JP3177277B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP3177277B2
JP3177277B2 JP34450391A JP34450391A JP3177277B2 JP 3177277 B2 JP3177277 B2 JP 3177277B2 JP 34450391 A JP34450391 A JP 34450391A JP 34450391 A JP34450391 A JP 34450391A JP 3177277 B2 JP3177277 B2 JP 3177277B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、1つのキャパシタと1
つのトランジスタとからなるメモリセルを複数直列に接
続させた構造を有する半導体メモリ装置の改良に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to an improvement of a semiconductor memory device having a structure in which a plurality of memory cells each including one transistor are connected in series.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路、特に半導体メモリ装置
に対して、より集積度(記憶容量)を上げる要請があ
り、素子の微細化が進んでいる。
2. Description of the Related Art There is a demand for higher integration (storage capacity) of semiconductor integrated circuits, especially semiconductor memory devices, and the miniaturization of elements is progressing.

【0003】このような背景の下、「1キャパシタ+1
トランジスタ」構造のメモリセルを直列に接続させてセ
ルブロックを構成し、そのセルブロックの一端をビット
線に接続させてなる半導体メモリ装置が提案されてお
り、かかるメモリ装置によれば、書き込み及び読み出し
に一定の制約があるものの、セル面積を同じとすれば従
来のメモリ装置よりその記憶容量を増大できる(例え
ば、「Kimura,K.他 ISSCC91,論文番
号TAM6.2」、又は「日経エレクトロニクス199
1年3月号87〜88頁」参照)。
Under such a background, "1 capacitor + 1
A semiconductor memory device has been proposed in which a memory cell having a “transistor” structure is connected in series to form a cell block, and one end of the cell block is connected to a bit line. According to such a memory device, writing and reading are performed. However, if the cell area is the same, the storage capacity can be increased as compared with a conventional memory device (for example, “Kimura, K. et al. ISSCC91, article number TAM6.2” or “Nikkei Electronics 199
March 2013, pp. 87-88).

【0004】図3には、その提案されたメモリ装置の一
部構成が示されている。各ビット線10には、複数のセ
ルブロック12が接続され、そのセルブロック12は、
直列接続された所定数(例えば8つ)のメモリセル14
で構成されている。ここで、各セルブロック12は、記
憶素子としての所定の容量(電荷蓄積容量)をもつ1つ
のキャパシタ16と、ワード線に接続されたトランスフ
ァーゲートとしての転送トランジスタ18と、で構成さ
れている。
FIG. 3 shows a partial configuration of the proposed memory device. A plurality of cell blocks 12 are connected to each bit line 10, and the cell blocks 12
A predetermined number (for example, eight) of memory cells 14 connected in series
It is composed of Here, each cell block 12 is composed of one capacitor 16 having a predetermined capacity (charge storage capacity) as a storage element, and a transfer transistor 18 as a transfer gate connected to a word line.

【0005】すなわち、各メモリセル14は直列に接続
されており、書き込み及び読み出しがブロック単位で行
われメモリセル単位でのランダムアクセスができない一
方、1つ1つのメモリセルにビット線を接続させる必要
がなく、集積度を高められるという利点がある。
That is, the memory cells 14 are connected in series, and writing and reading are performed in block units and random access cannot be performed in memory cell units. On the other hand, it is necessary to connect a bit line to each memory cell. And there is an advantage that the degree of integration can be increased.

【0006】図3において、第一番目のメモリセルは、
ビット線10に接続され、そのビット線10にはトラン
ジスタ20の作用により電圧Vpが印加される。また、
ビット線10には、データの読み出し検出を行うセンス
アンプ22が接続されている。
In FIG. 3, the first memory cell is:
The voltage Vp is applied to the bit line 10 by the action of the transistor 20. Also,
The bit line 10 is connected to a sense amplifier 22 that performs data read detection.

【0007】図4には、図3に示した上記半導体メモリ
装置の読み出し時のタイミングチャートが示されてい
る。
FIG. 4 is a timing chart at the time of reading of the semiconductor memory device shown in FIG.

【0008】図4において、セルブロックに記憶された
データを読み出す際には、まず、φ(バー)pによりト
ランジスタ20がオンにされ、プリチャージが行われ
る。プリチャージ完了後トランジスタ20がOFFとな
り、その後、ワード線W1 がハイに維持される。この
時、第一のメモリセルのキャパシタに格納されているデ
ータ(“1”or“0”)がビット線に現れ、それがセ
ンスアンプ22にて検出される。なお、図4には、セン
スアンプで検出されるビット線の電圧VBLが示されてい
る。
In FIG. 4, when reading data stored in a cell block, first, the transistor 20 is turned on by φ (bar) p, and precharging is performed. Precharge completion transistor 20 is turned OFF, then the word line W 1 is maintained high. At this time, data ("1" or "0") stored in the capacitor of the first memory cell appears on the bit line, and is detected by the sense amplifier 22. FIG. 4 shows the bit line voltage VBL detected by the sense amplifier.

【0009】これと同様に、またφ(バー)pによりト
ランジスタ20がオンにされ、ビット線がプリチャージ
される。次に、ワード線W2 が“H”レベルにされる
と、この際同時にワード線W1 がハイに維持されている
ので、第二のメモリセルからデータがビット線10に現
れる。
Similarly, the transistor 20 is turned on by φ (bar) p, and the bit line is precharged. Next, when the word line W 2 is in the "H" level, since this time the word line W 1 is simultaneously being held high, the data from the second memory cell appears on the bit line 10.

【0010】以上の動作が、最後のN番目のメモリセル
まで行われ、ブロック内のデータすべてがセンスアンプ
にて検出され、その出力が例えば一旦レジスタに格納さ
れた後、外部に出力される。
The above operation is performed up to the last N-th memory cell, all the data in the block is detected by the sense amplifier, and its output is temporarily stored in a register and then output to the outside.

【0011】なお、上記参考文献では、以上の構造をも
つ上記半導体メモリ装置を、「BORAM(ブロック・
オリエンティッド・ランダム・アクセス・メモリ)」と
称しているが、上述の一端がビット線に接続した直列セ
ル構造は、必ずしもRAMに限られず、それ以外のもの
にも応用できる。
In the above-mentioned reference, the semiconductor memory device having the above structure is referred to as “BORAM (block
Oriented random access memory), but the above-described serial cell structure in which one end is connected to a bit line is not necessarily limited to a RAM, and can be applied to other types.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
半導体メモリ装置においては、すべてのメモリセルにお
けるキャパシタの容量及びキャパシタの対向電極の電圧
レベルは同一であり、ビット線から遠くに離れているメ
モリセルからの出力信号ほど検出しにくくなってしまう
という問題があった。本来、各データの読み出しを安定
させるためには、センスアンプにて検出される各メモリ
セルからビット線への出力信号の電圧を一定にする必要
がある。しかし、ビット線に接続された第一番目のメモ
リセルに対し、それより奥のメモリセルは、自己よりも
前に1ないし複数の他のメモリセルが存在し、自己の出
力経路に本来不要な容量が存在してしまうことから、セ
ンスアンプにて検出される電圧が降下してしまうという
問題あった。なお、図4において、第一のメモリセルか
らの出力が101で例示され、第二以後のメモリセルの
出力が、102〜104で例示されている。
However, in the above-mentioned semiconductor memory device, the capacity of the capacitor and the voltage level of the opposite electrode of the capacitor in all the memory cells are the same, and the memory cells which are far away from the bit line. There is a problem that the more the output signal is, the more difficult it is to detect. Originally, in order to stabilize the reading of each data, it is necessary to make the voltage of the output signal from each memory cell to the bit line detected by the sense amplifier constant. However, with respect to the first memory cell connected to the bit line, one or a plurality of other memory cells exist before the first memory cell, and the memory cell which is originally unnecessary in the output path of the memory cell. There is a problem that the voltage detected by the sense amplifier drops due to the presence of the capacitance. In FIG. 4, the output from the first memory cell is illustrated as 101, and the outputs from the second and subsequent memory cells are illustrated as 102 to 104.

【0013】本発明は上記従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、一端がビット線に接続された直
列セル構造を有する半導体メモリ装置において、ビット
線からの遠近によらずにビット線に現れる各メモリセル
からの出力をほぼ一定にすることを目的とする。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a serial cell structure in which one end is connected to a bit line, regardless of the distance from the bit line. The purpose is to make the output from each memory cell appearing on the line substantially constant.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、記憶素子としてのキャパシタとワード線に
接続された転送トランジスタとからなるメモリセルを、
複数直列に接続してなるセルブロックが、ビット線に接
続された半導体メモリ装置において、前記セルブロック
の一端が前記ビット線に接続され、その接続点から当該
セルブロックを構成する各メモリセルまでの距離が互い
に異なり、前記セルブロックにおけるキャパシタの対向
電極の電位を制御するキャパシタ電位制御手段を含み、
前記キャパシタ電位制御手段は、データ書き込み時に、
前記セルブロックを構成する各メモリセルの前記接続点
からの距離が遠くなるにしたがって、それぞれのメモリ
セルのキャパシタの対向電極の変動電位差を大きくする
ことを特徴とする。また、本発明は、記憶素子としての
キャパシタとワード線に接続された転送トランジスタと
からなるメモリセルを、複数直列に接続してなるセルブ
ロックが、ビット線に接続された半導体メモリ装置にお
いて、前記セルブロックの一端が前記ビット線に接続さ
れ、その接続点から当該セルブロックを構成する各メモ
リセルまでの距離が互いに異なり、前記セルブロックに
おける各メモリセルは、複数のグループに区分され、前
記セルブロックにおけるキャパシタの対向電極の電位を
制御するキャパシタ電位制御手段を含み、前記キャパシ
タ電位制御手段は、データ書き込み時に、前記セルブロ
ックを構成する各グループの前記接続点からの距離が遠
くなるにしたがって、各グループ毎に、各メモリセルの
キャパシタの対向電極の変動電位差を大きくすることを
特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a memory cell comprising a capacitor as a storage element and a transfer transistor connected to a word line.
In a semiconductor memory device in which a plurality of cell blocks connected in series are connected to a bit line,
Is connected to the bit line, and the connection point
The distance to each memory cell that makes up the cell block
The different, viewing including the capacitor voltage control means for controlling the potential of the counter electrode of the capacitors in the cell block,
The capacitor potential control means, when writing data,
The connection point of each memory cell constituting the cell block
As the distance from the memory increases, each memory
The present invention is characterized in that the fluctuating potential difference of a counter electrode of a cell capacitor is increased . Further, the present invention provides
A transfer transistor connected to a capacitor and a word line;
Cell that consists of multiple memory cells connected in series.
Lock is applied to the semiconductor memory device connected to the bit line.
And one end of the cell block is connected to the bit line.
From the connection point,
The distances to the recells are different from each other.
Each memory cell is divided into multiple groups,
The potential of the opposite electrode of the capacitor in the cell block
And a capacitor potential control means for controlling the capacitance.
The data potential control means, when writing data,
The distance between each of the groups that make up the
As it becomes smaller, each memory cell of each group
Increasing the fluctuating potential difference of the opposite electrode of the capacitor
Features.

【0015】[0015]

【作用】上記構成によれば、各セルブロックにおけるキ
ャパシタの対向電極(転送トランジスタに接続された記
憶ノードに対向する電極)の電位をキャパシタ電位制御
手段により制御できるので、次のような制御が行える。
According to the above structure, the potential of the counter electrode of the capacitor (the electrode facing the storage node connected to the transfer transistor) in each cell block can be controlled by the capacitor potential control means, so that the following control can be performed. .

【0016】第一の制御手法としては、データ書き込み
時に、ビット線から遠くなるキャパシタほど対向電極の
変動電位差を大きくする手法であり、これによれば、ビ
ット線から遠くなるキャパシタほど蓄積電荷量が大きく
なり、読み出し時にセンスアンプで検出される各キャパ
シタからの出力レベルを均一化できる。すなわち、自己
よりも前に存在するキャパシタの影響による出力レベル
の降下を防止できる。第二の制御手法としては、セルブ
ロックを複数のグループに分け、ビット線から遠くなる
ほどグループ毎にキャパシタの対向電極の変動電位差を
大きくする手法である。これによれば、対向電極の電位
をグループ毎にまとめて制御できるので、上記と同様の
効果を得つつ、設計及び製造を簡易化できるという利点
がある。
The first control method is a method of increasing the fluctuating potential difference of the counter electrode as the distance from the bit line increases during data writing. According to this method, the amount of accumulated charge increases as the distance from the bit line increases. The output level from each capacitor detected by the sense amplifier at the time of reading can be made uniform. That is, it is possible to prevent the output level from dropping due to the influence of the capacitor existing before itself. A second control method is a method in which a cell block is divided into a plurality of groups, and the farther from the bit lines, the larger the fluctuating potential difference of the common electrode of the capacitor for each group. According to this, since the potential of the counter electrode can be controlled collectively for each group, there is an advantage that design and manufacturing can be simplified while obtaining the same effects as described above.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を図面に基づき
説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1には、本発明に係る半導体メモリ装置
の好適な実施例が示されており、図1はその要部を示す
回路図である。なお、後述する対向電極の電位制御を除
き、基本構成については図3に示した従来例と同一であ
るので、同一構成には同一符号を付けその説明を省略す
る。
FIG. 1 shows a preferred embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part thereof. The basic configuration is the same as that of the conventional example shown in FIG. 3 except for the potential control of the counter electrode described later.

【0019】図1において、本実施例においては、各セ
ルブロック12を構成する複数のメモリセル14がM個
のグループに区分されている。なお、以下の説明におい
ては、各セルブロックが8個のメモリセルで構成され、
M=2、すなわちメモリセル4個からなるグループが2
つ形成されているものとする。
In FIG. 1, in this embodiment, a plurality of memory cells 14 constituting each cell block 12 are divided into M groups. In the following description, each cell block is composed of eight memory cells,
M = 2, that is, a group of four memory cells is 2
It is assumed that one is formed.

【0020】ここで、この第1グループは、ビット線1
0に最も近いグループであり、読み出し時においてセン
スアンプ22で検出される各キャパシタからの出力のレ
ベル降下が全体的に少ない。一方、第2グループ(図に
おいて第Mグループと図示されている)は、ビット線1
0から遠いグループであり、読み出し時においてセンス
アンプ22で検出される各キャパシタからの出力のレベ
ル降下が全体的に大きい。つまり、上述したように、読
み出し時に、自己よりも前に存在する多数のキャパシタ
(主として第1グループのキャパシタ)の影響を受け
る。
Here, the first group includes the bit line 1
This is the group closest to 0, and the level drop of the output from each capacitor detected by the sense amplifier 22 at the time of reading is small as a whole. On the other hand, the second group (illustrated as the M-th group in the figure) includes the bit line 1
The group is far from 0, and the level drop of the output from each capacitor detected by the sense amplifier 22 at the time of reading is large as a whole. That is, as described above, at the time of reading, it is affected by a large number of capacitors (mainly, capacitors of the first group) existing before itself.

【0021】そこで、本実施例の半導体メモリ装置にお
いては、データ書き込み時に、キャパシタの対向電極の
電位をビット線10からの遠近に応じて変化させる電位
制御部40が設けられている。
Therefore, the semiconductor memory device of this embodiment is provided with a potential control unit 40 for changing the potential of the common electrode of the capacitor according to the distance from the bit line 10 when writing data.

【0022】第1グループのキャパシタ16の対向電
極、すなわち転送トランジスタ18に接続された蓄積ノ
ード16bに対向する電極16aは、それぞれ共通の電
位とされ、具体的にはそれぞれ電位制御部40の端子P
C1に接続されている。ここで、PC1の電位は固定で
あり、従来同様に,例えばVcc/2に電位が固定され
ている。
The opposite electrode of the capacitor 16 of the first group, that is, the electrode 16a opposite to the storage node 16b connected to the transfer transistor 18 has a common potential, and more specifically, the terminal P of the potential control unit 40.
It is connected to C1. Here, the potential of PC1 is fixed, and the potential is fixed to, for example, Vcc / 2 as in the related art.

【0023】一方、第2グループの各キャパシタの対向
電極16aは、それぞれ共通の電位とされているが、具
体的にはそれぞれ電位制御部40の端子PC2に接続さ
れ、データ書き込み時に電位コントロールされている。
なお、読み出し時は、PC2はPC1と同電位にされ
る。電位制御部40について以下に詳述する。
On the other hand, the opposing electrodes 16a of the capacitors of the second group have a common potential. Specifically, they are respectively connected to the terminal PC2 of the potential control unit 40, and the potential is controlled during data writing. I have.
At the time of reading, PC2 is set to the same potential as PC1. The potential control unit 40 will be described in detail below.

【0024】図2には、データ書き込み時のタイミング
チャートが示されている。書き込み時には、まず全ワー
ド線列では1〜8が選択された状態、すなわち“H”レ
ベルとなっている。この状態で、φ(バー)pの“H”
レベルによりトランジスタ20がオンにされ、ビット線
がVpにプリチャージされる。プリチャージ完了後、φ
(バー)pは“L”レベルとなるトランジスタ20はオ
フにされる。図において、第一段目の#8〜#1は、最
下段のDinから理解されるように、データ書き込みが
有効な期間を示している。
FIG. 2 shows a timing chart at the time of data writing. At the time of writing, first, all word line arrays are in a state where 1 to 8 are selected, that is, "H" level. In this state, “H” of φ (bar) p
The transistor 20 is turned on by the level, and the bit line is precharged to Vp. After precharge, φ
(Bar) The transistor 20 whose p becomes the “L” level is turned off. In the figure, # 8 to # 1 in the first row indicate periods in which data writing is valid, as understood from the lowermost Din.

【0025】次に、データとして“1”を書き込む場合
には、PC2の電位がVcc/2−βにされる。一方、
データとして“0”を書き込む場合には、PC2の電位
がVcc/2+βにされる。なお、Vcc/2から電位
が上下されるPC1のその電位を決定するβは任意の正
の値であるが、後述するように主としてビット線10か
らの距離、換言すれば、ビット線10までに介在される
メモリセルの数に応じて定めることが望ましい。
Next, when "1" is written as data, the potential of PC2 is set to Vcc / 2-β. on the other hand,
When writing "0" as data, the potential of PC2 is set to Vcc / 2 + β. Β that determines the potential of PC1, whose potential is increased or decreased from Vcc / 2, is an arbitrary positive value. However, as will be described later, mainly the distance from the bit line 10, in other words, up to the bit line 10, It is desirable to determine according to the number of intervening memory cells.

【0026】さて、その後、外部入力に応じたデータが
図示しないライトアンプにより増幅され、ビット線を介
して8番目のメモリセルのキャパシタに蓄積電荷として
記憶される。その後、ワード線W8が“L”レベルとな
り、PC2が元の電位、すなわちVcc/2に戻され、
上述した一連の動作により8番目のメモリセルの書き込
みが完了する。図2に示されるように、この工程が第7
番目から第5番目までのメモリセルのキャパシタについ
て行われる。
After that, the data according to the external input is amplified by a write amplifier (not shown) and stored as a stored charge in the capacitor of the eighth memory cell via the bit line. Thereafter, the word line W8 goes to "L" level, and PC2 is returned to the original potential, that is, Vcc / 2,
The series of operations described above completes the writing of the eighth memory cell. As shown in FIG.
This is performed for the capacitors of the memory cells from the fifth to the fifth memory cells.

【0027】次に、第4番目から第1番目までのメモリ
セルのキャパシタについて、データの書き込みが行われ
るが、この場合にはPC1が固定電位とされているた
め、従来と同様の書き込み(対向電極の電位一定での書
き込み)が行われる。
Next, data is written to the capacitors of the fourth to first memory cells. In this case, since PC1 is set to a fixed potential, the same writing (opposite operation) as in the prior art is performed. (Writing at a constant potential of the electrode).

【0028】以上のように、データ書き込み時において
は、ビット線10から離れている第2グループの各キャ
パシタの対向電極の電位が可変され、これにより対向電
極の変動電位差を増大させて、蓄積電荷量を増大でき
る。
As described above, at the time of data writing, the potential of the counter electrode of each capacitor of the second group apart from the bit line 10 is varied, thereby increasing the fluctuating potential difference of the counter electrode and increasing the accumulated charge. The amount can be increased.

【0029】ところで、以上のように書き込まれたデー
タを読み出す時には、図4に示した従来同様の動作でデ
ータ読み出しが行われ、この場合、PC1及びPC2共
に電位がVcc/2に固定される。
When the data written as described above is read, the data is read by the same operation as the conventional one shown in FIG. 4. In this case, the potential of both PC1 and PC2 is fixed at Vcc / 2.

【0030】したがって、センスアンプ22で検出され
る各キャパシタからの出力を、第一グループと第2グル
ープとについてレベルの均一化を図ることができる。も
ちろん、各グループ内においては、ビット線10に近い
キャパシタに比べ、ビット線10に遠いキャパシタから
の出力レベルは、低下してしまうが、従来に比べれば出
力レベルの低下を大幅に改善できる。
Therefore, the level of the output from each capacitor detected by the sense amplifier 22 can be made uniform for the first group and the second group. Of course, in each group, the output level of the capacitor far from the bit line 10 is lower than that of the capacitor closer to the bit line 10, but the output level can be greatly reduced as compared with the related art.

【0031】もし仮に、ビット線からの遠近によらずに
厳密に出力レベルを均一する要求があれば、グループに
分けず、各キャパシタ毎に対向電極の制御を行えばよ
い。
If there is a demand to strictly uniform the output level regardless of the distance from the bit line, the counter electrode may be controlled for each capacitor without being divided into groups.

【0032】上記電位制御部40は、各ワード線の信号
に基づき電位制御を行うが、この場合、上述した例で
は、第2グループである第5〜第8番目のキャパシタに
ついてその書き込み時のみ電位制御を行えば良いので、
例えばa0 〜a7 までのアドレス信号のうち、第2グル
ープ選択に対応する例えばアドレス信号a2 を選択信号
として利用する。また、変動させる電位レベルは、デー
タ書き込み条件が成立した時に、すなわち、書き込み信
号WE(バー)が“L”レベル、かつ、入力データの極
性によりDin=1であればVcc/2−β、Din=
1であれば−Vcc/2+βと電位を可変させる。
The potential control section 40 controls the potential based on the signal of each word line. In this case, in the above-described example, the potential of the fifth to eighth capacitors in the second group is set only at the time of writing. You only have to control,
For example, among the address signals a 0 to a 7, for example, the address signal a 2 corresponding to the second group selection is used as a selection signal. The potential level to be varied is Vcc / 2-β, Din when the data write condition is satisfied, that is, when the write signal WE (bar) is at the “L” level and Din = 1 due to the polarity of the input data. =
If it is 1, the potential is changed to -Vcc / 2 + β.

【0033】なお、上記の説明においては、データ
“1”書き込み時、及び、データ“0”書き込み時に、
それぞれ逆方向の電位制御を行ったが、いずれか一方の
み制御することも可能である。この場合にも、いずれか
一方のデータ書き込み時には、ビット線から遠い第2グ
ループの各キャパシタの対向電極の変動電位差を増大さ
せ、読み出し時のビット線への出力レベルの増大を図る
ことができる。
In the above description, when writing data "1" and writing data "0",
Although the potential control in the opposite direction is performed, it is also possible to control only one of them. Also in this case, at the time of writing one of the data, it is possible to increase the fluctuating potential difference of the common electrode of each capacitor in the second group far from the bit line, thereby increasing the output level to the bit line at the time of reading.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
各キャパシタの対向電極の電位をキャパシタ電位制御手
段により制御できるので、各キャパシタ毎にあるいは各
グループ毎にビット線からの距離に応じて対向電極の電
位を制御することにより、ビット線から遠く離れたメモ
リセルから読み出される情報の減衰、すなわち、ビット
線に現れる電位の低下を防ぐことができ、その結果、各
キャパシタからの出力のレベルを均一化することができ
る。従って、ビット線に接続されたセンスアンプの動作
を安定化できるとともに、直列接続されたメモリセルの
段数を増大できるという効果がある。
As described above, according to the present invention,
Since the potential of the counter electrode of each capacitor can be controlled by the capacitor potential control means, by controlling the potential of the counter electrode in accordance with the distance from the bit line for each capacitor or each group, the distance from the bit line can be increased. Attenuation of information read from the memory cell, that is, a decrease in potential appearing on the bit line can be prevented, and as a result, the level of output from each capacitor can be made uniform. Therefore, the operation of the sense amplifier connected to the bit line can be stabilized, and the number of memory cells connected in series can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる半導体メモリ装置の要部構成を
示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a main configuration of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】書き込み時の動作を示すタイミングチャートで
ある。
FIG. 2 is a timing chart showing an operation at the time of writing.

【図3】従来の半導体メモリ装置の要部構成を示すブロ
ック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a main configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図4】読み出し時の動作を示すタイミングチャートで
ある。
FIG. 4 is a timing chart showing an operation at the time of reading.

【図5】本発明による読み出し時のVBLを示す説明図で
ある。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing V BL at the time of reading according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ビット線 12 セルブロック 14 メモリセル 16 キャパシタ 16a 対向電極 18 転送トランジスタ 40 電位制御部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Bit line 12 Cell block 14 Memory cell 16 Capacitor 16a Counter electrode 18 Transfer transistor 40 Potential control part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/407 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11C 11/407

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 記憶素子としてのキャパシタとワード線
に接続された転送トランジスタとからなるメモリセル
を、複数直列に接続してなるセルブロックが、ビット線
に接続された半導体メモリ装置において、前記セルブロックの一端が前記ビット線に接続され、そ
の接続点から当該セルブロックを構成する各メモリセル
までの距離が互いに異なり、 前記セルブロックにおけるキャパシタの対向電極の電位
を制御するキャパシタ電位制御手段を含み、 前記キャパシタ電位制御手段は、データ書き込み時に、
前記セルブロックを構成する各メモリセルの前記接続点
からの距離が遠くなるにしたがって、それぞれのメモリ
セルの キャパシタの対向電極の変動電位差を大きくする
ことを特徴とする半導体メモリ装置。
The method according to claim 1 memory cells consisting of the connected transfer transistor to the capacitor and a word line as a memory element, the cell blocks formed by connecting a plurality series, in a semiconductor memory device which is connected to the bit line, said cell One end of the block is connected to the bit line, and
From the connection point of each memory cell constituting the cell block
Unlike distance to each other, it viewed including the capacitor voltage control means for controlling the potential of the counter electrode of the capacitors in the cell block, the capacitor voltage control means, when data is written,
The connection point of each memory cell constituting the cell block
As the distance from the memory increases, each memory
A semiconductor memory device characterized by increasing a fluctuating potential difference of a counter electrode of a cell capacitor.
【請求項2】 記憶素子としてのキャパシタとワード線
に接続された転送トランジスタとからなるメモリセル
を、複数直列に接続してなるセルブロックが、ビット線
に接続された半導体メモリ装置において、 前記セルブロックの一端が前記ビット線に接続され、そ
の接続点から当該セルブロックを構成する各メモリセル
までの距離が互いに異なり、 前記セルブロックにおける各メモリセルは、複数のグル
ープに区分され、 前記セルブロックにおけるキャパシタの対向電極の電位
を制御するキャパシタ電位制御手段を含み、 前記キャパシタ電位制御手段は、データ書き込み時に、
前記セルブロックを構成する各グループの前記接続点か
らの距離が遠くなるにしたがって、各グループ毎に、各
メモリセルのキャパシタの対向電極の変動電位差を大き
くする ことを特徴とする半導体メモリ装置。
2. A capacitor as a storage element and a word line
Cell consisting of transfer transistor connected to
Are connected in series to form a cell block
In one embodiment, one end of the cell block is connected to the bit line, and
From the connection point of each memory cell constituting the cell block
Distances from each other, and each memory cell in the cell block includes a plurality of groups.
It is divided into over-flop, the potential of the counter electrode of the capacitor in the cell block
The capacitor potential control means for controlling the
Whether the connection point of each group constituting the cell block
As their distance increases, each group
Increase the fluctuation potential difference of the counter electrode of the memory cell capacitor
The semiconductor memory device, characterized in that Kusuru.
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