassium t-butoxide, aqueous ammonia and the like can be mentioned.

【0093】上記加溶媒分解において使用することがで
きる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエーテル類、メタノール、
エタノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、
t−ブタノール等のアルコール、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等が挙げられる。これらの溶媒は、単一もしくは
混合して使用することができる。
Solvents that can be used in the solvolysis include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethoxyethane and the like. Ethers, methanol,
Ethanol, iso-propanol, n-butanol,
Examples include alcohols such as t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, water and the like. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0094】(3−2) 酸又は酸とスカベンジャーの
存在下、反応温度−10℃〜150℃、好ましくは、0
℃〜120℃で加溶媒分解する方法。
(3-2) A reaction temperature of -10 ° C. to 150 ° C., preferably 0 ° C. in the presence of an acid or an acid and a scavenger.
A method in which solvolysis is performed at a temperature of from 120C to 120C.

【0095】上記の加溶媒分解に使用することができる
酸としては、例えば塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、シュ
ウ酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、トリクロロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、カンフ
ァースルホン酸、メタンスルホン酸、及びトリフルオロ
メタンスルホン酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化
亜鉛、臭化マグネシウム、塩化第二鈴、四塩化チタン、
酸弗化硼素等の酸類を挙げることができる。
Examples of the acids that can be used in the above-mentioned solvolysis include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid and p-toluene. Organic acids such as sulfonic acid, camphorsulfonic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid, aluminum chloride, zinc chloride, magnesium bromide, stannic chloride, titanium tetrachloride,
Acids such as boron oxyfluoride can be mentioned.

【0096】上記加溶媒分解において使用することがで
きる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエーテル類、メタノール、
エタノール,iso−プロパノール、n−ブタノール、
t−ブタノール等のアルコール、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等を挙げることができる。これらの溶媒は、単一
もしくは混合して使用することができる。
Solvents that can be used in the solvolysis include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dimethoxyethane and the like. Ethers, methanol,
Ethanol, iso-propanol, n-butanol,
Examples thereof include alcohols such as t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and water. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0097】上記加溶媒分解において使用することがで
きるスカベンジャーとしては、例えば、フェノール、チ
オフェノール、アニソール、チオアニソール、クレゾー
ル、チオクレゾール、ジメチルスルフィド等を挙げるこ
とができる。
Examples of the scavenger that can be used in the above solvolysis include phenol, thiophenol, anisole, thioanisole, cresol, thiocresol, dimethyl sulfide, and the like.

【0098】前記反応式(B)、(C)及び(D)にお
いて、R2 CO−、R3a、又はR3の少なくとも一つ
が、置換アルキルのときには、下記(4−1)及び(4
−2)のいずれかの方法により脱保護を行うことができ
る。
In the above reaction formulas (B), (C) and (D), when at least one of R 2 CO—, R 3a or R 3 is a substituted alkyl, the following (4-1) and (4)
The deprotection can be performed by any of the methods of -2).

【0099】(4−1) 溶媒の存在下、又は無溶媒で
酸を反応温度、−10℃〜150℃、好ましくは0℃〜
120℃で反応させ加溶媒分解する方法。
(4-1) An acid is reacted in the presence or absence of a solvent at a reaction temperature of -10 ° C to 150 ° C, preferably 0 ° C to 150 ° C.
A method of reacting at 120 ° C. and subjecting to solvolysis.

【0100】上記の加溶媒分解で使用することができる
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、蓚
酸、フマル酸、マレイン酸、トリフルオロ酢酸、トリク
ロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、カンファ−スルホン
酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等の有機酸等を挙げることができる。
Examples of the acids that can be used in the above solvolysis include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, trifluoroacetic acid, tricroacetic acid, p-toluenesulfonic acid. And organic acids such as camphor-sulfonic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid.

【0101】上記加溶媒分解で使用することができる溶
媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲ
ン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメト
キシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、
iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−
ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水を挙げる
ことができる。これらの溶媒は、単一もしくは混合して
使用することができる。
Solvents that can be used in the above solvolysis include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and solvents such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and dimethoxyethane. -Tels, methanol, ethanol,
iso-propanol, n-butanol, t-butanol
And ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and water. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0102】(4−2) 下記のいずれかの溶媒中にお
いて、前記一般式(Ia)、(I)又は(I−1)のア
ミノブテン誘導体のいずれかと、2,3−ジクロロ−
5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)、
テトラクロロ−1,2−ベンゾキノン、テトラクロロ−
1,4−ベンゾキノン等の酸化剤を−10℃〜150
℃、好ましくは0℃〜120℃で反応させ脱保護する方
法。
(4-2) In any one of the following solvents, any one of the aminobutene derivatives of the general formula (Ia), (I) or (I-1) is combined with 2,3-dichloro-
5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (DDQ),
Tetrachloro-1,2-benzoquinone, tetrachloro-
An oxidizing agent such as 1,4-benzoquinone is used at -10C to 150C.
Deprotection by reacting at 0 ° C, preferably 0 ° C to 120 ° C.

【0103】上記酸化反応に使用することができる溶媒
としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメ
トキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−
ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタ
ノ−ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水を挙
げることができる。これらの溶媒は、単一もしくは混合
して使用することができる。
Examples of the solvent that can be used in the above oxidation reaction include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, and solvents such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and dimethoxyethane. -Tels, methanol, ethanol
Alcohol, such as iso-propanol, n-butanol, t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide,
Examples include dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and water. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0104】具体的には、一般式(I−2)のピジルオ
キシ誘導体は、前記の一般式(I−3)のアセトイミド
誘導体に対し、上記の脱保護を下記の反応式に従って行
うことにより製造することができる。
Specifically, the pyridyloxy derivative of the general formula (I-2) is produced by subjecting the acetimide derivative of the general formula (I-3) to the above deprotection according to the following reaction formula. be able to.

【化52】 (式中、R11及びR12は、それぞれ前記に定義した基と
同一であり、nは0又は1,2である。)
Embedded image (In the formula, R 11 and R 12 are the same as the groups defined above, and n is 0 or 1, 2.)

【0105】前記一般式(I−2)のピリジルオキシ誘
導体において、nは0又は1のとき、前記一般式(I−
2)のピリジル誘導体を酸化することにより、下記の一
般式(I−2a)のピリジルオキシ誘導体を製造するこ
とができる。
In the pyridyloxy derivative represented by the general formula (I-2), when n is 0 or 1, the compound represented by the general formula (I-
By oxidizing the pyridyl derivative of 2), a pyridyloxy derivative of the following general formula (I-2a) can be produced.

【化53】 (式中、R11は前記一般式(I−2)で定義した基と同
一であり、mはn+1、ただしnは0又は1である。)
Embedded image (In the formula, R 11 is the same as the group defined in the formula (I-2), m is n + 1, and n is 0 or 1.)

【0106】更に、本発明によれば前期反応式(A)に
おいて、前記一般式(Ia)、(I)又は(I−1)の
アミノ誘導体のいずれかのR1 が水酸基の保護基である
ときには、下記(A−1)、(A−2)及び(A−3)
のいずれかの方法により、前記一般式(Ia)、(I)
又は(I−1)のアミノブテン誘導体のいずれかを脱保
護をすることによりアモノブテノール誘導体を製造する
ことができる。
Further, according to the present invention, in the above reaction formula (A), R 1 of any of the amino derivatives of the general formula (Ia), (I) or (I-1) is a hydroxyl-protecting group. Sometimes, the following (A-1), (A-2) and (A-3)
By any one of the above formulas (Ia) and (I)
Alternatively, an ammonobutenol derivative can be produced by deprotecting any of the aminobutene derivatives of (I-1).

【0107】(A−1) 酸、酸とスカベンジャー又は
アルカリの存在下、−10℃〜150℃、好ましくは0
℃〜120℃で加溶媒分解する方法。
(A-1) In the presence of an acid, an acid and a scavenger or an alkali, -10 to 150 ° C., preferably 0 to 150 ° C.
A method in which solvolysis is performed at a temperature of from 120C to 120C.

【0108】上記の加溶媒分解で使用することができる
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、シ
ュウ酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、トリクロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、カンファ
−スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタン
スルホン酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、
臭化マグネシウム、塩化第二鈴、四塩化チタン、酸弗化
硼素等の類酸を挙げることができる。
Examples of the acids that can be used in the above solvolysis include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic acid, p-chloroacetic acid and the like. Organic acids such as toluenesulfonic acid, camphor-sulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, aluminum chloride, zinc chloride,
Examples of such acids include magnesium bromide, stannic chloride, titanium tetrachloride, and boron oxyfluoride.

【0109】上記加溶媒分解で使用することができるア
ルカリとしては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、カリウム、
t−ブトキシド、アンモニア水等を挙げることができ
る。
Examples of the alkali that can be used in the solvolysis include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium oxide, barium oxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate. , Sodium, potassium hydride,
Examples thereof include t-butoxide and ammonia water.

【0110】上記加溶媒分解で使用することができる溶
媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、
ジメトキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ
−ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブ
タノ−ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水
を挙げることができる。これらの溶媒は、単一もしくは
混合して使用することができる。
Examples of the solvent that can be used in the solvolysis include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and the like.
Ethers such as dimethoxyethane, alcohols such as methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol and t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide; Examples include dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and water. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0111】上記加溶媒分解において使用することがで
きるスカベンジャーとしては、例えば、フェノール、チ
オフェノール、アニソール、チオアニソール、クレゾー
ル、チオクレゾール、及びジメチルスルフィド等を挙げ
ることができる。
Examples of the scavenger that can be used in the solvolysis include phenol, thiophenol, anisole, thioanisole, cresol, thiocresol, and dimethyl sulfide.

【0112】(A−2) 水、メタノール、エタノ−
ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル又はt−ブ
タノ−ル等のアルコール中において、前記一般式(I
a)、(I)又は(I−1)のアミノブテン誘導体のい
ずれかとヒドラジンとを反応温度−10℃〜150℃、
好ましくは0℃〜120℃で反応させる方法。
(A-2) Water, methanol, ethanol
In an alcohol such as isopropyl, iso-propanol, n-butanol or t-butanol.
a) reacting any of the aminobutene derivatives of (I) or (I-1) with hydrazine at a reaction temperature of -10 ° C to 150 ° C;
Preferably, the reaction is carried out at 0 ° C to 120 ° C.

【0113】(A−3) 下記のいずれかの溶媒中にお
いて、反応温度−10℃〜150℃、好ましくは0℃〜
120℃で前記一般式(Ia)、(I)又は(I−1)
のアミノブテン誘導体のいずれかと、弗化ナトリウム、
弗化カリウム、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化硼
素リチウム又は弗化水素酸等の弗化物と反応させ加溶媒
分解する方法。
(A-3) In any one of the following solvents, the reaction temperature is from -10 ° C to 150 ° C, preferably from 0 ° C to
At 120 ° C., the above-mentioned general formula (Ia), (I) or (I-1)
With any of the aminobutene derivatives of
A method of reacting with a fluoride such as potassium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, lithium boron fluoride or hydrofluoric acid to carry out solvolysis.

【0114】上記加溶媒分解で使用することができる溶
媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、
ジメトキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ
−ル、iso−プロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブ
タノ−ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、水等を挙げることができ
る。これらの溶媒は、単一もしくは混合して使用するこ
とができる。
Examples of the solvent that can be used in the solvolysis include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, and the like.
Ethers such as dimethoxyethane, alcohols such as methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol and t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, acetonitrile, dimethylformamide; Examples thereof include dimethylacetamide and water. These solvents can be used alone or as a mixture.

【0115】[0115]

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。これらは
本発明を説明するためのものであり、これら実施例によ
って本発明は限定されないものとする。
Embodiments of the present invention will be described below. These are for explaining the present invention, and the present invention is not limited by these examples.

【0116】(参考例1)(Z)−4−ピペリジノメチ
ル−2−(4−テトラヒドロピラニルオキシ−2−ブテ
ニルオキシ)−ピリジン
Reference Example 1 (Z) -4-Piperidinomethyl-2- (4-tetrahydropyranyloxy-2-butenyloxy) -pyridine

【化54】 水素化ナトリウム1.10g(0.025mol)をT
HF20mlに懸濁させ、室温で4−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−2−(Z)−ブテノール4.31g(0.
025mol)のTHF(10ml)溶液を滴下し、2
0分撹拌した。2−クロル−4−ピペリジノメチルピリ
ジン2.10g(0.01mol)のTHF(10m
l)溶液、続いてDMF(2ml)を加え、16時間加
熱還流した。反応後溶媒を留去し、残留物をクロロホル
ムにとり、1N−塩酸水溶液で抽出した。水層に無水炭
酸カリウムを加えて塩基性とし、クロロホルムで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥、溶媒を留去し
て(Z)−4−ピペリジノメチル−2−(4−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−2−ブテニルオキシ)−ピリジン
を3.10g(収率89%)得た。
Embedded image 1.10 g (0.025 mol) of sodium hydride in T
Suspended in 20 ml of HF and 4.31 g of 4-tetrahydropyranyloxy-2- (Z) -butenol (0.
025 mol) in THF (10 ml) was added dropwise.
Stirred for 0 minutes. 2.10 g (0.01 mol) of 2-chloro-4-piperidinomethylpyridine in THF (10 m
1) A solution was added, followed by DMF (2 ml), and the mixture was refluxed for 16 hours. After the reaction, the solvent was distilled off, and the residue was taken up in chloroform and extracted with a 1N aqueous hydrochloric acid solution. The aqueous layer was made basic by adding anhydrous potassium carbonate, and extracted with chloroform. The organic layer was washed with a saturated saline solution, dried, and the solvent was distilled off to obtain 3.10 g of (Z) -4-piperidinomethyl-2- (4-tetrahydropyranyloxy-2-butenyloxy) -pyridine (yield: 89). %)Obtained.

【0117】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.95(8H,m),2.35−2.55(4
H,m),3.47(2H,s),3.50−3.58
(1H,m),3.95−4.05(1H,m),4.
33(2H,dd,J=6Hz),4.90(1H,b
r−t,J=2Hz),4.99(2H,d,J=7H
z),5.68−5.78(1H,m),5.84−
5.94(1H,m),6.77(1H,s),6.9
4(1H,d,J=5Hz),8.02(1H,d,J
=5Hz).
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.95 (8H, m), 2.35-2.55 (4
H, m), 3.47 (2H, s), 3.50-3.58.
(1H, m), 3.95-4.05 (1H, m), 4.
33 (2H, dd, J = 6 Hz), 4.90 (1H, b
rt, J = 2 Hz), 4.99 (2H, d, J = 7H)
z), 5.68-5.78 (1H, m), 5.84-
5.94 (1H, m), 6.77 (1H, s), 6.9
4 (1H, d, J = 5 Hz), 8.02 (1H, d, J
= 5Hz).

【0118】(参考例2)(Z)−4−〔4−(ピペリ
ジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテノール
Reference Example 2 (Z) -4- [4- (Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol

【化55】 (Z)−4−ピペリジノメチル−2−(4−テトラヒド
ロピラニルオキシ−2−ブテニルオキシ)−ピリジン
5.0g(0.014mol)をメタノール60mlに
溶解し、氷冷下p−トルエンスルホン酸・一水和物6.
0g(0.032mol)を加えて2時間撹拌した。飽
和重曹水で塩基性にした後溶媒を濃縮し、酢酸エチルで
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、(Z)−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピ
リジル−2−オキシ〕−2−ブテノールを3.1g(収
率82%)得た。 沸点 177−179℃/2mmHg1 N−NMR(δ,CDCl3 ):1.40−1.55
(2H,m),1.55−1.70(4H,m),2.
35−2.55(4H,m),3.47(2H,s),
3.90(1H,br−s),4.33(2H,dd,
J=5Hz),5.00(2H,d,J=7Hz),
5.70−5.80(1H,m),5.84−5.94
(1H,m),6.76(1H,s),6.93(1
H,d,J=5Hz),8.02(1H,d,J=5H
z).
Embedded image 5.0 g (0.014 mol) of (Z) -4-piperidinomethyl-2- (4-tetrahydropyranyloxy-2-butenyloxy) -pyridine was dissolved in 60 ml of methanol, and p-toluenesulfonic acid / monohydrate was added under ice cooling. Japanese 6.
0 g (0.032 mol) was added and the mixture was stirred for 2 hours. After basifying with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, the solvent was concentrated and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 3.1 g of (Z) -4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (82% yield). Boiling point 177-179 ° C / 2 mmHg 1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.40-1.55
(2H, m), 1.55-1.70 (4H, m), 2.
35-2.55 (4H, m), 3.47 (2H, s),
3.90 (1H, br-s), 4.33 (2H, dd,
J = 5 Hz), 5.00 (2H, d, J = 7 Hz),
5.70-5.80 (1H, m), 5.84-5.94
(1H, m), 6.76 (1H, s), 6.93 (1
H, d, J = 5 Hz, 8.02 (1H, d, J = 5H)
z).

【0119】化合物はシュウ酸塩としてエタノールより
再結晶した。 融点 123.4−124.4℃ 元素分析 分子式C17242 6 として
The compound was recrystallized from ethanol as oxalate. As mp 123.4-124.4 ° C. Elemental analysis molecular formula C 17 H 24 N 2 O 6

【0120】(参考例3)2−フルフリルチオアセトア
ミド
Reference Example 3 2-furfurylthioacetamide

【化56】 2−フルフリルメルカプタン11.4g(0.1mo
l)、2−クロルアセトアミド9.4g(0.1mo
l)をアセトニトリル100mlに溶解し、無水炭酸カ
リウム13.8g(0.1mol)を加えて、3時間加
熱還流した。終了後溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに
とり、水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、有機層を乾燥
して、溶媒を留去した。残留物をヘキサン−酢酸エチル
混合溶媒から再結晶して、2−フルフリルチオアセトア
ミドを16.4g(収率96%)を得た。
Embedded image 11.4 g of 2-furfuryl mercaptan (0.1 mol
l), 9.4 g of 2-chloroacetamide (0.1 mol
l) was dissolved in 100 ml of acetonitrile, 13.8 g (0.1 mol) of anhydrous potassium carbonate was added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. After completion, the solvent was distilled off, the residue was taken up in ethyl acetate, washed with water (3 times) and saturated saline, the organic layer was dried, and the solvent was distilled off. The residue was recrystallized from a hexane-ethyl acetate mixed solvent to obtain 16.4 g (96% yield) of 2-furfurylthioacetamide.

【0121】融点 66.9−67.6℃(再結晶溶媒
ヘキサン:酢酸エチル=1:1)1 N−NMR(δ,CDCl3 ):3.21(2H,
s),3.79(2H,s),5.90−6.15(1
H,br),6.23(1H,d,J=3Hz),6.
32(1H,dd,J=3.2Hz),6.45−6.
80(1H,br),7.37(1H,d,J=2H
z). IR(ν,KBr):3400,3280,1640,
1505,1410,1400,1385,1260,
1225,1150,1005,940,745. 元素分析 分子式C7 9 NO2 Sとして C H N S 計算値 49.10 5.30 8.18 18.73 実測値 49.10 5.30 8.24 18.96
Melting point: 66.9-67.6 ° C. (recrystallization solvent: hexane: ethyl acetate = 1: 1) 1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.21 (2H,
s), 3.79 (2H, s), 5.90-6.15 (1
H, br), 6.23 (1H, d, J = 3 Hz), 6.
32 (1H, dd, J = 3.2 Hz), 6.45-6.
80 (1H, br), 7.37 (1H, d, J = 2H
z). IR (ν, KBr): 3400, 3280, 1640,
1505, 1410, 1400, 1385, 1260,
1225, 1150, 1005, 940, 745. Elemental analysis Molecular formula: C 7 H 9 NO 2 S Calculated for CH NS 49.10 5.30 8.18 18.73 Found 49.10 5.30 8.24 18.96

【0122】(参考例4)2−フルフリルスルフィニル
アセトアミド
Reference Example 4 2-furfurylsulfinyl acetamide

【化57】 2−フルフリルスルフィニル酢酸=p−ニトロフェニル
3.1g(10mmol)をエタノール30mlに懸濁
し、28%アンモニア水20mlを加えて1時間加熱還
流した。反応終了後溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル
から再結晶して、2−フルフリルスルフィニルアセトア
ミドを1.2g得た。
Embedded image 3.1 g (10 mmol) of 2-furfurylsulfinyl acetic acid = p-nitrophenyl were suspended in 30 ml of ethanol, 20 ml of 28% aqueous ammonia was added, and the mixture was heated under reflux for 1 hour. After completion of the reaction, the solvent was distilled off, and the residue was recrystallized from ethyl acetate to obtain 1.2 g of 2-furfurylsulfinyl acetamide.

【0123】融点 144.6〜145.3℃1 N−NMR(δ,CDCl3 ):3.30(1H,
d,J=15Hz),3.62(1H,d,J=15H
z),4.22(1H,d,J=14Hz),4.26
(1H,d,J=14Hz),5.48−5.66(1
H,br),6.41(1H,dd,J=4.2H
z),6.48(1H,d,J=4Hz),6.84−
6.96(1H,m),7.45(1H,d,J=2H
z).
Melting point: 144.6-145.3 ° C. 1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.30 (1H,
d, J = 15 Hz), 3.62 (1H, d, J = 15H)
z), 4.22 (1H, d, J = 14 Hz), 4.26
(1H, d, J = 14 Hz), 5.48-5.66 (1
H, br), 6.41 (1H, dd, J = 4.2H)
z), 6.48 (1H, d, J = 4 Hz), 6.84-
6.96 (1H, m), 7.45 (1H, d, J = 2H
z).

【0124】(参考例5)N−アセチル−2−フルフリ
ルチオアセトアミド
Reference Example 5 N-acetyl-2-furfurylthioacetamide

【化58】 2−フルフリルチオアセトアミド8.56g(0.05
mol)、無水酢酸5.61g(0.055mol)、
N,N−ジメチルアミノピリジン6.11g(0.05
mol)をピリジン50mlに溶解し、80℃で16時
間撹拌した。溶媒を留去し残留物を酢酸エチルにとり、
水、1N−塩酸水溶液、水(3回)、飽和食塩水で洗浄
し、有機層を乾燥し、溶媒を留去し、N−アセチル−2
−フルフリルチオアセトアミドを7.11g得た。
Embedded image 8.56 g of 2-furfurylthioacetamide (0.05
mol), 5.61 g (0.055 mol) of acetic anhydride,
6.11 g of N, N-dimethylaminopyridine (0.05
mol) was dissolved in 50 ml of pyridine and stirred at 80 ° C. for 16 hours. The solvent was distilled off and the residue was taken up in ethyl acetate.
Washed with water, 1N-hydrochloric acid aqueous solution, water (three times) and saturated saline, the organic layer was dried, and the solvent was distilled off.
7.11 g of furfurylthioacetamide were obtained.

【0125】1N−NMR(δ,CDCl3 ):2.3
5(3H,s),3.36(2H,s),3.79(2
H,s),6.22(1H,d,J=3Hz),6.3
0(1H,dd,J=3.2Hz),7.36(1H,
d,J=2Hz),8.70−8.95(1H,br−
s).
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 2.3
5 (3H, s), 3.36 (2H, s), 3.79 (2
H, s), 6.22 (1H, d, J = 3 Hz), 6.3.
0 (1H, dd, J = 3.2 Hz), 7.36 (1H,
d, J = 2 Hz), 8.70-8.95 (1H, br-
s).

【0126】(参考例6)N−ホルミル−2−フルフリ
ルチオアセトアミド
Reference Example 6 N-Formyl-2-furfurylthioacetamide

【化59】 60%油性水素化ナトリウム0.768g(19.2m
mol)をテトラヒドロフラン(50ml)に懸濁さ
せ、氷冷下2−フルフリルチオアセトアミド3g(1
7.4mmol)のテトラヒドロフラン(100ml)
溶液を滴下し、さらに室温で30分間撹拌した。氷冷
下、ギ酸エチル1.54ml(19.2mmol)を加
え、さらに室温で2時間撹拌した。反応液に酢酸1.1
ml(19.2mmol)を加え室温で10分間撹拌後
減圧下濃縮した。得られた残留物を酢酸エチル(150
ml)−水(50ml)に溶解し、有機層を分離した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後減圧下濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、N−ホルミル−2−フル
フリルチオアセトアミドを2.4g(収率69%)得
た。
Embedded image 0.768 g (19.2 m) of 60% oily sodium hydride
mol) were suspended in tetrahydrofuran (50 ml), and 3 g of 2-furfurylthioacetamide (1
7.4 mmol) of tetrahydrofuran (100 ml)
The solution was added dropwise, and the mixture was further stirred at room temperature for 30 minutes. Under ice-cooling, 1.54 ml (19.2 mmol) of ethyl formate was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. Acetic acid 1.1
After stirring at room temperature for 10 minutes, the mixture was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was treated with ethyl acetate (150
ml) -water (50 ml), and the organic layer was separated.
The organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 2.4 g (yield 69%) of N-formyl-2-furfurylthioacetamide.

【0127】1N−NMR(δ,CDCl3 ):3.3
2(2H,s),3.79(2H,s),6.23(1
H,d,J=3Hz),6.31(1H,m),7.3
6(1H,d,J=2Hz),8.80〜9.10(1
H,br),8.98(1H,br). IR(ν,KBr):3224,3180,1734,
1684,1478,1384,1258,1234,
750cm-1 融点:51.0〜52.1℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶)
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.3
2 (2H, s), 3.79 (2H, s), 6.23 (1
H, d, J = 3 Hz), 6.31 (1H, m), 7.3
6 (1H, d, J = 2 Hz), 8.80 to 9.10 (1
H, br), 8.98 (1H, br). IR (ν, KBr): 3224, 3180, 1734,
1684, 1478, 1384, 1258, 1234
750 cm -1 melting point: 51.0-52.1 ° C (recrystallized from ethyl acetate-hexane)

【0128】(参考例7)N−ベンゾイル−2−フルフ
リルチオアセトアミド
Reference Example 7 N-benzoyl-2-furfurylthioacetamide

【化60】 2−フルフリルチオアセトアミド12.11g(0.0
7mol)をピリジン30mlに溶解し、ベンゾイルク
ロリド9.94g(0.07mol)を加えて、60℃
で15時間撹拌した。溶媒を留去し、残りを酢酸エチル
にとり、水(2回)、1N−塩酸水溶液、水(3回)、
飽和食塩水で洗浄した。有機層を乾燥し、溶媒を留去
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、N−ベンゾイル−2−フルフリルチオアセトアミ
ド14.2g(収率73%)得た。
Embedded image 12.11 g of 2-furfurylthioacetamide (0.0
7 mol) was dissolved in 30 ml of pyridine, and 9.94 g (0.07 mol) of benzoyl chloride was added.
For 15 hours. The solvent was distilled off, the residue was taken up in ethyl acetate, water (twice), 1N aqueous hydrochloric acid, water (three times),
Washed with saturated saline. The organic layer was dried, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 14.2 g of N-benzoyl-2-furfurylthioacetamide (yield 73%).

【0129】1N−NMR(δ,CDCl3 ):3.2
2(2H,s),3.94(2H,s),6.30(1
H,d,J=3Hz),6.35(1H,dd,J=
3.2Hz),7.40(1H,d,J=2Hz),
7.48(2H,dd,J=7.7Hz),7.62
(1H,dd,J=7.7Hz),8.12(2H,
d,J=7Hz),8.40−8.90(1H,b
r).
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.2
2 (2H, s), 3.94 (2H, s), 6.30 (1
H, d, J = 3 Hz), 6.35 (1H, dd, J =
3.2Hz), 7.40 (1H, d, J = 2Hz),
7.48 (2H, dd, J = 7.7 Hz), 7.62
(1H, dd, J = 7.7 Hz), 8.12 (2H,
d, J = 7 Hz), 8.40-8.90 (1H, b
r).

【0130】(参考例8)N−t−ブトキシカルボニル
−2−フルフリルチオアセトアミド
Reference Example 8 Nt-butoxycarbonyl-2-furfurylthioacetamide

【化61】 60%油性水素化ナトリウム1.68g(42.0mm
ol)をテトラヒドロフラン50mlに懸濁させ、氷冷
下、2−フルフリルチオアセトアミド3.00g(1
7.5mmol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶
液を滴下し、室温で20分撹拌した。ジ−t−ブチルジ
カルボネート4.8ml(21.0mmol)を滴下
し、室温で4時間撹拌した。溶媒を留去し、残留物を水
に溶解し、1N−塩酸を加えて中和した後、酢酸エチル
にて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残留物を
クロロホルム−ヘキサンから再結晶してN−t−ブトキ
シカルボニル−2−フルフリルチオアセトアミドを4.
08g(収率86%)得た。
Embedded image 1.68 g of 60% oily sodium hydride (42.0 mm
ol) was suspended in 50 ml of tetrahydrofuran, and under ice-cooling, 3.00 g of 2-furfurylthioacetamide (1
(7.5 mmol) in tetrahydrofuran (50 ml) was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes. 4.8 ml (21.0 mmol) of di-t-butyl dicarbonate was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The solvent was distilled off, the residue was dissolved in water, neutralized with 1N hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from chloroform-hexane to give Nt-butoxycarbonyl-2-furfurylthioacetamide.
08 g (yield 86%) was obtained.

【0131】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
9(9H,s),3.52(2H,s),3.80(2
H,s),6.25(1H,d,J=2.8Hz),
6.31(1H,dd,J=5.0,1.9Hz),
7.36(1H,d,J=2.0Hz),7.75(1
H,br−s). IR(ν,KBr):3272,1750,1692,
1532cm-1 融点 106.6〜108.7℃
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
9 (9H, s), 3.52 (2H, s), 3.80 (2
H, s), 6.25 (1H, d, J = 2.8 Hz),
6.31 (1H, dd, J = 5.0, 1.9 Hz),
7.36 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.75 (1
H, br-s). IR (ν, KBr): 3272, 1750, 1692,
1532 cm -1 melting point 106.6-108.7 ° C

【0132】(参考例9)N−メトキシカルボニル−2
−フルフリルチオアセトアミド
Reference Example 9 N-methoxycarbonyl-2
-Furfurylthioacetamide

【化62】 60%−油性水素化ナトリウム1.29g(0.032
mol)をテトラヒドロフラン20mlに懸濁させ、氷
冷下2−フルフリルチオアセトアミド5g(0.029
mol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶液を滴下
し、室温で30分間撹拌した。氷冷下炭酸ジメチル2.
7ml(0.032mol)を滴下し、30分間撹拌し
た。溶媒を減圧下留去し、残留物を水に溶解し、1N−
塩酸を加えて中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
媒を減圧下留去した。残留物をトルエンから再結晶して
N−メトキシカルボニル−2−フルフリルチオアセトア
ミドを2.78g(収率42%)得た。
Embedded image 60%-oily sodium hydride 1.29 g (0.032
mol) was suspended in 20 ml of tetrahydrofuran, and 5 g of 2-furfurylthioacetamide (0.029
mol) in tetrahydrofuran (50 ml) was added dropwise and stirred at room temperature for 30 minutes. 1. Dimethyl carbonate under ice cooling
7 ml (0.032 mol) was added dropwise and stirred for 30 minutes. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was dissolved in water.
After neutralization with hydrochloric acid, the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from toluene to give 2.78 g (42% yield) of N-methoxycarbonyl-2-furfurylthioacetamide.

【0133】1N−NMR(δ,CDCl3 ):3.5
5(2H,s),3.79(3H,s),3.80(2
H,s),6.25(1H,d,J=2.9Hz),
6.31(1H,dd,J=2.0,2.9Hz),
7.37(1H,d,J=2.0Hz),7.86(1
H,br−s). IR(ν,KBr):3260,3196,1760,
1532cm-1 融点:120.0−121.5℃
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.5
5 (2H, s), 3.79 (3H, s), 3.80 (2
H, s), 6.25 (1H, d, J = 2.9 Hz),
6.31 (1H, dd, J = 2.0, 2.9 Hz),
7.37 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.86 (1
H, br-s). IR (ν, KBr): 3260, 3196, 1760,
1532 cm -1 melting point: 120.0-121.5 ° C

【0134】(参考例10)N−2,4−ジメトキシベ
ンジル−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
Reference Example 10 N-2,4-Dimethoxybenzyl-2- (furfurylthio) acetamide

【化63】 塩化クロロアセチル3gの酢酸エチル30ml溶液と炭
酸カリウム7.35gの30ml水溶液を混合し、そこ
へ2,4−ジメトキシベンジルアミン5.41gの酢酸
エチル10ml溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応終
了後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、
溶媒を留去した。残留物をアセトニトリル50mlに溶
解し、フルフリルメルカプタン3g、無水炭酸カリウム
3.7gを加えて、3時間加熱還流した。反応終了後溶
媒を留去し、残留物を酢酸エチルにとり、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を留去した。残
留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N−2,
4−ジメトキシベンジル−2−(フルフリルチオ)アセ
トアミド6.9g(収率90%)を得た。
Embedded image A solution of 3 g of chloroacetyl chloride in 30 ml of ethyl acetate and a solution of 7.35 g of potassium carbonate in 30 ml of water were mixed, and a solution of 2,4-dimethoxybenzylamine in 5.41 g of ethyl acetate in 10 ml was added dropwise and stirred for 1 hour. After completion of the reaction, the mixture was washed with water and saturated saline in this order, and after drying the organic layer,
The solvent was distilled off. The residue was dissolved in 50 ml of acetonitrile, 3 g of furfuryl mercaptan and 3.7 g of anhydrous potassium carbonate were added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. After completion of the reaction, the solvent was distilled off, the residue was taken up in ethyl acetate, washed with water and saturated saline in this order, and after drying the organic layer, the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel chromatography to give N-2,
6.9 g (90% yield) of 4-dimethoxybenzyl-2- (furfurylthio) acetamide was obtained.

【0135】1N−NMR(δ,CDCl3 ):3.1
9(2H,s),3.68(2H,s),3.80(3
H,s),3.84(3H,s),4.34(2H,
d,J=6Hz),6.15(1H,d,J=3H
z),6.26(1H,dd,J=3Hz,J=2H
z),6.40〜6.50(2H,m),7.15(1
H,br−s),7.16(1H,d,J=8Hz),
7.28(1H,d,J=2Hz).
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.1
9 (2H, s), 3.68 (2H, s), 3.80 (3
H, s), 3.84 (3H, s), 4.34 (2H,
d, J = 6 Hz), 6.15 (1H, d, J = 3H)
z), 6.26 (1H, dd, J = 3 Hz, J = 2H
z), 6.40-6.50 (2H, m), 7.15 (1
H, br-s), 7.16 (1H, d, J = 8 Hz),
7.28 (1H, d, J = 2 Hz).

【0136】(実施例1)(Z)−4−アミノ−2−ブ
テン−1−オール・p−トルエンスルホン酸塩の合成 (Z)−N,N−ジホルミル−1−アミノ−4−
(テトラヒドロピラニル−2−オキシ)−2−ブテン
Example 1 Synthesis of (Z) -4-amino-2-buten-1-ol.p-toluenesulfonate (Z) -N, N-diformyl-1-amino-4-
(Tetrahydropyranyl-2-oxy) -2-butene

【化64】 (Z)−4−(テトラヒドロピラニル−2−オキシ)−
2−ブテン−1−オール10.33g(60mmol)
およびトリエチルアミン9.1g(90mmol)の酢
酸エチル(200ml)溶液に氷冷下、塩化メタンスル
ホニル10.3g(90mmol)を滴下し、2時間撹
拌した。反応溶液を1N−塩酸、1N−水酸化ナトリウ
ム溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られた残留物
をアセトニトリル(100ml)に溶解し、文献(Sy
nthesis,1982,264)の方法に従って合
成したナトリウムジホルミルアミド7.6g(80mm
ol)を加え2時間加熱還流させた。室温まで冷却後、
不溶物を濾過で除去し、濾液を減圧下濃縮することによ
り、(Z)−N,N−ジホルミル−1−アミノ−4−
(テトラヒドロピラニル−2−オキシ)−2−ブテン1
1.99g(収率88%)を得た。
Embedded image (Z) -4- (tetrahydropyranyl-2-oxy)-
10.33 g (60 mmol) of 2-buten-1-ol
To a solution of 9.1 g (90 mmol) of triethylamine and ethyl acetate (200 ml) was added dropwise 10.3 g (90 mmol) of methanesulfonyl chloride under ice-cooling, followed by stirring for 2 hours. The reaction solution was washed sequentially with 1N-hydrochloric acid, 1N-sodium hydroxide solution and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in acetonitrile (100 ml), and the solution was prepared according to the literature (Sy
7.6 g (80 mm) of sodium diformylamide synthesized according to the method of Nthesis, 1982 , 264).
ol) and heated to reflux for 2 hours. After cooling to room temperature,
The insoluble matter was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to give (Z) -N, N-diformyl-1-amino-4-.
(Tetrahydropyranyl-2-oxy) -2-butene 1
1.99 g (88% yield) was obtained.

【0137】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
5−1.90(m,6H),3.50−3.60(m,
1H),3.80−3.95(m,1H),4.25
(d,J=12Hz,7Hz,1H),4.32(d,
J=7Hz,2H),4.40(dd,J=12Hz,
5Hz,1H),4.67(t,J=3Hz,1H),
5.45−5.55(m,1H),5.70−5.85
(m,1H),8.84(s,2H).
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
5-1.90 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 6H)
1H), 3.80-3.95 (m, 1H), 4.25
(D, J = 12 Hz, 7 Hz, 1H), 4.32 (d,
J = 7 Hz, 2H), 4.40 (dd, J = 12 Hz,
5Hz, 1H), 4.67 (t, J = 3Hz, 1H),
5.45-5.55 (m, 1H), 5.70-5.85
(M, 1H), 8.84 (s, 2H).

【0138】 (Z)−4−アミノ−2−ブテン−1
−オール・p−トルエンスルホン酸塩
(Z) -4-Amino-2-butene-1
-All p-toluenesulfonate

【化65】 (Z)−N,N−ジホルミル−1−アミノ−4−(テト
ラヒドロピラニル−2−オキシ)−2−ブテン11.9
9g(52mmol)のメタノール(300ml)溶液
にp−トルエンスルホン酸・一水和物9.89g(52
mmol)を加え、室温で18時間撹拌した。反応液を
減圧下濃縮し、標記化合物10.78g(収率80%)
を得た。
Embedded image (Z) -N, N-Diformyl-1-amino-4- (tetrahydropyranyl-2-oxy) -2-butene 11.9
9.89 g (52%) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added to a solution of 9 g (52 mmol) of methanol (300 ml).
mmol) and stirred at room temperature for 18 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to give the title compound (10.78 g, yield 80%).
I got

【0139】1N−NMR(δ,CD3 OD):2.3
6(s,3H),3.64(d,J=7Hz,2H),
4.19(d,J=7Hz,2H),5.55−5.6
5(m,1H),5.85−6.00(m,1H),
7.24(d,J=8Hz,2H),7.70(d,J
=8Hz,2H).
1 N-NMR (δ, CD 3 OD): 2.3
6 (s, 3H), 3.64 (d, J = 7 Hz, 2H),
4.19 (d, J = 7 Hz, 2H), 5.55-5.6
5 (m, 1H), 5.85-6.00 (m, 1H),
7.24 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.70 (d, J
= 8 Hz, 2H).

【0140】(実施例2)(Z)−4−アミノ−2−ブ
テン−1−オール・塩酸塩の合成
Example 2 Synthesis of (Z) -4-amino-2-buten-1-ol hydrochloride

【化66】 文献(Chemica Scripta vol 2
4,170〜177,1984)の方法に準じて合成し
た4,7−ジヒドロ−1,3,2−ジオキサチエピン−
2−オキシド1.34g(10mmol)のトルエン
(50ml)溶液にナトリウムジホルミルアミド1.0
4g(11mmol)およびテトラブチルアンモニウム
硫酸水素塩0.339g(1mmol)を加え、2時間
加熱還流した。室温まで冷却後、溶媒を留去して得られ
る残留物をエタノール(50ml)に溶解し12N−塩
酸10mlを加え3時間加熱還流させた。室温まで冷却
後、減圧下濃縮して標記化合物0.537g(収率50
%)を得た。
Embedded image Literature (Chemica Scripta vol 2
4,7-dihydro-1,3,2-dioxathiepine-synthesized according to the method of 4,170-177, 1984).
To a solution of 1.34 g (10 mmol) of 2-oxide in toluene (50 ml) was added sodium diformylamide 1.0.
4 g (11 mmol) and 0.339 g (1 mmol) of tetrabutylammonium hydrogen sulfate were added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After cooling to room temperature, the residue obtained by evaporating the solvent was dissolved in ethanol (50 ml), 10 ml of 12N hydrochloric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. After cooling to room temperature, the mixture was concentrated under reduced pressure to give 0.537 g of the title compound (yield 50
%).

【0141】1N−NMR(δ,CD3 OD):3.6
4(d,J=7Hz,2H),4.19(d,J=7H
z,2H),5.55−5.65(m,1H),5.8
5−5.75(m,1H)
1 N-NMR (δ, CD 3 OD): 3.6
4 (d, J = 7 Hz, 2H), 4.19 (d, J = 7H
z, 2H), 5.55-5.65 (m, 1H), 5.8
5-5.75 (m, 1H)

【0142】(実施例3)(Z)−4−アミノ−2−ブ
テン−1−オール・p−トルエンスルホン酸塩
Example 3 (Z) -4-Amino-2-buten-1-ol.p-toluenesulfonic acid salt

【化67】 ホルムアミド40mlにナトリウムメトキシド−28%
メタノール溶液15.35ml(80mmol)を加
え、室温で10分間撹拌後90°で1時間加熱しメタノ
ールを留去した。反応溶液に氷冷下(Z)−4−(テト
ラヒドロピラニル−2−オキシ)−2−ブテン−1−オ
ール・メタンスルホン酸エステル15.01g(60m
mol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶液を滴下
し、2時間撹拌後室温まで昇温、さらに18時間撹拌し
た。反応液を氷水に加え塩化メチレンで2回抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥
後減圧下濃縮することにより、(Z)−N,N−ジホル
ミル−1−アミノ−4−(テトラヒドロピラニル−2−
オキシ)−2−ブテン及び(Z)−N−ホルミル−1−
アミノ−4−(テトラヒドロピラニル−2−オキシ)−
2−ブテンの混合物15.1gを得た。混合物のメタノ
ール(300ml)溶液にp−トルエンスルホン酸・一
水和物11.41g(60mmol)を加え、18時間
撹拌後減圧下濃縮することにより標記化合物13.53
gを得た。((Z)−(4−テトラヒドロピラニル−2
−オキシ)−2−ブテン−1−オール・メタンスルホン
酸エステルより計算して収率87%)。
Embedded image Sodium methoxide -28% in 40 ml of formamide
15.35 ml (80 mmol) of a methanol solution was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and then heated at 90 ° for 1 hour to distill off methanol. 15.01 g (60 m) of (Z) -4- (tetrahydropyranyl-2-oxy) -2-buten-1-ol methanesulfonic acid ester was added to the reaction solution under ice cooling.
mol) in tetrahydrofuran (50 ml), and the mixture was stirred for 2 hours, heated to room temperature, and further stirred for 18 hours. The reaction solution was added to ice water and extracted twice with methylene chloride.
The organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give (Z) -N, N-diformyl-1-amino-4- (tetrahydropyranyl-2-
Oxy) -2-butene and (Z) -N-formyl-1-
Amino-4- (tetrahydropyranyl-2-oxy)-
15.1 g of a mixture of 2-butene was obtained. To a solution of the mixture in methanol (300 ml) was added 11.41 g (60 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and the mixture was stirred for 18 hours and concentrated under reduced pressure to give the title compound 13.53.
g was obtained. ((Z)-(4-tetrahydropyranyl-2
-Oxy) -2-buten-1-ol methanesulfonic acid ester, yield: 87%).

【0143】1N−NMR(δ,CD3 OD):2.3
6(s,3H),3.64(d,J=7Hz,2H),
4.19(d,J=7Hz,2H),5.55−5.6
5(m,1H),5.85−6.00(m,1H),
7.24(d,J=8Hz,2H),7.70(d,J
=8Hz,2H)
1 N-NMR (δ, CD 3 OD): 2.3
6 (s, 3H), 3.64 (d, J = 7 Hz, 2H),
4.19 (d, J = 7 Hz, 2H), 5.55-5.6
5 (m, 1H), 5.85-6.00 (m, 1H),
7.24 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.70 (d, J
= 8Hz, 2H)

【0144】(実施例4)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕アセトアミド
Example 4 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] acetamide

【化68】 (Z)−N−4〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−
2−オキシ〕−2−ブテノール523mg(2mmo
l)、トリエチルアミン252mg(2.5mmol)
をトルエン10mlに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド286mg(2.4mmol)のトルエン(2
ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。アセトアミド132mg
(2.2mmol)をTHF10mlに溶解し、室温で
カリウムt−ブトキシド247mg(2.2mmol)
を加え、1時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下
し、硫酸水素テトラ−n−ブチルアンモニウム68mg
(0.2mmol)を加えさらに1時間撹拌した。反応
溶液を水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、乾燥して、溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペリジノ
メチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕アセ
トアミドを490mg(収率81%)得た。
Embedded image (Z) -N-4 [4- (piperidinomethyl) pyridyl-
523 mg of 2-oxy] -2-butenol (2 mmol
l), 252 mg (2.5 mmol) of triethylamine
Was dissolved in 10 ml of toluene, and 286 mg (2.4 mmol) of methanesulfonyl chloride in toluene (2
ml) solution was added dropwise and stirred for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 132 mg of acetamide
(2.2 mmol) was dissolved in 10 ml of THF, and 247 mg (2.2 mmol) of potassium t-butoxide was added at room temperature.
Was added and stirred for 1 hour. The above reaction solution was added dropwise at room temperature, and tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate 68 mg was used.
(0.2 mmol) was added and the mixture was further stirred for 1 hour. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 490 mg (yield 81%) of (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] acetamide.

【0145】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.50(2H,m),1.55−1.68(4
H,m),2.00(3H,s),2.30−2.48
(4H,m),3.44(2H,s),4.03(2
H,t,J=6Hz),4.93(2H,d,J=7H
z),5.65−5.75(1H,m),5.77−
5.87(1H,m),6.02−6.16(1H,b
r−s),6.75(1H,s),6.91(1H,
d,J=5Hz),8.05(1H,d,J=5Hz) IR(ν,film):2940,1658,161
4,1564,1424,1288,1164,114
8,1114,1038.998cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.50 (2H, m), 1.55-1.68 (4
H, m), 2.00 (3H, s), 2.30-2.48
(4H, m), 3.44 (2H, s), 4.03 (2
H, t, J = 6 Hz), 4.93 (2H, d, J = 7H)
z), 5.65-5.75 (1H, m), 5.77-
5.87 (1H, m), 6.02-6.16 (1H, b
r-s), 6.75 (1H, s), 6.91 (1H,
d, J = 5 Hz), 8.05 (1 H, d, J = 5 Hz) IR (ν, film): 2940, 1658, 161
4,1564,1424,1288,1164,114
8,1114,1038.998 cm -1

【0146】(実施例5)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕ホルムアミド
Example 5 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] formamide

【化69】 (Z)−N−4〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−
2−オキシ〕−2−ブテノール523mg(2mmo
l)、トリエチルアミン252mg(2.5mmol)
をトルエン10mlに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド286mg(2.4mmol)のトルエン(2
ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。ホルムアミド132mg
(2.2mmol)をTHF10mlに溶解し、室温で
カリウムt−ブトキシド247mg(2.2mmol)
を加え、1時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下
し、硫酸水素テトラ−n−ブチルアンモニウム68mg
(0.2mmol)を加えさらに2時間撹拌した。反応
溶液を水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、乾燥して、溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペリジノ
メチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕ホル
ムアミドを220mg(収率38%)得た。
Embedded image (Z) -N-4 [4- (piperidinomethyl) pyridyl-
523 mg of 2-oxy] -2-butenol (2 mmol
l), 252 mg (2.5 mmol) of triethylamine
Was dissolved in 10 ml of toluene, and 286 mg (2.4 mmol) of methanesulfonyl chloride in toluene (2
ml) solution was added dropwise and stirred for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 132 mg formamide
(2.2 mmol) was dissolved in 10 ml of THF, and 247 mg (2.2 mmol) of potassium t-butoxide was added at room temperature.
Was added and stirred for 1 hour. The previous reaction solution was added dropwise at room temperature, and tetra-n-butylammonium hydrogensulfate 68 mg
(0.2 mmol) was added and the mixture was further stirred for 2 hours. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 220 mg of (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] formamide (yield 38%).

【0147】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
8−1.52(2H,m),1.52−1.74(4
H,m),2.30−2.72(4H,m),3.49
(2H,s),4.09(2H,dd,J=6.6H
z),4.94(2H,d,J=6Hz),5.64−
5.78(1H,m),5.80−5.92(1H,
m),6.24−6.40(1H,m),6.79(1
H,s),6.95(1H,d,J=5Hz),8.0
5(1H,d,J=5Hz),8.22(1H,s). IR(ν,film):2936,1668,161
4,1562,1424,1404,1314,116
4,1148,1038,996cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
8-1.52 (2H, m), 1.52-1.74 (4
H, m), 2.30-2.72 (4H, m), 3.49
(2H, s), 4.09 (2H, dd, J = 6.6H)
z), 4.94 (2H, d, J = 6 Hz), 5.64-
5.78 (1H, m), 5.80-5.92 (1H,
m), 6.24-6.40 (1H, m), 6.79 (1
H, s), 6.95 (1H, d, J = 5 Hz), 8.0
5 (1H, d, J = 5 Hz), 8.22 (1H, s). IR (ν, film): 2936, 1668, 161
4,1562,1424,1404,1314,116
4,1148,1038,996cm -1

【0148】(実施例6)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕ベンズアミド
Example 6 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] benzamide

【化70】 (Z)−N−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル
−2−オキシ〕−2−ブテノール523mg(2mmo
l)、トリエチルアミン252mg(2.5mmol)
をトルエン10mlに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド286mg(2.4mmol)のトルエン(2
ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。ベンズアミド267mg
(2.2mmol)をTHF10mlに溶解し、室温で
カリウムt−ブトキシド247mg(2.2mmol)
を加え、1時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下
し、硫酸水素テトラ−n−ブチルアンモニウム68mg
(0.2mmol)を加えさらに30分撹拌した。反応
溶液を水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、乾燥して、溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペリジノ
メチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕ベン
ズアミドを520mg(収率71%)得た。
Embedded image 523 mg of (Z) -N-4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (2 mmol
l), 252 mg (2.5 mmol) of triethylamine
Was dissolved in 10 ml of toluene, and 286 mg (2.4 mmol) of methanesulfonyl chloride in toluene (2
ml) solution was added dropwise and stirred for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 267mg benzamide
(2.2 mmol) was dissolved in 10 ml of THF, and 247 mg (2.2 mmol) of potassium t-butoxide was added at room temperature.
Was added and stirred for 1 hour. The previous reaction solution was added dropwise at room temperature, and tetra-n-butylammonium hydrogensulfate 68 mg
(0.2 mmol) was added and the mixture was further stirred for 30 minutes. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 520 mg (yield 71%) of (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] benzamide.

【0149】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
8−1.50(2H,m),1.50−1.72(4
H,m),2.28−2.46(4H,m),3.43
(2H,s),4.25(2H,dd,J=6.6H
z),4.99(2H,d,J=6Hz),5.76−
5.94(2H,m),6.60(1H,br−s),
6.79(1H,s),6.88(1H,d,J=5H
z),7.39−7.50(3H,m),7.76−
7.78(2H,m),7.98(1H,d,J=5H
z). IR(ν,film):3336,2936,163
4,1578,1558,1532,1430,141
2,1318,1170,1150,1042,98
8,718cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
8-1.50 (2H, m), 1.50-1.72 (4
H, m), 2.28-2.46 (4H, m), 3.43.
(2H, s), 4.25 (2H, dd, J = 6.6H)
z), 4.99 (2H, d, J = 6 Hz), 5.76 −
5.94 (2H, m), 6.60 (1H, br-s),
6.79 (1H, s), 6.88 (1H, d, J = 5H)
z), 7.39-7.50 (3H, m), 7.76-
7.78 (2H, m), 7.98 (1H, d, J = 5H)
z). IR (ν, film): 3336, 2936, 163
4,1578,1558,1532,1430,141
2,1318,1170,1150,1042,98
8,718 cm -1

【0150】(実施例7)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕トリフルオロアセトアミド
Example 7 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] trifluoroacetamide

【化71】 (Z)−N−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル
−2−オキシ〕−2−ブテノール525mg(2mmo
l)、トリエチルアミン253mg(2.5mmol)
をトルエン10mlに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド275mg(2.4mmol)のトルエン(2
ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。トリフルオロメチルアセトア
ミド249mg(2.2mmol)をTHF10mlに
溶解し、室温でカリウムt−ブトキシド247mg
(2.2mmol)を加え、1時間撹拌した。先の反応
溶液を室温で滴下し、硫酸水素テトラ−n−ブチルアン
モニウム68mg(0.2mmol)を加えさらに30
分撹拌した。反応溶液を水(3回)、飽和食塩水で洗浄
し、乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、(Z)−N−〔4−
〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−
2−ブテニル〕トリフルオロアセトアミドを410mg
(収率57%)得た。
Embedded image 525 mg of (Z) -N-4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (2 mmol
l), 253 mg (2.5 mmol) of triethylamine
Is dissolved in 10 ml of toluene, and 275 mg (2.4 mmol) of methanesulfonyl chloride in toluene (2
ml) solution was added dropwise and stirred for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 249 mg (2.2 mmol) of trifluoromethylacetamide was dissolved in 10 ml of THF, and 247 mg of potassium t-butoxide was added at room temperature.
(2.2 mmol) was added and stirred for 1 hour. The above reaction solution was added dropwise at room temperature, and 68 mg (0.2 mmol) of tetra-n-butylammonium hydrogensulfate was added thereto, followed by further addition of 30 mg.
For a minute. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give (Z) -N- [4-
[4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy]-
2-butenyl] trifluoroacetamide (410 mg)
(57% yield).

【0151】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
8−1.52(2H,m),1.52−1.70(4
H,m),2.26−2.54(4H,m),3.43
(2H,s),4.16(2H,dd,J=6.6H
z),4.95(2H,d,J=7Hz),5.66−
5.76(1H,m),5.85−5.95(1H,
m),6.76(1H,s),6.92(1H,d,J
=5Hz),7.30−7.58(1H,br−s),
8.02(1H,d,J=5Hz). IR(ν,film):2940,1714,166
4,1614,1564,1424,1344,131
4,1186,1040,998cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
8-1.52 (2H, m), 1.52-1.70 (4
H, m), 2.26-2.54 (4H, m), 3.43.
(2H, s), 4.16 (2H, dd, J = 6.6H)
z), 4.95 (2H, d, J = 7 Hz), 5.66-
5.76 (1H, m), 5.85-5.95 (1H,
m), 6.76 (1H, s), 6.92 (1H, d, J
= 5 Hz), 7.30-7.58 (1H, br-s),
8.02 (1H, d, J = 5 Hz). IR (ν, film): 2940, 1714, 166
4,1614,1564,1424,1344,131
4,1186,1040,998cm -1

【0152】(実施例8)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
Example 8 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化72】 (Z)−N−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル
−2−オキシ〕−2−ブテノール2.61g(0.01
mol)、トリエチルアミン1.21g(0.012m
ol)をトルエン50mlに溶解し、氷冷でメタンスル
ホニルクロリド1.26g(0.011mol)のトル
エン(10ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。2−フルフリルチ
オアセトアミド1.71g(0.01mol)をトルエ
ン20mlに溶解し、室温でカリウムt−ブトキシド
1.23g(0.011mol)を加え、1時間撹拌し
た。先の反応溶液を室温で滴下し、さらに3時間撹拌し
た。反応溶液を水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、乾燥
した後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミドを3.
74g(収率90%)得た。
Embedded image 2.61 g of (Z) -N-4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (0.01
mol), 1.21 g of triethylamine (0.012 m
ol) was dissolved in 50 ml of toluene, and a solution of 1.26 g (0.011 mol) of methanesulfonyl chloride in 10 ml of toluene was added dropwise with ice cooling, followed by stirring for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 1.71 g (0.01 mol) of 2-furfurylthioacetamide was dissolved in 20 ml of toluene, and 1.23 g (0.011 mol) of potassium t-butoxide was added at room temperature, followed by stirring for 1 hour. The above reaction solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was further stirred for 3 hours. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and then the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide.
74 g (yield 90%) was obtained.

【0153】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.55(2H,m),1.55−1.80(4
H,m),2.35−2.65(4H,m),3.23
(2H,s),3.53(2H,s),3.75(2
H,s),3.99(2H,dd,J=6.6Hz),
4.92(2H,d,J=7Hz),5.56−5.6
8(1H,m),5.80−5.92(1H,m),
6.20(1H,d,J=3Hz),6.29(1H,
dd,J=3.2Hz),6.78(1H,s),6.
88(1H,br−s),6.98(1H,br−
s),7.35(1H,d,J=2Hz),8.10
(1H,d,J=4Hz) IR(ν,film):3300,2940,165
5,1620,1560,1420,1405,130
0,1150,1040,1010,740cm-1 さらに、N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジ
ル−2−オキシ〕−(Z)−2−ブテニル〕−2−(フ
ルフリルチオ)アセトアミドは、シュウ酸塩とし、エタ
ノールより再結晶して以下に示す物性値を得た。 融点 114−115℃ 元素分析 分子式C24313 7 Sとして C H N S 計算値 57.02 6.18 8.31 6.34 実測値 56.80 6.19 8.05 6.57
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.55 (2H, m), 1.55-1.80 (4
H, m), 2.35-2.65 (4H, m), 3.23.
(2H, s), 3.53 (2H, s), 3.75 (2
H, s), 3.99 (2H, dd, J = 6.6 Hz),
4.92 (2H, d, J = 7 Hz), 5.56-5.6
8 (1H, m), 5.80-5.92 (1H, m),
6.20 (1H, d, J = 3 Hz), 6.29 (1H, d, J = 3 Hz)
dd, J = 3.2 Hz), 6.78 (1H, s), 6.
88 (1H, br-s), 6.98 (1H, br-s)
s), 7.35 (1H, d, J = 2 Hz), 8.10
(1H, d, J = 4 Hz) IR (ν, film): 3300, 2940, 165
5,1620,1560,1420,1405,130
0,1150,1040,1010,740 cm -1 Further, N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy]-(Z) -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide is oxalic acid The salt was recrystallized from ethanol to obtain the following physical properties. C H N S Calculated mp 114-115 ° C. Elemental analysis molecular formula C 24 H 31 N 3 O 7 S 57.02 6.18 8.31 6.34 Found 56.80 6.19 8.05 6.57

【0154】(実施例9)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルスルフィニル)アセトアミ
Example 9 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylsulfinyl) acetamide

【化73】 (Z)−N−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル
−2−オキシ〕−2−ブテノール2.61g(0.01
mol)、トリエチルアミン1.21g(0.012m
ol)をトルエン50mlに溶解し、氷冷でメタンスル
ホニルクロリド1.26g(0.011mol)のトル
エン(10ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。2−フルフリルス
ルフィニルアセトアミド1.87g(0.01mol)
をトルエン20mlに溶解し、室温でカリウムt−ブト
キシド1.23g(0.011mol)を加え、1時間
撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下し、さらに3時間
撹拌した。反応溶液を水(3回)、飽和食塩水で洗浄
し、乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、(Z)−N−〔4−
〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−
2−ブテニル〕−2−〔フルフリルスルフィニル)アセ
トアミドを3.24g(収率75%)得た。
Embedded image 2.61 g of (Z) -N-4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (0.01
mol), 1.21 g of triethylamine (0.012 m
ol) was dissolved in 50 ml of toluene, and a solution of 1.26 g (0.011 mol) of methanesulfonyl chloride in 10 ml of toluene was added dropwise with ice cooling, followed by stirring for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 1.87 g (0.01 mol) of 2-furfurylsulfinyl acetamide
Was dissolved in 20 ml of toluene, and 1.23 g (0.011 mol) of potassium t-butoxide was added at room temperature, followed by stirring for 1 hour. The above reaction solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was further stirred for 3 hours. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give (Z) -N- [4-
[4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy]-
3.24 g (yield 75%) of 2-butenyl] -2- [furfurylsulfinyl) acetamide was obtained.

【0155】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.50(2H,m),1.50−1.65(4
H,m),2.30−2.45(4H,m),3.34
(1H,d,J=14Hz),3.40(2H,s),
3.69(1H,d,J=14Hz),4.14(1
H,d,J=14Hz),4.15(2H,dd,J=
6.6Hz),4.38(1H,d,J=14Hz),
4.93(2H,dd,J=6.6Hz),5.60−
5.75(1H,m),5.80−5.90(1H,
m),6.40(1H,dd,J=3.2Hz),6.
47(1H,d,J=5Hz),6.73(1H,
s),7.20(1H,br−s),7.44(1H,
d,J=2Hz),8.04(1H,d,J=5Hz) IR(ν,KBr):3334,2936,1640,
1615,1562,1529,1411,1042c
-1 融点 72.7−73.4℃ 元素分析 分子式C22293 4 Sとして C H N S 計算値 61.23 6.77 9.74 7.43 実測値 60.89 6.72 9.51 7.43
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.50 (2H, m), 1.50-1.65 (4
H, m), 2.30-2.45 (4H, m), 3.34.
(1H, d, J = 14 Hz), 3.40 (2H, s),
3.69 (1H, d, J = 14 Hz), 4.14 (1
H, d, J = 14 Hz), 4.15 (2H, dd, J =
6.6 Hz), 4.38 (1 H, d, J = 14 Hz),
4.93 (2H, dd, J = 6.6 Hz), 5.60 −
5.75 (1H, m), 5.80-5.90 (1H,
m), 6.40 (1H, dd, J = 3.2 Hz), 6.
47 (1H, d, J = 5 Hz), 6.73 (1H, d, J = 5 Hz)
s), 7.20 (1H, br-s), 7.44 (1H,
d, J = 2 Hz), 8.04 (1 H, d, J = 5 Hz) IR (ν, KBr): 3334, 2936, 1640,
1615, 1562, 1529, 1411, 1042c
m -1 melting point 72.7-73.4 ° C. elemental analysis molecular formula C 22 H 29 N 3 O 4 S calculated as CH N S 61.23 6.77 9.74 7.43 actual value 60.89 6. 72 9.51 7.43

【0156】(実施例10)(Z)−N−アセチル−N
−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オ
キシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセ
トアミド
Example 10 (Z) -N-acetyl-N
-[4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化74】 (Z)−N−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル
−2−オキシ〕−2−ブテノール2.61g(0.01
mol)、トリエチルアミン1.21g(0.012m
ol)をトルエン50mlに溶解し、室温でメタンスル
ホニルクロリド1.26g(0.011mol)のトル
エン(10ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。N−アセチル−2
−フルフリルチオアセトアミド2.13g(0.01m
ol)をトルエン20mlに溶解し、室温でカリウムt
−ブトキシド1.23g(0.011mol)を加え、
1時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下し、さらに
3時間撹拌した。反応溶液を水(3回)、飽和食塩水で
洗浄し、乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、(Z)−N−ア
セチル−N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジ
ル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリル
チオ)アセトアミドを3.50g(収率76%)得た。
Embedded image 2.61 g of (Z) -N-4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (0.01
mol), 1.21 g of triethylamine (0.012 m
ol) was dissolved in 50 ml of toluene, and a solution of 1.26 g (0.011 mol) of methanesulfonyl chloride in toluene (10 ml) was added dropwise at room temperature, followed by stirring for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. N-acetyl-2
-Furfurylthioacetamide 2.13 g (0.01 m
ol) was dissolved in 20 ml of toluene, and potassium t was added at room temperature.
1.23 g (0.011 mol) of butoxide are added,
Stir for 1 hour. The above reaction solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was further stirred for 3 hours. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and the solvent was distilled off. The residue was purified by silica gel column chromatography to give (Z) -N-acetyl-N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide. .50 g (76% yield) were obtained.

【0157】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
5−1.55(2H,m),1.55−1.85(4
H,m),2.41(3H,s),2.40−2.70
(4H,m),3.12(2H,br−s),3.72
(2H,s),3.80(2H,s),4.54(2
H,d,J=5Hz),4.94(2H,d,J=5H
z),5.42−5.52(1H,m),5.82−
5.92(1H,m),6.23(1H,d,J=3H
z),6.30(1H,dd,J=3.2Hz),6.
81(1H,s),7.07(1H,br−s),7.
35(1H,d,J=2Hz),8.10(1H,d,
J=5Hz). IR(ν,neat):2940,1704,161
4,1564,1422,1372,1122
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
5-1.55 (2H, m), 1.55-1.85 (4
H, m), 2.41 (3H, s), 2.40-2.70.
(4H, m), 3.12 (2H, br-s), 3.72
(2H, s), 3.80 (2H, s), 4.54 (2
H, d, J = 5 Hz), 4.94 (2H, d, J = 5H)
z), 5.42-5.52 (1H, m), 5.82-
5.92 (1H, m), 6.23 (1H, d, J = 3H
z), 6.30 (1H, dd, J = 3.2 Hz), 6.
81 (1H, s), 7.07 (1H, br-s), 7.
35 (1H, d, J = 2 Hz), 8.10 (1H, d,
J = 5 Hz). IR (ν, neat): 2940, 1704, 161
4,1564,1422,1372,1122

【0158】(実施例11)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
(Example 11) (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化75】 (Z)−N−アセチル−N−〔4−〔4−(ピペリジノ
メチル)ピリジル−2−オキシ〕−(Z)−2−ブテニ
ル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド457mg
(1mmol)をメタノール10mlに溶解し、氷冷下
1N−水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え1時間撹拌
した。反応終了後溶媒を留去し、残留物を酢酸エチルに
溶解し、水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、有機層を乾
燥して溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミドを21
0mg得た。
Embedded image 457 mg of (Z) -N-acetyl-N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy]-(Z) -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide
(1 mmol) was dissolved in 10 ml of methanol, 1 ml of a 1N aqueous solution of sodium hydroxide was added under ice cooling, and the mixture was stirred for 1 hour. After completion of the reaction, the solvent was distilled off, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with water (three times) and saturated saline, and the organic layer was dried and the solvent was distilled off. The residue was purified by silica gel column chromatography, and (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide to 21
0 mg was obtained.

【0159】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.55(2H,m),1.55−1.80(4
H,m),2.35−2.65(4H,m),3.23
(2H,s),3.53(2H,s),3.75(2
H,s),3.99(2H,dd,J=6.6Hz),
4.92(2H,d,J=7Hz),5.56−5.6
8(1H,m),5.80−5.92(1H,m),
6.20(1H,d,J=3Hz),6.29(1H,
dd,J=3.2Hz),6.78(1H,s),6.
88(1H,br−s),6.98(1H,br−
s),7.35(1H,d,J=2Hz),8.10
(1H,d,J=4Hz).
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.55 (2H, m), 1.55-1.80 (4
H, m), 2.35-2.65 (4H, m), 3.23.
(2H, s), 3.53 (2H, s), 3.75 (2
H, s), 3.99 (2H, dd, J = 6.6 Hz),
4.92 (2H, d, J = 7 Hz), 5.56-5.6
8 (1H, m), 5.80-5.92 (1H, m),
6.20 (1H, d, J = 3 Hz), 6.29 (1H, d, J = 3 Hz)
dd, J = 3.2 Hz), 6.78 (1H, s), 6.
88 (1H, br-s), 6.98 (1H, br-s)
s), 7.35 (1H, d, J = 2 Hz), 8.10
(1H, d, J = 4Hz).

【0160】(実施例12)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルスルフィニル)アセトアミ
(Example 12) (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylsulfinyl) acetamide

【化76】 (Z)−N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジ
ル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリル
チオ)アセトアミド415mg(1mmol)を塩化メ
チレン5mlおよび酢酸5mlに溶解し、氷冷下30%
過酸化水素水100mgを加えて1時間撹拌した。終了
後水10mlを加えて酢酸エチルで抽出し、水層を炭酸
カリウムを用いて塩基性にした後酢酸エチルで抽出し、
有機層を水(3回)、飽和食塩水で洗浄し、乾燥した。
溶媒を留去して、残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペリ
ジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕
−2−(フルフリルスルフィニル)アセトアミドを36
0mg(収率83%)得た。
Embedded image 415 mg (1 mmol) of (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide are dissolved in 5 ml of methylene chloride and 5 ml of acetic acid, and cooled with ice. Lower 30%
100 mg of aqueous hydrogen peroxide was added and the mixture was stirred for 1 hour. After completion, 10 ml of water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The aqueous layer was made basic with potassium carbonate, and then extracted with ethyl acetate.
The organic layer was washed with water (three times) and saturated saline, and dried.
The solvent was distilled off, the residue was purified by silica gel column chromatography, and (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] was used.
-2- (furfurylsulfinyl) acetamide to 36
0 mg (83% yield) was obtained.

【0161】融点:72.7−73.4℃1 N−NMR(δ,CDCl3 ):1.40−1.50
(2H,m),1.50−1.65(4H,m),2.
30−2.45(4H,m),3.34(1Hd,J=
14Hz),3.40(2H,s),3.69(1H,
d,J=14Hz),4.14(1H,d,J=14H
z),4.15(2H,dd,J=6.6Hz),4.
38(1H,d,J=14Hz),4.93(2H,d
d,J=6.6Hz),5.60−5.75(1H,
m),5.80−5.90(1H,m),6.40(1
H,dd,J=3.2Hz),6.47(1H,d,J
=5Hz),6.73(1H,s),7.20(1H,
br−s),7.44(1H,d,J=2Hz),8.
04(1H,d,J=5Hz). IR(ν,KBr):3334,2936,1640,
1615,1562,1529,1411,1042. 元素分析 分子式C22293 4 Sとして C H N S 計算値 61.23 6.77 9.74 7.43 実測値 60.89 6.72 9.51 7.43
Melting point: 72.7-73.4 ° C. 1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.40-1.50
(2H, m), 1.50-1.65 (4H, m), 2.
30-2.45 (4H, m), 3.34 (1Hd, J =
14Hz), 3.40 (2H, s), 3.69 (1H,
d, J = 14 Hz), 4.14 (1H, d, J = 14H)
z), 4.15 (2H, dd, J = 6.6 Hz), 4.
38 (1H, d, J = 14 Hz), 4.93 (2H, d
d, J = 6.6 Hz), 5.60-5.75 (1H,
m), 5.80-5.90 (1H, m), 6.40 (1
H, dd, J = 3.2 Hz), 6.47 (1H, d, J
= 5 Hz), 6.73 (1H, s), 7.20 (1H,
7. br-s), 7.44 (1H, d, J = 2 Hz),
04 (1H, d, J = 5 Hz). IR (ν, KBr): 3334, 2936, 1640,
1615, 1562, 1529, 1411, 1042. Elemental analysis Molecular formula: C 22 H 29 N 3 O 4 S Calculated for CH NS: 61.23 6.77 9.74 7.43 Found 60.89 6.72 9.51 7.43

【0162】(実施例13)(Z)−N−t−ブトキシ
カルボニル−N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピ
リジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフ
リルチオ)アセトアミド
Example 13 (Z) -Nt-butoxycarbonyl-N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化77】 (Z)−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2
−オキシ〕−2−ブテノール1.00g(3.81mm
ol)、トリエチルアミン0.66ml(4.57mm
ol)をトルエン30mlに溶解し、氷冷下塩化メタン
スルホニル0.35ml(4.57mmol)を滴下
し、1時間撹拌した。反応液を水、1N−水酸化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
N−t−ブトキシカルボニル−2−フルフリルチオアセ
トアミド1.14g(4.19mmol)をテトラヒド
ロフラン20mlに溶解させ、氷冷下カリウムt−ブト
キシド1.14g(4.19mmol)を加え、室温で
30分撹拌後硫酸水素テトラ−n−ブチルアンモニウム
64mg(0.19mmol)を加えた。先の反応液を
室温で滴下し、更に4時間撹拌した。反応溶液を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに
て精製し、(Z)−N−t−ブトキシカルボニル−N−
〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキ
シ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセト
アミドを1.69g(収率86%)得た。
Embedded image (Z) -4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2
-Oxy] -2-butenol 1.00 g (3.81 mm
ol), 0.66 ml of triethylamine (4.57 mm
ol) was dissolved in 30 ml of toluene, and 0.35 ml (4.57 mmol) of methanesulfonyl chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring for 1 hour. The reaction solution was washed with water and a 1N aqueous solution of sodium hydroxide, and dried over anhydrous sodium sulfate.
1.14 g (4.19 mmol) of Nt-butoxycarbonyl-2-furfurylthioacetamide was dissolved in 20 ml of tetrahydrofuran, and 1.14 g (4.19 mmol) of potassium t-butoxide was added under ice-cooling, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. Thereafter, 64 mg (0.19 mmol) of tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate was added. The previous reaction solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was further stirred for 4 hours. The reaction solution was washed with water and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue was purified by silica gel chromatography to give (Z) -Nt-butoxycarbonyl-N-
1.69 g (86% yield) of [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide was obtained.

【0163】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
9−1.49(2H,m),1.50(9H,s),
1.53−1.63(4H,m),2.30−2.42
(4H,m),3.40(2H,s),3.77(2
H,s),3.79(2H,s),4.45(2H,
d,J=16.3Hz),4.98(2H,d,J=
5.4Hz),5.52−5.63(1H,m),5.
80−5.90(1H,m),6.24(1H,d,J
=3.3Hz),6.30(1H,dd,J=5.0,
1.9Hz),6.71(1H,s),6.86(1
H,d,J=4.2Hz),7.36(1H,d,J=
2.0Hz),8.05(1H,d,J=5.2Hz) IR(ν,neat):2936,1736,168
6,1614cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
9-1.49 (2H, m), 1.50 (9H, s),
1.53-1.63 (4H, m), 2.30-2.42
(4H, m), 3.40 (2H, s), 3.77 (2
H, s), 3.79 (2H, s), 4.45 (2H,
d, J = 16.3 Hz), 4.98 (2H, d, J =
5.4 Hz), 5.52-5.63 (1H, m), 5.5.
80-5.90 (1H, m), 6.24 (1H, d, J
= 3.3 Hz), 6.30 (1H, dd, J = 5.0,
1.9 Hz), 6.71 (1H, s), 6.86 (1
H, d, J = 4.2 Hz), 7.36 (1H, d, J =
2.0 Hz), 8.05 (1H, d, J = 5.2 Hz) IR (ν, neat): 2936, 1736, 168
6,1614cm -1

【0164】(実施例14)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
(Example 14) (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化78】 (Z)−N−t−ブトキシカルボニル−N−〔4−〔4
−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−
ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド55
mg(0.11mmol)を塩化メチレン5mlに溶解
し、室温下、トリフルオロ酢酸10.1ml(1.30
mmol)を加え7時間撹拌した。反応終了後10%炭
酸カリウムで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
にて精製し、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペリジノメ
チル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−
(フルフリルチオ)アセトアミドを36mg(収率80
%)得た。
Embedded image (Z) -Nt-butoxycarbonyl-N- [4- [4
-(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-
Butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide 55
mg (0.11 mmol) was dissolved in 5 ml of methylene chloride, and at room temperature, 10.1 ml of trifluoroacetic acid (1.30 ml) was dissolved.
mmol) and stirred for 7 hours. After completion of the reaction, the mixture was neutralized with 10% potassium carbonate and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue was purified by silica gel chromatography to give (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2-
36 mg of (furfurylthio) acetamide (yield 80
%)Obtained.

【0165】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.55(2H,m),1.55−1.80(4
H,m),2.35−2.65(4H,m),3.23
(2H,s),3.53(2H,s),3.75(2
H,s),3.99(2H,dd,J=6.6Hz),
4.92(2H,d,J=7Hz),5.56−5.6
8(1H,m),5.80−5.92(1H,m),
6.20(1H,d,J=3Hz),6.29(1H,
dd,J=3.2Hz),6.78(1H,s),6.
88(1H,br−s),6.98(1H,br−
s),7.35(1H,d,J=2Hz),8.10
(1H,d,J=4Hz) IR(ν,film):3300,2940,165
5,1620,1560,1420,1405,130
0,1150,1040,1010,740cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.55 (2H, m), 1.55-1.80 (4
H, m), 2.35-2.65 (4H, m), 3.23.
(2H, s), 3.53 (2H, s), 3.75 (2
H, s), 3.99 (2H, dd, J = 6.6 Hz),
4.92 (2H, d, J = 7 Hz), 5.56-5.6
8 (1H, m), 5.80-5.92 (1H, m),
6.20 (1H, d, J = 3 Hz), 6.29 (1H, d, J = 3 Hz)
dd, J = 3.2 Hz), 6.78 (1H, s), 6.
88 (1H, br-s), 6.98 (1H, br-s)
s), 7.35 (1H, d, J = 2 Hz), 8.10
(1H, d, J = 4 Hz) IR (ν, film): 3300, 2940, 165
5,1620,1560,1420,1405,130
0, 1150, 1040, 1010, 740 cm -1

【0166】さらに、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペ
リジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニ
ル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミドは、シュウ
酸塩とし、エタノールより再結晶して以下に示す物性値
を得た。
Further, (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide was converted into oxalate, which was recrystallized from ethanol. The following physical property values were obtained.

【0167】融点 114−115℃ 元素分析 分子式C24313 7 Sとして C H N S 計算値 57.02 6.18 8.31 6.34 実測値 56.80 6.19 8.05 6.57Melting point: 114-115 ° C. Elemental analysis: Molecular formula: C 24 H 31 N 3 O 7 S Calculated for CHNS: 57.02 6.18 8.31 6.34 Found 56.80 6.19 8.05 6.57

【0168】(実施例15)(Z)−N−ホルミル−N
−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オ
キシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセ
トアミド
(Example 15) (Z) -N-formyl-N
-[4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化79】 (Z)−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2
−オキシ〕−2−ブテノール1.19g(4.54mm
ol)、トリエチルアミン0.79ml(5.6mmo
l)をトルエン35mlに溶解し、氷冷下塩化メタンス
ルホニル0.421ml(5.44mmol)を滴下
し、室温で30分撹拌した。反応液を水、1N−水酸化
ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。カリウムt−ブトキシド0.56g(5.00mm
ol)をテトラヒドロフラン(15ml)に懸濁させ、
氷冷下N−ホルミル−2−フルフリルチオアセトアミド
1.0g(5.00mmol)のテトラヒドロフラン
(20ml)溶液を滴下し、室温で30分間撹拌後硫酸
水素テトラ−n−ブチルアンモニウム84mg(0.2
5mmol)を加えた。先のトルエン溶液を室温で滴下
し、更に5時間撹拌した。反応液を水、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
(Z)−N−ホルミル−N−〔4−〔4−ピペリジノメ
チル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−
(フルフリルチオ)アセトアミドを1.6g(収率79
%)得た。
Embedded image (Z) -4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2
-Oxy] -2-butenol 1.19 g (4.54 mm
ol), 0.79 ml of triethylamine (5.6 mmol)
l) was dissolved in 35 ml of toluene, and 0.421 ml (5.44 mmol) of methanesulfonyl chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. The reaction solution was washed with water and a 1N-sodium hydroxide solution, and dried over anhydrous sodium sulfate. 0.56 g of potassium t-butoxide (5.00 mm
ol) in tetrahydrofuran (15 ml),
Under ice-cooling, a solution of 1.0 g (5.00 mmol) of N-formyl-2-furfurylthioacetamide in 20 ml of tetrahydrofuran was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then 84 mg (0.2 mg) of tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate was added.
5 mmol) was added. The above toluene solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was further stirred for 5 hours. The reaction solution was washed with water and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography,
(Z) -N-formyl-N- [4- [4-piperidinomethyl] pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2-
1.6 g of (furfurylthio) acetamide (yield 79
%)Obtained.

【0169】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
5〜1.50(2H,m),1.50〜1.71(4
H,m),2.25〜2.60(4H,m),3.46
(2H,s),3.53(2H,s),3.82(2
H,s),4.49(2H,d,J=6.9Hz),
5.00(2H,d,J=6.3Hz),5.43〜
5.55(1H,m),6.80〜6.92(1H,
m),6.27(1H,d,J=2.9Hz),6.3
1(1H,m),6.74(1H,s),6.92(1
H,d,J=4.8Hz),7.37(1H,d,J=
2Hz),8.07(1H,d,J=5.1Hz),
9.19(1H,s) IR(ν,KBr):2928,1660,1614,
1556,1308cm-1 融点:68.1〜70.3℃(酢酸エチル−ジエチルエ
ーテルより再結晶)
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
5 to 1.50 (2H, m), 1.50 to 1.71 (4
H, m), 2.25 to 2.60 (4H, m), 3.46.
(2H, s), 3.53 (2H, s), 3.82 (2
H, s), 4.49 (2H, d, J = 6.9 Hz),
5.00 (2H, d, J = 6.3 Hz), 5.43-
5.55 (1H, m), 6.80-6.92 (1H,
m), 6.27 (1H, d, J = 2.9 Hz), 6.3
1 (1H, m), 6.74 (1H, s), 6.92 (1
H, d, J = 4.8 Hz), 7.37 (1H, d, J =
2 Hz), 8.07 (1H, d, J = 5.1 Hz),
9.19 (1H, s) IR (ν, KBr): 2928, 1660, 1614,
1556, 1308 cm -1 melting point: 68.1-70.3 ° C (recrystallized from ethyl acetate-diethyl ether)

【0170】(実施例16)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
(Example 16) (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化80】 (Z)−N−ホルミル−N−〔4−〔4−(ピペリジノ
メチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2
−(フルフリルチオ)アセトアミド0.24g(0.5
4mmol)をメタノール(5ml)に溶解し、p−ト
ルエンスルホン酸・一水和物0.226g(1.19m
mol)を加え、14時間撹拌した。反応液に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液(30ml)を加え、酢酸エチル
で2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、(Z)
−−N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−
2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチ
オ)アセトアミドを157mg(収率70%)得た。
Embedded image (Z) -N-formyl-N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2
-(Furfurylthio) acetamide 0.24 g (0.5
4 mmol) was dissolved in methanol (5 ml), and 0.226 g (1.19 m) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was dissolved.
mol) was added and stirred for 14 hours. A saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (30 ml) was added to the reaction solution, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate. The organic layer was washed with brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and (Z)
--N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-
157 mg (yield 70%) of 2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide was obtained.

【0171】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.55(2H,m),1.55−1.80(4
H,m),2.35−2.65(4H,m),3.23
(2H,s),3.53(2H,s),3.75(2
H,s),3.99(2H,dd,J=6.6Hz),
4.92(2H,d,J=7Hz),5.56−5.6
8(1H,m),5.80−5.92(1H,m),
6.20(1H,d,J=3Hz),6.29(1H,
dd,J=3.2Hz),6.78(1H,s),6.
88(1H,br−s),6.98(1H,br−
s),7.35(1H,d,J=2Hz),8.10
(1H,d,J=4Hz) IR(ν,film):3300,2940,165
5,1620,1560,1420,1405,130
0,1150,1040,1010,740cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.55 (2H, m), 1.55-1.80 (4
H, m), 2.35-2.65 (4H, m), 3.23.
(2H, s), 3.53 (2H, s), 3.75 (2
H, s), 3.99 (2H, dd, J = 6.6 Hz),
4.92 (2H, d, J = 7 Hz), 5.56-5.6
8 (1H, m), 5.80-5.92 (1H, m),
6.20 (1H, d, J = 3 Hz), 6.29 (1H, d, J = 3 Hz)
dd, J = 3.2 Hz), 6.78 (1H, s), 6.
88 (1H, br-s), 6.98 (1H, br-s)
s), 7.35 (1H, d, J = 2 Hz), 8.10
(1H, d, J = 4 Hz) IR (ν, film): 3300, 2940, 165
5,1620,1560,1420,1405,130
0, 1150, 1040, 1010, 740 cm -1

【0172】さらに、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペ
リジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニ
ル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミドは、シュウ
酸塩とし、エタノールより再結晶して以下に示す物性値
を得た。
Further, (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide was converted to oxalate and recrystallized from ethanol. The following physical property values were obtained.

【0173】融点 114−115℃ 元素分析 分子式C24313 7 Sとして C H N S 計算値 57.02 6.18 8.31 6.34 実測値 56.80 6.19 8.05 6.57[0173] mp 114-115 ℃ C H N S Calculated elemental analysis molecular formula C 24 H 31 N 3 O 7 S 57.02 6.18 8.31 6.34 Found 56.80 6.19 8.05 6.57

【0174】(実施例17)(Z)−N−メトキシカル
ボニル−N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジ
ル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリル
チオ)アセトアミド
Example 17 (Z) -N-methoxycarbonyl-N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化81】 (Z)−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2
−オキシ〕−2−ブテノール〕0.5g(1.9mmo
l)、トリエチルアミン0.33ml(2.3mmo
l)をトルエン30mlに溶解し、氷冷下塩化メタンス
ルホニル0.18ml(2.3mmol)を滴下し、室
温で30分間撹拌した。反応液を水、1N−水酸化ナト
リウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。カリウムt−ブトキシド0.24mg(2.1mm
ol)をテトラヒドロフラン5mlに懸濁させ、氷冷下
N−メトキシカルボニル−2−フルフリルチオアセトア
ミド0.48g(2.1mmol)のテトラヒドロフラ
ン(15ml)溶液を滴下し室温で30分間撹拌後、臭
化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム0.048g
(0.095mmol)を加えた。先のトルエン溶液を
室温で滴下し、更に3時間撹拌した。反応液を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、(Z)−N−メトキシカルボニル−N
−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オ
キシ〕−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセ
トアミドを0.86g(収率95%)得た。
Embedded image (Z) -4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2
-Oxy] -2-butenol] 0.5 g (1.9 mmol
l), 0.33 ml of triethylamine (2.3 mmol
l) was dissolved in 30 ml of toluene, and 0.18 ml (2.3 mmol) of methanesulfonyl chloride was added dropwise under ice-cooling, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. The reaction solution was washed with water and a 1N aqueous solution of sodium hydroxide, and dried over anhydrous sodium sulfate. 0.24 mg of potassium t-butoxide (2.1 mm
ol) was suspended in 5 ml of tetrahydrofuran, a solution of 0.48 g (2.1 mmol) of N-methoxycarbonyl-2-furfurylthioacetamide in 15 ml of tetrahydrofuran was added dropwise under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. 0.048 g of decyltributylphosphonium
(0.095 mmol) was added. The above toluene solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was further stirred for 3 hours. The reaction solution was washed with water and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give (Z) -N-methoxycarbonyl-N
0.86 g (95% yield) of-[4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide was obtained.

【0175】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.3
9−1.49(2H,m),1.53−1.67(4
H,m),2.32−2.40(4H,m),3.41
(2H,s),3.78(2H,s),3.80(3
H,s),3.83(2H,s),4.50(2H,
d,J=7.2Hz),4.99(2H,d,J=7.
8Hz),5.51−5.63(1H,m),5.82
−5.93(1H,m),6.24(1H,d,J=
2.7Hz),6.30(1H,dd,J=2.0,
2.7Hz),6.73(1H,s),6.88(1
H,d,J=5.2Hz),7.36(1H,d,J=
2.0Hz),8.06(1H,d,J=5.2H
z). IR(ν,neat):2940,1742,169
0,1614,1562cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.3
9-1.49 (2H, m), 1.53-1.67 (4
H, m), 2.32-2.40 (4H, m), 3.41
(2H, s), 3.78 (2H, s), 3.80 (3
H, s), 3.83 (2H, s), 4.50 (2H,
d, J = 7.2 Hz), 4.99 (2H, d, J = 7.
8 Hz), 5.51-5.63 (1H, m), 5.82
−5.93 (1H, m), 6.24 (1H, d, J =
2.7 Hz), 6.30 (1H, dd, J = 2.0,
2.7 Hz), 6.73 (1H, s), 6.88 (1
H, d, J = 5.2 Hz), 7.36 (1H, d, J =
2.0 Hz), 8.06 (1H, d, J = 5.2H)
z). IR (ν, neat): 2940, 1742, 169
0,1614,1562cm -1

【0176】(実施例18)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
(Example 18) (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide

【化82】 (Z)−N−ホルミル−N−〔4−〔4−(ピペリジノ
メチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニル〕−2
−(フルフリルチオ)アセトアミド0.5g(1.1m
mol)をテトラヒドロフラン4mlに溶解し、氷冷下
イソプロピルアミンテトラヒドロフラン溶液2.3ml
(2.3mmol)を滴下し、室温で10時間撹拌し
た。反応後溶媒を減圧下留去し、残留物を酢酸エチルに
溶解して飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミドを0.
41g(収率86%)を得た。
Embedded image (Z) -N-formyl-N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2
-(Furfurylthio) acetamide 0.5 g (1.1 m
mol) was dissolved in 4 ml of tetrahydrofuran, and 2.3 ml of an isopropylamine tetrahydrofuran solution was added under ice cooling.
(2.3 mmol) was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in ethyl acetate, washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide in 0.1%.
41 g (86% yield) were obtained.

【0177】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.55(2H,m),1.55−1.80(4
H,m),2.35−2.65(4H,m),3.23
(2H,s),3.53(2H,s),3.75(2
H,s),3.99(2H,dd,J=6.6Hz),
4.92(2H,d,J=7Hz),5.56−5.6
8(1H,m),5.80−5.92(1H,m),
6.20(1H,d,J=3Hz),6.29(1H,
dd,J=3.2Hz),6.78(1H,s),6.
88(1H,br−s),6.98(1H,br−
s),7.35(1H,d,J=2Hz),8.10
(1H,d,J=4Hz) IR(ν,film):3300,2940,165
5,1620,1560,1420,1405,130
0,1150,1040,1010,740cm-1
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.55 (2H, m), 1.55-1.80 (4
H, m), 2.35-2.65 (4H, m), 3.23.
(2H, s), 3.53 (2H, s), 3.75 (2
H, s), 3.99 (2H, dd, J = 6.6 Hz),
4.92 (2H, d, J = 7 Hz), 5.56-5.6
8 (1H, m), 5.80-5.92 (1H, m),
6.20 (1H, d, J = 3 Hz), 6.29 (1H, d, J = 3 Hz)
dd, J = 3.2 Hz), 6.78 (1H, s), 6.
88 (1H, br-s), 6.98 (1H, br-s)
s), 7.35 (1H, d, J = 2 Hz), 8.10
(1H, d, J = 4 Hz) IR (ν, film): 3300, 2940, 165
5,1620,1560,1420,1405,130
0, 1150, 1040, 1010, 740 cm -1

【0178】さらに、(Z)−N−〔4−〔4−(ピペ
リジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブテニ
ル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミドは、シュウ
酸塩とし、エタノールより再結晶して以下に示す物性値
を得た。
Further, (Z) -N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide was converted to oxalate and recrystallized from ethanol. The following physical property values were obtained.

【0179】融点 114−115℃ 元素分析 分子式C24313 7 Sとして C H N S 計算値 57.02 6.18 8.31 6.34 実測値 56.80 6.19 8.05 6.57Melting point: 114-115 ° C. Elemental analysis: Molecular formula: C 24 H 31 N 3 O 7 S Calculated for CHNS: 57.02 6.18 8.31 6.34 Found 56.80 6.19 8.05 6.57

【0180】(実施例19)(Z)−N−〔4−(テト
ラヒドロピラニル−2−オキシ)−2−ブテニル〕−2
−(フルフリルチオ)アセトアミド
Example 19 (Z) -N- [4- (tetrahydropyranyl-2-oxy) -2-butenyl] -2
-(Furfurylthio) acetamide

【化83】 (Z)−4−(テトラヒドロピラニル−2−オキシ)−
2−ブテン−1−オール1.2g、トリエチルアミン
0.76gを酢酸エチル30mlに溶解し、氷冷下、塩
化メタンスルホニル0.86gの酢酸エチル5ml溶液
を滴下し、1時間撹拌した。反応終了後、反応液を水、
飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を留去
した。(1)2−フルフリルチオアミド0.79gをテ
トラヒドロフラン10mlに溶解し、室温でカリウムt
−ブトキシド0.52gを加え30分撹拌した。さらに
(1)で得た反応処理物のテトラヒドロフラン10ml
溶液を滴下し、3時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶
媒を留去し、残留物を酢酸エチルにとり、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を留去した。残
留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、(Z)−
N−〔4−(テトラヒドロピラニル−2−オキシ)−2
−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトアミド
1.1g(収率78%)を得た。
Embedded image (Z) -4- (tetrahydropyranyl-2-oxy)-
1.2 g of 2-buten-1-ol and 0.76 g of triethylamine were dissolved in 30 ml of ethyl acetate, and a solution of 0.86 g of methanesulfonyl chloride in 5 ml of ethyl acetate was added dropwise under ice-cooling, followed by stirring for 1 hour. After the reaction is completed, the reaction solution is
The organic layer was washed successively with saturated saline, dried, and then the solvent was distilled off. (1) Dissolve 0.79 g of 2-furfurylthioamide in 10 ml of tetrahydrofuran and add potassium t
-Butoxide (0.52 g) was added and stirred for 30 minutes. Further, 10 ml of tetrahydrofuran of the reaction product obtained in (1)
The solution was added dropwise and stirred for 3 hours. After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was taken up in ethyl acetate, washed sequentially with water and saturated saline, and after drying the organic layer, the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel chromatography to give (Z)-
N- [4- (tetrahydropyranyl-2-oxy) -2
-Butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide (1.1 g, yield 78%) was obtained.

【0181】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0〜1.90(6H,m),3.21(2H,s),
3.50〜3.60(1H,m),3.74(2H,
s),3.70〜3.95(3H,m),4.10(1
H,dd,J=10Hz,6Hz),4.30(1H,
dd,J=10Hz,6Hz),6.65(1H,t,
J=3Hz),5.52〜5.63(1H,m),5.
70〜5.82(1H,m),6.21(1H,d,J
=3Hz)
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0 to 1.90 (6H, m), 3.21 (2H, s),
3.50-3.60 (1H, m), 3.74 (2H,
s), 3.70 to 3.95 (3H, m), 4.10 (1
H, dd, J = 10 Hz, 6 Hz), 4.30 (1H,
dd, J = 10 Hz, 6 Hz), 6.65 (1 H, t,
J = 3 Hz), 5.52 to 5.63 (1H, m), 5.
70 to 5.82 (1H, m), 6.21 (1H, d, J
= 3Hz)

【0182】(実施例20)(Z)−N−(4−ヒドロ
キシ−2−ブテニル)−2−(フルフリルチオ)アセト
アミド
Example 20 (Z) -N- (4-hydroxy-2-butenyl) -2- (furfurylthio) acetamide

【化84】 (Z)−N−〔4−(テトラヒドロピラニル−2−オキ
シ)−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセト
アミド4.48gをメタノール50mlに溶解し、p−
トルエンスルホン酸2.75gを加え3時間撹拌した。
反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル
にとり、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を乾燥後
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、N−(4−ヒドロキシ−(Z)−2−ブテニ
ル)−2−(フルフリルチオ)アセトアミド3.3g
(収率95%)を得た。
Embedded image Dissolve 4.48 g of (Z) -N- [4- (tetrahydropyranyl-2-oxy) -2-butenyl] -2- (furfurylthio) acetamide in 50 ml of methanol and add p-
2.75 g of toluenesulfonic acid was added and stirred for 3 hours.
After completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was taken up in ethyl acetate, washed sequentially with water and saturated saline, and the solvent was distilled off after drying the organic layer. The residue was subjected to silica gel chromatography, and 3.3 g of N- (4-hydroxy- (Z) -2-butenyl) -2- (furfurylthio) acetamide was obtained.
(95% yield).

【0183】1N−NMR(δ,CDCl3 ):3.2
1(2H,s),3.74(2H,s),3.88(2
H,t,J=6Hz),4.22(2H,t,J=6H
z),5.38〜5.52(1H,m),5.78〜
5.90(1H,m),6.21(1H,d,J=3H
z),6.29〜6.33(1H,m),6.95(1
H,br−s),7.37(1H,d,J=2Hz)
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 3.2
1 (2H, s), 3.74 (2H, s), 3.88 (2
H, t, J = 6 Hz), 4.22 (2H, t, J = 6H)
z), 5.38-5.52 (1H, m), 5.78-
5.90 (1H, m), 6.21 (1H, d, J = 3H
z), 6.29-6.33 (1H, m), 6.95 (1
H, br-s), 7.37 (1H, d, J = 2 Hz)

【0184】(実施例21)(Z)−N−〔4−〔4−
(ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ〕−2−ブ
テニル〕−N−2,4−ジメトキシベンジル−2−(フ
ルフリルチオ)アセトアミド
Example 21 (Z) -N- [4- [4-
(Piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenyl] -N-2,4-dimethoxybenzyl-2- (furfurylthio) acetamide

【化85】 (Z)−N−4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジル
−2−オキシ〕−2−ブテノール2.61g(0.01
mol)、トリエチルアミン1.21g(0.012m
ol)をトルエン50mlに溶解し、氷冷でメタンスル
ホニルクロリド1.26g(0.011mol)のトル
エン(10ml)溶液を滴下し、1時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに10mlのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。N−2,4−ジメ
トキシベンジル−2−フルフリルチオアセトアミド2.
89g(0.01mol)をトルエン20mlに溶解
し、室温でカリウムt−ブトキシド1.23g(0.0
11mol)を加え、1時間撹拌した。先の反応溶液を
室温で滴下し、さらに3時間撹拌した。反応溶液を水
(3回)、飽和食塩水で洗浄し、乾燥した後、溶媒を留
去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、N−〔4−〔4−(ピペリジノメチル)ピリジ
ル−2−オキシ〕−(Z)−2−ブテニル〕−N−2,
4−ジメトキシベンジル−2−(フルフリル)アセトア
ミドを5.1g(収率90%)得た。
Embedded image 2.61 g of (Z) -N-4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy] -2-butenol (0.01
mol), 1.21 g of triethylamine (0.012 m
ol) was dissolved in 50 ml of toluene, and a solution of 1.26 g (0.011 mol) of methanesulfonyl chloride in 10 ml of toluene was added dropwise with ice cooling, followed by stirring for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the solid was further washed with 10 ml of toluene, and the filtrate and the washing were combined. 1. N-2,4-dimethoxybenzyl-2-furfurylthioacetamide
89 g (0.01 mol) was dissolved in 20 ml of toluene, and 1.23 g (0.0%) of potassium t-butoxide was dissolved at room temperature.
11 mol) and stirred for 1 hour. The above reaction solution was added dropwise at room temperature, and the mixture was stirred for 3 hours. The reaction solution was washed with water (3 times) and saturated saline, dried, and then the solvent was distilled off. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give N- [4- [4- (piperidinomethyl) pyridyl-2-oxy]-(Z) -2-butenyl] -N-2,
5.1 g (yield 90%) of 4-dimethoxybenzyl-2- (furfuryl) acetamide was obtained.

【0185】1N−NMR(δ,CDCl3 ):1.4
0−1.65(2H,m),2.35(4H,t,J=
6Hz),3.37(4H,s),3.75(3H,
s),3.76(3H,s),3.88(2H,s),
4.05〜4.20(2H,m),4.43(1H,
s),4.57(1H,s),4.75〜4.85(2
H,m),5.75〜5.80(1H,m),6.22
〜6.32(2H,m),6.35〜6.45 (3H,
m),6.66(1H,s),6.82(1H,d,J
=3Hz),7.31(1H,s),7.47(1H,
d,J=3Hz)
1 N-NMR (δ, CDCl 3 ): 1.4
0-1.65 (2H, m), 2.35 (4H, t, J =
6Hz), 3.37 (4H, s), 3.75 (3H,
s), 3.76 (3H, s), 3.88 (2H, s),
4.05 to 4.20 (2H, m), 4.43 (1H,
s), 4.57 (1H, s), 4.75 to 4.85 (2
H, m), 5.75 to 5.80 (1H, m), 6.22
66.32 (2H, m), 6.35 to 6.45 (3H,
m), 6.66 (1H, s), 6.82 (1H, d, J
= 3 Hz), 7.31 (1H, s), 7.47 (1H,
d, J = 3Hz)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07D 407/12 C07D 407/12 (72)発明者 松本 正勝 神奈川県相模原市新磯野4−8−1− 509 (72)発明者 関根 安男 東京都新宿区西新宿2丁目7番1号 富 士レビオ株式会社内 (72)発明者 西村 雅人 東京都新宿区西新宿2丁目7番1号 富 士レビオ株式会社内 (72)発明者 細田 昭彦 東京都新宿区西新宿2丁目7番1号 富 士レビオ株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−193247(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 231/08 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────の Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C07D 407/12 C07D 407/12 (72) Inventor Masakatsu Matsumoto 4-81-509, Shinisono, Shinisono, Sagamihara-shi, Kanagawa (72) Invention Person Yasuo Sekine 2-7-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Fuji Rebio Co., Ltd. (72) Inventor Masato Nishimura 2-7-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Fuji Rebio Corporation (72) inventor Akihiko Hosoda Tokyo Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, 2-chome, No. 7 No. 1 Fuji Rebio within Co., Ltd. (56) reference Patent flat 1-193247 (JP, a) (58 ) investigated the field (Int.Cl. 7 , DB name) C07C 231/08 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (19)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式 【化1】 で表されるブテン誘導体と、一般式 【化2】 で表されるアミド誘導体とを反応させ、一般式 【化3】 で表されるアミノブテン誘導体の製造方法。(式中、R
1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しくは無置換の
芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基で
あり、Xは水酸基、ハロゲン原子、スルホニルオキシ
基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニルオキシ基
であるか、R1 と一体となり、環状の亜硫酸エステル、
硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基であり、Y
はアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又は水素原
子であり、R2 は水素原子、アルコキシル基、置換若し
くは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香族
炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基であり、
3 は水素原子、置換若しくは無置換のアシル基、アル
コキシカルボニル基、スルホニル基又は置換アルキル基
である。)。
1. A compound of the general formula And a butene derivative represented by the general formula: In Ru reacted to an amide derivative represented by the general formula ## STR3 ## A method for producing an aminobutene derivative represented by the formula: (Where R
1 is a hydrogen atom, a hydroxyl-protecting group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and X is a hydroxyl group, a halogen atom, a sulfonyloxy group, an acyloxy group or an alkoxycarbonyloxy group. Or with R 1 to form a cyclic sulfite,
A group forming a sulfate ester or a carbonate ester,
Is an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or a hydrogen atom, and R 2 is a hydrogen atom, an alkoxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group. A ring group,
R 3 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted acyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfonyl group, or a substituted alkyl group. ).
【請求項2】 前記アミド誘導体が、R2. The method according to claim 2, wherein the amide derivative is R 2Two CO基と等しEquivalent to CO group
くないRNot R 3Three 基を有する非対称アミド誘導体である請求項A non-symmetrical amide derivative having a group
1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。2. The method for producing the aminobutene derivative according to 1.
【請求項3】 R1 で表される水酸基の保護基が、テト
ラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、ベンジルオキ
シメチル基、エトキシエチル基、2−メトキシエチル
基、t−ブチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル
基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメ
チルシリル基、ホルミル基、アセチル基、n−プロピオ
ニル基、iso−プロピオニル基、n−ブチリル基、i
so−ブチリル基、バレリル基、iso−バレリル基、
ピバロイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、iso−ブトキ
シカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボ
ニル基又はフェニルオキシカルボニル基である請求項1
記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
3. The protecting group for a hydroxyl group represented by R 1 is a tetrahydropyranyl group, a methoxymethyl group, a benzyloxymethyl group, an ethoxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, a t-butyl group, a benzyl group or a benzyl group. -Methoxybenzyl group, diphenylmethyl group, triphenylmethyl group, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, formyl group, acetyl group, n-propionyl group, iso-propionyl group, n-butyryl group, i
so-butyryl group, valeryl group, iso-valeryl group,
A pivaloyl group, a benzoyl group, a naphthoyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an iso-butoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group or a phenyloxycarbonyl group. 1
The method for producing the aminobutene derivative described above.
【請求項4】 R1 で表される芳香族炭化水素基が、フ
ェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、3−(テトラ
ヒドロピラニル−2−オキシメチル)フェニル基、3−
(メトキシメトキシメチル)フェニル基、3−ホルミル
フェニル基、3−(ジエトキシメチル)フェニル基、3
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フェニル基、3
−(ピペリジノメチル)フェニル基、3−(ジメチルア
ミノメチル)フェニル基、4−(テトラヒドロピラニル
−2−オキシメチル)フェニル基、4−(メトキシメト
キシメチル)フェニル基、4−ホルミルフェニル基、4
−(ジエトキシメチル)フェニル基、4−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)フェニル基、4−(ピペリジノ
メチル)フェニル基、4−(ジメチルアミノメチル)フ
ェニル基、2−(テトラヒドロピラニル−2−オキシメ
チル)フェニル基、2−(メトキシメトキシメチル)フ
ェニル基、2−ホルミルフェニル基、2−(ジエトキシ
メチル)フェニル基、2−(1,3−ジオキソラン−2
−イル)フェニル基、2−(ピペリジノメチル)フェニ
ル基又は2−(ジメチルアミノメチル)フェニル基であ
る請求項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
4. The aromatic hydrocarbon group represented by R 1 is a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group, a 3- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) phenyl group,
(Methoxymethoxymethyl) phenyl group, 3-formylphenyl group, 3- (diethoxymethyl) phenyl group, 3
-(1,3-dioxolan-2-yl) phenyl group, 3
-(Piperidinomethyl) phenyl group, 3- (dimethylaminomethyl) phenyl group, 4- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) phenyl group, 4- (methoxymethoxymethyl) phenyl group, 4-formylphenyl group,
-(Diethoxymethyl) phenyl group, 4- (1,3-dioxolan-2-yl) phenyl group, 4- (piperidinomethyl) phenyl group, 4- (dimethylaminomethyl) phenyl group, 2- (tetrahydropyranyl- 2-oxymethyl) phenyl group, 2- (methoxymethoxymethyl) phenyl group, 2-formylphenyl group, 2- (diethoxymethyl) phenyl group, 2- (1,3-dioxolan-2)
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is a -yl) phenyl group, a 2- (piperidinomethyl) phenyl group or a 2- (dimethylaminomethyl) phenyl group.
【請求項5】 R1 で表される複素環基が、ピリジル
基、キノリル基、iso−キノリル基、チエニル基、フ
リル基、3−(テトラヒドロピラニル−2−オキシメチ
ル)−2−ピリジル基、3−(メトキシメトキシメチ
ル)−2−ピリジル基、3−ホルミル−2−ピリジル
基、3−(ジエトキシメチル)−2−ピリジル基、3−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−ピリジル
基、3−(ピペリジノメチル)−2−ピリジル基、3−
(ジメチルアミノメチル)−2−ピリジル基、4−(テ
トラヒドロピラニル−2−オキシメチル)−2−ピリジ
ル基、4−(メトキシメトキシメチル)−2−ピリジル
基、4−ホルミル−2−ピリジル基、4−(ジエトキシ
メチル)−2−ピリジル基、4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−ピリジル基、4−(ピペリジノメ
チル)−2−ピリジル基、4−(ジメチルアミノメチ
ル)−2−ピリジル基、5−(テトラヒドロピラニル−
2−オキシメチル)−2−ピリジル基、5−(メトキシ
メトキシメチル)−2−ピリジル基、5−ホルミル−2
−ピリジル基、5−(ジエトキシメチル)−2−ピリジ
ル基、5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−
ピリジル基、5−(ピペリジノメチル)−2−ピリジル
基又は5−(ジメチルアミノメチル)−2−ピリジル基
である請求項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
5. The heterocyclic group represented by R 1 is a pyridyl group, a quinolyl group, an iso-quinolyl group, a thienyl group, a furyl group, a 3- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) -2-pyridyl group , 3- (methoxymethoxymethyl) -2-pyridyl group, 3-formyl-2-pyridyl group, 3- (diethoxymethyl) -2-pyridyl group, 3-
(1,3-dioxolan-2-yl) -2-pyridyl group, 3- (piperidinomethyl) -2-pyridyl group, 3-
(Dimethylaminomethyl) -2-pyridyl group, 4- (tetrahydropyranyl-2-oxymethyl) -2-pyridyl group, 4- (methoxymethoxymethyl) -2-pyridyl group, 4-formyl-2-pyridyl group , 4- (diethoxymethyl) -2-pyridyl, 4- (1,3-dioxolan-2-yl) -2-pyridyl, 4- (piperidinomethyl) -2-pyridyl, 4- (dimethylaminomethyl ) -2-pyridyl group, 5- (tetrahydropyranyl-
2-oxymethyl) -2-pyridyl group, 5- (methoxymethoxymethyl) -2-pyridyl group, 5-formyl-2
-Pyridyl group, 5- (diethoxymethyl) -2-pyridyl group, 5- (1,3-dioxolan-2-yl) -2-
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is a pyridyl group, a 5- (piperidinomethyl) -2-pyridyl group or a 5- (dimethylaminomethyl) -2-pyridyl group.
【請求項6】 Xで表されるスルホニルオキシ基が、メ
タンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエ
ンスルホニルオキシ基又はイミダゾスルホニルオキシ基
である請求項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
6. The aminobutene according to claim 1, wherein the sulfonyloxy group represented by X is a methanesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a benzenesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group or an imidazosulfonyloxy group. A method for producing a derivative.
【請求項7】 Xで表されるアシルオキシ基が、ホルミ
ルオキシ基、アセチルオキシ基、n−プロピオニルオキ
シ基、iso−プロピオニルオキシ基、n−ブチリルオ
キシ基、iso−ブチリルオキシ基、バレリルオキシ
基、iso−バレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基又はナフトイルオキシ基である請求
項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
7. An acyloxy group represented by X is a formyloxy group, an acetyloxy group, an n-propionyloxy group, an iso-propionyloxy group, an n-butyryloxy group, an iso-butyryloxy group, a valeryloxy group, an iso-valeryloxy group. Group, pivaloyloxy group,
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is a benzoyloxy group or a naphthoyloxy group.
【請求項8】 Xで表されるアルコキシカルボニルオキ
シ基が、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボ
ニルオキシ基、iso−ブトキシカルボニルオキシ基、
アリルオキシカルボニルオキシ基、ベンジルオキシカル
ボニルオキシ基、9−フルオレニルメトキシカルボニル
オキシ基又はフェニルオキシカルボニルオキシ基である
請求項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
8. An alkoxycarbonyloxy group represented by X is a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, an iso-butoxycarbonyloxy group,
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is an allyloxycarbonyloxy group, a benzyloxycarbonyloxy group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyloxy group, or a phenyloxycarbonyloxy group.
【請求項9】 R2 で表されるアルコキシ基が、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、iso−ブトキシ
基、t−ブトキシ基又はベンジルオキシ基である請求項
1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
9. The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, wherein the alkoxy group represented by R 2 is a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an iso-butoxy group, a t-butoxy group or a benzyloxy group.
【請求項10】 R2 で表されるアルキル基が、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフル
オロメチル基、ベンジル基、フルフリルチオメチル基、
フルフリルスルフィニルメチル基又はフルフリルスルホ
ニルメチル基である請求項1記載のアミノブテン誘導体
の製造方法。
10. The alkyl group represented by R 2 is methyl, ethyl, propyl, butyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, trifluoromethyl, benzyl, or furfurylthiomethyl. Group,
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is a furfurylsulfinylmethyl group or a furfurylsulfonylmethyl group.
【請求項11】 R2 で表される芳香族炭化水素基が、
フェニル基、ナフチル基又はアンスリル基であり、該芳
香族炭化水素基は、アルキル基、アルコキシル基、ハロ
ゲン原子、ニトロ基又はアミノ基で置換されていてもよ
い請求項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
11. An aromatic hydrocarbon group represented by R 2 is:
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, wherein the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group, and the aromatic hydrocarbon group may be substituted with an alkyl group, an alkoxyl group, a halogen atom, a nitro group, or an amino group. .
【請求項12】 R2 で表される複素環基が、ピリジル
基、キノリル基、iso−キノリル基、チエニル基又は
フリル基であり、該複素環基は、アルキル基、アルコキ
シル基、ハロゲン原子、ニトロ基又はアミノ基で置換さ
れていてもよい請求項1記載のアミノブテン誘導体の製
造方法。
12. The heterocyclic group represented by R 2 is a pyridyl group, a quinolyl group, an iso-quinolyl group, a thienyl group or a furyl group, wherein the heterocyclic group is an alkyl group, an alkoxyl group, a halogen atom, The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which may be substituted with a nitro group or an amino group.
【請求項13】 R3 で表されるアシル基が、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチル基、バレリル
基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロ
ロアセチル基、トリフルオロアセチル基、フェニルアセ
チル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、フロイル基、テ
ノイル基、ニコチイル基又はiso−ニコチイル基であ
る請求項1記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
13. The acyl group represented by R 3 is a formyl group, acetyl group, propionyl group, butyl group, valeryl group, chloroacetyl group, dichloroacetyl group, trichloroacetyl group, trifluoroacetyl group, phenylacetyl group. The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is a benzoyl group, a naphthoyl group, a furoyl group, a thenoyl group, a nicotiyl group or an iso-nicotiyl group.
【請求項14】 R3 で表されるアルコキシカルボニル
基が、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
iso−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニ
ル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカル
ボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基又は
フェニルオキシカルボニル基である請求項1記載のアミ
ノブテン誘導体の製造方法。
14. An alkoxycarbonyl group represented by R 3 is a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group,
The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, which is an iso-butoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group, or a phenyloxycarbonyl group.
【請求項15】 R3 で表されるスルホニル基が、メタ
ンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベ
ンゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基又はイ
ミダゾスルホニル基である請求項1記載のアミノブテン
誘導体の製造方法。
15. The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, wherein the sulfonyl group represented by R 3 is a methanesulfonyl group, a trifluoromethanesulfonyl group, a benzenesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group or an imidazosulfonyl group.
【請求項16】 R3 で表される置換アルキル基が、ベ
ンジル基、4−メトキシベンジル基又は2,4−ジメト
キシベンジル基である請求項1記載のアミノブテン誘導
体の製造方法。
16. The method for producing an aminobutene derivative according to claim 1, wherein the substituted alkyl group represented by R 3 is a benzyl group, a 4-methoxybenzyl group or a 2,4-dimethoxybenzyl group.
【請求項17】 R3 が水素原子である一般式 【化4】 で表されるアミノブテン誘導体を製造することを特徴と
する請求項1記載の方法。
17. A compound of the general formula wherein R 3 is a hydrogen atom. The method according to claim 1, wherein the aminobutene derivative represented by the formula is produced.
【請求項18】 R1 が、 【化5】 (式中、R11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−2−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基、ピペリジノ
メチル基又はジメトキシアミノメチル基を表す。)であ
り、Xが、水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオ
キシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ベン
ゼンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基又はイミ
ダゾスルホニル基であり、R2 が、 【化6】 (式中、nは0、1又は2を表す。)であり、R3 が水
素である一般式 【化7】 で表されるピリジルオキシ誘導体を製造することを特徴
とする請求項1記載の方法。
18. R 1 is represented by the following formula: (Wherein, R 11 is a hydroxymethyl group, a tetrahydropyranyl-2-oxymethyl group, a methoxymethoxymethyl group, a formyl group, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, a piperidinomethyl It represents a group or a dimethoxy aminomethyl group.), and, X is a hydroxyl group, a halogen atom, methanesulfonyloxy group, trifluoromethanesulfonyloxy group, benzenesulfonyl group, a p- toluenesulfonyl group or imidazo sulfonyl group, R 2 Is (Wherein n represents 0, 1 or 2), and R 3 is hydrogen. The method according to claim 1, wherein the pyridyloxy derivative represented by the following formula is produced.
【請求項19】 R1 が 【化8】 (式中、R11は、ヒドロキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル−2−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基、ピペリジノ
メチル基又はジメチルアミノメチル基を表す。)であ
り、R2 が、 【化9】 (式中、nは0、1又は2を表す。)であり、R3 が、 【化10】 (式中、R12は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、
置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基、炭素数1〜6
のアルコキシ基又は置換若しくは無置換のアリールオキ
シ基を表す。)である一般式 【化11】 で表されるアセトイミド化合物を製造する請求項1記載
の方法。
19. R 1 is embedded image (Wherein, R 11 is a hydroxymethyl group, a tetrahydropyranyl-2-oxymethyl group, a methoxymethoxymethyl group, a formyl group, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, Represents a piperidinomethyl group or a dimethylaminomethyl group), and R 2 is (Wherein n represents 0, 1 or 2), and R 3 is (Wherein, R 12 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, having 1 to 6 carbon atoms
Represents an alkoxy group or a substituted or unsubstituted aryloxy group. ) Is a general formula The method according to claim 1, wherein the acetimide compound represented by the formula is produced.
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