JP3137074B2 - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment

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JP3137074B2 JP10153668A JP15366898A JP3137074B2 JP 3137074 B2 JP3137074 B2 JP 3137074B2 JP 10153668 A JP10153668 A JP 10153668A JP 15366898 A JP15366898 A JP 15366898A JP 3137074 B2 JP3137074 B2 JP 3137074B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板の穴開けや配
線のトリミング等に用いられるレーザ加工装置に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus used for boring a substrate, trimming wiring, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、基板の穴開けや配線のトリミング
等の加工をレーザ光線によって行なう場合において,加
工対象となるワークWは、図4に示すように、レーザ光
線の走査方向に所定のビッチで配置することが多く、基
板の穴開けでは実装する部品のコンタクトピッチに対応
する穴開けが必要になり、また、LSIなどの配線のト
リミングによる回路切り替えでは、トリミング配線は等
ピッチで縦横に並部られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, when processing such as drilling of a substrate or trimming of wiring is performed by a laser beam, a work W to be processed is, as shown in FIG. Drilling on a board requires drilling corresponding to the contact pitch of the components to be mounted. In circuit switching by trimming wiring such as LSI, trimming wiring is arranged vertically and horizontally at equal pitch. Department.

【0003】この種のワークWに対して従来のレーザ加
工では、加工対象1点1点に対し、加工用のレーザを所
定のエネルギーにパワー調整・集光・位置決めしてレー
ザを照射しトリミングがおこなわれ、また、図4に矢印
で示すように、一列のワークWに対する加工を行なった
後に、レーザ光線の走査方向を反転させて隣接する他の
列のワークWへの加工を行なうようになってる。この場
合、すべての加工ポイントにレーザの位置決めが必要に
なり、加工ポイントが多い場合加工時間がかかり、ま
た、停止による位置決めを行わずに走査中に加工ポイン
ト上を通過したことを検出してレーザ出射するような加
工方法においても、加工ポイントの数だけレーザ出射が
必要である。
[0003] In the conventional laser processing of this type of work W, the power of the processing laser is adjusted, focused, and positioned to a predetermined energy for each point to be processed, and the laser is irradiated to perform trimming. Further, as shown by an arrow in FIG. 4, after processing is performed on one row of works W, the scanning direction of the laser beam is reversed to perform processing on another adjacent row of works W. Te In this case, it is necessary to position the laser at all the processing points.If there are many processing points, it takes a long processing time, and it is also necessary to detect that the laser has passed over the processing point during scanning without performing positioning by stopping. In a processing method of emitting light, laser emission is required for the number of processing points.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
加工方法において、加工速度をあげていくと高繰り返し
のレーザ出射が必要になるが、レーザ出力を安定させた
条件で加工するためには、レーザの媒質による特性や、
第一パルスのみ過大な出力のパルスが発生するファース
トパルス現象により、レーザの繰り返し周波数をあげる
には制約があることが多く、高速加工が行なえないとい
った問題点がある。
By the way, in such a processing method, it is necessary to emit a laser beam at a high repetition rate as the processing speed is increased. Characteristics of the laser medium,
Due to the first pulse phenomenon in which only the first pulse generates an excessively high output pulse, there are many restrictions on increasing the laser repetition frequency, and there is a problem that high-speed processing cannot be performed.

【0005】本発明は、このような制約に影響されずに
加工速度を向上させることの可能なレーザ加工装置を提
供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of improving a processing speed without being affected by such restrictions.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のレーザ加工装置は、前述した目的を達成するために、
レーザ発振器と、このレーザ発振器から出力されたレー
ザ光線を所定の出力に調整する出力調整手段と、この出
力調整手段を通過させられたレーザ光線が入射させられ
るとともに、このレーザ光線を複数に分割しつつ、分割
される各レーザ光線の断面を所定形状に整形する照射パ
ターン形成手段と、これらの分割されたレーザ光線を加
工物へ向けて集光する対物レンズとを備え、前記照射パ
ターン形成手段が、前記出力調整手段から出力されるレ
ーザ光線束の内側に配置されるとともに、所定形状を有
する複数のスリットと、これらのスリットのそれぞれに
対応して設けられ、これらのスリットを高速開閉する開
閉機構とによって構成され、かつ、前記複数のスリット
が、加工物の配列パターンに合致させられていることを
特徴とする。また、本発明の請求項2に記載のレーザ加
工装置は、請求項1に記載の前記照射パターン形成手段
が交換可能となされていることを特徴とする。さらに、
本発明の請求項3に記載のレーザ加工装置は、請求項1
または請求項2に記載の前記加工物の移動位置制御と、
前記照射パターン形成手段の駆動制御とを行なう制御手
段が設けられていることを特徴とする
According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser processing apparatus for achieving the above object.
A laser oscillator, output adjusting means for adjusting a laser beam output from the laser oscillator to a predetermined output, and a laser beam passed through the output adjusting means being incident, and dividing the laser beam into a plurality. while, with the irradiation pattern forming means for shaping the cross section of each laser beam into a predetermined shape to be divided, and an objective lens for condensing light toward these split laser beam to the workpiece, the radiation path
A turn forming means outputs the laser output from the output adjusting means.
Is located inside the laser beam bundle and has a predetermined shape.
Multiple slits and each of these slits
Opening for opening and closing these slits at high speed
A closing mechanism, and the plurality of slits
Are matched with the arrangement pattern of the workpiece . Also, the laser processing apparatus according to claim 2 of the present invention provides the irradiation pattern forming means according to claim 1.
Are exchangeable . further,
The laser processing apparatus according to the third aspect of the present invention provides the laser processing apparatus according to the first aspect.
Or the movement position control of the workpiece according to claim 2,
A control means for controlling the driving of the irradiation pattern forming means;
A step is provided .

【0007】[0007]

【0008】[0008]

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の構成を図面を用いて説明
する。図1は,本発明のレーザ加工装置の一実施形態の
構成図である。本実施形態に係わるレーザ加工装置は、
レーザ光線Lを発生するレーザ発振器1と、このレーザ
発振器1から出力されたレーザ光線Lを所定の出力に調
整する出力調整手段2と、この出力調整手段2を通過さ
せられたレーザ光線Lが入射させられるとともに、この
レーザ光線Lを複数に分割しつつ、分割される各レーザ
光線(L1・L2)の断面を所定形状に整形する照射パ
ターン形成手段3と、これらの分割されたレーザ光線
(L1・L2)を加工物(ワーク)Wへ向けて集光する
対物レンズ4とを備えている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The configuration of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention. The laser processing apparatus according to the present embodiment includes:
A laser oscillator 1 for generating a laser beam L, an output adjusting means 2 for adjusting the laser beam L output from the laser oscillator 1 to a predetermined output, and a laser beam L passed through the output adjusting means 2 Irradiation pattern forming means 3 for shaping the cross section of each laser beam (L1 · L2) into a predetermined shape while dividing the laser beam L into a plurality of parts; An objective lens 4 for condensing L2) toward a workpiece (workpiece) W;

【0013】前記照射パターン形成手段3と前記対物レ
ンズ4との間には、照射パターン形成手段3を透過させ
られた服すのレーザ光線L1・L2を対物レンズ4へ向
けて経路変更をなすミラー5が設けられている。
[0013] Between the irradiation pattern forming means 3 and the objective lens 4, a mirror for changing the path of the laser beams L1 and L2 of the clothes transmitted through the irradiation pattern forming means 3 toward the objective lens 4. 5 are provided.

【0014】また、前記加工物Wは、X−Yステージ6
上に設置されるようになされ、このX−Yステージ6に
よって予め設定された方向へ移動させられるようになっ
ている。
The workpiece W is mounted on an XY stage 6.
The XY stage 6 allows the XY stage 6 to move in a preset direction.

【0015】前記照射パターン形成手段3は、本実施形
態では、図2に示すように、レーザ光線Lの光束56内
に位置させられ、レーザ光線Lを透過可能な2つの円形
のスリット52と、これらのスリット52を開閉するマ
スクロッド51・55と、これらのマスクロッド51・
55を高速移動させて各スリット52の開閉を高速に行
なうアクチュエータ53・57と、これらが実装された
ハウジング54とによって構成されており、これらのア
クチュエータ53・57によって各マスクロッド51・
55が進退動作せられることによって各スリット52が
高速開閉されることにより、分割された各レーザ光線L
1・L2の照射および遮断されるようになっている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the irradiation pattern forming means 3 is positioned within a light beam 56 of a laser beam L and has two circular slits 52 capable of transmitting the laser beam L; Mask rods 51 and 55 for opening and closing these slits 52;
Actuators 53 and 57 for moving the slits 52 at a high speed by opening and closing the slits 52 at high speed and a housing 54 on which these are mounted.
Each slit 52 is opened / closed at a high speed by the forward / backward movement of 55, so that each split laser beam L
The irradiation of 1 · L2 is cut off.

【0016】そして、アクチュエータ53・57は、た
とえばボイスコイルモータや積層型圧電アクチュエータ
等が用いられる。
As the actuators 53 and 57, for example, a voice coil motor or a laminated piezoelectric actuator is used.

【0017】一方、本実施形態においては、レーザ光線
L1・L2を加工物Wの所定のターゲット位置に高精度
に照射するために、図1に示すように、加工物Wの配列
パターンや形状とによって設定される加工パターンを設
定するための加工パターン演算手段60と、この加工パ
ターン演算手段60からの制御信号に基づいて照射パタ
ーン形成手段3の駆動制御をなす照射パターン制御回路
61と、X−Yステージ6の移動形態を設定する加工経
路演算手段62と、この加工経路演算手段62からの制
御信号に基づきX−Yステージ6の駆動制御をなすステ
ージ制御回路63と、加工パターン演算手段60と加工
経路演算手段62へ制御データを出力する実行データ生
成手段64と、装置全体の制御を行なうシステム制御手
段65とからなる制御手段が設けられている。
On the other hand, in the present embodiment, in order to irradiate the laser beams L1 and L2 to a predetermined target position of the workpiece W with high precision, as shown in FIG. Pattern calculating means 60 for setting a processing pattern set by the above, an irradiation pattern control circuit 61 for controlling the driving of the irradiation pattern forming means 3 based on a control signal from the processing pattern calculating means 60; Processing path calculating means 62 for setting the movement mode of the Y stage 6; a stage control circuit 63 for controlling the driving of the XY stage 6 based on a control signal from the processing path calculating means 62; Execution data generation means 64 for outputting control data to the machining path calculation means 62, and system control means 65 for controlling the entire apparatus. Control means is provided.

【0018】このように構成された本実施形態に係わる
レーザ加工装置は、レーザ発振器1から出力されたレー
ザ光線Lは、外部アッテネータ2で所定の出力に調整さ
れ、照射パターン形成手段3のスリット52を通り、対
物レンズ4で集光されて加工物Wの加工面に導かれる。
In the laser processing apparatus according to the present embodiment thus configured, the laser beam L output from the laser oscillator 1 is adjusted to a predetermined output by the external attenuator 2 and the slit 52 of the irradiation pattern forming means 3 is adjusted. And is condensed by the objective lens 4 and guided to the processing surface of the workpiece W.

【0019】ここで、外部アッテネータ2においてレー
ザ光線Lが、各スリット52を透過後2分割されて2つ
のレーザ光線L1・L2となされるとともに、各スリッ
ト52によって決定される所定の断面形状に整形された
後に、対物レンズ4により所定の倍率で加工物Wに照射
されることによりレーザ加工が行われる。
Here, the laser beam L in the external attenuator 2 is divided into two laser beams L1 and L2 after passing through each slit 52, and is shaped into a predetermined sectional shape determined by each slit 52. After that, the workpiece W is irradiated at a predetermined magnification by the objective lens 4 to perform laser processing.

【0020】そして、各レーザ光線L1・L2の照射お
よびその遮断が、スリット52がマスクロッド51・5
5によって高速で行なわれることによって行なわれ、こ
れに同期して、X−Yステージ6の駆動がなされること
により、加工物Wへの照射が正確に行なわれる。
The irradiation of each of the laser beams L1 and L2 and the cutoff thereof are performed by the slit 52 formed by the mask rods 51.5.
5, the XY stage 6 is driven in synchronism with this, whereby the workpiece W is accurately irradiated.

【0021】そして、加工物Wが、図3に示すように、
2列に平行状態で並んでいるとすると、各スリット52
の間隔を加工物Wの整列の列間の間隔に応じて設定する
とともに、図3(a)に鎖線で示すように、両列を跨ぐ
ようにその照射領域を設置することにより、分割された
レーザ光線L1・L2が各列毎の加工物Wに同時に照射
され、2つの加工物Wへのレーザ加工が同時に行なわれ
る。
The workpiece W is, as shown in FIG.
Assuming that two slits are arranged in parallel, each slit 52
Are set in accordance with the intervals between the rows of alignment of the workpieces W, and as shown by the dashed line in FIG. The laser beams L1 and L2 are simultaneously irradiated on the workpieces W in each row, and laser processing on the two workpieces W is performed simultaneously.

【0022】また、図3(b)に示すように、分割され
たレーザ光線L1・L2を、走査方向にずらすことによ
り、各列毎に、隣接する2つの加工物Wへレーザ光線L
1・L2が同時照射されて、これらの2つの加工物Wへ
のレーザ加工が同時に行なわれる。
As shown in FIG. 3B, by shifting the divided laser beams L1 and L2 in the scanning direction, the laser beams L1
1 · L2 is simultaneously irradiated, and laser processing is performed on these two workpieces W at the same time.

【0023】したがって、加工物Wの全体としての位置
決め回数が図4に示す従来例に比して1/2となり、あ
るいは、走査速度を2倍とすることができ、その加工速
度の大幅な向上が図られる。
Accordingly, the number of times of positioning of the workpiece W as a whole can be reduced by half or the scanning speed can be doubled as compared with the conventional example shown in FIG. 4, and the processing speed can be greatly improved. Is achieved.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本レーザ加工装置
は、照射パターン形成手段によってレーザ光線の幅やパ
ターンを可変制御することにより、所定の配置、断面形
状の複数本のビームに分割し、前記分割ビームを加工対
象物に導き集光させレーザ加工することが可能である。
これらの機能により1回のレーザ出射で多点同時にレー
ザ加工可能が可能になり、結果として加工時間の短縮す
ることができる。
As described above, the present laser processing apparatus divides the laser beam into a plurality of beams having a predetermined arrangement and cross-sectional shape by variably controlling the width and pattern of the laser beam by the irradiation pattern forming means. The laser beam can be processed by guiding the split beam to an object to be processed and condensing it.
With these functions, laser processing can be performed simultaneously at multiple points with one laser emission, and as a result, processing time can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態を示すシステム構成図であ
る。
FIG. 1 is a system configuration diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態に用いられる照射パターン
形成手段の詳細図であり、(a)および(c)は平面
図、(b)は縦断面図である。
FIG. 2 is a detailed view of an irradiation pattern forming means used in one embodiment of the present invention, wherein (a) and (c) are plan views and (b) is a longitudinal sectional view.

【図3】本発明の一実施形態における加工工程を示す概
略図である。
FIG. 3 is a schematic view showing a processing step in one embodiment of the present invention.

【図4】一従来例における加工工程を示す概略図であ
る。
FIG. 4 is a schematic view showing a processing step in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ発振器 2 外部アッテネータ(出力調整手段) 3 照射パターン形成手段 4 対物レンズ 5 ミラー 6 ステージ 51・55 マスクロッド(照射パターン形成手段) 52 スリット(照射パターン形成手段) 53・57 アクチュエータ(照射パターン形成手段) 54 ハウジング(照射パターン形成手段) 56 光束 60 加工パターン演算手段(制御手段) 61 照射パターン制御回路(制御手段) 62 加工経路演算手段(制御手段) 63 ステージ制御回路(制御手段) 64 実行データ生成手段(制御手段) 65 システム制御手段(制御手段) L レーザ光線 L1・L2 レーザ光線 W 加工物(ワーク) REFERENCE SIGNS LIST 1 laser oscillator 2 external attenuator (output adjusting means) 3 irradiation pattern forming means 4 objective lens 5 mirror 6 stage 51/55 mask rod (irradiation pattern forming means) 52 slit (irradiation pattern forming means) 53/57 actuator (irradiation pattern forming) Means 54 Housing (irradiation pattern forming means) 56 Light flux 60 Processing pattern calculation means (control means) 61 Irradiation pattern control circuit (control means) 62 Processing path calculation means (control means) 63 Stage control circuit (control means) 64 Execution data Generation means (control means) 65 System control means (control means) L Laser beam L1 ・ L2 Laser beam W Workpiece (work)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23K 26/00 - 26/42 H05K 3/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B23K 26/00-26/42 H05K 3/00

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 レーザ発振器と、このレーザ発振器から
出力されたレーザ光線を所定の出力に調整する出力調整
手段と、この出力調整手段を通過させられたレーザ光線
が入射させられるとともに、このレーザ光線を複数に分
割しつつ、分割される各レーザ光線の断面を所定形状に
整形する照射パターン形成手段と、これらの分割された
レーザ光線を加工物へ向けて集光する対物レンズとを備
、前記照射パターン形成手段が、前記出力調整手段か
ら出力されるレーザ光線束の内側に配置されるととも
に、所定形状を有する複数のスリットと、これらのスリ
ットのそれぞれに対応して設けられ、これらのスリット
を高速開閉する開閉機構とによって構成され、かつ、前
記複数のスリットが、加工物の配列パターンに合致させ
られていることを特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser oscillator, an output adjusting means for adjusting a laser beam output from the laser oscillator to a predetermined output, and a laser beam passed through the output adjusting means is applied to the laser beam. While dividing the laser beam into a plurality of portions, an irradiation pattern forming means for shaping the cross section of each laser beam to be divided into a predetermined shape, and an objective lens for condensing these divided laser beams toward a workpiece , The irradiation pattern forming means is the output adjusting means;
Placed inside the laser beam bundle output from the
In addition, a plurality of slits having a predetermined shape,
These slits are provided for each of the
And an opening / closing mechanism that opens and closes at a high speed.
Multiple slits match the pattern of the workpiece
A laser processing apparatus , characterized in that it is used.
【請求項2】 前記照射パターン形成手段が交換可能と
なされていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ
加工装置。
2. The irradiation pattern forming means is exchangeable.
The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser processing apparatus is used.
【請求項3】 前記加工物の移動位置制御と、前記照射
パターン形成手段の駆動制御とを行なう制御手段が設け
られていることを特徴とする請求項1または請求項2に
記載のレーザ加工装置。
3. The method according to claim 1 , further comprising: controlling a moving position of the workpiece;
Control means for controlling driving of the pattern forming means is provided.
Claim 1 or Claim 2
The laser processing apparatus according to the above.
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