JP3110070B2 - Mold centering method - Google Patents

Mold centering method

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JP3110070B2
JP3110070B2 JP10671991A JP10671991A JP3110070B2 JP 3110070 B2 JP3110070 B2 JP 3110070B2 JP 10671991 A JP10671991 A JP 10671991A JP 10671991 A JP10671991 A JP 10671991A JP 3110070 B2 JP3110070 B2 JP 3110070B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造方法
に関するもので、特に半導体基板(ウェーハ)の周縁部
に、成形型を使用してレジン(樹脂)を成形する製造工
程において、成形型を交換した時の成形型の芯出しに使
用されるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a method of forming a resin (resin) on a peripheral portion of a semiconductor substrate (wafer) by using a molding die. Is used for centering of the mold when exchanging.

【0002】[0002]

【従来の技術】大電力制御用の半導体装置、例えばGT
O等の整流素子では、ウェーハ周縁部を保護するため、
該部にレジン成形を施す場合が多い。このようにウェー
ハの外周にレジンを成形する方法としては例えば特開昭
63−141370号に開示されたものがあるが、近
年、成形後のレジンの外形寸法を、後工程の組立ての位
置決めに使用することもあり、寸法精度を出すために成
形型を用いている。
2. Description of the Related Art A semiconductor device for controlling large power, for example, GT
In rectifiers such as O, to protect the wafer edge,
In many cases, resin molding is performed on the portion. As a method of forming a resin on the outer periphery of a wafer as described above, for example, there is a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-141370. In recent years, the external dimensions of the resin after forming have been used for positioning in post-process assembly. In some cases, a molding die is used to achieve dimensional accuracy.

【0003】次に、成形型を使用してウェーハ周縁部に
レジンを成形する半導体製造装置及びレジン成形方法
(特願平2−155781号参照)について説明する。
図4は、ウェーハ1の周縁部を包む環状領域にレジン2
を成形したレジン成形品の部分破砕斜視図である。図2
は、前記半導体製造装置の構成の概要を示す平面図であ
る。また図3は、この製造装置の構成要素の1つである
成形ユニットの部分断面図である。
Next, a description will be given of a semiconductor manufacturing apparatus and a resin forming method for forming a resin on the peripheral portion of a wafer by using a forming die (see Japanese Patent Application No. 2-155787).
FIG. 4 shows the resin 2 in the annular area surrounding the peripheral portion of the wafer 1.
FIG. 3 is a partially crushed perspective view of a resin molded product obtained by molding a resin. FIG.
FIG. 2 is a plan view showing the outline of the configuration of the semiconductor manufacturing apparatus. FIG. 3 is a partial sectional view of a molding unit which is one of the components of the manufacturing apparatus.

【0004】図2において、ウェーハ供給ユニット3に
は、キャリアに載った複数枚のウェーハ1があり、搬送
ユニット4に付設するバキュームチャックにより1枚ず
つ、ウェーハ搬送ライン12に沿って、位置合せユニッ
ト9、成形ユニット5及びウェーハ収納ユニット11へ
順次送られる。ウェーハの中心を出すための位置合せユ
ニット9は、中心に位置決めパターンを設けたウェーハ
を載置するX−Yテーブル7を有し、自動認識装置8の
認識結果に基づいてウェーハの中心位置を補正する。次
に位置決めされたウェーハは、成形ユニット5に送られ
る。
In FIG. 2, a wafer supply unit 3 has a plurality of wafers 1 mounted on a carrier, and a wafer chuck 1 attached to a carrier unit 4 moves the wafers one by one along a wafer carrier line 12 into an alignment unit. 9, are sequentially sent to the molding unit 5 and the wafer storage unit 11. An alignment unit 9 for centering the wafer has an XY table 7 on which a wafer having a positioning pattern provided at the center is placed, and corrects the center position of the wafer based on the recognition result of the automatic recognition device 8. I do. Next, the positioned wafer is sent to the forming unit 5.

【0005】図3において、成形ユニット5は、上型1
6、上型ホルダー15、上型用ヒータブロック14、下
型20、下型ホルダー19及び下型用ヒータブロック1
8等から構成され、上型と下型とを開閉する機構及び温
度制御機構を持っている。また下型20には、レジンを
注入する環状のキャビティ27の外周側壁に囲まれた凹
領域28(図1参照)が設けられる。
In FIG. 3, a molding unit 5 includes an upper mold 1
6, upper die holder 15, upper die heater block 14, lower die 20, lower die holder 19 and lower die heater block 1
8 and a mechanism for opening and closing the upper mold and the lower mold and a temperature control mechanism. The lower mold 20 is provided with a concave region 28 (see FIG. 1) surrounded by an outer peripheral side wall of an annular cavity 27 into which the resin is injected.

【0006】レジン成形に際しては、成形ユニット5に
装着された下型20の凹領域28内にウェーハをセット
し、次に、上型16を型締めストロークだけ降下して、
上型と下型とを閉鎖し、レジン注入口22よりキャビテ
ィ27内にレジンを注入する。注入されたレジンは、一
定温度に管理された成形型により加熱され、固化する。
この場合下型20の凹領域28の内径は、ウェーハ1の
外径より大きいので、凹領域28内にウェーハ1をセッ
トすると、凹領域28の内周と、ウェーハ1の外周との
間には隙間を生ずる。
At the time of resin molding, a wafer is set in the concave area 28 of the lower mold 20 mounted on the molding unit 5, and then the upper mold 16 is lowered by a mold-clamping stroke.
The upper mold and the lower mold are closed, and the resin is injected into the cavity 27 from the resin injection port 22. The injected resin is heated and solidified by a mold controlled at a constant temperature.
In this case, since the inner diameter of the concave region 28 of the lower die 20 is larger than the outer diameter of the wafer 1, when the wafer 1 is set in the concave region 28, there is a gap between the inner periphery of the concave region 28 and the outer periphery of the wafer 1. Gap occurs.

【0007】このようにして成形されたレジン2は、ウ
ェーハ1の側壁の保護膜及び耐圧保持用絶縁膜としての
機能をもっている。したがって、ウェーハ1の側壁とレ
ジン2の外周側面との幅H(図4参照)が狭い場合に
は、絶縁不良が発生しがちである。したがって成形され
た環状のレジンの中心と、ウェーハの中心との位置ずれ
は重要な問題となり、中心を正確に一致させることが要
求される。
The resin 2 formed as described above has a function as a protective film on the side wall of the wafer 1 and an insulating film for holding pressure resistance. Therefore, when the width H (see FIG. 4) between the side wall of the wafer 1 and the outer peripheral side surface of the resin 2 is narrow, insulation failure tends to occur. Therefore, the misalignment between the center of the formed annular resin and the center of the wafer becomes an important problem, and it is required that the centers be accurately aligned.

【0008】従来、品種変更に伴う成形型交換は、図3
に示す下型用ヒータブロック18の円筒状に突出した成
形型ガイド25を基準とし、このガイド25に、交換す
る成形型の下型ホルダーの穴部を嵌合して芯出しを行な
っていた。この品種変更は、当該製品が多種少量生産を
特徴とするので、しばしば行なわれる。したがって型交
換の頻度も多く、このため成形型ガイド25の磨耗によ
り、下型ホルダーの穴部との嵌合にガタを生じ、ヒータ
ブロック18と下型とが偏芯した状態で結合され、結果
としてウェーハの中心と環状レジンの中心とが一致せ
ず、規格不良を生じてしまう。
[0008] Conventionally, a mold exchange in accordance with a type change is shown in FIG.
The centering is performed by fitting a hole of a lower mold holder of a mold to be exchanged into the guide 25 with reference to a cylindrical mold guide 25 of the lower mold heater block 18 shown in FIG. This varieties change is often done because the product is characterized by high-mix low-volume production. Therefore, the molds are frequently exchanged. For this reason, the wear of the mold guides 25 causes looseness in the fitting with the holes of the lower mold holder, and the heater block 18 and the lower mold are coupled in an eccentric state. As a result, the center of the wafer and the center of the ring-shaped resin do not coincide with each other, resulting in specification failure.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】前述の従来技術では、
成形型の下型キャビティの外周側壁の径(凹領域の内
径)がウェーハの径より大きく、下型の凹領域の内周
と、配置されるウェーハの外周との間に隙間ができる。
したがってウェーハを下型にセットしたとき凹領域の中
心とウェーハの中心とは必ずしも合致している保障はな
い。この2つの中心が合致する精度は、位置合せユニッ
ト9におけるウェーハの位置決め精度のほか、成形型等
の組立て精度や搬送ユニット4の搬送ピッチの精度等に
より決められるが、これらの要因は、製造装置メーカー
により調整され、実際の使用に際しては、所望の合致精
度が得られるようになっている。
In the above-mentioned prior art,
The diameter of the outer peripheral side wall (inner diameter of the concave region) of the lower die cavity of the molding die is larger than the diameter of the wafer, and a gap is formed between the inner periphery of the concave region of the lower die and the outer periphery of the placed wafer.
Therefore, there is no guarantee that the center of the recessed area always coincides with the center of the wafer when the wafer is set on the lower mold. The accuracy at which the two centers coincide with each other is determined by the accuracy of assembling the mold and the like and the accuracy of the transfer pitch of the transfer unit 4 in addition to the positioning accuracy of the wafer in the alignment unit 9. Adjusted by the manufacturer, a desired matching accuracy is obtained in actual use.

【0010】しかしながら、前述の成形型ガイド25の
ように、製造装置稼動後の型交換の頻度が多く、磨耗に
よりはめ合う部分にガタを生じると、そのバラツキは、
下型の凹領域の中心とセットされるウェーハ中心とのバ
ラツキとなり、成形された環状レジンの中心とウェーハ
中心とのずれとなり、規格不良を生ずる。
However, as in the case of the molding die guide 25 described above, when the mold is frequently replaced after the production apparatus has been operated, and there is a play in a portion to be fitted due to wear, the variation is reduced.
The center of the concave area of the lower mold and the center of the wafer to be set are varied, and the center of the formed annular resin is shifted from the center of the wafer.

【0011】この問題点を改善するため次の方法があ
る。すなわち、品種変更により型交換をする場合には、
その都度、成形ユニット5に所要の成形型を装着固定し
た後、所定操作によりウェーハを下型にセットする。こ
れをサンプルとして、下型の凹領域とウェーハとの偏芯
の有無を測定し、下型の位置を修正する。ただこの方法
では余分な付帯作業が必要という欠点がある。
There is the following method for solving this problem. In other words, when changing the mold by changing the product type,
Each time, after a required molding die is mounted and fixed on the molding unit 5, the wafer is set on the lower die by a predetermined operation. Using this as a sample, the presence or absence of eccentricity between the concave region of the lower die and the wafer is measured, and the position of the lower die is corrected. However, this method has a disadvantage that extra auxiliary work is required.

【0012】本発明は、上記課題にかんがみなされたも
ので、その目的は、成形型交換の頻度が多く、例えば芯
出し用の型ガイド部分が磨耗しても、この影響を受ける
ことなく、成形型の中心位置を容易に検出し、成形品の
寸法精度を保証し、歩留まり向上や付帯作業を減ずるこ
とのできる位置合せユニットと成形型との芯出し方法を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has as its object to form a mold without frequent effects even if a mold guide part for centering is worn out frequently. An object of the present invention is to provide a method of centering a mold with a positioning unit capable of easily detecting a center position of a mold, guaranteeing dimensional accuracy of a molded product, improving yield and reducing incidental work.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、半導体基板
(ウェーハ)の周縁部を包む環状領域にレジンを成形す
る半導体製造装置の前記環状領域と等しい形状のキャビ
ティ(成形型において、成形品に該当する上型下型のレ
ジン注入部分)を有する成形型の芯出し方法において、
(a)位置決めパターンを設けた半導体基板を載置する
半導体基板載置台を有し,該位置決めパターンを位置決
め基準パターンに合せる位置合せユニットと、(b)上
型及び下型より成り、下型に前記環状キャビティの外周
側壁に囲まれた凹領域を設けた成形型を有する成形ユニ
ットと、(c)位置合せユニットと成形ユニットとの間
を一定の搬送ピッチで往復する搬送ユニットとを具備す
る半導体製造装置を使用し、下型の前記凹領域に嵌合
し、主面に位置決めパターンを設けた芯出し用治具を用
意し、成形ユニットに装着された下型の凹領域に芯出し
用治具を嵌合した後、搬送ユニットにより、この芯出し
用治具を取り上げ搬送し、位置合せユニットの半導体載
置台に載置したときの該治具上の位置決めパターンを位
置合せユニットの位置決め基準パターンとすることを特
徴とする位置合せユニットと成形型との芯出し方法であ
る。なおウェーハ及び芯出し用治具に設けられる位置決
めパターンは、多くの場合、ウェーハ及び治具の中心に
設けられる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to a semiconductor manufacturing apparatus for molding a resin in an annular area surrounding the periphery of a semiconductor substrate (wafer). In the centering method of the mold having the corresponding upper and lower resin injection parts)
(A) a positioning unit that has a semiconductor substrate mounting table for mounting a semiconductor substrate provided with a positioning pattern and aligns the positioning pattern with a positioning reference pattern; and (b) an upper die and a lower die, A semiconductor comprising: a molding unit having a molding die provided with a concave area surrounded by an outer peripheral side wall of the annular cavity; and (c) a transport unit that reciprocates between the alignment unit and the molding unit at a constant transport pitch. Using a manufacturing apparatus, a centering jig fitted to the concave area of the lower mold and provided with a positioning pattern on the main surface is prepared, and a centering jig is provided in the concave area of the lower mold mounted on the molding unit. After the fixtures are fitted, the centering jig is picked up and transported by the transport unit, and the positioning pattern on the jig when placed on the semiconductor mounting table of the alignment unit is moved to the position of the alignment unit. A centering method of the alignment unit, wherein the mold to be decided reference pattern. The positioning pattern provided on the wafer and the centering jig is often provided at the center of the wafer and the jig.

【0014】[0014]

【作用】本発明は、従来ウェーハの中心と成形型の中心
とを合せる手段として、成形型にガイドを設け、機械的
に芯出しを行なっていたものを、専用の芯出し治具を使
用して課題を解決したものである。この芯出し用治具に
は、ウェーハに設けられる位置決めパターンと同等のパ
ターンを治具表面に形成し、かつ、該治具の外径を下型
の凹領域の内径に合致させておく。
According to the present invention, as a means for aligning the center of the wafer with the center of the mold, a guide is provided on the mold and the centering is performed mechanically. To solve the problem. In this centering jig, a pattern equivalent to the positioning pattern provided on the wafer is formed on the surface of the jig, and the outer diameter of the jig is made to match the inner diameter of the lower concave area.

【0015】まず成形ユニットに、従来と同様、成形型
を装着固定する。次に芯出し用治具を下型の凹領域に嵌
合する。このとき治具に設けられた位置決めパターン
は、下型の凹領域の中心を示す。次に搬送ユニット4に
付設するバキュームチャックにより、下型に嵌合してい
る治具を取り出し、移送し、位置合せユニット9のウェ
ーハ載置台に移送する。このときの治具上の位置決めパ
ターンは自動認識装置により検出され、位置合せユニッ
ト9の位置決め基準パターンとして記憶される。搬送ユ
ニット4は、一定の搬送ピッチ(搬送に伴う変位のバラ
ツキは極めて小さく、実用上無視でき、常に一定のピッ
チでウェーハを搬送載置すること)をもっているので、
位置合せユニットに供給される被加工ウェーハの位置決
めパターンを、前記検出された位置決め基準パターンに
合せた後、搬送ユニット4により成形ユニット5に移送
すれば、ウェーハの位置決めパターンは下型凹領域の中
心に合致する。すなわちウェーハは下型の中心と同芯に
セットされる。
First, a molding die is mounted and fixed on the molding unit as in the conventional case. Next, the centering jig is fitted into the concave area of the lower die. At this time, the positioning pattern provided on the jig indicates the center of the concave area of the lower die. Next, the jig fitted to the lower mold is taken out by the vacuum chuck attached to the transfer unit 4, transferred, and transferred to the wafer mounting table of the alignment unit 9. The positioning pattern on the jig at this time is detected by the automatic recognition device and stored as a positioning reference pattern of the positioning unit 9. Since the transfer unit 4 has a fixed transfer pitch (dispersion of displacement due to transfer is extremely small and can be ignored in practical use, and always transfers and mounts a wafer at a fixed pitch).
If the positioning pattern of the wafer to be processed supplied to the positioning unit is adjusted to the detected positioning reference pattern and then transferred to the forming unit 5 by the transfer unit 4, the positioning pattern of the wafer will be at the center of the lower mold concave area. Matches. That is, the wafer is set concentrically with the center of the lower die.

【0016】[0016]

【実施例】図1ないし図3を参照して、本発明の実施例
について以下説明する。なお図2は、本発明の実施に使
用する半導体製造装置の構成の一例を示す平面図、図3
は該製造装置の成形ユニットの部分断面図であるが、従
来例と同様であり、説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 2 is a plan view showing an example of the configuration of a semiconductor manufacturing apparatus used for carrying out the present invention.
Is a partial cross-sectional view of a molding unit of the manufacturing apparatus, which is the same as the conventional example, and the description is omitted.

【0017】図1は、本発明の芯出し用治具を成形型に
嵌合した状態を示す部分断面図である。下型20及び下
型ホルダー19から成る下型には、レジンを注入する環
状のキャビティ27が設けられ、また下型にはキャビテ
ィ27の外周側壁に囲まれた凹領域28が形成される。
30は芯出し用治具で、その中心には、ウェーハの中心
にある位置決めパターンと等しい位置決めパターン31
が形成されている。また該治具30の外径は、凹領域2
8の内周に合致した寸法で、嵌合できるようになってい
る。
FIG. 1 is a partial sectional view showing a state in which the centering jig of the present invention is fitted to a molding die. The lower mold including the lower mold 20 and the lower mold holder 19 is provided with an annular cavity 27 into which the resin is injected, and the lower mold has a concave region 28 surrounded by the outer peripheral side wall of the cavity 27.
Reference numeral 30 denotes a centering jig having a positioning pattern 31 at the center thereof which is equal to the positioning pattern at the center of the wafer.
Are formed. The outer diameter of the jig 30 is the concave area 2
8 has a size corresponding to the inner circumference thereof and can be fitted.

【0018】次に型交換の場合の成形型の芯出し方法の
一例について説明する。
Next, an example of a method of centering the molding die in the case of changing the mold will be described.

【0019】まず下型用ヒータブロック18の中央部に
突出する成形型ガイド25に、芯出し用治具をセットし
た成形型の下型の穴部を嵌合する。この場合ガイド25
が磨耗して、ヒータブロックと下型との間にガタがあっ
ても、その程度が後述の位置合せユニットで補正できる
範囲内であれば、偏芯して嵌合した状態で、下型をヒー
タブロックに、図示してないが、例えばねじ止め固定し
ても差支えない。このとき治具30の位置決めパターン
31は下型の凹領域28の中心位置を示す。
First, the hole of the lower die of the molding die on which the centering jig is set is fitted into the molding die guide 25 projecting from the center of the lower heater block 18. Guide 25 in this case
Is worn, and even if there is play between the heater block and the lower mold, if the degree is within the range that can be corrected by the alignment unit described later, the lower mold is removed while being eccentrically fitted. Although not shown, the heater block may be fixed with screws, for example. At this time, the positioning pattern 31 of the jig 30 indicates the center position of the lower concave area 28.

【0020】次に搬送ユニット4に付設するバキューム
チャックにて、該治具をチャックし、下型より取り上
げ、ルーチン作業動作とは逆に、成形ユニット5から位
置合せユニット9まで搬送し、X−Yテーブル(半導体
載置台)7上に載置する。搬送ユニット4は、一定の搬
送ピッチで位置合せユニット9と成形ユニット5との間
を往復できるので、この移送は可逆的である。
Next, the jig is chucked by a vacuum chuck attached to the transfer unit 4 and picked up from the lower mold, and conveyed from the molding unit 5 to the positioning unit 9 in the reverse of the routine operation, and the X- It is mounted on a Y table (semiconductor mounting table) 7. The transport is reversible because the transport unit 4 can reciprocate between the alignment unit 9 and the molding unit 5 at a constant transport pitch.

【0021】次に自動認識装置8により、治具の位置決
めパターン31は検出される。自動認識装置8は、その
光軸がX−Yテーブルに垂直なテレビカメラと、コンピ
ュータ内蔵の画像処理手段とを持っていて、前記位置決
めパターン31の検出を行なう。その検出結果のデータ
は、該装置8のメモリに記憶され、以後の操作において
位置合せユニット9の位置決め基準パターンとなる。
Next, the jig positioning pattern 31 is detected by the automatic recognition device 8. The automatic recognition device 8 has a television camera whose optical axis is perpendicular to the XY table and image processing means built in a computer, and detects the positioning pattern 31. The data of the detection result is stored in the memory of the device 8 and becomes a positioning reference pattern of the positioning unit 9 in a subsequent operation.

【0022】次に芯出し用治具30を取り除き、ルーチ
ン作業に入る。すなわち被加工ウェーハ1は、ウェーハ
供給ユニット3から、搬送ユニット4に付設するバキュ
ームチャックにより搬送され、X−Yテーブル7上に載
置される。自動認識装置8は、該ウェーハ1の中心に設
けられた位置決めパターンを検出し、その検出結果を前
記位置決め基準パターンの検出結果と比較し、X、Y方
向のズレ量を求め、X−Yテーブルを駆動してズレ量を
補正する。すなわち位置決め基準パターンにウェーハの
位置決めパターンを合せる。以上の操作は、図示してな
いが制御ユニットにより自動的に行なわれる。
Next, the centering jig 30 is removed, and a routine operation is started. That is, the wafer 1 to be processed is transported from the wafer supply unit 3 by the vacuum chuck attached to the transport unit 4 and is placed on the XY table 7. The automatic recognition device 8 detects a positioning pattern provided at the center of the wafer 1, compares the detection result with the detection result of the positioning reference pattern, obtains a shift amount in the X and Y directions, and obtains an XY table. Is driven to correct the shift amount. That is, the positioning pattern of the wafer is matched with the positioning reference pattern. The above operation is automatically performed by a control unit (not shown).

【0023】次に搬送ユニット4により、前記位置決め
されたウェーハは成形ユニットに搬送され、下型の凹領
域に載置される。搬送ユニット4は前述の通り一定の搬
送ピッチを有し、搬送に伴う変位は可逆的であるので、
下型凹領域の中心と載置されたウェーハの中心とは一致
する。
Next, the wafer positioned by the transfer unit 4 is transferred to the forming unit, and is placed in the concave area of the lower die. Since the transport unit 4 has a constant transport pitch as described above, and the displacement accompanying the transport is reversible,
The center of the lower mold concave region coincides with the center of the placed wafer.

【0024】以後の工程は従来技術と同様で、上型を降
下し型締めをした後、キャビティにレジンを注入し、成
形品が得られる。
The subsequent steps are the same as in the prior art. After lowering the upper mold and clamping the mold, resin is injected into the cavity to obtain a molded product.

【0025】上記実施例で示した位置合せユニットと成
形型の芯出し方法によれば次の結果が得られる。
According to the alignment unit and the method of centering the mold shown in the above embodiment, the following results can be obtained.

【0026】(1)成形型とこの型のガイド部分の磨耗
の影響を受けることがなく、成形型に対するウェーハの
正確な位置決めが可能となり、レジン成形後の規格不良
を無くすことができた。
(1) The wafer can be accurately positioned with respect to the molding die without being affected by the wear of the molding die and the guide portion of the molding die, and the defective specification after resin molding can be eliminated.

【0027】(2)成形型の凹領域と同径の芯出し用治
具を使用し、成形型に嵌合した後逆搬送し、自動認識装
置にて、芯出し用治具の中心についている位置決めパタ
ーン位置を座標数値で得ることができ、工程管理上有益
である。
(2) A centering jig having the same diameter as the concave area of the mold is used. After being fitted to the mold, it is reversely conveyed, and is located at the center of the centering jig by the automatic recognition device. The position of the positioning pattern can be obtained by coordinate numerical values, which is useful in process management.

【0028】(3)従来、成形型を交換するたびに必要
であった、成形型にウェーハをセットしたサンプルの偏
芯を測定し、成形型の位置を修正する余分な作業がなく
なった。
(3) Conventionally, there is no need to measure the eccentricity of a sample in which a wafer is set on a mold and to correct the position of the mold, which is required every time the mold is replaced.

【0029】(4)成形型交換時の位置決め時間を短縮
することができた。
(4) The positioning time at the time of changing the mold can be shortened.

【0030】[0030]

【発明の効果】これまで述べたように、本発明において
は、芯出し用治具を使用するので、例えば芯出し用の型
ガイド部分が磨耗しても、この影響を受けることなく、
成形型の中心位置を容易に検出し、成形品の寸法精度を
保証し、歩留まり向上や付帯作業を減ずることのできる
位置合せユニットと成形型の芯出し方法を提供すること
ができた。
As described above, in the present invention, since the centering jig is used, even if, for example, the centering mold guide portion is worn, it is not affected by this.
It has been possible to provide a positioning unit and a method of centering the mold, which can easily detect the center position of the mold, guarantee the dimensional accuracy of the molded product, improve the yield, and reduce the incidental work.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の芯出し用治具を成形型に嵌合した状態
を示す部分断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a state where a centering jig of the present invention is fitted to a molding die.

【図2】本発明及び従来技術の実施に使用する半導体製
造装置の構成の概要を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an outline of a configuration of a semiconductor manufacturing apparatus used for carrying out the present invention and a conventional technique.

【図3】図2に示す半導体製造装置の成形ユニットの部
分断面図である。
FIG. 3 is a partial sectional view of a molding unit of the semiconductor manufacturing apparatus shown in FIG.

【図4】本発明及び従来技術で取り扱う加工工程中の半
導体部品の部分破砕斜視図である。
FIG. 4 is a partially crushed perspective view of a semiconductor component during a processing step handled by the present invention and the prior art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体基板(ウェーハ) 2 レジン 3 ウェーハ供給ユニット 4 搬送ユニット 5 成形ユニット 6 架台 7 X−Yテーブル 8 自動認識装置 9 位置合せユニット 16 上型 18 下型用ヒータブロック 19 下型ホルダー 20 下型 25 成形型ガイド 27 キャビティ 28 下型の凹領域 30 芯出し用治具 31 芯出し用治具の位置決めパターン REFERENCE SIGNS LIST 1 semiconductor substrate (wafer) 2 resin 3 wafer supply unit 4 transfer unit 5 molding unit 6 gantry 7 XY table 8 automatic recognition device 9 positioning unit 16 upper die 18 lower die heater block 19 lower die holder 20 lower die 25 Mold guide 27 Cavity 28 Lower mold concave area 30 Centering jig 31 Centering jig positioning pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立石 仁 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会 社内 (56)参考文献 特開 平2−113526(JP,A) 特開 平4−14875(JP,A) 特開 平5−47616(JP,A) 特開 平4−48639(JP,A) 特開 平2−292842(JP,A) 特開 昭63−141370(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 29/74 H01L 21/02 H01L 21/56 H01L 21/68 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Jin Tateishi 25-1, Ekimae Honcho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa In-house Toshiba Microelectronics Corporation (56) References JP-A-2-113526 (JP, A) JP-A Heisei JP-A-4-14875 (JP, A) JP-A-5-47616 (JP, A) JP-A-4-48639 (JP, A) JP-A-2-292842 (JP, A) JP-A-63-141370 (JP, A) A) (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 29/74 H01L 21/02 H01L 21/56 H01L 21/68

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体基板の周縁部を包む環状領域にレジ
ンを成形する半導体製造装置の前記環状領域と等しい形
状のキャビティを有する成形型の芯出し方法において、
(a)位置決めパターンを設けた半導体基板を載置する
半導体基板載置台を有し,該位置決めパターンを位置決
め基準パターンに合せる位置合せユニットと、(b)上
型及び下型より成り、下型に前記環状キャビティの外周
側壁に囲まれた凹領域を設けた成形型を有する成形ユニ
ットと、(c)位置合せユニットと成形ユニットとの間
を一定の搬送ピッチで往復する搬送ユニットとを具備す
る半導体製造装置を使用し、下型の前記凹領域に嵌合
し、主面に位置決めパターンを設けた芯出し用治具を用
意し、成形ユニットに装着された下型の凹領域に芯出し
用治具を嵌合した後、搬送ユニットにより、この芯出し
用治具を取り上げ搬送し、位置合せユニットの半導体載
置台に載置したときの該治具上の位置決めパターンを位
置合せユニットの位置決め基準パターンとすることを特
徴とする位置合せユニットと成形型との芯出し方法。
1. A method of centering a molding die having a cavity having the same shape as the annular region of a semiconductor manufacturing apparatus for molding a resin in an annular region surrounding a peripheral portion of a semiconductor substrate,
(A) a positioning unit that has a semiconductor substrate mounting table for mounting a semiconductor substrate provided with a positioning pattern and aligns the positioning pattern with a positioning reference pattern; and (b) an upper die and a lower die, A semiconductor comprising: a molding unit having a molding die provided with a concave area surrounded by an outer peripheral side wall of the annular cavity; and (c) a transport unit that reciprocates between the alignment unit and the molding unit at a constant transport pitch. Using a manufacturing apparatus, a centering jig fitted to the concave area of the lower mold and provided with a positioning pattern on the main surface is prepared, and a centering jig is provided in the concave area of the lower mold mounted on the molding unit. After the fixtures are fitted, the centering jig is picked up and transported by the transport unit, and the positioning pattern on the jig when placed on the semiconductor mounting table of the alignment unit is moved to the position of the alignment unit. Centering method and alignment unit, wherein the mold to be decided reference pattern.
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