JP3163413B2 - Painkillers - Google Patents

Painkillers

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JP3163413B2
JP3163413B2 JP13789095A JP13789095A JP3163413B2 JP 3163413 B2 JP3163413 B2 JP 3163413B2 JP 13789095 A JP13789095 A JP 13789095A JP 13789095 A JP13789095 A JP 13789095A JP 3163413 B2 JP3163413 B2 JP 3163413B2
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謹治 橋本
正之 小原
恒雄 安田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は新規なピラゾロ〔1,5
−a〕ピリミジン誘導体を有効成分とする鎮痛剤に関す
る。
The present invention relates to a novel pyrazolo [1,5
-A] relates to an analgesic containing a pyrimidine derivative as an active ingredient.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明において有効成分とするピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン誘導体は文献未載の新規化合
物である。
2. Description of the Related Art A pyrazolo [1,5-a] pyrimidine derivative as an active ingredient in the present invention is a novel compound which has not been described in any literature.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記新規化合
物を有効成分とする新しい鎮痛剤を提供することを目的
とする。
An object of the present invention is to provide a new analgesic containing the above novel compound as an active ingredient.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明によれば下記一般
式(1)で表わされる新規なピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジン誘導体を有効成分とする鎮痛剤が提供される。
According to the present invention, there is provided an analgesic comprising a novel pyrazolo [1,5-a] pyrimidine derivative represented by the following general formula (1) as an active ingredient.

【0005】[0005]

【化2】 Embedded image

【0006】上記一般式(1)中、R1 は水素原子、置
換基としてチエニル基、低級アルコキシ基、低級アルキ
ルチオ基、オキソ基又はヒドロキシル基を有することの
ある低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、
フリル基、低級アルケニル基又は置換基として低級アル
キル基、低級アルコキシ基、フェニルチオ基及びハロゲ
ン原子から選ばれる基の1〜3個を有することのあるフ
ェニル基を、R2 はナフチル基、シクロアルキル基、フ
リル基、チエニル基、ハロゲン原子で置換されることの
あるピリジル基、ハロゲン原子で置換されることのある
フェノキシ基又は置換基として低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン置換低
級アルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、フェニル低級
アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、低級アルカノイル
オキシ基、フェニル基及びジ低級アルコキシホスホリル
低級アルキル基から選ばれる基の1〜3個を有すること
のあるフェニル基を、R3は水素原子、フェニル基又は
低級アルキル基を、R4 は水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルキル
基、置換基としてフェニルチオ基を有することのあるフ
ェニル基又はハロゲン原子を、R5 は水素原子又は低級
アルキル基を、R6 は水素原子、低級アルキル基、フェ
ニル低級アルキル基又は置換基として低級アルコキシ
基、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン原子から
選ばれる基の1〜3個を有するベンゾイル基を示し、ま
たR1 及びR5 は互いに結合して低級アルキレン基を形
成してもよく、Qはカルボニル基又はスルホニル基を、
Aは単結合、低級アルキレン基又は低級アルケニレン基
をそれぞれ示し、nは0又は1を示す。
In the above general formula (1), R 1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a thienyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an oxo group or a hydroxyl group as a substituent, a cycloalkyl group, a thienyl group. Group,
R 2 represents a naphthyl group, a cycloalkyl group, a furyl group, a lower alkenyl group or a phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a phenylthio group and a halogen atom as a substituent. , A furyl group, a thienyl group, a pyridyl group which may be substituted with a halogen atom, a phenoxy group which may be substituted with a halogen atom or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, or a halogen substitution. One of groups selected from a lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a phenyl lower alkoxy group, an amino group, a cyano group, a lower alkanoyloxy group, a phenyl group and a di-lower alkoxyphosphoryl lower alkyl group; A phenyl group which may have up to 3 , R 3 is a hydrogen atom, a phenyl group or a lower alkyl group, R 4 is a hydrogen atom, a lower alkyl group,
A lower alkoxycarbonyl group, a phenyl lower alkyl group, a phenyl group or a halogen atom which may have a phenylthio group as a substituent, R 5 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a phenyl lower group; Alkyl or a benzoyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group and a halogen atom as a substituent, and R 1 and R 5 are bonded to each other to form a lower alkylene group. Q may be a carbonyl group or a sulfonyl group,
A represents a single bond, a lower alkylene group or a lower alkenylene group, and n represents 0 or 1.

【0007】上記一般式(1)中の各基としては、例え
ば次の各基を例示できる。即ち、低級アルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基等の直鎖又は分枝鎖状低級アルキル基を例示でき
る。
As the respective groups in the general formula (1), for example, the following groups can be exemplified. That is, examples of the lower alkyl group include linear or branched lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, and hexyl.

【0008】シクロアルキル基としては、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
シクロヘプチル、シクロオクチル基等を例示できる。
The cycloalkyl group includes cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl,
Examples include cycloheptyl and cyclooctyl groups.

【0009】低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
The lower alkoxy group includes methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy and the like.

【0010】低級アルキルチオ基としては、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチル
チオ、ヘキシルチオ基等を例示できる。
The lower alkylthio group includes, for example, methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio and the like.

【0011】ハロゲン原子には、弗素、塩素、臭素及び
沃素原子が包含される。
Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.

【0012】ハロゲン置換低級アルキル基としては、ト
リフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフル
オロプロピル、ノナフルオロブチル、ウンデカフルオロ
ペンチル、トリデカフルオロヘキシル基等を例示でき
る。
Examples of the halogen-substituted lower alkyl group include trifluoromethyl, pentafluoroethyl, heptafluoropropyl, nonafluorobutyl, undecafluoropentyl, and tridecafluorohexyl.

【0013】ハロゲン置換低級アルコキシ基としては、
トリフルオロメトキシ、ペンタフルオロエトキシ、ヘプ
タフルオロプロポキシ、ノナフルオロブトキシ、ウンデ
カフルオロペンチルオキシ、トリデカフルオロヘキシル
オキシ基等を例示できる。
The halogen-substituted lower alkoxy group includes
Examples thereof include trifluoromethoxy, pentafluoroethoxy, heptafluoropropoxy, nonafluorobutoxy, undecafluoropentyloxy, and tridecafluorohexyloxy groups.

【0014】低級アルコキシカルボニル基としては、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカル
ボニル基等を例示できる。
Examples of the lower alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl and the like.

【0015】ジ低級アルコキシホスホリル低級アルキル
基としては、ジメトキシホスホリルメチル、ジエトキシ
ホスホリルメチル、ジプロポキシホスホリルメチル、ジ
イソプロポキシホスホリルメチル、ジブトキシホスホリ
ルメチル、ジペンチルオキシホスホリルメチル、ジヘキ
シルオキシホスホリルメチル、2−(ジメトキシホスホ
リル)エチル、2−(ジエトキシホスホリル)エチル、
3−(ジエトキシホスホリル)プロピル基等を例示でき
る。
Examples of the di-lower alkoxyphosphoryl lower alkyl group include dimethoxyphosphorylmethyl, diethoxyphosphorylmethyl, dipropoxyphosphorylmethyl, diisopropoxyphosphorylmethyl, dibutoxyphosphorylmethyl, dipentyloxyphosphorylmethyl, dihexyloxyphosphorylmethyl, (Dimethoxyphosphoryl) ethyl, 2- (diethoxyphosphoryl) ethyl,
Examples thereof include a 3- (diethoxyphosphoryl) propyl group.

【0016】ナフチル基には、1−ナフチル、2−ナフ
チル基が包含される。
The naphthyl group includes 1-naphthyl and 2-naphthyl groups.

【0017】低級アルキレン基としては、メチレン、エ
チレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン基等を例示できる。
Examples of the lower alkylene group include a methylene, ethylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene group and the like.

【0018】低級アルケニレン基としては、ビニレン、
プロペニレン基等を例示できる。
Examples of the lower alkenylene group include vinylene,
Examples thereof include a propenylene group.

【0019】ハロゲン原子で置換されることのあるピリ
ジル基としては、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピ
リジル、6−クロロ−2−ピリジル、5−クロロ−2−
ピリジル、4−クロロ−2−ピリジル、3−クロロ−2
−ピリジル、6−クロロ−3−ピリジル、5−クロロ−
3−ピリジル、4−クロロ−3−ピリジル、2−クロロ
−3−ピリジル、2−クロロ−4−ピリジル、3−クロ
ロ−4−ピリジル、6−フルオロ−3−ピリジル、6−
ブロモ−3−ピリジル、6−ヨード−3−ピリジル基等
を例示できる。
Examples of the pyridyl group which may be substituted with a halogen atom include 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, 6-chloro-2-pyridyl, 5-chloro-2-
Pyridyl, 4-chloro-2-pyridyl, 3-chloro-2
-Pyridyl, 6-chloro-3-pyridyl, 5-chloro-
3-pyridyl, 4-chloro-3-pyridyl, 2-chloro-3-pyridyl, 2-chloro-4-pyridyl, 3-chloro-4-pyridyl, 6-fluoro-3-pyridyl, 6-
Examples thereof include a bromo-3-pyridyl group and a 6-iodo-3-pyridyl group.

【0020】ハロゲン原子で置換されることのあるフェ
ノキシ基としては、フェノキシ、2−クロロフェノキ
シ、3−クロロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、4
−フルオロフェノキシ、4−ブロモフェノキシ、4−ヨ
ードフェノキシ基等を例示できる。
Examples of the phenoxy group which may be substituted with a halogen atom include phenoxy, 2-chlorophenoxy, 3-chlorophenoxy, 4-chlorophenoxy,
-Fluorophenoxy, 4-bromophenoxy, 4-iodophenoxy and the like.

【0021】チエニル基には、2−チエニル及び3−チ
エニル基が包含され、またフリル基には、2−フリル及
び3−フリル基が包含される。
The thienyl group includes 2-thienyl and 3-thienyl groups, and the furyl group includes 2-furyl and 3-furyl groups.

【0022】低級アルケニル基としては、ビニル、アリ
ル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3
−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペ
ンテニル、4−ペンテニル、1−ヘキセニル、2−ヘキ
セニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセ
ニル基等を例示できる。
The lower alkenyl group includes vinyl, allyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3
-Butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-hexenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 5-hexenyl group and the like.

【0023】フェニル低級アルキル基としては、ベンジ
ル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、3−フ
ェニルプロピル、4−フェニルブチル、5−フェニルペ
ンチル、6−フェニルヘキシル基等を例示できる。
Examples of the phenyl lower alkyl group include a benzyl, 1-phenylethyl, 2-phenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, 5-phenylpentyl, 6-phenylhexyl group and the like.

【0024】フェニル低級アルコキシ基としては、ベン
ジルオキシ、2−フェニルエトキシ、3−フェニルプロ
ポキシ、4−フェニルブトキシ、5−フェニルペンチル
オキシ、6−フェニルヘキシルオキシ基等を例示でき
る。
Examples of the phenyl lower alkoxy group include benzyloxy, 2-phenylethoxy, 3-phenylpropoxy, 4-phenylbutoxy, 5-phenylpentyloxy, 6-phenylhexyloxy and the like.

【0025】低級アルカノイルオキシ基としては、アセ
トキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレリ
ルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ヘ
プタノイルオキシ基等を例示できる。
Examples of the lower alkanoyloxy group include acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, valeryloxy, pivaloyloxy, hexanoyloxy, heptanoyloxy and the like.

【0026】置換基としてチエニル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基、オキソ基又はヒドロキシル基
を有することのある低級アルキル基としては、上記無置
換の低級アルキル基に加えて、2−チエニルメチル、3
−チエニルメチル、1−(2−チエニル)エチル、1−
(3−チエニル)エチル、2−(2−チエニル)エチ
ル、2−(3−チエニル)エチル、3−(2−チエニ
ル)プロピル、4−(2−チエニル)ブチル、5−(2
−チエニル)ペンチル、6−(2−チエニル)ヘキシ
ル、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチ
ル、ブトキシメチル、ペンチルオキシメチル、ヘキシル
オキシメチル、1−メトキシエチル、2−メトキシエチ
ル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、5−
メトキシペンチル、6−メトキシヘキシル、ヒドロキシ
メチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチ
ル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピ
ル、3−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシブチル、
4−ヒドロキシペンチル、5−ヒドロキシヘキシル、メ
チルチオメチル、エチルチオメチル、プロピルチオメチ
ル、ブチルチオメチル、ペンチルチオメチル、ヘキシル
チオメチル、2−メチルチオエチル、3−メチルチオプ
ロピル、4−メチルチオブチル、5−メチルチオペンチ
ル、6−メチルチオヘキシル、ホルミル、ホルミルメチ
ル、アセチル、2−ホルミルエチル、2−オキソプロピ
ル、プロピオニル、3−ホルミルプロピル、3−オキソ
ブチル、2−オキソブチル、ブチリル、4−ホルミルブ
チル、4−オキソペンチル、3−オキソペンチル、2−
オキソペンチル、バレリル、5−ホルミルペンチル、5
−オキソヘキシル、4−オキソヘキシル、3−オキソヘ
キシル、2−オキソヘキシル、ヘキサノイル基等を例示
できる。
Examples of the lower alkyl group which may have a thienyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an oxo group or a hydroxyl group as a substituent include 2-thienylmethyl,
-Thienylmethyl, 1- (2-thienyl) ethyl, 1-
(3-thienyl) ethyl, 2- (2-thienyl) ethyl, 2- (3-thienyl) ethyl, 3- (2-thienyl) propyl, 4- (2-thienyl) butyl, 5- (2
-Thienyl) pentyl, 6- (2-thienyl) hexyl, methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, pentyloxymethyl, hexyloxymethyl, 1-methoxyethyl, 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, -Methoxybutyl, 5-
Methoxypentyl, 6-methoxyhexyl, hydroxymethyl, 1-hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl, 1-hydroxypropyl, 2-hydroxypropyl, 3-hydroxypropyl, 3-hydroxybutyl,
4-hydroxypentyl, 5-hydroxyhexyl, methylthiomethyl, ethylthiomethyl, propylthiomethyl, butylthiomethyl, pentylthiomethyl, hexylthiomethyl, 2-methylthioethyl, 3-methylthiopropyl, 4-methylthiobutyl, 5- Methylthiopentyl, 6-methylthiohexyl, formyl, formylmethyl, acetyl, 2-formylethyl, 2-oxopropyl, propionyl, 3-formylpropyl, 3-oxobutyl, 2-oxobutyl, butyryl, 4-formylbutyl, 4-oxo Pentyl, 3-oxopentyl, 2-
Oxopentyl, valeryl, 5-formylpentyl, 5
Examples thereof include -oxohexyl, 4-oxohexyl, 3-oxohexyl, 2-oxohexyl, and a hexanoyl group.

【0027】置換基として低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、フェニルチオ基及びハロゲン原子から選ばれる
基の1〜3個を有することのあるフェニル基としては、
フェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、
4−メチルフェニル、4−エチルフェニル、4−プロピ
ルフェニル、4−ブチルフェニル、4−t−ブチルフェ
ニル、4−ペンチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、
2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニ
ル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェ
ニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフ
ェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニ
ル、4−メトキシフェニル、4−エトキシフェニル、4
−プロポキシフェニル、4−ブトキシフェニル、4−ペ
ンチルオキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、
2,3−ジメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェ
ニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジ
メトキシフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニ
ル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−ク
ロロフェニル、4−ブロモフェニル、4−ヨードフェニ
ル、4−フルオロフェニル、4−(フェニルチオ)フェ
ニル、3−(フェニルチオ)フェニル、2−(フェニル
チオ)フェニル基等を例示できる。
The phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a phenylthio group and a halogen atom as a substituent includes:
Phenyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl,
4-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 4-propylphenyl, 4-butylphenyl, 4-t-butylphenyl, 4-pentylphenyl, 4-hexylphenyl,
2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2-methoxyphenyl, 3-methoxy Phenyl, 4-methoxyphenyl, 4-ethoxyphenyl, 4
-Propoxyphenyl, 4-butoxyphenyl, 4-pentyloxyphenyl, 4-hexyloxyphenyl,
2,3-dimethoxyphenyl, 2,4-dimethoxyphenyl, 2,5-dimethoxyphenyl, 2,6-dimethoxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl, 3,5-dimethoxyphenyl, 3,4,5-trimethoxy Phenyl, 2-chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 4-chlorophenyl, 4-bromophenyl, 4-iodophenyl, 4-fluorophenyl, 4- (phenylthio) phenyl, 3- (phenylthio) phenyl, 2- (phenylthio) phenyl group Etc. can be exemplified.

【0028】置換基として低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン置換低級ア
ルキル基、ハロゲン置換低級アルコキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基、ヒドロキシル基、フェニル低級アル
コキシ基、アミノ基、シアノ基、低級アルカノイルオキ
シ基、フェニル基及びジ低級アルコキシホスホリル低級
アルキル基から選ばれる基の1〜3個を有することのあ
るフェニル基としては、次の各基を例示できる。
As a substituent, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a phenyl-lower alkoxy group, an amino group, a cyano group Examples of the phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from a lower alkanoyloxy group, a phenyl group and a di-lower alkoxyphosphoryl lower alkyl group include the following groups.

【0029】即ち、フェニル、2−メチルフェニル、3
−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−エチルフ
ェニル、4−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、
4−t−ブチルフェニル、4−ペンチルフェニル、4−
ヘキシルフェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキ
シフェニル、4−メトキシフェニル、4−エトキシフェ
ニル、4−プロポキシフェニル、4−ブトキシフェニ
ル、4−ペンチルオキシフェニル、4−ヘキシルオキシ
フェニル、2,3−ジメトキシフェニル、2,4−ジメ
トキシフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6
−ジメトキシフェニル、3,4−ジメトキシフェニル、
3,5−ジメトキシフェニル、2,3,4−トリメトキ
シフェニル、2,3,5−トリメトキシフェニル、2,
3,6−トリメトキシフェニル、2,4,5−トリメト
キシフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニル、
3,4,5−トリメトキシフェニル、3,4,5−トリ
エトキシフェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオ
ロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニ
ル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−ブ
ロモフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニ
ル、4−ヨードフェニル、2,3−ジクロロフェニル、
2,4−ジクロロフェニル、2−ニトロフェニル、3−
ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、2−トリフルオ
ロメチルフェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、
4−トリフルオロメチルフェニル、4−ペンタフルオロ
エチルフェニル、4−ヘプタフルオロプロピルフェニ
ル、4−ノナフルオロブチルフェニル、4−ウンデカフ
ルオロペンチルフェニル、4−トリデカフルオロヘキシ
ルフェニル、2−メトキシカルボニルフェニル、3−メ
トキシカルボニルフェニル、4−メトキシカルボニルフ
ェニル、4−エトキシカルボニルフェニル、4−プロポ
キシカルボニルフェニル、4−ブトキシカルボニルフェ
ニル、4−ペンチルオキシカルボニルフェニル、4−ヘ
キシルオキシカルボニルフェニル、2−ビフェニル、3
−ビフェニル、4−ビフェニル、2−(ジエトキシホス
ホリルメチル)フェニル、3−(ジエトキシホスホリル
メチル)フェニル、4−(ジエトキシホスホリルメチ
ル)フェニル、4−(ジメトキシホスホリルメチル)フ
ェニル、4−(ジイソプロポキシホスホリルメチル)フ
ェニル、3,5−ジメトキシ−4−エトキシフェニル、
3,5−ジメトキシ−4−プロポキシフェニル、4−ブ
トキシ−3,5−ジメトキシフェニル、3,5−ジメト
キシ−4−ペンチルオキシフェニル、3,5−ジメトキ
シ−4−ヘキシルオキシフェニル、2,3−ビス(トリ
フルオロメチル)フェニル、2,4−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル、2,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニル、2,6−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニル、3,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル、
3,5−ジメトキシ−4−ヒドロキシフェニル、3,5
−ジエトキシ−4−ヒドロキシフェニル、3,5−ジプ
ロポキシ−4−ヒドロキシフェニル、4−ベンジルオキ
シ−3,5−ジメトキシフェニル、4−ベンジルオキシ
−3,5−ジエトキシフェニル、3,5−ジメトキシ−
4−(2−フェニルエトキシ)フェニル、4−アセトキ
シ−3,5−ジメトキシフェニル、3,5−ジメトキシ
−4−プロピオニルオキシフェニル、2−クロロ−3,
5−ジメトキシフェニル、4−クロロ−3,5−ジメト
キシフェニル、4−ブロモ−3,5−ジメトキシフェニ
ル、3,5−ジメトキシ−4−ヨードフェニル、3,5
−ジクロロ−4−メトキシフェニル、3,5−ジクロロ
−4−エトキシフェニル、2−アミノフェニル、3−ア
ミノフェニル、4−アミノフェニル、2−シアノフェニ
ル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、4−ト
リフルオロメトキシフェニル、3−トリフルオロメトキ
シフェニル、2−トリフルオロメトキシフェニル、4−
ペンタフルオロエトキシフェニル、4−ヘプタフルオロ
プロポキシフェニル、4−ノナフルオロブトキシフェニ
ル、4−ウンデカフルオロペンチルオキシフェニル、4
−トリデカフルオロヘキシルオキシフェニル、3,5−
ビス(トリフルオロメトキシ)フェニル、3,4,5−
トリス(トリフルオロメトキシ)フェニル基等を例示で
きる。
That is, phenyl, 2-methylphenyl, 3
-Methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 4-propylphenyl, 4-butylphenyl,
4-t-butylphenyl, 4-pentylphenyl, 4-
Hexylphenyl, 2-methoxyphenyl, 3-methoxyphenyl, 4-methoxyphenyl, 4-ethoxyphenyl, 4-propoxyphenyl, 4-butoxyphenyl, 4-pentyloxyphenyl, 4-hexyloxyphenyl, 2,3-dimethoxy Phenyl, 2,4-dimethoxyphenyl, 2,5-dimethoxyphenyl, 2,6
-Dimethoxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl,
3,5-dimethoxyphenyl, 2,3,4-trimethoxyphenyl, 2,3,5-trimethoxyphenyl, 2,
3,6-trimethoxyphenyl, 2,4,5-trimethoxyphenyl, 2,4,6-trimethoxyphenyl,
3,4,5-trimethoxyphenyl, 3,4,5-triethoxyphenyl, 2-fluorophenyl, 3-fluorophenyl, 4-fluorophenyl, 2-chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 4-chlorophenyl, 2-bromo Phenyl, 3-bromophenyl, 4-bromophenyl, 4-iodophenyl, 2,3-dichlorophenyl,
2,4-dichlorophenyl, 2-nitrophenyl, 3-
Nitrophenyl, 4-nitrophenyl, 2-trifluoromethylphenyl, 3-trifluoromethylphenyl,
4-trifluoromethylphenyl, 4-pentafluoroethylphenyl, 4-heptafluoropropylphenyl, 4-nonafluorobutylphenyl, 4-undecafluoropentylphenyl, 4-tridecafluorohexylphenyl, 2-methoxycarbonylphenyl, 3-methoxycarbonylphenyl, 4-methoxycarbonylphenyl, 4-ethoxycarbonylphenyl, 4-propoxycarbonylphenyl, 4-butoxycarbonylphenyl, 4-pentyloxycarbonylphenyl, 4-hexyloxycarbonylphenyl, 2-biphenyl,
-Biphenyl, 4-biphenyl, 2- (diethoxyphosphorylmethyl) phenyl, 3- (diethoxyphosphorylmethyl) phenyl, 4- (diethoxyphosphorylmethyl) phenyl, 4- (dimethoxyphosphorylmethyl) phenyl, 4- (dimethoxyphosphorylmethyl) phenyl Isopropoxyphosphorylmethyl) phenyl, 3,5-dimethoxy-4-ethoxyphenyl,
3,5-dimethoxy-4-propoxyphenyl, 4-butoxy-3,5-dimethoxyphenyl, 3,5-dimethoxy-4-pentyloxyphenyl, 3,5-dimethoxy-4-hexyloxyphenyl, 2,3- Bis (trifluoromethyl) phenyl, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl, 2,5-bis (trifluoromethyl) phenyl, 2,6-bis (trifluoromethyl) phenyl, 3,4-bis ( Trifluoromethyl) phenyl, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl,
3,5-dimethoxy-4-hydroxyphenyl, 3,5
-Diethoxy-4-hydroxyphenyl, 3,5-dipropoxy-4-hydroxyphenyl, 4-benzyloxy-3,5-dimethoxyphenyl, 4-benzyloxy-3,5-diethoxyphenyl, 3,5-dimethoxy-
4- (2-phenylethoxy) phenyl, 4-acetoxy-3,5-dimethoxyphenyl, 3,5-dimethoxy-4-propionyloxyphenyl, 2-chloro-3,
5-dimethoxyphenyl, 4-chloro-3,5-dimethoxyphenyl, 4-bromo-3,5-dimethoxyphenyl, 3,5-dimethoxy-4-iodophenyl, 3,5
-Dichloro-4-methoxyphenyl, 3,5-dichloro-4-ethoxyphenyl, 2-aminophenyl, 3-aminophenyl, 4-aminophenyl, 2-cyanophenyl, 3-cyanophenyl, 4-cyanophenyl, -Trifluoromethoxyphenyl, 3-trifluoromethoxyphenyl, 2-trifluoromethoxyphenyl, 4-
Pentafluoroethoxyphenyl, 4-heptafluoropropoxyphenyl, 4-nonafluorobutoxyphenyl, 4-undecafluoropentyloxyphenyl, 4
-Tridecafluorohexyloxyphenyl, 3,5-
Bis (trifluoromethoxy) phenyl, 3,4,5-
A tris (trifluoromethoxy) phenyl group and the like can be exemplified.

【0030】置換基としてフェニルチオ基を有すること
のあるフェニル基としては、フェニル、4−(フェニル
チオ)フェニル、3−(フェニルチオ)フェニル、2−
(フェニルチオ)フェニル基等を例示できる。
The phenyl group which may have a phenylthio group as a substituent includes phenyl, 4- (phenylthio) phenyl, 3- (phenylthio) phenyl, 2-
A (phenylthio) phenyl group can be exemplified.

【0031】置換基として低級アルコキシ基、ハロゲン
置換低級アルキル基及びハロゲン原子から選ばれる基の
1〜3個を有するベンゾイル基としては、2−クロロベ
ンゾイル、3−クロロベンゾイル、4−クロロベンゾイ
ル、2−フルオロベンゾイル、2−ブロモベンゾイル、
2−ヨードベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイル、
3,4−ジクロロベンゾイル、2,5−ジクロロベンゾ
イル、2,6−ジクロロベンゾイル、2−トリフルオロ
メチルベンゾイル、3−トリフルオロメチルベンゾイ
ル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゾイル、3,4,5−トリ
ス(トリフルオロメチル)ベンゾイル、2−メトキシベ
ンゾイル、3−メトキシベンゾイル、4−メトキシベン
ゾイル、2,3−ジメトキシベンゾイル、2,4−ジメ
トキシベンゾイル、3,5−ジメトキシベンゾイル、
3,4,5−トリメトキシベンゾイル、2−エトキシベ
ンゾイル、2−プロポキシベンゾイル、2−ブトキシベ
ンゾイル、2−ペンチルオキシベンゾイル、2−ヘキシ
ルオキシベンゾイル基等を例示できる。
Examples of the benzoyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group and a halogen atom as a substituent include 2-chlorobenzoyl, 3-chlorobenzoyl, 4-chlorobenzoyl, -Fluorobenzoyl, 2-bromobenzoyl,
2-iodobenzoyl, 2,4-dichlorobenzoyl,
3,4-dichlorobenzoyl, 2,5-dichlorobenzoyl, 2,6-dichlorobenzoyl, 2-trifluoromethylbenzoyl, 3-trifluoromethylbenzoyl, 4-trifluoromethylbenzoyl, 3,5-bis (trifluoro Methyl) benzoyl, 3,4,5-tris (trifluoromethyl) benzoyl, 2-methoxybenzoyl, 3-methoxybenzoyl, 4-methoxybenzoyl, 2,3-dimethoxybenzoyl, 2,4-dimethoxybenzoyl, 3,5 -Dimethoxybenzoyl,
Examples thereof include 3,4,5-trimethoxybenzoyl, 2-ethoxybenzoyl, 2-propoxybenzoyl, 2-butoxybenzoyl, 2-pentyloxybenzoyl, and 2-hexyloxybenzoyl groups.

【0032】上記一般式(1)で表わされるピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン誘導体は、強い鎮痛作用を有
しており、鎮痛剤として例えば術後疼痛、偏頭痛、痛
風、癌性疼痛、慢性疼痛、神経因性疼痛等の痛みの症状
緩和に有用である。しかも該誘導体は、従来の鎮痛剤に
ありがちな副作用もなく、幻覚や錯乱等をもたらした
り、耽溺性や習慣性を起こしたりする虞もない。
The pyrazolo [1,5-a] pyrimidine derivative represented by the general formula (1) has a strong analgesic action, and is used as an analgesic, for example, postoperative pain, migraine, gout, cancer pain, It is useful for alleviating pain symptoms such as chronic pain and neuropathic pain. In addition, the derivative does not have side effects that are common in conventional analgesics, does not cause hallucinations, confusion, and does not cause indulgence or addiction.

【0033】上記鎮痛剤として好ましいピラゾロ〔1,
5−a〕ピリミジン誘導体は、特に前記一般式(1)
中、Qがカルボニル基で、nが0である化合物、Qがカ
ルボニル基で、nが1であり且つR1 が低級アルキル基
又はフェニル基、R2 が置換基として低級アルコキシ基
及びハロゲン置換低級アルキル基から選ばれる基の1〜
3個を有するフェニル基、R3 、R4 、R5 及びR6 が
それぞれ水素原子及びAが単結合を示す化合物、並びに
Qがスルホニル基でnが0であり且つR1 が低級アルキ
ル基、R2 がハロゲン原子の1〜3個を有することのあ
るフェニル基、R3 、R4 、R5 及びR6 がそれぞれ水
素原子及びAが単結合を示す化合物から選ばれる。
Pyrazolo [1,1] which is preferable as the above-mentioned analgesic
5-a] Pyrimidine derivatives are preferably those represented by the general formula (1)
Wherein Q is a carbonyl group and n is 0, Q is a carbonyl group, n is 1 and R1 is a lower alkyl group or a phenyl group, and R2 is a lower alkoxy group or a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent. 1 to 1 of the groups selected from
Three phenyl group having, R3, R4, R5 and R6 each are a hydrogen atom and A is the compound represents a single bond, and Q is n is 0 sulfonyl group and R1 is a lower alkyl group, R 2 is a halogen atom And R3, R4, R5 and R6 are each selected from a hydrogen atom and a compound in which A represents a single bond.

【0034】之等好ましいピラゾロ〔1,5−a〕ピリ
ミジン誘導体の内でも特に以下のものはより好適であ
る。
Among these preferred pyrazolo [1,5-a] pyrimidine derivatives, the following are particularly preferred.

【0035】(1)R1 が置換基として低級アルキルチ
オ基を有することのある低級アルキル基又は置換基とし
てフェニルチオ基を有することのあるフェニル基で、R
2 が置換基として低級アルコキシ基、ハロゲン原子及び
ハロゲン置換低級アルキル基から選ばれる基の1〜3個
を有するフェニル基で、R3 が水素原子又はフェニル基
で、R4 が水素原子、ハロゲン原子又はフェニル基で、
R5 が水素原子で、R6が水素原子又は置換基としてハ
ロゲン置換低級アルキル基を有するベンゾイル基で、Q
がカルボニル基で、Aが単結合である化合物、(2)R
3 、R4 及びR6 がそれぞれ水素原子で、nが0であっ
て、R1 がn−ブチル基で且つR2 が低級アルコキシ基
の2〜3個を有するフェニル基又はハロゲン置換低級ア
ルキル基の1〜2個を有するフェニル基であるか、或は
R1 がフェニル基で且つR2 が低級アルコキシ基の3個
を有するフェニル基である化合物、及び(3)R2 が
2,4−ジメトキシフェニル基、3,4,5−トリメト
キシフェニル基、2−トリフルオロメチルフェニル基又
は2,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基であ
る化合物。
(1) R1 is a lower alkyl group which may have a lower alkylthio group as a substituent or a phenyl group which may have a phenylthio group as a substituent;
2 is a phenyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group, a halogen atom and a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent, R3 is a hydrogen atom or a phenyl group, and R4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a phenyl group. Based on
R5 is a hydrogen atom; R6 is a hydrogen atom or a benzoyl group having a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent;
Is a carbonyl group and A is a single bond, (2) R
3, R4 and R6 are each a hydrogen atom, n is 0, R1 is an n-butyl group and R2 is a phenyl or halogen-substituted lower alkyl group having 2 to 3 lower alkoxy groups; A compound in which R1 is a phenyl group and R2 is a phenyl group having three lower alkoxy groups; and (3) R2 is a 2,4-dimethoxyphenyl group, 3,4 A compound which is a 2,5-trimethoxyphenyl group, a 2-trifluoromethylphenyl group or a 2,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group.

【0036】最も好ましいピラゾロ〔1,5−a〕ピリ
ミジン誘導体の具体例としては、5−n−ブチル−7−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイルアミノ)ピラゾ
ロ〔1,5−a〕ピリミジン及び5−n−ブチル−7−
(2−トリフルオロメチルベンゾイルアミノ)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジンを例示できる。
Specific examples of the most preferred pyrazolo [1,5-a] pyrimidine derivative include 5-n-butyl-7-
(3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine and 5-n-butyl-7-
(2-trifluoromethylbenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine can be exemplified.

【0037】上記一般式(1)で表わされる誘導体は、
各種の方法により製造できる。その具体例を以下に反応
工程式を挙げて説明する。
The derivative represented by the above general formula (1) is
It can be manufactured by various methods. Specific examples thereof will be described below with reference to reaction schemes.

【0038】[0038]

【化3】 Embedded image

【0039】〔式中、R2 、R3 、R5 、n、Q及びA
は前記に同じ。R1aは水素原子、置換基としてチエニル
基、低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基を有する
ことのある低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニ
ル基、フリル基、低級アルケニル基又は置換基として低
級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニルチオ基及び
ハロゲン原子から選ばれる基の1〜3個を有することの
あるフェニル基を示し、またR1aはR5 と互いに結合し
て低級アルキレン基を形成してもよく、R4aは水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、フ
ェニル低級アルキル基又は置換基としてフェニルチオ基
を有することのあるフェニル基を、X及びYはそれぞれ
ハロゲン原子を、Zは低級アルキル基を、それぞれ示
す。〕 上記反応工程式−1において、化合物(2)と化合物
(3)との縮合反応は、適当な不活性溶媒中、室温〜溶
媒の沸点範囲の温度条件下で実施される。ここで用いら
れる不活性溶媒としては、酢酸、エタノール、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン(TH
F)等を例示できる。化合物(2)と化合物(3)との
使用割合は、一般にほぼ等モル量程度とするのがよく、
反応は約2〜5時間を要して完了し、かくして所望の化
合物(4)を収得できる。
Wherein R2, R3, R5, n, Q and A
Is the same as above. R 1 a hydrogen atom, a thienyl group as a substituent, a lower alkyl group which may have a lower alkoxy group or a lower alkylthio group, a cycloalkyl group, a thienyl group, a furyl group, a lower alkyl group as a lower alkenyl group or a substituent, a lower alkoxy group, a phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from phenylthio group and a halogen atom, and R 1 a may also form a lower alkylene group bonded together with R5, R 4 a is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a phenylthio group as a phenyl lower alkyl group or a substituent, each X and Y is a halogen atom, Z is a lower alkyl group, Shown respectively. In the above reaction scheme 1, the condensation reaction between the compound (2) and the compound (3) is carried out in a suitable inert solvent at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent. As the inert solvent used here, acetic acid, ethanol, benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran (TH
F) and the like. In general, the ratio of the compound (2) to the compound (3) is preferably about equimolar,
The reaction is completed in about 2 to 5 hours, and thus the desired compound (4) can be obtained.

【0040】上記に引続く化合物(4)のハロゲン化反
応は、適当な脱酸剤、例えばN,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、トリエチルアミン等の
存在下に、適当なハロゲン化剤、例えばオキシ塩化リ
ン、オキシ臭化リン等を用いて実施される。上記ハロゲ
ン化剤は溶媒をも兼ねるので、該反応には特に溶媒を用
いる必要はないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の他の不活性溶媒を用いることもできる。上記脱酸
剤の使用量は、通常化合物(4)に対して1〜10倍量
程度とするのがよく、反応は室温〜150℃程度の温度
条件下に約0.5〜12時間を要して実施される。
The subsequent halogenation reaction of compound (4) is carried out in the presence of a suitable deoxidizing agent such as N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, triethylamine, etc. For example, using phosphorus oxychloride, phosphorus oxybromide and the like. Since the halogenating agent also serves as a solvent, it is not necessary to use a solvent in the reaction, but other inert solvents such as benzene, toluene, and xylene can be used. The amount of the deoxidizing agent to be used is usually about 1 to 10 times the amount of the compound (4), and the reaction requires about 0.5 to 12 hours at room temperature to about 150 ° C. It will be implemented.

【0041】上記反応により得られるハロゲン化物
(5)は、これをアンモニア水又はヒドラジンで処理す
ることにより化合物(6)に変換できる。この処理は、
特に溶媒を必要とせず、通常化合物(5)を過剰量のア
ンモニア水と共に約100〜150℃で1〜12時間程
度加熱するか、又は、化合物(5)を過剰量のヒドラジ
ンと共に約0℃〜室温下で5〜30時間程度処理するこ
とにより実施できる。
The halide (5) obtained by the above reaction can be converted to the compound (6) by treating it with aqueous ammonia or hydrazine. This process
No particular solvent is required, and the compound (5) is usually heated at about 100 to 150 ° C for about 1 to 12 hours with an excess amount of aqueous ammonia, or the compound (5) is heated at about 0 ° C with an excess amount of hydrazine. It can be carried out by treating at room temperature for about 5 to 30 hours.

【0042】かくして得られる化合物(6)は、次いで
これを酸ハロゲン化物(7)と反応させることにより、
本発明化合物(1)に変換できる。この反応は、適当な
溶媒中、脱酸剤の存在下に実施できる。ここで溶媒とし
ては例えばベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテ
ル等の芳香族乃至脂肪族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン(TH
F)、1,4−ジオキサン等の鎖状乃至環状エーテル
類、アセトン、エチルメチルケトン、アセトフェノン等
のケトン類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素等
を例示できる。また脱酸剤としては、トリエチルアミ
ン、N,N−ジエチルアニリン、N−メチルモルホリ
ン、ピリジン、4−メチルアミノピリジン等の第3級ア
ミン類を好ましく例示できる。
The compound (6) thus obtained is then reacted with an acid halide (7) to give
It can be converted to the compound (1) of the present invention. This reaction can be carried out in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent. Examples of the solvent include aromatic or aliphatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and petroleum ether, diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran (TH
F) linear or cyclic ethers such as 1,4-dioxane; ketones such as acetone, ethyl methyl ketone and acetophenone; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride and 1,2-dichloroethane. Can be illustrated. Preferred examples of the deoxidizing agent include tertiary amines such as triethylamine, N, N-diethylaniline, N-methylmorpholine, pyridine and 4-methylaminopyridine.

【0043】上記反応における化合物(6)に対する酸
ハロゲン化物(7)及び脱酸剤の使用量は、特に限定的
ではないが、通常酸ハロゲン化物は等モル量程度、脱酸
剤は等モル量〜過剰モル量程度とするのがよく、反応は
室温〜溶媒の還流温度の条件下に約0.5〜20時間程
度で終了する。
The amounts of the acid halide (7) and the deoxidizing agent used in the above reaction with respect to the compound (6) are not particularly limited, but usually the acid halide is about equimolar, and the deoxidizing agent is usually equimolar. The reaction is completed in about 0.5 to 20 hours under the conditions of room temperature to the reflux temperature of the solvent.

【0044】尚、上記化合物(6)のうち、nが0であ
る化合物(6′)は、下記反応工程式−1′に記載の方
法によっても製造することができる。
The compound (6 ') wherein n is 0 among the above compounds (6) can also be produced by the method described in the following reaction scheme-1'.

【0045】[0045]

【化4】 Embedded image

【0046】〔式中、R1a、R3 、R4a及びR5 は前記
に同じ。〕 上記において、ニトリル誘導体(2′)と化合物(3)
との縮合反応は、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢
酸、エタノール等の不活性溶媒中、室温〜還流温度の条
件下にて2〜10時間程度を要して行なわれる。尚、両
化合物の使用割合は、ほぼ当モル量程度とするのが一般
的である。
Wherein R 1 a, R 3, R 4 a and R 5 are the same as above. In the above, the nitrile derivative (2 ′) and the compound (3)
Is carried out in an inert solvent such as benzene, toluene, xylene, acetic acid, and ethanol under conditions of room temperature to reflux temperature for about 2 to 10 hours. The ratio of the two compounds used is generally about equimolar.

【0047】[0047]

【化5】 Embedded image

【0048】〔式中、R2 、R3 、R5 、X、Y、A、
Q、Z及びnは前記に同じ。Ψは保護されたオキソ基を
有する低級アルキル基を、Φはオキソ基を有する低級ア
ルキル基を、Σはアシルオキシ基を有する低級アルキル
基を、Ωはトリ低級アルキルシリルオキシ基を有する低
級アルキル基を、R1bはヒドロキシ低級アルキル基を、
4bは水素原子、低級アルキル基、フェニル低級アルキ
ル基又は置換基としてフェニルチオ基を有することのあ
るフェニル基を、それぞれ示す。〕 上記反応工程式−2における化合物(8)と化合物
(9)との縮合反応は、前記反応工程式−1における化
合物(2)と化合物(3)との反応と同様にして実施で
きる。
[Wherein R2, R3, R5, X, Y, A,
Q, Z and n are the same as above. Ψ is a lower alkyl group having a protected oxo group, Φ is a lower alkyl group having an oxo group, Σ is a lower alkyl group having an acyloxy group, and Ω is a lower alkyl group having a tri-lower alkylsilyloxy group. , R 1 b represents a hydroxy lower alkyl group,
R 4 b is hydrogen atom, a lower alkyl group, a phenyl group which may have a phenylthio group as a phenyl lower alkyl group or a substituent, respectively. The condensation reaction between the compound (8) and the compound (9) in the above reaction scheme-2 can be carried out in the same manner as the reaction between the compound (2) and the compound (3) in the above reaction scheme-1.

【0049】尚、化合物(8)において、Ψで定義され
る保護されたオキソ基を有する低級アルキル基として
は、例えばジメチルアセタール、メチルエチルアセター
ル、ジエチルアセタール、ジプロピルアセタール、ジブ
チルアセタール、ジペンチルアセタール、ジヘキシルア
セタール等のジ低級アルキルアセタールの残基を、保護
されたオキソ基として有する低級アルキル基や、エチレ
ンアセタール、トリメチレンアセタール、テトラメチレ
ンアセタール等の環状アセタールの残基を、同保護され
たオキソ基として有する低級アルキル基を例示すること
ができる。
In the compound (8), examples of the lower alkyl group having a protected oxo group defined by Ψ include dimethyl acetal, methyl ethyl acetal, diethyl acetal, dipropyl acetal, dibutyl acetal, dipentyl acetal, Di-lower alkyl acetal such as dihexyl acetal, a lower alkyl group having a protected oxo group, or a cyclic acetal residue such as ethylene acetal, trimethylene acetal, tetramethylene acetal, and the protected oxo group. Can be exemplified.

【0050】次に、上記反応工程式−2に従う化合物
(10)の加水分解反応は、酢酸、プロピオン酸、p−
トルエンスルホン酸等の有機酸を用いて実施できる。上
記有機酸の内で、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸は
溶媒をも兼ねるので、之等を用いる場合は特に他の溶媒
を用いる必要はないが、之等を用いる場合でも、他の有
機酸を用いる場合と同様に、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の他の適当な不活性溶媒を用いることが
できる。反応は室温〜溶媒の還流温度付近にて、10〜
80時間程度を要して実施でき、かくして化合物(1
1)を収得できる。
Next, the hydrolysis reaction of the compound (10) according to the above reaction step formula-2 is carried out by acetic acid, propionic acid, p-
It can be carried out using an organic acid such as toluenesulfonic acid. Among the above organic acids, carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid also serve as a solvent.Therefore, it is not necessary to use another solvent when using these or the like, but when using such or the like, other organic acids may be used. As in the case of using, other suitable inert solvents such as benzene, toluene and xylene can be used. The reaction is carried out at room temperature to around the reflux temperature of the solvent.
It can be carried out in about 80 hours, and thus the compound (1
1) can be obtained.

【0051】尚、上記化合物(11)において、Φで定
義されるオキソ基を有する低級アルキル基としては、対
応するΨで定義される「保護されたオキソ基を有する低
級アルキル基」の有する保護基を脱離させたもの、例え
ばホルミル、ホルミルメチル、アセチル、2−ホルミル
エチル、2−オキソプロピル、プロピオニル、3−ホル
ミルプロピル、3−オキソブチル、2−オキソブチル、
ブチリル、4−ホルミルブチル、4−オキソペンチル、
3−オキソペンチル、2−オキソペンチル、バレリル、
5−ホルミルペンチル、5−オキソヘキシル、4−オキ
ソヘキシル、3−オキソヘキシル、2−オキソヘキシ
ル、ヘキサノイル基等を例示することができる。
In the above compound (11), the lower alkyl group having an oxo group defined by Φ may be a protecting group having a “lower alkyl group having a protected oxo group” defined by Ψ. Such as formyl, formylmethyl, acetyl, 2-formylethyl, 2-oxopropyl, propionyl, 3-formylpropyl, 3-oxobutyl, 2-oxobutyl,
Butyryl, 4-formylbutyl, 4-oxopentyl,
3-oxopentyl, 2-oxopentyl, valeryl,
Examples include 5-formylpentyl, 5-oxohexyl, 4-oxohexyl, 3-oxohexyl, 2-oxohexyl, and hexanoyl groups.

【0052】上記に引続く化合物(11)の還元反応
は、不活性溶媒中、適当な還元剤を用いて実施できる。
還元剤としては、例えば水素化硼素ナトリウム、水素化
硼素カリウム、水素化硼素リチウム、水素化シアノ硼素
ナトリウム、水素化トリエチル硼素ナトリウム等の水素
化硼素化合物や、水素化リチウムアルミニウム、水素化
トリブトキシアルミノリチウム等のリチウムアルミニウ
ム水素化物等を例示することができる。また、不活性溶
媒としては、還元剤として水素化硼素化合物を用いる場
合は、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒や
該アルコール系溶媒とジクロロメタン、ジエチルエーテ
ル等との混合溶媒を使用するのが好ましく、還元剤とし
てリチウムアルミニウム水素化物を用いる場合は、ジエ
チルエーテル、THF等のエーテル類を用いるのが好ま
しい。上記還元剤の使用量は、化合物(11)に対して
少なくとも等モル量程度とするのがよい。反応は、0℃
〜室温付近の温度下に約30分〜3時間程度を要して行
ない得る。
The subsequent reduction reaction of compound (11) can be carried out using an appropriate reducing agent in an inert solvent.
As the reducing agent, for example, boron hydride compounds such as sodium borohydride, potassium borohydride, lithium borohydride, sodium cyanoborohydride, sodium triethylborohydride, lithium aluminum hydride, tributoxyaluminohydride Examples thereof include lithium aluminum hydride such as lithium. As the inert solvent, when a borohydride compound is used as the reducing agent, it is preferable to use an alcohol-based solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent of the alcohol-based solvent and dichloromethane, diethyl ether, or the like, When lithium aluminum hydride is used as the reducing agent, it is preferable to use ethers such as diethyl ether and THF. The amount of the reducing agent to be used is preferably at least about equimolar to compound (11). Reaction is 0 ° C
It can be performed at a temperature of about room temperature to about 30 minutes to 3 hours.

【0053】かくして得られる化合物(12)のアシル
化反応は、無溶媒又はピリジン、ルチジン、N,N−ジ
メチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセ
トアミド(DMA)等の不活性溶媒中、アシル化剤を用
いて実施できる。アシル化剤としては、例えば無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、無水ヘ
キサン酸、無水ヘプタン酸等の酸無水物を使用できる。
之等は通常化合物(12)に対して1〜10倍当量で利
用できる。反応条件は、化合物(12)の7位のヒドロ
キシル基がアシル化されないように、0℃〜室温付近の
温度及び約30分〜2時間程度の時間から適宜選択する
のが好ましい。
The acylation reaction of the compound (12) thus obtained is carried out without solvent or in an inert solvent such as pyridine, lutidine, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMA). It can be performed using an agent. As the acylating agent, for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, valeric anhydride, hexanoic anhydride, and heptanoic anhydride can be used.
These can be used usually in 1 to 10 equivalents to the compound (12). The reaction conditions are preferably appropriately selected from a temperature of 0 ° C. to room temperature and a time of about 30 minutes to 2 hours so that the hydroxyl group at the 7-position of the compound (12) is not acylated.

【0054】上記で得られる化合物(13)のハロゲン
化反応は、反応工程式−1における化合物(4)のハロ
ゲン化反応と同様にして実施することができる。
The halogenation reaction of the compound (13) obtained above can be carried out in the same manner as the halogenation reaction of the compound (4) in the reaction scheme 1.

【0055】また、得られる化合物(14)の化合物
(15)への変換反応も、反応工程式−1における化合
物(5)の化合物(6)への変換反応と同様の条件下に
実施できる。尚、上記反応により、化合物(14)にお
いてΣで定義されるアシルオキシ基を有する低級アルキ
ル基は、加水分解されてヒドロキシ低級アルキル基に変
換される。
The conversion reaction of the obtained compound (14) into the compound (15) can also be carried out under the same conditions as in the conversion reaction of the compound (5) into the compound (6) in the reaction step formula-1. By the above reaction, the lower alkyl group having an acyloxy group defined by Σ in the compound (14) is hydrolyzed and converted to a hydroxy lower alkyl group.

【0056】上記で得られる化合物(15)のシリル化
反応は、例えばTHF、ジクロロメタン等の適当な不活
性溶媒中、脱酸剤の存在下に、ハロゲン化トリアルキル
シランを用いて実施できる。脱酸剤としては、例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、N,
N−ジメチルアミノピリジン等を例示できる。またハロ
ゲン化トリアルキルシランとしては、例えば塩化トリメ
チルシラン、塩化トリエチルシラン、塩化トリプロピル
シラン、塩化トリブチルシラン、塩化ブチルジエチルシ
ラン等を例示できる。之等は一般に化合物(15)に対
して約等モル量〜過剰モル量用いることができ、反応は
室温付近の温度条件下に5〜30時間程度で完結する。
The silylation reaction of the compound (15) obtained above can be carried out using a halogenated trialkylsilane in a suitable inert solvent such as THF or dichloromethane in the presence of a deoxidizing agent. Examples of the deoxidizing agent include sodium carbonate, potassium carbonate, triethylamine, N,
N-dimethylaminopyridine and the like can be exemplified. Examples of the halogenated trialkylsilane include trimethylsilane, triethylsilane, tripropylsilane, tributylsilane, and butyldiethylsilane. These can be used generally in an equimolar amount to an excess molar amount with respect to compound (15), and the reaction is completed in about 5 to 30 hours under a temperature condition near room temperature.

【0057】最後に、上記で得られる化合物(16)を
酸ハロゲン化物(7)と反応させることにより、所望の
本発明化合物(1b)を収得できる。該反応も、反応工
程式−1における酸ハロゲン化物(7)を用いた反応と
同様にして行ない得る。尚、化合物(16)の5位の置
換基Ωは、この反応中及びその後の加水分解処理によ
り、対応するR1b基(ヒドロキシ低級アルキル基)に容
易に変換できる。
Finally, the desired compound (1b) of the present invention can be obtained by reacting the compound (16) obtained above with an acid halide (7). This reaction can also be carried out in the same manner as the reaction using the acid halide (7) in the reaction scheme 1. Incidentally, 5-position substituent Ω compound (16), due during the reaction and subsequent hydrolysis can be easily converted to the corresponding R 1 b group (hydroxy-lower alkyl group).

【0058】[0058]

【化6】 Embedded image

【0059】〔式中、R2 、R3 、R4a、R5 、X、
Y、Z、Q、A、n及びΨは前記に同じ。R1cはオキソ
基を有する低級アルキル基を示す。〕 上記反応工程式−3において、化合物(17)とニトリ
ル誘導体(18)との反応は、DMF、DMA、ジメチ
ルホルムアミド(DMSO)等の不活性溶媒中、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等の塩基の存在下に実施で
きる。上記ニトリル誘導体(18)及び塩基の使用量
は、通常それぞれ化合物(17)に対して1〜過剰当量
とされ、反応は0℃〜室温付近の温度条件下に2〜10
時間を要して行なわれる。
[0059] [in the formula, R2, R3, R 4 a , R5, X,
Y, Z, Q, A, n and Ψ are the same as above. R 1 c represents a lower alkyl group having an oxo group. In the above Reaction Scheme 3, the reaction between the compound (17) and the nitrile derivative (18) is carried out in an inert solvent such as DMF, DMA, and dimethylformamide (DMSO) in a base such as sodium hydride or potassium hydride. Can be carried out in the presence of The amount of the nitrile derivative (18) and the base to be used is each usually 1 to an excess equivalent relative to the compound (17), and the reaction is carried out under a temperature condition of 0 ° C. to room temperature.
It takes time.

【0060】次に、化合物(2″)と化合物(3)との
縮合反応は、反応工程式−1′における反応と同様にし
て実施できる。
Next, the condensation reaction between the compound (2 ″) and the compound (3) can be carried out in the same manner as in the reaction in the reaction step formula-1 ′.

【0061】また、化合物(19)の加水分解反応は、
反応工程式−2における加水分解反応と同様にして実施
できる。
The hydrolysis reaction of the compound (19)
It can be carried out in the same manner as in the hydrolysis reaction in the reaction step formula-2.

【0062】更に、化合物(20)と化合物(7)との
反応は、反応工程式−1における反応と同様にして実施
できる。
Further, the reaction between compound (20) and compound (7) can be carried out in the same manner as in the reaction in the reaction scheme 1.

【0063】[0063]

【化7】 Embedded image

【0064】〔式中、R2 、A、Q及びYは前記に同
じ。〕 上記反応工程式−4に示すように、前記反応工程式−
1、−2及び−3において用いられる酸ハロゲン化物
(7)は、化合物(21)をハロゲン化することにより
得ることができる。該ハロゲン化反応は、通常よく行な
われている方法に従うことができ、その例としては、例
えば化合物(21)を無溶媒又はクロロホルム、ジエチ
ルエーテル等の不活性溶媒中で、塩化チオニル、臭化チ
オニル等のハロゲン化剤と反応させる方法を例示でき
る。この方法において、ハロゲン化剤は過剰量用いられ
るのが一般的であり、反応は通常室温〜150℃程度の
温度下に約0.5〜5時間を要して行ない得る。
Wherein R 2, A, Q and Y are as defined above. As shown in the above reaction process formula-4,
The acid halide (7) used in 1, 2, and -3 can be obtained by halogenating the compound (21). The halogenation reaction can be carried out according to a method commonly used. For example, compound (21) can be prepared without solvent or in an inert solvent such as chloroform or diethyl ether by using thionyl chloride or thionyl bromide. And the like. In this method, the halogenating agent is generally used in an excess amount, and the reaction can usually be performed at a temperature of about room temperature to about 150 ° C. for about 0.5 to 5 hours.

【0065】[0065]

【化8】 Embedded image

【0066】〔式中、R2 、R3 、R5 、A及びnは前
記に同じ。R1dは、水素原子、置換基として低級アルコ
キシ基又は低級アルキルチオ基を有することのある低級
アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、フリル基
又は置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、
フェニルチオ基及びハロゲン原子から選ばれる基の1〜
3個を有することのあるフェニル基を示し、またR1dと
R5 とは互いに結合して低級アルキレン基を形成しても
よく、R4cはハロゲン原子を示す。〕 反応工程式−5に示す化合物(1d)のハロゲン化反応
は、ベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム等の不活性溶
媒中、N−ブロモコハク酸イミド(NBS)、N−クロ
ロコハク酸イミド(NCS)等のハロゲン化剤を用いて
実施できる。ハロゲン化剤の使用量は、化合物(1d)
に対して1当量〜少過剰量とするのが一般的であり、反
応は室温〜溶媒の還流温度程度の温度条件下に、約0.
5〜5時間を要して行ない得る。
Wherein R 2, R 3, R 5, A and n are as defined above. R 1 d is a hydrogen atom, a lower alkyl group which may have a lower alkoxy group or a lower alkylthio group as a substituent, a cycloalkyl group, a thienyl group, a furyl group or a lower alkyl group or a lower alkoxy group as a substituent;
1 to 3 groups selected from a phenylthio group and a halogen atom
It represents a phenyl group which may have three, R 1 d and R 5 may combine with each other to form a lower alkylene group, and R 4 c represents a halogen atom. The halogenation reaction of the compound (1d) shown in the reaction step formula-5 is carried out in an inert solvent such as benzene, carbon tetrachloride, and chloroform by using N-bromosuccinimide (NBS), N-chlorosuccinimide (NCS) Can be carried out using a halogenating agent. The amount of the halogenating agent used is the same as that of the compound (1d)
The reaction is generally carried out in an amount of 1 equivalent to a small excess, and the reaction is carried out under a temperature condition of about room temperature to about the reflux temperature of the solvent.
This can take 5-5 hours.

【0067】[0067]

【化9】 Embedded image

【0068】〔式中、R3 、R4 、R5 及びYは前記に
同じ。R1eは、水素原子、置換基としてチエニル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基又はオキソ基を有
することのある低級アルキル基、シクロアルキル基、チ
エニル基、フリル基、低級アルケニル基又は置換基とし
て低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニルチオ基
及びハロゲン原子から選ばれる基の1〜3個を有するこ
とのあるフェニル基を示し、またR1eとR5 とは互いに
結合して低級アルキレン基を形成してもよく、R2aはナ
フチル基、シクロアルキル基、フリル基、チエニル基、
ハロゲン原子で置換されることのあるピリジル基、ハロ
ゲン原子で置換されることのあるフェノキシ基又は置換
基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン
原子、ニトロ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲ
ン置換低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、フェニル低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルカ
ノイルオキシ基、フェニル基及びジ低級アルコキシホス
ホリル低級アルキル基から選ばれる基の1〜3個を有す
ることのあるフェニル基を、R6aはフェニル低級アルキ
ル基又は置換基として低級アルコキシ基、ハロゲン置換
低級アルキル基及びハロゲン原子から選ばれる基の1〜
3個を有するベンゾイル基を示す。〕 反応工程式−6において、化合物(1g)は、化合物
(1f)を不活性溶媒中、塩基の存在下に化合物(2
2)と反応させることにより得ることができる。ここ
で、R6aがフェニル低級アルキル基の場合は、上記不活
性溶媒としては、DMF、DMA、DMSO等を、また
塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム等を
例示できる。一方、R6aが置換基として低級アルコキシ
基、ハロゲン置換低級アルキル基及びハロゲン原子から
選ばれる基の1〜3個を有するベンゾイル基の場合は、
上記不活性溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタ
ン等を、塩基としては、トリエチルアミン、N,N−ジ
メチルアニリン等をそれぞれ例示できる。化合物(2
2)の使用量は、1〜少過剰当量とするのが一般的で、
また塩基の使用量は、1〜過剰当量とするのが好まし
い。反応は0℃〜室温程度の温度条件下に、3〜30時
間を要して行なわれる。
Wherein R 3, R 4, R 5 and Y are as defined above. R 1 e is a hydrogen atom, a thienyl group as a substituent, a lower alkoxy group, a lower alkyl group which may have a lower alkylthio group or an oxo group, a cycloalkyl group, a thienyl group, a furyl group, a lower alkenyl group or a substituent. A lower alkyl group, a lower alkoxy group, a phenylthio group and a phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from a halogen atom, and R 1 e and R 5 are bonded to each other to form a lower alkylene group; at best, R 2 a naphthyl group, a cycloalkyl group, a furyl group, a thienyl group,
A pyridyl group which may be substituted with a halogen atom, a phenoxy group which may be substituted with a halogen atom or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, a halogen-substituted lower alkyl group, a halogen-substituted lower group; A phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from an alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group, a phenyl lower alkoxy group, a cyano group, a lower alkanoyloxy group, a phenyl group and a di-lower alkoxyphosphoryl lower alkyl group, 6 a is 1 group selected from phenyl-lower alkyl group or a lower alkoxy group as a substituent, halogen-substituted lower alkyl group and a halogen atom
Shows a benzoyl group having three. In the reaction step formula-6, the compound (1g) is obtained by reacting the compound (1f) with the compound (2f) in an inert solvent in the presence of a base.
It can be obtained by reacting with 2). Here, when R 6 a is a phenyl-lower alkyl group, examples of the inert solvent, DMF, DMA, and DMSO, and as the base, can be exemplified sodium hydride, potassium hydride and the like. On the other hand, if the benzoyl group having 1 to 3 groups R 6 a is selected from a lower alkoxy group, halogen-substituted lower alkyl group and a halogen atom as a substituent,
Examples of the inert solvent include chloroform and dichloromethane, and examples of the base include triethylamine and N, N-dimethylaniline. Compound (2
The amount of 2) is generally 1 to a small excess equivalent,
The amount of the base used is preferably 1 to an excess equivalent. The reaction is carried out at a temperature of about 0 ° C. to room temperature for 3 to 30 hours.

【0069】[0069]

【化10】 Embedded image

【0070】〔式中、R1a、R2 、R3 、R4a 、R5
、X、Y、Q及びAは前記に同じ。R6bは低級アルキ
ル基又はフェニル低級アルキル基を示す。〕 反応工程式−7における化合物(5)と化合物(23)
との反応は、メタノール、エタノール等の不活性溶媒
中、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等の脱酸剤の存在下に、還流温度程度の温度条件で1
〜5時間程度を要して実施される。
Wherein R 1 a, R 2, R 3, R 4 a, R 5
, X, Y, Q and A are the same as above. R 6 b is a lower alkyl group or a phenyl-lower alkyl group. Compound (5) and Compound (23) in Reaction Scheme-7
Is carried out in an inert solvent such as methanol or ethanol in the presence of a deoxidizing agent such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate or potassium carbonate under a temperature condition of about reflux temperature.
It takes about 5 hours.

【0071】得られる化合物(24)と化合物(7)と
の反応は、反応工程式−1に示した対応する反応と同様
にして行なうことができ、かくして化合物(1h)を収
得できる。
The reaction between the obtained compound (24) and compound (7) can be carried out in the same manner as the corresponding reaction shown in the reaction scheme 1. Thus, the compound (1h) can be obtained.

【0072】[0072]

【化11】 Embedded image

【0073】〔式中、R1e、R3 、R4a、R5 及びYは
前記に同じ。R2bは置換基として低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子及びハロゲン置換低級アルキル基から選ばれ
る基の1〜3個を有するフェニル基を、R6cは置換基と
して低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アルキル基及
びハロゲン原子から選ばれる基の1〜3個を有するベン
ゾイル基を示す。〕 反応工程式−8において、化合物(25)と化合物(2
6)との反応は、反応工程式−1に示した化合物(6)
と化合物(7)との反応と同様にして実施できる。この
際、主生成物(1i)と共に、副生成物(1j)が得ら
れる。
Wherein R 1 e, R 3, R 4 a, R 5 and Y are the same as above. R 2 b is a phenyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group, a halogen atom and a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent, and R 6 c is a lower alkoxy group or a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent. And a benzoyl group having 1 to 3 groups selected from halogen atoms. In the reaction step formula-8, the compound (25) and the compound (2
The reaction with 6) is carried out by reacting the compound (6) shown in the reaction scheme 1.
And compound (7). At this time, a by-product (1j) is obtained together with the main product (1i).

【0074】一般式(1)で表わされる化合物は、医薬
的に許容される酸付加塩とすることができ、之等の塩も
本発明鎮痛剤の有効成分化合物に包含される。上記酸付
加塩を形成させ得る酸としては、例えば塩酸、臭化水素
酸、硫酸等の無機酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン
酸、酒石酸、クエン酸等の有機酸を例示でき、この酸付
加塩の形成反応は常法に従うことができる。
The compound represented by the general formula (1) can be a pharmaceutically acceptable acid addition salt, and these salts are also included in the active ingredient compound of the analgesic of the present invention. Examples of the acid capable of forming the acid addition salt include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and sulfuric acid, and organic acids such as oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and citric acid. The salt formation reaction can be performed according to a conventional method.

【0075】上記それぞれの工程により得られる目的化
合物は、通常の分離、精製手段により容易に単離するこ
とができる。該単離手段としては、一般に慣用される各
種の手段のいずれをも採用することができ、その例とし
ては、例えば、吸着クロマトグラフィー、プレパラティ
ブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示
できる。
The target compound obtained in each of the above steps can be easily isolated by ordinary separation and purification means. As the isolation means, any of various commonly used means can be employed, and examples thereof include, for example, adsorption chromatography, preparative thin-layer chromatography, recrystallization, and solvent extraction. it can.

【0076】尚、一般式(1)で表わされる化合物中、
Aがアルケニレン基である化合物及びR1 が低級アルケ
ニル基である化合物の一部は、シス、トランス異性体構
造をとることができ、本発明鎮痛剤は之等のいずれをも
有効成分とすることができる。
In the compound represented by the general formula (1),
Some of the compounds in which A is an alkenylene group and some of the compounds in which R1 is a lower alkenyl group can have a cis or trans isomer structure, and the analgesic of the present invention can use any of these as an active ingredient. it can.

【0077】また、一般式(1)で表わされる化合物中
の一部の化合物は、炭素原子を不斉中心とした光学異性
体が存在し、本発明鎮痛剤は、かかる光学活性体及びラ
セミ体のいずれをも有効成分とすることができる。
Some of the compounds represented by the general formula (1) have optical isomers having an asymmetric center at a carbon atom, and the analgesic of the present invention includes such an optically active substance and a racemic substance. Any of these can be the active ingredient.

【0078】本発明鎮痛剤は、上記一般式(1)で表わ
される化合物を有効成分として、これを、適当な無毒性
製剤担体と共に用いて、一般的な医薬製剤組成物の形態
とされ実用される。
The analgesic of the present invention is used in the form of a general pharmaceutical composition by using the compound represented by the general formula (1) as an active ingredient and using it together with a suitable non-toxic pharmaceutical carrier. You.

【0079】本発明医薬製剤に利用される上記製剤担体
としては、製剤の使用形態に応じて、通常使用される充
填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、
滑沢剤等の希釈剤あるいは賦形剤を例示でき、これらは
得られる製剤の投与単位形態に応じて適宜選択使用され
る。
The above-mentioned pharmaceutical carriers used in the pharmaceutical preparation of the present invention include fillers, extenders, binders, humectants, disintegrants, surfactants and the like which are usually used depending on the use form of the preparation.
Diluents or excipients such as lubricants can be exemplified, and these are appropriately selected and used depending on the dosage unit form of the obtained preparation.

【0080】上記医薬製剤の投与単位形態としては、各
種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的なも
のとしては錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆
粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)、
軟膏剤等が挙げられる。
As the dosage unit form of the pharmaceutical preparation, various forms can be selected according to the purpose of treatment, and typical examples are tablets, pills, powders, solutions, suspensions, emulsions, granules, Capsules, suppositories, injections (solutions, suspensions, etc.),
Ointments and the like.

【0081】錠剤の形態に成形するに際しては、上記製
剤担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブド
ウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結
晶セルロース、ケイ酸、リン酸カリウム等の賦形剤、
水、エタノール、プロパノール、単シロツプ、ブドウ糖
液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロ
ース、ポリビニルピロリドン等の結合剤、カルボキシメ
チルセルロースナトリウム、カルボキシメチルセルロー
スカルシウム、低置換度ヒドロキシプロピルセルロー
ス、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン
末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウ
ム等の崩壊剤、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノ
グリセリド等の界面活性剤、白糖、ステアリン、カカオ
バター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アンモニウ
ム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリ
セリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリ
ン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製
タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリ
コール等の滑沢剤等を使用できる。更に錠剤は必要に応
じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被
包錠、腸溶被錠、フイルムコーテイング錠あるいは二重
錠、多層錠とすることができる。
In the case of molding into tablets, the above-mentioned preparation carriers include excipients such as lactose, sucrose, sodium chloride, glucose, urea, starch, calcium carbonate, kaolin, crystalline cellulose, silicic acid, potassium phosphate and the like.
Water, ethanol, propanol, single syrup, glucose solution, starch solution, gelatin solution, binders such as carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, polyvinylpyrrolidone, sodium carboxymethylcellulose, calcium carboxymethylcellulose, low-substituted hydroxypropylcellulose, dried Disintegrants such as starch, sodium alginate, agar powder, laminaran powder, sodium bicarbonate, calcium carbonate, surfactants such as polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, sodium lauryl sulfate, and monoglyceride stearate; sucrose, stearin, cocoa butter; Disintegration inhibitors such as hydrogenated oil, quaternary ammonium bases, absorption enhancers such as sodium lauryl sulfate, glycerin, starch and the like Moisturizers, starch, lactose, kaolin, bentonite, adsorbent such as colloidal silicic acid, purified talc, stearates, boric acid powder, a lubricant such as polyethylene glycol can be used. Further, the tablets can be made into tablets coated with a usual coating, if necessary, such as sugar-coated tablets, gelatin-coated tablets, enteric-coated tablets, film-coated tablets or double tablets or multilayer tablets.

【0082】丸剤の形態に成形するに際しては、製剤担
体として例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、
硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴ
ム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合
剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使用できる。
In the case of molding into a pill form, for example, glucose, lactose, starch, cocoa butter,
Excipients such as hardened vegetable oil, kaolin and talc, gum arabic powder, tragacanth powder, binders such as gelatin and ethanol, and disintegrants such as laminaran and agar can be used.

【0083】坐剤の形態に成形するに際しては、製剤担
体として例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、高
級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチ
ン、半合成グリセライド等を使用できる。
In shaping into a suppository, for example, polyethylene glycol, cocoa butter, higher alcohols, esters of higher alcohols, gelatin, semi-synthetic glyceride and the like can be used as pharmaceutical carriers.

【0084】カプセル剤は、常法に従い通常本発明の有
効成分化合物を上記で例示した各種の製剤担体と混合し
て硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して調
整される。
Capsules are usually prepared by mixing the active ingredient compound of the present invention with the above-mentioned various pharmaceutical carriers and filling the mixture into hard gelatin capsules, soft capsules and the like according to a conventional method.

【0085】液剤、乳剤、懸濁剤等の注射剤として調製
される場合、之等は殺菌され且つ血液と等張であるのが
好ましく、之等の形態に成形するに際しては、希釈剤と
して例えば水、エチルアルコール、マクロゴール、プロ
ピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコー
ル、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を使用でき
る。尚、この場合等張性の溶液を調整するに充分な量の
食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを本発明薬剤中に含
有させてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛
化剤等を添加してもよい。
When prepared as injections such as liquids, emulsions, suspensions, etc., it is preferable that they are sterilized and isotonic with blood. Water, ethyl alcohol, macrogol, propylene glycol, ethoxylated isostearyl alcohol, polyoxylated isostearyl alcohol, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters and the like can be used. In this case, a sufficient amount of salt, glucose or glycerin to adjust the isotonic solution may be contained in the drug of the present invention, and ordinary solubilizers, buffers, soothing agents and the like are added. May be.

【0086】更に、本発明薬剤中には、必要に応じて着
色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を
含有させることもできる。
Further, the drug of the present invention may contain a coloring agent, a preservative, a flavor, a flavoring agent, a sweetening agent and the like and other pharmaceuticals as required.

【0087】ペースト、クリーム、ゲル等の軟膏剤の形
態に成形するに際しては、希釈剤として例えば白色ワセ
リン、パラフイン、グリセリン、セルロース誘導体、ポ
リエチレングリコール、シリコン、ベントナイト等を使
用できる。
For shaping in the form of an ointment such as paste, cream, gel or the like, for example, white vaseline, paraffin, glycerin, cellulose derivative, polyethylene glycol, silicone, bentonite and the like can be used as a diluent.

【0088】本発明薬剤中に含有されるべき一般式
(1)で表わされる有効成分化合物の量は、特に限定さ
れず広範囲より適宜選択されるが、通常医薬製剤中に約
1〜70重量%程度含有されるものとするのがよい。
The amount of the active ingredient compound represented by the general formula (1) to be contained in the drug of the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected from a wide range. It is preferred that the content be contained to a certain degree.

【0089】上記医薬製剤の投与方法は特に制限がな
く、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾
患の程度等に応じて決定される。例えば錠剤、丸剤、液
剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与さ
れ、注射剤は単独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の
補液と混合して静脈内投与され、更に必要に応じ単独で
筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与され、坐剤は直
腸内投与される。
The method of administration of the pharmaceutical preparation is not particularly limited, and is determined according to various preparation forms, age, sex and other conditions of the patient, degree of disease, and the like. For example, tablets, pills, solutions, suspensions, emulsions, granules, and capsules are orally administered, and injections are administered intravenously, alone or as a mixture with ordinary replenishers such as glucose and amino acids. Intramuscularly, intradermally, subcutaneously or intraperitoneally, and suppositories may be administered rectally alone.

【0090】上記医薬製剤の投与量は、その用法、患者
の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等により適宜選
択されるが、通常有効成分である本発明化合物の量が1
日当り体重1kg当り約0.5〜20mg程度とするの
がよく、該製剤は1日に1〜4回に分けて投与すること
ができる。
The dose of the above-mentioned pharmaceutical preparation is appropriately selected depending on the usage, age, sex and other conditions of the patient, degree of disease, etc., but the amount of the compound of the present invention, which is usually an active ingredient, is 1%.
The dosage is preferably about 0.5 to 20 mg per kg of body weight per day, and the preparation can be administered in 1 to 4 divided doses per day.

【0091】[0091]

【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明において有効成分とする化合物の製造のための原料
化合物の製造例を参考例として挙げ、次いで上記有効成
分化合物の製造例を実施例として挙げる。
EXAMPLES Hereinafter, in order to explain the present invention in more detail, a production example of a starting compound for producing a compound as an active ingredient in the present invention will be cited as a reference example. As

【0092】[0092]

【参考例1】7−アミノ−5−n−ブチルピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジンの製造 工程(1) 3−アミノピラゾール100gと3−オキソヘプタン酸
メチルエステル190gのトルエン120ml溶液を1
00℃で3時間加熱還流した。冷後、トルエンを減圧留
去し、残渣にジエチルエーテルを加え、析出した結晶を
濾取し、ジエチルエーテル及びアセトニトリルで順次洗
浄して、5−n−ブチル−7−ヒドロキシピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジンの無色結晶184gを得た。
Reference Example 1 Production of 7-amino-5-n-butylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine Step (1) A solution of 100 g of 3-aminopyrazole and 190 g of methyl 3-oxoheptanoate in 120 ml of toluene was mixed with 1
The mixture was heated and refluxed at 00 ° C. for 3 hours. After cooling, toluene was distilled off under reduced pressure, diethyl ether was added to the residue, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed sequentially with diethyl ether and acetonitrile, and washed with 5-n-butyl-7-hydroxypyrazolo [1,5. -A] 184 g of colorless crystals of pyrimidine were obtained.

【0093】工程(2) 上記工程(1)で得られた結晶40gのトルエン400
ml懸濁液に、オキシ塩化リン80ml及びトリエチル
アミン44mlを加え、4時間加熱還流した。反応終了
後、減圧濃縮し、残渣を氷水中に注ぎ、混合物を酢酸ナ
トリウムで中和し、酢酸エチルで抽出し、有機層を集め
た。これを飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチル:n−ヘキ
サン=1:9)で精製して、5−n−ブチル−7−クロ
ロピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの淡黄色油状物4
1gを得た。
Step (2) 40 g of the crystals obtained in the above step (1) and toluene 400
80 ml of phosphorus oxychloride and 44 ml of triethylamine were added to the ml suspension, and the mixture was heated under reflux for 4 hours. After completion of the reaction, the mixture was concentrated under reduced pressure, the residue was poured into ice water, the mixture was neutralized with sodium acetate, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was collected. This was washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent; ethyl acetate: n-hexane = 1: 9) to give 5-n-butyl-7-chloropyrazolo [1,5-a] pyrimidine as a pale yellow oil. Object 4
1 g was obtained.

【0094】工程(3) 上記工程(2)で得られた化合物21gと25%アンモ
ニア水100mlとをステンレス密閉管中に封入し、1
10℃で12時間加熱した。冷後、析出した結晶を濾取
し、水洗後、クロロホルム−n−ヘキサンより再結晶し
て、7−アミノ−5−n−ブチルピラゾロ〔1,5−
a〕ピリミジンの無色結晶18.4g(融点:124〜
126℃)を得た。
Step (3) 21 g of the compound obtained in the above step (2) and 100 ml of 25% aqueous ammonia were sealed in a stainless steel sealed tube.
Heated at 10 ° C. for 12 hours. After cooling, the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water, and recrystallized from chloroform-n-hexane to give 7-amino-5-n-butylpyrazolo [1,5-
a] 18.4 g of colorless crystals of pyrimidine (melting point: 124-
126 ° C).

【0095】上記と同様にして、下記各化合物を製造し
た。
The following compounds were prepared in the same manner as described above.

【0096】(1) 7−アミノ−5−エチルピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン(融点:175〜177℃、
再結晶溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサン) (2) 7−アミノ−5−n−プロピルピラゾロ〔1,5−
a〕ピリミジン(融点:138〜140℃、再結晶溶
媒:酢酸エチル−n−ヘキサン) (3) 7−アミノ−5−シクロプロピルピラゾロ〔1,5
−a〕ピリミジン(融点:206〜209℃、再結晶溶
媒:クロロホルム−n−ヘキサン) (4) 7−アミノ−5−n−ペンチルピラゾロ〔1,5−
a〕ピリミジン(融点:125〜126℃、再結晶溶
媒:酢酸エチル−n−ヘキサン) (5) 7−アミノ−5−フェニルピラゾロ〔1,5−a〕
ピリミジン(融点:207〜209℃、再結晶溶媒:酢
酸エチル−n−ヘキサン)。
(1) 7-amino-5-ethylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 175-177 ° C.,
Recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane) (2) 7-amino-5-n-propylpyrazolo [1,5-
a] Pyrimidine (melting point: 138 to 140 ° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane) (3) 7-amino-5-cyclopropylpyrazolo [1,5
-A] pyrimidine (melting point: 206 to 209 ° C, recrystallization solvent: chloroform-n-hexane) (4) 7-amino-5-n-pentylpyrazolo [1,5-
a] Pyrimidine (melting point: 125-126 ° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane) (5) 7-amino-5-phenylpyrazolo [1,5-a]
Pyrimidine (melting point: 207-209 ° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane).

【0097】(6) 7−アミノ−5−(4−メトキシフェ
ニル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:19
4〜196℃、再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサ
ン) (7) 7−アミノ−5−(2−チエニル)ピラゾロ〔1,
5−a〕ピリミジン(融点:227〜229℃、再結晶
溶媒:エタノール−n−ヘキサン) (8) 7−アミノ−5−(3−チエニル)ピラゾロ〔1,
5−a〕ピリミジン(融点:203〜205℃、再結晶
溶媒:エタノール−n−ヘキサン) (9) 7−アミノ−5−メチルピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジン(融点:220〜222℃、再結晶溶媒:クロ
ロホルム−n−ヘキサン) (10)7−アミノ−5−n−ブチル−2−メチルピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン(融点:176〜178℃、
再結晶溶媒:クロロホルム−n−ヘキサン)。
(6) 7-amino-5- (4-methoxyphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 19)
4-196 ° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (7) 7-amino-5- (2-thienyl) pyrazolo [1,
5-a] pyrimidine (melting point: 227 to 229 ° C., recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (8) 7-amino-5- (3-thienyl) pyrazolo [1,
5-a] pyrimidine (melting point: 203-205 ° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (9) 7-amino-5-methylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 220-222 ° C, re- Crystallizing solvent: chloroform-n-hexane) (10) 7-amino-5-n-butyl-2-methylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 176-178 ° C,
Recrystallization solvent: chloroform-n-hexane).

【0098】(11)7−アミノ−5−(2,4−ジメチル
フェニル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:
168〜170℃、再結晶溶媒:クロロホルム−n−ヘ
キサン) (12)7−アミノ−5−(3,5−ジメチルフェニル)ピ
ラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:180〜18
2℃、再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサン) (13)7−アミノ−5−(2−メトキシフェニル)ピラゾ
ロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:201〜203
℃、再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサン) (14)7−アミノ−5−(3−メトキシフェニル)ピラゾ
ロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:195〜197
℃、再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサン) (15)7−アミノ−5−(3,4,5−トリメトキシフェ
ニル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:19
8〜200℃、再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサ
ン)。
(11) 7-amino-5- (2,4-dimethylphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point:
168-170 ° C, recrystallization solvent: chloroform-n-hexane) (12) 7-amino-5- (3,5-dimethylphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 180-18)
2 ° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (13) 7-amino-5- (2-methoxyphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 201-203)
° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (14) 7-amino-5- (3-methoxyphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 195-197)
° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (15) 7-amino-5- (3,4,5-trimethoxyphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 19)
8-200 ° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane).

【0099】(16)7−アミノ−5−(2−クロロフェニ
ル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:208
〜210℃、再結晶溶媒:クロロホルム−n−ヘキサ
ン) (17)7−アミノ−5−(2−フリル)ピラゾロ〔1,5
−a〕ピリミジン(融点:204〜206℃、再結晶溶
媒:エタノール−n−ヘキサン) (18)7−アミノ−5−(3−フリル)ピラゾロ〔1,5
−a〕ピリミジン(融点:208〜210℃、再結晶溶
媒:エタノール−n−ヘキサン) (19)7−アミノ−5−(2−チエニルメチル)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン(融点:188〜190℃、
再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサン) (20)7−アミノ−5−(3,5−ジメトキシフェニル)
ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:207〜2
09℃、再結晶溶媒:エタノール−n−ヘキサン) 更に、上記と同様にして下記各化合物を製造した。
(16) 7-amino-5- (2-chlorophenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 208
-210 ° C, recrystallization solvent: chloroform-n-hexane) (17) 7-amino-5- (2-furyl) pyrazolo [1,5
-A] pyrimidine (melting point: 204-206 ° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (18) 7-amino-5- (3-furyl) pyrazolo [1,5
-A] pyrimidine (melting point: 208 to 210 ° C, recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (19) 7-amino-5- (2-thienylmethyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 188) ~ 190 ° C,
Recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) (20) 7-amino-5- (3,5-dimethoxyphenyl)
Pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 207-2
(09 ° C., recrystallization solvent: ethanol-n-hexane) Further, the following compounds were produced in the same manner as described above.

【0100】(21)7−アミノ−5−(3−ブテニル)ピ
ラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン (22)7−アミノ−5−エトキシメチルピラゾロ〔1,5
−a〕ピリミジン (23)7−アミノ−5−(2−メチルフェニル)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン (24)7−アミノ−5−(3−メチルフェニル)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン (25)7−アミノ−5−(4−メチルフェニル)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン。
(21) 7-amino-5- (3-butenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (22) 7-amino-5-ethoxymethylpyrazolo [1,5
-A] pyrimidine (23) 7-amino-5- (2-methylphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (24) 7-amino-5- (3-methylphenyl) pyrazolo [1,5-a Pyrimidine (25) 7-amino-5- (4-methylphenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine.

【0101】(26)7−アミノ−5−(3−クロロフェニ
ル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン (27)7−アミノ−5−(4−クロロフェニル)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン (28)7−アミノピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン (29)7−アミノ−5−n−ブチル−3−エトキシカルボ
ニル−2−メチルピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン
(融点:178〜180℃、再結晶溶媒:塩化メチレン
−n−ヘキサン) (30)7−アミノ−2,5−ジ−n−ブチル−3−メチル
ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:123〜1
25℃、再結晶溶媒:ジエチルエーテル−n−ヘキサ
ン)。
(26) 7-amino-5- (3-chlorophenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (27) 7-amino-5- (4-chlorophenyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine ( 28) 7-aminopyrazolo [1,5-a] pyrimidine (29) 7-amino-5-n-butyl-3-ethoxycarbonyl-2-methylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (mp: 178-180 ° C. Recrystallization solvent: methylene chloride-n-hexane) (30) 7-amino-2,5-di-n-butyl-3-methylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 123 to 1)
25 ° C, recrystallization solvent: diethyl ether-n-hexane).

【0102】(31)7−アミノ−5−n−ブチル−2−フ
ェニルピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:20
6〜208℃、再結晶溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサ
ン) (32)7−アミノ−3−ベンジル−5−n−ブチル−2−
フェニルピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:1
06〜108℃、再結晶溶媒:クロロホルム−n−ヘキ
サン) (33)7−アミノ−5−n−ブチル−2−フェニル−3−
〔4−(フェニルチオ)フェニル〕ピラゾロ〔1,5−
a〕ピリミジン(融点:139〜141℃、再結晶溶
媒:ジエチルエーテル−n−ヘキサン) (34)7−アミノ−3,5−ジ−n−ブチルピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン(融点:58〜60℃、再結
晶溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサン) (35)7−アミノ−5−n−ブチル−3−フェニルピラゾ
ロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:113〜115
℃、再結晶溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサン)。
(31) 7-amino-5-n-butyl-2-phenylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 20
6-208 ° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane) (32) 7-amino-3-benzyl-5-n-butyl-2-
Phenylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 1
06-108 ° C, recrystallization solvent: chloroform-n-hexane) (33) 7-amino-5-n-butyl-2-phenyl-3-
[4- (phenylthio) phenyl] pyrazolo [1,5-
a) Pyrimidine (melting point: 139 to 141 ° C., recrystallization solvent: diethyl ether-n-hexane) (34) 7-amino-3,5-di-n-butylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 58) -60 ° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane) (35) 7-amino-5-n-butyl-3-phenylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 113-115)
° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane).

【0103】(36)7−アミノ−5−エチルチオメチルピ
ラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:109〜11
1℃、再結晶溶媒:クロロホルム−n−ヘキサン) (37)7−アミノ−5−(2−メチルチオエチル)ピラゾ
ロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:77〜79℃、再
結晶溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサン) (38)7−アミノ−5−〔4−(フェニルチオ)フェニ
ル〕ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン(融点:182
〜184℃、再結晶溶媒:クロロホルム−ジエチルエー
テル) (39)9−アミノ−5,6,7,8−テトラヒドロピラゾ
ロ〔5,1−b〕キナゾリン(融点:230〜233
℃、再結晶溶媒:酢酸エチル−n−ヘキサン) (40)7−アミノ−2,5−ジ−n−ブチルピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジン(融点:105〜107℃、
再結晶溶媒:ジエチルエーテル−n−ヘキサン)。
(36) 7-amino-5-ethylthiomethylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 109 to 11)
1 ° C, recrystallization solvent: chloroform-n-hexane) (37) 7-amino-5- (2-methylthioethyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 77-79 ° C, recrystallization solvent: acetic acid) Ethyl-n-hexane) (38) 7-amino-5- [4- (phenylthio) phenyl] pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 182)
18184 ° C., recrystallization solvent: chloroform-diethyl ether) (39) 9-amino-5,6,7,8-tetrahydropyrazolo [5,1-b] quinazoline (melting point: 230-233)
° C, recrystallization solvent: ethyl acetate-n-hexane) (40) 7-amino-2,5-di-n-butylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine (melting point: 105-107 ° C,
Recrystallization solvent: diethyl ether-n-hexane).

【0104】[0104]

【参考例2】5−n−ブチル−7−ヒドラジノピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジンの製造 参考例1の工程(2)で得られた5−n−ブチル−7−
クロロピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン21.0g
に、ヒドラジン一水和物50mlを室温でゆっくり滴下
し、室温で10時間攪拌した。反応後、析出した結晶を
濾取し、水洗後、クロロホルム−n−ヘキサンより再結
晶して、目的化合物の無色結晶12.6gを得た(融
点:126〜129℃)。
Reference Example 2 Production of 5-n-butyl-7-hydrazinopyrazolo [1,5-a] pyrimidine 5-n-butyl-7- obtained in step (2) of Reference Example 1
Chloropyrazolo [1,5-a] pyrimidine 21.0 g
Then, 50 ml of hydrazine monohydrate was slowly added dropwise at room temperature, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours. After the reaction, the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water, and recrystallized from chloroform-n-hexane to obtain 12.6 g of the target compound as colorless crystals (melting point: 126 to 129 ° C).

【0105】また上記同様にして、7−ヒドラジノ−5
−フェニルピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンを製造し
た。
In the same manner as described above, 7-hydrazino-5
-Phenylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine was produced.

【0106】[0106]

【参考例3】7−アミノ−5−(3−オキソブチル)ピ
ラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの製造 60%水素化ナトリウム2.3gのDMF10ml懸濁
液中に、2−メチル−1,3−ジオキソラン−2−プロ
ピオン酸メチルエステル5.0gのアセトニトリル 1
0ml溶液を滴下し、室温で4時間撹拌した。反応溶液
を氷水中に入れ、飽和クエン酸水溶液で酸性とし、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄
し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出液…n−ヘキサン:酢酸エチル=3:
2)で精製して、油状の2−メチル−β−オキソ−1,
3−ジオキソラン−2−ペンタンニトリル3.0gを得
た。
Reference Example 3 Production of 7-amino-5- (3-oxobutyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine In a suspension of 2.3 g of 60% sodium hydride in 10 ml of DMF, 2-methyl-1,3 was added. -Dioxolane-2-propionic acid methyl ester 5.0 g of acetonitrile 1
A 0 ml solution was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. The reaction solution was placed in ice water, acidified with a saturated aqueous citric acid solution, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated saline, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: n-hexane: ethyl acetate = 3:
Purification in 2) to give oily 2-methyl-β-oxo-1,
3.0 g of 3-dioxolan-2-pentanenitrile was obtained.

【0107】次に、上記で得られた化合物3.0gと3
−アミノピラゾール1.4gのトルエン1.6ml溶液
を115℃で10時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液…
クロロホルム:メタノール=20:1)で精製し、更に
クロロホルム−n−ヘキサンより再結晶して、7−アミ
ノ−5−〔2−(2−メチル−1,3−ジオキソラン−
2−イル)エチル〕ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン
の無色結晶2.1gを得た。
Next, 3.0 g of the compound obtained above and 3 g of the compound
A solution of 1.4 g of aminopyrazole in 1.6 ml of toluene was stirred at 115 ° C. for 10 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure,
The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent ...
Purified with chloroform: methanol = 20: 1) and further recrystallized from chloroform-n-hexane to give 7-amino-5- [2- (2-methyl-1,3-dioxolane-
2.1 g of colorless crystals of 2-yl) ethyl] pyrazolo [1,5-a] pyrimidine were obtained.

【0108】次に、上記で得られた結晶1.0gを酢酸
−水(4:1)500mlに溶解し、80℃で一晩攪拌
した。反応終了後、減圧濃縮し、残留する酢酸−水をベ
ンゼンと共沸留去し、残渣をエタノール−n−ヘキサン
より再結晶して、表記目的化合物の無色結晶0.7gを
得た。
Next, 1.0 g of the crystals obtained above was dissolved in 500 ml of acetic acid-water (4: 1) and stirred at 80 ° C. overnight. After completion of the reaction, the mixture was concentrated under reduced pressure, the remaining acetic acid-water was distilled off azeotropically with benzene, and the residue was recrystallized from ethanol-n-hexane to obtain 0.7 g of colorless crystals of the title compound.

【0109】融点:164〜166℃、再結晶溶媒:エ
タノール−n−ヘキサン
Melting point: 164-166 ° C., recrystallization solvent: ethanol-n-hexane

【0110】[0110]

【参考例4】7−アミノ−5−n−ブチル−6−メチル
ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの製造 3−アミノピラゾール1.8gと、2−メチル−3−オ
キソヘプタンニトリル3gのトルエン2.5ml溶液
を、115℃で3.5時間加熱した。トルエンを減圧留
去し、残渣を酢酸エチルで再結晶し、得られた結晶を更
にジエチルエーテルで洗浄して、表記目的化合物の無色
結晶2.4gを得た。
Reference Example 4 Production of 7-amino-5-n-butyl-6-methylpyrazolo [1,5-a] pyrimidine 1.8 g of 3-aminopyrazole and 3 g of 2-methyl-3-oxoheptanenitrile in toluene 2 The 0.5 ml solution was heated at 115 ° C. for 3.5 hours. The toluene was distilled off under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethyl acetate. The obtained crystals were further washed with diethyl ether to obtain 2.4 g of the title compound as colorless crystals.

【0111】融点:153〜155℃、再結晶溶媒:酢
酸エチル
Melting point: 153-155 ° C., recrystallization solvent: ethyl acetate

【0112】[0112]

【実施例1】5−n−ブチル−7−(3,4,5−トリ
メトキシベンゾイルアミノ)ピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジンの製造 7−アミノ−5−n−ブチルピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジン1.90g及びピリジン20mlを乾燥ジクロ
ロメタン20mlに溶解し、氷冷攪拌下、これに3,
4,5−トリメトキシベンゾイル クロリド2.6gの
乾燥ジクロロメタン10ml溶液をゆっくりと滴下し、
室温で10時間撹拌した。反応混合液に10%炭酸水素
ナトリウム水溶液50mlを加え、クロロホルムで抽出
し、有機層を集めて10%塩酸及び水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:2)で精製し、更にジエチルエ
ーテル−n−ヘキサンで再結晶して、目的化合物の無色
結晶2.4gを得た。得られた化合物の構造及び融点を
第1表に示す。
Example 1 Preparation of 5-n-butyl-7- (3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine 7-amino-5-n-butylpyrazolo [1,5- a) Pyrimidine (1.90 g) and pyridine (20 ml) were dissolved in dry dichloromethane (20 ml).
A solution of 2.6 g of 4,5-trimethoxybenzoyl chloride in 10 ml of dry dichloromethane was slowly added dropwise,
Stirred at room temperature for 10 hours. 50 ml of a 10% aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with chloroform. The organic layer was collected, washed with 10% hydrochloric acid and water, dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent; ethyl acetate: n-hexane = 1: 2), and further recrystallized from diethyl ether-n-hexane to obtain 2.4 g of the target compound as colorless crystals. Table 1 shows the structure and melting point of the obtained compound.

【0113】[0113]

【実施例2〜実施例46】実施例1と同様にして第1表
に示す各化合物を得た。得られた各化合物の構造及び融
点を第1表に併記する。尚、油状物については1H−N
MRスペクトルデータを示す。
Examples 2 to 46 The compounds shown in Table 1 were obtained in the same manner as in Example 1. Table 1 also shows the structure and melting point of each compound obtained. For oily substances, 1H-N
3 shows MR spectrum data.

【0114】[0114]

【実施例47〜実施例99】実施例1と同様にして第2
表に示す各化合物を得た。得られた各化合物の構造及び
融点を第2表に併記する。尚、油状物については1H−
NMRスペクトルデータを示す。
Embodiments 47 to 99 The second embodiment is similar to the first embodiment.
The compounds shown in the table were obtained. Table 2 shows the structure and melting point of each compound obtained. In addition, 1H-
2 shows NMR spectrum data.

【0115】[0115]

【実施例100】5−(3−ヒドロキシブチル)−7−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイルアミノ)ピラゾ
ロ〔1,5−a〕ピリミジンの製造 工程(1) 3−アミノピラゾール0.90gと2−メチル−β−オ
キソ−1,3−ジオキソラン−2−ペンタン酸メチルエ
ステル1.90gのトルエン2ml溶液を、115℃で
1時間加熱還流した。放冷後、減圧濃縮し、残渣にジエ
チルエーテルを加え、析出した結晶を濾取し、ジエチル
エーテルで洗浄して、7−ヒドロキシ−5−〔2−(2
−メチル−1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル〕
ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの無色結晶1.85
gを得た。
Example 100 5- (3-hydroxybutyl) -7-
Production of (3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine Step (1) 0.90 g of 3-aminopyrazole and 2-methyl-β-oxo-1,3-dioxolan-2 A solution of 1.90 g of pentanoic acid methyl ester in 2 ml of toluene was heated and refluxed at 115 ° C. for 1 hour. After allowing to cool, the mixture was concentrated under reduced pressure, diethyl ether was added to the residue, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with diethyl ether, and treated with 7-hydroxy-5- [2- (2
-Methyl-1,3-dioxolan-2-yl) ethyl]
1.85 of colorless crystals of pyrazolo [1,5-a] pyrimidine
g was obtained.

【0116】工程(2) 上記で得られた結晶2.2gを酢酸−水(4:1)50
0mlに溶解し、50℃で3日間攪拌した。反応終了
後、減圧濃縮し、残留する酢酸−水をベンゼンと共沸さ
せて留去し、残渣をエタノール−n−ヘキサンより再結
晶して、7−ヒドロキシ−5−(3−オキソブチル)ピ
ラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの無色結晶11.0g
を得た。
Step (2) 2.2 g of the crystals obtained above were treated with 50% acetic acid-water (4: 1).
It was dissolved in 0 ml and stirred at 50 ° C. for 3 days. After completion of the reaction, the mixture was concentrated under reduced pressure, the remaining acetic acid-water was distilled off by azeotropic distillation with benzene, and the residue was recrystallized from ethanol-n-hexane to give 7-hydroxy-5- (3-oxobutyl) pyrazolo [ 1,1.0 g of colorless crystals of 1,5-a] pyrimidine
I got

【0117】工程(3) 工程(2)で得られた結晶5.7gをメタノール120
mlに溶かし、氷冷下水素化硼素ナトリウム0.53g
を加え、0℃で2時間攪拌した。反応終了後、希塩酸を
滴下して酸性とし、クロロホルムで抽出した。有機層を
集めて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮した。残渣をエタノール−n−ヘキサンよ
り再結晶して、7−ヒドロキシ−5−(3−ヒドロキシ
ブチル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの無色結晶
4.16gを得た。
Step (3) 5.7 g of the crystals obtained in step (2) were dissolved in methanol 120
Dissolve in ice-cold solution and add 0.53 g of sodium borohydride under ice-cooling
Was added and stirred at 0 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, diluted hydrochloric acid was added dropwise to make the mixture acidic, and the mixture was extracted with chloroform. The organic layer was collected, washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was recrystallized from ethanol-n-hexane to obtain 4.16 g of colorless crystals of 7-hydroxy-5- (3-hydroxybutyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine.

【0118】工程(4) 工程(3)で得られた結晶4.16gを無水酢酸40m
l及びピリジン40mlに溶かし、室温で30分間攪拌
した。反応終了後、減圧濃縮し、残渣をメタノール−ジ
エチルエーテルより再結晶して、5−(3−アセトキシ
ブチル)−7−ヒドロキシピラゾロ〔1,5−a〕ピリ
ミジンの無色結晶4.2gを得た。
Step (4) 4.16 g of the crystals obtained in step (3) were added to 40 m of acetic anhydride.
and 40 ml of pyridine and stirred at room temperature for 30 minutes. After completion of the reaction, the mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was recrystallized from methanol-diethyl ether to obtain 4.2 g of 5- (3-acetoxybutyl) -7-hydroxypyrazolo [1,5-a] pyrimidine as colorless crystals. Was.

【0119】工程(5) 工程(4)で得られた結晶4.2gのトルエン40ml
懸濁液に、オキシ塩化リン6.4ml及びトリエチルア
ミン3.5mlを加え、6時間加熱還流した。反応終了
後、減圧濃縮し、残渣を氷水中に注ぎ込み、この混合物
を酢酸ナトリウムで中和した後、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を集め、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液…酢酸エチル:n−ヘ
キサン=4:1)で精製して、5−(3−アセトキシブ
チル)−7−クロロピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジン
の淡黄色油状物4.3gを得た。
Step (5) 4.2 g of the crystals obtained in step (4) in 40 ml of toluene
6.4 ml of phosphorus oxychloride and 3.5 ml of triethylamine were added to the suspension, and the mixture was heated under reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the mixture was concentrated under reduced pressure, the residue was poured into ice water, the mixture was neutralized with sodium acetate, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was collected, washed with saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate: n-hexane = 4: 1). 4.3 g of a pale yellow oil of 5- (3-acetoxybutyl) -7-chloropyrazolo [1,5-a] pyrimidine was obtained.

【0120】工程(6) 工程(5)で得られた化合物4.3gと25%アンモニ
ア水50mlとをステンレス製密閉管中に封入し、10
5℃で14時間加熱した。放冷後、析出した結晶を濾取
し、水洗後、乾燥して、7−アミノ−5−(3−ヒドロ
キシブチル)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの淡黄
色結晶3.2gを得た。
Step (6) 4.3 g of the compound obtained in the step (5) and 50 ml of 25% aqueous ammonia were sealed in a stainless steel sealed tube.
Heated at 5 ° C. for 14 hours. After standing to cool, the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water, and dried to obtain 3.2 g of 7-amino-5- (3-hydroxybutyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine as pale yellow crystals. .

【0121】工程(7) 工程(6)で得られた結晶500mgのTHF5ml溶
液に、トリエチルアミン400μl及び塩化トリメチル
シラン680μlを加え、室温で12時間攪拌した。反
応終了後、飽和重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出
し、有機層を集めて、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣にn−
ヘキサンを加え、析出した結晶を濾取して、7−アミノ
−5−(3−トリメチルシリルオキシブチル)ピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジンの無色結晶520mgを得
た。
Step (7) To a solution of 500 mg of the crystals obtained in step (6) in 5 ml of THF were added 400 μl of triethylamine and 680 μl of trimethylsilane chloride, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. After completion of the reaction, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and the mixture was extracted with dichloromethane. The organic layer was collected, washed with water and saturated saline in this order, dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. N- in the residue
Hexane was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 520 mg of colorless crystals of 7-amino-5- (3-trimethylsilyloxybutyl) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine.

【0122】1H−NMR(δ:ppm)〔CDCl3
〕 0.12(9H,s),1.20(3H,d,J=5.
9),1.8−1.9(2H,m),2.6−2.9
(2H,m),3.8−3.9(1H,m),5.61
(2H,brs),5.99(1H,s),6.41
(1H,d,J=2.0),7.99(1H,d,J=
2.0) 工程(8) 工程(7)で得られた結晶520mgのピリジン5ml
溶液に、3,4,5−トリメトキシベンゾイルクロリド
650mgの乾燥ジクロロメタン5ml溶液をゆっくり
と滴下し、室温で2時間攪拌した。反応終了後、飽和重
曹水を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を集め
て、1N塩酸で水層のpHが約1になるまで洗浄し、そ
のまま2時間放置した。有機層を水及び飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、
残渣をジクロロメタン−n−ヘキサンより再結晶して、
目的化合物の無色結晶480mgを得た。得られた化合
物の構造及び融点を第2表に示す。
1 H-NMR (δ: ppm) [CDCl 3
0.12 (9H, s), 1.20 (3H, d, J = 5.
9), 1.8-1.9 (2H, m), 2.6-2.9
(2H, m), 3.8-3.9 (1H, m), 5.61
(2H, brs), 5.99 (1H, s), 6.41
(1H, d, J = 2.0), 7.99 (1H, d, J =
2.0) Step (8) 520 mg of the crystals obtained in step (7) in 5 ml of pyridine
To the solution was slowly added dropwise a solution of 650 mg of 3,4,5-trimethoxybenzoyl chloride in 5 ml of dry dichloromethane, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and the mixture was extracted with dichloromethane. The organic layer was collected, washed with 1N hydrochloric acid until the pH of the aqueous layer became about 1, and allowed to stand for 2 hours. The organic layer was washed successively with water and saturated saline, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure.
The residue was recrystallized from dichloromethane-n-hexane,
480 mg of colorless crystals of the target compound were obtained. Table 2 shows the structure and melting point of the obtained compound.

【0123】[0123]

【実施例101及び実施例102】実施例100と同様
にして第2表に示す各化合物を得た。得られた各化合物
の構造及び融点を第2表に併記する。
Examples 101 and 102 The compounds shown in Table 2 were obtained in the same manner as in Example 100. Table 2 shows the structure and melting point of each compound obtained.

【0124】[0124]

【実施例103】5−n−ブチル−3−クロロ−2−メ
チル−7−(3,4,5−トリメトキシベンゾイルアミ
ノ)ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの製造 5−n−ブチル−2−メチル−7−(3,4,5−トリ
メトキシベンゾイルアミノ)ピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジン(実施例53の化合物)0.78gをクロロホ
ルム10mlに溶かし、NCS0.28gを加え、1時
間加熱還流した。放冷後、反応液に水を加え、クロロホ
ルムで抽出した。有機層を集め、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出液…酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:2)で精製し、更にエタノール−n−ヘキサンより
再結晶して、目的化合物の無色結晶0.61gを得た。
得られた化合物の構造及び融点を第3表に示す。
Example 103 Preparation of 5-n-butyl-3-chloro-2-methyl-7- (3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine 5-n-butyl- 0.78 g of 2-methyl-7- (3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine (the compound of Example 53) was dissolved in 10 ml of chloroform, and 0.28 g of NCS was added. Heated to reflux for an hour. After allowing to cool, water was added to the reaction solution, and extracted with chloroform. The organic layer was collected, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate: n-hexane =
1: 2), and further recrystallized from ethanol-n-hexane to obtain 0.61 g of colorless crystals of the target compound.
Table 3 shows the structure and melting point of the obtained compound.

【0125】[0125]

【実施例104〜実施例106】実施例103と同様に
して第3表に示す各化合物を得た。得られた各化合物の
構造及び融点を第3表に併記する。
Examples 104 to 106 The compounds shown in Table 3 were obtained in the same manner as in Example 103. Table 3 shows the structure and melting point of each compound obtained.

【0126】[0126]

【実施例107〜実施例128】実施例1と同様にして
第4表に示す各化合物を得た。得られた各化合物の構造
及び融点を第4表に併記する。
Examples 107 to 128 The compounds shown in Table 4 were obtained in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the structure and melting point of each compound obtained.

【0127】[0127]

【実施例129】5−n−ブチル−7−〔N−メチル−
N−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)アミノ〕
ピラゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの製造 5−n−ブチル−7−クロロピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジン(参考例1の工程(2)で製造した化合物)
8.60g、炭酸水素ナトリウム3.44g及び40%
メチルアミン3.18gをエタノール50ml中に加
え、120℃で2時間加熱した。反応終了後、エタノー
ルを減圧留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液…酢酸エチル:n−ヘキサン=1:2)で
精製して、5−n−ブチル−7−メチルアミノピラゾロ
〔1,5−a〕ピリミジンの結晶2.33gを得た。
Working Example 129 5-N-butyl-7- [N-methyl-
N- (3,4,5-trimethoxybenzoyl) amino]
Production of pyrazolo [1,5-a] pyrimidine 5-n-butyl-7-chloropyrazolo [1,5-a] pyrimidine (compound produced in step (2) of Reference Example 1)
8.60 g, 3.44 g of sodium bicarbonate and 40%
3.18 g of methylamine was added to 50 ml of ethanol, and heated at 120 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, ethanol was distilled off under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was collected, dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate: n-hexane = 1: 2) to give 5-n-butyl-7. 2.33 g of crystals of -methylaminopyrazolo [1,5-a] pyrimidine were obtained.

【0128】得られた結晶及び3,4,5−トリメトキ
シベンゾイル クロリドを用いて、実施例1と同様にし
て、目的化合物を得た。得られた化合物の構造及び融点
を第5表に示す。
Using the obtained crystals and 3,4,5-trimethoxybenzoyl chloride, the target compound was obtained in the same manner as in Example 1. Table 5 shows the structure and melting point of the obtained compound.

【0129】[0129]

【実施例130】実施例129と同様にして、第5表に
示す化合物を得た。得られた化合物の構造及び融点を第
5表に併記する。
Example 130 The compounds shown in Table 5 were obtained in the same manner as in Example 129. The structure and melting point of the obtained compound are also shown in Table 5.

【0130】[0130]

【実施例131】5−n−ブチル−7−〔N,N−ビス
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)アミノ〕ピラ
ゾロ〔1,5−a〕ピリミジンの製造 実施例1で得られた化合物1.92g及びトリエチルア
ミン1.02gをクロロホルム10mlに溶かし、これ
に3,4,5−トリメトキシベンゾイルクロリド1.2
8gのクロロホルム10ml溶液を室温で加え、混合液
を室温で10時間攪拌した。反応後、有機層を希塩酸で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液…酢
酸エチル:n−ヘキサン=1:2)で精製し、更に酢酸
エチル−n−ヘキサンより再結晶して、目的化合物の無
色結晶1.10gを得た。
Example 131 Production of 5-n-butyl-7- [N, N-bis (3,4,5-trimethoxybenzoyl) amino] pyrazolo [1,5-a] pyrimidine Obtained in Example 1. 1.92 g of the compound and 1.02 g of triethylamine were dissolved in 10 ml of chloroform, and 3,4,5-trimethoxybenzoyl chloride 1.2
A solution of 8 g of chloroform in 10 ml was added at room temperature, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours. After the reaction, the organic layer was washed with diluted hydrochloric acid, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate: n-hexane = 1: 2), and further recrystallized from ethyl acetate-n-hexane to obtain 1.10 g of the target compound as colorless crystals.

【0131】得られた化合物の構造及び融点を第5表に
併記する。
The structure and melting point of the obtained compound are also shown in Table 5.

【0132】[0132]

【実施例132】5−n−ブチル−7−〔N,N−ビス
(2−クロロベンゾイル)アミノ〕ピラゾロ〔1,5−
a〕ピリミジンの製造 実施例23において、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーの前出画分を再度シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出液…ジクロロメタン)で精製し、更に再結晶
を行なって、目的化合物の無色結晶を得た。得られた化
合物の構造及び融点を第5表に併記する。
Example 132 5-n-Butyl-7- [N, N-bis (2-chlorobenzoyl) amino] pyrazolo [1,5-
a] Production of pyrimidine In Example 23, the above fraction obtained by silica gel column chromatography was purified again by silica gel column chromatography (eluent: dichloromethane) and further recrystallized to obtain colorless crystals of the target compound. . The structure and melting point of the obtained compound are also shown in Table 5.

【0133】[0133]

【実施例133及び134】実施例132と同様に、実
施例32及び実施例52におけるシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーの前出画分より、第5表に示す各化合物
を得た。得られた各化合物の構造及び融点を第5表に併
記する。
Examples 133 and 134 In the same manner as in Example 132, the compounds shown in Table 5 were obtained from the preceding fractions of the silica gel column chromatography in Examples 32 and 52. Table 5 also shows the structures and melting points of the obtained compounds.

【0134】また、実施例1におけるシリカゲルカラム
クロマトグラフィーの前出画分より、同様にして、実施
例131の化合物と同一化合物を得た。
Further, the same compound as the compound of Example 131 was obtained in the same manner from the preceding fraction of the silica gel column chromatography in Example 1.

【0135】[0135]

【表1】 [Table 1]

【0136】[0136]

【表2】 [Table 2]

【0137】[0137]

【表3】 [Table 3]

【0138】[0138]

【表4】 [Table 4]

【0139】[0139]

【表5】 [Table 5]

【0140】[0140]

【表6】 [Table 6]

【0141】[0141]

【表7】 [Table 7]

【0142】[0142]

【表8】 [Table 8]

【0143】[0143]

【表9】 [Table 9]

【0144】[0144]

【表10】 [Table 10]

【0145】[0145]

【表11】 [Table 11]

【0146】[0146]

【表12】 [Table 12]

【0147】[0147]

【表13】 [Table 13]

【0148】[0148]

【表14】 [Table 14]

【0149】[0149]

【表15】 [Table 15]

【0150】[0150]

【表16】 [Table 16]

【0151】以下、上記で得られた有効成分化合物につ
き行なわれた薬理試験例及び本発明鎮痛剤の調整例を挙
げる。
Examples of pharmacological tests performed on the active ingredient compounds obtained above and examples of preparation of the analgesic of the present invention are described below.

【0152】[0152]

【薬理試験例1】6週齢ウィスター系雄性ラット1群7
匹を用い、まず各ラットの左後肢足蹠の疼痛閾値を圧刺
激鎮痛効果測定装置(ユニコム社製)を用いて、ランダ
ール・セリット法〔Randall,L.O. and Sellitto,J.J.,
Arch.Int.Pharmacodyn., 111, 409 (1957)〕に準じて測
定した。得られた値を「前値」とする。
[Pharmacological Test Example 1] 6-week-old Wistar male rats 1 group 7
First, the pain threshold of the left hind footpad of each rat was measured using a pressure-stimulated analgesic effect measuring device (manufactured by Unicom) using the Randall-Selit method [Randall, LO and Sellitto, JJ,
Arch.Int.Pharmacodyn., 111, 409 (1957)]. The obtained value is referred to as “previous value”.

【0153】上記前値の測定1時間後に、20%イース
ト懸濁液を各ラットの左後肢足蹠皮下に0.1mlずつ
注射し、実験群には、更に本発明化合物の5%アラビア
ゴム懸濁液を、対照群には5%アラビアゴム懸濁液(本
発明化合物を含まない)を、それぞれイースト注射直後
に、10ml/kgの割合で、経口投与した。
One hour after the above measurement, 0.1 ml of a 20% yeast suspension was subcutaneously injected into the left hind footpad of each rat, and the experimental group was further treated with a 5% gum arabic suspension of the compound of the present invention. The suspension was orally administered to the control group at a rate of 10 ml / kg immediately after the yeast injection, with a 5% gum arabic suspension (not containing the compound of the present invention).

【0154】次に、イースト注射より1時間毎に、各群
ラットの左後肢足蹠の疼痛閾値を上記と同様にして測定
して、これを「後値」とした。
Next, every hour after the yeast injection, the pain threshold value of the left hind footpad of each group of rats was measured in the same manner as described above, and this was defined as “post-value”.

【0155】各群の測定値(後値)と前値より、疼痛閾
値回復率(%)を、次式に従って算出した。
The pain threshold recovery rate (%) was calculated from the measured value (post-value) and the pre-value of each group according to the following equation.

【0156】疼痛閾値回復率(%)=〔(実験群平均後
値)−(対照群平均後値)〕/〔(対照群平均前値)−
(対照群平均後値)〕×100 得られた結果(最大の回復率)を下記第6表に示す。
Pain threshold recovery rate (%) = [(average value of experimental group) − (average value of control group)] / [(average value of control group) −
(Average after control group)] × 100 The obtained results (maximum recovery rate) are shown in Table 6 below.

【0157】[0157]

【表17】 [Table 17]

【0158】[0158]

【薬理試験例2】6週齢ウィスター系雄性ラット1群7
匹を用い、まず各ラットの左後肢足蹠の疼痛閾値を圧刺
激鎮痛効果測定装置(ユニコム社製)を用いて、ランダ
ール・セリット法〔Randall,L.O. and Sellitto,J.J.,
Arch.Int.Pharmacodyn., 111, 409 (1957)〕に準じて測
定した。得られた値を「前値」とする。
[Pharmacological Test Example 2] 6-week-old male Wistar rats 7 per group
First, the pain threshold of the left hind footpad of each rat was measured using a pressure-stimulated analgesic effect measuring device (manufactured by Unicom) using the Randall-Selit method [Randall, LO and Sellitto, JJ,
Arch.Int.Pharmacodyn., 111, 409 (1957)]. The obtained value is referred to as “previous value”.

【0159】上記前値の測定1時間後に、実験群には、
更に本発明化合物の5%アラビアゴム懸濁液を、対照群
には5%アラビアゴム懸濁液(本発明化合物を含まな
い)を、それぞれ 10ml/kgの割合で、投与量が
1mg/kgとなるように経口投与し、更にその1時間
後にサブスタンスPの生理食塩水溶液(25ng/0.
1ml)を、各ラットの左後肢足蹠皮下に注射した。
One hour after the measurement of the previous value, the experimental group contained:
Further, a 5% gum arabic suspension of the compound of the present invention and a control group of a 5% gum arabic suspension (not containing the compound of the present invention) were each administered at a dose of 1 mg / kg at a rate of 10 ml / kg. Orally administered as such, and one hour later, a physiological saline solution of substance P (25 ng / 0.
1 ml) was injected subcutaneously into the left hind footpad of each rat.

【0160】次にサブスタンスP注射の所定時間後に、
各群ラットの左後肢足蹠の疼痛閾値を上記と同様にして
測定して、これを「後値」とした。
Next, a predetermined time after the substance P injection,
The pain threshold of the left hind footpad of each group of rats was measured in the same manner as described above, and this was defined as "post-value".

【0161】各群の測定値(後値)と前値より、疼痛閾
値回復率(%)を、次式に従って算出した。
The pain threshold recovery rate (%) was calculated from the measured value (post-value) and the pre-value of each group according to the following equation.

【0162】疼痛閾値回復率(%)=〔(実験群平均後
値)−(対照群平均後値)〕/〔(対照群平均前値)−
(対照群平均後値)〕×100 得られた結果(最大の回復率)を下記第7表に示す。
Pain threshold recovery rate (%) = [(average value of experimental group) − (average value of control group)] / [(average previous value of control group) −
(Average after control group)] × 100 The results obtained (maximum recovery rate) are shown in Table 7 below.

【0163】[0163]

【表18】 [Table 18]

【0164】上記第6表及び第7表より、本発明有効成
分化合物は、優れた鎮痛作用を奏することが明らかであ
る。
From the above Tables 6 and 7, it is clear that the active ingredient compounds of the present invention exhibit excellent analgesic action.

【0165】[0165]

【製剤例1】 錠剤の調製 有効成分として実施例1で得た本発明化合物を用いて、
1錠当りその300mgを含有する錠剤(2000錠)
を、次の処方により調製した。
Formulation Example 1 Preparation of Tablet Using the compound of the present invention obtained in Example 1 as an active ingredient,
Tablets containing 300 mg per tablet (2000 tablets)
Was prepared according to the following formula.

【0166】 実施例1で得た本発明化合物 600g 乳糖(日本薬局方品) 67g コーンスターチ(日本薬局方品) 33g カルボキシメチルセルロースカルシウム(日本薬局方品) 25g メチルセルロース(日本薬局方品) 12g ステアリン酸マグネシウム(日本薬局方品) 3g 即ち、上記処方に従い、実施例1で得た本発明化合物、
乳糖、コーンスターチ及びカルボキシメチルセルロース
カルシウムを充分混合し、メチルセルロース水溶液を用
いて混合物を顆粒化し、24メッシュの篩を通し、これ
をステアリン酸マグネシウムと混合して、錠剤にプレス
して、目的の錠剤を得た。
Compound of the present invention obtained in Example 1 600 g Lactose (Japanese Pharmacopoeia) 67 g Corn starch (Japanese Pharmacopoeia) 33 g Carboxymethylcellulose calcium (Japanese Pharmacopoeia) 25 g Methylcellulose (Japanese Pharmacopoeia) 12 g Magnesium stearate (Japanese Pharmacopoeia product) 3 g That is, the compound of the present invention obtained in Example 1 according to the above-mentioned formulation,
Lactose, corn starch and carboxymethylcellulose calcium are thoroughly mixed, the mixture is granulated with an aqueous methylcellulose solution, passed through a 24 mesh sieve, mixed with magnesium stearate, and pressed into tablets to obtain the desired tablet. Was.

【0167】[0167]

【製剤例2】 カプセル剤の調製 有効成分として実施例32で得た本発明化合物を用い
て、1カプセル当りその200mgを含有する硬質ゼラ
チンカプセル(2000錠)を、次の処方により調製し
た。
Formulation Example 2 Preparation of Capsules Using the compound of the present invention obtained in Example 32 as an active ingredient, hard gelatin capsules (2000 tablets) containing 200 mg per capsule were prepared according to the following formulation.

【0168】 実施例32で得た本発明化合物 400g 結晶セルロース(日本薬局方品) 60g コーンスターチ(日本薬局方品) 34g タルク(日本薬局方品) 4g ステアリン酸マグネシウム(日本薬局方品) 2g 即ち、上記処方に従い、各成分を細かく粉末にし、均一
な混合物となるように混和した後、所望の寸法を有する
経口投与用ゼラチンカプセルに充填して、目的のカプセ
ル剤を得た。
Compound of the present invention obtained in Example 32 400 g Microcrystalline cellulose (Japanese Pharmacopoeia product) 60 g Corn starch (Japanese Pharmacopoeia product) 34 g Talc (Japanese Pharmacopoeia product) 4 g Magnesium stearate (Japanese Pharmacopoeia product) 2 g According to the above formula, each component was finely powdered, mixed to form a uniform mixture, and then filled into a gelatin capsule for oral administration having desired dimensions to obtain a desired capsule.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 謹治 徳島県鳴門市撫養町北浜字宮の東7番地 の8 (72)発明者 小原 正之 徳島県板野郡松茂町中喜来字中瀬中ノ越 11−28 (72)発明者 安田 恒雄 徳島県鳴門市撫養町弁財天字ハマ43 (56)参考文献 特開 平3−204877(JP,A) Mazur,I.A.,Synthe sis and biological activity of N−(4− quinzolyl−and 5−im idazopyrimidinyl−) sulfanilamides,Far m.Zh.(Kiev),1987.1, p.58−60 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A61K 31/435 - 31/529 A61P 29/00 C07D 471/04,487/04 CA(STN) REGISTRY(STN) WPI(DIALOG)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kenji Hashimoto 7-8, east of Kitahama-Ju, Nadu-cho, Naruto-shi, Tokushima (72) Inventor Masayuki Ohara Nakase Nakanogoshi Nakakirai, Matsuki-cho, Itano-gun, Tokushima Prefecture 11-28 (72) Inventor Tsuneo Yasuda Hama43, Benzaitenten, Nadu-cho, Naruto City, Tokushima Prefecture (56) References JP-A-3-204877 (JP, A) Mazur, I. A. , Synthesis and biological activity of N- (4-quinzolyl-and 5-imidazopyrimidinyl-) sulfanilamides, Farm. Zh. (Kiev), 1987.1, p. 58-60 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) A61K 31/435-31/529 A61P 29/00 C07D 471 / 04,487 / 04 CA (STN) REGISTRY (STN) WPI (DIALOG)

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式 【化1】 〔式中、R1 は水素原子、置換基としてチエニル基、低
級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、オキソ基又はヒ
ドロキシル基を有することのある低級アルキル基、シク
ロアルキル基、チエニル基、フリル基、低級アルケニル
基又は置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ
基、フェニルチオ基及びハロゲン原子から選ばれる基の
1〜3個を有することのあるフェニル基を、R2 はナフ
チル基、シクロアルキル基、フリル基、チエニル基、ハ
ロゲン原子で置換されることのあるピリジル基、ハロゲ
ン原子で置換されることのあるフェノキシ基又は置換基
として低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン
置換低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
ヒドロキシル基、フェニル低級アルコキシ基、アミノ
基、シアノ基、低級アルカノイルオキシ基、フェニル基
及びジ低級アルコキシホスホリル低級アルキル基から選
ばれる基の1〜3個を有することのあるフェニル基を、
3 は水素原子、フェニル基又は低級アルキル基を、R
4 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、フェニル低級アルキル基、置換基としてフェニ
ルチオ基を有することのあるフェニル基又はハロゲン原
子を、R5 は水素原子又は低級アルキル基を、R6 は水
素原子、低級アルキル基、フェニル低級アルキル基又は
置換基として低級アルコキシ基、ハロゲン置換低級アル
キル基及びハロゲン原子から選ばれる基の1〜3個を有
するベンゾイル基を示し、またR1 及びR5 は互いに結
合して低級アルキレン基を形成してもよく、Qはカルボ
ニル基又はスルホニル基を、Aは単結合、低級アルキレ
ン基又は低級アルケニレン基をそれぞれ示し、nは0又
は1を示す。〕で表わされるピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジン誘導体を有効成分として、その有効量を、無毒
性担体と共に含有することを特徴とする鎮痛剤。
1. A compound of the general formula Wherein R 1 is a hydrogen atom, a thienyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a oxo group or a lower alkyl group which may have a hydroxyl group as a substituent, a cycloalkyl group, a thienyl group, a furyl group, a lower alkenyl. R 2 represents a phenyl group which may have 1 to 3 groups selected from a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a phenylthio group and a halogen atom as a group or a substituent; R 2 represents a naphthyl group, a cycloalkyl group, a furyl group, a thienyl group; Group, a pyridyl group that may be substituted with a halogen atom, a phenoxy group that may be substituted with a halogen atom or a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, a halogen-substituted lower alkyl group, Substituted lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl group,
A phenyl group which may have 1 to 3 of a group selected from a hydroxyl group, a phenyl lower alkoxy group, an amino group, a cyano group, a lower alkanoyloxy group, a phenyl group and a di-lower alkoxyphosphoryl lower alkyl group,
R 3 represents a hydrogen atom, a phenyl group or a lower alkyl group;
4 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a phenyl lower alkyl group, a phenyl group or a halogen atom which may have a phenylthio group as a substituent, R 5 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 6 is A hydrogen atom, a lower alkyl group, a phenyl lower alkyl group or a benzoyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group, a halogen-substituted lower alkyl group and a halogen atom as a substituent, and R 1 and R 5 are It may combine with each other to form a lower alkylene group, Q represents a carbonyl group or a sulfonyl group, A represents a single bond, a lower alkylene group or a lower alkenylene group, and n represents 0 or 1. An analgesic, characterized by containing an effective amount of a pyrazolo [1,5-a] pyrimidine derivative represented by the formula (1) together with a non-toxic carrier.
【請求項2】 請求項1に記載の一般式中、Qがカルボ
ニル基で、nが0である化合物、Qがカルボニル基で、
nが1であり且つR1 が低級アルキル基又はフェニル
基、R2 が置換基として低級アルコキシ基及びハロゲン
置換低級アルキル基から選ばれる基の1〜3個を有する
フェニル基、R3 、R4 、R5 及びR6がそれぞれ水素
原子及びAが単結合を示す化合物、並びにQがスルホニ
ル基でnが0であり且つR1 が低級アルキル基、R2
ハロゲン原子の1〜3個を有することのあるフェニル
基、R3 、R4、R5 及びR6 がそれぞれ水素原子及び
Aが単結合を示す化合物から選ばれる化合物を有効成分
とする請求項1に記載の鎮痛剤。
2. The compound according to claim 1, wherein Q is a carbonyl group and n is 0, Q is a carbonyl group,
n is 1, and R 1 is a lower alkyl group or a phenyl group, R 2 is a phenyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group and a halogen-substituted lower alkyl group as substituents, R 3 and R 4 , R 5 and R 6 are each a hydrogen atom and A is a single bond, and Q is a sulfonyl group, n is 0 and R 1 is a lower alkyl group, and R 2 has 1 to 3 halogen atoms. The analgesic according to claim 1, wherein the active ingredient is a compound in which a phenyl group, R 3 , R 4 , R 5, and R 6 each may be a hydrogen atom and A is a single bond.
【請求項3】 請求項1に記載の一般式中、R1 が置換
基として低級アルキルチオ基を有することのある低級ア
ルキル基又は置換基としてフェニルチオ基を有すること
のあるフェニル基で、R2 が置換基として低級アルコキ
シ基、ハロゲン原子及びハロゲン置換低級アルキル基か
ら選ばれる基の1〜3個を有するフェニル基で、R3
水素原子又はフェニル基で、R4 が水素原子、ハロゲン
原子又はフェニル基で、R5 が水素原子で、R6 が水素
原子又は置換基としてハロゲン置換低級アルキル基を有
するベンゾイル基で、Qがカルボニル基で、Aが単結合
である化合物を有効成分とする請求項2に記載の鎮痛
剤。
3. In the general formula according to claim 1, R 1 is a lower alkyl group which may have a lower alkylthio group as a substituent or a phenyl group which may have a phenylthio group as a substituent, and R 2 is A phenyl group having 1 to 3 groups selected from a lower alkoxy group, a halogen atom and a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent, wherein R 3 is a hydrogen atom or a phenyl group, and R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom or a phenyl group; A compound in which R 5 is a hydrogen atom, R 6 is a hydrogen atom or a benzoyl group having a halogen-substituted lower alkyl group as a substituent, Q is a carbonyl group, and A is a single bond. 3. The analgesic according to 2.
【請求項4】 請求項1に記載の一般式中、R3 、R4
及びR6 がそれぞれ水素原子で、nが0であって、R1
がn−ブチル基で且つR2 が低級アルコキシ基の2〜3
個を有するフェニル基又はハロゲン置換低級アルキル基
の1〜2個を有するフェニル基であるか、或はR1 がフ
ェニル基で且つR2 が低級アルコキシ基の3個を有する
フェニル基である化合物を有効成分とする請求項3に記
載の鎮痛剤。
4. The general formula according to claim 1, wherein R 3 , R 4
And R 6 are each a hydrogen atom, n is 0, and R 1
Is an n-butyl group and R 2 is a lower alkoxy group of 2-3
Or a phenyl group having 1 to 2 halogen-substituted lower alkyl groups or a phenyl group wherein R 1 is a phenyl group and R 2 is a phenyl group having 3 lower alkoxy groups. The analgesic according to claim 3, which is an active ingredient.
【請求項5】 請求項1に記載の一般式中、R2 が2,
4−ジメトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシ
フェニル基、2−トリフルオロメチルフェニル基又は
2,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基である
化合物を有効成分とする請求項4に記載の鎮痛剤。
5. The general formula according to claim 1, wherein R 2 is 2,
The compound which is a 4-dimethoxyphenyl group, 3,4,5-trimethoxyphenyl group, 2-trifluoromethylphenyl group or 2,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group as an active ingredient. Painkillers.
【請求項6】 5−n−ブチル−7−(3,4,5−ト
リメトキシベンゾイルアミノ)ピラゾロ〔1,5−a〕
ピリミジン及び5−n−ブチル−7−(2−トリフルオ
ロメチルベンゾイルアミノ)ピラゾロ〔1,5−a〕ピ
リミジンから選ばれる化合物を有効成分とする請求項5
に記載の鎮痛剤。
6. 5-n-butyl-7- (3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a]
6. A compound selected from pyrimidine and 5-n-butyl-7- (2-trifluoromethylbenzoylamino) pyrazolo [1,5-a] pyrimidine as an active ingredient.
The analgesic according to the above.
【請求項7】 5−n−ブチル−7−(3,4,5−ト
リメトキシベンゾイルアミノ)ピラゾロ〔1,5−a〕
ピリミジンを有効成分とする請求項6に記載の鎮痛剤。
7. N-butyl-7- (3,4,5-trimethoxybenzoylamino) pyrazolo [1,5-a]
The analgesic according to claim 6, comprising pyrimidine as an active ingredient.
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