JP3133847U - Ultrasonic cleaning equipment - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の側面からの発塵がない超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本考案の超音波洗浄装置1は、容器2と、超音波発生装置3と、保持装置4とを有し、基板10を保持装置4に保持させ、容器10に予め配置された洗浄液6に鉛直姿勢で基板10全体を浸漬させる。基板10の下側側面5a、5bと、容器2の底面の間には第一、第二の遮蔽板15a、15bが配置されており、容器2の底面に配置された超音波発生装置3によって、洗浄液6中に容器2の底面から洗浄液6の表面に向けて超音波が放出され、超音波の一部は基板10の表面のダストに当たり、ダストを剥離させる。超音波の他の一部は、第一、第二の遮蔽板15a、15bに当たり、基板10の下側側面5a、5bには直接照射されず、基板10の下側側面5a、5bからダストは発生しない。
【選択図】図1
An ultrasonic cleaning apparatus that does not generate dust from the side surface of a substrate is provided.
An ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention includes a container, an ultrasonic generator, and a holding device. The substrate is held by the holding device and is disposed in advance in the container. The entire substrate 10 is immersed in the cleaning liquid 6 in a vertical posture. First and second shielding plates 15 a and 15 b are disposed between the lower side surfaces 5 a and 5 b of the substrate 10 and the bottom surface of the container 2, and the ultrasonic generator 3 disposed on the bottom surface of the container 2 is used. Then, ultrasonic waves are emitted into the cleaning liquid 6 from the bottom surface of the container 2 toward the surface of the cleaning liquid 6, and a part of the ultrasonic waves hits dust on the surface of the substrate 10 to peel off the dust. The other part of the ultrasonic waves hits the first and second shielding plates 15a and 15b, and is not directly applied to the lower side surfaces 5a and 5b of the substrate 10. Dust is not emitted from the lower side surfaces 5a and 5b of the substrate 10. Does not occur.
[Selection] Figure 1
Description
本考案は、マスク、マスクブランクス、レティクル等を洗浄する超音波洗浄装置の技術に関する。 The present invention relates to a technique of an ultrasonic cleaning apparatus for cleaning a mask, a mask blank, a reticle and the like.
従来より、マスク、マスクブランクス、レティクル等を洗浄する方法には、超音波洗浄法が用いられており、例えば図3に示すような超音波洗浄装置100が用いられている。
この超音波洗浄装置100は、スタンド102に保持具108が吊り下げられており、保持具108下端に、基板110が鉛直に保持された状態で、水槽101内の洗浄液111に浸漬されている。
Conventionally, an ultrasonic cleaning method has been used as a method for cleaning a mask, mask blanks, reticles, etc., for example, an
In this
基板110は矩形であり、保持具108との接触面積が小さくなるように、基板110の四頂点のうちの二頂点が位置する付近が保持され、他の二頂点のうちの一方が鉛直上方、他方が鉛直下方を向くように、基板110は斜めに保持されており、容器101底面に配置された超音波発生装置112を動作させて超音波を放出すると、超音波は水槽102の底面側から洗浄液111の表面に向かって進行する。
The
超音波洗浄装置100に用いられる超音波の周波数には、28kHz〜48kHzのkHz帯と、800kHz以上のMHz帯の二種類がある。
洗浄液111中にkHz帯の超音波が放出された場合は、基板110からの反射波との干渉によって泡が発生し、発生した泡が破裂する時に生じるエネルギーによって、基板110の表面に付着している微粒子や異物等のダストを剥離させることができる。
There are two types of ultrasonic frequencies used in the ultrasonic cleaning apparatus 100: a 28 kHz to 48 kHz kHz band and an 800 kHz or higher MHz band.
When ultrasonic waves in the kHz band are emitted into the cleaning
MHz帯の超音波が放出された場合は、超音波の振動周波数が高いため、放出された超音波は洗浄液111の内部を直進し、基板110に付着しているダストに衝突すると、ダストに大きなエネルギーが与えられ、ダストは基板110の表面から剥離する。
しかし、基板110の側面105が超音波発生装置112に向けられているため、いずれの周波数帯の超音波でも、基板110の表面だけではなく、基板110の側面105にも当たってしまう。
When ultrasonic waves in the MHz band are emitted, since the vibration frequency of the ultrasonic waves is high, the emitted ultrasonic waves travel straight through the cleaning
However, since the
図4の符号113a、113bはkHz帯の超音波を示しており、図5の符号114a、114bはMHz帯の超音波を示しており、それらの一部の超音波113b、114bが基板110の側面105に衝突し、他の大部分の超音波113a、114aが、基板110とは衝突しないで通過している。
いずれの場合も基板110表面からダストを除去することができるが、基板110の側面105は表面よりも加工が粗く、側面105に超音波が当たると、その一部が剥離され、大量のダストが発生する。発生したダストは洗浄液111中で拡散するため、一旦洗浄された基板110の表面に再付着し、基板110を汚染する等の問題がある。
従来技術の超音波洗浄装置は、例えば下記文献に記載されている。
Conventional ultrasonic cleaning apparatuses are described in, for example, the following documents.
基板の側面からの発塵がない超音波洗浄装置を提供する。 An ultrasonic cleaning apparatus that does not generate dust from the side surface of a substrate is provided.
上記課題を解決するために、本考案は、容器と、超音波発生装置と、保持装置とを有し、基板を前記保持装置に保持させ、前記容器に配置された液体に浸漬し、前記超音波発生装置によって、前記容器底面から前記液体の表面に向けて進行する超音波を発生させ、前記基板の洗浄を行なう超音波洗浄装置であって、前記保持装置が前記基板を前記液体内で鉛直に保持した状態では、前記基板の下方を向く下側側面と前記容器の底面との間の位置に、前記下側側面に面する遮蔽板が設けられた超音波洗浄装置である。
また、本考案は、前記遮蔽板は前記下側側面と平行に面するように配置された超音波洗浄装置である。
また、本考案は、前記基板は矩形であり、頂点が最下端に位置するように斜めに配置され、前記下側側面は、前記基板の下方を向く二側面で構成され、前記遮蔽板は、前記二側面とそれぞれ平行に面するように配置された超音波洗浄装置である。
また、本考案は、前記超音波発生装置は、周波数800kHz以上の超音波を発生するように構成された超音波洗浄装置である。
In order to solve the above problems, the present invention has a container, an ultrasonic generator, and a holding device, holds the substrate in the holding device, immerses in a liquid disposed in the container, and An ultrasonic cleaning device that cleans the substrate by generating an ultrasonic wave traveling from the bottom surface of the container toward the surface of the liquid by a sound wave generator, wherein the holding device holds the substrate vertically in the liquid In an ultrasonic cleaning apparatus, a shielding plate facing the lower side surface is provided at a position between the lower side surface facing the lower side of the substrate and the bottom surface of the container.
Moreover, this invention is an ultrasonic cleaning apparatus arrange | positioned so that the said shielding board may face in parallel with the said lower side surface.
Further, in the present invention, the substrate is rectangular, and is arranged obliquely so that the apex is located at the lowermost end, the lower side surface is constituted by two side surfaces facing the lower side of the substrate, and the shielding plate is It is an ultrasonic cleaning apparatus arrange | positioned so that it may each face in parallel with the said 2 side.
Further, the present invention is an ultrasonic cleaning apparatus configured such that the ultrasonic generator generates ultrasonic waves having a frequency of 800 kHz or more.
本考案によれば、基板の側面からの発塵が起こらない。 According to the present invention, dust generation from the side surface of the substrate does not occur.
本考案の超音波洗浄装置1は、図1に示すように、容器2と、超音波発生装置3と、保持装置4を有している。
容器2の外部には、スタンド5が立てられており、スタンド5からは、腕部20が水平に伸ばされている。
保持装置4は、第一、第二のロッド19a、19bと、第一、第二の支持部材11a、11bと、第一、第二の押さえ部材12a、12bを有している。
As shown in FIG. 1, the
A
The holding device 4 includes first and
第一の支持部材11aと第一の押さえ部材12aは、第一のロッド19aに固定されており、第二の支持部材11bと第二の押さえ部材12bは、第二のロッド19bに固定されている。
第一、第二の支持部材11a、11bの固定された位置は、第一、第二のロッド19a、19bの端部であり、第一、第二の押さえ部材12a、12bの固定された位置は、第一、第二の支持部材11a、11bよりも、第一、第二のロッド19a、19bの中央に近い位置である。
第一、第二のロッド19a、19bの反対側の端部は、腕部20に対して着脱可能に構成されている。
The
The fixed positions of the first and
The opposite ends of the first and
図1は、第一、第二のロッド19a、19bが腕部20に鉛直に取り付けられた状態を示している。
同図符号10は、洗浄対象の四角形の基板である。
FIG. 1 shows a state in which the first and
第一の支持部材11aと第二の支持部材11b、及び、第一の押さえ部材12aと第二の押さえ部材12bは、互いに向き合う位置に配置されており、基板10の四頂点のうち、互いに反対側に位置する二頂点の一方が第一の支持部材11aと第一の押さえ部材12aの間に挿入され、他方が第二の支持部材11bと第二の押さえ部材12bの間に挿入されており、第一、第二のロッド19a、19bが腕部20から鉛直に吊り下げられた状態では、第一、第二の支持部材11a、11bは第一、第二のロッド19a、19bの下端に位置し、第一、第二の押さえ部材12a、12bは、第一、第二の支持部材11a、11bよりも上方に位置するから、基板10は第一、第二の支持部材11a、11bの上に乗っており、第一、第二の支持部材11a、11bよりも上方の位置では、基板10の表面は第一、第二の押さえ部材12a、12bに接触し、鉛直姿勢から倒れないように、第一、第二の押さえ部材12a、12bによって、押さえられている。
The first supporting
ここでは、第一、第二の支持部材11a、11bと、第一、第二の押さえ部材12a、12bのうち、基板10と接触する部分には、基板10の厚みよりも幅広の溝が形成されており、基板10のうち、第一、第二の押さえ部材12a、12bの間に挿入された部分は、それらの溝に嵌め込まれ、鉛直姿勢が維持されている。
容器2には、予め洗浄液6が配置されており、鉛直姿勢で全体が洗浄液6に浸漬されている。
Here, a groove wider than the thickness of the
A cleaning
この状態では、基板10のうち、第一、第二の支持部材11a、11bと、第一、第二の押さえ部材12a、12bに挿入された二頂点は横方向を向けられており、他の二頂点のうち、一頂点が下方を向き、それと反対側に位置する一頂点が上方を向いており、従って、基板10の四側面のうち、二側面が上側を向き、他の二側面が下方を向く下側側面5a、5bとなっている。
In this state, the two vertices inserted into the first and
第一、第二のロッド19a、19bの下端には、取付棒によって、第一、第二の遮蔽板15a、15bが取り付けられている。
第一、第二の遮蔽板15a、15bは細長の板であり、基板10の下側側面5a、5bと容器2の底面の間に配置されており、それぞれ下側側面5a、5bと面するように、下側側面5a、5bとそれぞれ平行にされている。
First and
The first and
容器2の底面下には超音波発生装置3が配置されており、超音波発生装置3を動作させると、容器2の底面から洗浄液6内部に超音波が放出され、超音波が洗浄液6内部を洗浄液6の液面方向に向けて進行すると、超音波の一部は基板10の表面のダストに当たり、ダストを剥離させる。
超音波の他の一部は、第一、第二の遮蔽板15a、15bに当たる。
An
The other part of the ultrasonic waves hits the first and
この超音波発生装置3は、周波数800kHz以上、1MHz以下のMHz帯の周波数の超音波を放出しており、MHz帯なので放出された超音波は直進し、第一、第二の遮蔽板15a、15bの影の部分になる、基板10の下側側面5a、5bには、超音波は直接照射されない。
The
図2は、基板10と超音波60の進行方向の関係を説明するための図面であり、第一、第二の遮蔽板15a、15bに当たった超音波60が跳ね返される。
第一、第二の遮蔽板15a、15bは、基板10の幅と同じか、それよりも僅かに幅広に形成されている。また、第一、第二の遮蔽板15a、15bの下端は互いに接触されており、基板10の二個の下側側面5a、5bは、第一、第二の遮蔽板15a、15bの影になり、超音波60は直接照射されないようになっている。従って、基板10の下側側面5a、5bからダストは発生しない。
FIG. 2 is a diagram for explaining the relationship between the traveling direction of the
The first and
第一、第二の遮蔽板15a、15bの材料には、樹脂(例えばテフロン等)、金属(例えばSUS等)などが用いられており、超音波60に対して耐久性を有し、超音波60が照射されても第一、第二の遮蔽板15a、15bからもダストが発生することはない。
Resin (for example, Teflon or the like), metal (for example, SUS or the like), or the like is used as the material for the first and
なお、第一、第二の遮蔽板15a、15bの材料は、テフロンや金属に限定されるものではなく、超音波60に対して耐性を有し、超音波60が直接当たった時に発塵しない材料であれば用いることができる。
The material of the first and
第一、第二の遮蔽板15a、15bは分離可能に構成されており、第一、第二の遮蔽板15a、15bの先端同士を密着させて、基板10の二側面上に超音波60の影の部分が配置されるようにしたが、一枚の遮蔽板を折り曲げて基板の下方を向く二側面と平行にしても良い。
The first and
なお、上記実施例では、洗浄後に基板10を容器2から取り出した際に水切れを良くするために、基板10の一頂点を下方に向け、反対側の頂点を上方に向けたが、基板10を鉛直にする際に、基板10の四側面を水平又は鉛直のいずれかにし、一側面を下方に向けて洗浄液6に浸漬し、容器2の底面から放射される超音波によって超音波洗浄をしてもよい。
In the above embodiment, in order to improve drainage when the
この場合、下方を向いた一側面と平行に遮蔽板を配置すればいよい。
また、円形の基板を鉛直にして洗浄液6に浸漬し、容器2の底面から放射される超音波60によって超音波洗浄をする場合、基板の側面のうち、少なくとも下側半分の部分を覆うような基板と同心の半円状の遮蔽板を設けてもよい。
In this case, the shielding plate may be arranged in parallel with the one side surface facing downward.
Further, when the circular substrate is vertically immersed in the cleaning
なお、本考案では、第一、第二の遮蔽板15a、15bの幅は基板10の厚さと同程度にしたが、基板10の厚さよりも狭い場合は、超音波の遮蔽効果を低下させるが、逆に、基板10の厚さよりも広い場合、基板10の表面への超音波の照射量が減少し、洗浄効果が低下するので、基板10の厚さと同程度であることが望ましい。
上記実施例では、容器2内に洗浄液6を配置したが、この洗浄液6は、純水、薬品が溶解された水、有機溶剤等の液体を用いることができる。
In the present invention, the widths of the first and
In the above embodiment, the cleaning
1…超音波洗浄装置 2…容器 3…超音波発生装置 4…保持装置 5a、5b…下側側面 6…洗浄液 10…基板 15a、15b…第一、第二の遮蔽板 60…超音波
DESCRIPTION OF
Claims (4)
基板を前記保持装置に保持させ、前記容器に配置された液体に浸漬し、
前記超音波発生装置によって、前記容器底面から前記液体の表面に向けて進行する超音波を発生させ、前記基板の洗浄を行なう超音波洗浄装置であって、
前記保持装置が前記基板を前記液体内で鉛直に保持した状態では、前記基板の下方を向く下側側面と前記容器の底面との間の位置に、前記下側側面に面する遮蔽板が設けられた超音波洗浄装置。 A container, an ultrasonic generator, and a holding device;
Holding the substrate in the holding device, immersing in a liquid placed in the container;
The ultrasonic generator generates ultrasonic waves that travel from the bottom surface of the container toward the surface of the liquid to clean the substrate,
When the holding device holds the substrate vertically in the liquid, a shielding plate facing the lower side surface is provided at a position between the lower side surface facing the lower side of the substrate and the bottom surface of the container. Ultrasonic cleaning equipment.
前記下側側面は、前記基板の下方を向く二側面で構成され、前記遮蔽板は、前記二側面とそれぞれ平行に面するように配置された請求項1記載の超音波洗浄装置。 The substrate is rectangular and is arranged obliquely so that the apex is located at the lowest end,
The ultrasonic cleaning apparatus according to claim 1, wherein the lower side surface includes two side surfaces facing the lower side of the substrate, and the shielding plate is arranged to face each of the two side surfaces in parallel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (2)
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CN107023390A (en) * | 2015-12-15 | 2017-08-08 | 通用电气公司 | Equip cleaning systems and method |
CN108262304A (en) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 中核建中核燃料元件有限公司 | One kind feeds intake container ultrasonic cleaning basket |
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