JP3152761B2 - Circuit pattern defect inspection method and defect inspection device - Google Patents

Circuit pattern defect inspection method and defect inspection device

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JP3152761B2
JP3152761B2 JP25407392A JP25407392A JP3152761B2 JP 3152761 B2 JP3152761 B2 JP 3152761B2 JP 25407392 A JP25407392 A JP 25407392A JP 25407392 A JP25407392 A JP 25407392A JP 3152761 B2 JP3152761 B2 JP 3152761B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、メモリ回路用の基板や
液晶表示器用基板等のように周期性を有する回路パター
ンの断線や短絡等の欠陥を検出する回路パターンの欠陥
検査方法と欠陥検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection method and a defect inspection of a circuit pattern for detecting a defect such as a disconnection or a short circuit of a circuit pattern having periodicity such as a substrate for a memory circuit or a substrate for a liquid crystal display. Related to the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のこの種の回路パターンの欠陥検査
方法として、例えば、パターンマッチング法と呼ばれる
方法がある。このパターンマッチング法の原理は、検査
対象の回路パターンと、基準となる回路パターンとを比
較し、その違いを抽出することによって検査対象の回路
パターンの欠陥を検出するものである。その詳細を半導
体ウエハ上の複数個のダイに形成された回路パターンの
欠陥検査を例に採って以下に説明する。
2. Description of the Related Art As a conventional defect inspection method for a circuit pattern of this kind, there is, for example, a method called a pattern matching method. The principle of the pattern matching method is to detect a defect in a circuit pattern to be inspected by comparing a circuit pattern to be inspected with a reference circuit pattern and extracting the difference. The details will be described below by taking a defect inspection of a circuit pattern formed on a plurality of dies on a semiconductor wafer as an example.

【0003】まず、基準となる回路パターン(以下、基
準パターンという)を決め、決めた基準パターンをデー
タ処理し易いように定量的なデータに変換した基準デー
タを作成する。基準パターンは、例えば、1個の良品ダ
イの回路パターンや、複数個の良品ダイの回路パターン
を平均化したもの、あるいは検査対象のダイの隣のダイ
の回路パターン等が用いられる。なお、この基準パター
ンは、上述のように検査対象の回路パターンの比較対象
に用いられるので、その選択の適否が直接検査結果に影
響を与えることになる。従って、検査対象に応じて、最
適な基準パターンを決める必要がある。決定した基準パ
ターンから以下のように基準データを作成する。すなわ
ち、基準パターンを所定のXYステージ上に載置してカ
メラで撮影し、撮影した領域(XY平面)を所定の画素
に分割((Xi ,Yj )、i、jは例えば、i=0〜5
11、j=0〜511とした512×512の2次元配
列化)し、分割した画素ごとのそれぞれの明るさを25
6階調(0〜255)で表現した明度データ(デジタル
データ)に変換して基準データを作成する。
[0003] First, a reference circuit pattern (hereinafter, referred to as a reference pattern) is determined, and reference data is created by converting the determined reference pattern into quantitative data so as to facilitate data processing. As the reference pattern, for example, a circuit pattern of one non-defective die, an average of circuit patterns of a plurality of non-defective dies, a circuit pattern of a die adjacent to a die to be inspected, or the like is used. Since the reference pattern is used as a comparison target of the circuit pattern to be inspected as described above, the appropriateness of the selection directly affects the inspection result. Therefore, it is necessary to determine an optimal reference pattern according to the inspection object. The reference data is created from the determined reference pattern as follows. That is, the reference pattern is placed on a predetermined XY stage and photographed by a camera, and the photographed area (XY plane) is divided into predetermined pixels ((X i , Y j ), i and j are, for example, i = 0-5
11, a two-dimensional array of 512 × 512 where j = 0 to 511), and the brightness of each divided pixel is 25
The data is converted into brightness data (digital data) expressed in six gradations (0 to 255) to create reference data.

【0004】次に、検査対象の回路パターンを、基準デ
ータと同様の方法によって、定量的なデータ(明度デー
タ)に変換し、被処理データを作成する。このとき、上
述のXYステージ上に検査対象の回路パターンを載置
し、カメラとの位置合わせを行なうが、基準データを作
成したときの基準パターンとカメラとの位置関係と完全
に一致させることは装置の精度上難しい。すなわち、基
準データの各画素に対応する基準パターンの位置と、被
処理データの各画素に対応する検査対象の回路パターン
の位置とが対応しなくなる。従って、それぞれの画素の
明度データを比較する前に、被処理データの原点画素
(X0 ,Y0 )に対応する基準データの画素を検出する
必要がある。この検出は、双方の相関関係を調べること
によって行なわれる。例えば、被処理データの原点(X
0 ,Y0 )に、基準データの画素(X1 ,Y1 )を対応
させたとき、それぞれの他の画素について、被処理デー
タの(Xi ,Yj )と基準データの(Xii,Yjj)(但
し、ii=i+1、jj=j+1、)が互いにどれだけ
相関しているかを算出することにより調べる。
Next, the circuit pattern to be inspected is converted into quantitative data (brightness data) by the same method as the reference data, and data to be processed is created. At this time, the circuit pattern to be inspected is placed on the XY stage, and the position of the circuit pattern is aligned with the camera. However, it is impossible to completely match the positional relationship between the reference pattern and the camera when the reference data is created. Difficult due to the accuracy of the device. That is, the position of the reference pattern corresponding to each pixel of the reference data does not correspond to the position of the circuit pattern to be inspected corresponding to each pixel of the data to be processed. Therefore, before comparing the brightness data of each pixel, it is necessary to detect the pixel of the reference data corresponding to the origin pixel (X 0 , Y 0 ) of the data to be processed. This detection is performed by examining the correlation between the two. For example, the origin (X
0 , Y 0 ), the pixel (X 1 , Y 1 ) of the reference data is associated with (X i , Y j ) of the data to be processed and (X ii , Y jj ) (however, ii = i + 1, JJ = j + 1) is checked by calculating the degree of correlation with each other.

【0005】そして、検査対象の回路パターンの欠陥の
検出は、上述のようにして作成した基準データと被処理
データとの位置合わせの後、お互いに対応する各画素の
明度データを比較して行なわれる。すなわち、基準デー
タと被処理データとの対応する各画素の明度データが違
っていれば、被処理データは基準のパターンでないこと
になるので、その画素付近に何らかの欠陥があると判断
することができる。なお、欠陥のある場所が分かれば、
詳細な欠陥の検出は、例えば、顕微鏡による黙視検査等
で行なうことができる。
[0005] Detection of a defect in the circuit pattern to be inspected is performed by comparing the brightness data of each pixel corresponding to each other after the registration of the reference data created as described above and the data to be processed. It is. That is, if the brightness data of each pixel corresponding to the reference data and the data to be processed is different, the data to be processed is not a reference pattern, and it can be determined that there is some defect near the pixel. . If you know where the defect is,
Detailed defect detection can be performed, for example, by a static inspection using a microscope.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来のパターンマッチング法では、基
準データと被処理データとを作成する際、それぞれの原
点を合わせることは装置の精度上困難であるので、デー
タ処理によって基準データと被処理データとの位置合わ
せを行なうようにしている。この位置合わせは、上述の
ように全画素について相関関係を調べているので、位置
合わせに要する時間が長くかかり、欠陥検査の処理時間
の短縮を図ることが難しいという問題がある。
However, the prior art having such a structure has the following problems. That is, in the conventional pattern matching method, when creating the reference data and the data to be processed, it is difficult to match the respective origins due to the accuracy of the apparatus. I do it. As described above, since the correlation is checked for all the pixels as described above, it takes a long time to perform the alignment, and there is a problem that it is difficult to reduce the processing time of the defect inspection.

【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理時間を短縮して回路パターンの欠
陥の検出を精度よく行なえる回路パターンの欠陥検査方
法及び欠陥検査装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a circuit pattern defect inspection method and a defect inspection apparatus capable of shortening the processing time and detecting a circuit pattern defect with high accuracy. The purpose is to do.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、XY平面上の少なくとも
X方向に対して周期性を有する回路パターンの所定の検
査領域の欠陥を検出する回路パターンの欠陥検査方法に
おいて、少なくとも前記X方向に配列された複数個の画
素によって前記検査領域内の回路パターンの特性を入力
し、前記入力した回路パターンの各画素の特性をそれぞ
れ定量的に変換し、被処理データを作成する第一処理過
程と、前記第一処理過程によって作成された被処理デー
タを、少なくともY方向の1画素に対するX方向の各画
素の並びによって構成される処理領域に分割する第二処
理過程と、前記第二処理過程によって分割された前記各
処理領域ごとの被処理データの周期をそれぞれ求め、前
記求めた周期をそれぞれ画素数で算出する第三処理過程
と、前記各処理領域ごとに、前記第一処理過程によって
作成された被処理データと、前記被処理データを前記第
三処理過程によって算出された周期に相当する画素数の
所定の整数倍だけずらせたデータとの差分データをそれ
ぞれ算出する第四処理過程と、前記各処理領域ごとに、
前記第一処理過程によって作成された被処理データと、
前記被処理データをZ画素(Zは整数)だけそれぞれの
方向にずらせたデータとの差分データを、±1〜±N
(Nは所定の値の自然数)についてそれぞれ算出する第
五処理過程と、前記各処理領域ごとに、前記第四処理過
程によって算出された周期に対する差分データの、前記
第五処理過程によって算出された±1〜±Nについての
各差分データへの相関量を、±1〜±Nについてそれぞ
れ算出する第六処理過程と、前記各処理領域ごとに、前
記第五処理過程によって算出された±1〜±Nについて
の各差分データに、前記第六処理過程によって算出され
た±1〜±Nについての各相関量をそれぞれ掛け合わせ
た各補正データを、前記第四処理過程によって算出され
た周期に対する差分データからそれぞれ引いて除去する
第七処理過程と、前記第七処理過程の結果に基づいて、
前記回路パターンの欠陥を検出する第八処理過程と、を
備えたものである。
The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. In other words, the invention according to claim 1 is a circuit pattern defect inspection method for detecting a defect in a predetermined inspection area of a circuit pattern having periodicity in at least the X direction on an XY plane, A first processing step of inputting the characteristics of the circuit pattern in the inspection area by a plurality of arranged pixels, quantitatively converting the characteristics of each pixel of the input circuit pattern, and creating data to be processed; A second processing step of dividing the data to be processed created in the first processing step into a processing area constituted by an arrangement of pixels in the X direction with respect to at least one pixel in the Y direction; A third processing step of calculating a cycle of the data to be processed for each of the divided processing areas, and calculating the calculated cycle by the number of pixels, For each processing region, the data to be processed created in the first processing step and the data to be shifted by a predetermined integer multiple of the number of pixels corresponding to the cycle calculated in the third processing step A fourth processing step of calculating the difference data, and for each of the processing areas,
Data to be processed created by the first processing step,
Difference data from data obtained by shifting the data to be processed by Z pixels (Z is an integer) in each direction is ± 1 to ± N
(N is a natural number of a predetermined value) in each of the fifth processing steps, and for each of the processing regions, the difference data with respect to the cycle calculated in the fourth processing step is calculated in the fifth processing step. A sixth processing step of calculating the correlation amount to each difference data for ± 1 to ± N, respectively, for ± 1 to ± N, and for each of the processing regions, ± 1 calculated by the fifth processing step. The respective correction data obtained by multiplying each of the difference data about ± N by the respective correlation amounts for ± 1 to ± N calculated in the sixth processing step is a difference with respect to the cycle calculated in the fourth processing step. A seventh processing step of subtracting and removing each from the data, based on the result of the seventh processing step,
An eighth processing step of detecting a defect in the circuit pattern.

【0009】また、請求項2に記載の発明は、上述の請
求項1に記載の回路パターンの欠陥検査方法において、
第五処理過程では、算出した±1〜±Nについての各差
分データをさらに、それぞれ正規直交化するものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the circuit pattern defect inspection method according to the first aspect.
In the fifth processing step, each of the calculated difference data for ± 1 to ± N is further orthonormalized.

【0010】また、請求項3に記載の発明は、上述の請
求項1に記載の回路パターンの欠陥検査方法において、
第七処理過程では、算出した各補正データの中からその
絶対値が最大である補正データを求め、前記求めた絶対
値最大の補正データのみを、周期に対する差分データか
ら引いて除去するものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the circuit pattern defect inspection method according to the first aspect.
In the seventh process, the correction data having the maximum absolute value is obtained from the calculated correction data, and only the correction data having the maximum absolute value is subtracted from the difference data with respect to the cycle and removed. .

【0011】また、請求項4に記載の発明は、XY平面
上の少なくともX方向に対して周期性を有する回路パタ
ーンの所定の検査領域の欠陥を検出する回路パターンの
欠陥検査装置において、少なくとも前記X方向に配列さ
れた複数個の画素によって前記検査領域内の回路パター
ンの各画素の特性を入力し、被処理データを作成する被
処理データ入力手段と、少なくともY方向の1画素に対
するX方向の各画素の並びによって構成される処理領域
ごとに、前記被処理データ入力手段から前記X方向の各
画素の並びに従って前記各画素ごとの被処理データが一
定時間間隔で供給されることに基づいて得られる前記処
理領域内の被処理データ(以下、標準データという)を
入力し、前記入力した標準データの周期ぶんの画素数の
所定の整数倍に相当する時間だけ、前記標準データに対
して相対的に遅らせた周期遅れデータと、前記入力した
標準データとの差分を、それぞれ同期させて行ない、周
期差分データを算出する周期差分手段と、前記周期差分
手段に対して、前記標準データの周期ぶんの画素数の所
定の整数倍に相当する時間を指示する遅れ指示手段と、
前記標準データを入力し、前記入力した標準データを+
1〜+N(Nは所定の値の自然数)画素にそれぞれ相当
する時間だけ各別に、前記入力した標準データに対して
相対的に遅らせた+1〜+N画素についての各画素遅れ
データと、前記入力した標準データとの差分を、それぞ
れ同期させて行ない、+1〜+N画素の各画素遅れデー
タについての画素遅れ差分データをそれぞれ各別に算出
するN個の画素遅れ差分手段と、前記標準データを入力
し、前記入力した標準データを+1〜+N(Nは所定の
値の自然数)画素にそれぞれ相当する時間だけ各別に、
前記入力した標準データに対して相対的に早めた+1〜
+N画素についての各画素早出データと、前記入力した
標準データとの差分を、それぞれ同期させて行ない、+
1〜+N画素の各画素早出データについての画素早出差
分データをそれぞれ各別に算出するN個の画素早出差分
手段と、前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差
分手段ごとに、前記画素遅れ差分手段で算出した前記画
素遅れ差分データ又は前記画素早出差分手段で算出した
前記画素早出差分データと、前記周期差分手段で算出し
た前記周期差分データとを、それぞれ同期させて掛け合
わせ、+1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1
〜+N画素の各画素早出差分データについての内積化乗
算データをそれぞれ各別に算出する(2×N)個の内積
化乗算手段と、前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素
早出差分手段ごとに、前記内積化乗算手段で算出した前
記内積化乗算データを、先頭の画素の内積化乗算データ
の入力開始時から最後の画素の内積化乗算データの入力
完了時まで積分して、+1〜+N画素の各画素遅れ差分
データ及び+1〜+N画素の各画素早出差分データにつ
いての内積データをそれぞれ各別に算出する(2×N)
個の内積算出手段と、前記各画素遅れ差分手段及び前記
各画素早出差分手段ごとに、前記画素遅れ差分手段で算
出した前記画素遅れ差分データ又は前記画素早出差分手
段で算出した前記画素早出差分データを二乗し、+1〜
+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1〜+N画素の
各画素早出差分データについての二乗化乗算データをそ
れぞれ各別に算出する(2×N)個の二乗化乗算手段
と、前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手
段ごとに、前記二乗化乗算手段で算出した前記二乗化乗
算データを、先頭の画素の二乗化乗算データの入力開始
時から最後の画素の二乗化乗算データの入力完了時まで
積分して、+1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び
+1〜+N画素の各画素早出差分データについての二乗
積分データをそれぞれ各別に算出する(2×N)個の二
乗積分算出手段と、前記各画素遅れ差分手段及び前記各
画素早出差分手段ごとに、前記内積算出手段で算出した
前記内積データを、前記二乗積分算出手段で算出した前
記二乗積分データで割って、+1〜+N画素の各画素遅
れ差分データ及び+1〜+N画素の各画素早出差分デー
タについての相関量をそれぞれ各別に算出する(2×
N)個の相関量算出手段と、前記各画素遅れ差分手段及
び前記各画素早出差分手段ごとに、前記画素遅れ差分手
段で算出した前記画素遅れ差分データ又は前記画素早出
差分手段で算出した前記画素早出差分データに対して、
前記相関量算出手段で算出した相関量を掛け合わせ、+
1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1〜+N画
素の各画素早出差分データについての補正データをそれ
ぞれ各別に算出する(2×N)個の補正データ算出手段
と、前記周期差分手段で算出した前記周期差分データか
ら、前記各補正データ算出手段で算出した+1〜+N画
素の各画素遅れ差分データ及び+1〜+N画素の各画素
早出差分データについての各補正データを全て、それぞ
れ同期させて引き、補正差分データを算出する補正差分
手段と、前記補正差分手段で算出した前記補正差分デー
タと、所定のしきい値とを比較し、前記しきい値より大
きい前記補正差分データを検出する欠陥検出手段と、を
備えたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a circuit pattern defect inspection apparatus for detecting a defect in a predetermined inspection area of a circuit pattern having periodicity at least in an X direction on an XY plane. A data input means for inputting the characteristics of each pixel of the circuit pattern in the inspection area by a plurality of pixels arranged in the X direction and generating data to be processed; and at least one pixel in the Y direction in the X direction. For each processing region constituted by the arrangement of pixels, the data to be processed is obtained from the data to be processed input means at predetermined time intervals in accordance with the arrangement of the pixels in the X direction. The data to be processed (hereinafter referred to as standard data) in the processing area to be processed is input to a predetermined integer multiple of the number of pixels of the input standard data. A period difference means for calculating the period difference data by synchronizing the difference between the periodical data delayed relative to the standard data and the input standard data for each time, and calculating the period difference data; Delay instructing means for instructing a time corresponding to a predetermined integer multiple of the number of pixels in the period of the standard data;
Enter the standard data and add the standard data
1 to + N (where N is a natural number of a predetermined value) each pixel delay data for +1 to + N pixels, which are relatively delayed with respect to the input standard data, for each time corresponding to pixels, and Inputting the standard data, and N pixel delay difference means for synchronizing the difference with the standard data and calculating pixel delay difference data for each of the pixel delay data of +1 to + N pixels separately; The input standard data is separately divided by a time corresponding to +1 to + N (N is a natural number of a predetermined value) pixels, respectively.
+1 which is relatively faster than the input standard data
The difference between each pixel early-appearing data for + N pixels and the input standard data is synchronized with each other, and +
N pixel advance difference means for individually calculating pixel advance difference data for each pixel advance data of 1 to + N pixels; and the pixel delay difference means for each of the pixel delay difference means and each of the pixel advance difference means. The pixel delay difference data calculated by the means or the pixel early difference data calculated by the pixel early difference means and the periodic difference data calculated by the cycle difference means are multiplied in synchronization with each other, and +1 to + N pixels Pixel difference data and +1
For each of the (2 × N) inner product multiplying means for calculating the inner product multiplication data for each of the pixel early difference data of up to + N pixels, and for each of the pixel delay difference means and each of the pixel early difference data, The inner product multiplication data calculated by the inner product multiplication means is integrated from the start of the input of the inner product multiplication data of the first pixel to the completion of the input of the inner product multiplication data of the last pixel, to obtain +1 to + N pixels. The inner product data for each pixel delay difference data and each pixel early-appearance difference data of +1 to + N pixels is calculated separately (2 × N).
Number of inner product calculation means, and for each of the pixel delay difference means and each of the pixel advance difference means, the pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference means or the pixel advance difference calculated by the pixel advance difference means Square the data, +1 to
(2 × N) squared multiplying means for individually calculating squared multiplied data for each pixel differential difference data of + N pixels and each pixel early difference data of +1 to + N pixels; And for each of the pixel early-appearance difference means, the squared multiplication data calculated by the square multiplication means from the start of the input of the squared multiplication data of the first pixel to the completion of the input of the squared multiplication data of the last pixel. (2 × N) square integration calculating means for respectively calculating the square integration data for each pixel delay difference data of +1 to + N pixels and each pixel early difference data of +1 to + N pixels; For each of the pixel delay difference means and each pixel early appearance difference means, the inner product data calculated by the inner product calculation means is divided by the square integration data calculated by the square integration calculation means. Accordingly, the correlation amounts for the respective pixel delay difference data of +1 to + N pixels and the respective pixel early difference data of +1 to + N pixels are calculated respectively (2 ×
N) correlation amount calculation means, and for each of the pixel delay difference means and each pixel early appearance difference means, the pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference means or the pixel calculated by the pixel early difference means For early-appearance difference data,
The correlation amount calculated by the correlation amount calculating means is multiplied by +
(2 × N) correction data calculation means for individually calculating correction data for each pixel delay difference data of 1 to + N pixels and each pixel early difference data of +1 to + N pixels, and calculation by the periodic difference means From the obtained periodic difference data, all the correction data for each of the pixel delay difference data of +1 to + N pixels and each of the pixel early-appearance difference data of +1 to + N pixels calculated by the correction data calculation means are synchronously drawn. A correction difference unit that calculates correction difference data; a defect detection unit that compares the correction difference data calculated by the correction difference unit with a predetermined threshold value and detects the correction difference data larger than the threshold value Means.

【0012】また、請求項5に記載の発明は、上述の請
求項4に記載の回路パターンの欠陥検査装置において、
補正差分手段では、+1〜+N画素の各画素遅れ差分デ
ータ及び+1〜+N画素の各画素早出差分データの中か
ら絶対値最大のものを算出し、前記算出した絶対値最大
の補正データのみを補正データとして使用し、補正差分
データを算出するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the above-described defect inspection apparatus for a circuit pattern,
The correction difference means calculates the maximum absolute value from among the pixel delay difference data of +1 to + N pixels and the pixel advance difference data of +1 to + N pixels, and corrects only the calculated absolute value maximum correction data. It is used as data to calculate correction difference data.

【0013】[0013]

【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
請求項1に記載の発明によれば、まず、第一処理過程
で、検査領域内の回路パターンの特性(例えば、カメラ
で回路パターンを撮影したときの明るさ等)を、少なく
ともX方向に配列された複数個の画素(Xi 、i=0〜
m、又は、(Xi ,Yj )、i=0〜m、j=0〜n)
によって入力し、入力された回路パターンの各画素の特
性をそれぞれに定量的に変換(例えば、カメラで撮影し
たときの明るさを256階調のデジタルデータに変換す
る等)し、被処理データを作成する。このようにして得
られたデータを関数g(x,y)で表すと、g(x,
y)=f(x,y)+q(x,y)となる。ここに、f
(x,y)は、周期性のあるデータを表す関数であり
q(x,y)は、周期性のないデータ(欠陥データ)を
表す関数である。また、x=0〜m、y=0〜nであ
る。
The operation of the present invention is as follows. That is,
According to the first aspect of the invention, first, in the first processing step, the characteristics of the circuit pattern in the inspection area (for example, the brightness when the circuit pattern is photographed by the camera) are arranged at least in the X direction. Pixels (X i , i = 0 to 0)
m or (X i , Y j ), i = 0 to m, j = 0 to n)
The characteristics of each pixel of the input circuit pattern are quantitatively converted (for example, the brightness when photographed by a camera is converted into digital data of 256 gradations), and the data to be processed is create. When the data thus obtained is represented by a function g (x, y), g (x,
y) = f (x, y) + q (x, y). Where f
(X, y) is the data that is periodic a table to function,
q (x, y) is a function representing non-periodic data (defect data). Also, x = 0 to m and y = 0 to n.

【0014】次に、第二処理過程では、第一処理過程に
よって変換された被処理データを、Y方向の1画素に対
するX方向の各画素の並びによって構成される処理領
域、すなわち、上述の第一処理過程において、画素を
(Xi ,Yj )の二次元配列で構成したときには、(X
0 ,Yj )〜(Xm ,Yj )で構成される領域に分割す
る。また、単に一次元配列(Xi )で画素を構成した場
合には、その画素の並びをそのまま処理領域として使用
できる。このときyが一定になるので、各処理領域のデ
ータは、関数g(x)=f(x)+q(x)と表すこと
ができる。
Next, in the second processing step, the data to be processed converted in the first processing step is converted into a processing area constituted by an arrangement of each pixel in the X direction with respect to one pixel in the Y direction, that is, the processing area described above. In one processing step, when pixels are configured in a two-dimensional array of (X i , Y j ), (X
0 , Y j ) to (X m , Y j ). Further, when the pixels are simply constituted by the one-dimensional array (X i ), the arrangement of the pixels can be used as it is as the processing area. At this time, since y becomes constant, the data of each processing area can be expressed as a function g (x) = f (x) + q (x).

【0015】以下、第三処理過程から第七処理過程まで
は、各処理領域ごとに処理する。第三処理過程では、あ
る処理領域の被処理データの周期を求め、求めた周期を
画素数で算出する。周期は、例えば、被処理データをX
方向に1画素ずつずらしながら、X方向の全ての画素に
ついて相関を求め、相関が高くなったときにX方向へず
らせた画素数を、周期に相当する画素数と推定すること
等により求めることができる。また、設計時に分かって
いる回路パターンの周期に基づいて、その周期を画素数
で算出するようにしてもよい。
Hereinafter, processing from the third processing step to the seventh processing step is performed for each processing area. In the third processing step, the cycle of the data to be processed in a certain processing area is obtained, and the obtained cycle is calculated by the number of pixels. The cycle is, for example, X
The correlation may be obtained for all pixels in the X direction while shifting one pixel in the direction, and the number of pixels shifted in the X direction when the correlation becomes high may be estimated by estimating the number of pixels corresponding to the period. it can. Further, the period may be calculated by the number of pixels based on the period of the circuit pattern known at the time of design.

【0016】第四処理過程では、ある処理領域の被処理
データと、その被処理データを第三処理過程によって算
出されたその処理領域の周期に相当する画素数の整数倍
だけX方向にずらせたデータとの差分を算出し、周期に
対する差分データを求める。例えば、その処理領域の周
期がT画素であるとすれば、1周期ぶん「−」方向にず
らせたデータはg’(x)=f(x+T)+q(x+
T)と表せるので、これらのデータの差分h(x)は、
h(x)=(f(x)+q(x))−(f(x+T)+
q(x+T))となる。このとき、各画素のデータの
内、周期性のあるデータは互いに打ち消され、周期性が
ない欠陥データだけの成分が残ることになる。すなわ
ち、f(x)=f(x+T)となるので、h(x)=q
(x)−q(x+T)となる。
In the fourth processing step, the data to be processed in a certain processing area and the data to be processed are shifted in the X direction by an integer multiple of the number of pixels corresponding to the cycle of the processing area calculated in the third processing step. The difference with the data is calculated, and the difference data with respect to the cycle is obtained. For example, if the cycle of the processing area is T pixels, the data shifted in the “−” direction by one cycle is g ′ (x) = f (x + T) + q (x +
T), the difference h (x) between these data is
h (x) = (f (x) + q (x))-(f (x + T) +
q (x + T)). At this time, among the data of each pixel, the periodic data are canceled out from each other, and the component of only the non-periodic defect data remains. That is, since f (x) = f (x + T), h (x) = q
(X) -q (x + T).

【0017】しかし、上記第三処理過程で求めた周期は
あくまでも計算上のものであり、一方、データ処理の対
象である被処理データには、入力時の誤差を含んでお
り、計算上の周期と被処理データにおける周期とは必ず
しも一致するわけではない。この計算上の周期と被処理
データにおける周期誤差を「t」として、上述の第四処
理過程の処理を行なった場合、h(x)=(f(x)+
q(x))−(f(x+T+t)+q(x+T+t))
=(f(x)−f(x+T+t))+(q(x)−q
(x+T+t))となる。従って、上記の差分処理を行
なった場合、欠陥データ成分以外にも互いにずれた周期
成分の差分による残留成分も残ってしまい、欠陥データ
の特定ができず、欠陥の検出ができない。そこで、以下
の第五処理過程から第七処理過程による補正処理を行な
い、残留成分(f(x)−f(x+T+t))を除去
し、欠陥成分だけを残すようにする必要がある。
However, the cycle obtained in the third process is only a calculation. On the other hand, the data to be processed, which is an object of data processing, includes an error at the time of input. And the period in the data to be processed do not always match. When the above-described processing in the fourth processing step is performed with the calculated cycle and the cyclic error in the data to be processed being “t”, h (x) = (f (x) +
q (x))-(f (x + T + t) + q (x + T + t))
= (F (x) -f (x + T + t)) + (q (x) -q
(X + T + t)). Therefore, when the above-described difference processing is performed, a residual component due to the difference between the periodic components shifted from each other remains in addition to the defect data component, so that the defect data cannot be specified and the defect cannot be detected. Therefore, it is necessary to perform correction processing in the following fifth to seventh processing steps to remove the residual component (f (x) -f (x + T + t)) and leave only the defect component.

【0018】第五処理過程では、所定の処理領域の被処
理データと、被処理データをZ画素(Zは整数)だけそ
れぞれの方向(各値の符号「+」、「−」に応じた方
向)にずらせたデータとの差分データを、±1〜±N
(Nは所定の値の自然数)についてそれぞれ算出する。
この±1〜±Nについてそれぞれ算出した差分データを
d1+ (x)、gd1- (x)、…、gdN+ (x)、g
dN- (x)とする。また、第六処理過程では、第四処理
過程によって算出された周期に対する差分データの、第
五処理過程によって算出された±1〜±Nについての各
差分データへの相関量を、±1〜±Nについてそれぞれ
算出する。これは、残留成分(f(x)−f(x+T+
t))が±1〜±Nについての各差分データを用いて大
凡近似できるからである。すなわち、(f(x)−f
(x+T+t))=αn1×gd1+ (x)+βn1×gd1-
(x)+…+αnN×gdN+ (x)+βnN×gdN- (x)
と略近似的に展開でき、h(x)=(q(x)−q(x
+T+t))+αn1×gd1+ (x)+βn1×g
d1- (x)+…+αnN×gdN+ (x)+βnN×g
dN- (x)と略近似的に表すことができる。ここで、α
n1、βn1、…、αnN、βnNは、各差分データg
d1+ (x)、gd1- (x)、…、gdN+ (x)、gdN-
(x)の各相関量である。この相関量は、各差分データ
の残留成分への相関の割合を示すものである。従って、
例えば、誤差「t」が+1画素であれば、近似的にαn1
×gd1+ (x)が残留成分に等しくなり、他の相関量β
n1、…、αnN、βnNは「0」となる。また、上述の第三
処理過程で求めた周期が、被処理データにおける周期と
一致していた場合には、残留成分がないので、全ての相
関量は「0」となる。すなわち、第三処理過程で求めた
周期が被処理データにおける周期と一致しているか否か
に係わらず、この補正処理を行なうことにより、欠陥成
分のみを抽出することができるので、第三処理過程で求
めた周期と被処理データにおける周期とが一致している
か否かの判定が不要となる。
In the fifth processing step, the data to be processed in a predetermined processing area and the data to be processed are converted by Z pixels (Z is an integer) in the respective directions (directions corresponding to the sign “+” or “−” of each value). ) Is ± 1 to ± N
(N is a natural number of a predetermined value).
The difference data calculated for each of ± 1 to ± N is represented by g d1 + (x), g d1- (x),..., G dN + (x), g
dN- (x). In the sixth processing step, the correlation amount of the difference data with respect to the cycle calculated in the fourth processing step to each difference data for ± 1 to ± N calculated in the fifth processing step is expressed as ± 1 ±±. N is calculated for each. This is because the residual component (f (x) -f (x + T +
This is because t)) can be roughly approximated using the difference data for ± 1 to ± N. That is, (f (x) -f
(X + T + t)) = α n1 × g d1 + (x) + β n1 × g d1-
(X) + ... + α nN × g dN + (x) + β nN × g dN- (x)
H (x) = (q (x) -q (x
+ T + t)) + α n1 × g d1 + (x) + β n1 × g
d1- (x) + ... + α nN × g dN + (x) + β nN × g
It can be approximately approximated as dN- (x). Where α
n1 , βn1 ,..., αnN , βnN are the difference data g
d1 + (x), g d1- (x), ..., g dN + (x), g dN-
(X) are correlation amounts. This correlation amount indicates the ratio of the correlation of each difference data to the residual component. Therefore,
For example, if the error “t” is +1 pixel, approximately α n1
× g d1 + (x) becomes equal to the residual component, and the other correlation amount β
n1, ..., α nN, β nN is "0". Further, when the cycle obtained in the third processing step matches the cycle in the data to be processed, there is no residual component, so that all the correlation amounts are “0”. That is, irrespective of whether or not the cycle obtained in the third processing step matches the cycle in the data to be processed, by performing this correction processing, only the defect component can be extracted. It is not necessary to determine whether or not the cycle obtained in step 1 and the cycle in the data to be processed match.

【0019】そして、第七処理過程では、第五処理過程
によって算出された±1〜±Nについての各差分データ
に、第六処理過程によって算出された±1〜±Nについ
ての各相関量をそれぞれ掛け合わせた各補正データ(α
n1×gd1+ (x)、βn1×gd1- (x)、…、αnN×g
dN+ (x)、βnN×gdN- (x))を、第四処理過程に
よって算出された周期に対する差分データh(x)から
それぞれ引いて除去し、(q(x)−q(x+T+
t))を求める。
In the seventh processing step, the respective correlation data for ± 1 to ± N calculated in the sixth processing step are added to the respective difference data for ± 1 to ± N calculated in the fifth processing step. Each correction data (α
n1 × g d1 + (x), β n1 × g d1- (x), ..., α nN × g
dN + (x) and β nN × g dN− (x)) are subtracted from the difference data h (x) for the cycle calculated in the fourth processing step, and removed, and (q (x) −q (x + T +
t)).

【0020】最後に、第八処理過程は、上述のようにし
て求めた各処理領域ごとの(q(x)−q(x+T+
t))を検出する。例えば、第四処理過程においてずら
せた方向により(q(x)−q(x+T+t))の内、
元の欠陥成分であるq(x)が特定でき、また、xの値
により欠陥が表れた画素の場所を特定することもでき
る。さらに、そのような検出を全処理領域について行な
い、回路パターンの全検査領域の欠陥を検出する。
Finally, in the eighth processing step, (q (x) -q (x + T +
t)) is detected. For example, among (q (x) -q (x + T + t)) depending on the direction shifted in the fourth processing step,
The original defect component q (x) can be specified, and the value of x can be used to specify the location of the pixel where the defect has appeared. Further, such detection is performed for all processing regions, and defects in all inspection regions of the circuit pattern are detected.

【0021】また、請求項2に記載の発明によれば、上
述の請求項1の発明の第五処理過程において、算出した
各差分データgd1+ (x)、gd1- (x)、…、gdN+
(x)、gdN- (x)をそれぞれ正規直交化する。それ
らの各差分データをそれぞれ正規直交化した結果をe
d1+ (x)、ed1- (x)、…、edN+ (x)、edN-
(x)とすると、ed1+ (x)、ed1- (x)、…、e
dN+ (x)、edN- (x)は、例えば、シュミットの直
交化法を使って、gd1+ (x)、gd1- (x)、…、g
dN+ (x)、gdN- (x)から順番に算出することがで
きる。また、第六処理過程以降もこの正規直交化した差
分データを使って処理していく。すなわち、残留成分
(f(x)−f(x+T+t))を、(f(x)−f
(x+T+t))=α1 ×ed1+ (x)+β1 ×ed1-
(x)+…+αN ×edN+ (x)+βN×edN- (x)
と近似的に展開し、h(x)=(q(x)−q(x+T
+t))+α1 ×ed1+ (x)+β1 ×ed1- (x)+
…+αN ×edN+ (x)+βN ×edN- (x)と近似的
に表すものである。ここで、α1 、β1 、…、αN 、β
Nは、正規直交化された各差分データed1+ (x)、e
d1- (x)、…、edN+ (x)、edN- (x)の各相関
量である。このように、±1〜±Nについての差分デー
タをそれぞれ正規直交化して、補正処理を行なうことに
より、より精度よく残留成分を除去することができ、欠
陥の検出精度を向上することができる。
According to the second aspect of the present invention, in the fifth processing step of the first aspect of the present invention, the calculated difference data g d1 + (x), g d1- (x) ,. g dN +
(X) and g dN− (x) are each made orthonormal. The result of orthonormalizing each of these difference data is e
d1 + (x), e d1- (x), ..., e dN + (x), e dN-
(X), e d1 + (x), e d1- (x) ,.
dN + (x) and e dN− (x) are calculated using, for example, Schmidt's orthogonalization method, g d1 + (x), g d1- (x) ,.
It can be calculated in order from dN + (x) and gdN- (x). In addition, processing is performed using the orthonormalized difference data in the sixth and subsequent processing steps as well. That is, the residual component (f (x) -f (x + T + t)) is converted to (f (x) -f
(X + T + t)) = α 1 × e d1 + (x) + β 1 × e d1−
(X) + ... + α N × edN + (x) + β N × edN- (x)
H (x) = (q (x) -q (x + T
+ T)) + α 1 × e d1 + (x) + β 1 × e d1- (x) +
... + α N × is e dN + (x) + β N × e dN- (x) as approximately expressed. Where α 1 , β 1 , ..., α N , β
N is the orthonormalized difference data e d1 + (x), e
d1- (x), ..., edN + (x), edN- (x). As described above, by performing orthonormalization on the difference data for ± 1 to ± N and performing the correction process, the residual component can be more accurately removed, and the defect detection accuracy can be improved.

【0022】また、請求項3に記載の発明によれば、上
述の請求項1の発明の第七処理過程において、算出した
各補正データ(αn1×gd1+ (x)、βn1×g
d1- (x)、…、αnN×gdN+ (x)、βnN×g
dN- (x))の中から絶対値が最大であるデータを求
め、その絶対値最大のデータのみを補正データとして使
用して、第七処理過程を実行する。これは、残留成分の
ほとんどがいずれかの差分データ(gd1+ (x)、g
d1- (x)、…、gdN+ (x)、gdN- (x))に多く
の相関を示す場合が多いからである。従って、相関の割
合が最も高いデータのみを周期に対する差分データから
引いて除去すれば、残留成分のほとんどが除去されるこ
とになり、また、実用上は、かかる方法によっても充分
な精度が得られる。
According to the third aspect of the present invention, in the seventh processing step of the first aspect of the present invention, the calculated correction data (α n1 × g d1 + (x), β n1 × g
d1- (x),..., α nN × g dN + (x), β nN × g
The data having the maximum absolute value is obtained from dN- (x)), and only the data having the maximum absolute value is used as the correction data to execute the seventh processing. This is because most of the residual components are either differential data (g d1 + (x), g
This is because d1- (x),..., gdN + (x), gdN- (x)) often show many correlations. Accordingly, if only the data having the highest correlation ratio is subtracted from the difference data with respect to the cycle and removed, most of the residual components are removed, and in practice, sufficient accuracy can be obtained by such a method. .

【0023】また、請求項4に記載の発明は、上述の請
求項1に記載の発明による回路パターンの欠陥検査方法
を近似的に実現する装置であり、その作用は、まず、被
処理データ入力手段で、検査領域内の回路パターンの特
性、例えば電気信号を、少なくとも前記X方向に配列さ
れた複数個の画素によって入力し、被処理データを作成
する。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for approximately realizing the circuit pattern defect inspection method according to the first aspect of the present invention. By means, a characteristic of a circuit pattern in the inspection area, for example, an electric signal is input by at least a plurality of pixels arranged in the X direction, and data to be processed is created.

【0024】周期差分手段と各画素遅れ差分手段、及び
各画素早出差分手段は、処理領域ごとに、被処理データ
入力手段から、X方向の画素の並びに従って、先頭の画
素から最終の画素まで順次、一定時間間隔で供給される
ことに基づいて得られる標準データをそれぞれ入力す
る。この標準データを関数で表すと、g(t)となる。
ここに、tは時間を表し、t=0〜te (0は、最初の
画素の被処理データの入力開始時、te は、最後の画素
の被処理データの入力完了時)である。但し、g(t)
=f(t)+q(t)である。f(t)、q(t)はそ
れぞれ上述したように、周期性があるデータと周期性の
ないデータ(欠陥データ)を表す関数である。なお、後
述する周期遅れデータや画素遅れデータあるいは画素早
出データは、この標準データに対して相対的に、周期差
分手段、各画素遅れ差分手段、各画素早出差分手段がそ
れぞれ入力した標準データを、それぞれ遅らせたり早め
たりすることにより得る。
The period difference means, each pixel delay difference means, and each pixel early difference means are sequentially provided from the data input means to be processed, from the first pixel to the last pixel, in accordance with the arrangement of pixels in the X direction. , Standard data obtained based on being supplied at regular time intervals. If this standard data is represented by a function, it is g (t).
Here, t represents time, t = 0 to t e (0 is at input start of the first data to be processed pixel, t e is input upon completion of the processed data in the last pixel) is. Where g (t)
= F (t) + q (t). As described above, f (t) and q (t) are functions representing periodic data and non-periodic data (defect data), respectively. In addition, the cycle delay data, the pixel delay data, or the pixel early appearance data described later are relative to this standard data, and the cycle difference means, the pixel delay difference means, and the standard data respectively input by the pixel early appearance difference means, Gain by delaying or advancing respectively.

【0025】標準データを入力した周期差分手段は、遅
れ指示手段から指示されている入力した標準データの周
期ぶんの画素数の所定の整数倍に相当する時間(tT
する)だけ遅らせた周期遅れデータ(g(t−tT ))
と、入力した標準データとの差分を、それぞれ同期させ
て行ない(標準データから周期遅れデータを引く)、周
期差分データを出力する。ここで、同期させて差分を行
なうとは、周期遅れデータの遅れ分を考慮に入れ、それ
ぞれずれた時間のデータ同士の差分を行なうことであ
る。これを関数で表すと、h(t)=g(t)−g(t
−tT )となり、例えば、標準データg(tT +t1
に対しては、周期遅れデータg(tT +t1 −tT )=
g(t1 )との差分はh(tT +t1 )=g(tT +t
1 )−g(t1 )を求めることになる。なお、h(t)
は周期差分データを表す。
The period difference means to which the standard data is input is a period delayed by a time (t T ) corresponding to a predetermined integer multiple of the number of pixels of the period of the input standard data designated by the delay instruction means. delay data (g (t-t T) )
And the difference between the input standard data and the input standard data are synchronized (subtract the period delay data from the standard data) and output the period difference data. Here, performing the difference in synchronization means performing the difference between the data at different times in consideration of the delay of the period delay data. When this is represented by a function, h (t) = g (t) -g (t
−t T ), for example, standard data g (t T + t 1 )
, The period delay data g (t T + t 1 -t T ) =
The difference from g (t 1 ) is h (t T + t 1 ) = g (t T + t
1) it will be determined -g (t 1). Note that h (t)
Represents periodic difference data.

【0026】遅れ指示手段では、例えば、標準データを
予め入力しておき、その標準データに基づいて、各画素
ごとの相関を算出する等により、tT を求めることがで
きる。また、設計時に分かっている回路パターンの周期
に基づいて、予め求めておいたtT を周期差分手段に与
えてもよい。
In the delay instruction means, for example, standard data is input in advance, and t T can be obtained by calculating a correlation for each pixel based on the standard data. In addition, based on the cycle of the circuit pattern known at the time of design, t T obtained in advance may be given to the cycle difference means.

【0027】上述の周期差分データを算出した処理によ
り、計算上は周期性のあるデータは互いに打ち消され、
欠陥データだけが抽出されることになるが、実際には被
処理データ入力時の誤差等が含まれているので、以下の
ように補正処理用の各処理手段で算出する補正データを
周期差分データから引いてやる必要がある。
By the above-described processing for calculating the periodic difference data, computationally periodic data are mutually canceled,
Only the defect data is extracted, but actually includes an error at the time of input of the data to be processed. It is necessary to pull from.

【0028】画素遅れ差分手段では、標準データを入力
し、入力した標準データを+1〜+N(Nは所定の値の
自然数)画素にそれぞれ相当する時間(t1 〜tN とす
る)だけ各別に、入力した標準データに対して相対的に
遅らせた+1〜+N画素についての各画素遅れデータ
(g(t−t1 )、…、g(t−tN ))と、入力した
標準データとの差分を、それぞれ同期させて行ない(画
素遅れデータから標準データを引く)、+1〜+N画素
の各画素遅れデータについての画素遅れ差分データ(g
d1- (t)、…、gdN- (t))を各別に出力する。こ
の画素遅れ差分手段は、+1画素遅れデータ差分用、
…、+N画素遅れデータ差分用が各別にあり、N個で構
成されている。なお、例えば、t1 は、最初の画素のデ
ータが入力完了するまでの時間であり、tN は、第N番
目の画素のデータが入力完了するまでの時間である。ま
た、t2 −t1 =t3 −t2 =…=tN −tN-1 であ
る。これを関数で表すと、gd1- (t)=g(t)−g
(t−t1 )、…、gdN- (t)=g(t)−g(t−
N )となり、例えば、標準データg(t1 +t1 )の
データに対して、+1画素遅れの画素遅れデータg(t
1 +t1 −t1 )=g(t1 )との差分はgd1- (t1
+t1 )=g(t1 +t1 )−g(t1 )を求めること
になる。
In the pixel delay difference means, standard data is input, and the input standard data is separately set for each time (t 1 to t N ) corresponding to +1 to + N (N is a natural number of a predetermined value) pixels. , G (t−t 1 ),..., G (t−t N ) of each of the +1 to + N pixels relatively delayed with respect to the input standard data and the input standard data. The differences are respectively synchronized (subtract the standard data from the pixel delay data), and the pixel delay difference data (g for each of the pixel delay data of +1 to + N pixels)
d1- (t),..., gdN- (t)) are output separately. This pixel delay difference means is for +1 pixel delay data difference,
.., + N pixel delay data difference is provided separately, and is composed of N pieces. For example, t 1 is a time until the input of the data of the first pixel is completed, and t N is a time until the input of the data of the N-th pixel is completed. Also, t 2 −t 1 = t 3 −t 2 =... = T N −t N−1 . When this is expressed by a function, g d1− (t) = g (t) −g
(T−t 1 ),..., G dN− (t) = g (t) −g (t−
t N) becomes, for example, standard data g (t 1 + against t 1) of data, + 1 pixel delay of pixel delay data g (t
1 + t 1 −t 1 ) = g (t 1 ) is equal to g d1− (t 1
+ T 1 ) = g (t 1 + t 1 ) −g (t 1 ).

【0029】また、画素早出差分手段では、標準データ
を入力し、入力した標準データを+1〜+N(Nは所定
の値の自然数)画素にそれぞれ相当する時間(t1 〜t
N とする)だけ各別に、入力した標準データに対して相
対的に早めた+1〜+N画素についての各画素早出デー
タ(g(t+t1 )、…、g(t+tN ))と、入力し
た標準データとの差分を、それぞれ同期させて行ない
(画素早出データから標準データを引く)、+1〜+N
画素の各画素早出データについての画素早出差分データ
(gd1+ (t)、…、gdN+ (t))を各別に出力す
る。この画素早出差分手段は、+1画素早出データ差分
用、…、+N画素早出データ差分用が各別にあり、N個
で構成されている。これを関数で表すと、gd1+ (t)
=g(t)−g(t+t1 )、…、gdN+ (t)=g
(t)−g(t+tN )となり、例えば、標準データg
(te −t1 )のデータに対して、+1画素早出の画素
早出データg(te −t1 +t1 )=g(te )との差
分はgd1- (te −t1 )=g(te −t1 )−g(t
e )を求めることになる。
In the pixel early appearance difference means, standard data is input, and the input standard data is stored in a time (t 1 to t) corresponding to +1 to + N (N is a natural number of a predetermined value) pixels.
N ), each pixel advance data (g (t + t 1 ),..., G (t + t N )) for +1 to + N pixels relatively advanced with respect to the input standard data, and the input standard data. The difference from the data is synchronized with each other (standard data is subtracted from the pixel early-appearing data), and +1 to + N
Pixel advance difference data (g d1 + (t),..., G dN + (t)) for each pixel advance data is output separately. This pixel advance difference means is provided separately for +1 pixel advance data difference,..., + N pixel advance data difference, and is constituted by N pieces. If this is expressed by a function, g d1 + (t)
= G (t) -g (t + t 1), ..., g dN + (t) = g
(T) −g (t + t N ), for example, standard data g
(T e -t 1) for the data of + 1 pixels of the pixel early shift early shift data g (t e -t 1 + t 1) = g difference between (t e) is g d1- (t e -t 1) = g (t e -t 1) -g (t
e ).

【0030】内積化乗算手段、内積算出手段、二乗化乗
算手段、二乗積分算出手段、相関量算出手段、及び補正
データ算出手段は、+1〜+N画素の各画素遅れ差分デ
ータ及び+1〜+N画素の各画素早出差分データ用がそ
れぞれ格別にあり、各々(2×N)個で構成されてい
る。各画素遅れ差分データ又は各画素早出差分データ用
の各手段はそれぞれ、同様の処理をして各々の補正デー
タを算出する。従って、+1画素遅れの画素遅れ差分デ
ータ用の内積化乗算手段、内積算出手段、二乗化乗算手
段、二乗積分算出手段、相関量算出手段、及び補正デー
タ算出手段の作用を例に採り、それらの作用を以下に説
明する。
The inner product multiplying means, inner product calculating means, squaring multiplying means, square integral calculating means, correlation amount calculating means, and correction data calculating means comprise pixel delay difference data of +1 to + N pixels and +1 to + N pixels. , Respectively, for the pixel early-appearance difference data, each of which is composed of (2 × N) pixels. Each means for each pixel delay difference data or each pixel early appearance difference data performs similar processing to calculate each correction data. Therefore, the operations of the inner product multiplying means, inner product calculating means, squared multiplying means, square integration calculating means, correlation amount calculating means, and correction data calculating means for pixel delay difference data of +1 pixel delay are taken as an example. The operation of will be described below.

【0031】内積化乗算手段では、画素遅れ差分手段で
算出した画素遅れ差分データ(画素早出差分手段で算出
した画素早出差分データも同じ)と、周期差分手段で算
出した周期差分データとを、それぞれ同期させて掛け合
わせ、内積化乗算データを算出する。これを関数で表す
と、nd1- (t)=h(t)×gd1- (t)(但し、t
=0〜te )となる。ここで、nd1- (t)は+1画素
遅れの内積化データを示す。
In the inner product multiplication means, the pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference means (also the pixel early difference data calculated by the pixel early difference means) and the cycle difference data calculated by the cycle difference means are respectively The product is multiplied in synchronization to calculate inner product multiplication data. When this is expressed by a function, nd1- (t) = h (t) * gd1- (t) (where t
= The 0~t e). Here, n d1- (t) indicates inner product data delayed by +1 pixel.

【0032】なお、上述の周期差分手段から出力される
周期差分データと、各画素遅れ差分手段から出力される
各画素遅れ差分データ及び各画素早出差分手段から出力
される各画素早出差分データとの同期を合わせるには、
例えば、周期差分手段、各画素遅れ差分手段、各画素早
出差分手段において、標準データをそれぞれ同じタイミ
ングで入力すればよい。
It should be noted that the period difference data output from the above-described period difference unit is compared with the pixel delay difference data output from each pixel delay difference unit and each pixel early difference data output from each pixel early difference unit. To synchronize,
For example, standard data may be input at the same timing in the period difference means, each pixel delay difference means, and each pixel early appearance difference means.

【0033】内積算出手段では、内積化乗算手段で算出
した内積化乗算データを、先頭の画素の内積化乗算デー
タの入力開始時(t=0)から最後の画素の内積化乗算
データの入力完了時(t=te )まで積分して内積デー
タを求める。これを関数で表すと、Nd1- =∫(nd1-
(t))dt〔t=0〜te 〕となる。ここで、Nd1-
+1画素遅れの内積データを示し、「∫dt」は積分、
〔t=0〜te 〕は積分範囲を示す。
The inner product calculating means converts the inner product multiplied data calculated by the inner product multiplying means from the start of input of the inner pixel multiplied data of the first pixel (t = 0) to the input of the inner product multiplied data of the last pixel. obtaining the inner product data by integrating until complete (t = t e). When this is represented by a function, N d1 − = ∫ (n d1−
A (t)) dt [t = 0 to t e]. Here, N d1- indicates inner product data delayed by +1 pixel, “∫dt” indicates integration,
[T = 0 to t e ] indicates an integration range.

【0034】二乗化乗算手段では、画素遅れ差分手段で
算出した画素遅れ差分データ(画素早出差分手段で算出
した画素早出差分データも同じ)を二乗して二乗化乗算
データを算出する。これを関数で表すと、jd1- (t)
=gd1- (t)×gd1- (t)(但し、t=0〜te
となる。ここで、jd1- (t)は+1画素遅れの二乗化
乗算データを示す。
The squaring multiplication means squares the pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference means (the same applies to the pixel early difference data calculated by the pixel early difference means) to calculate squared multiplication data. Expressing this as a function, j d1- (t)
= G d1- (t) × g d1- (t) (where t = 0 to t e )
Becomes Here, j d1- (t) indicates the squared multiplication data delayed by +1 pixel.

【0035】二乗積分算出手段では、二乗化乗算手段で
算出した二乗化乗算データを先頭の画素の二乗化乗算デ
ータの入力開始時(t=0)から最後の画素の二乗化乗
算データの入力完了時(t=te )まで積分して二乗積
分データを算出する。これを関数で表すと、Jd1- =∫
(jd1- (t))dt〔t=0〜te 〕となる。ここで、
d1- は+1画素遅れの二乗積分データを示す。
In the square integration calculating means, the input of the squared multiplication data of the last pixel is completed after the input of the squared multiplication data of the first pixel is started (t = 0). by integrating up to the time (t = t e) to calculate the square integral data. Expressing this as a function, J d1- = ∫
(J d1- (t)) dt [t = 0 to t e ]. here,
J d1- indicates square integration data delayed by +1 pixel.

【0036】相関量算出手段では、内積算出手段で算出
した内積データを、二乗積分算出手段で算出した二乗積
分データで割って、相関量を算出する。これを関数で表
すと、Vd1- =Nd1- ÷Jd1- となる。ここで、Vd1-
は+1画素遅れの相関量を示す。
The correlation amount calculating means calculates the correlation amount by dividing the inner product data calculated by the inner product calculating means by the square integral data calculated by the square integration calculating means. When this is represented by a function, Vd1- = Nd1- ÷ Jd1- . Where V d1−
Indicates a correlation amount delayed by +1 pixel.

【0037】補正データ算出手段では、画素遅れ差分手
段で算出した画素遅れ差分データ(画素早出差分手段で
算出した画素早出差分データも同じ)に対して、相関量
算出手段で算出した相関量を掛け合わせて補正データを
算出する。これを関数で表すと、kd1- (t)=Vd1-
×gd1- (t)(但し、t=0〜te )となる。ここ
で、kd1- (t)は+1画素遅れの補正データを示す。
The correction data calculation means multiplies the pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference means (also the pixel early difference data calculated by the pixel early difference means) by the correlation amount calculated by the correlation amount calculation means. In addition, the correction data is calculated. When this is represented by a function, k d1- (t) = V d1-
× g d1- (t) (where t = 0 to t e ). Here, k d1- (t) indicates correction data delayed by +1 pixel.

【0038】上述のようにして算出した補正データは、
請求項1の発明の第七処理過程における補正データと近
似的に等しくなる。補正差分手段では、周期差分手段で
算出した周期差分データh(t)から、これらの補正デ
ータ(kd1- (t)、…、kdN- (t)、及びk
d1+ (t)、…、kdN+ (t); d1- (t)は+1画
素遅れの補正データ、dN- (t)は+N画素遅れの補
正データ、kd1+ (t)は+1画素早出の補正データ、
dN+ (t)は+N画素早出の補正データをそれぞれ示
す)を、同期させて引き、補正差分データ(欠陥データ
だけが抽出されたデータ)を算出する。これを関数で表
すと、a(t)=h(t)−(kd1- (t)+…+k
dN- (t)+kd1+ (t)+…+kdN+ (t))(但
し、t=0〜te )となる。ここで、a(t)は補正差
分データを示す。
The correction data calculated as described above is
It becomes approximately equal to the correction data in the seventh processing step of the first aspect of the present invention. In the correction difference means, the correction data (k d1- (t),..., K dN- (t), and k d) are calculated from the cycle difference data h (t) calculated by the cycle difference means.
d1 + (t), ..., k dN + (t); k d1- (t) is +1 stroke
Element delay of the correction data, k dN- (t) is + N pixels delay of the correction data, k d1 + (t) +1 pixels early shift correction data,
k dN + (t) indicates correction data of + N pixels earlier), and calculates the difference data (data from which only the defect data is extracted) in synchronization. When this is represented by a function, a (t) = h (t)-(k d1- (t) +... + K
dN− (t) + k d1 + (t) +... + k dN + (t)) (where t = 0 to t e ). Here, a (t) indicates the correction difference data.

【0039】なお、各補正データを算出するために用い
た標準データと同じタイミングで入力した標準データに
基づいて算出された周期差分データとは、各々異なった
計算を経て、補正差分手段に入力されるので、時間的に
同期しないことがある。従って、例えば、被処理データ
入力手段は同じ処理領域内の被処理データを2度供給
し、最初に供給された被処理データに基づいて得られた
標準データで各補正データを算出し、算出したデータは
保持しておき、一方、次に供給された被処理データに基
づいて得られた標準データにより算出された周期差分デ
ータに、保持しておいた各補正データを同期させて補正
差分データを算出するようにすればよい。
The periodic difference data calculated based on the standard data input at the same timing as the standard data used to calculate each correction data is input to the correction difference means through different calculations. Therefore, they may not be synchronized in time. Therefore, for example, the processed data input means supplies the processed data in the same processing area twice, calculates each correction data with the standard data obtained based on the initially supplied processed data, and calculates the corrected data. The data is held, and the corrected difference data is synchronized by synchronizing each held correction data with the periodic difference data calculated based on the standard data obtained based on the data to be processed next supplied. What is necessary is just to calculate it.

【0040】最後に、欠陥検出手段では、補正差分手段
で算出した補正差分データと、所定のしきい値とを比較
し、そのしきい値より大きい補正差分データを検出す
る。すなわち、周期性のあるデータは、周期差分データ
から上述の補正データを引いたことにより、略除去され
ており、残っている成分が欠陥であると判断することが
できる。これを関数で表すと、「a(t)−S」をt=
0〜te についてそれぞれ行ない、「a(t)−S」が
「0」以上である部分に欠陥があると判断する。なお、
Sはしきい値を示し、装置により適切な値を設定する。
例えば、装置による被処理データ入力時の誤差の許容範
囲などに応じて補正処理で除去できない誤差分を、欠陥
と誤認しないような値を設定する。また、このような検
出を全処理領域について、例えば、処理領域ごとに基準
データを順次各処理手段に供給して検査するか、処理領
域ごとの検査装置を各別に設ける等により、回路パター
ンの全検査領域の欠陥を検出する。
Finally, the defect detection means compares the correction difference data calculated by the correction difference means with a predetermined threshold value, and detects correction difference data larger than the threshold value. In other words, the data having periodicity has been substantially removed by subtracting the above-described correction data from the periodic difference data, and it can be determined that the remaining component is a defect. Expressing this as a function, "a (t) -S" is expressed as t =
Performed respectively for 0 to t e, it is determined that "a (t) -S 'is defective portions is not less than" 0 ". In addition,
S indicates a threshold value, and an appropriate value is set by the device.
For example, a value is set so that an error that cannot be removed by the correction processing is erroneously recognized as a defect according to an allowable range of an error when inputting the processed data by the apparatus. In addition, such detection is performed for all processing regions by, for example, sequentially supplying reference data to each processing unit for each processing region to perform inspection, or by separately providing an inspection device for each processing region, for example, to detect the entire circuit pattern. Detect defects in the inspection area.

【0041】また、請求項5に記載の発明によれば、上
述の請求項3に記載の発明による回路パターンの欠陥検
査方法を近似的に実現する装置である。その作用は、上
述の請求項4に記載の発明による装置の補正差分手段に
おいて、補正データ算出手段で算出した各補正データの
中から絶対値最大のデータを算出し、算出した絶対値最
大の補正データのみを周期差分データから引いて除去す
ることにより、周期差分データの残留成分の多くが除去
されることになる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for approximately realizing the circuit pattern defect inspection method according to the third aspect of the present invention. The operation is achieved by the correction difference means of the apparatus according to the fourth aspect of the present invention, wherein the maximum absolute value data is calculated from the correction data calculated by the correction data calculation means, and the calculated maximum absolute value is corrected. By subtracting and removing only the data from the periodic difference data, most of the residual components of the periodic difference data are removed.

【0042】[0042]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図2は本発明の一実施例に使用する回路パター
ンの欠陥検査装置の概略構成を示すブロック図である。
この実施例装置は、メモリ用ウエハ上のダイに形成され
た回路パターンの欠陥を検査するものであり、以下、メ
モリ用ウエハ上のダイに形成された回路パターンの欠陥
を検出する場合について説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a circuit pattern defect inspection apparatus used in one embodiment of the present invention.
The apparatus of this embodiment inspects a defect of a circuit pattern formed on a die on a memory wafer. Hereinafter, a case of detecting a defect of a circuit pattern formed on a die on a memory wafer will be described. .

【0043】このダイの回路パターンPを模式的に表す
と、図3(a)に示すように、ダイ表面の凹凸によって
所定の周期性を有している。このような回路パターンP
は、レティクルと呼ばれる原版パターンをもとに、光リ
ソグラフィー工程を通常10〜20回程度繰り返して製
造されるが、その製造中には、種々の欠陥が発生するこ
とがある。この欠陥を図3(b)に模式的に示す。Q1
は導体間隔縮小、Q2は導体幅短縮、Q3 は断線、Q4
は短絡、Q5 は孤立欠陥、Q6 はパターンの位置ズレ、
7 はその他のパターン変形をそれぞれ表す。
When the circuit pattern P of the die is schematically represented, as shown in FIG. 3A, the die has a predetermined periodicity due to irregularities on the die surface. Such a circuit pattern P
Is usually manufactured by repeating an optical lithography process about 10 to 20 times on the basis of an original pattern called a reticle, and various defects may occur during the manufacture. This defect is schematically shown in FIG. Q 1
Conductor spacing reduced, Q 2 is the conductor width shorter, Q 3 is disconnected, Q 4
Short circuit, Q 5 is an isolated defect, Q 6 is misalignment of the pattern,
Q 7 represents another pattern deformation respectively.

【0044】なお、本発明における欠陥とは、本発明が
パターンの周期性を利用しているため、周期性パターン
に付加されたあらゆる非周期性パターン(ノイズ)を指
している。これには、あらゆるサイズ、形状、濃度のノ
イズが含まれる。従って、実際の回路パターンにおいて
は、回路パターン自体が異常の場合(上述の断線や短絡
等)と、回路パターン上に異物が付着している場合とが
ある。
The defect in the present invention refers to any non-periodic pattern (noise) added to the periodic pattern because the present invention utilizes the periodicity of the pattern. This includes noise of all sizes, shapes and densities. Therefore, in an actual circuit pattern, there are a case where the circuit pattern itself is abnormal (such as the above-described disconnection or short circuit) and a case where a foreign substance is attached to the circuit pattern.

【0045】上記のような欠陥を検出するために本実施
例装置は、検査対象の回路パターンPを入力部1で入力
し、A/D変換器2でデジタルデータに変換して被処理
データを作成し、その被処理データをイメージメモリ3
に記憶し、その被処理データに基づいてデータ処理部4
で欠陥を検出し、検査結果をプリンタ5に出力するとと
もに、D/A変換器6でアナログデータに変換し、モニ
タ7にも出力する。また、入力部1から入力され、イメ
ージメモリ3に記憶された被処理データは、オペレータ
に検査領域を確認させるためにD/A変換器6を介して
モニタ7に出力する。さらに、装置全体は制御部8によ
って制御するように構成されている。各部の詳細を以下
に説明する。
In order to detect the above-mentioned defects, the apparatus of this embodiment inputs a circuit pattern P to be inspected by an input unit 1, converts the circuit pattern P into digital data by an A / D converter 2, and converts the data to be processed. And creates the processed data in the image memory 3.
And a data processing unit 4 based on the data to be processed.
, A defect is detected, and the inspection result is output to the printer 5, converted into analog data by the D / A converter 6, and output to the monitor 7. The processed data input from the input unit 1 and stored in the image memory 3 is output to the monitor 7 via the D / A converter 6 so that the operator can check the inspection area. Further, the entire apparatus is configured to be controlled by the control unit 8. The details of each part will be described below.

【0046】入力部1では、メモリ用ウエハWを載置し
たXYステージ11が制御部8によってXY方向に移動
させられ、検査するダイの検査領域とレンズ12との位
置合わせが行なわれた後、センサ13がレンズ12を介
してそのダイの検査領域の回路パターンPを明るさの度
合いで感知し、感知した信号(アナログデータ)をA/
D変換器2に与えるように構成されている。センサ13
は例えば、X方向に512個、Y方向に512個の合計
(512×512)個の画素で構成され、各画素で回路
パターンPの明るさを感知する。このようなセンサ13
は例えば、CCD等で構成され、感知した明るさは電荷
量として蓄えられる。なお、センサ13の画素をX方向
に512個、Y方向に1個の一次元配列で構成してもよ
い。このとき、設定した検査領域と後述する処理領域と
が一致することになる。
In the input section 1, the XY stage 11 on which the memory wafer W is mounted is moved in the XY directions by the control section 8, and the position of the inspection area of the die to be inspected and the lens 12 are adjusted. The sensor 13 senses the circuit pattern P in the inspection area of the die through the lens 12 with a degree of brightness, and outputs the sensed signal (analog data) to A / A.
The D converter 2 is provided. Sensor 13
Is composed of, for example, 512 pixels in the X direction and 512 pixels in the Y direction (512 × 512), and each pixel senses the brightness of the circuit pattern P. Such a sensor 13
Is composed of, for example, a CCD, and the sensed brightness is stored as a charge amount. The sensor 13 may have a one-dimensional array of 512 pixels in the X direction and one pixel in the Y direction. At this time, the set inspection area matches a processing area described later.

【0047】センサ13で感知された信号は、各画素ご
とにA/D変換器2が、256階調(0〜255)のデ
ジタルデータに変換し、変換結果はイメージメモリ3に
記憶される。すなわち、イメージメモリ3には、512
×512の画素に分割された回路パターンPの各画素の
明るさが、256階調で表されたデータとして記憶され
ている。
The signal sensed by the sensor 13 is converted by the A / D converter 2 into digital data of 256 gradations (0 to 255) for each pixel, and the conversion result is stored in the image memory 3. That is, 512 bytes are stored in the image memory 3.
The brightness of each pixel of the circuit pattern P divided into × 512 pixels is stored as data expressed in 256 gradations.

【0048】このイメージメモリ3に記憶された被処理
データは、D/A変換器6がアナログデータに変換し、
モニタ7に表示するとともに、データ処理部4が後述す
る処理手順に従ってその回路パターンPの欠陥を検出
し、検査結果をプリンター5に出力し、モニタ7にも表
示する。データ処理部4は、図示しないCPU(中央処
理装置)やCPUメモリ、ROM(読み出し専用メモ
リ)等を備えたマイクロコンピューターによって構成さ
れている。ROMには、後述する欠陥検出手順(プログ
ラム)が予め記憶されており、そのプログラムに従って
CPUが処理を実行する。また、CPUメモリは処理中
のデータの一時記憶などに使用される。
The data to be processed stored in the image memory 3 is converted by the D / A converter 6 into analog data.
In addition to displaying on the monitor 7, the data processing unit 4 detects a defect of the circuit pattern P according to a processing procedure described later, outputs an inspection result to the printer 5, and displays the result on the monitor 7. The data processing unit 4 includes a microcomputer (not shown) including a CPU (Central Processing Unit), a CPU memory, a ROM (Read Only Memory), and the like. A defect detection procedure (program) described later is stored in the ROM in advance, and the CPU executes processing according to the program. The CPU memory is used for temporary storage of data being processed.

【0049】また、制御部8は、入力部1に対してXY
ステージ11の移動を制御し、被処理データの入力タイ
ミングを計り、A/D変換器2に変換指示を与え、ま
た、データ処理部4に欠陥検出開始指示を与える等の装
置全体の動作を制御する。この制御部8も上述したデー
タ処理部4と同様に、マイクロコンピューターによって
構成されている。ROMには、上述したような制御部8
が実行する各制御手順(プログラム)が予め記憶されて
おり、そのプログラムに従ってCPUが処理を実行する
ように構成されている。なお、図に示すブロック図で
は、この制御部8と上述のデータ処理部4とを分けて表
しているが、これらを1つのマイクロコンピューター、
すなわち、1個のCPUで構成してもよい。
The control unit 8 sends XY to the input unit 1.
The movement of the stage 11 is controlled, the input timing of the data to be processed is measured, the conversion instruction is given to the A / D converter 2, and the defect detection start instruction is given to the data processing unit 4 to control the entire operation of the apparatus. I do. The control unit 8 is also configured by a microcomputer, similarly to the data processing unit 4 described above. The ROM stores the control unit 8 as described above.
Are stored in advance, and the CPU is configured to execute processing in accordance with the programs. In the block diagram shown in FIG. 2 , the control unit 8 and the data processing unit 4 described above are separately illustrated.
That is, it may be constituted by one CPU.

【0050】次に、上述したような実施例装置による欠
陥検出手順を図1に示すフローチャートに従って説明す
る。なお、以下のステップS1〜S8は、本発明におけ
る第一処理過程〜第八処理過程にそれぞれ相当する。
Next, a procedure for detecting a defect by the above-described embodiment will be described with reference to a flowchart shown in FIG. The following steps S1 to S8 correspond to the first to eighth processing steps in the present invention, respectively.

【0051】まず、被処理データを入力部1から入力
し、デジタルデータに変換してイメージメモリ3に記憶
する(ステップS1)。このような被処理データの流れ
を図4を参照して説明する。図4(a)に示すような回
路パターンPが、センサ13によって図4(b)に示す
ようなアナログデータとして感知され、そのアナログデ
ータはA/D変換器2によって図4(c)に示すような
256階調(0〜255)のデジタルデータに変換され
てイメージメモリ3に記憶される。図中、Xi 、Y
j (i、j=0〜511、但し、図ではi、j=0〜9
のみを表している)によって分割された領域はセンサ1
3の画素を表す。また、図4(b)では、(X0
0 )〜(X9 、Y0 )の被処理データのみを表すもの
である。このように256階調で表された回路パターン
Pの被処理データは、イメージメモリ3に記憶され、そ
のデータに基づいて、データ処理部4が以下に説明する
ような手順で欠陥を検出するのであるが、理解を容易に
するために、以下の説明では、図5に示すような2値化
した被処理データに基づいて説明する。図5(a)、
(b)、(c)は、図4と同様に回路パターンP、セン
サ13で感知したデータ、イメージメモリ3に記憶され
たデータをそれぞれ表す。また、図中のQは欠陥を表
し、以下の処理では、この欠陥Qを検出する場合につい
て説明する。
First, data to be processed is input from the input unit 1, converted into digital data, and stored in the image memory 3 (step S1). The flow of such processed data will be described with reference to FIG. A circuit pattern P as shown in FIG. 4A is sensed by the sensor 13 as analog data as shown in FIG. 4B, and the analog data is shown by the A / D converter 2 as shown in FIG. The image data is converted into digital data of 256 gradations (0 to 255) and stored in the image memory 3. In the figure, X i , Y
j (i, j = 0 to 511, where i, j = 0 to 9 in the figure)
Only) is the sensor 1
3 pixels. In FIG. 4B, (X 0 ,
(Y 0 ) to (X 9 , Y 0 ). The processed data of the circuit pattern P expressed in 256 gradations is stored in the image memory 3, and the data processing unit 4 detects a defect based on the data in the procedure described below. However, in order to facilitate understanding, the following description will be made based on binarized data to be processed as shown in FIG. FIG. 5 (a),
4B and 4C show the circuit pattern P, the data sensed by the sensor 13 and the data stored in the image memory 3, respectively, as in FIG. Further, Q in the figure represents a defect, and in the following processing, a case where this defect Q is detected will be described.

【0052】ステップS1でイメージメモリ3に記憶さ
れた被処理データを、Y方向の1画素に対するX方向の
各画素の並びによって構成される処理領域、すなわち、
(X0 ,Yj )〜(X511 ,Yj )(j=0〜511)
で構成される領域に分割する(ステップS2)。ここ
で、図5(c)で示した被処理データの内、(X0 ,Y
0 )〜(X17,Y0 )は、図6(a)に示すようなグラ
フに表すことができる。但し、欠陥Qは点線で示してい
る。また、このグラフを関数g(x、y)で表現する
と、次式(1)のようになる。 g(x,y)=f(x,y)+q(x,y) … (1) ここで、f(x、y)は、周期性のあるデータを表し、
q(x、y)は、周期性のないデータ(欠陥Q)を表す
関数である。また、x=0〜511、y=0であり、y
が一定であるので、以下簡易にするため、次式(2)に
ように表す。 g(x)=f(x)+q(x) … (2) なお、上述したように、センサ13を一次元の画素で構
成した場合には、入力部1から入力した回路パターンP
はこの処理領域と一致するので、このときにはこのステ
ップS2の処理は、上述のステップS1の処理で同時に
実行されたことになる。
The data to be processed stored in the image memory 3 in step S1 is converted into a processing area constituted by an arrangement of each pixel in the X direction with respect to one pixel in the Y direction, that is,
(X 0 , Y j ) to (X 511 , Y j ) (j = 0 to 511 )
(Step S2). Here, (X 0 , Y) of the data to be processed shown in FIG.
0 ) to (X 17 , Y 0 ) can be represented by a graph as shown in FIG. However, the defect Q is indicated by a dotted line. When this graph is represented by a function g (x, y), the following equation (1) is obtained. g (x, y) = f (x, y) + q (x, y) (1) where f (x, y) represents periodic data,
q (x, y) is a function representing non-periodic data (defect Q). Also, x = 0 to 511, y = 0, and y
Is constant, and is represented as the following equation (2) for simplicity. g (x) = f (x) + q (x) (2) As described above, when the sensor 13 is configured by one-dimensional pixels, the circuit pattern P input from the input unit 1
Coincides with the processing area, and at this time, the processing in step S2 is simultaneously executed in the processing in step S1 described above.

【0053】以下のステップS3〜S7までの各処理
は、上述のステップS2で分割した各処理領域ごとに行
なう。
The following steps S3 to S7 are performed for each processing area divided in step S2.

【0054】すなわち、ステップS3の処理では、各処
理領域の被処理データの周期を求め、求めた周期を画素
数で算出する。この処理領域の周期は、いくつかの方法
で求めることができる。例えば、被処理データをX方向
に1画素ずつずらしながら、X方向の全ての画素につい
て相関を求め、相関が高くなったときにX方向へずらせ
た画素数を、周期に相当する画素数と推定すること等に
より求めることができる。また、設計時に分かっている
回路パターンPの周期に基づいて、その周期を画素数で
算出するようにすれば、ある程度正確な周期が予め得ら
れ、しかも処理時間を短縮することができる。例えば、
図6(a)に示すY0 に対する処理領域の周期「T」
は、図5より「5」画素として算出される。
That is, in the process of step S3, the cycle of the data to be processed in each processing area is obtained, and the obtained cycle is calculated by the number of pixels. The period of this processing region can be obtained by several methods. For example, while shifting the data to be processed by one pixel in the X direction, the correlation is obtained for all the pixels in the X direction, and when the correlation becomes high, the number of pixels shifted in the X direction is estimated as the number of pixels corresponding to the period. Can be obtained. Further, if the period is calculated by the number of pixels based on the period of the circuit pattern P known at the time of design, a somewhat accurate period can be obtained in advance, and the processing time can be reduced. For example,
The period “T” of the processing area for Y 0 shown in FIG.
Is calculated as “5” pixels from FIG.

【0055】次に、各処理領域の被処理データと、その
被処理データをステップS3によって算出されたその処
理領域の周期に相当する画素数の整数倍だけX方向にず
らせたデータとの差分を算出し、周期に対する差分デー
タを求める(ステップS4)。例えば、Y0 に対する処
理領域の被処理データ(図6(a))を、その周期
「T」だけ(1倍の場合)「−」方向にずらせたデータ
は、図6(b)に示すようなグラフに表すことができ
る。また、関数で示すと、1周期ずらせたデータg’
(x)は次式(3)で表すことができる。 g’(x)=f(x+T)+q(x+T) … (3) 従って、被処理データと、その被処理データを1周期だ
け「−」方向にずらせたデータとの差分は、図6(c)
に示すようになる。これを関数で説明すると、差分デー
タh(x)は次式(4)で表すことができる。 h(x)=g(x)−g’(x) =(f(x)+q(x)) −(f(x+T)+q(x+T)) … (4)
Next, the difference between the data to be processed in each processing area and the data obtained by shifting the data to be processed in the X direction by an integer multiple of the number of pixels corresponding to the cycle of the processing area calculated in step S3 is calculated. The difference is calculated and the difference data for the cycle is obtained (step S4). For example, data obtained by shifting the data to be processed (FIG. 6A) in the processing area for Y 0 by the period “T” (in the case of 1 ×) in the “−” direction is as shown in FIG. 6B. It can be represented in a simple graph. Also, as a function, data g ′ shifted by one cycle
(X) can be expressed by the following equation (3). g ′ (x) = f (x + T) + q (x + T) (3) Therefore, the difference between the data to be processed and the data obtained by shifting the data to be processed in the “−” direction by one cycle is shown in FIG. )
It becomes as shown in. To explain this by a function, the difference data h (x) can be expressed by the following equation (4). h (x) = g (x) −g ′ (x) = (f (x) + q (x)) − (f (x + T) + q (x + T)) (4)

【0056】このとき、各画素のデータの内、周期性の
あるデータは互いに打ち消され、周期性がない欠陥Qの
成分だけが残ることになる。すなわち、f(x)=f
(x+T)となるので、上述の(4)式は、次式(5)
で表すことができる。 h(x)=q(x)−q(x+T) … (5) 従って、欠陥Qの成分のみを抽出できるので、欠陥Qを
特定することができる。なお、回路パターンPは周期性
があるので、周期の整数倍をずらせて処理しても同様の
結果が得られる。従って、周期に相当する画素数が算出
できれば、その整数倍をずらせて周期に対する差分デー
タを算出してもよいが、検査する領域を最大にするため
には、周期の1倍を指定するのがよい。
At this time, of the data of each pixel, the periodic data is canceled out from each other, and only the component of the defect Q having no periodicity remains. That is, f (x) = f
(X + T), the above equation (4) becomes the following equation (5)
Can be represented by h (x) = q (x) -q (x + T) (5) Accordingly, since only the component of the defect Q can be extracted, the defect Q can be specified. Note that since the circuit pattern P has periodicity, the same result can be obtained even if the processing is performed with an integer multiple of the period shifted. Therefore, if the number of pixels corresponding to the cycle can be calculated, the difference data for the cycle may be calculated by shifting the number of pixels by an integer multiple. Good.

【0057】しかし、上記ステップS3で求めた周期は
あくまでも計算上のものであり、一方、データ処理の対
象である被処理データは、センサ13やA/D変換器2
等の入力時の誤差を含んでおり、実際の装置では、図
5、図6に示したように計算上の周期と被処理データに
おける周期とは必ずしも一致するわけではない。このよ
うなに計算上の周期(「T」とする)と被処理データに
おける周期(「T’」とする)との誤差を「t」(T’
=T+t)として、上述のステップS4の処理を行なっ
た場合、図7に示すようになる。図7(a)は周期
「T’」画素の被処理データ、図7(b)は被処理デー
タを計算上の周期「T」画素だけずらせたデータ、図7
(c)はそれらの差分データを示すグラフである。図に
示すように、欠陥Qの成分以外にも誤差による残留成分
も残ってしまい、欠陥データの特定ができず、欠陥の検
出ができない。これを関数で示すと、次式(6)のよう
に表すことができる。 h(x)=(f(x)+q(x)) −(f(x+T+t)+q(x+T+t)) =(f(x)−f(x+T+t)) +(q(x)−q(x+T+t)) … (6)
However, the cycle obtained in step S3 is merely a calculation. On the other hand, the data to be processed is the sensor 13 and the A / D converter 2
In an actual apparatus, the calculation cycle does not always coincide with the cycle in the data to be processed, as shown in FIGS. 5 and 6. As described above, the error between the calculated cycle (referred to as “T”) and the cycle in the data to be processed (referred to as “T ′”) is represented by “t” (T ′).
= T + t), and the above-described processing of step S4 is performed, as shown in FIG. FIG. 7A shows the data to be processed of the pixel “T ′” in the cycle, FIG. 7B shows the data obtained by shifting the data to be processed by the pixel “T” in the calculation,
(C) is a graph showing the difference data. As shown in the figure, a residual component due to an error remains in addition to the component of the defect Q, so that defect data cannot be specified and a defect cannot be detected. When this is expressed by a function, it can be expressed as the following equation (6). h (x) = (f (x) + q (x))-(f (x + T + t) + q (x + T + t)) = (f (x) -f (x + T + t)) + (q (x) -q (x + T + t)) … (6)

【0058】従って、残留成分(f(x)−f(x+T
+t))を除去すれば、欠陥Qだけを残すことができ
る。ここで、「t」が既知であれば、処理領域の被処理
データと、被処理データをt画素だけずらせたデータと
の差分データ(f(x)−f(x+t)、但しf(x+
T+t)=f(x+t))を、上述のh(x)から引い
てやれば、残留成分を除去することができる。しかし、
一般に「t」が未知であるので、以下のステップS5か
らステップS7による補正処理を行ない、残留成分(f
(x)−f(x+T+t))を除去する。
Therefore, the residual component (f (x) -f (x + T
+ T)), only the defect Q can be left. Here, if “t” is known, difference data (f (x) −f (x + t)) between the data to be processed in the processing area and the data obtained by shifting the data to be processed by t pixels, where f (x +
By subtracting (T + t) = f (x + t)) from the above-mentioned h (x), residual components can be removed. But,
In general, since “t” is unknown, a correction process in the following steps S5 to S7 is performed, and the residual component (f
(X) -f (x + T + t)) is removed.

【0059】補正処理は以下のようにして行なわれる。
すなわち、ステップS5では、所定の処理領域の被処理
データと、被処理データをZ画素(Zは整数)だけそれ
ぞれの方向(各値の符号「+」、「−」に応じた方向)
にずらせたデータとの差分データを、±1〜±N(N
は、後述する所定の値の自然数)についてそれぞれ算出
し、算出した各差分データをそれぞれ正規直交化する。
また、ステップS6では、ステップS4によって算出さ
れた周期に対する差分データの、ステップS5によって
算出された±1〜±Nについてそれぞれ正規直交化した
各差分データへの相関量を、±1〜±Nについてそれぞ
れ算出する。
The correction process is performed as follows.
That is, in step S5, the data to be processed in the predetermined processing area and the data to be processed are each shifted by Z pixels (Z is an integer) in the respective directions (directions corresponding to the sign “+” or “−” of each value).
The difference data from the shifted data is ± 1 to ± N (N
Calculates a natural number of a predetermined value described later), and normalizes each calculated difference data.
In step S6, the correlation amount between the difference data with respect to the cycle calculated in step S4 and each of the difference data that is orthonormalized for ± 1 to ± N calculated in step S5 is calculated for ± 1 to ± N. Calculate each.

【0060】これは、周期に対する差分データh(x)
の残留成分(f(x)−f(x+T+t))が、±1〜
±Nについてそれぞれ正規直交化した各差分データを用
いて近似できるからである。すなわち、残留成分(f
(x)−f(x+T+t))は次式(7)に示すように
近似的に展開できる。 (f(x)−f(x+T+t))=α1 ×ed1+ (x) +β1 ×ed1- (x) +…+αN ×edN+ (x) +βN ×edN- (x) … (7) ここに、ed1+ (x)、ed1- (x)、…、e
dN+ (x)、edN- (x)は、±1〜±Nについてそれ
ぞれ算出した差分データgd1+ (x)、gd1- (x)、
…、gdN+ (x)、gdN- (x)をそれぞれ正規直交化
した結果であり、α1 、β1 、…、αN 、βN は、e
d1+ (x)、ed1- (x)、…、edN+ (x)、edN-
(x)の各相関量である。この相関量は、正規直交化さ
れた各差分データの残留成分への相関の割合を示すもの
である。
This is the difference data h (x) with respect to the cycle.
Of the residual component (f (x) -f (x + T + t)) is ± 1
This is because ± N can be approximated using each of the difference data that has been orthonormalized. That is, the residual component (f
(X) -f (x + T + t)) can be approximately developed as shown in the following equation (7). (F (x) -f (x + T + t)) = [alpha] 1 * ed1 + (x) + [beta] 1 * ed1- (x) + ... + [alpha] N * edN + (x) + [beta] N * edN- (x) ... ( 7) Here, e d1 + (x), e d1- (x) ,.
dN + (x) and edN- (x) are difference data g d1 + (x), g d1- (x), calculated for ± 1 to ± N, respectively.
, G dN + (x) and g dN- (x) are the results of orthonormalization, respectively, and α 1 , β 1 ,..., Α N , β N are e
d1 + (x), e d1- (x), ..., e dN + (x), e dN-
(X) are correlation amounts. The correlation amount indicates the ratio of the correlation between the orthonormalized difference data and the residual component.

【0061】従って、周期に対する差分データh(x)
は、次式(8)に示すように近似的に表すことができ
る。 h(x)=(q(x)−q(x+T+t)) +α1 ×ed1+ (x)+β1 ×ed1- (x) +…+αN ×edN+ (x) +βN ×edN- (x) … (8)
Therefore, the difference data h (x) with respect to the cycle
Can be approximately expressed as shown in the following equation (8). h (x) = (q ( x) -q (x + T + t)) + α 1 × e d1 + (x) + β 1 × e d1- (x) + ... + α N × e dN + (x) + β N × e dN- ( x) ... (8)

【0062】よって、±1〜±Nについてそれぞれ正規
直交化した各差分データed1+ (x)、ed1- (x)、
…、edN+ (x)、edN- (x)と、各相関量α1 、β
1 、…、αN 、βN を求めれば、h(x)の残留成分を
除去することができる。
Therefore, each of the difference data e d1 + (x), e d1- (x),
.., E dN + (x), e dN− (x) and the correlation amounts α 1 , β
By determining 1 ,..., Α N and β N , the residual component of h (x) can be removed.

【0063】そこで、以下にそれぞれのデータの算出方
法を説明する。まず、ed1+ (x)、ed1- (x)、
…、edN+ (x)、edN- (x)は、±1〜±Nについ
てそれぞれ算出した差分データgd1+ (x)、g
d1- (x)、…、gdN+ (x)、gdN- (x)を、例え
ば、シュミットの直交化法を使って、gd1+ (x)、g
d1- (x)、…、gdN+ (x)、gdN- (x)から順番
にそれぞれ正規直交化することにより求めることができ
る。最初に、ed1+ (x)は第一番目の差分データであ
るgd1+ (x)を次式(9)に示すように正規化する。 ed1+ (x)=gd1+ (x)/‖gd1+ (x)‖ … (9) ここに、‖gd1+ (x)‖は、gd1+ (x)のノルムを
表す。このノルムは、(gd1+ (x))2 をx=0〜5
11(X方向の画素数に相当する)について計算したそ
れぞれの結果の総和を求め、その総和の平方根をとるこ
とにより求めるものである。
Therefore, a method of calculating each data will be described below. First, e d1 + (x), e d1- (x),
.., E dN + (x) and e dN− (x) are difference data g d1 + (x), g calculated for ± 1 to ± N, respectively.
d1- (x), ..., g dN + (x), g dN- a (x), for example, by using the orthogonal method of Schmidt, g d1 + (x), g
d1- (x), ..., g dN + (x), respectively, from g dN- (x) in order can be obtained by orthonormalization. First, e d1 + (x) normalizes g d1 + (x), which is the first difference data, as shown in the following equation (9). e d1 + (x) = g d1 + (x) / ‖g d1 + (x) || ... (9) where, ‖g d1 + (x) || represents the norm of g d1 + (x). This norm is obtained by calculating (g d1 + (x)) 2 as x = 0 to 5
11 (corresponding to the number of pixels in the X direction), the sum of the respective results is calculated, and the square root of the sum is calculated.

【0064】次に、ed1- (x)は、gd1- (x)につ
いて上述の(9)式で求めたed1+(x)と、次式(10)
のように直交化する。 gd1- ' (x)=gd1- (x) −(gd1- (x),ed1+ (x))×ed1+ (x) … (10) ここで、(gd1- (x),e1+(x))は、g
d1- (x)とe1+(x)との内積を表す。この内積は、
d1- (x)×ed1+ (x)をx=0〜511(X方向
の画素数に相当する)について計算したそれぞれの結果
の総和に相当する。そして、(10)式により直交化した
d1- ’(x)を上述の(9)式と同様に正規化する。
これを(11)式で表す。 ed1- (x)=gd1- ’(x)/‖gd1- ’(x)‖ … (11)
Next, e d1- (x) is, g d1- and (x) e d1 + (x) obtained in the above (9) for the following equation (10)
Are orthogonalized as follows. gd1- ' (x) = gd1- (x)-( gd1- (x), ed1 + (x)) * ed1 + (x) (10) where ( gd1- (x), e 1+ (x)) is g
Represents the inner product of d1- (x) and e 1+ (x). This inner product is
g d1 − (x) × ed1 + (x) corresponds to the sum of the respective results calculated for x = 0 to 511 (corresponding to the number of pixels in the X direction). Then, g d1- '(x) orthogonalized by the equation (10) is normalized in the same manner as in the above equation (9).
This is represented by equation (11). e d1- (x) = g d1- '(x) / ‖g d1-' (x) || ... (11)

【0065】さらに、ed2+ (x)は、gd2+ (x)に
ついて上述の(9)、(11)式で求めたed1+ (x)及
びed1- (x)と、次式(12) のように直交化する。 gd2+ ’(x)=gd2+ (x) −(gd2+ (x),ed1+ (x))×ed1+ (x) −(gd2+ (x),ed1- (x))×ed1- (x) … (12) そして、(12)式により直交化したgd2+ ’(x)を上
述の(9)、(11) 式と同様に正規化する。これを(1
3)式で表す。 ed2+ (x)=gd2+ ’(x)/‖gd2+ ’(x)‖ … (13) 以下、ed2- (x)、…、edN+ (x)、edN- (x)
についても、同様にして順次正規直交化する。
[0065] Furthermore, e d2 + (x) is, g d2 + (x) for the above-mentioned (9), (11) e d1 + was determined by the equation (x) and e d1- (x), the following equation (12) Are orthogonalized as follows. g d2 + '(x) = g d2 + (x) - (g d2 + (x), e d1 + (x)) × e d1 + (x) - (g d2 + (x), e d1- (x)) × e d1 - (X) ... (12) Then, g d2 + '(x) orthogonalized by the equation (12) is normalized in the same manner as the above equations (9) and (11). This is (1
3) Expressed by the equation. ed2 + (x) = gd2 + '(x) / {gd2 + ' (x)} (13) Hereinafter, ed2- (x), ..., edN + (x), edN- (x)
Are similarly orthonormalized in the same manner.

【0066】次に、各相関量α1 、β1 、…、αN 、β
N は、h(x)の、ed1+ (x)、ed1- (x)、…、
dN+ (x)、edN- (x)へのそれぞれの相関の割合
であるから、以下のようにして求める。例えば、α
1 は、次式(14)に示すように、h(x)とe
d1+ (x)の内積をとることにより求めることができ
る。 α1 =(h(x),e1+(x)) … (14) β1 、…、αN 、βN についても、α1 と同様にして求
めることができる。これらの相関量はそれぞれ「−1」
〜「1」の範囲の値をとる。
Next, the correlation amounts α 1 , β 1 ,..., Α N , β
N is h (x), e d1 + (x), e d1- (x) ,.
Since it is the ratio of each correlation to edN + (x) and edN- (x), it is obtained as follows. For example, α
1 is given by h (x) and e as shown in the following equation (14).
It can be obtained by taking the inner product of d1 + (x). α 1 = (h (x), e 1+ (x)) (14) β 1 ,..., α N , and β N can be obtained in the same manner as α 1 . Each of these correlation amounts is “−1”.
It takes a value in the range from "1" to "1".

【0067】従って、ステップS5によって算出された
±1〜±Nについてそれぞれ正規直交化した各差分デー
タ(ed1+ (x)、ed1- (x)、…、edN+ (x)、
dN- (x))に、ステップS6によって算出された±
1〜±Nについての各相関量(α1 、β1 、…、αN
βN )をそれぞれ掛け合わせた各補正データ(α1 ×e
d1+ (x)、β1 ×ed1- (x)、…、αN ×e
dN+ (x)、βN ×edN- (x))を、ステップS4に
よって算出された周期に対する差分データh(x)から
それぞれ引いて除去し、(q(x)−q(x+T+
t))を求める(ステップS7)。なお、計算上の周期
「T」と、入力された被処理データの周期「T’」との
誤差はおおよそ1画素以内と考えられるので、実
用上、補正データとしてed1+ (x)、ed1- (x)
(N=1)だけについて行なっても充分な精度が得られ
る。また、例えば、誤差「t」が+1画素であれば、近
似的にα1 ×ed1+ (x)が残留成分に等しくなり、他
の相関量β1 、…、αN 、βN は「0」となり、計算上
の周期「T」が入力された被処理データの周期「T’」
と一致していた場合には、残留成分がないので、全ての
相関量は「0」となる。すなわち、「T」と「T’」と
が一致しているか否かに係わらず、この補正処理を行な
うことにより、欠陥成分のみを抽出することができるの
で、「T」と「T’」とが一致しているか否かの判定が
不要となるという効果もある。
[0067] Therefore, each difference data (e d1 + was orthonormalization respectively for ±. 1 to ± N calculated in step S5 (x), e d1- ( x), ..., e dN + (x),
e dN− (x)) is added to ± N calculated in step S6.
Each correlation amount (α 1 , β 1 ,..., Α N ,
β N ) and each corrected data (α 1 × e
d1 + (x), β 1 × e d1- (x), ..., α N × e
dN + (x), β N × e dN− (x)) are subtracted from the difference data h (x) for the cycle calculated in step S4 to remove them, and (q (x) −q (x + T +
t)) (step S7). The error " t " between the calculated cycle "T" and the cycle "T '" of the input data to be processed is considered to be within approximately one pixel, so that in practice, the correction data ed1 + (x) , E d1- (x)
Sufficient accuracy can be obtained by performing only (N = 1). For example, if the error “t” is +1 pixel, α 1 × e d1 + (x) becomes approximately equal to the residual component, and the other correlation amounts β 1 ,..., Α N , β N become “0”. ”, And the cycle“ T ′ ”of the processed data to which the calculation cycle“ T ”is input.
If there is no residual component, there is no residual component, and all the correlation amounts are “0”. That is, irrespective of whether “T” and “T ′” match, by performing this correction process, only the defect component can be extracted. There is also an effect that it is not necessary to determine whether or not.

【0068】ところで、上述のステップS5で算出した
d1+ (x)、ed1- (x)、…、edN+ (x)、e
dN- (x)は、それぞれ直交化しているので、上述のス
テップS6、S7の処理を以下のように同時に実行する
ようにしてもよい。すなわち、まず、ed1+ (x)の相
関分をh(x)から引き、その引いた結果(h1 (x)
とする)について、ed1- (x)の相関量β1 を算出
し、そのβ1に基づいてed1- (x)の相関分をh
1 (x)から引き、以下、順次、それぞれの相関分を引
いた結果(hN (x))で相関量を算出し、算出した相
関量に基づいて各相関分を、hN (x)から引いていく
ようにする。これを、次式(15)〜(18)に示す。 α1 =(h(x),ed1+ (x)) … (15) h1 (x)=h(x)−α1 ×ed1+ (x) … (16) β1 =(h1 (x),ed1- (x)) … (17) h2 (x)=h1 (x)−β1 ×ed1- (x) … (18) 以下、同様に順次算出していく。これは、上述したよう
に、ed1+ (x)、ed1- (x)、…、edN+ (x)、
dN- (x)は、それぞれ直交化しているので、例え
ば、ed1+ (x)とed1-(x)とは、次式(19) で表
せる。 (ed1+ (x),ed1- (x))=0 … (19) 従って、次式(20)が成立する。 β1 =(h1 (x),ed1- (x)) =(h(x)−α1 ×ed1+ (x),ed1- (x)) =(h(x),ed1- (x)) −(α1 ×ed1+ (x),ed1- (x)) =(h(x),ed1- (x)) −α1 ×(ed1+ (x),ed1- (x)) =(h(x),ed1- (x)) … (20) よって、上述の式(14)で全相関量を算出してから、ま
とめてh(x)から引いても、又は、式(15)〜(18)
のように、順次相関分を引いていく方式で算出しても結
果は、近似的に同じになる。また、この式(15)〜(1
8)のような方式で処理する方が、CPUで計算すると
きに、CPUメモリの節約となるという効果がある。
[0068] By the way, e d1 + calculated in step S5 described above (x), e d1- (x ), ..., e dN + (x), e
Since dN- (x) is orthogonalized, the processes in steps S6 and S7 described above may be performed simultaneously as follows. That is, first, the correlation component of e d1 + (x) is subtracted from h (x), and the subtraction result (h 1 (x)
And will be), e d1- (amount of correlation calculated beta 1 of x), the correlation amount h of e d1- (x) on the basis of the beta 1
1 (x), and thereafter, the correlation amount is calculated from the result (h N (x)) obtained by sequentially subtracting the respective correlation components, and each correlation component is calculated based on h N (x) based on the calculated correlation value. To pull from. This is shown in the following equations (15) to (18). α 1 = (h (x), ed 1+ (x)) (15) h 1 (x) = h (x) −α 1 × ed 1+ (x) (16) β 1 = (h 1 (x ), e d1- (x)) ... (17) h 2 (x) = h 1 (x) -β 1 × e d1- (x) ... (18) below, successively calculated in the same manner. This is, as described above, e d1 + (x), e d1- (x),..., E dN + (x),
Since edN- (x) is orthogonalized, for example, ed1 + (x) and ed1- (x) can be expressed by the following equation (19). ( Ed1 + (x), ed1- (x)) = 0 (19) Accordingly, the following equation (20) is established. β 1 = (h 1 (x), ed1- (x)) = (h (x) −α 1 × ed1 + (x), ed1- (x)) = (h (x), ed1- (x)) - (α 1 × e d1 + (x), e d1- (x)) = (h (x), e d1- (x)) -α 1 × (e d1 + (x), e d1- (X)) = (h (x), ed1- (x)) (20) Therefore, after calculating the total correlation amount by the above equation (14), it is possible to collectively subtract from h (x). Or the equations (15) to (18)
Even if the calculation is performed in such a manner that the correlation component is sequentially subtracted, the result is approximately the same. In addition, the equations (15) to (1)
Processing by the method as in 8) has the effect of saving CPU memory when calculating by the CPU.

【0069】最後に、ステップS8は、上述のようにし
て求めた各処理領域ごとの(q(x)−q(x+T+
t))の内、元の欠陥成分であるq(x)を周期に対し
てずらせた方向から特定し、また、その画素の場所をx
の値により特定することができる。このような処理を全
処理領域について行なうことにより、回路パターンの全
検査領域について欠陥の有無と欠陥の位置を検出するこ
とができる。
Finally, in step S8, (q (x) -q (x + T +
t)), the original defect component q (x) is specified from the direction shifted with respect to the cycle, and the location of the pixel is x
Can be specified. By performing such processing for all processing regions, the presence or absence of a defect and the position of the defect can be detected for all inspection regions of the circuit pattern.

【0070】上述のデータ処理による欠陥検出結果の一
例を図8に示して説明する。欠陥成分は、QR 、QI
ペアで表れる。これは計算上、q(x)とq(x+T+
t)との成分が抽出されるからである。この2つの欠陥
成分の内、ステップS4でずらせた方向によって、どち
らが元の欠陥q(x)であるかがわかる。例えば、図
6、図7に示したように「−」方向にずらせたのであれ
ば、図8中、右の欠陥QR が元の欠陥q(x)であるこ
とがわかる。そして、欠陥QR が表れた画素に基づい
て、実際の回路パターンP上のどの位置に欠陥があるか
も検出することができる。
An example of a defect detection result by the above data processing will be described with reference to FIG. Defective component appears in pairs of Q R, Q I. This is calculated from q (x) and q (x + T +
This is because the component (t) is extracted. Which of the two defect components is the original defect q (x) can be determined from the direction shifted in step S4. For example, FIG. 6, as shown in FIG. 7, "-" if the were shifted in the direction, it can be seen that in FIG. 8, the right of the defect Q R is the original defect q (x). Then, it is possible to detect be based on pixels appears defective Q R, is defective in any position on the actual circuit pattern P.

【0071】なお、上述の欠陥検出手順のステップS5
において、±1〜±Nについての差分データをそれぞれ
正規直交化したが、これらの差分データを正規直交化せ
ずに、ステップS6、S7の処理を実行するようにして
もよい。このとき、各差分データ(gd1+ (x)、g
d1- (x)、…、gdN+ (x)、gdN- (x))の相関
量(αn1、βn1、…、αnN、βnN)は、以下のようにし
て算出する。
It should be noted that step S5 of the above-described defect detection procedure is performed.
In the above, the difference data for ± 1 to ± N are respectively orthonormalized, but the processing of steps S6 and S7 may be executed without normalizing these difference data. At this time, each difference data (g d1 + (x), g
d1- (x), ..., g dN + (x), the amount of correlation g dN- (x)) (α n1, β n1, ..., α nN, β nN) is calculated as follows.

【0072】まず、各差分データをそれぞれ上述(9)
のように正規化した各差分データ(gd1+ ”(x)、g
d1- ”(x)、…、gdN+ ”(x)、gdN- ”(x))
を次式(9)’に示す。 gd1+ ”(x)=gd1+ (x)/‖gd1+ (x)‖ gd1- ”(x)=gd1- (x)/‖gd1- (x)‖ gdN+ ”(x)=gdN+ (x)/‖gdN+ (x)‖ gdN- ”(x)=gdN- (x)/‖gdN- (x)‖ … (9)’
First, each difference data is described in (9) above.
Each difference data (g d1 + ″ (x), g
d1- "(x), ..., gdN + " (x), gdN- "(x))
Is shown in the following equation (9) ′. gd1 + "(x) = gd1 + (x) / {gd1 + (x)} gd1- " (x) = gd1- (x) / { gd1- (x)} gdN + "(x) = gdN + (x) / {gdN + (x)} gdN- "(x) = gdN- (x) / { gdN- (x)} (9) '

【0073】一方、ステップS7における各補正データ
は、周期に対する差分データh(x)と、上述の正規化
した各差分データ (gd1+ ”(x)、gd1-
(x)、…、gdN+ ”(x)、gdN- ”(x))との内
積を上述の式(14)のように算出し、その算出した結果
に正規化した各差分データを掛け合わせることにより、
それぞれの相関の割合を大凡近似的に求めることができ
る。例えば、gd1+ ”(x)については求める補正デー
タを次式(14)’で表せる。 (h(x),gd1+ ”(x))×gd1+ ”(x) = (h(x),gd1+ (x)/‖gd1+ (x)‖)× gd1+ (x)/‖gd1+ (x)‖ = (h(x),gd1+ (x))/‖gd1+ (x)‖2 × gd1+ (x) … (14)’
On the other hand, each correction data in step S7 includes difference data h (x) with respect to the cycle and the above-described normalized difference data (g d1 + "(x), g d1- ").
(X),..., G dN + ”(x), g dN− ” (x)) are calculated as in the above equation (14), and the calculated result is multiplied by each normalized difference data. By combining
The ratio of each correlation can be determined roughly. For example, the correction data to be obtained for g d1 + ”(x) can be expressed by the following equation (14) ′. (H (x), g d1 + ” (x)) × g d1 + ”(x) = (h (x), g d1 + (x) / ‖g d1 + (x) ||) × g d1 + (x) / ‖g d1 + (x) || = (h (x), g d1 + (x)) / ‖g d1 + (x) || 2 × g d1 + (x)… (14) '

【0074】従って、gd1+ (x)の相関量αn1は、
(h(x),gd1+ (x))/‖gd1+ (x)‖2 と等
しくなり、また、他の相関量(βn1、…、αnN、βnN
も同様に求まる。これを次式(14)”に表す。 αn1=(h(x),g1+(x))/‖gd1+ (x)‖2 βn1=(h(x),g1-(x))/‖gd1- (x)‖2 αnN=(h(x),gN+(x))/‖gdN+ (x)‖2 βnN=(h(x),gN-(x))/‖gdN- (x)‖2 … (14)”
Therefore, the correlation amount α n1 of g d1 + (x) is
(H (x), g d1 + (x)) / ‖g d1 + (x) ‖ 2 and equal, also, other correlation quantity (β n1, ..., α nN , β nN)
Is similarly obtained. This is represented by the following equation (14) ″. Α n1 = (h (x), g 1+ (x)) / {g d1 + (x)} 2 β n1 = (h (x), g 1− (x )) / {G d1- (x)} 2 α nN = (h (x), g N + (x)) / {g dN + (x)} 2 β nN = (h (x), g N− (x )) / {G dN- (x)} 2 ... (14) "

【0075】上述のように、正規直交化せずに補正を行
なった場合には、正規直交化した場合よりも補正の精度
が落ちるが、実用上においては、充分な精度が得られ
る。
As described above, when correction is performed without performing orthonormalization, the accuracy of correction is lower than in the case of performing orthonormalization, but sufficient accuracy is obtained in practical use.

【0076】また、上述の欠陥検出手順のステップS7
において、算出した各補正データ(α1 ×e
d1+ (x)、β1 ×ed1- (x)、…、αN ×e
dN+ (x)、βN ×edN- (x))、または、正規直交
化しないで算出した各補正データ(αn1×g
d1 + (x)、βn1×gd1- (x)、…、αnN×g
dN+ (x)、βnN×gdN- (x))の中から絶対値が最
大になる補正データを求め、求めた補正データのみを、
周期に対する差分データh(x)から引いて除去し、
(q(x)−q(x+T+t))を求めるようにしても
よい。これは、残留成分のほとんどがいずれかの項に多
くの相関を示す場合が多いからである。従って、相関の
割合が最も高いデータのみを周期に対する差分データか
ら引いて除去すれば、残留成分のほとんどが除去される
ことになり、また、実用上は、かかる方法によっても充
分な精度が得られる。
Further, step S7 of the above-described defect detection procedure
, The calculated correction data (α 1 × e
d1 + (x), β 1 × e d1- (x), ..., α N × e
dN + (x), β N × e dN- (x)), or each correction data (α n1 × g
d1 + (x), β n1 × g d1- (x), ..., α nN × g
From dN + (x) and β nN × g dN− (x)), the correction data with the maximum absolute value is obtained, and only the obtained correction data is
Subtract and remove from the difference data h (x) for the cycle,
(Q (x) -q (x + T + t)) may be obtained. This is because most of the residual components often show many correlations with any of the terms. Accordingly, if only the data having the highest correlation ratio is subtracted from the difference data with respect to the cycle and removed, most of the residual components are removed, and in practice, sufficient accuracy can be obtained by such a method. .

【0077】さらに、上述のS3〜S7の処理領域ごと
の欠陥検出処理は、それぞれ独立して行なえるので、デ
ータ処理部4を複数個のCPUで構成すれば、各処理領
域をそれぞれのCPUで並行して行なうことができる。
そのように並行処理を実行すれば、検査領域全体の欠陥
検出の処理時間を短縮することもできる。
Further, since the above-described defect detection processing for each processing area in S3 to S7 can be performed independently, if the data processing section 4 is constituted by a plurality of CPUs, each processing area can be executed by each CPU. Can be done in parallel.
By executing such parallel processing, the processing time for detecting a defect in the entire inspection area can be reduced.

【0078】また、センサ13を二次元配列の画素で構
成した場合には、入力を一度に行ない、データ処理部4
で処理領域に分割する(ステップS2の処理)手順で行
なうが、センサ13を一次元配列の画素で構成した場合
には、被処理データ入力時に処理領域に分割しデータ入
力を行なうので、データ処理部4で処理領域に分割する
ステップS2の処理はステップS1の処理と同時に実行
することになり、処理手順としては、入力処理を複数回
に分けて行なう手順となる。
When the sensor 13 is constituted by a two-dimensional array of pixels, the input is performed at one time and the data processing unit 4
Is performed (step S2), but if the sensor 13 is composed of pixels in a one-dimensional array, the data is divided into processing regions when data to be processed is input, and data input is performed. The process of step S2 of dividing into processing areas by the unit 4 is performed simultaneously with the process of step S1, and the processing procedure is a procedure of performing the input process in a plurality of times.

【0079】さらに、入力部1において、ダイの検査領
域の回路パターンPをレンズ12を介してセンサ13で
取り込んだとき、取り込んだ検査領域の回路パターンP
の中心部と、周辺部とでは、レンズ12の倍率が異な
り、取り込んだ被処理データ上の周期が一定にならない
ことが考えられるが、このような場合には、取り込んだ
被処理データ(例えば、512×512画素の領域)を
いくつかの領域(例えば、128×128画素の領域)
に分割し、その分割した領域ごとに、回路パターンPの
被処理データを別々にデータ処理をするようにすればよ
い。
Further, when the circuit pattern P in the inspection area of the die is captured by the sensor 13 through the lens 12 in the input unit 1, the circuit pattern P in the inspection area is captured.
It is conceivable that the magnification of the lens 12 is different between the central part and the peripheral part of the lens, and the period on the captured data to be processed may not be constant. A region of 512 × 512 pixels) into several regions (for example, a region of 128 × 128 pixels)
And the data to be processed of the circuit pattern P may be separately processed for each of the divided areas.

【0080】また、上述の実施例で説明したデータ処理
では、被処理データを1周期分「−」方向にずらせて欠
陥を抽出する場合について説明したが、「+」方向にず
らせて欠陥を抽出してもよい。
In the data processing described in the above embodiment, the case where the defect is extracted by shifting the data to be processed by one cycle in the "-" direction has been described. May be.

【0081】さらに、いずれの方向にずらせても、いず
れかの端の周期データについては除去するデータがない
ので検査することができないが、入力した被処理データ
について両方向にずらせたデータ処理を行なえば、全検
査領域の検査を行なうことができる。
Further, even if the data to be processed is shifted in either direction, the periodic data at either end cannot be inspected because there is no data to be removed. Inspection of all inspection areas can be performed.

【0082】また、上述の実施例では、X方向に周期性
がある回路パターンについて説明したが、Y方向にのみ
周期性がある回路パターンは、メモリ用ウエハWのXY
ステージ11上に載置するとき、90°回転させる等に
より、相対的に周期性がある軸をX方向に一致させれ
ば、X方向に周期性がある回路パターンとして処理する
ことができる。
In the above-described embodiment, the circuit pattern having the periodicity in the X direction has been described. However, the circuit pattern having the periodicity only in the Y direction corresponds to the XY pattern of the memory wafer W.
When mounted on the stage 11, if a relatively periodic axis is made to coincide with the X direction by, for example, rotating by 90 °, a circuit pattern having a periodicity in the X direction can be processed.

【0083】次に、上述の欠陥検出方法を電気回路で構
成した第二実施例を図9を参照して説明する。この第二
実施例に係る欠陥検査装置20は、検査対象の回路パタ
ーンPの特性を電気信号として入力部21で入力し、入
力した被処理データに相当する被処理信号を、処理領域
ごとに、欠陥検査回路30に供給し、欠陥検査回路30
で抽出された欠陥信号を計数部4でカウントする構成
である。なお、符号22は欠陥検査回路30を構成する
周期位相遅れ回路32に対して、処理中の被処理信号の
所定の遅れ時間を指示する遅れ指示部であり、また、2
3は欠陥信号から欠陥の特定を行なうために用いるしき
い値を設定するしきい値設定部である。各部の構成を以
下に詳述する。
Next, a second embodiment in which the above-described defect detection method is constituted by an electric circuit will be described with reference to FIG. The defect inspection apparatus 20 according to the second embodiment inputs a characteristic of a circuit pattern P to be inspected as an electric signal at an input unit 21 and outputs a signal to be processed corresponding to the input data to be processed, for each processing region, The defect inspection circuit 30 is supplied to the defect inspection circuit 30.
In a configuration for counting the extracted defect signal counting section 2 4. Reference numeral 22 denotes a delay instruction unit for instructing the periodic phase delay circuit 32 constituting the defect inspection circuit 30 with a predetermined delay time of the signal to be processed which is being processed.
Reference numeral 3 denotes a threshold value setting unit for setting a threshold value used for specifying a defect from a defect signal. The configuration of each unit will be described in detail below.

【0084】入力部21は、上述の第一実施例の入力部
1と略同じ構成であり、図示しないXYステージ上に載
置したメモリ用ウエハWの所定のダイの検査領域の回路
パターンPの明るさの度合いが図示しないセンサで、電
気信号として検出される。このセンサは、例えば、X方
向に1024個、Y方向に1個の画素で構成された一次
元CCDセンサや、X方向に512個、Y方向に512
個の画素で構成されたCCDカメラ等で構成される。ま
た、検出した被処理信号は、Y方向の1画素に対するX
方向の各画素の並びによって構成される処理領域ごと
に、センサからX方向の各画素の並びに従って各画素ご
との被処理信号が一定時間間隔で、欠陥検査回路30を
構成する1画素位相遅れ回路31と加減算回路36の加
算側に同期して供給される。このような被処理信号をg
o (t)と表す。このとき、上述した一次元CCDセン
サの場合は、処理領域と一致した領域から被処理信号を
検出するので、検出した信号をそのまま、第一番目の画
素から順に一定時間間隔(例えば、1μsごと)で10
24番目の画素まで欠陥検査回路30に供給すればよ
い。また、CCDカメラの場合には、Y方向の画素並び
(走査線)の境界に付与される水平同期信号で挟まれた
信号を欠陥検査回路30に供給すること等により処理領
域ごとの欠陥検査を行なうようにすればよい。なお、こ
の入力部1は、本発明における被処理データ入力手段に
相当する。
The input section 21 has substantially the same configuration as the input section 1 of the first embodiment described above. The input section 21 has a circuit pattern P of a predetermined die inspection area of a memory wafer W mounted on an XY stage (not shown). The degree of brightness is detected as an electric signal by a sensor (not shown). This sensor is, for example, a one-dimensional CCD sensor composed of 1024 pixels in the X direction and one pixel in the Y direction, or 512 sensors in the X direction and 512 pixels in the Y direction.
It is composed of a CCD camera composed of individual pixels. Further, the detected signal to be processed is the X signal for one pixel in the Y direction.
A one-pixel phase delay circuit that constitutes the defect inspection circuit 30 in such a manner that a signal to be processed for each pixel is arranged at a constant time interval from the sensor in accordance with the arrangement of pixels in the X direction for each processing region constituted by the arrangement of pixels in the direction. 31 and the addition side of the addition / subtraction circuit 36. The signal to be processed is represented by g
o (t). At this time, in the case of the above-described one-dimensional CCD sensor, since the signal to be processed is detected from a region coinciding with the processing region, the detected signal is left as it is in the first pixel in order at a fixed time interval (for example, every 1 μs). At 10
What is necessary is just to supply the defect inspection circuit 30 up to the 24th pixel. In the case of a CCD camera, a signal sandwiched between horizontal synchronizing signals provided at the boundary of the pixel arrangement (scanning line) in the Y direction is supplied to the defect inspection circuit 30 to perform defect inspection for each processing area. You can do it. The input unit 1 corresponds to a processed data input unit in the present invention.

【0085】遅れ指示部22では、例えば、検査する被
処理信号を予め入力しておき、その信号に基づいて、各
画素ごとの相関を算出する等により、処理領域内の被処
理信号の周期の画素数に相当する時間を算出することが
できる。例えば、周期が5画素であり、各画素間の転送
時間が1μsであれば、周期遅れとして5μsを周期位
相遅れ回路32に指示する。また、設計時に分かってい
る回路パターンの周期に基づいて、予め求めておいた遅
れ時間を周期位相遅れ回路32に与えてもよい。後者の
ように遅れ時間を設定するのであれば、遅れ指示部22
は周期遅れ回路32の回路定数を可変に設定できるよう
に構成すればよい。なお、回路パターンは周期性がある
ので、周期の画素数に相当する時間の整数倍をずらせて
処理しても同様の結果が得られる。従って、周期の画素
数に相当する時間が算出できれば、その整数倍を周期遅
れ回路32に与えてもよいが、検査する領域を最大にす
るためには、周期の1倍を指定するのがよい。また、こ
の遅れ指示部22は、本発明における遅れ指示手段に相
当する。
The delay instructing section 22 inputs, for example, a signal to be processed to be inspected in advance and calculates a correlation for each pixel based on the signal. The time corresponding to the number of pixels can be calculated. For example, if the cycle is 5 pixels and the transfer time between each pixel is 1 μs, the cycle delay is instructed to the cycle phase delay circuit 32 by 5 μs. Further, a delay time obtained in advance may be given to the periodic phase delay circuit 32 based on the cycle of the circuit pattern known at the time of design. If the delay time is set as in the latter case, the delay instruction unit 22
May be configured so that the circuit constant of the period delay circuit 32 can be variably set. Since the circuit pattern has periodicity, a similar result can be obtained even if the processing is performed by shifting the time by an integral multiple of the time corresponding to the number of pixels in the cycle. Therefore, if the time corresponding to the number of pixels in the cycle can be calculated, an integer multiple thereof may be given to the cycle delay circuit 32. However, in order to maximize the area to be inspected, it is better to specify one time of the cycle. . The delay instruction unit 22 corresponds to a delay instruction unit in the present invention.

【0086】しきい値設定部22で設定されるしきい値
Sは、装置により適切な値、例えば、装置による被処理
信号入力時の誤差の許容範囲などに応じて補正処理で除
去できない誤差分を、欠陥と誤認しないような値を設定
する。また、このしきい値設定部22は、所定のしきい
値Sに相当する電圧値を欠陥検査回路30を構成する加
減算回路49に入力できるように構成されている。
The threshold value S set by the threshold value setting section 22 is an appropriate value depending on the apparatus, for example, an error that cannot be removed by the correction processing in accordance with an allowable range of error when a signal to be processed is input by the apparatus. Is set so as not to be mistaken for a defect. The threshold value setting unit 22 is configured to be able to input a voltage value corresponding to a predetermined threshold value S to an addition / subtraction circuit 49 included in the defect inspection circuit 30.

【0087】次に、欠陥検査回路30の構成を説明す
る。1画素位相遅れ回路31、33は入力した信号を、
1画素に相当する時間(例えば、各画素間の転送時間が
1μsであれば、1μs)だけ遅らせて出力する遅延回
路であり、周期位相遅れ回路32は入力された信号を、
遅れ指示部23から指示された時間、すなわち、入力さ
れた信号の周期の画素数に相当する時間だけ遅らせて出
力する遅延回路である。符号34、35、36、49、
50は、それぞれ加算側に入力された信号から、減算側
に入力された信号を引く加減算回路である。これらの回
路では、加算側と減算側とに入力された各信号を、順次
減算していく。また、符号37、40、42、43、4
6、48は、それぞれ入力された2つの信号同士を掛け
合わせていく乗算回路であり、符号38、41、44、
47は、それぞれ入力された信号の累積を算出する(信
号の入力開始時から入力完了時までを積分する)積分
(平均)回路、さらに、符号39、45は、それぞれ入
力された2つの信号の一方を被除算信号とし、他方を除
算信号として除算を行なう除算回路である。
Next, the configuration of the defect inspection circuit 30 will be described. The one-pixel phase delay circuits 31, 33 convert the input signals into
This is a delay circuit that delays and outputs the time corresponding to one pixel (for example, 1 μs if the transfer time between pixels is 1 μs). The periodic phase delay circuit 32
This is a delay circuit that delays and outputs the time instructed by the delay instructing unit 23, that is, the time corresponding to the number of pixels in the cycle of the input signal. Reference numerals 34, 35, 36, 49,
50 is an addition / subtraction circuit for subtracting the signal input to the subtraction side from the signal input to the addition side. In these circuits, each signal input to the addition side and the subtraction side is sequentially subtracted. Reference numerals 37, 40, 42, 43, 4
Numerals 6 and 48 denote multiplication circuits for multiplying the two input signals, respectively.
An integration (average) circuit 47 calculates the accumulation of the input signals (integrates from the start of the input of the signal to the end of the input), and reference numerals 39 and 45 denote the two input signals. A division circuit that performs division using one as a division signal and the other as a division signal.

【0088】欠陥検査回路30は上述の各回路を組み合
わせて構成されている。すなわち、まず、1画素位相遅
れ回路31からの出力信号(以下、標準信号g(t)と
する)と、その標準信号g(t)を周期位相遅れ回路3
2を介して周期の画素数に相当する時間だけさらに遅ら
せた信号との差分を加減算回路34で行ない、周期差分
信号h(t)を出力する。なお、この周期位相遅れ回路
32と加減算回路34とは、本発明における周期差分手
段に相当する。
The defect inspection circuit 30 is configured by combining the above-described circuits. That is, first, an output signal from the one-pixel phase delay circuit 31 (hereinafter, referred to as a standard signal g (t)) and the standard signal g (t) are
The difference from the signal further delayed by the time corresponding to the number of pixels of the cycle via 2 is made by the addition / subtraction circuit 34, and the cycle difference signal h (t) is output. Note that the periodic phase delay circuit 32 and the addition / subtraction circuit 34 correspond to a period difference unit in the present invention.

【0089】また、標準信号g(t)と、その標準信号
g(t)を1画素位相遅れ回路33を介して1画素に相
当する時間だけさらに遅らせた信号との差分を加減算回
路35で行ない、+1画素遅れの画素遅れ差分信号g
d1- (t)を出力する。なお、この1画素位相遅れ回路
33と加減算回路35とは、本発明における+1画素遅
れの画素遅れ差分手段に相当する。
The difference between the standard signal g (t) and a signal obtained by further delaying the standard signal g (t) by a time corresponding to one pixel via the one-pixel phase delay circuit 33 is calculated by the addition / subtraction circuit 35. , A pixel delay difference signal g delayed by +1 pixel
d1- (t) is output. The one-pixel phase delay circuit 33 and the addition / subtraction circuit 35 correspond to a pixel delay difference unit that delays by +1 pixel in the present invention.

【0090】さらに、標準信号g(t)と、入力部21
から供給された被処理信号go (t)、すなわち、標準
信号g(t)に対して相対的に、1画素に相当する時間
だけ早い信号との差分を加減算回路36で行ない、+1
画素早出の画素早出差分信号gd1+ (t)を出力する。
なお、この加減算回路36は、本発明における+1画素
早出の画素早出差分手段に相当する。
Further, the standard signal g (t) and the input unit 21
The difference between the signal to be processed g o (t) supplied from, i.e., the standard signal g (t) and the signal earlier by a time corresponding to one pixel is calculated by the addition / subtraction circuit 36, and +1
A pixel advance difference signal g d1 + (t) of the pixel advance is output.
Note that the addition / subtraction circuit 36 corresponds to a pixel advance difference means of +1 pixel advance in the present invention.

【0091】一方、加減算回路35から出力した+1画
素遅れの画素遅れ差分信号gd1- (t)と、加減算回路
34から出力した周期差分信号h(t)との乗算を乗算
回路37で行なって+1画素遅れの内積化乗算信号n
d1- (t)を出力し、その内積化乗算信号nd1- (t)
の積分を積分回路38で算出して+1画素遅れの内積デ
ータNd1- を出力する。一方、加減算回路35から出力
した+1画素遅れの画素遅れ差分信号gd1- (t)の二
乗を乗算回路40で行なって+1画素遅れの二乗化乗算
信号jd1- (t)を出力し、その二乗化乗算信号jd1-
(t)の積分を積分回路41で算出して+1画素遅れの
二乗積分データJd1- を出力する。さらに、積分回路3
8からの内積データNd1- を被除算信号とし、積分回路
41からの二乗積分データJd1- を除算信号とした除算
を除算回路39で行なって+1画素遅れの相関量Vd1-
を出力し、その相関量Vd1- と、加減算回路35から出
力した+1画素遅れの画素遅れ差分信号gd1- (t)と
の乗算を乗算回路42で行なって+1画素遅れの補正信
号kd1- (t)を出力し、その補正信号kd1- (t)を
加減算回路49の減算側に入力するように構成されてい
る。なお、これらの乗算回路37、積分回路38、乗算
回路40、積分回路41、除算回路39、及び乗算回路
42は、本発明における+1画素遅れの内積化乗算手
段、内積算出手段、二乗化乗算手段、二乗積分算出手
段、相関量算出手段、及び補正データ算出手段にそれぞ
れ相当する。
On the other hand, the multiplication circuit 37 multiplies the pixel delay difference signal g d1- (t) delayed by +1 pixel output from the addition / subtraction circuit 35 with the periodic difference signal h (t) output from the addition / subtraction circuit 34. +1 pixel delayed inner product multiplication signal n
d1- (t), and outputs the inner product multiplied signal n d1- (t)
Is calculated by the integration circuit 38, and the inner product data Nd1- delayed by +1 pixel is output. On the other hand, the multiplication circuit 40 squares the pixel delay difference signal g d1- (t) delayed by +1 pixel output from the addition / subtraction circuit 35, and outputs a squared multiplied signal j d1- (t) delayed by +1 pixel. Squared multiplied signal j d1-
The integration of (t) is calculated by the integration circuit 41, and the square integration data J d1- delayed by +1 pixel is output. Further, the integration circuit 3
The division product 39 performs division using the inner product data N d1- from 8 as a division signal, and the square integration data J d1- from the integration circuit 41 as a division signal, and obtains a correlation amount V d1- delayed by +1 pixel.
And the multiplication circuit 42 multiplies the correlation amount V d1- by the pixel delay difference signal g d1- (t) delayed by +1 pixel output from the addition / subtraction circuit 35 to obtain a correction signal k d1 delayed by +1 pixel. - (T) is output, and the correction signal k d1- (t) is input to the subtraction side of the addition / subtraction circuit 49. The multiplication circuit 37, the integration circuit 38, the multiplication circuit 40, the integration circuit 41, the division circuit 39, and the multiplication circuit 42 are the inner product multiplication means, the inner product calculation means, and the squaring multiplication with a delay of +1 pixel in the present invention. Means, square integration calculating means, correlation amount calculating means, and correction data calculating means.

【0092】また、加減算回路36から出力した+1画
素早出の画素早出差分信号gd1+ (t)と、加減算回路
34から出力した周期差分信号h(t)との乗算を乗算
回路43で行なって+1画素早出の内積化乗算信号n
d1+ (t)を出力し、その内積化乗算信号nd1+ (t)
の積分を積分回路44で算出して+1画素早出の内積デ
ータNd1+ を出力する。一方、加減算回路36から出力
した+1画素早出の画素早出差分信号gd1+ (t)の二
乗を乗算回路46で行なって+1画素早出の二乗化乗算
信号jd1+ (t)を出力し、その二乗化乗算信号jd1+
(t)の積分を積分回路47で算出して+1画素早出の
二乗積分データJd1+ を出力する。さらに、積分回路4
4からの内積データNd1+ を被除算信号とし、積分回路
47からの二乗積分データJd1+ を除算信号とした除算
を除算回路45で行なって+1画素早出の相関量Vd1+
を出力し、その相関量Vd1+ と、加減算回路36から出
力した+1画素早出の画素早出差分信号gd1+ (t)と
の乗算を乗算回路48で行なって+1画素早出の補正信
号kd1+ (t)を出力し、その補正信号kd1+ (t)を
加減算回路49の減算側に入力するように構成されてい
る。なお、これらの乗算回路43、積分回路44、乗算
回路46、積分回路47、除算回路45、及び乗算回路
48は、本発明における+1画素早出の内積化乗算手
段、内積算出手段、二乗化乗算手段、二乗積分算出手
段、相関量算出手段、及び補正データ算出手段にそれぞ
れ相当する。
The multiplication circuit 43 multiplies the pixel difference signal g d1 + (t) output from the addition / subtraction circuit 36 by +1 pixel and the periodic difference signal h (t) output from the addition / subtraction circuit 34 by +1. Pixel-earned inner product multiplication signal n
d1 + (t), and outputs the inner product multiplied signal n d1 + (t)
Is calculated by the integration circuit 44, and the inner product data N d1 + that appears earlier by +1 pixel is output. On the other hand, the multiplication circuit 46 performs squaring of the pixel advance difference signal g d1 + (t) of +1 pixel output from the addition / subtraction circuit 36 to output a squared multiplication signal j d1 + (t) of +1 pixel advance, and squares the signal. Multiplied signal j d1 +
The integration of (t) is calculated by the integration circuit 47, and the square integration data J d1 + of +1 pixel earlier is output. Further, the integration circuit 4
Inner product data N d1 + a from 4 and the division signal, the correlation of +1 pixel early shift is performed in the divider circuit 45 the division was divided signal squaring integration data J d1 + from the integrator 47 V d1 +
Is multiplied by the correlation amount V d1 + and the pixel advance difference signal g d1 + (t) of +1 pixel output from the addition / subtraction circuit 36 in the multiplication circuit 48, and the correction signal k d1 + (t ) Is output, and the correction signal k d1 + (t) is input to the subtraction side of the addition / subtraction circuit 49. The multiplying circuit 43, the integrating circuit 44, the multiplying circuit 46, the integrating circuit 47, the dividing circuit 45, and the multiplying circuit 48 are the inner product multiplying means, inner product calculating means, squaring multiplying means for the first pixel in the present invention. Means, square integration calculating means, correlation amount calculating means, and correction data calculating means.

【0093】さらに、加減算回路34から出力した周期
差分信号h(t)を、加減算回路49の加算側に入力
し、一方、上述のように、+1画素遅れの補正信号k
d1- (t)と+1画素早出の補正信号kd1+ (t)と
を、加減算回路49の減算側に入力して、それぞれの差
分を算出して補正差分信号a(t)を出力する。また、
その補正差分信号a(t)を加減算回路50の加算側に
入力し、しきい値設定部23から設定されたしきい値S
を加減算回路50の減算側に入力して、それぞれの差分
を算出して欠陥信号を出力し、その欠陥信号を計数部2
4に入力するように構成されている。なお、加減算回路
49は、本発明における補正差分手段、また、加減算回
路50としきい値設定部23及び計数部24とは、本発
明における欠陥検出手段にそれぞれ相当する。
Further, the periodic difference signal h (t) output from the addition / subtraction circuit 34 is input to the addition side of the addition / subtraction circuit 49, while the correction signal k delayed by +1 pixel as described above.
The signal d1- (t) and the correction signal k d1 + (t), which is output by +1 pixel, are input to the subtraction side of the addition / subtraction circuit 49, and the respective differences are calculated to output the correction difference signal a (t). Also,
The correction difference signal a (t) is input to the addition side of the addition / subtraction circuit 50, and the threshold S set by the threshold setting unit 23 is set.
Is input to the subtraction side of the addition / subtraction circuit 50, the respective differences are calculated, and a defect signal is output.
4 is input. The addition / subtraction circuit 49 corresponds to a correction difference unit in the present invention, and the addition / subtraction circuit 50, the threshold value setting unit 23, and the counting unit 24 correspond to a defect detection unit in the present invention.

【0094】次に、この欠陥検出回路30の動作を、上
述の第一実施例の欠陥検査方法に対応させて説明する。
加減算回路34から出力された周期差分信号h(t)
は、上述の第一実施例で説明したように、周期位相遅れ
回路32での遅らせ分と、入力部21で入力した信号上
の周期に相当する位相とが一致していれば、周期性を有
する成分は除去されるが、実際には入力時の誤差等が含
まれるので、h(t)には、残留成分が残ることにな
る。従って、第一実施例のステップS5ないしS7に相
当する補正処理を加減算回路35、36から出力される
+1画素遅れの画素遅れ差分信号gd1 - (t)と+1画
素早出の画素早出差分信号gd1+ (t)(第一実施例の
±1画素の差分データgd1- (x)とgd1+ (x)に相
当する)に基づいて計算した補正データを使って行な
う。なお、この回路30では、±1(N=1)画素の補
正データで補正するように構成されている。これは、上
述のように実用上、±1画素の補正データのみで補正し
ても充分な精度が得られるからである。
Next, the operation of the defect detection circuit 30 will be described in correspondence with the above-described defect inspection method of the first embodiment.
The periodic difference signal h (t) output from the addition / subtraction circuit 34
As described in the first embodiment, if the delay amount in the periodic phase delay circuit 32 and the phase corresponding to the period on the signal input by the input unit 21 match, the periodicity is Although the component having the component is removed, an error or the like at the time of input is actually included, so that a residual component remains in h (t). Thus, pixels +1 pixels delay output a correction process corresponding to step S5 to S7 in the first embodiment the subtraction circuits 35 and 36 delay the difference signal g d1 - (t) +1 pixel early shift of the pixel early shift difference signal g This is performed using correction data calculated based on d1 + (t) (corresponding to the difference data g d1- (x) and g d1 + (x) of ± 1 pixel in the first embodiment). The circuit 30 is configured to perform correction using correction data of ± 1 (N = 1) pixels. This is because, as described above, in practice, sufficient accuracy can be obtained even if correction is performed using only the correction data of ± 1 pixel.

【0095】補正処理を実現する各回路の動作を以下に
説明する。積分回路38から出力される+1画素遅れの
内積データNd1- は、次式(21)で示す計算を行なった
ことになる。 Nd1- =∫(nd1- (t))dt〔t=0〜te 〕 =∫(h(t)×gd1- (t))dt〔t=0〜te 〕 … (21) ここで、「∫dt」は積分、〔t=0〜te 〕は積分範囲
を示す。また、t=0は、入力信号の入力開始時、t=
e は、入力信号の入力完了時である。また、このt=
0〜te の間には、t0 、t1 、t2 、…、te ごとに
各画素の信号が順次入力されてくる。例えば、h(t)
(t=t0 〜t1 )には、周期差分信号内の第一番目の
画素成分が入力されており、h(t)(te-1 〜te
には周期差分信号内の最後の画素成分(例えば、102
4番目の画素成分)が入力されている。また、(t2
1 )=(t3 −t2 )=…=(te −te-1 )であ
る。従って、式(21)はh(x)とgd1- (x)との内
積、すなわち、(h(x),gd1- (x))を算出した
のと等価になる。但し、xは第一実施例で説明した各画
素を示し、例えば、h(x)は周期に対する差分データ
を示す。なお、積分回路44から出力される+1画素早
出の内積データNd1+ についても同様に、h(x)とg
d1+ (x)との内積、すなわち、(h(x),g
d1+ (x))を算出したのと等価になる。
The operation of each circuit for realizing the correction processing will be described below. The inner product data N d1− delayed by +1 pixel output from the integration circuit 38 has been calculated by the following equation (21). N d1- = ∫ (n d1- ( t)) dt [t = 0 to t e] = ∫ (h (t) × g d1- (t)) dt [t = 0 to t e] ... (21) here, "∫dt 'is integral, shows a [t = 0 to t e] is an integral range. Also, t = 0 indicates that at the start of input of an input signal, t =
t e is the time when the input of the input signal is completed. Also, this t =
Between 0~t e, t 0, t 1 , t 2, ..., signal of each pixel comes is sequentially input for each t e. For example, h (t)
The (t = t 0 ~t 1) , the first-th pixel components in the period difference signal is input, h (t) (t e -1 ~t e)
Contains the last pixel component in the periodic difference signal (for example, 102
4th pixel component) is input. Also, (t 2
t 1) is a = (t 3 -t 2) = ... = (t e -t e-1). Therefore, equation (21) is equivalent to calculating the inner product of h (x) and g d1- (x), that is, (h (x), g d1- (x)). Here, x indicates each pixel described in the first embodiment, and for example, h (x) indicates difference data with respect to the cycle. Similarly, the inner product data N d1 + output from the integrating circuit 44 and which is output by +1 pixel earlier is similarly expressed by h (x) and g
Dot product with d1 + (x), that is, (h (x), g
d1 + (x)).

【0096】一方、積分回路41から出力される+1画
素遅れの二乗積分データJd1- は、次式(22)で示す計
算を行なったことになる。 Jd1- =∫(jd1- (t))dt〔t=0〜te 〕 =∫(gd1- (t))2 dt〔t=0〜te 〕 … (22) 従って、式(21)はgd1- (x)の二乗の総和、すなわ
ち、gd1- (x)のノルムの二乗(‖gd1- (x)
2 )を算出したことになる。なお、積分回路47から
出力される+1画素早出の二乗積分データJd1+ につい
ても同様に、gd1+(x)のノルムの二乗(‖g
d1+ (x)‖2 )を算出したことになる。
On the other hand, the square integration data J d1- delayed by +1 pixel output from the integration circuit 41 has been calculated by the following equation (22). J d1- = ∫ (j d1- ( t)) dt [t = 0 to t e] = ∫ (g d1- (t) ) 2 dt [t = 0 to t e] ... (22) Therefore, formula ( 21) is the sum of the squares of g d1- (x), that is, the square of the norm of g d1- (x) (‖g d1- (x)
2 ) is calculated. Similarly, the square integration data J d1 + output from the integration circuit 47 and which is output by +1 pixel earlier is the square of the norm of g d1 + (x) (‖g
become d1 + (x) || 2) was calculated.

【0097】また、除算回路39から出力される+1画
素遅れの相関量Vd1- は、次式(23)で示す計算を行な
ったことになる。 Vd1- =Nd1- /Jd1- =(h(x),gd1- (x))/‖gd1- (x)‖2 … (23) なお、除算回路45から出力される+1画素早出の相関
量Vd1+ についても同様に、(h(x),g
d1+ (x))/‖gd1+ (x)‖2 を算出したことにな
る。
Further, the correlation amount V d1− delayed by +1 pixel output from the division circuit 39 is calculated by the following equation (23). Vd1- = Nd1- / Jd1- = (h (x), gd1- (x)) / { gd1- (x)} 2 (23) The +1 pixel output from the division circuit 45 Similarly, for the early correlation amount V d1 + , (h (x), g
d1 + (x)) / {g d1 + (x)} 2 was calculated.

【0098】さらに、乗算回路42から出力される+1
画素遅れの補正信号kd1- (t)は、次式(24)で示す
計算を行なったことになる。 kd1- (t)=Vd1- ×gd1- (t) =(h(t),gd1- (t))/‖gd1- (t)‖2 ×gd1- (t)(t=0〜te ) … (24) また、式(24)は次式(25)と等価となる。 kd1- (x)=(h(x),gd1- (x))/‖gd1- (x)‖2 ×gd1- (x) … (25) なお、乗算回路48から出力される+1画素早出の補正
信号kd1+ (t)についても同様に、次式(25)’に示
す計算を行なったことになる。 kd1+ (x)=(h(x),gd1+ (x))/‖gd1+ (x)‖2 ×gd1+ (x) … (25)’
Further, +1 output from the multiplication circuit 42
The pixel delay correction signal k d1- (t) has been calculated by the following equation (24). kd1- (t) = Vd1- gd1- (t) = (h (t), gd1- (t)) / { gd1- (t)} 2 * gd1- (t) (t = 0 to t e ) (24) Equation (24) is equivalent to the following equation (25). k d1- (x) = (h (x), g d1- (x)) / ‖g d1- (x) || 2 × g d1- (x) ... (25) Note that output from the multiplication circuit 48 In the same manner, the calculation represented by the following equation (25) 'has been performed for the correction signal k d1 + (t) which is +1 pixel earlier. k d1 + (x) = ( h (x), g d1 + (x)) / ‖g d1 + (x) || 2 × g d1 + (x) ... (25) '

【0099】ここで、式(25)’の(h(x),gd1+
(x))/‖gd1+ (x)‖2 は、第一実施例の変形例
として、正規直交化せずに算出した+画素についての差
分データgd1+ (x)の相関量αn1(上述の式(14)”
参照)と等しくなり、一方式(25)の(h(x),g
d1+ (x))/‖gd1+ (x)‖2 は、同じく−画素に
ついての差分データgd1- (x)の相関量βn1と等しく
なる。すなわち、乗算回路42、48からは、第一実施
例の変形例に係るステップS7に示す±1画素について
の補正データが出力されたことになる。
Here, (h (x), g d1 +
(X)) / {g d1 + (x)} 2 is a modification example of the first embodiment, and is a correlation amount α n1 of difference data g d1 + (x) for + pixels calculated without performing orthonormalization (described above). Equation (14) "
), And (h (x), g
d1 + (x)) / {g d1 + (x)} 2 is also equal to the correlation amount β n1 of the difference data g d1- (x) for the −pixel . That is, the multiplication circuits 42 and 48 output the correction data for ± 1 pixel shown in step S7 according to the modification of the first embodiment.

【0100】そして、加減算回路49において、h
(t)から、kd1- (t)とkd1+ (t)とをt=0〜
e について引くことにより、加減算回路49から出力
されるa(t)は回路パターンの欠陥信号が抽出される
になる。
Then, in the addition / subtraction circuit 49, h
From (t), k d1− (t) and k d1 + (t) are calculated from t = 0 to
By subtracting t e , a signal (a) output from the addition / subtraction circuit 49 is a circuit pattern defect signal.

【0101】しかし、この欠陥検査装置20は、第一実
施例で説明した欠陥検出方法を簡易に実現したものであ
り、抽出した欠陥信号a(t)になお誤差が含まれてい
ることが考えられるので、所定のしきい値と比較して、
そのしきい値以上の部分に欠陥があるものと判断するよ
うにしている。
However, this defect inspection apparatus 20 simply implements the defect detection method described in the first embodiment, and it is considered that the extracted defect signal a (t) still contains an error. So, compared with a predetermined threshold,
It is determined that there is a defect in the portion above the threshold value.

【0102】すなわち、加減算回路50における出力欠
陥信号a(t)から、しきい値設定部23で設定された
しきい値Sを、t=0〜te について引き、「0」以上
になった部分を計数部24でカウントすることにより、
欠陥の数を検出することができる。なお、計数部24で
欠陥と判断された箇所を、欠陥信号a(t)が計数部2
4に入力された時間から特定するようにしてもよい。こ
のとき、入力部21から転送される各画素間の転送時間
(例えば、t0 〜t1 間の時間)に基づいて、何画素目
であるかを求めることになる。また、例えば、処理領域
ごとに標準データを全検査領域ぶんについて欠陥検査回
路30に順次供給して検査するか、処理領域ごとに検査
装置20を各別に設ける等により、回路パターンの全検
査領域の欠陥を検出するとこができる。
[0102] That is, from the output defect signal a in addition and subtraction circuit 50 (t), the threshold S set by the threshold setting unit 23 subtracts the t = 0 to t e, equal to or greater than "0" By counting the portion with the counting unit 24,
The number of defects can be detected. It should be noted that the defect signal a (t) indicates the location determined to be defective by the counting unit 24 by the counting unit 2.
4 may be specified from the time input. At this time, the transfer time between each pixel transferred from the input unit 21 (e.g., the time between t 0 ~t 1) based on, will be determined what is the second pixel. Further, for example, the standard data is sequentially supplied to the defect inspection circuit 30 for all the inspection areas for each processing area and the inspection is performed, or the inspection apparatus 20 is separately provided for each processing area to perform inspection. This can be achieved by detecting defects.

【0103】なお、各補正信号(kd1- (t)、kd1+
(t))と、それらの補正信号を算出するために用いた
標準信号(g(t))と同じタイミングで入力した標準
信号に基づいて算出された周期差分信号(h(x))と
は、各々異なった計算を経て、加減算回路49に入力さ
れるので、時間的に同期しない。従って、入力部21は
同じ処理領域内の被処理信号(go (t))を2度供給
し、最初に供給された被処理信号に基づいて得られた標
準信号で各補正信号を算出し、算出した信号は保持して
おき、一方、次に供給された被処理信号に基づいて得ら
れた標準信号により算出された周期差分信号に、保持し
ておいた各補正信号を同期させて、欠陥が抽出された信
号a(t)を算出するようにすればよい。また、入力部
2から同じ被処理信号を2度供給しなくとも、1回前の
処理領域の被処理信号に基づいて計算された各補正信号
と、その次の処理領域の被処理信号に基づいて計算され
た周期差分信号とを同期させて近似的な欠陥信号を算出
してもよい。これは、回路パターンがX方向に周期性を
有するので、隣合う2つの処理領域の各周期は略等しい
と考えられるからである。さらに、時間的に同期しない
各信号の同期をとるために、時間的に早く出力する信号
を遅延回路で遅らせて、時間的に同期をとるように構成
してもよい。
Note that each correction signal (k d1- (t), k d1 +
(T)) and the periodic difference signal (h (x)) calculated based on the standard signal input at the same timing as the standard signal (g (t)) used to calculate those correction signals. Are input to the addition / subtraction circuit 49 through different calculations, so that they are not synchronized in time. Therefore, the input unit 21 supplies the signal to be processed (g o (t)) in the same processing area twice, and calculates each correction signal with a standard signal obtained based on the signal to be processed supplied first. , The calculated signal is held, and, on the other hand, by synchronizing each held correction signal with the periodic difference signal calculated by the standard signal obtained based on the signal to be processed next supplied, What is necessary is just to calculate the signal a (t) from which the defect was extracted. Further, even if the same signal to be processed is not supplied twice from the input unit 2, based on each correction signal calculated based on the signal to be processed in the previous processing area and the signal to be processed in the next processing area. Approximate defect signals may be calculated by synchronizing the calculated period difference signals. This is because, since the circuit pattern has periodicity in the X direction, it is considered that the respective periods of two adjacent processing regions are substantially equal. Furthermore, in order to synchronize each signal that is not synchronized in time, a signal output earlier in time may be delayed by a delay circuit to synchronize in time.

【0104】また、別の実施態様として、図10に示す
ように、加減算回路49の直前に、絶対値最大項選択回
路51を設け、+1画素遅れの補正信号kd1- (t)と
+1画素早出の補正信号kd1+ (t)のいずれかを選択
するように構成してもよい。この選択は、+1画素遅れ
の相関量Vd1- と+1画素早出の相関量Vd1+ のそれぞ
れの絶対値を絶対値回路52、53により求め、その大
小を判定回路54により判定することにより実行され
る。
As another embodiment, as shown in FIG. 10, a maximum absolute value term selection circuit 51 is provided immediately before an addition / subtraction circuit 49, and a correction signal k d1- (t) delayed by +1 pixel and a +1 pixel You may be comprised so that any one of the correction | amendment signals kd1 + (t) of an early appearance may be selected. This selection is executed by obtaining the absolute values of the correlation amount V d1− delayed by +1 pixel and the correlation amount V d1 + advanced +1 pixel by the absolute value circuits 52 and 53, and determining the magnitude by the determination circuit 54. You.

【0105】[0105]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1の発明によれば、回路パターンの周期性を利用して、
検査対象の回路パターンから得られた被処理データのみ
を使ってデータ処理して欠陥の検出を行なっているの
で、従来のように基準データとの位置合わせが不要とな
る。従って、長時間を要する位置合わせを行なわないの
で、欠陥検査処理の処理時間の短縮を図ることができ
る。また、所定の処理領域に分割して、それぞれの処理
領域を独立してデータ処理できるので、各処理領域を並
行して処理することが可能であり、そのように並行して
処理すれば、検査処理時間を一層短縮することができ
る。
As is apparent from the above description, according to the first aspect of the present invention, the periodicity of the circuit pattern is used to
Since the defect is detected by performing data processing using only the data to be processed obtained from the circuit pattern to be inspected, the alignment with the reference data as in the related art is not required. Therefore, since the alignment which requires a long time is not performed, the processing time of the defect inspection processing can be reduced. In addition, since the data can be divided into predetermined processing areas and the respective processing areas can be independently processed, the processing areas can be processed in parallel. Processing time can be further reduced.

【0106】また、請求項2に記載の発明によれば、請
求項1の第五処理過程において、算出した各差分データ
をそれぞれ正規直交化することにより、より一層厳密な
補正が可能であり、より正確な回路パターンの欠陥検査
が可能である。
According to the second aspect of the present invention, in the fifth processing step of the first aspect, each of the calculated difference data is orthonormalized, thereby enabling more strict correction. More accurate circuit pattern defect inspection is possible.

【0107】また、請求項3に記載の発明によれば、請
求項1の第七処理過程において、算出した各補正データ
の中からその絶対値が最大である項を求め、その項のみ
を補正データとして使用することにより、実用的には十
分な正確さを備え、かつ、簡便な回路パターンの欠陥検
査が可能である。
According to the third aspect of the present invention, in the seventh processing step of the first aspect, a term having the maximum absolute value is obtained from each of the calculated correction data, and only the term is corrected. By using the data as data, practically sufficient accuracy can be provided, and a simple circuit pattern defect inspection can be performed.

【0108】また、請求項4に記載の発明によれば、請
求項1の発明に係る欠陥検査方法を装置として簡易に実
現したので、欠陥検査処理の処理時間の短縮を一層図る
ことができる。また、処理領域ごとに装置を構成すれ
ば、それぞれの処理領域ごとの欠陥検出を並行して行な
えるので、検査処理時間を一層短縮することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the defect inspection method according to the first aspect of the present invention is simply realized as an apparatus, the processing time of the defect inspection processing can be further reduced. In addition, if the apparatus is configured for each processing area, the defect detection for each processing area can be performed in parallel, so that the inspection processing time can be further reduced.

【0109】また、請求項5に記載の発明によれば、請
求項4に記載の装置において、補正差分手段が、+1〜
+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1〜+N画素の
各画素早出差分データの中から、絶対値最大のものを算
出し、そのデータのみを補正データとして使用すること
により、実用的には十分な正確さを備え、かつ、簡易な
回路パターンの欠陥検査装置が実現できる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the device according to the fourth aspect, the correction difference means is +1 to +1.
The maximum absolute value is calculated from the pixel delay difference data of + N pixels and the pixel early difference data of +1 to + N pixels, and only that data is used as correction data, which is practically sufficient. A simple and accurate circuit pattern defect inspection apparatus can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例装置による欠陥検出手順を示
すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart illustrating a defect detection procedure performed by an apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に使用する回路パターンの欠
陥検査装置の概略構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a circuit pattern defect inspection apparatus used in one embodiment of the present invention.

【図3】回路パターンとその欠陥を模式的に示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a circuit pattern and its defects.

【図4】被処理データの流れを説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram for explaining a flow of data to be processed.

【図5】被処理データを2値データで表した場合のデー
タの流れを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a data flow when data to be processed is represented by binary data.

【図6】処理領域の被処理データのデータ処理をグラフ
にして示した図である。
FIG. 6 is a graph showing data processing of data to be processed in a processing area.

【図7】処理領域の被処理データに誤差があるときのデ
ータ処理をグラフにして示した図である。
FIG. 7 is a graph showing data processing when there is an error in data to be processed in a processing area.

【図8】欠陥検出結果の一例を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a defect detection result.

【図9】本発明の第二実施例に係る欠陥検査装置の概略
構成を示すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a defect inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図10】第二実施例に係る欠陥検査装置の1つの変形
例を示す部分ブロック図である。
FIG. 10 is a partial block diagram illustrating a modification of the defect inspection apparatus according to the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … 入力部 2 … A/D変換器 3 … イメージメモリ 4 … データ処理部 5 … プリンタ 6 … D/A変換器 7 … モニタ 8 … 制御部 11 … XYステージ 12 … レンズ 13 … センサ 20 … 欠陥検査装置 21 … 入力部 22 … 遅れ指示部 23 … しきい値設定部 24 … 計数部 30 … 欠陥検出回路 W … ウエハ P … 回路パターン Q … 欠陥 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Input part 2 ... A / D converter 3 ... Image memory 4 ... Data processing part 5 ... Printer 6 ... D / A converter 7 ... Monitor 8 ... Control part 11 ... XY stage 12 ... Lens 13 ... Sensor 20 ... Defect Inspection device 21 Input unit 22 Delay instruction unit 23 Threshold setting unit 24 Count unit 30 Defect detection circuit W Wafer P Circuit pattern Q Defect

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北川 克一 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ 株式会社滋賀事業場内 (56)参考文献 特開 平4−316346(JP,A) 特開 平1−173172(JP,A) 特開 昭59−192943(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06T 1/00 G01N 21/88 G06T 7/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Katsuichi Kitagawa 1-1-1, Sonoyama, Otsu City, Shiga Prefecture Toray Corporation Shiga Works (56) References Hei 1-173172 (JP, A) JP-A-59-192943 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G06T 1/00 G01N 21/88 G06T 7/00

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 XY平面上の少なくともX方向に対して
周期性を有する回路パターンの所定の検査領域の欠陥を
検出する回路パターンの欠陥検査方法において、 少なくとも前記X方向に配列された複数個の画素によっ
て前記検査領域内の回路パターンの特性を入力し、前記
入力した回路パターンの各画素の特性をそれぞれ定量的
に変換し、被処理データを作成する第一処理過程と、 前記第一処理過程によって作成された被処理データを、
少なくともY方向の1画素に対するX方向の各画素の並
びによって構成される処理領域に分割する第二処理過程
と、 前記第二処理過程によって分割された前記各処理領域ご
との被処理データの周期をそれぞれ求め、前記求めた周
期をそれぞれ画素数で算出する第三処理過程と、 前記各処理領域ごとに、前記第一処理過程によって作成
された被処理データと、前記被処理データを前記第三処
理過程によって算出された周期に相当する画素数の所定
の整数倍だけずらせたデータとの差分データをそれぞれ
算出する第四処理過程と、 前記各処理領域ごとに、前記第一処理過程によって作成
された被処理データと、前記被処理データをZ画素(Z
は整数)だけそれぞれの方向にずらせたデータとの差分
データを、±1〜±N(Nは所定の値の自然数)につい
てそれぞれ算出する第五処理過程と、 前記各処理領域ごとに、前記第四処理過程によって算出
された周期に対する差分データの、前記第五処理過程に
よって算出された±1〜±Nについての各差分データへ
の相関量を、±1〜±Nについてそれぞれ算出する第六
処理過程と、 前記各処理領域ごとに、前記第五処理過程によって算出
された±1〜±Nについての各差分データに、前記第六
処理過程によって算出された±1〜±Nについての各相
関量をそれぞれ掛け合わせた各補正データを、前記第四
処理過程によって算出された周期に対する差分データか
らそれぞれ引いて除去する第七処理過程と、 前記第七処理過程の結果に基づいて、前記回路パターン
の欠陥を検出する第八処理過程と、 を備えたことを特徴とする回路パターンの欠陥検査方
法。
1. A defect inspection method for a circuit pattern for detecting a defect in a predetermined inspection area of a circuit pattern having a periodicity in at least an X direction on an XY plane, comprising: A first processing step of inputting a characteristic of a circuit pattern in the inspection area by a pixel, quantitatively converting a characteristic of each pixel of the input circuit pattern, and creating data to be processed; The data to be processed created by
A second processing step of dividing at least one pixel in the Y direction into a processing area constituted by an arrangement of pixels in the X direction; and a cycle of data to be processed for each processing area divided by the second processing step. A third processing step of calculating each of the obtained periods in terms of the number of pixels; a data to be processed created by the first processing step for each of the processing regions; A fourth processing step of calculating difference data from data shifted by a predetermined integer multiple of the number of pixels corresponding to the cycle calculated by the step, and, for each of the processing regions, created by the first processing step The processed data and the processed data are represented by Z pixels (Z
A fifth processing step of calculating difference data from data shifted in the respective directions by ± 1 to ± N (N is a natural number of a predetermined value), and for each of the processing regions, Sixth processing for calculating the correlation amounts of the difference data with respect to the cycle calculated in the fourth processing step to each difference data for ± 1 to ± N calculated in the fifth processing step, respectively, for ± 1 to ± N And, for each of the processing areas, the difference data for ± 1 to ± N calculated in the fifth processing step, and the correlation amount for ± 1 to ± N calculated in the sixth processing step A seventh processing step of subtracting each correction data obtained by multiplying the difference data from the difference data for the cycle calculated by the fourth processing step, and removing the correction data based on a result of the seventh processing step. Eighth process and defect inspection method of a circuit pattern, comprising the detecting defects serial circuit pattern.
【請求項2】 請求項1に記載の回路パターンの欠陥検
査方法において、 第五処理過程では、算出した±1〜±Nについての各差
分データをさらに、それぞれ正規直交化することを特徴
とする回路パターンの欠陥検査方法。
2. The circuit pattern defect inspection method according to claim 1, wherein in the fifth processing step, each of the calculated difference data for ± 1 to ± N is further orthonormalized. Circuit pattern defect inspection method.
【請求項3】 請求項1に記載の回路パターンの欠陥検
査方法において、 第七処理過程では、算出した各補正データの中からその
絶対値が最大である補正データを求め、前記求めた絶対
値最大の補正データのみを、周期に対する差分データか
ら引いて除去することを特徴とする回路パターンの欠陥
検査方法。
3. The defect inspection method for a circuit pattern according to claim 1, wherein, in a seventh processing step, correction data having a maximum absolute value is calculated from the calculated correction data, and the calculated absolute value is calculated. A defect inspection method for a circuit pattern, wherein only the maximum correction data is subtracted from the difference data with respect to the cycle and removed.
【請求項4】 XY平面上の少なくともX方向に対して
周期性を有する回路パターンの所定の検査領域の欠陥を
検出する回路パターンの欠陥検査装置において、 少なくとも前記X方向に配列された複数個の画素によっ
て前記検査領域内の回路パターンの各画素の特性を入力
し、被処理データを作成する被処理データ入力手段と、 少なくともY方向の1画素に対するX方向の各画素の並
びによって構成される処理領域ごとに、前記被処理デー
タ入力手段から前記X方向の各画素の並びに従って前記
各画素ごとの被処理データが一定時間間隔で供給される
ことに基づいて得られる前記処理領域内の被処理データ
(以下、標準データという)を入力し、前記入力した標
準データの周期ぶんの画素数の所定の整数倍に相当する
時間だけ、前記標準データに対して相対的に遅らせた周
期遅れデータと、前記入力した標準データとの差分を、
それぞれ同期させて行ない、周期差分データを算出する
周期差分手段と、 前記周期差分手段に対して、前記標準データの周期ぶん
の画素数の所定の整数倍に相当する時間を指示する遅れ
指示手段と、 前記標準データを入力し、前記入力した標準データを+
1〜+N(Nは所定の値の自然数)画素にそれぞれ相当
する時間だけ各別に、前記入力した標準データに対して
相対的に遅らせた+1〜+N画素についての各画素遅れ
データと、前記入力した標準データとの差分を、それぞ
れ同期させて行ない、+1〜+N画素の各画素遅れデー
タについての画素遅れ差分データをそれぞれ各別に算出
するN個の画素遅れ差分手段と、 前記標準データを入力し、前記入力した標準データを+
1〜+N(Nは所定の値の自然数)画素にそれぞれ相当
する時間だけ各別に、前記入力した標準データに対して
相対的に早めた+1〜+N画素についての各画素早出デ
ータと、前記入力した標準データとの差分を、それぞれ
同期させて行ない、+1〜+N画素の各画素早出データ
についての画素早出差分データをそれぞれ各別に算出す
るN個の画素早出差分手段と、 前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手段ご
とに、前記画素遅れ差分手段で算出した前記画素遅れ差
分データ又は前記画素早出差分手段で算出した前記画素
早出差分データと、前記周期差分手段で算出した前記周
期差分データとを、それぞれ同期させて掛け合わせ、+
1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1〜+N画
素の各画素早出差分データについての内積化乗算データ
をそれぞれ各別に算出する(2×N)個の内積化乗算手
段と、 前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手段ご
とに、前記内積化乗算手段で算出した前記内積化乗算デ
ータを、先頭の画素の内積化乗算データの入力開始時か
ら最後の画素の内積化乗算データの入力完了時まで積分
して、+1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1
〜+N画素の各画素早出差分データについての内積デー
タをそれぞれ各別に算出する(2×N)個の内積算出手
段と、 前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手段ご
とに、前記画素遅れ差分手段で算出した前記画素遅れ差
分データ又は前記画素早出差分手段で算出した前記画素
早出差分データを二乗し、+1〜+N画素の各画素遅れ
差分データ及び+1〜+N画素の各画素早出差分データ
についての二乗化乗算データをそれぞれ各別に算出する
(2×N)個の二乗化乗算手段と、 前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手段ご
とに、前記二乗化乗算手段で算出した前記二乗化乗算デ
ータを、先頭の画素の二乗化乗算データの入力開始時か
ら最後の画素の二乗化乗算データの入力完了時まで積分
して、+1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び+1
〜+N画素の各画素早出差分データについての二乗積分
データをそれぞれ各別に算出する(2×N)個の二乗積
分算出手段と、 前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手段ご
とに、前記内積算出手段で算出した前記内積データを、
前記二乗積分算出手段で算出した前記二乗積分データで
割って、+1〜+N画素の各画素遅れ差分データ及び+
1〜+N画素の各画素早出差分データについての相関量
をそれぞれ各別に算出する(2×N)個の相関量算出手
段と、 前記各画素遅れ差分手段及び前記各画素早出差分手段ご
とに、前記画素遅れ差分手段で算出した前記画素遅れ差
分データ又は前記画素早出差分手段で算出した前記画素
早出差分データに対して、前記相関量算出手段で算出し
た相関量を掛け合わせ、+1〜+N画素の各画素遅れ差
分データ及び+1〜+N画素の各画素早出差分データに
ついての補正データをそれぞれ各別に算出する(2×
N)個の補正データ算出手段と、 前記周期差分手段で算出した前記周期差分データから、
前記各補正データ算出手段で算出した+1〜+N画素の
各画素遅れ差分データ及び+1〜+N画素の各画素早出
差分データについての各補正データを全て、それぞれ同
期させて引き、補正差分データを算出する補正差分手段
と、 前記補正差分手段で算出した前記補正差分データと、所
定のしきい値とを比較し、前記しきい値より大きい前記
補正差分データを検出する欠陥検出手段と、 を備えたことを特徴とする回路パターンの欠陥検査装
置。
4. A defect inspection apparatus for a circuit pattern for detecting a defect in a predetermined inspection area of a circuit pattern having a periodicity in at least the X direction on an XY plane, wherein at least a plurality of the plurality of pixels are arranged in the X direction. Processing data input means for inputting the characteristics of each pixel of the circuit pattern in the inspection area by the pixel to generate the processing data; and a processing comprising at least one pixel in the Y direction and an arrangement of each pixel in the X direction. For each area, the data to be processed in the processing area obtained based on the data to be processed for each pixel being supplied at a fixed time interval from the data to be processed input means in accordance with the arrangement of the pixels in the X direction. (Hereinafter, referred to as standard data), and input the standard data for a time corresponding to a predetermined integer multiple of the number of pixels in the period of the input standard data. A cycle delayed data delayed relative to the difference between the standard data the input,
A synchronous difference calculating means for calculating periodic differential data, and a delay instructing means for instructing the periodic differential means a time corresponding to a predetermined integral multiple of the number of pixels of the standard data. Input the standard data, and add the input standard data to +
1 to + N (where N is a natural number of a predetermined value) each pixel delay data for +1 to + N pixels, which are relatively delayed with respect to the input standard data, for each time corresponding to pixels, and Inputting the standard data, N pixel delay difference means for synchronizing the difference with the standard data and calculating pixel delay difference data for each of the pixel delay data of +1 to + N pixels, +
For each time corresponding to 1 to + N (N is a natural number of a predetermined value) pixels, each of the pixel early-out data for +1 to + N pixels, which is relatively advanced with respect to the input standard data, and N pixel early difference means for synchronizing the difference with the standard data and calculating pixel early difference data for each pixel early data of +1 to + N pixels separately; For each of the pixel advance difference means, the pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference means or the pixel advance difference data calculated by the pixel advance difference means, and the periodic difference data calculated by the cycle difference means Are multiplied in synchronization with each other, and +
(2 × N) inner product multiplying means for respectively calculating inner product multiplication data for each pixel delay difference data of 1 to + N pixels and each pixel early difference data of +1 to + N pixels; Inputting the inner product multiplication data calculated by the inner product multiplication means to the inner pixel multiplication data of the last pixel from the start of input of the inner pixel multiplication data of the first pixel for each of the difference means and each of the pixel early difference means. Integrating until completion, each pixel delay difference data of +1 to + N pixels and +1
(2 × N) inner product calculating means for individually calculating inner product data for each pixel early difference data of up to + N pixels; and each of the pixel delay difference means and each pixel early difference device The pixel delay difference data calculated by the delay difference means or the pixel early difference data calculated by the pixel early difference means is squared, and each pixel delay difference data of +1 to + N pixels and each pixel early difference data of +1 to + N pixels are squared. (2 × N) squared multiplying means for individually calculating the squared multiplied data for each of the above, and for each of the pixel delay difference means and each of the pixel early appearance difference means, the square calculated by the squared multiplication means The squared multiplied data is integrated from the start of input of the squared multiplied data of the first pixel to the end of input of the squared multiplied data of the last pixel, and each pixel of +1 to + N pixels Re differential data and +1
(2 × N) square integration calculating means for individually calculating the square integration data for each of the pixel early difference data of up to + N pixels; and for each of the pixel delay difference means and each of the pixel early difference data, The inner product data calculated by the inner product calculating means,
By dividing by the square integration data calculated by the square integration calculation means, each pixel delay difference data of +1 to + N pixels and +
(2 × N) correlation amount calculation means for individually calculating the correlation amount for each pixel early difference data of 1 to + N pixels; and for each of the pixel delay difference unit and each pixel early difference unit, The pixel delay difference data calculated by the pixel delay difference unit or the pixel early difference data calculated by the pixel early difference unit is multiplied by the correlation amount calculated by the correlation amount calculation unit, and each of +1 to + N pixels is calculated. Correction data is calculated for each of the pixel delay difference data and the pixel early difference data of +1 to + N pixels (2 ×
N) correction data calculation means, and from the cycle difference data calculated by the cycle difference means,
All the correction data for each of the pixel delay difference data of +1 to + N pixels and each of the pixel advance difference data of +1 to + N pixels calculated by the correction data calculation means are synchronously drawn to calculate correction difference data. Correction difference means; and defect detection means for comparing the correction difference data calculated by the correction difference means with a predetermined threshold value and detecting the correction difference data larger than the threshold value. A circuit pattern defect inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 請求項4に記載の回路パターンの欠陥検
査装置において、 補正差分手段では、+1〜+N画素の各画素遅れ差分デ
ータ及び+1〜+N画素の各画素早出差分データの中か
ら絶対値最大のものを算出し、前記算出した絶対値最大
の補正データのみを補正データとして使用し、補正差分
データを算出することを特徴とする回路パターンの欠陥
検査装置。
5. The defect inspection apparatus for a circuit pattern according to claim 4, wherein the correction difference means includes an absolute value from among each of the pixel delay difference data of +1 to + N pixels and each of the pixel advance difference data of +1 to + N pixels. A defect inspection apparatus for a circuit pattern, wherein a maximum value is calculated, and only correction data having the maximum calculated absolute value is used as correction data to calculate correction difference data.
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