JP3116972B2 - Eye axis length measuring device - Google Patents

Eye axis length measuring device

Info

Publication number
JP3116972B2
JP3116972B2 JP03277922A JP27792291A JP3116972B2 JP 3116972 B2 JP3116972 B2 JP 3116972B2 JP 03277922 A JP03277922 A JP 03277922A JP 27792291 A JP27792291 A JP 27792291A JP 3116972 B2 JP3116972 B2 JP 3116972B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
eye
light
corneal
astigmatism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP03277922A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05115437A (en
Inventor
関根明彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP03277922A priority Critical patent/JP3116972B2/en
Publication of JPH05115437A publication Critical patent/JPH05115437A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3116972B2 publication Critical patent/JP3116972B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Eye Examination Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、被検眼の屈折力に応
じて測定光束を補正光学系で補正して前記被検眼に照射
し、該被検眼眼底で反射した反射光が入射する測定光学
系を備え、該測定光学系に入射した反射光を利用して被
検眼の眼軸長を測定する眼軸長測定装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a measuring optical system in which a measuring light beam is corrected by a correcting optical system in accordance with the refractive power of an eye to be inspected, and is radiated to the eye to be inspected. The present invention relates to an apparatus for measuring an axial length of an eye to be inspected using reflected light incident on the measuring optical system.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、測定光を被検眼に照射し、こ
の被検眼の眼底で反射する反射光を、基準となる参照光
と干渉させて眼軸長を測定する眼軸長測定装置が知られ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known an axial length measuring apparatus which irradiates a measuring light to an eye to be examined and makes the reflected light reflected by the fundus of the eye to interfere with a reference light serving as a reference to measure the axial length. Are known.

【0003】この眼軸長測定装置では、被検眼の屈折力
を補正する屈折力補正光学系を設けて、被検眼の屈折力
に拘らず常に測定光を眼底に集光できるようにしてい
る。これは、照射される測定光が眼底で十分に集光され
ないと、得られる反射光が弱くなるとともに、眼底の反
射光の波面と参照光の波面とが大きく異なって十分な干
渉光を得ることができなくなり、正確な眼軸長の測定に
支障を来たすので、これを防止するためのものである。
In this eye axial length measuring apparatus, a refractive power correcting optical system for correcting the refractive power of the eye to be examined is provided so that the measuring light can always be focused on the fundus irrespective of the refractive power of the eye to be examined. This is because if the irradiated measurement light is not sufficiently focused on the fundus, the reflected light obtained will be weak, and the wavefront of the reflected light of the fundus and the wavefront of the reference light will be significantly different, and sufficient interference light will be obtained. Therefore, accurate measurement of the axial length is hindered, which is intended to prevent this.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、被検眼
が乱視を伴っている場合には、屈折力補正光学系では測
定光を眼底に十分に集光させることができず、反射光量
の不足により正確な眼軸長の測定を行なうことができな
くなるという問題があった。
However, when the eye to be examined is accompanied by astigmatism, the refractive power correcting optical system cannot sufficiently collect the measurement light on the fundus, and it is difficult to accurately measure the measurement light due to the shortage of reflected light. There is a problem that it becomes impossible to measure the eye axial length.

【0005】この発明は、上記問題点に鑑みて為された
もので、その目的とするところは、被検眼が乱視を伴っ
ていても、測定光を眼底に集光させることのできる眼軸
長測定装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an axial length that allows measurement light to be condensed on the fundus even when the eye to be examined is astigmatic. It is to provide a measuring device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、上記目的を
達成するため、被検眼の屈折力に応じて測定光束を補正
光学系で補正して前記被検眼に照射し、該被検眼眼底で
反射した反射光が入射する測定光学系を備え、該測定光
学系に入射した反射光を利用して被検眼の眼軸長を測定
する眼軸長測定装置であって、前記被検眼角膜をリング
状に照明するリング照明光学系と、前記被検眼角膜で反
射する角膜反射光が入射する角膜測定光学系と、この角
膜測定光学系に入射する角膜反射光から被検眼角膜の曲
率半径を演算して乱視強度および乱視軸を求める角膜曲
率演算手段と、前記補正光学系は、その光軸に対して回
転可能に設けられ、その回動量に応じて補正強度や乱視
軸の方向が変わる乱視補正光学系と、前記角膜曲率演算
手段によって演算される乱視強度および乱視軸に基づい
て前記乱視補正光学系を回転させて被検眼角膜の乱視を
補正する回転手段と、を備えていることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention corrects a measurement light beam according to the refractive power of an eye to be inspected by a correction optical system and irradiates the light to the eye to be inspected. An eye axial length measuring apparatus that includes a measuring optical system on which reflected light is incident, and measures an axial length of an eye to be inspected using reflected light incident on the measuring optical system, wherein the eye cornea is ring-shaped. A ring illumination optical system that illuminates the cornea, a corneal measurement optical system on which corneal reflection light reflected by the cornea of the eye is incident, and a radius of curvature of the cornea of the eye to be calculated from the corneal reflection light incident on the cornea measurement optical system. Corneal curvature calculating means for obtaining the astigmatic intensity and the astigmatic axis, and the correction optical system rotate with respect to the optical axis.
The astigmatism correction optical system is provided rotatably, the correction intensity and the direction of the astigmatism axis change according to the amount of rotation, and the astigmatism correction optical system based on the astigmatism intensity and the astigmatism axis calculated by the corneal curvature calculation means. Rotating means for rotating and correcting astigmatism of the cornea of the eye to be examined.

【0007】[0007]

【作用】この発明は、上記構成により、リング照明光学
系が被検眼角膜の内側にリング虚像を形成させ、角膜測
定光学系が角膜で反射する角膜反射光を受光し、角膜曲
率演算手段が前記角膜反射光から被検眼角膜の曲率半径
を演算するとともに乱視強度および乱視軸を演算し、回
転手段が乱視強度および乱視軸に基づいて前記乱視補正
光学系を回転させて被検眼角膜の乱視を補正する。
According to the present invention, with the above arrangement, the ring illumination optical system forms a ring virtual image inside the cornea of the eye to be inspected, the corneal measurement optical system receives the corneal reflection light reflected by the cornea, and the corneal curvature calculating means includes: Calculate the radius of curvature of the cornea of the eye to be examined from the corneal reflected light, calculate the astigmatic intensity and the astigmatic axis, and rotate the astigmatism correcting optical system based on the astigmatic intensity and the astigmatic axis to correct the astigmatism of the cornea of the eye to be examined. I do.

【0008】[0008]

【実施例】以下、この発明に係る眼軸長測定装置の実施
例を図面に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an eye axial length measuring device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0009】図1は眼軸長測定装置の光学系の配置を示
したものであり、この眼軸長測定装置は、眼軸長測定光
学系(測定光学系)10と角膜曲率測定光学系(角膜測定
光学系)100とを有している。
FIG. 1 shows an arrangement of an optical system of an eye axial length measuring apparatus. This optical axis length measuring apparatus includes an optical axis length measuring optical system (measuring optical system) 10 and a corneal curvature measuring optical system ( Corneal measurement optical system) 100.

【0010】眼軸長測定光学系10は、被検眼Eに向けて
レーザー光を射出する測定光学系20と、基準光路を有す
る基準干渉光学系70とを有している。
The axial length measuring optical system 10 has a measuring optical system 20 for emitting a laser beam toward the eye E to be examined, and a reference interference optical system 70 having a reference optical path.

【0011】測定光学系20は、レーザー光を射出する半
導体レーザー(レーザー光源)11と、そのレーザー光を
平行光束にするコリメータレンズ12と、反射光の半導体
レーザー11への入射を防止する光アイソータ13と、レ
ーザー光を2分割して一方のレーザー光を基準干渉光学
系70へと導くビームスプリッタ14と、その他方のレーザ
ー光を被検眼Eに向けて照射する測定干渉光学系30とを
備えている。前記半導体レーザー11には、図示しない加
熱冷却板が取り付けられ、この加熱冷却板にペルチェ効
果型素子(図示せず)が取り付けられている。そして、
このペルチェ効果型素子を制御することにより、半導体
レーザー11チップの温度を制御する。
The measuring optical system 20 includes a semiconductor laser (laser light source) 11 for emitting laser light, a collimator lens 12 for converting the laser light into a parallel light beam, and an optical isolator for preventing reflected light from entering the semiconductor laser 11. and Les chromatography motor 13, a beam splitter 14 which leads to the reference interference optical system 70 of one of the laser beam is divided into two laser beams, measuring interference optical system to irradiate toward the other side of the laser beam onto the eye E 30 And A heating / cooling plate (not shown) is attached to the semiconductor laser 11, and a Peltier effect element (not shown) is attached to the heating / cooling plate. And
By controlling the Peltier effect element, the temperature of the semiconductor laser 11 chip is controlled.

【0012】測定干渉光学系30は、前記ビームスプリッ
タ14で分割された他方のレーザー光を角膜照射レーザー
光と眼底照射レーザー光とに分割するビームスプリッタ
15と、前記角膜照射レーザー光を対物レンズ17を介して
被検眼Eの角膜頂点へ集光させて角膜Eaを照射する角
膜照射光学系40と、前記眼底照射レーザー光を対物レン
ズ17を介して被検眼Eの眼底Erへ集光させて眼底Er
を照射する眼底照射光学系50と、眼底Erで反射する眼
底反射光と角膜Eaで反射する角膜反射光との干渉光を
受光する受光光学系60とを有している。
The measurement interference optical system 30 is a beam splitter for splitting the other laser beam split by the beam splitter 14 into a corneal irradiation laser beam and a fundus irradiation laser beam.
15, a corneal irradiation optical system 40 for converging the corneal irradiation laser light to a vertex of the cornea of the eye E through an objective lens 17 and irradiating the cornea Ea, and the fundus irradiation laser light through the objective lens 17 The light is focused on the fundus Er of the eye E to be examined and the fundus Er is collected.
And a light receiving optical system 60 that receives interference light between the fundus reflection light reflected by the fundus Er and the cornea reflection light reflected by the cornea Ea.

【0013】角膜照射光学系40は、全反射ミラー41と、
眼底照射光学系50と角膜照射光学系40の光路長を一致さ
せる光路長補正板42と、集光レンズ43と、角膜頂点Ea
と共役位置に配置され角膜以外の反射光を除去する絞り
44とを有している。光路長補正板42は、少なくとも2つ
の部材から構成され後述する乱視補正光学系が光路中に
あるかないかによって補正する光路長が異なるように構
成されている。
The corneal irradiation optical system 40 includes a total reflection mirror 41,
An optical path length correction plate 42 for matching the optical path lengths of the fundus illumination optical system 50 and the corneal illumination optical system 40, a condenser lens 43, and a corneal vertex Ea
Aperture located at a conjugate position to remove reflected light other than the cornea
44 and has. The optical path length correction plate 42 is composed of at least two members, and is configured such that the optical path length to be corrected differs depending on whether or not an astigmatism correction optical system described later exists in the optical path.

【0014】眼底照射光学系50は、集光レンズ52と、眼
底Erと共役位置に配置され眼底以外の反射光を除去す
る絞り53と、コリメータレンズ54と、全反射ミラー55
と、補正光学系56と、ビームプリッタ57とを有してい
る。このビームスプリッタ57は角膜照射光学系40の光束
と眼底照射光学系50の光束とを合成するとともに同軸光
として被検眼Eを照射するためのものである。
The fundus illuminating optical system 50 includes a condenser lens 52, an aperture 53 disposed at a position conjugate with the fundus Er for removing reflected light other than the fundus, a collimator lens 54, and a total reflection mirror 55.
When, and a correction optical system 56, and a beam scan splitter 57. The beam splitter 57 combines the light beam of the cornea irradiation optical system 40 with the light beam of the fundus irradiation optical system 50 and irradiates the eye E as coaxial light.

【0015】補正光学系56は、光軸方向に移動して被検
眼Eの屈折力を補正する屈折力補正レンズ58と、被検眼
Eの乱視を補正する乱視補正光学部材(乱視補正光学
系)59とを有している。
The correcting optical system 56 moves in the optical axis direction to correct the refractive power of the eye E, and an astigmatism correcting optical member (astigmatic correcting optical system) for correcting astigmatism of the eye E. 59 and has.

【0016】乱視補正光学部材59は、図示の実線位置か
ら破線で示す光路外へ移動できるようになっており、絶
対値が等しく符号が互いに異なる円柱レンズからなる2
つのクロスシリンダ59a,59b(図2参照)から構成さ
れている。
The astigmatism correcting optical member 59 can be moved from the solid line position shown in the drawing to the outside of the optical path shown by the broken line, and is composed of a cylindrical lens having the same absolute value and different signs.
It is composed of two cross cylinders 59a and 59b (see FIG. 2).

【0017】クロスシリンダ59a,59bは、図2に示す
ように、光軸50a回りに回転可能となっており、クロス
シリンダ59a,59bの交差角2αを保ったまま同方向
へ、すなわち、クロスシリンダ59a,59bの円柱軸M,
Nの中間方向の軸線Pを光軸50a回りに回転されること
により、被検眼Eの乱視軸を補正することができる。
又、軸線Pを中心にして互いに逆方向へクロスシリンダ
59a,59bを等角度回転させて交差角2αを調整するこ
とにより被検眼Eの乱視強度が補正される。
As shown in FIG. 2, the cross cylinders 59a and 59b are rotatable around the optical axis 50a. The cross cylinders 59a and 59b maintain the cross angle 2α of the cross cylinders 59a and 59b in the same direction. 59a, 59b cylindrical axis M,
By rotating the axis P in the intermediate direction of N around the optical axis 50a, the astigmatic axis of the eye E can be corrected.
Also, cross cylinders in opposite directions about axis P
The astigmatic strength of the eye E is corrected by adjusting the intersection angle 2α by rotating the 59a and 59b by the same angle.

【0018】クロスシリンダ59a,59bは、図3に示す
ように、基台1に固定された円筒2の両端に回転自在に
嵌合された回転筒3,4に保持されている。回転筒3,
4は歯車5,6を介してモータ7,8によって回転さ
れ、この回転筒3,4の回転によってクロスシシリンダ
59a,59bが光軸50a回りに回転されるものである。基
台1は例えば図示しないソレノイド等によって矢印方向
へ移動され、この移動により乱視補正光学部材59が光路
外や光路内へ移動される。
As shown in FIG. 3, the cross cylinders 59a and 59b are held by rotary cylinders 3 and 4 rotatably fitted to both ends of a cylinder 2 fixed to a base 1. Rotating cylinder 3,
4 is rotated by motors 7 and 8 via gears 5 and 6, and the rotation of the rotary cylinders 3 and 4 causes the cross cylinder to rotate.
59a and 59b are rotated around the optical axis 50a. The base 1 is moved in the direction of the arrow by, for example, a solenoid (not shown), and the astigmatism correction optical member 59 is moved outside or inside the optical path by this movement.

【0019】乱視補正光学部材59が、測定光学系の光路
中に挿入されると、その分だけ光路長が長くなる。これ
が測定結果に誤差として表れないようにするため、角膜
照射光学系40に設けられている光路長補正板42を傾け、
角膜照射光学系40の光路長も同じ量だけ長くなるように
構成されている。
When the astigmatism correcting optical member 59 is inserted into the optical path of the measuring optical system, the optical path length becomes longer by that amount. To prevent this from appearing as an error in the measurement result, tilt the optical path length correction plate 42 provided in the corneal irradiation optical system 40,
The optical path length of the corneal irradiation optical system 40 is configured to be longer by the same amount.

【0020】基準干渉光学系70は、ビームスプリッタ1
4,71と、全反射ミラー72と、全反射ミラー73と、受光
器74等とを有している。そして、ビームスプリッタ14,
71と、全反射ミラー72,73等とで基準干渉光路が形成さ
れ、全反射ミラー72で反射されるレーザー光と全反射ミ
ラー73で反射されるレーザー光とがビームスプリッタ71
によって合成され干渉し、受光器74がその干渉光を受光
するようになっている。また、ビームスプリッタ14から
全反射ミラー72と全反射ミラー73とまでの光路差である
基準光路差2(L1−L2)は眼軸長Leyeより十分
長く設定されている。角膜曲率測定光学系100は、被検
眼Eの角膜Eaに前記レーザー光の波長領域と異なる波
長領域の光であってメリジオナル断面が平行光であるリ
ング状の光を照明するリング照明光学系101と、前記レ
ーザー光を透過しパターン光を反射するダイクロイック
ミラー102と、リレーレンズ103と、全反射ミラー104
と、結像レンズ105と、絞り106と、CCD等からなる2
次元撮像素子107とを有している。
The reference interference optical system 70 includes a beam splitter 1
4, 71, a total reflection mirror 72, a total reflection mirror 73, a light receiver 74 and the like. And the beam splitter 14,
A reference interference optical path is formed by 71 and total reflection mirrors 72, 73, etc., and the laser light reflected by total reflection mirror 72 and the laser light reflected by total reflection mirror 73 are beam splitter 71.
The light receiving device 74 receives the interference light. The reference optical path difference 2 (L1-L2), which is the optical path difference from the beam splitter 14 to the total reflection mirror 72 and the total reflection mirror 73, is set to be sufficiently longer than the eye axis length Leye. The corneal curvature measurement optical system 100 includes a ring illumination optical system 101 that illuminates the cornea Ea of the eye E with light in a wavelength region different from the wavelength region of the laser beam and has a meridional cross section as parallel light. A dichroic mirror 102 that transmits the laser light and reflects the pattern light, a relay lens 103, and a total reflection mirror 104.
, An imaging lens 105, an aperture 106, and a CCD
And a three-dimensional imaging element 107.

【0021】いま、半導体レーザー11からレーザー光が
射出されてコリメータレンズ12,光アイソレータ13,ビ
ームスプリッタ14を介して測定干渉光学系30のビームス
プリッタ15に達すると、該レーザー光が角膜照射レーザ
ー光と眼底照射レーザー光とに分割される。そして、角
膜照射レーザー光は角膜照射光学系40によって角膜頂点
に集光されて角膜Eaを照射する。該角膜照射用レーザ
ー光は角膜Eaで反射され、この反射した角膜反射光が
角膜照射光学系40を逆行する。角膜照射光学系40の絞り
44は角膜反射以外の光を除去するので、角膜反射光のみ
が絞り44を通過し平行光束となってビームスプリッタ15
に到達する。
Now, when a laser beam is emitted from the semiconductor laser 11 and reaches the beam splitter 15 of the measurement interference optical system 30 via the collimator lens 12, the optical isolator 13, and the beam splitter 14, the laser beam is irradiated with the corneal irradiation laser beam. And a fundus irradiation laser beam. Then, the corneal irradiation laser light is converged on the corneal apex by the corneal irradiation optical system 40 and irradiates the cornea Ea. The cornea irradiation laser light is reflected by the cornea Ea, and the reflected cornea reflected light travels back through the cornea irradiation optical system 40. Aperture of corneal irradiation optical system 40
44 removes light other than the corneal reflection, so that only the corneal reflected light passes through the diaphragm 44 to become a parallel light beam, and the beam splitter 15
To reach.

【0022】他方、ビームスプリッタ15で分割された眼
底照射用レーザー光は眼底照射光学系50によって眼底E
rへ集光されて眼底Erを照射する。そして、該眼底照
射用レーザー光は眼底Erで反射され、この反射した眼
底反射光が眼底照射光学系50を逆光する。眼底照射光学
系50の絞り53は眼底反射以外の光を除去するので眼底反
射光のみが絞り53を通過し平行光束となってビームスプ
リッタ15に到達する。そして、ビームスプリッタ15で角
膜反射光と眼底反射光とが干渉し、この干渉光は受光光
学系60へ導かれる。
On the other hand, the fundus irradiating laser beam split by the beam splitter 15 is applied to the fundus
r and is irradiated to the fundus Er. Then, the fundus irradiation laser light is reflected by the fundus Er, and the reflected fundus reflected light is reflected by the fundus irradiation optical system 50. Since the stop 53 of the fundus illumination optical system 50 removes light other than the fundus reflection, only the fundus reflection light passes through the stop 53 and reaches the beam splitter 15 as a parallel light flux. Then, the cornea reflected light and the fundus reflected light interfere with each other at the beam splitter 15, and the interference light is guided to the light receiving optical system 60.

【0023】受光光学系60は、結像レンズ61と、受光器
62とを有し、ビームスプリッタ15で干渉された干渉光は
結像レンズ61によって受光器62の受光面62aに集光さ
れ、受光面62aに干渉縞が形成される。そして、受光器
62は干渉縞の強度に応じた受光信号を出力する。
The light receiving optical system 60 includes an image forming lens 61 and a light receiving device.
62, the interference light interfered by the beam splitter 15 is condensed on the light receiving surface 62a of the light receiver 62 by the imaging lens 61, and an interference fringe is formed on the light receiving surface 62a. And the receiver
62 outputs a light receiving signal according to the intensity of the interference fringes.

【0024】一方、ビームスプリッタ14で分割されて基
準干渉系70へ入射したレーザー光は、さらにビームスプ
リッタ71で分割されて全反射ミラー72,73に達し、ここ
で反射して再度ビームスプリッタ71へ達する。ビームス
プリッタ71では、各反射光が合成されて互いに干渉を起
し、この干渉光が受光器74に受光され、受光器74が干渉
光の強さに応じた受光信号を出力する。
On the other hand, the laser beam split by the beam splitter 14 and incident on the reference interference system 70 is further split by the beam splitter 71 and reaches the total reflection mirrors 72 and 73, where it is reflected and again transmitted to the beam splitter 71. Reach. In the beam splitter 71, the reflected lights are combined to cause interference with each other, and the interference light is received by the light receiver 74, and the light receiver 74 outputs a light reception signal according to the intensity of the interference light.

【0025】ここで、半導体レーザー11から射出される
レーザー光の波長をある範囲で変化させたときの受光器
62,74の出力信号に基づいて眼軸長を求める。
Here, the light receiving device when the wavelength of the laser light emitted from the semiconductor laser 11 is changed within a certain range
The axial length is obtained based on the output signals of 62 and 74.

【0026】測定干渉光学系30のビームスプリッタ15か
ら眼底照射光学系50を経由して眼底Erまでの往復光路
と、ビームスプリッタ15から角膜照射光学系40を経由し
て角膜Eaまでの往復光路の光路差は、眼底照射光学系
50の光路と角膜照射光学系40の光路とが同じであるから
2Leye(眼軸長の空気換算した値)となる。
The reciprocating optical path from the beam splitter 15 of the measurement interference optical system 30 to the fundus Er via the fundus irradiation optical system 50 and the reciprocal optical path from the beam splitter 15 to the cornea Ea via the corneal irradiation optical system 40 are described. The optical path difference is determined by the fundus illumination optical system.
Since the optical path of 50 and the optical path of the corneal irradiation optical system 40 are the same, it is 2Leye (a value obtained by converting the axial length of the eye to air).

【0027】基準干渉光学系70の基準光路の光路差をL
=2(L1−L2)、レーザー光の波長をλ、波長変化
量を△λとすると(Lは一定)、初期の受光器74での位
相差は2π(L/λ)、波長変化後の位相差は2π{L
/(λ+△λ)}であり、波長を連続的に変化させるこ
とにより、位相差が2π(L/λ)から{L/(λ+△
λ)}へ連続的に変化する。ここで、λ》△λとする
と、波長変化後の位相差は、2π(L/λ−L△λ/λ
2表わせ、位相差の変化は、2π(L△λ/λ2)と
なり、波長変化により受光器74で観測する干渉縞の強度
が周期的に変化する。
The optical path difference of the reference optical path of the reference interference optical system 70 is L
= 2 (L1−L2), the wavelength of the laser beam is λ, and the amount of change in wavelength is △ λ (L is constant), the initial phase difference at the photodetector 74 is 2π (L / λ), The phase difference is 2π {L
/ (Λ + {λ)}, and by continuously changing the wavelength, the phase difference is changed from 2π (L / λ) to {L / (λ + △).
λ)}. Here, if λ >> △ λ, the phase difference after the wavelength change is 2π (L / λ−L △ λ / λ
2 ) , the change of the phase difference is 2π (L △ λ / λ 2 ), and the intensity of the interference fringe observed by the light receiver 74 periodically changes due to the wavelength change.

【0028】同様に、受光器62では、位相差の変化が2
π(2Leye△λ/λ2)となり、受光器62で観測さ
れる干渉縞の強度が変化する。これら周期的に変化する
強度の信号から眼軸長を算出する。
Similarly, in the light receiver 62, the change in the phase difference is 2
π (2Leye △ λ / λ 2 ), and the intensity of interference fringes observed by the light receiver 62 changes. The axial length is calculated from the signals of these periodically changing intensities.

【0029】受光器62での位相差の変化をφ1、受光器
74での位相差の変化をφ2とすると、 φ1=2π(2Leye△λ/λ2)…(1) φ2=2π(L△λ/λ2) …(2) となる。これらより、△λ/λ2を消去すると、 Leye=L・φ1/2φ2 …(3) となり、受光器62,72で得られる信号の位相差の変化量
を求めることによりLeyeが算出できる(Lは既
知)。Leyeが求まると、眼球内部の屈折率neye
(構造、組成を考慮した平均値)で割ることにより眼軸
長が求められる。
The change in the phase difference at the photodetector 62 is φ1,
Assuming that the change in the phase difference at 74 is φ2, φ1 = 2π (2Leye △ λ / λ 2 ) (1) φ2 = 2π (L △ λ / λ 2 ) (2) From these, when △ λ / λ 2 is eliminated, Leye = L · φ1 / 2φ2 (3), and Leye can be calculated by calculating the amount of change in the phase difference between the signals obtained by the photodetectors 62 and 72 (L Is known). When Leye is found, the refractive index eyee inside the eyeball
The axial length is determined by dividing by (average value in consideration of the structure and composition).

【0030】 眼軸長(AL)=Leye/neye…(4) 次に、波長変化と信号処理について説明する。Eye axial length (AL) = Lye / neye (4) Next, the wavelength change and signal processing will be described.

【0031】半導体レーザー11はパルス(図5の(a)
参照)状に駆動される。半導体レーザーをONにすると、
半導体レーザー11チップの温度が上昇していき、その温
度が平衡に達するまでに時間がかかる。そして、半導体
レーザー11チップの温度が変化すると発振波長が変化
し、温度と波長の関係はモードホップの起こる位置以外
では1対1に対応する。すなわち、半導体レーザー11を
ONにすると半導体レーザー11チップの温度変化が起こ
り、付随して射出レーザー光の波長変化が起こる。
The semiconductor laser 11 is pulsed (FIG. 5 (a)
Reference). When the semiconductor laser is turned on,
The temperature of the semiconductor laser 11 chip rises, and it takes time for the temperature to reach equilibrium. When the temperature of the semiconductor laser 11 chip changes, the oscillation wavelength changes, and the relationship between the temperature and the wavelength corresponds one-to-one except at the position where the mode hop occurs. That is, the semiconductor laser 11
When turned on, the temperature of the semiconductor laser 11 chip changes, and the wavelength of the emitted laser beam changes accordingly.

【0032】この温度変化は、矩形波信号図5の(b)
に示すように、発振開始直後の変化が急激で、次第に収
斂していく。一定時間後、半導体レーザー11をOFFして
温度を元の状態に復帰させると共に、レーザー光の照射
を停止する。半導体レーザ11のバルス駆動により平均の
照射光量を少なくして測定時の光量を上げることができ
る。パルス幅は波長変化の幅を考慮して決める。例えば
1KHz程度の速さで半導体レーザー11を矩形駆動させ
ると、温度変化に対して波長が変化する主要部分の利用
ができ、しかも再現性もある。
This temperature change is represented by a square wave signal in FIG.
As shown in (1), the change immediately after the start of oscillation is abrupt and gradually converges. After a certain time, the semiconductor laser 11 is turned off to return the temperature to the original state, and the irradiation of the laser beam is stopped. By the pulse driving of the semiconductor laser 11, the average irradiation light amount can be reduced to increase the measurement light amount. The pulse width is determined in consideration of the width of the wavelength change. For example, when the semiconductor laser 11 is driven in a rectangular shape at a speed of about 1 KHz, it is possible to use a main part whose wavelength changes with a change in temperature, and also has reproducibility.

【0033】半導体レーザー11は、モードホップ間隔が
波長変化幅より広いものを使用し、パルス期間の温度変
化の間にモードホップが起きないように、半導体レーザ
ー11の基準温度を図4に示す駆動制御回路201で図示し
ないペルチェ素子で制御しておく。つまり、レーザー光
の基準波長を制御しておく。
The semiconductor laser 11 has a mode hop interval wider than the wavelength change width, and the reference temperature of the semiconductor laser 11 shown in FIG. 4 is set so that the mode hop does not occur during the temperature change during the pulse period. The control circuit 201 controls the Peltier device (not shown). That is, the reference wavelength of the laser beam is controlled.

【0034】この温度変化に対し、発振出力の変化(矩
形入力を加えONした時に出力が安定するまでに過渡期間
があり、その過渡期間である出力変動部分は図5の
(a)において省略してある。)は非常に早く収束する
からパルス期間での強度変化はほとんど無いと言える
(従って、実際にはこの過渡期間を過ぎた時点から利用
する)。ただし、この時の波長変化は直線的でなく、初
めに大きく変化し次第に変化量が小さくなる。従って、
得られる信号の周波数は、初期で非常に高く時間の経過
とともに次第に低下していく。
In response to this temperature change, the oscillation output changes (there is a transition period until the output is stabilized when a rectangular input is applied and turned on, and the output fluctuation portion that is the transition period is omitted in FIG. 5A). ) Converges very quickly, so that it can be said that there is almost no change in intensity during the pulse period (therefore, actually, it is used from the point of time after this transition period). However, the change in the wavelength at this time is not linear, but changes first and then gradually decreases. Therefore,
The frequency of the resulting signal is very high initially and gradually decreases over time.

【0035】図5の(c)(d)から分かるように、受
光器62,54から出力される受光信号S1,S2の周波数
も初期期間で高く、時間の経過とともに次第に低下して
いく。従って、図5の(c)(d)に示す信号S1,S
2をそのまま一定周波数のトリガーを用いてA/D変換
し、これをデータとすると、初期期間では周波数が高
く、時間の経過とともに次第に周波数が低下する信号と
して記録されてしまい、そのままでは、そのデータから
信号の周期を正確に算出することはできない。
As can be seen from FIGS. 5C and 5D, the frequencies of the light receiving signals S1 and S2 output from the light receivers 62 and 54 are also high in the initial period, and gradually decrease with time. Therefore, the signals S1 and S1 shown in (c) and (d) of FIG.
2 is subjected to A / D conversion using a trigger of a constant frequency as it is, and if this is used as data, the signal is recorded as a signal whose frequency is high in the initial period and gradually decreases as time passes. Cannot accurately calculate the period of the signal.

【0036】いま(3)式を変形すると、 2Leye/L=φ1/φ2 …(5) となる。Now, when the equation (3) is modified, 2Leye / L = φ1 / φ2 (5)

【0037】これは、基準光路と測定光路の位相差変化
の比がそのまま光路差の比になっていることを意味す
る。つまり、波長がある量変化すると、位相差の変化は
光路差に比例するから、基準光路の信号と測定光路の信
号を比較すると、同じ時点ではいつも位相変化の比は光
路差の比になっている。これは、半導体レーザー11の波
長が連続的であればどのように変化しても成り立つ。そ
こで、基準光路の光路差を、測定光路に対して十分長く
し、その基準光路からの干渉信号をトリガ信号として測
定光路の干渉信号をサンプリングし、そのサンプリング
したデータを順に並べてやれば、見かけ上等周期の信号
が得られる。
This means that the ratio of the change in the phase difference between the reference optical path and the measurement optical path is the same as the ratio of the optical path difference. In other words, if the wavelength changes by a certain amount, the change in the phase difference is proportional to the optical path difference, so when comparing the signal in the reference optical path and the signal in the measurement optical path, the ratio of the phase change always becomes the ratio of the optical path difference at the same time. I have. This is true no matter how the wavelength of the semiconductor laser 11 changes if it is continuous. Therefore, if the optical path difference of the reference optical path is made sufficiently long with respect to the measurement optical path, and the interference signal from the reference optical path is used as a trigger signal to sample the interference signal of the measurement optical path, and the sampled data is arranged in order, the apparent A signal with an equal period is obtained.

【0038】つまり、基準光路からの干渉信号一周期毎
に一個のトリガ信号を発生させ、このトリガ信号によっ
て測定信号をサンプリングし、メモリに書き込んでいく
ことは、不定周期のトリガを等間隔のメモリアドレスに
置き換えて考えることを意味する。測定信号周期とトリ
ガ周期の比は一定であるからメモリ上の信号は等周期信
号になるのである。このように、各パルス毎に信号をメ
モリに記憶していく。
That is, one trigger signal is generated every one cycle of the interference signal from the reference optical path, and the measurement signal is sampled and written into the memory by this trigger signal. It means to think by replacing with an address. Since the ratio between the measurement signal cycle and the trigger cycle is constant, the signal on the memory is an equal cycle signal. Thus, the signal is stored in the memory for each pulse.

【0039】次に、メモリされたデータから周期解析を
行なうわけだが、現実の信号には電気的なノイズが乗っ
ているから、複数パルスについて、例えば128パルスに
ついて平均してランダムノイズの除去を行い、周期解析
を行なう。
Next, the periodic analysis is performed from the stored data. Since an actual signal contains electrical noise, random noise is removed by averaging a plurality of pulses, for example, 128 pulses. , Perform periodic analysis.

【0040】ここで求まる周期Tは、信号のトリガに対
する比φ1/φ2=Tを意味するから、周期Tを求める
ことにより(5)式から直ちにLeyeが求まる。実際
には、眼球内部の異なる反射面かの反射光による信号
も乗っているので、周期解析時に選別する。
The period T obtained here means the ratio φ1 / φ2 = T with respect to the trigger of the signal. Therefore, when the period T is obtained, Leye is immediately obtained from the equation (5). In practice, since the signal is also riding with different reflective surfaces or these reflected light of internal eye are sorted during cycle analysis.

【0041】図4は、上記の方法によって眼軸長Ley
eを求める信号処理回路の構成を示したブロック図であ
る。
FIG. 4 shows the eye axis length Ley by the above method.
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a signal processing circuit for obtaining e.

【0042】以下、その構成と作用を図5に示す波形を
参照しながら説明していく。
The configuration and operation will be described below with reference to the waveforms shown in FIG.

【0043】図4において、201は半導体レーザー11に
ス電流(図5の(a)参照)を供給して半導体レー
ザー11を駆動させるとともに図示しないペルチェ効果形
素子によって半導体レーザー11チップの温度を制御する
駆動制御回路、202はトリガ回路で受光器74からアンプ2
03を介して出力される受光信号S2の1周期毎に図5の
(e)に示すようにトリガ信号Sgを出力していく。そ
して、受光器62からアンプ205を介して出力される受光
信号S1をトリガ回路202から出力されるトリガ信号Sg
のタイミングでA/D変換器204がA/D変換してい
く。206はA/D変換器204によってA/D変換されたデ
ジタル値を記憶していくメモリで、図5の(f)に示す
ように、信号S1の振幅値に応じたデジタル値を記憶し
ていく。
[0043] In FIG. 4, 201 denotes a semiconductor laser by the Peltier-effect element (not shown) together with driving the semiconductor laser 11 supplies the semiconductor laser 11 to <br/> Pulse current (see (a) of FIG. 5) 11 is a drive control circuit for controlling the temperature of the chip, 202 is a trigger circuit and
The trigger signal Sg is output as shown in (e) of FIG. 5 for each cycle of the light receiving signal S2 output via the signal line 03. The light receiving signal S1 output from the optical receiver 62 via the amplifier 205 is changed to the trigger signal Sg output from the trigger circuit 202.
The A / D converter 204 performs A / D conversion at the timing shown in FIG. Reference numeral 206 denotes a memory for storing the digital value A / D converted by the A / D converter 204. As shown in FIG. 5F, the memory stores a digital value corresponding to the amplitude value of the signal S1. Go.

【0044】そして、演算回路207がメモリ206に記憶さ
れたデータに基づいて周期解析を行なって周期Tを求
め、この周期Tから(5)式および(4)式により眼軸
長ALを演算する。
Then, the arithmetic circuit 207 performs a period analysis based on the data stored in the memory 206 to obtain a period T, and calculates the axial length AL from the period T according to the equations (5) and (4). .

【0045】ここで、示した方法は、眼底Erに測定光
を照射する際、該測定光を眼底Erに十分に集光させる
ことが必要である。もし、眼底Erに測定光が十分に集
光しない場合には、眼底Erでの反射光は、照射光と同
一の波面をもたなくなり、絞り53を通過しにくいものと
なる。さらに、ビームスプリッタ15により合成される眼
底反射光と角膜反射光の波面が同一でなくなり、それら
反射光の干渉効率が低下し、受光器62から出力される干
渉信号の効率が低下することとなる。
In the method described above, when irradiating the fundus Er with measurement light, it is necessary to sufficiently condense the measurement light on the fundus Er. If the measurement light is not sufficiently condensed on the fundus Er, the light reflected on the fundus Er no longer has the same wavefront as the irradiation light, and is difficult to pass through the diaphragm 53. Further, the wavefronts of the fundus reflection light and the corneal reflection light synthesized by the beam splitter 15 are not the same, and the interference efficiency of the reflected lights decreases, and the efficiency of the interference signal output from the light receiver 62 decreases. .

【0046】そこで、眼底照射光学系50に設けた屈折力
補正レンズ58によって、被検眼Eの屈折力を補正し、こ
れにより被検眼Eの屈折力に拘らず常に眼底照射レーザ
ー光が眼底Erに十分に集光できるようにしている。し
かし、被検眼Eが乱視をともなっている場合には、眼底
照射レーザー光を眼底Erに十分に集光させることがで
きなくなるので、乱視補正光学部材59を補正光学系56に
設けている。
Therefore, the refractive power of the eye E to be inspected is corrected by the refractive power correcting lens 58 provided in the fundus illuminating optical system 50, so that the fundus irradiating laser light is constantly applied to the fundus Er regardless of the refractive power of the eye E. It is possible to collect light sufficiently. However, when the eye E has astigmatism, the laser light irradiating the fundus cannot be sufficiently focused on the fundus Er. Therefore, the astigmatism correction optical member 59 is provided in the correction optical system 56.

【0047】乱視補正光学部材59は、既に説明したよう
に、クロスシリンダ59a,59bの回転角等によって被検
眼Eの乱視軸や乱視強度を補正するものである。この補
正は乱視強度と乱視軸を事前に知っていない場合には、
試行錯誤により補正していくので、その作業が非常に厄
介であり時間も長時間要してしまうという問題がある。
The astigmatism correcting optical member 59 corrects the astigmatic axis and the astigmatic strength of the eye E based on the rotation angles of the cross cylinders 59a and 59b as described above. This correction can be used if the astigmatism intensity and the axis of astigmatism are not known in advance.
Since the correction is performed by trial and error, there is a problem that the operation is very troublesome and takes a long time.

【0048】そこで、この実施例では、乱視強度と乱視
軸を測定して自動的に乱視を補正するものである。乱視
では、角膜曲率半径の径方向による違いに起因する乱
視、すなわち、角膜乱視が大部分を占めるので、この角
膜乱視を角膜曲率測定光学系100によって測定する。
Therefore, in this embodiment, the astigmatism intensity and the astigmatism axis are measured to automatically correct the astigmatism. In astigmatism, astigmatism caused by a difference in the radius of the corneal curvature in the radial direction, that is, corneal astigmatism occupies a large portion, and the corneal astigmatism is measured by the corneal curvature measuring optical system 100.

【0049】角膜曲率測定光学系100のリング照明光学
系101が被検眼角膜Eaにリング状のパターン光を照明
すると、角膜Eaで反射される反射光により角膜Eaの
内側にリング虚像Iが形成される。このリング虚像Iを形
成する虚像反射光は対物レンズ17を通過してダイクロイ
ックミラー102で反射される。このダイクロイックミラ
ー102で反射した虚像反射光は、リレーレンズ103、全反
射ミラー104、結像レンズ105、絞り106を経て2次元撮
像素子107上にリング像を形成する。角膜曲率半径測定
光学系200の結像倍率は既知であるので、2次元撮像素
子207上に結像されたリング像の半径を調べる事により
角膜曲率半径を算出することができる。この角膜曲率半
径は曲率演算回路300によって演算するものである。
When the ring illumination optical system 101 of the corneal curvature measurement optical system 100 illuminates the eye-shaped cornea Ea with a ring-shaped pattern light, a ring virtual image I is formed inside the cornea Ea by the light reflected by the cornea Ea. You. The virtual image reflected light forming the ring virtual image I passes through the objective lens 17 and is reflected by the dichroic mirror 102. The virtual image reflected light reflected by the dichroic mirror 102 passes through a relay lens 103, a total reflection mirror 104, an imaging lens 105, and an aperture 106 to form a ring image on a two-dimensional image sensor 107. Since the imaging magnification of the corneal curvature radius measurement optical system 200 is known, the corneal curvature radius can be calculated by examining the radius of the ring image formed on the two-dimensional image sensor 207. The corneal curvature radius is calculated by the curvature calculation circuit 300.

【0050】ここで、被検眼Eに乱視がある場合にはこ
のリング像は楕円状になる。この楕円の長径と短径およ
び長径の傾きの軸方向を求めれば、角膜乱視の強さと乱
視軸が計算できる。角膜反射によるリング像から角膜乱
視を演算する方法は周知であるから割愛する。
When the eye E has astigmatism, the ring image has an elliptical shape. If the major axis, the minor axis, and the major axis of the ellipse are determined in the axial direction, the corneal astigmatism intensity and the astigmatic axis can be calculated. A method of calculating corneal astigmatism from a ring image by corneal reflection is well known and will not be described.

【0051】図6に示すコントローラー301が曲率演算
回路300の計算結果に従って、ドライバ302,303を介し
てモータ7,8の回転を制御する。この制御により、図
3に示す、回転筒3,4が計算結果に応じた角度だけ回
転される。すなわち、クロスシリンダ59a,59bが光軸
50a回りに計算結果に応じた角度だけ回転される、すな
わち、クロスシリンダ59a,59bの円柱軸M,Nの中間
方向の軸線P(図2参照)が被検眼Eの乱視軸と一致さ
れ、また、クロスシリンダ59a,59bの交差角2αが乱
視強度に応じた角度に設定されて乱視軸や乱視強度の補
正が行なわれる。そして、コントローラ301とモータ
7,8とで回転手段が構成される。
The controller 301 shown in FIG. 6 controls the rotation of the motors 7 and 8 via the drivers 302 and 303 according to the calculation result of the curvature calculation circuit 300. With this control, the rotating cylinders 3 and 4 shown in FIG. 3 are rotated by an angle corresponding to the calculation result. That is, the cross cylinders 59a and 59b are
It is rotated by an angle corresponding to the calculation result around 50a, that is, the axis P (see FIG. 2) in the intermediate direction between the cylindrical axes M and N of the cross cylinders 59a and 59b is matched with the astigmatic axis of the eye E to be examined. The intersection angle 2α between the cross cylinders 59a and 59b is set to an angle corresponding to the astigmatic intensity, and the astigmatic axis and the astigmatic intensity are corrected. The controller 301 and the motors 7 and 8 constitute a rotating unit.

【0052】これら補正により、被検眼Eが乱視を伴っ
ていても眼底照射光学系50から射出する眼底照射レーザ
ー光を眼底Erに十分に集光させることができ、この結
果受光器62から出力される干渉信号の効率を上げること
ができることとなる。
By these corrections, even if the eye E is astigmatic, the fundus irradiating laser light emitted from the fundus irradiating optical system 50 can be sufficiently focused on the fundus Er, and as a result, the laser light output from the light receiver 62 can be obtained. The efficiency of the interference signal can be increased.

【0053】この実施例では、眼軸長測定光学系10の光
軸10aと角膜曲率測定光学系100の光軸100aの一部、す
なわち、被検眼Eからダイクロイックミラー102までの
光軸を共通にしているので、角膜曲率半径測定光学系10
0に対して算出した乱視の軸方向は、そのまま眼軸長測
定光学系10に対する軸方向となり、曲率演算回路300で
算出した値をそのまま使用して乱視軸を補正することが
でき、その補正を容易に行なうことができることとな
る。
In this embodiment, a part of the optical axis 10a of the eye axis length measuring optical system 10 and a part of the optical axis 100a of the corneal curvature measuring optical system 100, that is, the optical axis from the eye E to the dichroic mirror 102 is made common. The corneal curvature radius measurement optical system 10
The axial direction of astigmatism calculated with respect to 0 is the axial direction with respect to the ocular axial length measurement optical system 10, and the astigmatic axis can be corrected using the value calculated by the curvature calculation circuit 300 as it is. It can be done easily.

【0054】図7は、第2実施例を示す。この実施例
は、角膜曲率半径測定機能に角膜頂点距離測定機能を付
加したもので、装置の基準位置から眼底までの距離を測
定する眼底距離測定光学系300と、角膜までの距離を測
定する角膜距離測定機能を有する角膜曲率測定光学系40
0とから構成される。
FIG. 7 shows a second embodiment. In this embodiment, a corneal apex distance measuring function is added to a corneal curvature radius measuring function, a fundus distance measuring optical system 300 for measuring a distance from a reference position of the apparatus to the fundus, and a cornea for measuring a distance to the cornea. Corneal curvature measurement optical system 40 with distance measurement function
0.

【0055】まず眼底までの距離を測定する方法につい
て述べ、次に角膜距離測定について述べる。
First, the method for measuring the distance to the fundus will be described, and then the corneal distance measurement will be described.

【0056】この実施例では、眼軸長は、眼底までの距
離を干渉法によって測定し、この測定値と角膜曲率測定
光学系400で求める角膜までの距離の差から求めるもの
である。
In this embodiment, the axial length is obtained by measuring the distance to the fundus by an interferometry and calculating the difference between the measured value and the distance to the cornea obtained by the corneal curvature measuring optical system 400.

【0057】眼底距離測定光学系300は、単波長かつ波
長変化可能なレーザー光を被検眼Eに向けて照射する測
定光照射光学系310と、基準干渉系70とからなる。
The fundus distance measuring optical system 300 comprises a measuring light irradiation optical system 310 for irradiating a laser beam having a single wavelength and a wavelength changeable toward the eye E, and a reference interference system 70.

【0058】測定光照射光学系310は、半導体レーザー1
1と、コリメータレンズ12と、光アイソレータ13と、ビ
ームスプリッタ14と、集光レンズ311と、空間フィルタ3
12と、前記ビームスプリッタ14を通過してきたレーザー
光を眼底照射レーザー光と参照レーザー光とに分割する
ビームスプリッタ313と、前記眼底照射レーザー光を対
物レンズ17を介して眼底Erへ集光させて該眼底Erを
照射するとともに該眼底Erで反射した眼底反射光を入
射する測定干渉光学系320と、前記参照レーザー光をコ
リメータレンズ314を介してミラー(参照面)315で反射
させてビームスプリッタ313へ戻す参照光学系330と、測
定干渉光学系320へ入射した眼底反射光とビームスプリ
ッタ313へ戻った参照レーザー光とがビームスプリッタ3
13で合成され干渉を起し該干渉光を受光する受光光学系
340とを有している。
The measurement light irradiation optical system 310 is a semiconductor laser 1
1, a collimator lens 12, an optical isolator 13, a beam splitter 14, a condenser lens 311 and a spatial filter 3.
12, a beam splitter 313 that divides the laser light that has passed through the beam splitter 14 into a fundus irradiation laser light and a reference laser light, and focuses the fundus irradiation laser light to the fundus Er via the objective lens 17. A measurement interference optical system 320 that irradiates the fundus Er and reflects the fundus reflection light reflected by the fundus Er, and a beam splitter 313 that reflects the reference laser light by a mirror (reference surface) 315 via a collimator lens 314. The reference optical system 330 returning to the beam splitter 3 and the fundus reflection light incident on the measurement interference optical system 320 and the reference laser light returned to the beam splitter 313
A light receiving optical system for generating interference and receiving the interference light at 13
340.

【0059】測定干渉光学系320は、コリメータレンズ3
21と、補正光学系56と、レーザー光を反射しリング照明
光を透過するダイクロイックミラー322とを有してい
る。
The measurement interference optical system 320 includes a collimator lens 3
21, a correction optical system 56, and a dichroic mirror 322 that reflects laser light and transmits ring illumination light.

【0060】受光光学系340は、眼底反射光と参照面315
で反射した参照光以外の反射光を除去する絞り341と、
結像レンズ342と、受光器343とを有し、ビームスプリッ
タ313で干渉される干渉光は結像レンズ342によって受光
器343の受光面343aに集光され、受光面343aに干渉縞
が京成される。そして、受光器343は干渉縞の強度に応
じた受光信号を出力する。
The light receiving optical system 340 is configured to reflect the fundus reflected light and the reference surface 315.
An aperture 341 for removing reflected light other than the reference light reflected by the
It has an imaging lens 342 and a light receiver 343, and interference light interfered by the beam splitter 313 is condensed on the light receiving surface 343a of the light receiver 343 by the imaging lens 342, and interference fringes are formed on the light receiving surface 343a. You. Then, the light receiver 343 outputs a light receiving signal according to the intensity of the interference fringes.

【0061】このように構成すると、受光器343に受光
される干渉光は、ビームスプリッタ313から被検眼眼底
Erまでの光路長Ltとームスプリッタ313から参照
面315までの光路長Lrの差の2倍の位相差を持つ。こ
こで、半導体レーザー111の射出するレーザー光の波長
をある範囲で変化させ、第1実施例と同様な原理で受光
器343,74の受光信号を処理すると、参照面315の作る基
準面210(図12参照)から眼底Rまでの距離(Lt−L
r)が測定できる。
[0061] With this configuration, interference light received by the light receiving unit 343, the difference in optical path length Lr from the optical path length Lt and bi chromatography beam splitter 313 from the beam splitter 313 to the fundus Er to the reference plane 315 2 It has twice the phase difference. Here, when the wavelength of the laser light emitted from the semiconductor laser 111 is changed within a certain range and the light receiving signals of the light receivers 343 and 74 are processed according to the same principle as in the first embodiment, the reference plane 210 ( The distance from the fundus R to the fundus R (Lt-L)
r) can be measured.

【0062】一方、角膜曲率測定光学系400は、リング
照明光学系101と、第1結像光学系410と、第2結像光学
系430とを有している。
On the other hand, the corneal curvature measurement optical system 400 has a ring illumination optical system 101, a first imaging optical system 410, and a second imaging optical system 430.

【0063】第1結像光学系410は、対物レンズ17と、
ハーフミラー411と、リレーレンズ412と、ミラー413
と、リレーレンズ414と、絞り415と、結像レンズ416
と、2次元撮影素子417等とを有している。
The first image forming optical system 410 includes an objective lens 17,
Half mirror 411, relay lens 412, mirror 413
, Relay lens 414, aperture 415, and imaging lens 416
And a two-dimensional imaging element 417 and the like.

【0064】第2結像光学系430は、対物レンズ17と、
ミラー431、432と、リレーレンズ433と、ミラー434と、
絞り435と、ハーフミラー436と、結像レンズ416と、2
次元撮像素子417等とを有している。
The second imaging optical system 430 includes the objective lens 17 and
Mirrors 431 and 432, relay lens 433, mirror 434,
Aperture 435, half mirror 436, imaging lens 416, 2
A three-dimensional image sensor 417 and the like.

【0065】リング照明光学系101によって被検眼Eに
リング状のパターン光を照明すると、角膜Eaで反射さ
れる反射光により角膜Eaの内側にリング虚像Iが形成
される。
When the eye E is illuminated with a ring-shaped pattern light by the ring illumination optical system 101, a ring virtual image I is formed inside the cornea Ea by the light reflected by the cornea Ea.

【0066】このリング虚像Iを形成する虚像反射光は
対物レンズ17、ダイクロイックミラー322を通過してハ
ーフミラー411に達する。ハーフミラー411で分割される
一方の虚像反射光はリレーレンズ412によりリング状の
空中像Iaとして結像される。そして、ミラー413、リ
レーレンズ414、絞り415、結像レンズ416を介して2次
元撮像素子417の受光面417aに、図8に示すように、リ
ング像I1が形成される。ここでは、このリング像I1の
結像倍率は、0.5倍とする。
The virtual image reflected light forming the ring virtual image I passes through the objective lens 17 and the dichroic mirror 322 and reaches the half mirror 411. One virtual image reflected light split by the half mirror 411 is formed by the relay lens 412 as a ring-shaped aerial image Ia. Then, as shown in FIG. 8, a ring image I1 is formed on the light receiving surface 417a of the two-dimensional image sensor 417 via the mirror 413, the relay lens 414, the aperture 415, and the imaging lens 416. Here, the imaging magnification of the ring image I1 is 0.5.

【0067】ハーフミラー411で分割された他方の虚像
反射光は第2結像光学系430のミラー431に達し、ここで
反射されてミラー431の後方に対物レンズ17によりリン
グ状の空中像Ibが結像される。そして、ミラー432、
リレーレンズ433、ミラー434、絞り435、ハーフミラー4
36、結像レンズ416を介して2次元撮影素子417の受光面
417aに、図8に示すように、リング像I2が形成され
る。ここでは、このリング像I2の結像倍率は、リング
I1の結像倍率より大きく設定されている。
The other virtual image reflected light split by the half mirror 411 reaches the mirror 431 of the second image forming optical system 430, is reflected there, and the ring-shaped aerial image Ib is rearward of the mirror 431 by the objective lens 17. It is imaged. And mirror 432,
Relay lens 433, mirror 434, aperture 435, half mirror 4
36, the light receiving surface of the two-dimensional imaging element 417 via the imaging lens 416
At 417a, a ring image I2 is formed as shown in FIG. Here, the imaging magnification of the ring image I2 is set to be larger than the imaging magnification of the ring I1.

【0068】ところで、絞り415は第2絞りとしての役
割を果たし、リレーレンズ414,412によって対物レンズ
17の後方焦点位置にリレーされ、共役像415´がその位
置に形成される。なお、第1結像光学系410は物側にテ
レセントリックとなっている。
The stop 415 serves as a second stop, and the relay lenses 414 and 412
The conjugate image 415 'is relayed to the rear focal position of 17 and formed at that position. The first imaging optical system 410 is telecentric on the object side.

【0069】絞り435は第1絞りとしての役割を果た
し、リレーレンズ433によって被検眼Eの前方(対物レ
ンズ17の前方)にリレーされ、ここでは共役像435´が
被検眼の前方25〜50mmの箇所に形成される。
The stop 435 serves as a first stop, and is relayed in front of the eye E (in front of the objective lens 17) by a relay lens 433. In this case, a conjugate image 435 'is 25 to 50 mm in front of the eye to be examined. Formed at the location.

【0070】ここで、対物レンズ17と絞り415、435との
関係を、模式的に示す図9,10を参照しつつ説明す
る。
Here, the relationship between the objective lens 17 and the apertures 415 and 435 will be described with reference to FIGS.

【0071】図9および図10は第2結像光学系430の
光路および第1結像光学系410の光路を表わす。
FIGS. 9 and 10 show the optical path of the second imaging optical system 430 and the optical path of the first imaging optical system 410. FIG.

【0072】いま、絞り435の共役像435´が形成される
光軸上O上での位置を原点Gとして、原点Gから光軸方
向に距離L1だけ離れた箇所に基準位置Yを定める。こ
の基準位置Yはリング像I1、I2どちらもピンボケしな
い位置に決める。そして、この基準位置Yに物体高がh
の物体(リング像Iの半径に相当)を置く。このとき、
第2結像光学系430によって観察面417a(2次元撮像素
子417の位置)に形成される像高をy1、第1結像光学
系410によって観察面417aに形成される像高をy2とす
る。次に、この既知の物体を距離X0だけ移動させ、こ
の時の像高y1´、y2´とする。
Now, a position on the optical axis O where the conjugate image 435 'of the stop 435 is formed is defined as an origin G, and a reference position Y is set at a position separated from the origin G by a distance L1 in the optical axis direction. This reference position Y is determined at a position where neither the ring images I1 nor I2 is out of focus. The object height is h at the reference position Y.
(Corresponding to the radius of the ring image I). At this time,
The image height formed on the observation surface 417a (the position of the two-dimensional image sensor 417) by the second imaging optical system 430 is y1, and the image height formed on the observation surface 417a by the first imaging optical system 410 is y2. . Next, the known object is moved by the distance X0, and the image heights at this time are defined as y1 'and y2'.

【0073】また、観察面417aから点Zまでの距離を
L1´とし、基準位置YからZ´までの距離をL2、絞
り415´から観察面までの距離をL2´とする。さら
に、第1および第2結像光学系410,430の対物レンズ17
による各倍率をβ1,β2とする。
The distance from the observation surface 417a to the point Z is L1 ', the distance from the reference position Y to Z' is L2, and the distance from the stop 415 'to the observation surface is L2'. Further, the objective lens 17 of the first and second imaging optical systems 410 and 430
Are magnifications β1 and β2.

【0074】すると、以下の式が得られる。Then, the following equation is obtained.

【0075】 h/L1=(y1・β1)/L1´ …(1) h/(L1+X0)=(y1´・β1)/L1´ …(2) h/L2=y2/(β2・L2´) …(3) h/(L2+X0)=y2´/(β2・L2´) …(4) (1),(2)式において角倍率β1、距離L1,L1´が
定数であるとして、 K1=(β1・L1)/L1´ K2=β1/L1´ と置くと、(1),(2)式は、以下の式に変形され
る。
H / L1 = (y1 · β1) / L1 ′ (1) h / (L1 + X0) = (y1 ′ · β1) / L1 ′ (2) h / L2 = y2 / (β2 · L2 ′) .. (3) h / (L2 + X0) = y2 ′ / (β2 · L2 ′) (4) In the equations (1) and (2), assuming that the angular magnification β1 and the distances L1 and L1 ′ are constants, K1 = ( If β1 · L1) / L1 ′ K2 = β1 / L1 ′, the equations (1) and (2) are transformed into the following equations.

【0076】 h=K1・y1 …(5) h=K1・y1´+K2・y1´・X0 …(6) また、(3),(4)式において角倍率β2、距離L2,
L2´が定数であるとして、 K3=L2/(β2・L2´) K4=1/(β2・L2´) と置くと、(3),(4)式は、 h=K3・y2 …(7) h=K3・y2´+K4・y2´・X0 …(8) となる。
H = K1 · y1 (5) h = K1 · y1 ′ + K2 · y1 ′ · X0 (6) Further, in the equations (3) and (4), the angular magnification β2 and the distance L2,
Assuming that L2 ′ is a constant, K3 = L2 / (β2 · L2 ′) and K4 = 1 / (β2 · L2 ′), the expressions (3) and (4) are as follows: h = K3 · y2 (7) H = K3.y2 '+ K4.y2'.X0 (8)

【0077】ここで、定数K1,K2,K3,K4は、物
体高h、像高yを実測することにより求まる。
Here, the constants K1, K2, K3, and K4 are obtained by actually measuring the object height h and the image height y.

【0078】すなわち、(5)、(6)式を変形するこ
とにより、下記の式が得られる。
That is, by transforming the equations (5) and (6), the following equation is obtained.

【0079】 K1=h/y1 …(9) K2=(h/y1)・(y1−y1´)/(y1´・X0) …(10) K3=h/y2 …(11) K4=(h/y2)・(y2−y2´)/(y2´・X0) …(12) こうして、既知の物体の物体高hとその像高とを実測す
ることにより、定数K1,K2,K3,K4を求めておく。
K1 = h / y1 (9) K2 = (h / y1) · (y1-y1 ′) / (y1 ′ · X0) (10) K3 = h / y2 (11) K4 = (h) /Y2).(y2-y2')/(y2'.X0) (12) By measuring the object height h of the known object and its image height, the constants K1, K2, K3, and K4 are calculated. Ask for it.

【0080】次に、像高h、基準位置Yからの距離Xが
未知の場合の測定について説明する。この場合には、
(2),(4)式において、距離X0の代わりに距離Xとお
く。また、y1´、y2´をy1,y2に置き換える。
Next, measurement when the image height h and the distance X from the reference position Y are unknown will be described. In this case,
In equations (2) and (4), distance X is set instead of distance X0. Also, y1 'and y2' are replaced with y1 and y2.

【0081】すると、下記の式が得られる。Then, the following equation is obtained.

【0082】 h=K1・y1+K2・y1・X …(14) h=K3・y2+K4・y2・X …(15) 上記の連立方程式を、距離Xおよび物体高hについて解
くと、 X=(K3・y2−K1・y1)/(K2・y1−K4・y2)…(16) h=K1・y1+K2・y1・X =(K2・K3−K1・K4)y1・y2/(K2・y1−K4・y2) …(17) となる。K1〜K4は決定されているから、像高y1,
y2を測定することによって、基準位置Yから物体まで
の距離を測定できることになる。
H = K1 · y1 + K2 · y1 · X (14) h = K3 · y2 + K4 · y2 · X (15) When the above simultaneous equations are solved for the distance X and the object height h, X = (K3 · y2−K1 · y1) / (K2 · y1−K4 · y2) (16) h = K1 · y1 + K2 · y1 · X = (K2 · K3−K1 · K4) y1 · y2 / (K2 · y1−K4 ·) y2) (17) Since K1 to K4 have been determined, the image height y1,
By measuring y2, the distance from the reference position Y to the object can be measured.

【0083】次に、角膜曲率半径rとその頂点位置の測
定について図11を参照しながら説明する。
Next, the measurement of the corneal curvature radius r and its vertex position will be described with reference to FIG.

【0084】図11において、リング像Iの半径(楕円近
似した場合の楕円の長径または短径)を物体高hとす
る。このとき、物体高hはメリジオナル光線によって決
定される。リング像の直径が3mm程度であるとすると、
角度φは20°程度となり、下記に示す近軸計算式を使う
ことができない。
In FIG. 11, the radius of the ring image I (the major axis or minor axis of the ellipse when the ellipse is approximated) is defined as the object height h. At this time, the object height h is determined by the meridional light beam. Assuming that the diameter of the ring image is about 3 mm,
The angle φ is about 20 °, and the following paraxial calculation formula cannot be used.

【0085】h=(r・sinφ)/2 そこで、距離L2を十分に大きくとって、角度φが常に
一定となるようにし、物体高hとして絞り435を通る第
2結像光学系430で測定されたものを使用すれば、下記
の反射法則に基づく式を用いることができる。
H = (r · sin φ) / 2 Therefore, the distance L 2 is set sufficiently large so that the angle φ is always constant, and the object height h is measured by the second imaging optical system 430 passing through the stop 435. If the above is used, an expression based on the following reflection law can be used.

【0086】h=r・sin(φ/2) これを変形すれば、 r=h/sin(φ/2) …(18) となる。H = r · sin (φ / 2) If this is modified, r = h / sin (φ / 2) (18)

【0087】絞り415を通る光線と絞り435を通る光線が
為す角度が大きくならない程度に距離L1を設定すれ
ば、(17)式によって得られた物体高hを上記(1
8)式に用いても大きな誤差は無いと考えられるから、
角膜頂点EaPの位置は基準位置Yからの距離Pxとし
て、 Px=X−(r−h/tanφ) …(19) となる。この角膜頂点位置の計算式(19)は、球面の
光軸上にリング像が乗っている事が前提であるから、球
面収差の影響を受けるが、実験値に基づき補正すれば良
い。
If the distance L1 is set so that the angle formed by the light beam passing through the stop 415 and the light beam passing through the stop 435 does not become large, the object height h obtained by the equation (17) becomes equal to the above (1).
Since it is considered that there is no big error even if it is used for the expression 8),
The position of the corneal vertex EaP is expressed as Px = X− (r−h / tanφ) (19) as the distance Px from the reference position Y. Since the equation (19) for calculating the corneal vertex position is based on the premise that the ring image is on the optical axis of the spherical surface, it is affected by spherical aberration, but it may be corrected based on experimental values.

【0088】図11において、O´は角膜曲率中心、A
1,A2は角膜Eaを球面と見なした時の球面の法線、
A3は角膜Eaへの入射光線である。
In FIG. 11, O ′ is the corneal curvature center, A
1, A2 is a normal of a spherical surface when the cornea Ea is regarded as a spherical surface,
A3 is a light ray incident on the cornea Ea.

【0089】図12は、このようにして求めた眼底距離と
角膜頂点距離および眼軸長の関係を示したものである。
前述の基準位置Yと干渉参照面315が一致している場合
を示す。
FIG. 12 shows the relationship between the fundus distance, the corneal vertex distance and the axial length determined in this way.
This shows a case where the above-described reference position Y and the interference reference plane 315 match.

【0090】干渉法によって求めたLt−LrよりPx
を引けば、眼軸長を空気換算した値Leyeが求まる。
基準位置Yと干渉参照面315が一致しない場合は、予め
その差を求めておき、計算時に補正すればよい。
From the Lt-Lr obtained by the interferometry, Px
Is subtracted, a value Leye obtained by converting the axial length of the eye to air is obtained.
If the reference position Y and the interference reference plane 315 do not match, the difference may be obtained in advance and corrected at the time of calculation.

【0091】この第2実施例においても、干渉計測の測
定光は眼底Rに集光する必要があり、このために、測定
干渉光学系320に補正光学系56を設けている。被検眼が
乱視を伴っている場合には、クロスシリンダ59a、59b
を回転させて補正する。この場合、乱視強度や乱視軸が
事前に分かっていないときは、試行錯誤で補正しなけれ
ばならない。
Also in the second embodiment, the measurement light for the interference measurement needs to be focused on the fundus R. For this purpose, the measurement interference optical system 320 is provided with the correction optical system 56. When the subject's eye is accompanied by astigmatism, the cross cylinders 59a, 59b
Rotate to correct. In this case, if the astigmatic intensity and the astigmatic axis are not known in advance, the correction must be made by trial and error.

【0092】そこで、この第2実施例の場合にも、角膜
頂点位置を測定する際に得られる角膜曲率半径を用い
て、角膜乱視の強度および乱視軸を求め、この値を用い
て角膜乱視を補正するようにする。この測定法では、上
記のように補正すべき乱視強度とその軸の測定も、眼軸
長測定と同時に行なわれるため、第一回目の測定では乱
視補正をできないという弱点がある。ただし逆に、例え
ばある患者に対して乱視が弱いなどの理由で、第一回目
の測定において乱視補正を必要とせずに眼軸長が測定で
きた場合には、その後も乱視補正を気にせずに測定を続
行できるという利点もある。
Therefore, also in the case of the second embodiment, the intensity of corneal astigmatism and the axis of astigmatism are obtained using the corneal curvature radius obtained when measuring the position of the corneal apex, and the corneal astigmatism is obtained using these values. Make corrections. In this measurement method, astigmatism intensity to be corrected and its axis are also measured at the same time as the measurement of the axial length of the eye, so that the first measurement cannot correct astigmatism. However, conversely, if the astigmatism can be measured without requiring astigmatism correction in the first measurement, for example, because astigmatism is weak for a certain patient, then the astigmatism correction will not matter. Another advantage is that measurement can be continued.

【0093】第一および第二の実施例とも、干渉による
測定は、光源の波長を変化させ干渉光の位相変化を測定
して長さを測定したが、いずれもこれに限ることは無
く、可干渉距離の短い光束を用いて光路長を一致させて
長さを求める方法であっても構わない。さらに、各実施
例に使用した乱視補正方法は、測定光を被検眼眼底に集
光してその反射光を用いて眼軸長を測定する方法であれ
ばどの様な方法のものにも適用できる。
In both the first and second embodiments, the interference measurement is performed by changing the wavelength of the light source and measuring the phase change of the interference light to measure the length. However, neither is limited to this. A method of obtaining the length by matching the optical path lengths using a light beam having a short interference distance may be used. Further, the astigmatism correction method used in each embodiment can be applied to any method as long as it is a method of concentrating the measurement light on the fundus of the subject's eye and measuring the axial length using the reflected light. .

【0094】[0094]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、被検眼が乱視を伴っていても、角膜曲率演算手段が
乱視強度および乱視軸を演算し、回転手段が乱視強度お
よび乱視軸に基づいて乱視補正光学系を回転させて被検
眼角膜の乱視を補正するので、測定光を眼底に十分に集
光させることができ、正確な眼軸長の測定を行なうこと
ができる。
As described above, according to the present invention, even if the subject's eye is accompanied by astigmatism, the corneal curvature calculating means calculates the astigmatic intensity and the astigmatic axis, and the rotating means calculates the astigmatic intensity and the astigmatic axis. Since the astigmatism correction optical system is rotated based on the correction, the astigmatism of the cornea of the eye to be inspected is corrected, so that the measurement light can be sufficiently focused on the fundus, and the accurate measurement of the axial length of the eye can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係わる眼軸長測定装置の第1実施例
の光学系の配置関係を示した光学配置図
FIG. 1 is an optical arrangement diagram showing an arrangement relationship of an optical system of a first embodiment of an eye axial length measuring apparatus according to the present invention.

【図2】クロスシリンダによって乱視の補正を行なう方
法を示した説明図
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a method of correcting astigmatism by a cross cylinder.

【図3】クロスシリンダの回転機構を示した斜視図FIG. 3 is a perspective view showing a rotation mechanism of a cross cylinder.

【図4】各受光器から出力される受光信号に基づいて眼
軸長を求める信号処理回路を示したブロック図
FIG. 4 is a block diagram showing a signal processing circuit for obtaining an axial length based on a light receiving signal output from each light receiving device.

【図5】信号処理回路の各回路から出力される信号を示
した説明図
FIG. 5 is an explanatory diagram showing signals output from each circuit of the signal processing circuit.

【図6】モータを制御する制御系の構成を示したブロッ
ク図
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a control system for controlling a motor.

【図7】第2実施例の光学系の配置関係を示した光学配
置図
FIG. 7 is an optical arrangement diagram showing an arrangement relationship of an optical system according to a second embodiment.

【図8】2次元撮像素子の受光面に形成されるリング像
を示した説明図
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a ring image formed on a light receiving surface of a two-dimensional image sensor.

【図9】第2結像光学系の絞りと対物レンズを模式的に
示した説明図
FIG. 9 is an explanatory view schematically showing a stop and an objective lens of a second imaging optical system.

【図10】第1結像光学系の絞りと対物レンズとを模式
的に示した説明図
FIG. 10 is an explanatory view schematically showing a stop and an objective lens of the first imaging optical system.

【図11】角膜曲率半径とその頂点位置の測定を説明す
る説明図
FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating measurement of a corneal curvature radius and a vertex position thereof.

【図12】眼底距離と角膜頂点距離および眼軸長の関係
を示した説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a relationship among a fundus distance, a corneal vertex distance, and an ocular axial length.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

7,8 モータ 10 眼軸長測定光学系(測定光学系) 56 補正光学系 59 乱視補正光学部材(乱視補正光学系) 100角膜曲率測定光学系(角膜測定光学系) 300曲率演算回路(角膜曲率演算手段) 301コントローラ 7, 8 Motor 10 Eye axis length measurement optical system (measurement optical system) 56 Correction optical system 59 Astigmatism correction optical member (Astigmatism correction optical system) 100 Corneal curvature measurement optical system (Cornea measurement optical system) 300 Curvature calculation circuit (Cornea curvature curvature) Calculation means) 301 controller

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被検眼の屈折力に応じて測定光束を補正光
学系で補正して前記被検眼に照射し、該被検眼眼底で反
射した反射光が入射する測定光学系を備え、該測定光学
系に入射した反射光を利用して被検眼の眼軸長を測定す
る眼軸長測定装置であって、 前記被検眼角膜をリング状に照明するリング照明光学系
と、 前記被検眼角膜で反射する角膜反射光が入射する角膜測
定光学系と、 この角膜測定光学系に入射する角膜反射光から被検眼角
膜の曲率半径を演算して乱視強度および乱視軸を求める
角膜曲率演算手段と、 前記補正光学系は、その光軸に対して回転可能に設けら
れ、その回動量に応じて補正強度や乱視軸の方向が変わ
る乱視補正光学系と、 前記角膜曲率演算手段によって演算される乱視強度およ
び乱視軸に基づいて前記乱視補正光学系を回転させて被
検眼角膜の乱視を補正する回転手段と、 を備えていることを特徴とする眼軸長測定装置。
A measuring optical system that corrects a measuring light beam according to a refractive power of an eye to be inspected by a correcting optical system and irradiates the light to the eye to be inspected; An eye axial length measurement device that measures an axial length of an eye to be inspected using reflected light incident on an optical system, wherein a ring illumination optical system that illuminates the eye to be examined in a ring shape, A corneal measurement optical system on which the reflected corneal reflected light is incident; a corneal curvature calculation means for calculating a radius of curvature of the cornea of the eye to be examined from the corneal reflected light incident on the corneal measurement optical system to obtain an astigmatic intensity and an astigmatic axis; The correction optical system is provided rotatably about its optical axis.
An astigmatism correction optical system that changes the correction strength and the direction of the astigmatism axis in accordance with the amount of rotation; and rotates the astigmatism correction optical system based on the astigmatism intensity and the astigmatism axis calculated by the corneal curvature calculation means. A rotation device for correcting astigmatism of the cornea of the optometry, and an eye axial length measurement device, comprising:
【請求項2】請求項1に記載の眼軸長測定装置におい
て、前記測定光学系は、被検眼眼底を照射する眼底照明
光学系と、被検眼角膜を照射する角膜照射光学系とから
構成され、 前記補正光学系は、乱視補正光学系の他に光路長補正光
学素子を有し、 前記乱視補正光学系は、前記眼底照射光学系の光路中に
配置されており、その光路内から光路外に移動するよう
に構成され、 前記光路長補正光学素子は、前記角膜照射光学系の光路
中に設けられていて、前記乱視補正光学系が眼底照射光
学系の光路内から光路外への移動にともない、前記眼底
照射光学系と前記角膜照射光学系との光路長差に変化が
生じないように補正することを特徴とする眼軸長測定装
置。
2. An eye axial length measuring apparatus according to claim 1, wherein
The measurement optical system is configured to irradiate a fundus of a subject's eye with a fundus illumination;
From the optical system and the corneal irradiation optical system that irradiates the cornea of the subject's eye
Is configured, the correction optical system, in addition to the optical path length correction light astigmatism correcting optical system
Having an optical element, the astigmatism correction optical system is provided in an optical path of the fundus illumination optical system.
So that it moves from within the optical path to outside the optical path
Is configured, the optical path length correcting optical element, the optical path of the cornea irradiation optical system
And the astigmatism correction optical system is provided in the fundus illumination light.
With the movement of the optical system from inside the optical path to outside the optical path, the fundus
There is a change in the optical path length difference between the irradiation optical system and the corneal irradiation optical system.
Eye length measurement device characterized in that correction is made so as not to occur.
Place.
JP03277922A 1991-10-24 1991-10-24 Eye axis length measuring device Expired - Fee Related JP3116972B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03277922A JP3116972B2 (en) 1991-10-24 1991-10-24 Eye axis length measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03277922A JP3116972B2 (en) 1991-10-24 1991-10-24 Eye axis length measuring device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05115437A JPH05115437A (en) 1993-05-14
JP3116972B2 true JP3116972B2 (en) 2000-12-11

Family

ID=17590157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03277922A Expired - Fee Related JP3116972B2 (en) 1991-10-24 1991-10-24 Eye axis length measuring device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3116972B2 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9545338B2 (en) 2006-01-20 2017-01-17 Lensar, Llc. System and method for improving the accommodative amplitude and increasing the refractive power of the human lens with a laser
US10842675B2 (en) 2006-01-20 2020-11-24 Lensar, Inc. System and method for treating the structure of the human lens with a laser
US9889043B2 (en) 2006-01-20 2018-02-13 Lensar, Inc. System and apparatus for delivering a laser beam to the lens of an eye
US8356900B2 (en) * 2006-01-20 2013-01-22 Clarity Medical Systems, Inc. Large diopter range real time sequential wavefront sensor
JP4907227B2 (en) 2006-05-29 2012-03-28 株式会社ニデック Intraocular dimension measuring device
JP5676856B2 (en) * 2009-05-08 2015-02-25 キヤノン株式会社 Image acquisition device with adaptive optics
EP2531090A4 (en) * 2010-02-01 2014-11-12 Lensar Inc Placido ring measurement of astigmatism axis and laser marking of astigmatism axis
US10463541B2 (en) 2011-03-25 2019-11-05 Lensar, Inc. System and method for correcting astigmatism using multiple paired arcuate laser generated corneal incisions

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05115437A (en) 1993-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7434932B2 (en) Ophthalmic apparatus
JP4948902B2 (en) Ophthalmic equipment
JP4907227B2 (en) Intraocular dimension measuring device
JP3756993B2 (en) Method of coherence biometry and tomography with dynamic coherent focus
EP1602320B1 (en) Ophthalmic apparatus
US8678588B2 (en) Optical coherence tomographic imaging apparatus
JP3090705B2 (en) Eye axis length measuring device
CA2759578A1 (en) Improvements in or relating to scanning ophthalmoscopes
JP2003102689A (en) Method and apparatus for measuring optical aberration of eye
JPH10262929A (en) Interference measurement device for examining object
JP3116972B2 (en) Eye axis length measuring device
JP4523338B2 (en) Ophthalmic measuring device
JP4619694B2 (en) Ophthalmic measuring device
US5349399A (en) Intraocular length measuring instrument having phase compensating means
JP2007010589A (en) Object measuring apparatus
JP3207510B2 (en) Eye measurement device
US10213106B2 (en) System and method for eye tracking during retinal imaging
JP3276177B2 (en) Biological eye size measuring device with refractive power correction function
JPH05261067A (en) Intra-ocular length measuring instrument
JP7187777B2 (en) OCT device and OCT control program
JPH06205739A (en) Organism eye measuring device
JP2823660B2 (en) Length measuring device
JP2019051369A (en) Ophthalmologic apparatus
JPH07255674A (en) Eye size measuring device
JPH05277074A (en) Eye axis length measuring apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071006

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081006

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091006

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees