JP3196074U - Touch electrode substrate structure - Google Patents
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Abstract
【課題】タッチ電極基板の構造を提供する。【解決手段】タッチ電極基板1の構造は、基板層と、基板層の表面に形成される導電層と、を含む。導電層は、第1領域4と、第1領域4に隣接する第2領域5と、から構成される。第1領域4中には、少なくとも1つの金属配線ブロック41が設けられる。金属配線ブロック41は、配線パターンが形成された金属配線42を有する。金属配線ブロック41間は、相互に間隔をあけて配列される。第2領域5は、平面のブロックである。上記構成により、単一のフォトマスクの面積上に少なくとも1つの同一又は異なる寸法で同一の配線パターンを有するタッチ電極基板を製造することができる。金属配線42の周囲には、他のメーカーが接続配線を加工することができる平面のブロックが設けられる。【選択図】図1AA structure of a touch electrode substrate is provided. A structure of a touch electrode substrate includes a substrate layer and a conductive layer formed on a surface of the substrate layer. The conductive layer includes a first region 4 and a second region 5 adjacent to the first region 4. In the first region 4, at least one metal wiring block 41 is provided. The metal wiring block 41 has a metal wiring 42 on which a wiring pattern is formed. The metal wiring blocks 41 are arranged with a space therebetween. The second region 5 is a planar block. With the above-described configuration, at least one touch electrode substrate having the same wiring pattern with the same or different dimensions can be manufactured on the area of a single photomask. Around the metal wiring 42, a flat block is provided on which other manufacturers can process the connection wiring. [Selection] Figure 1A
Description
本考案は、タッチ電極基板の構造に関し、特に、金属配線を有し、タッチ電子製品中に応用することができ、他のメーカーに提供して後続の加工を行うことができるタッチ電極基板の構造に関する。 The present invention relates to a structure of a touch electrode substrate, and in particular, a structure of a touch electrode substrate that has a metal wiring, can be applied in touch electronic products, and can be provided to other manufacturers for subsequent processing. About.
従来のタッチ電極を製造する工程においては、一般に、金属を含む材料が利用され、印刷、電気鍍金又はエッチングによってパターン化された導電配線が製造される。 In the process of manufacturing a conventional touch electrode, generally, a material containing metal is used, and a conductive wiring patterned by printing, electroplating, or etching is manufactured.
ユーザがタッチ電子製品に接触したか否か、或いは、ユーザがタッチ電子製品のどの位置に接触したかを判断するために、導電配線間の2方向以上の電気信号又は静電容量の変化を判断する方法が現在最も普遍的に用いられている。また、様々な方向の導電配線は、外部の接続配線に電気的に接続され、外部の接続配線を介してタッチ電子製品の他の回路基板、ICチップなどに接続され、検出された信号が外部に伝送されて情報処理される。 In order to determine whether or not the user has touched the touch electronic product, or to which position of the touch electronic product the user has touched, a change in electric signal or capacitance in two or more directions between the conductive wirings is determined. The most commonly used method is currently used. Conductive wiring in various directions is electrically connected to external connection wiring, and connected to other circuit boards, IC chips, etc. of touch electronic products via external connection wiring, and detected signals are externally connected. To be processed.
前述の外部の接続配線は、一般に、金属粉末を含む材料が導電配線の外部に印刷されることにより、導電配線に接続される。しかし、印刷方式の場合、接続配線の線径が太くなってしまい、近年、線径の太い配線は、タッチ電子製品に応用されなくなっている。また、使用される材料のために、製造される接続配線のインピーダンス数値が高くなり、耐折性(湾曲弾性)も劣る。 In general, the aforementioned external connection wiring is connected to the conductive wiring by printing a material containing metal powder on the outside of the conductive wiring. However, in the case of the printing method, the wire diameter of the connection wiring becomes thick, and in recent years, the wiring with a large wire diameter has not been applied to touch electronic products. Further, due to the material used, the impedance value of the manufactured connection wiring is high, and the folding resistance (curved elasticity) is also inferior.
また、従来のタッチ電極のパターン化された導電配線及び接続配線は、同一の材料が使用され、印刷、電気鍍金、スパッタリング又はエッチングによってガラス基板又はプラスチック基板の表面上に1回で一体成形される。 Further, the same conductive material and connection wiring of the conventional touch electrode are made of the same material, and are integrally formed once on the surface of the glass substrate or plastic substrate by printing, electroplating, sputtering or etching. .
導電配線及び接続配線が同時に成形される方式により、導電配線と接続配線との位置合わせの問題を避けることができるが、線径が極細の導電配線及び線径が太い接続配線を同時に製造することは、実際には困難であり、安定な2種類の線径の配線を確実に製造することができない。さらに、製造過程中、パターン毎に高価で精密なガラスフォトマスクを配合して製造しなければならないため、導電配線及び接続配線を1回で成形して製造する工程は、製造コストを削減する目的を確実に達成できる訳ではない。 The method of forming the conductive wiring and the connection wiring at the same time can avoid the problem of alignment between the conductive wiring and the connection wiring, but simultaneously manufacture the conductive wiring with an extremely thin wire diameter and the connection wiring with a large wire diameter. Is difficult in practice, and it is not possible to reliably manufacture two stable wire diameters. Furthermore, during the manufacturing process, an expensive and precise glass photomask must be blended and manufactured for each pattern. Therefore, the process of forming the conductive wiring and the connection wiring at one time is intended to reduce the manufacturing cost. Can not be achieved reliably.
本考案の目的は、所定の配線パターンを有する導電配線と、所定の配線パターンの金属配線周囲に位置する平面領域と、が形成され、導電配線と導電配線周縁に残留される加工空間とが組み合わされることにより、他のメーカーが自身の有する設備及び工程を使用して後続の加工を行い、他の接続配線に接続することができるタッチ電子製品中に応用されるタッチ電極基板の構造を提供することにある。 An object of the present invention is to form a conductive wiring having a predetermined wiring pattern and a planar area located around the metal wiring of the predetermined wiring pattern, and combine the conductive wiring and the processing space remaining at the periphery of the conductive wiring. This provides a structure of a touch electrode substrate that is applied in touch electronic products that can be connected to other connection wiring by performing subsequent processing using equipment and processes possessed by other manufacturers. There is.
上述の課題を解決するために、本考案のタッチ電極基板の構造は、基板層と、基板層の表面に形成される導電層と、を含む。導電層は、第1領域と、第1領域に隣接する第2領域と、から構成される。第1領域中には、少なくとも1つの金属配線ブロックが設けられる。金属配線ブロックは、配線パターンが形成された金属配線を有する。金属配線ブロック間は、相互に間隔をあけて配列される。第2領域は、平面のブロック構造を呈する。 In order to solve the above-described problem, the structure of the touch electrode substrate of the present invention includes a substrate layer and a conductive layer formed on the surface of the substrate layer. The conductive layer includes a first region and a second region adjacent to the first region. At least one metal wiring block is provided in the first region. The metal wiring block has metal wiring on which a wiring pattern is formed. The metal wiring blocks are arranged with a space therebetween. The second region has a planar block structure.
金属配線は、複数の導電電極が互いに接続されて構成される。導電電極は、基板層の表面に配置される配線パターンを形成する少なくとも1つの接着層と、接着層の表面に接続され、かつ配線パターンに対応する金属導電電極層と、を含む。 The metal wiring is configured by connecting a plurality of conductive electrodes to each other. The conductive electrode includes at least one adhesive layer forming a wiring pattern disposed on the surface of the substrate layer, and a metal conductive electrode layer connected to the surface of the adhesive layer and corresponding to the wiring pattern.
第1領域中の金属配線の表面には、第1耐候層が設けられる。第1耐候層は、門字型構造を呈する。第2領域の上表面には、第2耐候層が設けられる。 A first weathering layer is provided on the surface of the metal wiring in the first region. The first weathering layer has a gate-shaped structure. A second weathering layer is provided on the upper surface of the second region.
金属配線は、グリッドを呈する。金属配線の幅は、0.5μm〜10μmである。 The metal wiring presents a grid. The width of the metal wiring is 0.5 μm to 10 μm.
本考案のタッチ電極基板を購入したメーカーは、第2領域の表面に少なくとも1つの接続配線を加工することができる。即ち、メーカーは、すでに使用している設備及び製造工程を利用して第2領域に、配線パターンを有し、第1領域中の金属配線に電気的に接続することができる接続配線を自身で設けることができる。接続配線は、タッチ電子製品中の他の回路基板又はチップに電気的に接続することができる。また、第1領域中の金属配線は、加工される接続配線の位置に対応して帯状又は格子状の断線構造にエッチングされ、接続配線を介してタッチ電子製品中の他の回路基板又はチップに接続される。これにより、本考案のタッチ電子製品中における設置位置の融通性を高めることができる。 The manufacturer who purchased the touch electrode substrate of the present invention can process at least one connection wiring on the surface of the second region. In other words, the manufacturer has a wiring pattern in the second area using the equipment and manufacturing process already used, and has a connection wiring that can be electrically connected to the metal wiring in the first area. Can be provided. The connection wiring can be electrically connected to other circuit boards or chips in the touch electronic product. In addition, the metal wiring in the first region is etched into a strip-like or grid-like disconnection structure corresponding to the position of the connection wiring to be processed, and is connected to another circuit board or chip in the touch electronic product via the connection wiring. Connected. Thereby, the flexibility of the installation position in the touch electronic product of this invention can be improved.
本考案が製造するタッチ電極基板の構造は、配線パターンが設けられた金属配線を有する。また、本考案のタッチ電極基板の構造を購入したメーカーは、金属配線の周縁の平面領域に接続配線の加工を行うことができるため、後続の加工に融通性を与えることができる。また、本考案のタッチ電極基板の構造は、電子製品中において、他の回路基板、接続配線又はチップに接続される対応位置が制限されないため、タッチ電子製品への応用範囲を広げることができる。 The structure of the touch electrode substrate manufactured by the present invention has a metal wiring provided with a wiring pattern. In addition, since the manufacturer who has purchased the structure of the touch electrode substrate of the present invention can process the connection wiring in the planar area around the periphery of the metal wiring, flexibility can be given to subsequent processing. In addition, the structure of the touch electrode substrate of the present invention does not limit the corresponding positions connected to other circuit boards, connection wirings, or chips in the electronic product, so that the application range to the touch electronic product can be expanded.
本考案の構造、特徴及び効果を示す実施形態を図面に沿って詳細に説明する。 Embodiments showing the structure, features, and effects of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1A、図2A及び図2Bを参照する。図1A、図2A及び図2Bに示すように、本考案の第1実施形態によるタッチ電極基板1の構造は、主に、基板層2及び導電層3を含む。図1Aは、平面図であり、図2A及び図2Bは、断面図である。
Please refer to FIG. 1A, FIG. 2A and FIG. 2B. 1A, 2A and 2B, the structure of the
導電層3は、設計に基づいて基板層2の一方の単面(上表面21又は下表面22)に形成することができる。或いは、基板層2の上下両面(図示せず)に形成することができる。
The
本実施形態中、導電層3は、基板層2の上表面21に形成され、第1領域4及び第2領域5から構成される。図面から分かるように、第1領域4は、少なくとも1つの金属配線ブロック41が互いに間隔をあけて分布することによって構成される。金属配線ブロック41中は、複数本の金属配線42を有し、各金属配線ブロック41中は、同一の配線パターンを有する。金属配線42は、グリッド43を呈する。
In the present embodiment, the
図1B、図3A及び図3Bを参照する。図1B、図3A及び図3Bは、本考案のタッチ電極基板1の構造の第2実施形態である。図1Bは、平面図であり、図3A及び図3Bは、断面図である。図1A、図2Aを参照すると、前述の第1実施形態が寸法の異なる金属配線ブロック41との相違点は、第2実施形態においては、各金属配線ブロック41の寸法が何れも同一である。即ち、第1領域4中の各金属配線ブロック41の寸法は、何れも同一である構造、何れも異なる構造、或いは、一部が同一である構造に設計することができる。
Please refer to FIG. 1B, FIG. 3A and FIG. 3B. FIG. 1B, FIG. 3A, and FIG. 3B are 2nd Embodiment of the structure of the
図2A及び図3Aを参照する。図1A及び図1Bに対応する図2A及び図3Aから分かるように、金属配線42は、複数の導電電極44が互いに接続されて構成される。導電電極44は、基板層2の上表面21、下表面22又は両面に配線パターンを形成する少なくとも1つの接着層441と、接着層441の上表面に接続され、かつ配線パターンに対応する金属導電電極層442と、を含む。
Please refer to FIG. 2A and FIG. 3A. As can be seen from FIGS. 2A and 3A corresponding to FIGS. 1A and 1B, the
図2B及び図3Bを参照する。図2B及び図3Bに示すように、本考案のタッチ電極基板1の構造の上表面、下表面又は両面には、本考案の構造を保護する耐候層を形成することができる。耐候層は、分布位置の違いに基づき、金属配線42の表面全体に位置する門字型の構造の第1耐候層45と、第2領域5の上表面に位置する第2耐候層51と、に分けられる。
Please refer to FIG. 2B and FIG. 3B. As shown in FIG. 2B and FIG. 3B, a weathering layer that protects the structure of the present invention can be formed on the upper surface, the lower surface, or both surfaces of the structure of the
第2領域5は、第1領域4の外周囲を取り囲んで隣接すると共に、平面構造を呈するため、一字型の構造を呈する。
The
図4A〜図4Dを参照する。本考案の製造方法によって単面又は両面に金属配線42を有するタッチ電極基板1の構造を製造した後、本考案のタッチ電極基板を購入したメーカーは、自身が本来有する工場内の設備及び加工工程によってタッチ電極基板1の加工を行うことができる。即ち、タッチ電極基板1に対して露光工程、現像工程及びエッチング工程を行い、X軸方向521又はY軸方向522の接続配線52をエッチングし、残留したい接続配線52以外の第2領域5の一部範囲を除去する。また、これと同時に、設定される接続配線52の位置に対応して本来完全なグリッド43を呈する金属配線42に、エッチングによって断線を形成し、複数の帯状構造又は格子状構造(図4B〜図4D参照)を呈するようにすることができる。続いて、接続配線52によってタッチ電子製品中の他の回路基板上の配線又はチップに接続する。
Reference is made to FIGS. After manufacturing the structure of the
図4Aは、本考案のタッチ電極基板1の構造中、単面に単一のグリッド43の金属配線42を有する構造を示す平面図である。
FIG. 4A is a plan view showing a structure having
接続配線52は、図4Bに示すように金属配線42のX軸方向521に接続される接続配線52と、図4Cに示すように金属配線42のY軸方向522に接続される接続配線52と、に区分される。
The
また、図4Dに示すように、2枚の単面に金属配線42を有するタッチ電極基板1が光学透明接着剤(OCA)で相互に貼合されると、2層の密な配線パターン分布の金属配線42を有するタッチ電極基板1の構造が形成され、X軸方向521及びY軸方向522の接続配線52を同時に有する。
Moreover, as shown in FIG. 4D, when the
図5A〜図5Dを参照する。図5A〜図5Dは、本考案の第2実施形態を示し、他のメーカーに購入された後、前述の図3A〜図3Dと同一の加工工程によって両面に配線パターンが分布する金属配線42を有するタッチ電極基板1の構造を生産する状態を示す平面図である。前述の図4A〜図4Dに示す構造との違いは、両面に金属配線42を有する点にある。また、図5B〜図5Dに示すように、両面に金属配線42を有するタッチ電極基板1は、第2領域5の表面に位置するX軸方向521及びY軸方向522の接続配線52を別々に加工形成したり、或いは、X軸方向521及びY軸方向522の接続配線52を同時に加工形成したりすることができる。
Reference is made to FIGS. 5A to 5D show a second embodiment of the present invention. After being purchased by another manufacturer, the
本考案のタッチ電極基板の製造方法は、生産したい基板の寸法及び所定の配線パターンに基づき、配線パターンの金属配線を有し、可撓性及び湾曲性を有する基板を製造するものである。1回の完全な製造工程が終了すると、複数の配線パターンの金属配線を有する基板が製造される。また、本考案のタッチ電極基板を購入したメーカーは、基板の金属配線の周縁の少なくとも一方の側面の第2領域に接続配線の加工工程を行うことができる。また接続配線が加工される際、第1領域中の金属配線は、加工される接続配線の位置に対応して帯状又は格子状の断線構造にエッチングされる。これにより、本考案のタッチ電極基板は、タッチ電子製品中において、他の回路基板、他の接続配線又はチップに接続される対応位置が制限されないため、タッチ電子製品への応用範囲を広げることができる。 The touch electrode substrate manufacturing method of the present invention manufactures a flexible and curved substrate having metal wiring of a wiring pattern based on the size of the substrate to be produced and a predetermined wiring pattern. When one complete manufacturing process is completed, a substrate having a plurality of wiring patterns of metal wiring is manufactured. In addition, a manufacturer who purchased the touch electrode substrate of the present invention can perform a connection wiring processing process on the second region on at least one side surface of the peripheral edge of the metal wiring on the substrate. When the connection wiring is processed, the metal wiring in the first region is etched into a strip-like or grid-like disconnection structure corresponding to the position of the connection wiring to be processed. As a result, the touch electrode substrate of the present invention does not restrict the corresponding positions connected to other circuit boards, other connection wirings, or chips in the touch electronic product, thereby expanding the application range to the touch electronic product. it can.
上述の実施形態は、本考案を説明するためのものであり、本考案を限定するものではなく、本考案の主旨を逸脱しない範囲において、当業者による本考案の実用新案登録請求の範囲及び明細書に基づく変更及び修飾は、何れも本考案の実用新案登録請求の範囲に含まれる。 The above-described embodiments are for explaining the present invention, and are not intended to limit the present invention. Claims and specifications of utility model registration claims of the present invention by those skilled in the art are within the scope of the present invention. Any changes and modifications based on the document are included in the claims of the utility model registration of the present invention.
1 タッチ電極基板
2 基板層
21 上表面
22 下表面
3 導電層
4 第1領域
41 金属配線ブロック
42 金属配線
43 グリッド
44 導電電極
441 接着層
442 金属導電電極層
45 第1耐候層
5 第2領域
51 第2耐候層
52 接続配線
521 X軸方向
522 Y軸方向
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記導電層は、第1領域と、前記第1領域に隣接する第2領域と、から構成され、前記第1領域中には、少なくとも1つの金属配線ブロックが設けられ、前記金属配線ブロックは、配線パターンが形成された金属配線を有することを特徴とするタッチ電極基板の構造。 A substrate layer, and a conductive layer formed on the surface of the substrate layer,
The conductive layer includes a first region and a second region adjacent to the first region, and at least one metal wiring block is provided in the first region, and the metal wiring block includes: A structure of a touch electrode substrate having a metal wiring on which a wiring pattern is formed.
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Publications (1)
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