JP3199587B2 - Arc confinement device for vacuum arc deposition equipment - Google Patents

Arc confinement device for vacuum arc deposition equipment

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JP3199587B2
JP3199587B2 JP30935194A JP30935194A JP3199587B2 JP 3199587 B2 JP3199587 B2 JP 3199587B2 JP 30935194 A JP30935194 A JP 30935194A JP 30935194 A JP30935194 A JP 30935194A JP 3199587 B2 JP3199587 B2 JP 3199587B2
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arc
target
cover
confinement
vacuum
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毅 鈴木
克彦 下島
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Kobe Steel Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アーク放電を利用して
金属を蒸発・イオン化して被処理物の表面にコーティン
グする真空アーク蒸着装置(アークイオンプレーティン
グ装置)のアーク閉じ込め装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an arc confinement device of a vacuum arc vapor deposition device (arc ion plating device) for evaporating and ionizing a metal by using an arc discharge to coat the surface of a workpiece.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種、真空アーク蒸着装置のアーク閉
じ込め装置としては、例えば、特開平5−106025
号公報に記載のものが公知である。この従来のものは、
棒状ターゲット(前記公報記載の「陰極1 」)の所要蒸
発表面からアークスポットが逃げるのを阻止するため
に、該棒状ターゲットの一端部にアーク閉じ込めリング
(前記公報記載の「絶縁器12」)を有するものであっ
た。そして、このアーク閉じ込めリングは、棒状ターゲ
ットの外径に比して十分大きな外径を有し、棒状ターゲ
ットの端部に同芯状に差し込まれていた。
2. Description of the Related Art As an arc confinement device of this kind, a vacuum arc vapor deposition device is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-106025.
The one described in Japanese Patent Application Publication No. HEI 9-203 is known. This conventional one,
In order to prevent the arc spot from escaping from the required evaporation surface of the rod-shaped target ("cathode 1" described in the above-mentioned publication), an arc confinement ring ("insulator 12" described in the above-mentioned publication) is provided at one end of the rod-like target. Had. The arc confinement ring had an outer diameter sufficiently larger than the outer diameter of the rod-shaped target, and was inserted concentrically at the end of the rod-shaped target.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】前記従来のアーク閉じ
込め装置は、棒状ターゲットの表面上での長時間のアー
ク蒸発により、該蒸発面より径方向外方に突出したアー
ク閉じ込めリングの表面に、蒸発した蒸気が付着堆積
し、該リング表面の堆積物がターゲットと短絡し、アー
ク閉じ込め機能が不十分となる場合があった。
In the conventional arc confinement device, the long-time arc evaporation on the surface of the rod-shaped target causes the surface of the arc confinement ring projecting radially outward from the evaporation surface to evaporate. In some cases, the deposited vapor adheres and deposits, deposits on the surface of the ring short-circuit with the target, and the arc confinement function becomes insufficient.

【0004】そこで、本発明は、蒸発した蒸気がアーク
閉じ込めリングに堆積しないようにした真空アーク蒸着
装置のアーク閉じ込め装置を提供することを目的とす
る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device that prevents evaporated vapor from being deposited on an arc confinement ring.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、次の手段を講じた。即ち、本発明の特徴
とするところは、棒状ターゲットの端部に、電気的絶縁
状態を維持して、該ターゲットと略同一径のアーク閉じ
込め体が同芯状に配置され、該アーク閉じ込め体とター
ゲットとの境界部を径方向に所定間隙を有して覆うカバ
ーが設けられた点にある。
In order to achieve the above object, the present invention takes the following measures. That is, it is an aspect of the present invention, the end portion of the rod-shaped target and maintaining electrical insulation state, arc containment of substantially the same diameter as said target is disposed coaxially, and said arc containment body Tar
Cover that covers the boundary with the get with a predetermined gap in the radial direction
Is provided .

【0006】前記アーク閉じ込め体は、周方向に沿って
一様な形状に構成されていることが好ましい。前記アー
ク閉じ込め体を金属製で構成した場合は、前記ターゲッ
ト端面とアーク閉じ込め体との間に所定間隙を形成して
絶縁状態を維持するのが好ましい。前記アーク閉じ込め
体を絶縁物で構成した場合、ターゲットの端面に密着し
て配置することができる。
[0006] It is preferable that the arc confinement body is formed in a uniform shape along the circumferential direction. When the arc confinement body is made of metal, it is preferable that a predetermined gap is formed between the target end face and the arc confinement body to maintain an insulating state. When the arc confinement body is made of an insulator, it can be arranged in close contact with the end face of the target.

【0007】前記棒状ターゲットの端部に電極が接続さ
れ、前記アーク閉じ込め体が前記電極外周部に電気的絶
縁状態を維持して設けらるのが好ましい。
Preferably, an electrode is connected to the end of the rod-shaped target, and the arc confinement body is provided on the outer periphery of the electrode while maintaining an electrically insulated state.

【0008】前記ターゲット外周面とカバーとの径方向
間隙は、1〜10mmとするのが好ましい。前記ターゲ
ット外周面とカバーとの径方向間隙をDとし、軸方向の
重なりをLとしたとき、D<L<3Dの関係を有するの
が好ましい。前記カバーはリング状に形成され、その肉
厚は、1〜3mmとするのが好ましい。
The radial gap between the outer peripheral surface of the target and the cover is preferably 1 to 10 mm. When the radial gap between the outer peripheral surface of the target and the cover is D and the overlap in the axial direction is L, it is preferable that the relationship of D <L <3D is satisfied. The cover is formed in a ring shape, and preferably has a thickness of 1 to 3 mm.

【0009】前記カバーはリング状に形成され、該カバ
ーのターゲット側端部の外周面は、先細テーパ面に形成
するのが好ましい。前記棒状ターゲットの端部に電極が
接続され、前記カバーが前記電極外周部に電気的絶縁状
態を維持して設けられているのが好ましい。
Preferably, the cover is formed in a ring shape, and the outer peripheral surface of the end of the cover on the target side is formed as a tapered surface. Preferably, an electrode is connected to the end of the rod-shaped target, and the cover is provided on the outer periphery of the electrode while maintaining an electrically insulated state.

【0010】前記棒状ターゲットの端部に電極が接続さ
れ、前記アーク閉じ込め体が前記電極外周部に電気的絶
縁状態を維持して設けられ、前記カバーはリング状に形
成され、該カバーは前記アーク閉じ込め体に支持されて
いるのが好ましい。他の本発明の特徴とするところは、
軸心が上下方向になるよう配置された棒状ターゲットの
下端部外周面を、径方向に所定間隙を有して覆うカバー
が設けられ、該カバーには、前記間隙を通過する異物を
落下排出する排出部が設けられている点にある。
[0010] An electrode is connected to the end of the rod-shaped target, the arc confinement body is provided on the outer periphery of the electrode while maintaining an electrically insulated state, the cover is formed in a ring shape, and the cover is formed of the arc. Preferably it is supported by a containment body. Other features of the present invention include:
A cover is provided to cover the outer peripheral surface of the lower end portion of the rod-shaped target arranged so that the axis is vertically oriented with a predetermined gap in the radial direction, and the cover drops and discharges foreign matter passing through the gap. The point is that a discharge unit is provided.

【0011】尚、本発明で言うところの棒状ターゲット
の「棒状」とは、中実体のみならず中空体も含み、その
外面形状は円形に限らず楕円形、多角形等も含み、ま
た、その軸心は直線状のみならず曲線状のものも含むも
のである。
Incidentally, the term "rod-like" of the rod-like target referred to in the present invention includes not only a solid body but also a hollow body, and the outer surface shape thereof is not limited to a circle but also includes an elliptical shape, a polygonal shape, and the like. The axis center includes not only a straight line but also a curved line.

【0012】[0012]

【作用】真空アーク蒸着装置によれば、ターゲットから
発生する蒸気の大部分は、該ターゲットの表面に垂直方
向(径方向外方)に向かって移動する性質を有する。従
って、本発明によれば、アーク閉じ込め体がターゲット
の軸方向外方に配置され、且つ、ターゲットと同芯、同
径であるため、即ち、ターゲットの径方向外方には、ア
ーク閉じ込め体が存在しないため、アーク閉じ込め体外
周面に前記蒸気が堆積し難い(ターゲットから蒸発した
蒸気が、アーク閉じ込め体方向に移動し難いため。)。
従って、アーク閉じ込め体とターゲットとの短絡が生じ
ず、アーク閉じ込め機能が損なわれることがない。
According to the vacuum arc evaporation apparatus, most of the vapor generated from the target has the property of moving in a direction perpendicular to the surface of the target (radially outward). Therefore, according to the present invention , the arc confinement body is arranged outside the target in the axial direction, and is concentric with the target and has the same diameter, that is, the arc confinement body is radially outside the target. Since it does not exist, the vapor hardly accumulates on the outer peripheral surface of the arc confinement body (since the vapor evaporated from the target does not easily move toward the arc confinement body).
Therefore, no short circuit occurs between the arc confinement body and the target, and the arc confinement function is not impaired.

【0013】本発明によれば、ターゲット端部外周面と
カバーとの間に所定の間隙が設けられているので、例
え、カバーに蒸気が付着堆積しても、ターゲットとカバ
ーの短絡が生じ難く、アーク閉じ込め機能が損なわれる
ことがない。また、ターゲットとアーク閉じ込め体との
間隙にダスト等の異物が詰まると、アーク閉じ込め機能
が不十分となり、また、ターゲットが消耗して径が細く
なると、短絡のおそれも生じるが、本発明では、そのよ
うな問題が解消される。
According to the present invention , since a predetermined gap is provided between the outer peripheral surface of the target end portion and the cover, a short circuit between the target and the cover hardly occurs even if vapor adheres and accumulates on the cover. The arc confinement function is not impaired. In addition, if the foreign matter such as dust in the gap between the data Getto and the arc containment body is clogged, arc containment function is insufficient, also, if the diameter target is exhausted becomes narrower, but caused us it is also a short-circuit, in the present invention , Such a problem is solved.

【0014】他の本発明によれば、ダスト等の異物の排
出が容易になるので、ターゲットとカバーとの間隙に詰
まった異物による短絡が防止される。
According to another aspect of the present invention, foreign matter such as dust is easily discharged, so that a short circuit due to foreign matter clogging a gap between the target and the cover is prevented.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図1に示すものは、真空アーク蒸着装置の全体構成
であり、真空容器1 の内部に棒状ターゲット2 が縦軸姿
勢に配置されている。このターゲット2 を取り囲むよう
にワークとしての基板3 が設置される。前記ターゲット
2 の筒部の少なくとも最外周部は、蒸発させて前記基板
3 上に皮膜を形成する材料により構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the overall configuration of a vacuum arc evaporation apparatus, in which a rod-shaped target 2 is arranged in a vacuum vessel 1 in a vertical axis position. A substrate 3 as a work is set so as to surround the target 2. The target
At least the outermost peripheral portion of the cylindrical portion 2 is evaporated to
3 Consists of a material that forms a film on it.

【0016】前記棒状ターゲット2 の上下両端部にアー
ク電源4 の陰極が接続されている。このアーク電源4 の
陽極は前記真空容器1 に接続されている。前記真空容器
1 の内面に点火装置のストライカ5 が設けられている。
この真空容器1 は、図示省略の排気装置によって所定の
圧力に保持可能とされている。前記真空アーク蒸着装置
により前記基板3 上に皮膜を形成させるには、まず、図
示省略の排気装置により真空容器1 内を排気して所定圧
の真空状態を保つ。そして、ストライカ5 により前記タ
ーゲット2 から真空アーク放電を発生させると、該ター
ゲット2 の表面にアーク電流が集中したアークスポット
が現れ、ターゲット材料を蒸発させる。
A cathode of an arc power supply 4 is connected to both upper and lower ends of the rod-shaped target 2. The anode of the arc power supply 4 is connected to the vacuum vessel 1. The vacuum container
The striker 5 of the ignition device is provided on the inner surface of 1.
The vacuum vessel 1 can be maintained at a predetermined pressure by an exhaust device (not shown). In order to form a film on the substrate 3 by the vacuum arc evaporation apparatus, first, the inside of the vacuum vessel 1 is evacuated by an exhaust device (not shown) to maintain a vacuum state at a predetermined pressure. Then, when a vacuum arc discharge is generated from the target 2 by the striker 5, an arc spot where an arc current is concentrated appears on the surface of the target 2 to evaporate the target material.

【0017】蒸発したターゲット材料の蒸気は、真空容
器1 内に設置した基板3 に向かって移動し、該基板3 上
に皮膜を形成する。基板3 には、必要に応じて図示しな
い電源によって負の電圧(バイアス電圧)が印加され、
前記蒸気の中のイオンを加速しながら皮膜成形が行われ
る。また、必要に応じて真空容器1 内には窒素等の反応
性のガスが導入され、ターゲット材料との化合物の皮膜
を形成することもある。
The vapor of the vaporized target material moves toward the substrate 3 placed in the vacuum vessel 1 and forms a film on the substrate 3. A negative voltage (bias voltage) is applied to the substrate 3 by a power source (not shown) as necessary.
The film is formed while accelerating the ions in the vapor. Further, a reactive gas such as nitrogen may be introduced into the vacuum vessel 1 as needed to form a film of a compound with the target material.

【0018】前記皮膜成形に際し、図示省略の制御装置
により、前記ターゲット2 の表面に発生したアークスポ
ットを、ターゲット2 の軸端部の一方から他方にわたっ
て移動させ、ターゲット2 の表面から均一にターゲット
材料を蒸発させるよう制御する。この制御に際し、ター
ゲット2 の所要蒸発表面からアークスポットが逃げるの
を阻止するためのアーク閉じ込め装置6 が、前記ターゲ
ット2 の両端部に設けられている。
In forming the film, an arc spot generated on the surface of the target 2 is moved from one of the axial ends of the target 2 to the other by a control device (not shown) so that the target material is uniformly distributed from the surface of the target 2. Is controlled to evaporate. In this control, arc confinement devices 6 for preventing the arc spot from escaping from the required evaporation surface of the target 2 are provided at both ends of the target 2.

【0019】即ち、アークスポットが棒状ターゲット2
の外周面から端部の端面側に回り込まないように阻止す
るためのアーク閉じ込め装置6 が設けられている。図2
に、前記アーク閉じ込め装置6 の詳細が示されている。
図2において、前記ターゲット2 は中空円筒体に成形さ
れ、該ターゲット2 の長手方向両端に段付き穴7 が形成
されている。そしてこの段付き穴7 に電極8 が嵌着され
て、該電極8 とターゲット2 とが電気的に接続されてい
る。この電極8は、前記アーク電源4 の陰極に接続され
ている。
That is, the arc spot is a rod-shaped target 2
There is provided an arc confinement device 6 for preventing the outer peripheral surface from sneaking into the end surface side of the end portion. FIG.
The details of the arc confinement device 6 are shown in FIG.
In FIG. 2, the target 2 is formed into a hollow cylindrical body, and stepped holes 7 are formed at both ends in the longitudinal direction of the target 2. An electrode 8 is fitted into the stepped hole 7, and the electrode 8 and the target 2 are electrically connected. This electrode 8 is connected to the cathode of the arc power supply 4.

【0020】前記電極8 は、前記段付き穴7 に嵌合する
小径部9 と、該小径部9 よりも大径で且つターゲット2
の端面2aから外方に突出する中径部10と、該中径部10よ
りも大径のフランジ部11とを有する。このフランジ部11
の外径は前記ターゲット2 の外径よりも小さい。このフ
ランジ部11には、電極8 の軸心と平行な軸心を有するネ
ジ穴12が周方向に所定間隙をおいて設けられている。
The electrode 8 has a small-diameter portion 9 fitted into the stepped hole 7 and a target 2 having a larger diameter than the small-diameter portion 9 and having a smaller diameter.
And a flange portion 11 having a diameter larger than that of the intermediate diameter portion 10. This flange part 11
Is smaller than the outer diameter of the target 2. The flange portion 11 is provided with a screw hole 12 having an axis parallel to the axis of the electrode 8 with a predetermined gap in the circumferential direction.

【0021】前記ターゲット2 の両端面2aより軸方向外
方に突出する前記電極8 の外周を覆うように、アーク閉
じ込め体13が設けられている。前記アーク閉じ込め体13
は、金属製、望ましくは磁性体の短円筒状リングからな
る。このアーク閉じ込め体13の外径は、前記ターゲット
2 の外径と同一とされている。そして、アーク閉じ込め
体13と前記ターゲット2 とは同芯状に配置されている。
An arc confinement body 13 is provided so as to cover the outer periphery of the electrode 8 protruding outward in the axial direction from both end surfaces 2a of the target 2. The arc confinement body 13
Consists of a short, cylindrical ring of metal, preferably magnetic. The outer diameter of the arc confinement body 13 is
It has the same outer diameter as 2. The arc confinement body 13 and the target 2 are arranged concentrically.

【0022】前記アーク閉じ込め体13の軸方向中途部の
内面には、径内方へ突出する取付部14が設けられ、該取
付部14の内周面と前記電極8 の中径部10の外周面とが間
隙を介して対面するよう配置されている。この取付部14
に前記ネジ穴12と同ピッチで取付穴15が設けられてい
る。そして、この取付穴15に絶縁ガイシ16を介してネジ
17が挿入され、該ネジ17が前記ネジ穴12に螺合すること
により、アーク閉じ込め体13は、電気的絶縁を保って電
極8 に固定される。
A mounting portion 14 is provided on the inner surface of the arc confinement body 13 at an intermediate portion in the axial direction. The mounting portion 14 protrudes radially inward, and the inner peripheral surface of the mounting portion 14 and the outer peripheral surface of the intermediate diameter portion 10 of the electrode 8 are provided. The surfaces are arranged so as to face each other via a gap. This mounting part 14
Further, mounting holes 15 are provided at the same pitch as the screw holes 12. Then, screw this mounting hole 15 through the insulating insulator 16
17 is inserted, and the screw 17 is screwed into the screw hole 12, so that the arc confinement body 13 is fixed to the electrode 8 while maintaining electrical insulation.

【0023】前記アーク閉じ込め体13とターゲット2 と
の端面同士は、0.2mm〜2mmの僅かな間隙をおい
て対面しているので、電気的に絶縁されている。以上の
構成のアーク閉じ込め装置6 によれば、アーク閉じ込め
体13がターゲット2 の端部に電気的に絶縁されて配置さ
れているので、ターゲット2 の外周面を走査しているア
ークスポットは、その外周面から端面2aへの移動が阻止
され、結果として、アークスポットはターゲット2 の外
周面の所定蒸発面に追い返されて、アークの安定化が達
成できる。
Since the end faces of the arc confinement body 13 and the target 2 face each other with a slight gap of 0.2 mm to 2 mm, they are electrically insulated. According to the arc confinement device 6 having the above-described configuration, the arc confinement body 13 is disposed at the end of the target 2 so as to be electrically insulated. Movement from the outer peripheral surface to the end surface 2a is prevented, and as a result, the arc spot is repelled to a predetermined evaporation surface on the outer peripheral surface of the target 2, thereby stabilizing the arc.

【0024】さらにアーク閉じ込め体13は、ターゲット
2 と同芯同軸に配置され、しかも、ターゲット2 の外径
と同径であるので、ターゲット2 の外周面から発生する
ターゲット材料の蒸気のアーク閉じ込め体13への堆積を
抑止できる。即ち、一般にアークスポットからの材料蒸
発に関しては、蒸発面に平行な方向への蒸発粒子は極め
て少ないので、アーク閉じ込め体13が蒸発面より突出し
ていない本発明では、アーク閉じ込め体13への堆積を抑
止できるのである。
Furthermore, the arc confinement body 13
Since it is arranged coaxially and coaxially with the target 2 and has the same diameter as the outer diameter of the target 2, the deposition of the vapor of the target material generated from the outer peripheral surface of the target 2 on the arc confinement body 13 can be suppressed. That is, in general, with respect to material evaporation from an arc spot, since evaporation particles in a direction parallel to the evaporation surface are extremely small, in the present invention in which the arc confinement body 13 does not protrude from the evaporation surface, the deposition on the arc confinement body 13 is performed. It can be suppressed.

【0025】また、アーク閉じ込め体13は、電極8 及び
ターゲット2 に対して所定の間隙を介して配置されてい
るので、両者間に熱膨張差があっても熱変形による破損
が防止される。また、アーク閉じ込め体13を、薄板積層
構造物で形成せず、一体物で形成すれば、熱歪を生じな
いので、熱変形による短絡が防止され、長期にわたり、
安定した閉じ込め機能を発揮する。
Further, since the arc confinement body 13 is disposed with a predetermined gap between the electrode 8 and the target 2, even if there is a difference in thermal expansion between the two, damage due to thermal deformation is prevented. In addition, if the arc confinement body 13 is not formed by a thin laminated structure, but is formed by an integral body, thermal distortion does not occur, so that a short circuit due to thermal deformation is prevented, and for a long time,
Demonstrate a stable confinement function.

【0026】図3に示すものは、本発明の他の実施例で
あり、アーク閉じ込め体13が絶縁ガイシ18a,18b を介し
て電極8 にセットされている。この実施例の場合、ター
ゲット2 は垂直姿勢で配置されており、図3の上側が垂
直方向上部にあたり、アーク閉じ込め体13は、絶縁ガイ
シ18a,18b に載置された構造になっており、アーク閉じ
込め体13は電極8 に固定されていない。なお、この実施
例においても、アーク閉じ込め体13と、ターゲット2 及
び電源8 とは電気的に絶縁されている。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention, in which an arc confinement body 13 is set on an electrode 8 via insulating insulators 18a and 18b. In the case of this embodiment, the target 2 is arranged in a vertical posture, the upper side of FIG. 3 corresponds to the upper part in the vertical direction, and the arc confinement body 13 has a structure mounted on insulating insulators 18a and 18b. The confinement body 13 is not fixed to the electrode 8. Note that, also in this embodiment, the arc confinement body 13, the target 2 and the power supply 8 are electrically insulated.

【0027】この図3のものでは、前記図2に示すよう
な取付穴15を有しないので、アークスポットの偏在がな
くなる。即ち、Cr のような特定材質をターゲットに用
いた場合、図2に示す装置では、アークスポットが取付
穴15付近のターゲット2 表面に偏在して、局所的な消耗
を生じるという問題があったが、図3に示す装置では、
アーク閉じ込め体13の断面が一様であり、等方的に構成
されているので、ネジ穴12等の欠落部にアークスポット
が偏在する傾向を抑止でき、長期にわたる安定な蒸発が
行える。
In FIG. 3, since there is no mounting hole 15 as shown in FIG. 2, uneven distribution of the arc spot is eliminated. That is, when a specific material such as Cr is used for the target, the apparatus shown in FIG. 2 has a problem that the arc spot is unevenly distributed on the surface of the target 2 near the mounting hole 15 and local wear occurs. In the device shown in FIG.
Since the cross section of the arc confinement body 13 is uniform and isotropically configured, the tendency of the arc spot to be unevenly distributed in the missing portion such as the screw hole 12 can be suppressed, and stable evaporation can be performed for a long time.

【0028】特に、アーク制御の付加的手段として、タ
ーゲット2 の端部に磁界を作用させた場合、この実施例
の様に断面一様であれば、ターゲット2 の端部の局所的
磁界の乱れを防止でき、安定したアークスポットの走査
性を確保できる。図4に示すものは、本発明の他の実施
例であり、前記図3に示す構成に加えて、ターゲット2
とアーク閉じ込め体13との境界を覆うようにカバー19を
設けたものである。
In particular, when a magnetic field is applied to the end of the target 2 as an additional means of arc control, if the cross section is uniform as in this embodiment, the disturbance of the local magnetic field at the end of the target 2 Can be prevented, and stable scanability of the arc spot can be secured. FIG. 4 shows another embodiment of the present invention. In addition to the configuration shown in FIG.
A cover 19 is provided so as to cover a boundary between the arc confinement body 13 and the arc confinement body 13.

【0029】即ち、前記カバー19はリング状に成形さ
れ、アーク閉じ込め体13の外周部に支持部20を介して取
り付けられている。このカバー19と前記ターゲット2 と
は径方向に所定の間隙を有して電気的に絶縁されてい
る。前記支持部20は環状である必要はなく、周方向に2
乃至3個所設けて、該支持部20間に周方向間隙を形成し
て排出部21となし、該排出部21からダスト等の異物の落
下排出を行うようにするのが好ましい。
That is, the cover 19 is formed in a ring shape, and is attached to the outer periphery of the arc confinement body 13 via the support portion 20. The cover 19 and the target 2 are electrically insulated with a predetermined gap in the radial direction. The support 20 need not be annular, but may be
It is preferable that three or more places are provided to form a discharge space 21 by forming a circumferential gap between the support portions 20 so that foreign matter such as dust is dropped and discharged from the discharge portion 21.

【0030】このようなカバー19を設けることにより、
さらにアークスポットがターゲット2 とアーク閉じ込め
体13との間の間隙に入り込むのが防止できる。また図5
に示すように、カバー19が距離Lだけターゲット2 の端
部を覆っていると、アークスポットはターゲット2 の端
部に至らず、端面2aから距離Lだけ離れた位置から消耗
が始まる。従って、ターゲット2 が消耗しても、アーク
閉じ込め体13との間に段差が生じないので、ターゲット
2 とアーク閉じ込め体13との間に短絡が生じない。ま
た、カバー19の端面22に皮膜が堆積しても、該堆積位置
に対応するターゲット2 の径は細くなっているので、短
絡が生じず、電気絶縁に何等支障が生じない。
By providing such a cover 19,
Further, it is possible to prevent the arc spot from entering the gap between the target 2 and the arc confinement body 13. FIG.
When the cover 19 covers the end of the target 2 by the distance L as shown in FIG. 7, the arc spot does not reach the end of the target 2 and the arc spot starts to be worn away from the end face 2a by the distance L. Therefore, even if the target 2 is consumed, no step is formed between the target 2 and the arc confinement body 13.
No short circuit occurs between 2 and the arc containment 13. Further, even if a film is deposited on the end face 22 of the cover 19, the diameter of the target 2 corresponding to the deposition position is small, so that no short circuit occurs and no problem occurs in electrical insulation.

【0031】このようにカバー19を設けることにより、
アークスポットがターゲット2 の端部に来ないため、ア
ークスポットが蒸発面を外れる可能性は極めて低くな
る。磁場によりアークスポットの暴走を抑止するにも限
界があるが、カバー19を設けることにより、アークスポ
ットの挙動が安定するため、蒸発面全域でのアークスポ
ット制御が容易になる。
By providing the cover 19 in this manner,
Since the arc spot does not come to the end of the target 2, the possibility that the arc spot goes off the evaporation surface is extremely low. Although there is a limit in suppressing runaway of the arc spot due to the magnetic field, the provision of the cover 19 stabilizes the behavior of the arc spot, thereby facilitating the arc spot control over the entire evaporation surface.

【0032】尚、図2に示すものに、前記カバー19を付
加することにより、アークスポットがネジ穴12等の欠落
部に偏在する傾向を抑止できる。前記各実施例では、ア
ーク閉じ込め体13やカバー19を磁性体金属製として説明
したが、絶縁物で形成してもよい。絶縁物としてはセラ
ミックスを用いることができる。
By adding the cover 19 to the one shown in FIG. 2, the tendency of the arc spot to be unevenly distributed in the missing portion such as the screw hole 12 can be suppressed. In each of the above embodiments, the arc confinement body 13 and the cover 19 are described as being made of a magnetic metal, but may be made of an insulating material. Ceramics can be used as the insulator.

【0033】アーク閉じ込め体13を絶縁物で形成した場
合、ターゲット2 の端面2aとアーク閉じ込め体13の端面
とを密着させることができるので、アークスポットのタ
ーゲット端面2aへの移動が完全に防止できる。図6に示
すものは、本発明の他の実施例であり、前記アーク閉じ
込め体13を具備せず、棒状ターゲット2 の端部に、該端
部外周面を径方向に所定間隙を有して覆うカバー19が、
該ターゲット2 から電気的に絶縁されて配置されて成る
ものである。
When the arc confinement body 13 is formed of an insulator, the end face 2a of the target 2 and the end face of the arc confinement body 13 can be brought into close contact with each other, so that the movement of the arc spot to the target end face 2a can be completely prevented. . FIG. 6 shows another embodiment of the present invention, in which the arc confinement body 13 is not provided, and the end of the rod-shaped target 2 has a predetermined gap in the outer peripheral surface of the end in the radial direction. Cover 19 to cover,
It is arranged so as to be electrically insulated from the target 2.

【0034】即ち、前記カバー19はリング状に成形さ
れ、電極8 の外周面に絶縁材23及び支持部20を介して取
り付けられている。カバー19とターゲット2 とは径方向
の間隙Dを有し、また、軸方向に距離Lだけ重合してい
る。前記間隙Dは、堆積するダストによりカバー19とタ
ーゲット2 とが短絡し難い距離である必要があり、1m
m以上である必要がある。また間隙Dを大きくし過ぎる
と、後述する関係からカバー19とターゲット2 との重な
りLの寸法が大きくなり、不経済となるので、間隙Dは
10mm以下とするのが好ましい。実験によると、間隙
Dは、2〜5mmにするのが最も安定した動作が得られ
た。
That is, the cover 19 is formed in a ring shape, and is attached to the outer peripheral surface of the electrode 8 via the insulating material 23 and the support portion 20. The cover 19 and the target 2 have a radial gap D, and are overlapped by a distance L in the axial direction. The gap D is required to be a distance at which the cover 19 and the target 2 are unlikely to be short-circuited by the accumulated dust.
m or more. If the gap D is too large, the size of the overlap L between the cover 19 and the target 2 increases due to the relationship described later, which is uneconomical. Therefore, the gap D is preferably set to 10 mm or less. According to the experiment, the most stable operation was obtained when the gap D was 2 to 5 mm.

【0035】カバー19とターゲット2 との軸方向重なり
Lは、実験的にL≧Dの関係が必要である。LがDより
小さいと、カバー19内へ偶発的に侵入するアークスポッ
トがターゲット2 の端部にまで到達し、該ターゲット2
端部付近に不均一な摩耗が発生する。一方、Lをいたず
らに大きくすると、ターゲット2 の消耗されない領域が
大きくなり、不経済である。Lが大きい程、動作の安定
性は高まるが、Lを3Dより大きくしても、安定化の効
果は変わらないので、Lの最大値は3Dとするのが好ま
しい。実験によると、D<L<2Dの範囲が最も好まし
い。
The axial overlap L between the cover 19 and the target 2 needs to be experimentally in a relationship of L ≧ D. If L is smaller than D, an arc spot that accidentally enters the cover 19 reaches the end of the target 2, and the target 2
Non-uniform wear occurs near the end. On the other hand, if L is unnecessarily increased, the area where the target 2 is not consumed becomes large, which is uneconomical. The larger the L, the higher the stability of the operation. However, even if L is larger than 3D, the effect of stabilization does not change. Therefore, the maximum value of L is preferably set to 3D. According to experiments, the range of D <L <2D is most preferable.

【0036】またカバー19の肉厚tは、0.5mmより
も小さいと、熱による変形が発生し易く、逆に厚みtが
大き過ぎるとカバー19の端面22への成膜量が増え、ここ
から皮膜が剥離してダストが発生し、該ダストによりカ
バー19とターゲット2 とが短絡する可能性があるため、
厚みtは、6mm以下にする必要がある。最も好ましい
厚みtの範囲は、1〜3mmである。
If the thickness t of the cover 19 is smaller than 0.5 mm, deformation due to heat is apt to occur. Conversely, if the thickness t is too large, the amount of film formed on the end face 22 of the cover 19 increases. From the film, dust is generated, and the dust may short-circuit the cover 19 and the target 2.
The thickness t needs to be 6 mm or less. The most preferable range of the thickness t is 1 to 3 mm.

【0037】尚、前記支持部20に、ダストを排出するた
めの排出部21を形成するのが好ましい。図7に示すもの
は、本発明の他の実施例であり、アーク閉じ込め体13と
カバー19とが一体成形されたものである。この一体成形
品は、絶縁体18を介して電極8に取り付けられている。
また、ダスト堆積防止のため、周方向に所定間隙をおい
て上下方向に貫通する異物排出孔が設けられて排出部21
が構成されている。
It is preferable that a discharge section 21 for discharging dust is formed in the support section 20. FIG. 7 shows another embodiment of the present invention, in which an arc confinement body 13 and a cover 19 are integrally formed. This integrally molded product is attached to the electrode 8 via the insulator 18.
Further, in order to prevent dust accumulation, a foreign substance discharge hole penetrating vertically is provided at a predetermined gap in the circumferential direction.
Is configured.

【0038】図8に示すものは、本発明の他の実施例で
あり、カバー19のターゲット側端部の外面が、先細テー
パ面24に形成されている。このようにカバー19の端面を
テーパ面24に形成することにより、該端面への成膜を減
少させ、メンテナンス頻度の減少を図っている。尚、本
発明は、前記各実施例に限定されるものではない。
FIG. 8 shows another embodiment of the present invention, in which the outer surface of the target-side end of the cover 19 is formed as a tapered tapered surface 24. By forming the end face of the cover 19 on the tapered face 24 in this manner, film formation on the end face is reduced, and the frequency of maintenance is reduced. The present invention is not limited to the above embodiments.

【0039】即ち、前記ターゲット2 は、真っ直ぐな円
筒状のものに限らず、曲がっていても良く、また、中実
体であても良く、更には、その断面形状は円形に限られ
るものではない。ターゲット2 の配置は、その軸心を垂
直姿勢とするものに限らず、水平姿勢等他の姿勢をとる
ものであっても良い。
That is, the target 2 is not limited to a straight cylindrical shape, but may be bent or solid, and the cross-sectional shape is not limited to a circular shape. The arrangement of the target 2 is not limited to the vertical position with respect to the axis thereof, but may be another position such as a horizontal position.

【0040】アーク閉じ込め体13やカバー19は、電極8
に取り付けられるものに限らず、例えば、ターゲット2
の端部に径小段部を形成して、該段部に絶縁状態を保っ
て取り付けたもの等、電極以外の部材に設けたものであ
っても良い。電極8 はターゲット2 の両端部に設けられ
たものに限らず、一端部にのみ設けられたものであって
も良い。この場合、電極が設けられていない側のターゲ
ットの端部に設けるアーク閉じ込め体またはカバーは、
ターゲットに直接又は適宜の支持手段によりターゲット
端部に電気的絶縁状態を保って取り付けられる。
The arc confining body 13 and the cover 19 are
Not only those that can be attached to
May be provided on a member other than the electrode, such as a step having a small-diameter step formed at the end of the step and being attached to the step while maintaining the insulating state. The electrodes 8 are not limited to those provided at both ends of the target 2 and may be provided only at one end. In this case, the arc confinement or cover provided at the end of the target on which the electrode is not provided is:
The target is attached to the end of the target directly or by an appropriate supporting means while maintaining an electrically insulated state.

【0041】L、D、tの関係は、図6のものに限ら
ず、他の図に示したカバー19にも適用される。また、各
図に示す構成を他の図に示す構成に置換したり、又は、
各図の構成を相互に組み合わせることができる。更に本
発明のアーク閉じ込め装置6 は図1に示す構造の真空ア
ーク蒸着装置に用いられるものに限定されず、他の構造
の真空アーク蒸着装置にも用いることができる。
The relationship among L, D, and t is not limited to that shown in FIG. 6, but may be applied to the cover 19 shown in other drawings. In addition, the configuration shown in each drawing is replaced with a configuration shown in another drawing, or
The configurations in the respective drawings can be combined with each other. Further, the arc confinement device 6 of the present invention is not limited to the one used in the vacuum arc vapor deposition device having the structure shown in FIG. 1, but can be used in a vacuum arc vapor deposition device having another structure.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明によれば、ターゲットから蒸発し
た蒸気がアーク閉じ込め体又はカバーに堆積してターゲ
ットとの短絡が生じると言う事態の発生が防止され、ア
ーク閉じ込め機能が損なわれることがなく、長時間の安
定的なアーク放電を達成できる。
According to the present invention, it is possible to prevent a situation in which the vapor evaporated from the target accumulates on the arc confinement body or the cover and short-circuits with the target, thereby preventing the arc confinement function from being impaired. A long-term stable arc discharge can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】真空アーク蒸着装置の全体構成図である。FIG. 1 is an overall configuration diagram of a vacuum arc evaporation apparatus.

【図2】本発明の一実施例を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の他の実施例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施例を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment of the present invention.

【図5】ターゲットの消耗状態を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a worn state of a target.

【図6】本発明の他の実施例を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の他の実施例を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing another embodiment of the present invention.

【図8】本発明の他の実施例を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 ターゲット 6 アーク閉じ込め装置 8 電極 13 アーク閉じ込め体 19 カバー 21 排出部 24 テーパ面 2 Target 6 Arc confinement device 8 Electrode 13 Arc confinement body 19 Cover 21 Discharge part 24 Tapered surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−354863(JP,A) 特開 平5−106025(JP,A) 特開 平2−232364(JP,A) 特開 平2−19461(JP,A) 特開 昭63−223168(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 14/00 - 14/58 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-354863 (JP, A) JP-A-5-106025 (JP, A) JP-A-2-232364 (JP, A) JP-A-2-232 19461 (JP, A) JP-A-63-223168 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C23C 14/00-14/58

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 棒状ターゲットの端部に、電気的絶縁状
態を維持して、該ターゲットと略同一径のアーク閉じ込
め体が同芯状に配置され、該アーク閉じ込め体とターゲ
ットとの境界部を径方向に所定間隙を有して覆うカバー
が設けられたことを特徴とする真空アーク蒸着装置のア
ーク閉じ込め装置。
The end portion of claim 1. A bar-shaped target and maintaining electrical insulation state, arc containment of substantially the same diameter as said target is disposed coaxially, the arc containment body and target
Cover that covers the boundary with the slot with a predetermined gap in the radial direction
Arc containment device of the vacuum arc deposition apparatus, characterized in that is provided.
【請求項2】 前記アーク閉じ込め体が、周方向に沿っ
て一様な形状に構成されていることを特徴とする請求項
1記載の真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装置。
2. An arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein said arc confinement body is formed in a uniform shape along a circumferential direction.
【請求項3】 前記アーク閉じ込め体は金属製であり、
前記ターゲット端面とアーク閉じ込め体との間に所定間
隙が形成されていることを特徴とする請求項1記載の真
空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装置。
3. The arc confinement body is made of metal,
The arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device according to claim 1, wherein a predetermined gap is formed between the target end surface and the arc confinement body.
【請求項4】 前記アーク閉じ込め体は、絶縁物で構成
されており、且つ、ターゲットの端面に密着して配置さ
れていることを特徴とする請求項1記載の真空アーク蒸
着装置のアーク閉じ込め装置。
4. The arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the arc confinement body is made of an insulating material and is disposed in close contact with an end surface of the target. .
【請求項5】 前記棒状ターゲットの端部に電極が接続
され、前記アーク閉じ込め体が前記電極外周部に電気的
絶縁状態を維持して設けられていることを特徴とする請
求項1記載の真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装
置。
5. The vacuum according to claim 1, wherein an electrode is connected to an end of the rod-shaped target, and the arc confinement body is provided on an outer periphery of the electrode while maintaining an electrically insulated state. Arc confinement device for arc deposition equipment.
【請求項6】 前記ターゲット外周面とカバーとの径方
向間隙は、1〜10mmとされていることを特徴とする
請求項1記載の真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装
置。
6. A radial direction between the outer peripheral surface of the target and the cover.
Characterized in that the facing gap is 1 to 10 mm
An arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device according to claim 1 .
【請求項7】 前記ターゲット外周面とカバーとの径方
向間隙をDとし、軸方向の重なりをLとしたとき、D<
L<3Dの関係を有することを特徴とする請求項1記載
真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装置。
7. When the radial gap between the outer peripheral surface of the target and the cover is D, and the overlap in the axial direction is L, D <
2. The method according to claim 1, wherein L <3D.
Arc confinement equipment for vacuum arc evaporation equipment.
【請求項8】 前記カバーはリング状に形成され、その
肉厚は、1〜3mmとされていることを特徴とする請求
項1記載の真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装置。
8. The cover is formed in a ring shape.
The wall thickness is set to 1 to 3 mm.
Item 7. An arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device according to Item 1 .
【請求項9】 前記カバーはリング状に形成され、該カ
バーのターゲット側端部の外周面は、先細テーパ面に形
成されていることを特徴とする請求項1記載の真空アー
ク蒸着装置のアーク閉じ込め装置。
Wherein said cover is formed in a ring shape, 該Ka
The outer peripheral surface of the bar's target end is tapered
The arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device according to claim 1, wherein the device is formed.
【請求項10】 前記棒状ターゲットの端部に電極が接
続され、前記カバーが前記電極外周部に電気的絶縁状態
を維持して設けられていることを特徴とする請求項1記
載の真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め装置。
10. An electrode is in contact with an end of said rod-shaped target.
The cover is electrically insulated from the outer periphery of the electrode.
2. The device according to claim 1, wherein
The arc confinement device of the vacuum arc vapor deposition device described above.
【請求項11】 前記棒状ターゲットの端部に電極が接
続され、前記アーク閉じ込め体が前記電極外周部に電気
的絶縁状態を維持して設けられ、前記カバーはリング状
に形成され、該カバーは前記アーク閉じ込め体に支持さ
れていることを特徴とする請求項1記載の真空アーク蒸
着装置のアーク閉じ込め装置。
11. An electrode is in contact with an end of said rod-shaped target.
The arc confinement body is electrically connected to the outer periphery of the electrode.
The cover is provided in a ring shape.
And the cover is supported by the arc confinement.
2. The arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device according to claim 1, wherein:
【請求項12】 軸心が上下方向になるよう配置された
棒状ターゲットの下端部外周面を、径方向に所定間隙を
有して覆うカバーが設けられ、該カバーには、前記間隙
を通過する異物を落下排出する排出部が設けられている
ことを特徴とする真空アーク蒸着装置のアーク閉じ込め
装置。
12. An arrangement in which an axis is in a vertical direction.
A predetermined gap in the radial direction is formed on the outer peripheral surface of the lower end of the rod-shaped target.
And a cover for covering the gap.
A discharge unit is provided to drop and discharge foreign matter passing through
An arc confinement device for a vacuum arc vapor deposition device.
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